KR102283589B1 - 표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일례는 나노입자를 포함하는 코팅층에 의하여 플렉서블 기판이 보호된 플렉서블 표시장치를 제공한다.

Description

표시장치 및 그 제조방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 표시장치 및 그 제조방법에 대한 것으로서, 특히 코팅층이 배치된 플렉서블 기판을 포함하는 표시장치 및 그 제조방법에 대한 것이다.
최근 휘어질 수 있는 플렉서블(flexible) 표시장치가 개발되고 있다. 이러한 플렉서블 표시장치는 접히거나 만곡된 형태로 사용될 수 있어 다양한 분야에 활용될 수 있다. 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판상에 표시소자가 배치된 것이다. 여기에 적용될 수 있는 표시소자로 유기 발광 소자(organic light emitting diode), 액정 표시(liquid crystal display) 소자, 및 전기 영동 표시(electrophoretic display, EPD) 소자 등이 있다. 이 중 유기 발광 소자는 박막 형태의 적층구조로 제조될 수 있기 때문에 뛰어난 유연성을 갖고 있어 플렉서블 표시장치의 표시소자로 각광받고 있다.
플렉서블 기판을 포함하는 표시장치를 제조하기 위하여, 플렉서블 기판상에 박막 트랜지스터와 같은 구동 회로부를 배치하고 그 위에 표시소자를 형성하는 공정이 필요하다. 그런데 기존 유리 기판으로 표시장치를 제조하기에 적합한 제조 설비를 사용하여 플렉서블 기판으로 플렉서블 표시장치를 제조하는 것은 공정상 많은 어려움이 있다.
따라서, 기존의 제조 설비를 사용하여 플렉서블 표시장치를 제조하는 방안으로, 유리 기판과 같은 캐리어 기판상에 플렉서블 기판이 배치되고, 플렉서블 기판상에 박막 트랜지스터가 형성된 후 표시소자를 형성한 다음, 캐리어 기판에서 플렉서블 기판을 분리하는 공정이 적용되고 있다.
그런데, 유리 기판에 비하여 플라스틱 등으로 이루어진 플렉서블 기판은 낮은 기체나 수분 차단 능력을 갖고 있기 때문에, 캐리어 기판으로부터 분리된 후 산소와 같은 외부 기체나 수분의 침투로부터 플렉서블 기판 및 표시소자가 보호되는 것이 필요하다.
본 발명의 일례는 코팅층에 의하여 플렉서블 기판이 보호된 플렉서블 표시장치를 제공한다.
또한 본 발명의 일례는, 나노 입자가 함유된 고분자 수지로 형성된 코팅층에 의하여 플렉서블 기판 및 표시소자가 보호된 플렉서블 표시장치를 제공한다.
또한 본 발명의 일례는, 나노 입자가 함유된 고분자 수지를 이용하여 플렉서블 기판을 보호하는 플렉서블 표시장치의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일례는, 플렉서블(flexible) 기판; 상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 코팅층; 상기 플렉서블 기판의 타면상에 배치된 구동 회로부; 및 상기 구동 회로부상에 배치된 표시소자;를 포함하며, 상기 코팅층은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지에 분산된 나노입자를 포함하는 플렉서블 표시장치를 제공한다.
본 발명의 일례에서, 상기 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함한다.
본 발명의 일례에서, 상기 나노입자는 SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide) 및 그래핀 옥사이드(graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함한다.
본 발명의 일례에서, 상기 나노입자는 평균입경이 1 내지 1000nm이다.
본 발명의 일례에서, 상기 나노입자는 상기 고분자 수지 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부의 함량을 갖는다.
본 발명의 일례에서, 상기 코팅층의 두께는 10 내지 500㎛이다.
본 발명의 일례에서, 상기 표시소자는 유기발광소자, 액정표시소자 및 전기 영동 표시 소자 중 어느 하나이다.
본 발명의 일례에서, 상기 표시소자상에 배치된 박막봉지층을 더 포함한다.
본 발명의 일례에서, 상기 표시소자의 중립면이 유기 발광 소자와 구동 회로부에 위치된다.
또한, 본 발명의 일례는, 캐리어 기판을 준비하는 단계; 상기 캐리어 기판 상에 플렉서블 기판을 배치하는 단계; 상기 플렉서블 기판상에 표시소자를 배치하는 단계; 상기 플렉서블 기판을 상기 캐리어 기판과 분리하는 단계; 및 상기 플렉서블 기판의 일면에 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 플렉서블 표시장치의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일례에서, 상기 코팅층은 나노입자를 포함하는 고분자 수지이다.
본 발명의 일례에서, 상기 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함한다.
본 발명의 일례에서, 상기 나노입자는 SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide) 및 그래핀 옥사이드(graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함한다.
