KR102253343B1 - Etching system for mask sheet using rotating jig and vertical loading type wet etching device - Google Patents

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KR102253343B1
KR102253343B1 KR1020210005828A KR20210005828A KR102253343B1 KR 102253343 B1 KR102253343 B1 KR 102253343B1 KR 1020210005828 A KR1020210005828 A KR 1020210005828A KR 20210005828 A KR20210005828 A KR 20210005828A KR 102253343 B1 KR102253343 B1 KR 102253343B1
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Abstract

The present invention relates to an etching system for a mask sheet using a rotary jig and a vertical loading type wet etching device. According to a technical point of the present invention, a mask sheet is vertically withdrawn, rotated, and individually tension-clamped through a rotary jig, wherein the mask sheet mounted on the rotary jig is loaded into a vertical loading type wet etching device having an etching section by stage or section to be etched by injection type chemical supply devices on both sides, which can lead to precise spec processing of a pattern cell. In particular, since operation (driving) settings are precisely controlled (a rotation ratio per minute of the rotary jig and the precise injection of the chemicals are controlled) within a processing part section of the chamber assembly, the etching system can fundamentally solve issues of an existing horizontal etching process (a sheet wave and the like) as well as significantly improve workability and productivity along with excellent quality in contrast to an existing system.

Description

회전지그와 수직 로딩식 Ÿ‡ 에칭장치를 이용한 마스크시트용 에칭 시스템{Etching system for mask sheet using rotating jig and vertical loading type wet etching device}Etching system for mask sheet using rotating jig and vertical loading type wet etching device}

본 발명은 회전지그를 통해 마스크시트의 수직 인출과 자전 로테이팅 및 개별 인장 클램핑이 이루어지도록 하되, 상기 회전지그에 장착된 마스크시트는 단계별 또는 구획별 에칭구간을 갖는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치에 로딩되어 양 사이드 분사식 약액 공급장치로 하여금 에칭되도록 하는 바, 이는 패턴 셀의 스팩 가공 정밀화가 가능하도록 형성되고, 특히 챔버 어셈블리의 처리파트 구간 내에서 동작(운전) 설정은 정밀하게 제어(회전지그의 전지과 분당 회전비, 약액의 정밀분사 제어)되도록 하는 바, 이는 종전 수평식 에칭공정에서 발생된 문제(시트 웨이브 현상 등)를 원천적으로 해결할 수 있도록 함은 물론 기존 대비 우수한 품질과 함께 작업성과 생산성이 크게 개선되는 것을 특징으로 하는 회전지그와 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치를 이용한 마스크시트용 에칭 시스템에 관한 것이다.In the present invention, the mask sheet is vertically pulled out, rotated, and individually tensioned clamped through a rotating jig, but the mask sheet mounted on the rotating jig is a vertical loading type web (wet) etching having an etching section for each step or division. It is loaded into the device to allow both side injection type chemical supply devices to be etched, which is formed to enable precision processing of the pattern cell, and in particular, the operation (operation) setting within the processing part section of the chamber assembly is precisely controlled (rotated). The jig's battery, rotational ratio per minute, and precise injection control of the chemical solution), which fundamentally solves the problems (sheet wave phenomenon, etc.) that occurred in the conventional horizontal etching process, as well as superior quality and workability and productivity compared to the existing ones. The present invention relates to an etching system for a mask sheet using a rotating jig and a vertical loading type web (wet) etching apparatus, characterized in that this is greatly improved.

일반적으로 마스크시트(메탈마스크: Metal mask)는 니켈 알로이(Nickel alloy) 계열로 니켈이 36% 들어간 제품을 주로 사용한다.In general, a mask sheet (metal mask) is a nickel alloy series, and a product containing 36% nickel is mainly used.

또한, 종래의 마스크시트는 도 22에서와 같이 압연 방식을 통해 제작되는데 이러한 압연 방식은 시트 소재가 다수의 압연 로울러를 거치면서 두께가 얇게 형성되도록 하는 것이다.In addition, a conventional mask sheet is manufactured through a rolling method as shown in FIG. 22, in which the sheet material is formed to have a thin thickness while passing through a plurality of rolling rollers.

그러나, 이러한 압연 방식으로 제작된 마스크시트는 압연을 위해 설치된 다수의 로울러들을 지나면서 그 피치 구간 사이로 하여금 오히려 웨이브가 발생되는 문제가 야기된다.However, the mask sheet manufactured by this rolling method causes a problem in that a wave is generated between the pitch sections while passing through a plurality of rollers installed for rolling.

또한, 압연 가공시 로울러는 sheet의 원활한 평탄도를 높이기 위해 금속유를 같이 사용하는데 이러한 금속유는 대면적 시트 가공시 시트 상에 남아 있는 웨이브의 문제로 인한 압연의 불균일성과 맞물려 금속 게제물로 남아 있는 경우가 많다. 이는 결국 수평상에서 많은 이슈를 유발시킬수 있다.In addition, during rolling, the rollers use metal oil together to increase the smooth flatness of the sheet. Such metal oil remains as a metal post due to the non-uniformity of rolling due to the problem of waves remaining on the sheet when processing large-area sheets. There are many cases. This can eventually lead to many issues in the horizontal.

또한, 압연을 위해 설치된 각각의 로울러는 각각의 피치 간격 미세화에 최소한의 한계가 있고, 시트의 두께를 조절하기 위해서 압력을 필수적으로 주어야 하기 때문에 웨이브의 원천적인 소멸이나 방지가 거의 불가능하게 된다.In addition, since each roller installed for rolling has a minimum limit in miniaturization of each pitch interval, and pressure must be applied to adjust the thickness of the sheet, it is almost impossible to prevent or destroy the original wave.

그리고, 압연 공정은 입구부터 출구까지 점차 직경(반경)이 감소되는 대,중,소형 로울러들의 배치로 인해 첫 구간의 웨이브와 중앙, 마지막 단의 웨이브가 일정하지 못한 형태로 진행 될 가능성이 많다. 첫 구간 대비 끝 구간 의 형상이 일정하지 못하게 되면 시트의 평탄도가 중요한 Metal mask 제작 공정에 있어 큰 이슈로 남게 된다.In the rolling process, due to the arrangement of large, medium, and small rollers whose diameter (radius) gradually decreases from the inlet to the outlet, the wave in the first section and the wave in the center and the last stage are likely to proceed in an irregular form. If the shape of the end section is not constant compared to the first section, the flatness of the sheet remains a major issue in the metal mask manufacturing process, which is important.

아울러, 대면적 사이즈의 마스크시트는 압연시 시트의 폭이 넓기 때문에 센터를 기준으로 좌우측 부분의 압력과 눌림 정도의 차이가 발생되어 이또한 필연적인 웨이브 현상을 야기하게 된다.(마스크시트의 사이즈가 클수록 이 현상은 더욱 심해진다.)In addition, since a large-area mask sheet has a wide sheet width during rolling, a difference between the pressure and the pressing degree of the left and right portions relative to the center occurs, which in turn causes an inevitable wave phenomenon (the size of the mask sheet is large). The larger it is, the worse this phenomenon becomes.)

다시 말해, 통상의 압연 공정을 통해 제작된 마스크시트는 도 23 내지 도 24에서 보는 바와 같이, 표면에 발생된 웨이브(불균일한 높낮이 편차) 현상으로 인해 이미 태생적으로 일정하지 못한 표면적을 갖게 된다.In other words, as shown in FIGS. 23 to 24, a mask sheet manufactured through a conventional rolling process has an inherently uneven surface area due to a wave (non-uniform height deviation) phenomenon generated on the surface.

이러한, 마스크시트의 표면 불균형 문제는 다수의 롤러를 통하여 시트가 이송되고 또한 상, 하 에칭액이 압력 노즐을 통해 분사되는 수평챔버 구조를 가진 에칭공정에서는 더욱더 심해진다.The problem of the surface imbalance of the mask sheet becomes even more severe in an etching process having a horizontal chamber structure in which the sheet is transferred through a plurality of rollers and the upper and lower etching liquids are sprayed through a pressure nozzle.

즉, 이러한 종래의 수평식 웹(wet) 에칭 공정은 패턴 셀에 대한 정밀 스팩 구현(가공)을 어렵게 하는 요인이 된다.That is, such a conventional horizontal web (wet) etching process becomes a factor that makes it difficult to implement (process) precision specifications for pattern cells.

그리고, 수평식 웹(wet) 에칭 공정에서 에칭액 분사노즐의 높이는 고정된 형태로 일정한 반면 마스크시트의 표면에는 웨이브에 의해 형성된 불규칙한 높낮이가 형성되어 분사된 에칭액이 먼저 닿거나 나중에 닿는 등의 편차 현상이 발생되어 정밀한 스팩 가공이 어렵게 되는 문제가 발생된다.And, in the horizontal web (wet) etching process, the height of the etchant spray nozzle is fixed in a fixed form, whereas irregular heights formed by waves are formed on the surface of the mask sheet, so that the sprayed etchant touches first or later. As a result, there is a problem in which precise specification processing becomes difficult.

게다가, 수평식 웹(wet) 에칭 공정에서 일방향 전진 이송되는 마스크시트는 특히 수평 선상에서 마스크시트에 대한 텐션 조정(인장)이 어려워 웨이브가 계속 남는 문제가 발생된다.In addition, in the horizontal web (wet) etching process, the mask sheet that is forward-transferred in one direction is difficult to adjust the tension (tension) of the mask sheet on a horizontal line, and thus a problem in which waves remain.

부연하건데, 통상의 수평식 웹(wet) 에칭 공정(패턴 셀 성형)시에는 상술한 압연 공정에 의해 제작된 마스크시트(이미 표면이 불균일한 시트)가 챔버 내 이송로울러를 통해 로딩/언로딩 되면서 에칭액의 분사로 하여금 패턴 셀의 가공(성형)을 수행하게 된다.Incidentally, in the usual horizontal web (wet) etching process (pattern cell forming), a mask sheet (a sheet with an uneven surface already) manufactured by the above-described rolling process is loaded/unloaded through the transfer roller in the chamber. The etchant is sprayed to perform processing (molding) of the pattern cell.

즉, 종래의 웹(wet) 에칭 공정은 수평식 챔버 내에서 마스크시트 표면에 대하여 에칭액을 상하 양방향 동시에 분사하거나 또는 상하 양방향 중 어느 한쪽만 선택적으로 분사하여 패턴 셀을 가공하는 방식이다.That is, the conventional web (wet) etching process is a method of processing a pattern cell by spraying an etching solution on the surface of a mask sheet in a horizontal chamber at the same time in both up and down directions or selectively spraying only one of the top and bottom directions.

이러한 웹 수평형 에칭 공정은 증착기 내에서(도25) Metal mask가 요구하는 특성을 따르지 못한다는 걸 알 수 있다.It can be seen that such a horizontal web etching process does not conform to the properties required by the metal mask in the evaporator (FIG. 25).

일반적으로 증착공정이 진행되는 진공 챔버 내에서는 마스크 시트 상면에 유리기판이 안착하고, 그 위에 쿨패트, 전자석 등으로 구성되어 있다.In general, a glass substrate is mounted on an upper surface of a mask sheet in a vacuum chamber in which the deposition process is performed, and is composed of a coolant, an electromagnet, and the like.

전자석이 자력을 조절하면서 유리기판과 Metal mask가 서서히 밀착되어 서로의 합착이 이루어지고 Metal mask가 완전히 다 펼쳐진 이후에 마스크 개구부를 통해 유기물들이 유리기판 표면에 틀어짐 없이 안착되도록 해야 한다.As the electromagnet adjusts the magnetic force, the glass substrate and the metal mask are gradually brought into close contact with each other, and after the metal mask is completely unfolded, organic substances must be placed on the surface of the glass substrate through the mask opening without distortion.

여기서 유리기판과 마스크시트 간 주의해야 할 사항으로는 유기물 증착 공정 중에서 마스크시트(메탈마스크)와 유리기판 간 밀착이 완벽하게 이루어져야 한다는 점이다.Here, one thing to be aware of between the glass substrate and the mask sheet is that the mask sheet (metal mask) and the glass substrate must be completely adhered to each other during the organic material deposition process.

즉, 6인치 Mobile 제품 기준으로 90~100개의 패턴 셀이 배치되는 형태로서 마스크시트의 전체 면적이 고르게 밀착되어야만 불량을 최소화할 수 있게 되고, 만일 마스크시트와 유리기판 간 밀착이 원할하게 안될 경우에는 그 사이에 틈이 벌어져 유기물이 침투하게 되며 이는 쉐도우(Shadow) 현상을 야기하게 된다.In other words, it is a form in which 90 to 100 pattern cells are arranged based on a 6-inch mobile product, and defects can be minimized only when the entire area of the mask sheet is evenly adhered. A gap is opened between them and organic matter penetrates, which causes a shadow phenomenon.

정리하면, 압연 가공방식의 마스크시트(Invar36 sheet-이미 압연 공정을 통해 이미 웨이브가 태생적으로 발생된 마스크시트)에 대하여 패턴 셀을 가공(성형)하기 위한 웹(wet) 에칭 공정은 수평식 구조의 챔버 내 이송로울러들로 하여금 마스크시트의 로딩/ 언로딩 이송시 표면 불규칙 환경을 지속적으로 야기하게 되는 바, 이는 에칭액을 통해 패턴 셀의 가공시 정밀하지 못한 저스팩 가공을 유발하게 된다.In summary, the web (wet) etching process for processing (molding) the pattern cell for the rolled mask sheet (Invar36 sheet-a mask sheet that has already generated waves through the rolling process) is a horizontal structure. During the loading/unloading transfer of the mask sheet, the transfer rollers in the chamber of the chamber continuously cause an irregular surface environment, which causes inaccurate low-spec processing when the pattern cell is processed through the etching solution.

또한, 상술한 웨이브 현상은 마스크시트 면상(하프면 등)에 대하여 오목하거나 움푹한 자리를 발생시킬 수도 있게 되는데 이러한 부분은 에칭액이 맺힌 후 건조 불량으로 인해 얼룩 현상을 초래하게 된다.(도 26 참조)In addition, the above-described wave phenomenon may cause concave or recessed spots on the surface of the mask sheet (half surface, etc.), which causes a stain phenomenon due to poor drying after the etching liquid is formed (see Fig. 26). )

그리고, 이렇게 가공된 저스팩 형태의 마스크시트(수평식 챔버 구조의 웹(wet) 에칭 공정을 통해 제작된 마스크시트)는 유기물 증착을 위해 진공챔버로의 투입시 공정 특유의 챔버 내 열발생 영향으로 웨이브 현상이 더 심화된 상태로서, 유리기판에 밀착시 불균일한 표면적으로 하여금 제대로 된 흡착이 이루어지지 않아 패턴 셀 주변(엣지)에 버닝 현상을 야기하거나 유기물의 이물화(유기물이 녹거나 수명이 다해서 이물로 변함) 및 쉐도우 현상을 일으키게 한다.In addition, the processed low-spec mask sheet (mask sheet manufactured through the web (wet) etching process of the horizontal chamber structure) is due to the effect of heat generation in the chamber peculiar to the process when it is introduced into the vacuum chamber for organic material deposition. As the wave phenomenon is intensified, when it is in close contact with the glass substrate, the non-uniform surface area is not properly adsorbed, causing a burning phenomenon around the pattern cell (edge), or becoming a foreign material (due to the melting of organic matter or the end of its life). It turns into a foreign object) and a shadow phenomenon.

다시 말해, 이러한 마스크시트의 웨이브 불량 현상은 유리기판에 까지 영향을 미치게 되어 유기물 증착성 저하로 인해 최종 디스플레이 제품의 품질까지 저하되는 문제가 발생된다.In other words, the wave defect phenomenon of the mask sheet also affects the glass substrate, resulting in a problem of deteriorating the quality of the final display product due to the decrease in organic material deposition properties.

1. 대한민국 공개특허공보 제10-2014-0093618호(2014.07.28. 공개)1. Republic of Korea Patent Publication No. 10-2014-0093618 (published on 28 July 2014)

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 기술적 요지는 회전지그를 통해 마스크시트의 수직 인출과 자전 로테이팅 및 개별 인장 클램핑이 이루어지도록 하되, 상기 회전지그에 장착된 마스크시트는 단계별 또는 구획별 에칭구간을 갖는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치에 로딩되어 양 사이드 분사식 약액 공급장치로 하여금 에칭되도록 하는 바, 이는 패턴 셀의 스팩 가공 정밀화가 가능하도록 형성되고, 특히 챔버 어셈블리의 처리파트 구간 내에서 동작(운전) 설정은 정밀하게 제어(회전지그의 전지과 분당 회전비, 약액의 정밀분사 제어)되도록 하는 바, 이는 종전 수평식 에칭공정에서 발생된 문제(시트 웨이브 현상 등)를 원천적으로 해결할 수 있도록 함은 물론 기존 대비 우수한 품질과 함께 작업성과 생산성이 크게 개선되는 것을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above-described problem, and the technical gist of the present invention is to vertically draw out a mask sheet, rotate rotation, and individually tensile clamping through a rotating jig, but the mask sheet mounted on the rotating jig is stepwise or divided. A bar that is loaded into a vertical loading type web (wet) etching device having a separate etching section to allow both sides spraying type chemical supply device to be etched, which is formed to enable precision processing of the pattern cell specification, and in particular, the processing part section of the chamber assembly The internal operation (operation) setting is precisely controlled (the battery of the rotating jig and the rotational ratio per minute, precise injection control of the chemical solution), which can fundamentally solve the problems (sheet wave phenomenon, etc.) that occurred in the previous horizontal etching process. Its purpose is to provide a significant improvement in workability and productivity along with superior quality compared to the existing ones.

다시 말해, 본 발명의 회전지그는 웹(wet) 에칭 공정시 마스크시트에 대하여 수직 로딩과 자전 로테이팅이 이루어지도록 하는 회전지그에 관한 것으로, 마스크시트가 워킹 지그 파트로 하여금 거치(또는 현수 조립 및 인장)시 체결 조립이 용이하도록 하되, 자전 회전과 수직 이송시에는 로테이팅 지그 파트로 하여금 정밀하고 안정적인 회전 로테이팅과 단계별 무빙 로딩이 이루어질 수 있도록 하는 바, 이는 마스크시트에 대한 종전 수평식 에칭방식 대비 불량을 극최소화(박판형 시트의 웨이브 발생, 들뜸현상, 스팩 변화, 틀어짐, 쉐도우 현상, 얼룩발생 등을 원천방지)하도록 함은 물론 높은 생산성과 향상된 작업성 및 우수한 품질이 보장될 수 있도록 하는 것을 제공함에 그 목적이 있다.In other words, the rotating jig of the present invention relates to a rotating jig that allows vertical loading and rotational rotation of a mask sheet during a web (wet) etching process. It facilitates fastening and assembly during tensioning), but allows the rotating jig part to perform precise and stable rotational rotation and step-by-step moving loading during rotational rotation and vertical transfer.This is the conventional horizontal etching method for the mask sheet. In addition to minimizing contrast defects (prevention of wave generation, lifting phenomenon, spec change, distortion, shadow phenomenon, staining, etc. of thin plate type sheets), high productivity, improved workability, and excellent quality are guaranteed. It has its purpose in providing.

또한, 본 발명의 회전지그는 워킹 지그 파트에서 다수의 클램프가 사각틀 구조의 픽업케이스에 구비되도록 하는 바, 이는 마스크시트에 대한 4면 선단에 대하여 외곽부를 단단히 고정하고 위치별(부분별) 개별 인장력 부가와 조절이 가능하도록 형성되어 마스크시트의 평탄화 및 수평화가 유리한 것을 제공함에 그 목적이 있다.In addition, the rotating jig of the present invention allows a plurality of clamps to be provided in the pickup case of a rectangular frame structure in the working jig part, which firmly fixes the outer periphery with respect to the four-sided tip of the mask sheet and separates the tensile force for each position (partial) It is an object to provide an advantage in flattening and leveling of the mask sheet by being formed so as to be able to be added and adjusted.