본 발명의 일례에서, 상기 나노입자는 평균입경이 1 내지 1000nm 이다.
본 발명의 일례에서, 상기 나노입자의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부이다.
본 발명의 일례에서, 상기 코팅층의 두께는 10 내지 500㎛이다.
본 발명의 일례에서, 상기 표시소자는 유기발광소자, 액정표시소자 및 전기 영동 표시 소자 중 어느 하나이다.
본 발명의 일례에서, 상기 표시소자를 배치하는 단계 후, 상기 플렉서블 기판을 상기 캐리어 기판과 분리하는 단계 전에, 상기 표시소자상에 박막봉지층을 형성하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 일례는 또한, 플렉서블(flexible) 기판; 상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 코팅층; 상기 코팅층상에 배치된 구동 회로부; 및 상기 구동 회로부상에 배치된 표시소자;를 포함하며, 상기 코팅층은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지에 분산된 나노입자를 포함하는 플렉서블 표시장치를 제공한다.
본 발명의 일례에서, 상기 코팅층과 상기 구동 회로부 사이에 배리어층이 배치되어 있다.
본 발명의 일례에 따른 플렉서블 표시장치는 나노 입자가 함유된 고분자 수지로 된 코팅층을 포함하여 플렉서블 기판을 통한 기체나 수분 등의 침투가 방지될 수 있다. 그 결과, 표시장치의 표시소자가 효과적으로 보호된다.
또한, 고분자 수지로 된 코팅층의 두께 조절에 의하여, 굽힘 모멘트에 의하여 형성된 중립면(neutral plane; NP)의 위치를 조절함으로써 표시장치에서 발생한 응력이 감소될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면도이다.
도 2는 도 1의 플렉서블 표시장치의 내부 구조를 확대 도시한 평면도이다.
도 3은 도 2의 I-I'를 따른 단면도이다.
도 4는 도 1의 플렉서블 표시장치가 벤딩된 상태를 나타낸 단면도이다.
도 5a 내지 5f는 도 1의 플렉서블 표시장치의 제조과정을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면도이다.
이하, 도면에 개시된 일례들을 중심으로 본 발명은 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명의 범위가 하기 설명하는 도면이나 일례들에 의하여 한정되는 것은 아니다. 첨부된 도면들은 다양한 실시예들 중 본 발명을 구체적으로 설명하기 위하여 예시적으로 선택된 것일 뿐이다.
도면에서는 이해를 돕기 위하여 각 구성요소와 그 형상 등이 간략하게 그려지거나 또는 과장되어 그려지기도 하며, 실제 제품에 있는 구성요소가 표현되지 않고 생략되기도 한다. 따라서 도면은 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석해야 한다. 한편, 도면에서 동일한 역할을 하는 요소들은 동일한 부호로 표시한다.
또한, 어떤 층이나 구성요소가 다른 층이나 또는 구성요소의 '상'에 있다라고 기재되는 경우에는, 상기 어떤 층이나 구성요소가 상기 다른 층이나 구성요소와 직접 접촉하여 배치된 경우 뿐만 아니라, 그 사이에 제3의 층이 개재되어 배치된 경우까지 모두 포함하는 의미이다.
이하, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판(110)과, 플렉서블 기판(110)의 일면에 배치된 코팅층(400), 상기 플렉서블 기판의 타면상에 배치된 구동 회로부(130) 및 상기 구동회로부(130)상에 배치된 표시 소자(210)를 포함한다. 여기서, 플렉서블 기판(130)의 일면은 코팅층(400)이 배치된 면이고, 타면은 표시 소자(210)가 배치된 면이지만, 플렉서블 기판(130)의 일면과 타면은 서로 바뀔 수도 있다.
플렉서블 기판(110)은 유연성 재료로 만들어질 수 있다. 이러한 유연성 재료로 플라스틱 물질이 있다. 구체적으로, 플렉서블 기판(110)은 캡톤(kapton), 폴리에테르술폰(polyethersulphone, PES), 폴리카보네이트(polycarbonate: PC), 폴리이미드(polyimide: PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate: PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리아크릴레이트(polyacrylate, PAR) 및 섬유 강화 플라스틱(fiber reinforced plastic: FRP) 등으로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나로 만들어질 수 있다. 이 중, 폴리이미드(PI)는 내열성이 뛰어나 고온 공정을 거쳐야 하는 플렉서블 기판(110)의 소재로 적합하다.
또한, 플렉서블 기판(110)은 5㎛ 내지 200㎛의 두께를 갖는다. 플렉서블 기판(110)이 5㎛ 미만의 두께를 가지면, 플렉서블 기판(110)이 표시소자(210)를 안정적으로 지지하기 어렵다. 반면, 플렉서블 기판(110)이 200㎛이상의 두께를 가지면 표시장치가 두께로 인하여 플렉서블한 특성이 저하될 수 있다.