이에, 본 발명의 웹(wet) 에칭장치는 마스크시트가 세로로 길게 세워진 상태에서 상하단 이송레일과 이송컨베이어로 하여금 챔버 어셈블리 내 각각의 처리파트를 경유하며 일방향으로 진행(로딩)되도록 하되, 각 처리파트에는 약액 공급장치가 개별적으로 구비되어 선택된 에칭용 약액(및 세정과 건조가 연속진행 포함)이 마스크시트 기준 각 양면에서 엇각배열(지그재그) 형태로 비산 분사되도록 하는 바, 이는 종전 수평식 에칭공정 중 이송로울러에 의한 마스크시트의 구름식 회전(전진) 이송 과정이 원천 생략되어 그 과정에서 발생되는 시트 표면상 웨이브 현상(마스크시트 소재 자체에 대한 압연 공정에서 태생적으로 발생된 것과 별개의 문제임)을 근본적으로 해결할 수 있도록 함은 물론 분사압이 각각 조절되는 다수의 분사노즐에 의해 에칭액의 분사각과 분사분포도 또는 분사면적을 용이하게 가변할 수 있도록 하면서 정밀하게 제어할 수 있도록 하는 바, 이는 패턴 셀의 가공시 에칭액의 유동적인 제어가 가능하고 특히 정밀한 조정이 가능하여 고사양, 고품질의 스팩을 현저히 보장할 수 있도록 하는 것을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the web (wet) etching apparatus of the present invention allows the upper and lower transfer rails and the transfer conveyor to proceed in one direction (loading) through each treatment part in the chamber assembly while the mask sheet is elongated vertically, but each treatment The parts are individually equipped with a chemical supply device so that the selected etching chemical (including continuous cleaning and drying) is scattered and sprayed in the form of a staggered arrangement (zigzag) from each side of the mask sheet. This is a conventional horizontal etching process. Rolling rotation (forward) of the mask sheet by the heavy transfer roller The wave phenomenon on the surface of the sheet generated during the process due to the original omission of the transfer process (this is a separate problem from the inherent in the rolling process of the mask sheet material itself) In addition to fundamentally solving the problem, it enables precise control while allowing the spray angle and spray distribution of the etching solution or spray area to be easily varied by a plurality of spray nozzles, each of which spray pressure is controlled. It is an object of the present invention to provide a flexible control of the etching solution during processing of the cell and particularly precise adjustment to ensure high specifications and high quality specifications remarkably.

이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 마스크시트(10)를 수직으로 세워 장착할 수 있도록 회전지그(100)가 구비되도록 하되, 상기 회전지그(100)는 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 구성되어 마스크시트(10)의 4면 테두리 부분을 각각 인장 및 클램핑한 뒤 일방향 로딩과 자전 회전을 수행할 수 있도록 형성되고, 상기 회전지그(100)를 통해 수직으로 세워져 로딩되는 마스크시트(10)는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)의 단계별 챔버 어셈블리(210)와 사이드 약액 분사구조의 약액 공급장치(220)로 하여금 각각 에칭, 세정 및 건조되도록 형성된다.In order to achieve this object, the present invention is provided with a rotating jig 100 so that the mask sheet 10 can be vertically mounted, but the rotating jig 100 is a rotating jig part 110 and a working jig part. A mask composed of 120 and formed to perform one-way loading and rotation after tensioning and clamping the edges of the four sides of the mask sheet 10, respectively, and being vertically erected and loaded through the rotation jig 100 The sheet 10 is formed to be etched, cleaned, and dried by the step-by-step chamber assembly 210 of the vertical loading type web (wet) etching apparatus 200 and the chemical liquid supply device 220 having a side chemical liquid spraying structure, respectively.

이에, 상기 회전지그(100)의 로테이팅 지그 파트(110)는 원형으로 된 지그링(111)의 바깥측 원주면에 기어치차(112)가 형성되어 일측 서브모터(113)와 결합된 구동스프로켓(114) 회전시 설정된 주기 또는 설정된 시간동안 연동 회전하도록 하되, 상기 지그링(111)의 측면 테두리에는 슬라이딩홈(115)이 형성되어 이송컨베이어에 의해 이송되는 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)와 함께 지그링(111)의 원주방향 회전을 도모하도록 형성되고, 상기 회전지그(100)의 워킹 지그 파트(120)는 지그링(111)의 내경측 공간부에 사각틀 구조의 픽업케이스(121)가 구비되도록 하되, 상기 픽업케이스(121)는 측단부 양측에 각각 고정용 그리퍼(122)가 형성되어 지그링(111)의 고정브라켓(117)과 체결되도록 형성되고, 상기 픽업케이스(121)는 사각틀 4면 각 선상마다 다수개의 클램프(123)가 형성되어 마스크시트(10)를 고정하도록 형성되며, 상기 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)는 슬라이딩홈(115)과 대응되는 호형패널(116-2)의 조립공(116-3)에 장착되어 자전하도록 하되, 상기 호형패널(116-2)은 이송대차 프레임(116-4)의 상면에 형성된 지지아암(116-5)에 체결 조립되도록 형성되고, 상기 클램프(123)는 핑거로드(123-1) 일측에 고정핀(123-2)이 형성되어 마스크시트(10)에 기 성형된 장착공(11)에 삽입된 후 거치와 인장을 도모하도록 형성되며, 상기 고정핀(123-2)과 대향되는 핑거로드(123-1)의 타측에는 걸림턱(123-3)을 갖는 푸쉬버튼(123-4)이 형성되어 픽업케이스(121)의 장착홈(121-1)에 내입된 탄성스프링(121-2)을 기준으로 푸쉬버튼(123-4) 측 바깥방향으로 장력이 발생되도록 형성된다.Accordingly, the rotating jig part 110 of the rotating jig 100 has a gear tooth difference 112 formed on the outer circumferential surface of the circular jig ring 111, and a driving sprocket coupled with one submotor 113 (114) The guide roller 116 of the drive set 116 is made to rotate interlocking for a set period or for a set time during rotation, but a sliding groove 115 is formed on the side edge of the jig ring 111 to be transferred by a transfer conveyor. It is formed to promote rotation of the jig ring 111 in the circumferential direction together with -1), and the working jig part 120 of the rotation jig 100 is a pickup case having a square frame structure in the space on the inner diameter side of the jig ring 111 (121) is provided, but the pickup case 121 is formed to be fastened to the fixing bracket 117 of the jig ring 111 by forming a gripper 122 for fixing each on both sides of the side end, and the pickup case ( 121 is formed to fix the mask sheet 10 by forming a plurality of clamps 123 on each of the four sides of the square frame, and the guide roller 116-1 of the drive set 116 has a sliding groove 115 and It is mounted in the assembly hole 116-3 of the corresponding arc-shaped panel 116-2 to rotate, but the arc-shaped panel 116-2 is a support arm 116-5 formed on the upper surface of the transfer cart frame 116-4. ), and the clamp 123 has a fixing pin 123-2 formed on one side of the finger rod 123-1 and inserted into the mounting hole 11 previously formed in the mask sheet 10. A push button 123-4 having a locking protrusion 123-3 is formed on the other side of the finger rod 123-1 facing the fixing pin 123-2 and is formed to promote post-mounting and tensioning. It is formed such that tension is generated in the outward direction toward the push button 123-4 based on the elastic spring 121-2 inserted into the mounting groove 121-1 of the pickup case 121.

또한, 상기 웹(wet) 에칭장치(200)의 챔버 어셈블리(210)는 마스크시트(10)의 수직 이송 및 수직 에칭이 가능하도록 평면 기준 폭이 좁고 측면 기준 높이와 전후 길이가 긴 직사각면의 함체가 구비되도록 하되, 상기 함체의 전후방 각 단부에는 입구게이트(211)와 출구게이트(212)가 형성되고, 상기 함체의 내부 상하측 단부에는 각각 이송레일(213)과 이송컨베이어(214)가 형성되어 별도의 지그셔틀을 통해 고정된 마스크 시트(10)가 세로로 세워진 상태에서 전진 이송될 수 있도록 형성되며, 상기 함체의 진행방향 라인 선상에는 다수의 처리파트(215)가 각각 구획 분할되면서 각 부분별로 에칭과 세정을 진입순서에 따라 차례대로 수행하도록 하되, 상기 웹(wet) 에칭장치(200)의 약액 공급장치(220)는 상기 각 처리파트(215) 마다의 내부 폭방향 양단부에는 다수개의 분사노즐(221)을 갖는 다발형 분사관(222)이 형성되어 축방향 중앙 진입선을 기준으로 진행하는 마스크시트(10)에 대하여 에칭액 또는 세정린스의 공급과 분사가 선택적으로 이루어지도록 형성되고, 상기 처리파트(215)는 마스크시트(10)가 진입하는 초입을 기준으로 제1전처리(Reaction) 에칭 파트(215-1), 제2전처리(Bore) 에칭 파트(215-2), 포스트(Post) 에칭 파트(215-3), 린스(Rinse) 세정 파트(215-4)가 순서대로 구획되도록 하되, 상기 제1,2전처리 에칭 파트(215-1,215-2)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 염화제2철, 염산, 귀액 중 어느 하나의 단일액을 사용하거나 복수의 약액을 선택적 혼합하여 사용할 수 있도록 형성되고, 상기 포스트(Post) 에칭 파트(215-3)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그은 전진 이송이 일시 정지된 상태에서 약액 공급장치로 하여금 본 에칭 처리가 이루어지도록 하되, 상기 에칭 처리시에는 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 염산 단일액을 사용하도록 형성되고, 상기 린스(Rinse) 세정 파트(215-4)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 세정액인 것이 바람직하다.In addition, the chamber assembly 210 of the web (wet) etching apparatus 200 is a rectangular enclosure having a narrow plane reference width and a side reference height and a long front and rear length so that vertical transfer and vertical etching of the mask sheet 10 are possible. However, an inlet gate 211 and an outlet gate 212 are formed at each end of the front and rear of the housing, and a transfer rail 213 and a transfer conveyor 214 are formed at the inner upper and lower ends of the housing, respectively. The mask sheet 10 fixed through a separate jig shuttle is formed so that it can be transported forward in a vertically erected state, and a plurality of processing parts 215 are divided into divisions, respectively, on the line in the traveling direction of the enclosure. Etching and cleaning are performed sequentially according to the order of entry, but the chemical solution supplying device 220 of the web (wet) etching device 200 includes a plurality of spray nozzles at both ends in the inner width direction of each processing part 215 A bundle injection pipe 222 having 221 is formed to selectively supply and spray an etching solution or a cleaning rinse with respect to the mask sheet 10 proceeding with respect to the central entry line in the axial direction, and the treatment The part 215 is a first reaction etching part 215-1, a second pretreatment (Bore) etching part 215-2, and a post etching based on the initial entrance to which the mask sheet 10 enters. Part (215-3) and rinse (Rinse) cleaning part (215-4) is divided in order, but the first and second pre-processing etching parts (215-1, 215-2) are rotated by mounting the mask sheet (10) The transfer speed of the jig is 400mmm/min, the spray distance between the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 is 50-100mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is ferric chloride, hydrochloric acid including water. , A rotary jig equipped with a mask sheet 10 in the post etching part 215-3 and formed to use a single liquid of any one of the ear liquids or selectively mixing a plurality of chemical liquids is carried forward. Chemical liquid in a paused state The main etching treatment is performed by the supply device, but during the etching treatment, the spray distance between the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 is 50 to 100 mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is a single solution of hydrochloric acid. Is formed to use, and the transfer speed of the rotating jig equipped with the mask sheet 10 in the rinse cleaning part 215-4 is 400 mmm/min, and the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 ) The spraying distance is 50 ~ 100mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is preferably a cleaning liquid including water.

그리고, 상기 제1전처리 에칭 파트에서 마스크시트를 장착한 회전지그는 이송속도 동안 1회전하도록 형성되고, 상기 제2전처리 에칭 파트에서 마스크시트를 장착한 회전지그는 이송속도 동안 1회전하도록 형성되며, 상기 포스트 에칭 파트에서 마스크시트를 장착한 회전지그는 이송이 정지된 상태에서 분당 1~2회전 자전하도록 하되, 분사되는 약액은 염산 단일 에칭액을 사용하도록 형성(사용용도: Spec 정밀화 및 최종 맞춤용/ sheet 표면 거친 부분 개선 및 하프 에칭 구간 표면 얼룩 방지용)되고, 린스 세정 파트와 건조 파트는 마스크시트를 장착한 회전지그의 자전 회전수와 속도 조절이 가능하도록 하는 것이 바람직하다.In addition, in the first pretreatment etching part, a rotation jig equipped with a mask sheet is formed to rotate once during a transfer speed, and a rotation jig equipped with a mask sheet in the second pretreatment etching part is formed to rotate once during a transfer speed, In the post-etched part, the rotating jig equipped with the mask sheet rotates 1 to 2 revolutions per minute while the transfer is stopped, but the sprayed chemical is formed to use a single etching solution of hydrochloric acid (Use: Spec precision and final customization/ It is desirable to improve the roughness of the sheet surface and prevent stains in the half-etching section), and it is desirable to adjust the rotational speed and rotation speed of a rotating jig equipped with a mask sheet for the rinse-cleaning part and the drying part.

이와 같이, 본 발명은 회전지그를 통해 마스크시트의 수직 인출과 자전 로테이팅 및 개별 인장 클램핑이 이루어지도록 하되, 상기 회전지그에 장착된 마스크시트는 단계별 또는 구획별 에칭구간을 갖는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치에 로딩되어 양 사이드 분사식 약액 공급장치로 하여금 에칭되도록 하는 바, 이는 패턴 셀의 스팩 가공 정밀화가 가능하도록 하는 효과가 있다.As described above, the present invention allows vertical extraction of the mask sheet, rotation rotation, and individual tensile clamping through a rotating jig, but the mask sheet mounted on the rotating jig is a vertical loading type web having an etching section for each step or division ( wet) The bar is loaded into the etching device to cause the chemical liquid supply device to be sprayed on both sides to be etched, and this has the effect of enabling precision processing of the pattern cell specification.

또한, 본 발명은 챔버 어셈블리의 처리파트 구간 내에서 동작(운전) 설정은 정밀하게 제어(회전지그의 전지과 분당 회전비, 약액의 정밀분사 제어)되도록 하는 바, 이는 종전 수평식 에칭공정에서 발생된 문제(시트 웨이브 현상 등)를 원천적으로 해결할 수 있도록 함은 물론 기존 대비 우수한 품질과 함께 작업성과 생산성이 크게 개선되는 효과가 있다.In addition, the present invention allows the operation (operation) setting within the processing part section of the chamber assembly to be precisely controlled (the battery of the rotating jig and the rotational ratio per minute, precise injection control of the chemical solution), which is a problem encountered in the conventional horizontal etching process. In addition to the ability to fundamentally solve (sheet wave phenomenon, etc.), it has the effect of greatly improving workability and productivity along with superior quality compared to the existing ones.

이에, 본 발명의 회전지그는 웹(wet) 에칭 공정시 마스크시트에 대하여 수직 로딩과 자전 로테이팅이 이루어지도록 하는 회전지그에 관한 것으로, 마스크시트가 워킹 지그 파트로 하여금 거치(또는 현수 조립 및 인장)시 체결 조립이 용이하도록 하되, 자전 회전과 수직 이송시에는 로테이팅 지그 파트로 하여금 정밀하고 안정적인 회전 로테이팅과 단계별 무빙 로딩이 이루어질 수 있도록 하는 바, 이는 마스크시트에 대한 종전 수평식 에칭방식 대비 불량을 극최소화(박판형 시트의 웨이브 발생, 들뜸현상, 스팩 변화, 틀어짐, 쉐도우 현상, 얼룩발생 등을 원천방지)하도록 하는 효과가 있다.Accordingly, the rotating jig of the present invention relates to a rotating jig that allows vertical loading and rotational rotation of a mask sheet during a web (wet) etching process, wherein the mask sheet is mounted (or suspended, assembled and tensioned) by a working jig part. ), but the rotating jig part allows precise and stable rotational rotation and step-by-step moving loading during rotation and vertical transfer, compared to the previous horizontal etching method for the mask sheet. It has the effect of minimizing defects (prevention of wave generation, lifting phenomenon, specification change, warping, shadow phenomenon, spotting, etc. of thin plate type sheet).

다시 말해, 본 발명은 높은 생산성과 향상된 작업성 및 우수한 품질이 보장될 수 있도록 하는 효과가 있다.In other words, the present invention has the effect of ensuring high productivity, improved workability, and excellent quality.

아울러, 본 발명의 회전지그는 워킹 지그 파트에서 다수의 클램프가 사각틀 구조의 픽업케이스에 구비되도록 하는 바, 이는 마스크시트에 대한 4면 선단에 대하여 위치별(부분별) 개별 인장력 부가와 조절이 가능하도록 형성되어 마스크시트의 평탄화 및 수평화가 유리한 효과가 있다.In addition, the rotating jig of the present invention allows a plurality of clamps to be provided in the pickup case of the square frame structure in the working jig part, which enables the addition and adjustment of individual tensile force for each position (partial) with respect to the four sides of the mask sheet. It is formed so that there is an advantageous effect of flattening and leveling the mask sheet.

한편, 본 발명의 웹(wet) 에칭장치는 마스크시트가 세로로 길게 세워진 상태에서 상하단 이송레일과 이송컨베이어로 하여금 챔버 어셈블리 내 각각의 처리파트를 경유하며 일방향으로 진행(로딩)되도록 하되, 각 처리파트에는 약액 공급장치가 개별적으로 구비되어 선택된 에칭용 약액(및 세정과 건조가 연속진행 포함)이 마스크시트 기준 각 양면에서 엇각배열(지그재그) 형태로 비산 분사되도록 하는 바, 이는 종전 수평식 에칭공정 중 이송로울러에 의한 마스크시트의 구름식 회전(전진) 이송 과정이 원천 생략되어 그 과정에서 발생되는 시트 표면상 웨이브 현상(마스크시트 소재 자체에 대한 압연 공정에서 태생적으로 발생된 것과 별개의 문제임)을 근본적으로 해결할 수 있도록 함은 물론 분사압이 각각 조절되는 다수의 분사노즐에 의해 에칭액의 분사각과 분사분포도 또는 분사면적을 용이하게 가변할 수 있도록 하면서 정밀하게 제어할 수 있도록 하는 바, 이는 패턴 셀의 가공시 에칭액의 유동적인 제어가 가능하고 특히 정밀한 조정이 가능하여 고사양, 고품질의 스팩을 현저히 보장할 수 있도록 하는 효과가 있다.On the other hand, the web (wet) etching apparatus of the present invention allows the upper and lower transfer rails and the transfer conveyor to proceed in one direction (loading) through each treatment part in the chamber assembly while the mask sheet is elongated vertically, but each treatment The parts are individually equipped with a chemical supply device so that the selected etching chemical (including continuous cleaning and drying) is scattered and sprayed in the form of a staggered arrangement (zigzag) from each side of the mask sheet. This is a conventional horizontal etching process. Rolling rotation (forward) of the mask sheet by the heavy transfer roller The wave phenomenon on the surface of the sheet generated during the process due to the original omission of the transfer process (this is a separate problem from the inherent in the rolling process of the mask sheet material itself) In addition to fundamentally solving the problem, it enables precise control while allowing the spray angle and spray distribution of the etching solution or spray area to be easily varied by a plurality of spray nozzles, each of which spray pressure is controlled. When the cell is processed, it is possible to control the etchant fluidly, and in particular, it is possible to precisely adjust, so that high specifications and high-quality specifications can be remarkably guaranteed.

도 1은 본 발명에 따른 회전지그와 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치를 나타낸 일측면도,
도 2는 본 발명에 따른 웹(wet) 에칭장치의 전체 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 회전지그의 일측 예시도,
도 4는 도 3의 측면 예시도,
도 5 내지 도 6은 본 발명에 따른 로테이팅 지그 파트의 예시도,
도 7 내지 도 9는 본 발명에 따른 워킹 지그 파트의 예시도,
도 10은 본 발명에 따른 회전지그의 회전 동작을 나타낸 상태도,
도 11은 본 발명에 따른 웹(wet) 에칭장치의 제1전처리 에칭 파트를 나타낸 예시도,
도 12는 본 발명에 따른 웹(wet) 에칭장치의 제2전처리 에칭 파트와 포스트 에칭 파트를 나타낸 예시도,
도 13은 본 발명에 따른 린스 세정 파트를 나타낸 예시도,
도 14는 본 발명에 따른 건조 파트를 나타낸 예시도,
도 15 내지 도 16은 본 발명에 따른 제1,2전처리 에칭 파트와 포스트 에칭 파트가 연계된 것을 나타낸 예시도,
도 17 내지 도 18은 본 발명에 따른 약액 공급장치의 분사노즐을 갖는 다발형 분사관을 나타낸 예시도,
도 19는 본 발명에 따른 분사노즐의 천조(이격된 지그재그)배열을 나타낸 예시도,
도 20 내지 도 21은 본 발명에 따른 분사노즐의 분사각 및 분사압 조절 형태를 나타낸 예시도,
도 22 내지 도 24는 압연공정을 통해 제작되어 표면에 웨이브가 형성된 마스크시트의 예시도,
도 25는 일반적인 유기물 증착 챔버를 나타낸 예시도,
도 26은 종래의 수평식 웹(wet) 에칭 공정시 발생되는 하프면 얼룩 현상을 나타낸 예시도이다.
1 is a side view showing a rotating jig and a vertical loading type web (wet) etching apparatus according to the present invention,
2 is an overall perspective view of a web (wet) etching apparatus according to the present invention,
3 is an exemplary view of a rotating jig according to the present invention,
Figure 4 is an exemplary side view of Figure 3,
5 to 6 are exemplary views of a rotating jig part according to the present invention,
7 to 9 are exemplary views of a working jig part according to the present invention,
10 is a state diagram showing the rotation operation of the rotating jig according to the present invention,
11 is an exemplary view showing a first pretreatment etching part of the web (wet) etching apparatus according to the present invention;
12 is an exemplary view showing a second pre-etched part and a post-etched part of the web (wet) etching apparatus according to the present invention;
13 is an exemplary view showing a rinse cleaning part according to the present invention,
14 is an exemplary view showing a drying part according to the present invention,
15 to 16 are exemplary views showing that the first and second pre-etching parts and post-etching parts are connected according to the present invention;
17 to 18 are exemplary views showing a bundle-type injection pipe having an injection nozzle of the chemical liquid supply device according to the present invention,
19 is an exemplary view showing the arrangement of thousands (spaced zigzag) of the injection nozzle according to the present invention;
20 to 21 are exemplary views showing the injection angle and injection pressure control form of the injection nozzle according to the present invention,
22 to 24 are exemplary views of a mask sheet manufactured through a rolling process and formed with waves on the surface thereof,
25 is an exemplary view showing a general organic material deposition chamber;
26 is an exemplary view showing a half-surface uneven phenomenon occurring during a conventional horizontal web (wet) etching process.

다음은 첨부된 도면을 참조하며 본 발명을 보다 상세히 설명하겠다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 내지 도 21에 도시된 바와 같이, 본 발명은 회전지그(100)와 웹(wet) 에칭장치(200)로 크게 구성된다.First, as shown in Figs. 1 to 21, the present invention is largely composed of a rotary jig 100 and a web (wet) etching apparatus 200.

이에, 본 발명은 마스크시트(10)를 수직으로 세워 장착할 수 있도록 회전지그(100)가 구비되도록 하되, 상기 회전지그(100)는 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 구성되어 마스크시트(10)의 4면 테두리 부분을 각각 인장 및 클램핑한 뒤 일방향 로딩과 자전 회전을 수행할 수 있도록 형성된다.Thus, in the present invention, a rotating jig 100 is provided so that the mask sheet 10 can be vertically mounted, but the rotating jig 100 includes a rotating jig part 110 and a working jig part 120. It is configured to be formed to perform one-way loading and rotational rotation after each of the four edge portions of the mask sheet 10 are tensioned and clamped.

즉, 이러한 회전지그(100)는 수직 로딩식 웹 에칭장치를 통과하면서 워킹 지그 파트(120)에 고정한 마스크시트(10)가 로테이팅 지그 파트(110)로 하여금 회전을 수행하면서 동시에 에칭공정시 전진 로딩되도록 하는 이송수단으로서의 역할을 하게 된다.That is, the rotating jig 100 passes through the vertical loading type web etching apparatus and the mask sheet 10 fixed to the working jig part 120 causes the rotating jig part 110 to rotate while simultaneously advancing during the etching process. It serves as a conveying means for loading.

이때, 상기 수직 로딩식 웹 에칭장치는 단계별 에칭 구간이 설정된 챔버 또는 함체형으로 된 단계식 워크존 프레임으로서, 길이방향 전진 구간 중 하단측에는 이송 로울러 또는 이송 컨베이어가 구비되어 후술되는 로테이팅 지그 파트(110)의 이송대차 프레임(116-4)이 대응되면서 일방향 전진 이송되도록 형성된다.At this time, the vertical loading type web etching apparatus is a step-type work zone frame in a chamber or enclosure type in which a step-by-step etching section is set, and a transfer roller or a transfer conveyor is provided at the lower end of the longitudinal forward section, and a rotating jig part 110 to be described later. ) Of the transport cart frame 116-4 is formed to be transported forward in one direction while corresponding.

다시 말해, 상기 회전지그는 별도의 에칭장치에 투입되어 단계별 에칭 코스를 경유시키는 캐리어에 해당하는 것으로, 일방향 진행과 동시에 회전(원주형 자전)을 도모하는 로테이팅 지그 파트와 그 내부에 구비되어 마스크시트를 고정하는 워킹 지그 파트로 크게 구분된다.In other words, the rotating jig corresponds to a carrier that is input to a separate etching device and passes through a step-by-step etching course, and a rotating jig part that promotes rotation (cylindrical rotation) while proceeding in one direction and a mask provided therein It is largely divided into a working jig part that fixes the seat.

이에, 상기 회전지그(100)를 통해 수직으로 세워져 로딩되는 마스크시트(10)는 수직 로딩식 웹(wet) 에칭장치(200)의 단계별 챔버 어셈블리(210)와 사이드 약액 분사구조의 약액 공급장치(220)로 하여금 각각 에칭, 세정 및 건조되도록 형성된다.Accordingly, the mask sheet 10 that is vertically erected and loaded through the rotating jig 100 is a step-by-step chamber assembly 210 of the vertical loading type web (wet) etching apparatus 200 and a chemical liquid supply device having a side chemical liquid injection structure ( 220) is formed to be etched, cleaned and dried, respectively.

한편, 본 발명의 회전지그(100)는 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 크게 구성된다.Meanwhile, the rotating jig 100 of the present invention is largely composed of a rotating jig part 110 and a working jig part 120.

이에, 상기 회전지그(100)의 로테이팅 지그 파트(110)는 원형으로 된 지그링(111)의 바깥측 원주면에 기어치차(112)가 형성되어 일측 서브모터(113)와 결합된 구동스프로켓(114) 회전시 설정된 주기 또는 설정된 시간동안 연동 회전하도록 형성된다.Accordingly, the rotating jig part 110 of the rotating jig 100 has a gear tooth difference 112 formed on the outer circumferential surface of the circular jig ring 111, and a driving sprocket coupled with one submotor 113 (114) It is formed to rotate interlocking for a set period or for a set time during rotation.

즉, 상기 서브모터는 제어부에 의해 분당 회전 속도가 정해지는 것으로, 에칭장치의 에칭파트에 따라 회전을 달리할 수도 있고 가변시킬 수도 있도록 형성된다.That is, the rotation speed of the sub-motor is determined by the control unit per minute, and the rotation may be changed or changed according to the etching part of the etching apparatus.

그리고, 상기 서브모터 구동축에는 구동스프로켓이 구비되어 지그링의 기어치차와 대응되면서 지그링을 원주방향으로 회전(자전)시키도록 형성된다. In addition, a drive sprocket is provided on the drive shaft of the sub-motor and is formed to rotate (rotate) the jig ring in the circumferential direction while corresponding to a gear tooth difference of the jig ring.

이때, 상기 지그링(111)의 측면 테두리에는 슬라이딩홈(115)이 형성되어 이송컨베이어에 의해 이송되는 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)와 함께 지그링(111)의 원주방향 회전을 도모하도록 형성된다.At this time, a sliding groove 115 is formed on the side edge of the jig ring 111, and the jig ring 111 rotates in the circumferential direction together with the guide roller 116-1 of the drive set 116 transferred by the transfer conveyor. It is formed to promote.

즉, 상기 지그링의 정면 또는 배면에는 원주방향을 따라 내측으로 파인 슬라이딩홈이 형성되고, 이에 가이드롤러(일종의 베어링)가 삽입되어 지그링의 원활한 자전이 이루어지도록 조장하게 된다.That is, in the front or rear surface of the jig ring, a sliding groove is formed inward along the circumferential direction, and a guide roller (a kind of bearing) is inserted therein to facilitate smooth rotation of the jig ring.

이에, 상기 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)는 슬라이딩홈(115)과 대응되는 호형패널(116-2)의 조립공(116-3)에 장착되어 자전하도록 하되, 상기 호형패널(116-2)은 이송대차 프레임(116-4)의 상면에 형성된 지지아암(116-5)에 체결 조립되도록 형성된다.Accordingly, the guide roller 116-1 of the drive set 116 is mounted in the assembly hole 116-3 of the arc-shaped panel 116-2 corresponding to the sliding groove 115 to rotate, but the arc-shaped panel ( 116-2) is formed to be fastened and assembled to the support arm 116-5 formed on the upper surface of the transport cart frame 116-4.

즉, 상기 가이드롤러는 별도의 힌지축에 의해 조립공에 끼움 고정되는 것으로, 특히 호형패널은 슬라이딩홈과 직경 또는 반경이 대응되면서 슬라이딩홈의 내부에 호형패널의 외형이 일부 수납되어 지그링의 안정적인 지지와 함께 가이드롤러와 같이 원주방향 회전시 가이드 역할(이탈방지)을 도모하게 된다.That is, the guide roller is fitted and fixed in the assembly hole by a separate hinge shaft.In particular, the arc-shaped panel has a sliding groove and a diameter or radius corresponding to the sliding groove, and the outer shape of the arc-shaped panel is partially accommodated in the sliding groove to provide stable support of the jig ring. Together with the guide roller, when rotating in the circumferential direction, a guide role (to prevent separation) is promoted.

이때, 상기 지지아암(116-5)은 길이방향에 슬릿(116-6)이 형성되어 이로 하여금 호형패널위 높이 조절가능하도록 형성된다.At this time, the support arm 116-5 has a slit 116-6 formed in the longitudinal direction so that the height can be adjusted on the arc-shaped panel.

한편, 상기 워킹 지그 파트(120)는 상기 지그링(111)의 내경측 공간부에 사각틀 구조의 픽업케이스(121)가 구비되도록 하되, 상기 픽업케이스(121)는 측단부 양측에 각각 고정용 그리퍼(122)가 형성되어 지그링(111)의 고정브라켓(117)과 체결되도록 형성된다.On the other hand, the working jig part 120 is such that the pickup case 121 having a rectangular frame structure is provided in the inner diameter side space of the jig ring 111, and the pickup case 121 is fixed to both sides of the side end portion, respectively. (122) is formed to be fastened to the fixing bracket 117 of the jig ring 111.

이때, 상기 픽업케이스(121)는 사각틀 4면 각 선상마다 다수개의 클램프(123)가 형성되어 마스크시트(10)를 고정하도록 형성된다.At this time, the pickup case 121 is formed to fix the mask sheet 10 by forming a plurality of clamps 123 for each line on the four sides of the square frame.

또한, 상기 고정용 그리퍼(122)는 판상의 일측 고정단(122-1)이 픽업케이스(121) 선상에 접합되도록 하되, 면상 중앙에는 개구홈(122-2)이 형성되어 후크핀(122-3)의 걸림쇠(122-4)가 삽입 장착되도록 형성된다.In addition, the fixing gripper 122 is such that one side of the plate-shaped fixing end 122-1 is joined on the line of the pickup case 121, but an opening groove 122-2 is formed in the center of the surface, so that the hook pin 122- 3) of the bracket (122-4) is formed to be inserted and mounted.

이때, 상기 후크핀(122-3)의 후단부에는 핀헤드(122-5)가 형성되어 고정브라켓(117)과 연결된 장착구(117-1)를 기준으로 내입된 스프링(117-2)에 의해 핀헤드(122-5) 측 방향으로의 장력이 발생되도록 형성된다.At this time, a pin head (122-5) is formed at the rear end of the hook pin (122-3), and is inserted into the spring (117-2) based on the mounting hole (117-1) connected to the fixing bracket (117). As a result, it is formed so that tension in the direction toward the pin head 122-5 is generated.

이에, 상기 핀헤드는 일종의 너트로서 몸체에 관통나사가 형성되고 상기 후크핀은 핀헤드 측 선상에 숫나사산이 형성되어 상호 조임시 장착구 내부면을 기준으로 스프링의 장력이 강해지거나 느슨해질 수 있도록 형성된다.Thus, the pin head is a kind of nut, and a through screw is formed on the body, and the hook pin is formed with a male thread on the side of the pin head to increase or loosen the tension of the spring based on the inner surface of the mounting hole when mutually tightening. do.

즉, 이러한 고정용 그리퍼(122)는 일측단(개구홈의 반대편)이 픽업케이스에 일체로 결합된 것으로, 상기 개구홈(122-2)을 이용해 걸림쇠(122-4)에 걸어 놓는 것만으로 장착이 완료된다.That is, such a gripper for fixing 122 has one end (opposite side of the opening groove) integrally coupled to the pickup case, and is mounted only by hanging it on the latch 122-4 using the opening groove 122-2. This is done.

그리고, 픽업케이스(사각틀이 지그링을 기준으로 정 중앙점에 위치하는 것)의 정위치 세팅이나 정열은 핀헤드(122-5)의 나사 조임에 의해 후크핀(122-3)과의 간격조절이 가변되어 그 사이에 형성된 스프링(117-2)의 장력 조정이 가능하도록 형성된다.In addition, the exact position setting or alignment of the pickup case (where the square frame is located at the center point based on the jig ring) can be adjusted with the hook pin 122-3 by tightening the screw of the pin head 122-5. This variable is formed to enable tension adjustment of the spring 117-2 formed therebetween.

이에, 상기 고정브라켓은 지그링의 내경에 대하여 짝수로 된 다수가 등간격 배열되도록 형성되어 워킹 지그 파트의 설치시 회전이 멈춘 위치에서 조립이 용이하도록 형성된다.Accordingly, the fixing bracket is formed such that a plurality of even numbers with respect to the inner diameter of the jig ring are arranged at equal intervals, so that when the working jig part is installed, it is formed to facilitate assembly at a position where rotation is stopped.

한편, 상기 클램프(123)는 핑거로드(123-1) 일측에 고정핀(123-2)이 형성되어 마스크시트(10)에 기 성형된 장착공(11)에 삽입된 후 거치와 인장을 도모하도록 형성된다.On the other hand, the clamp 123 has a fixing pin 123-2 formed on one side of the finger rod 123-1 and inserted into the preformed mounting hole 11 in the mask sheet 10, and then mounted and tensioned. It is formed to be.

이때, 상기 고정핀(123-2)과 대향되는 핑거로드(123-1)의 타측에는 걸림턱(123-3)을 갖는 푸쉬버튼(123-4)이 형성되어 픽업케이스(121)의 장착홈(121-1)에 내입된 탄성스프링(121-2)을 기준으로 푸쉬버튼(123-4) 측 바깥방향으로 장력이 발생되도록 형성된다.At this time, a push button 123-4 having a locking protrusion 123-3 is formed on the other side of the finger rod 123-1 facing the fixing pin 123-2, and the mounting groove of the pickup case 121 It is formed such that tension is generated in the outward direction toward the push button 123-4 based on the elastic spring 121-2 inserted into the (121-1).

이에, 상기 고정핀은 나사산이 형성되어 고정너트에 의해 체결되도록 형성된다.Accordingly, the fixing pin is formed such that a screw thread is formed and fastened by a fixing nut.

또한, 상기 푸쉬버튼(123-4)은 핑거로드에 대하여 암수 체결조립되도록 하면서 탄성스프링에 대한 가압(간격 조절)시 장력을 조절할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the push button 123-4 is capable of adjusting the tension when the elastic spring is pressed (interval adjustment) while being assembling male and female with respect to the finger rod.

한편, 본 발명의 웹(wet) 에칭장치(200)는 챔버 어셈블리(210)와 약액 공급장치(220)로 크게 구성된다.On the other hand, the web (wet) etching apparatus 200 of the present invention is largely composed of a chamber assembly 210 and a chemical supply device 220.

이때, 상기 웹(wet) 에칭장치(200)의 챔버 어셈블리(210)는 마스크시트(10)의 수직 이송 및 수직 에칭이 가능하도록 평면 기준 폭이 좁고 측면 기준 높이와 전후 길이가 긴 직사각면의 함체가 구비되도록 형성된다.At this time, the chamber assembly 210 of the web (wet) etching apparatus 200 is a rectangular enclosure having a narrow plane reference width and a side reference height and a long front and rear length so that vertical transfer and vertical etching of the mask sheet 10 are possible. Is formed to be provided.

이에, 상기 함체의 전후방 각 단부에는 입구게이트(211)와 출구게이트(212)가 형성되고, 상기 함체의 내부 상하측 단부에는 각각 이송레일(213)과 이송컨베이어(214)가 형성되어 별도의 지그셔틀을 통해 고정된 마스크 시트(10)가 세로로 세워진 상태에서 전진 이송될 수 있도록 형성된다.Accordingly, an inlet gate 211 and an outlet gate 212 are formed at each end of the front and rear sides of the housing, and a transfer rail 213 and a transfer conveyor 214 are formed at the upper and lower ends of the housing, respectively, so that a separate jig is formed. The mask sheet 10 fixed through the shuttle is formed to be transported forward in a vertically erected state.

또한, 상기 함체의 진행방향 라인 선상에는 다수의 처리파트(215)가 각각 구획 분할되면서 각 부분별로 에칭과 세정을 진입순서에 따라 차례대로 수행하도록 형성된다.In addition, while a plurality of processing parts 215 are divided into divisions along the line in the traveling direction of the enclosure, etching and cleaning are sequentially performed for each part according to the order of entry.

이때, 상기 처리파트(215)는 마스크시트(10)가 진입하는 초입을 기준으로 제1전처리(Reaction) 에칭 파트(215-1), 제2전처리(Bore) 에칭 파트(215-2), 포스트(Post) 에칭 파트(215-3), 린스(Rinse) 세정 파트(215-4)가 순서대로 구획되도록 형성된다.At this time, the processing part 215 includes a first reaction etching part 215-1, a second pretreatment (Bore) etching part 215-2, and a post based on the initial entrance to which the mask sheet 10 enters. The (Post) etching part 215-3 and the rinse cleaning part 215-4 are formed to be divided in order.

이에, 상기 제1,2전처리 에칭 파트(215-1,215-2)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 염화제2철, 염산, 귀액 중 어느 하나의 단일액을 사용하거나 복수의 약액을 선택적 혼합하여 사용할 수 있도록 형성된다.Accordingly, the transfer speed of the rotating jig equipped with the mask sheet 10 in the first and second pretreatment etching parts 215-1 and 215-2 is 400mmm/min, and the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 The spraying distance between them is 50 to 100mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is formed to use a single solution of ferric chloride, hydrochloric acid, and auris including water, or selectively mix a plurality of chemicals. .

또한, 상기 포스트(Post) 에칭 파트(215-3)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그은 전진 이송이 일시 정지된 상태에서 약액 공급장치로 하여금 본 에칭 처리가 이루어지도록 형성된다.In addition, the rotation jig in which the mask sheet 10 is mounted in the post etching part 215-3 is formed so that the chemical supply device performs the main etching process while the forward transfer is temporarily stopped.

이때, 상기 포스트(Post) 에칭 파트(215-3)에서 에칭 처리시에는 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 염산 단일액을 사용하도록 형성된다.At this time, when the post etching part 215-3 is etched, the spray distance between the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 is 50 to 100 mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is hydrochloric acid. It is formed to use a single liquid.

이에, 상기 린스(Rinse) 세정 파트(215-4)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 세정액인 것이 바람직하다.Accordingly, in the rinse cleaning part 215-4, the transfer speed of the rotating jig equipped with the mask sheet 10 is 400 mmm/min, and the spray distance between the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 is It is 50 to 100mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is preferably a cleaning liquid containing water.

이 역시 상기 속도와 분사거리에 대하여 해당 범위 이하 또는 이상이 되면 세정액이 마스크시트에 접촉되면서 일어나는 제거 반응이 덜하거나 과한 형태가 되어 정밀하고 원활한 패턴 셀 가공이 어려워지게 된다.Again, when the speed and the spraying distance are less than or above the corresponding range, the removal reaction that occurs when the cleaning liquid contacts the mask sheet becomes less or excessive, making precise and smooth pattern cell processing difficult.

그리고, 상기 린스(Rinse) 세정 파트(215-4) 이후에는 건조(Air knife) 파트(215-5)가 더 구비되어 고압에어가 분사되도록 형성된다.In addition, after the rinse cleaning part 215-4, an air knife part 215-5 is further provided to spray high-pressure air.

아울러, 상기 제1전처리 에칭 파트에서 마스크시트를 장착한 회전지그는 이송속도 동안 1회전하도록 형성되고, 상기 제2전처리 에칭 파트에서 마스크시트를 장착한 회전지그는 이송속도 동안 1회전하도록 형성된다.In addition, in the first pretreatment etching part, a rotation jig equipped with a mask sheet is formed to rotate once during a feed rate, and in the second pretreatment etching part, a rotation jig equipped with a mask sheet is formed to rotate once during a feed rate.

이에, 상기 포스트 에칭 파트에서 마스크시트를 장착한 회전지그는 이송이 정지된 상태에서 분당 1~2회전 자전하도록 하되, 분사되는 약액은 염산 단일 에칭액을 사용하도록 형성(사용용도: Spec 정밀화 및 최종 맞춤용/ sheet 표면 거친 부분 개선 및 하프 에칭 구간 표면 얼룩 방지용)된다.Thus, in the post-etched part, the rotating jig equipped with the mask sheet rotates 1 to 2 rotations per minute while the transfer is stopped, but the sprayed chemical is formed to use a single etching solution of hydrochloric acid (Use: Spec precision and final customization For improving the roughness of the sheet surface and preventing stains on the surface of the half-etched section).

이때, 린스 세정 파트와 건조 파트는 마스크시트를 장착한 회전지그의 자전 회전수와 속도 조절이 가능하도록 하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the rinse cleaning part and the drying part be able to adjust the rotational speed and rotational speed of the rotating jig equipped with the mask sheet.

한편, 상기 웹(wet) 에칭장치(200)의 약액 공급장치(220)는 각 처리파트(215) 마다의 내부 폭방향 양단부에는 다수개의 분사노즐(221)을 갖는 다발형 분사관(222)이 형성되어 축방향 중앙 진입선을 기준으로 진행하는 마스크시트(10)에 대하여 에칭액 또는 세정린스의 공급과 분사가 선택적으로 이루어지도록 형성된다.On the other hand, the chemical solution supply device 220 of the web (wet) etching apparatus 200 includes a bundle type injection pipe 222 having a plurality of injection nozzles 221 at both ends in the inner width direction of each treatment part 215 It is formed so as to selectively supply and spray an etching solution or a cleaning rinse to the mask sheet 10 proceeding based on the central entrance line in the axial direction.

이에, 상기 다발형 분사관(222)은 각 처리파트(215) 내에서 상하 높이 방향으로 다수 연결된 가지관 형태로서 서로 등간격 배열되도록 형성된다.Accordingly, the bundle type injection pipe 222 is formed to be arranged at equal intervals from each other in the form of a branch pipe connected in a vertical direction within each treatment part 215.

이때, 상기 다발형 분사관은 메인공급관(223)으로부터 목적한 약액을 공급받도록 형성되고, 상기 분사노즐(221)은 서로 마주보는 측 분사노즐과 서로 엇각으로 배치되도록 형성된다.At this time, the bundle type injection pipe is formed to receive a target chemical solution from the main supply pipe 223, and the injection nozzles 221 are formed to be disposed opposite to each other with the side injection nozzles facing each other.

이는 패턴 셀의 가공 관통후 분사되는 약액이 서로에게 분사되지 않도록 하기 위함이다.This is to prevent the chemicals sprayed after the processing of the pattern cell from spraying to each other.

또한, 상기 분사노즐(221)은 서로 마주한 분사노즐의 분사압력이 서로 상이하게 조절할 수 있도록 하는 것으로, 지그셔틀에 의해 마스크 시트가 진행 회전시 교번되는 분사압력에 의해 에칭 스팩이 보다 정밀하게 확보되도록 형성된다.In addition, the injection nozzle 221 allows the injection pressures of the injection nozzles facing each other to be adjusted differently from each other, so that the etching specification is more precisely secured by the alternate injection pressure when the mask sheet is rotated in advance by the jig shuttle. Is formed.

즉, 상기 분사압력은 일측 사이드 분사노즐은 더 강하게 설정하고, 타측 사이드 분사노즐은 약하게 설정하여 다양한 모양의 패턴 및 요철 모양(하프 가공_단차 성형)으로의 가공이 원활하도록 형성된다.That is, the injection pressure is formed so that the one side injection nozzle is set stronger and the other side injection nozzle is set weaker to facilitate processing into patterns of various shapes and irregularities (half processing_step forming).

본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.The present invention is not limited to the specific preferred embodiments described above, and any person having ordinary knowledge in the technical field to which the design belongs without departing from the gist of the present invention claimed in the claims can implement various modifications. Of course, such changes are intended to be within the scope of the description of the claims.

10 ... 마스크시트 11 ... 장착공
100 ... 회전지그
110 ... 로테이팅 지그 파트 111 ... 지그링
112 ... 기어치차 113 ... 서브모터
114 ... 구동스프로켓 115 ... 슬라이딩홈
116 ... 드라이브 세트 116-1 ... 가이드롤러
116-2 ... 호형패널 116-3 ... 조립공
116-4 ... 이송대차 프레임 116-5 ... 지지아암
116-6 ... 슬릿 117 ... 고정브라켓
117-1 ... 장착구 117-2 ... 스프링
120 ... 워킹 지그 파트 121 ... 픽업케이스
121-1 ... 장착홈 121-2 ... 탄성스프링
122 ... 고정용 그리퍼 122-1 ... 고정단
122-2 ... 개구홈 122-3 ... 후크핀
122-4 ... 걸림쇠 122-5 ... 핀헤드
123 ... 클램프 123-1 ... 핑거로드
123-2 ... 고정핀 123-3 ... 걸림턱
123-4 ... 푸쉬버튼
200 ... 웹(wet) 에칭장치 210 ... 챔버 어셈블리
211 ... 입구게이트 212 ... 출구게이트
213 ... 이송레일 214 ... 이송컨베이어
215 ... 처리파트 215-1 ... 제1전처리 에칭 파트
215-2 ... 제2전처리 에칭 파트 215-3 ... 포스트 에칭 파트
215-4 ... 린스 세정 파트 215-5 ... 건조 파트
220 ... 약액 공급장치 221 ... 분사노즐
222 ... 다발형 분사관 223 ... 메인공급관
10 ... Mask sheet 11 ... Mounting hole
100 ... rotary jig
110 ... rotating jig part 111 ... jig ring
112 ... gear difference 113 ... sub motor
114 ... Drive sprocket 115 ... Sliding groove
116 ... Drive set 116-1 ... Guide roller
116-2 ... Arc panel 116-3 ... Assembly work
116-4 ... Transport cart frame 116-5 ... Support arm
116-6 ...Slit 117 ...Fixing bracket
117-1 ... Mounting hole 117-2 ... Spring
120 ... working jig part 121 ... pickup case
121-1 ... Mounting groove 121-2 ... Elastic spring
122 ... Fixed gripper 122-1 ... Fixed end
122-2 ... Opening groove 122-3 ... Hook pin
122-4 ... brace 122-5 ... pinhead
123 ... clamp 123-1 ... finger rod
123-2 ... fixing pin 123-3 ... locking jaw
123-4 ... push button
200 ... Web (wet) etching device 210 ... Chamber assembly
211 ... Entrance gate 212 ... Exit gate
213 ... Transfer rail 214 ... Transfer conveyor
215 ... Treatment part 215-1 ... 1st pretreatment etching part
215-2 ... 2nd pre-etching part 215-3 ... Post-etching part
215-4 ... Rinse cleaning part 215-5 ... Drying part
220 ... chemical liquid supply device 221 ... spray nozzle
222 ... Bundle type injection pipe 223 ... Main supply pipe

Claims (3)

마스크시트(10)를 수직으로 세워 장착할 수 있도록 회전지그(100)가 구비되도록 하되, 상기 회전지그(100)는 로테이팅 지그 파트(110)와 워킹 지그 파트(120)로 구성되어 마스크시트(10)의 외곽부 테두리 부분을 각각 인장 및 클램핑한 뒤 일방향 로딩과 자전 회전을 수행할 수 있도록 형성되고, 상기 회전지그(100)를 통해 수직으로 세워져 로딩되는 마스크시트(10)는 수직 로딩식 Ÿ‡(wet) 에칭장치(200)의 단계별 챔버 어셈블리(210)와 사이드 약액 분사구조의 약액 공급장치(220)로 하여금 각각 에칭, 세정 및 건조되도록 하는 회전지그와 수직 로딩식 Ÿ‡(wet) 에칭장치를 이용한 마스크시트용 에칭 시스템에 있어서,
상기 회전지그(100)의 로테이팅 지그 파트(110)는 원형으로 된 지그링(111)의 바깥측 원주면에 기어치차(112)가 형성되어 일측 서브모터(113)와 결합된 구동스프로켓(114) 회전시 설정된 주기 또는 설정된 시간동안 연동 회전하도록 하되, 상기 지그링(111)의 측면 테두리에는 슬라이딩홈(115)이 형성되어 이송컨베이어에 의해 이송되는 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)와 함께 지그링(111)의 원주방향 회전을 도모하도록 형성되고, 상기 회전지그(100)의 워킹 지그 파트(120)는 지그링(111)의 내경측 공간부에 사각틀 구조의 픽업케이스(121)가 구비되도록 하되, 상기 픽업케이스(121)는 측단부 양측에 각각 고정용 그리퍼(122)가 형성되어 지그링(111)의 고정브라켓(117)과 체결되도록 형성되고, 상기 픽업케이스(121)는 사각틀 4면 각 선상마다 다수개의 클램프(123)가 형성되어 마스크시트(10)를 고정하도록 형성되며, 상기 드라이브 세트(116)의 가이드롤러(116-1)는 슬라이딩홈(115)과 대응되는 호형패널(116-2)의 조립공(116-3)에 장착되어 자전하도록 하되, 상기 호형패널(116-2)은 이송대차 프레임(116-4)의 상면에 형성된 지지아암(116-5)에 체결 조립되도록 형성되고, 상기 클램프(123)는 핑거로드(123-1) 일측에 고정핀(123-2)이 형성되어 마스크시트(10)에 기 성형된 장착공(11)에 삽입된 후 거치와 인장을 도모하도록 형성되며, 상기 고정핀(123-2)과 대향되는 핑거로드(123-1)의 타측에는 걸림턱(123-3)을 갖는 푸쉬버튼(123-4)이 형성되어 픽업케이스(121)의 장착홈(121-1)에 내입된 탄성스프링(121-2)을 기준으로 푸쉬버튼(123-4) 측 바깥방향으로 장력이 발생되도록 형성되고, 상기 Ÿ‡(wet) 에칭장치(200)의 챔버 어셈블리(210)는 마스크시트(10)의 수직 이송 및 수직 에칭이 가능하도록 평면 기준 폭이 좁고 측면 기준 높이와 전후 길이가 긴 직사각면의 함체가 구비되도록 하되, 상기 함체의 전후방 각 단부에는 입구게이트(211)와 출구게이트(212)가 형성되고, 상기 함체의 내부 상하측 단부에는 각각 이송레일(213)과 이송컨베이어(214)가 형성되어 별도의 지그셔틀을 통해 고정된 마스크 시트(10)가 세로로 세워진 상태에서 전진 이송될 수 있도록 형성되며, 상기 함체의 진행방향 라인 선상에는 다수의 처리파트(215)가 각각 구획 분할되면서 각 부분별로 에칭과 세정을 진입순서에 따라 차례대로 수행하도록 하되, 상기 Ÿ‡(wet) 에칭장치(200)의 약액 공급장치(220)는 상기 각 처리파트(215) 마다의 내부 폭방향 양단부에는 다수개의 분사노즐(221)을 갖는 다발형 분사관(222)이 형성되어 축방향 중앙 진입선을 기준으로 진행하는 마스크시트(10)에 대하여 에칭액 또는 세정린스의 공급과 분사가 선택적으로 이루어지도록 형성되고, 상기 처리파트(215)는 마스크시트(10)가 진입하는 초입을 기준으로 제1전처리(Reaction) 에칭 파트(215-1), 제2전처리(Bore) 에칭 파트(215-2), 포스트(Post) 에칭 파트(215-3), 린스(Rinse) 세정 파트(215-4)가 순서대로 구획되도록 하되, 상기 제1,2전처리 에칭 파트(215-1,215-2)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 염화제2철, 염산, 귀액 중 어느 하나의 단일액을 사용하거나 복수의 약액을 선택적 혼합하여 사용할 수 있도록 형성되고, 상기 포스트(Post) 에칭 파트(215-3)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그은 전진 이송이 일시 정지된 상태에서 약액 공급장치로 하여금 본 에칭 처리가 이루어지도록 하되, 상기 에칭 처리시에는 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 염산 단일액을 사용하도록 형성되고, 상기 린스(Rinse) 세정 파트(215-4)에서 마스크시트(10)를 장착한 회전지그의 이송속도는 400mmm/min 이고, 상기 마스크시트(10)와 좌우측 분사노즐(221) 간의 분사거리는 50~100mm 이며, 상기 분사노즐을 통해 분사되는 처리 약액은 물을 포함한 세정액으로 형성되고, 상기 고정용 그리퍼(122)는 판상의 일측 고정단(122-1)이 픽업케이스(121) 선상에 접합되도록 하되, 상기 고정단(122-1)의 면상 중앙에는 개구홈(122-2)이 형성되어 후크핀(122-3)의 걸림쇠(122-4)가 삽입 장착되도록 형성되며, 상기 후크핀(122-3)의 후단부에는 핀헤드(122-5)가 형성되어 고정브라켓(117)과 연결된 장착구(117-1)를 기준으로 내입된 스프링(117-2)에 의해 핀헤드(122-5) 측 방향으로의 장력이 발생되도록 형성되고, 상기 분사노즐(221)은 지그셔틀을 통해 수직 로딩되는 마스크 시트를 기준으로 서로 마주보는 측 분사노즐과 서로 엇각으로 배치되도록 하되, 상기 분사노즐(221)은 서로 마주한 분사노즐의 분사압력이 서로 상이하게 조절할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 회전지그와 수직 로딩식 Ÿ‡ 에칭장치를 이용한 마스크시트용 에칭 시스템.
A rotating jig 100 is provided so that the mask sheet 10 can be vertically mounted, but the rotating jig 100 is composed of a rotating jig part 110 and a working jig part 120, and is composed of a mask sheet ( 10) is formed to perform one-way loading and rotational rotation after each tensioning and clamping the outer rim of the outer edge, and the mask sheet 10 that is vertically erected and loaded through the rotation jig 100 is a vertical loading type Ÿ ‡(Wet) A rotating jig and vertical loading type Ÿ‡(wet) etching to allow the step-by-step chamber assembly 210 of the etching device 200 and the chemical liquid supply device 220 of the side chemical liquid injection structure to be etched, cleaned, and dried, respectively. In the mask sheet etching system using the device,
The rotating jig part 110 of the rotary jig 100 has a gear tooth difference 112 formed on the outer circumferential surface of the circular jig ring 111, and a driving sprocket 114 coupled with one submotor 113 ) During rotation, the guide roller 116-1 of the drive set 116 is provided with a sliding groove 115 formed on the side edge of the jig ring 111 and transferred by a transfer conveyor. ) And the jig ring 111 is formed to rotate in the circumferential direction, and the working jig part 120 of the rotation jig 100 is a pickup case 121 having a square frame structure in the inner diameter side space of the jig ring 111 ) Is provided, but the pickup case 121 is formed to be fastened with the fixing bracket 117 of the jig ring 111 by forming a gripper 122 for fixing each on both sides of the side end, and the pickup case 121 Is formed to fix the mask sheet 10 by forming a plurality of clamps 123 on each of the four sides of the square frame, and the guide roller 116-1 of the drive set 116 corresponds to the sliding groove 115 It is mounted in the assembly hole 116-3 of the arc-shaped panel 116-2 to rotate, but the arc-shaped panel 116-2 is attached to the support arm 116-5 formed on the upper surface of the transfer cart frame 116-4. It is formed to be fastened and assembled, and the clamp 123 has a fixing pin 123-2 formed on one side of the finger rod 123-1 and is inserted into the preformed mounting hole 11 in the mask sheet 10 and then mounted. And a push button 123-4 having a locking projection 123-3 is formed on the other side of the finger rod 123-1 opposite to the fixing pin 123-2, and a pickup case The elastic spring 121-2 inserted in the mounting groove 121-1 of the 121 is formed to generate tension in the outward direction toward the push button 123-4, and the Ÿ‡ (wet) etching device The chamber assembly 210 of 200 has a narrow plane reference width, a side reference height, and a long rectangular surface to enable vertical transfer and vertical etching of the mask sheet 10. The enclosure is provided, but an inlet gate 211 and an exit gate 212 are formed at each end of the front and rear of the enclosure, and a transport rail 213 and a transport conveyor 214 are formed at the upper and lower ends of the enclosure, respectively. Is formed so that the mask sheet 10 fixed through a separate jig shuttle is vertically erected so that it can be transported forward, and a plurality of processing parts 215 are divided into each part on the line in the direction of travel of the enclosure. Etching and cleaning are performed sequentially according to the order of entry, but the chemical solution supplying device 220 of the Ÿ‡ (wet) etching device 200 has a plurality of A bundle type injection pipe 222 having the injection nozzle 221 is formed to selectively supply and spray an etching solution or a cleaning rinse with respect to the mask sheet 10 proceeding with respect to the central entry line in the axial direction, The processing part 215 includes a first reaction etching part 215-1, a second pretreatment (Bore) etching part 215-2, and a post based on the initial entrance to which the mask sheet 10 enters. ) The etching part 215-3 and the rinse cleaning part 215-4 are divided in order, but the mask sheet 10 is mounted on the first and second pretreatment etching parts 215-1 and 215-2. The feed speed of one rotating jig is 400mmm/min, the spray distance between the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 is 50-100mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is ferric chloride including water. , Hydrochloric acid, a rotating jig equipped with a mask sheet 10 in the post etching part 215-3, formed to use a single liquid or selectively mix a plurality of chemical liquids In a state in which the transfer is temporarily stopped, the chemical supply device performs the main etching process, but during the etching process, the spray distance between the mask sheet 10 and the left and right spray nozzles 221 is 50 to 100 mm, through the spray nozzle. Sprayed The treatment chemical is formed to use a single solution of hydrochloric acid, and the transfer speed of the rotating jig equipped with the mask sheet 10 in the rinse cleaning part 215-4 is 400 mmm/min, and the mask sheet 10 The spray distance between the spray nozzles 221 and the left and right sides is 50 to 100 mm, and the treatment chemical sprayed through the spray nozzle is formed of a cleaning liquid including water, and the fixing gripper 122 has a fixed end 122-1 on one side of the plate. ) To be joined on the line of the pickup case 121, but an opening groove 122-2 is formed in the center of the surface of the fixed end 122-1, so that the catches 122-4 of the hook pins 122-3 are It is formed to be inserted and mounted, a pin head (122-5) is formed at the rear end of the hook pin (122-3), the spring 117 inserted based on the mounting hole (117-1) connected to the fixing bracket (117) It is formed to generate tension in the direction of the pin head 122-5 by -2), and the spray nozzle 221 is formed to be a side spray nozzle facing each other with respect to the mask sheet vertically loaded through the jig shuttle. An etching system for a mask sheet using a rotating jig and a vertical loading type Ÿ‡ etching device, characterized in that the spray nozzles 221 are arranged at an angle to each other so that the spray pressures of the spray nozzles facing each other can be adjusted differently from each other.
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