또한, 플렉서블 기판(110)은 3ppm/℃ ~ 10ppm/℃ 의 열팽창계수(CTE)를 가질 수 있다. 플렉서블 기판(110)의 열팽창계수가 3ppm/℃ 보다 작거나 10ppm/℃ 보다 크면, 플렉서블 표시장치의 제조 과정에서 캐리어 기판(도 5a 내지 5f의 310 참조)과 플렉서블 기판(110) 간의 열팽창계수 차이가 지나치게 커진다. 이와 같이 열팽창계수의 차이가 거치면, 플렉서블 표시장치의 제조 과정에서 플렉서블 기판(110)과 캐리어 기판(310)이 서로 박리될 가능성이 높아진다.
코팅층(400)은 표시소자(210)의 반대쪽 플렉서블 기판(110)의 일면에 배치된다.
코팅층(400)은 고분자 수지(401) 및 고분자 수지(401)에 분포된 나노입자(403)을 포함한다. 고분자 수지(401)는 코팅층과 플렉서블 기판(110)사이의 접착 안정성을 부여하며, 나노입자(403)는 외부로부터 기체 또는 수분을 차단하는 역할을 한다.
코팅층(400)에 사용될 수 있는 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지, 에폭시계 수지 등이 있으며, 단독 또는 2종 이상의 고분자 수지가 혼합되어 사용될 수 있다.
나노 입자(403)는 고분자 수지(401)에 분산되어 있다.나노 입자(403)는 코팅층(400) 내로 침투한 기체 또는 수분과 결합하여 기체나 수분이 표시소자(210)쪽으로 더 이상 진행하지 못하게 하는 배리어 역할을 할 수 있다.
나노 입자(403)로, 금속 산화물, 무기물, 탄소계 산화물 등이 사용될 수 있다. 예를 들어, 나노 입자는 SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide), 그래핀 옥사이드(graphene oxide) 등으로 이루어질 수 있다. 이들은 단독으로 사용될 수도 있으며, 2종 이상 혼합되어 사용될 수도 있다.
나노입자(403)는 1 ~ 1000nm의 평균입경을 가질 수 있다. 1nm 이하의 입경을 갖는 나노입자는 제조가 용이하지 않을 뿐 아니라, 나노 입자의 평균입경이 1nm보다 작으면 코팅층 형성용 조성물 제조과정에서 나노 입자들이 서로 응집되어 고분자 수지 내에 골고루 분산되지 않을 수 있다. 또한 나노입자의 평균 입경이 1000nm를 초과하면 나노 입자가 기판을 누르거나 고분자 수지 표면위로 돌출할 가능성이 있어, 코팅층(400)이 얇고 균일하게 형성되지 않는다.
상기 코팅층(400)은 10 ~ 500㎛의 두께를 가질 수 있다. 코팅층(400)의 두께가 10㎛ 미만이면, 코팅층(400)은 산소와 같은 외부 기체 또는 수분을 차단하는 역할을 하지 못한다. 또한, 코팅층(400)의 두께가 500㎛를 초과하면 표시장치의 박형화에 불리하다. 다만, 대형 표시장치에서 코팅층은 500㎛이상의 두께를 가질 수 있다.
코팅층은 100 중량부의 고분자 수지(401)와 10 내지 200 중량부의 나노입자(403)을 포함할 수 있다. 나노 입자(403)의 함량이 10 중량부 미만이면 코팅층(400)은 외부 기체 및 수분을 차단하는 역할을 하지 못하고, 나노 입자(403)의 함량이 200 중량부를 초과하면 코팅층(400) 이 형성되기 어렵다.
아크릴 수지에 평균입경이 50nm인 SiO2가 분산된 코팅층(430)의 SiO2의 함량에 따른 수분 투습도(WVTR: Water Vapor Transmission Rate)를 측정한 결과가 표 1에 개시되어 있다. 여기서, 코팅층의 두께는 100㎛이며, SiO2의 함량은 아크릴 수지 100 중량부에 대한 상대적 중량부를 나타낸다.
SiO2의 함량(중량부) WVTR(g/m2 day)
0 3.90
10 3.56
25 1.80
50 0.90
100 0.24
표 1을 참조하면, 아크릴 수지에 분산된 나노 입자의 함량이 증가할수록 수분 투습도가 크게 감소되는 것을 알 수 있다. 이와 비교하여, 플렉서블 표시장치의 플렉서블 기판(110) 보호에 사용되던 PET 필름(두께 100 ㎛)의 수분 투습도는 24.4 정도이다. 이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 코팅층(400)은 종래 플렉서블 기판(110) 보호에 사용되던 PET 필름에 비하여, 우수한 투습 방지 성능을 보여준다.
표시 소자(210)는 유기 발광 소자(organic light emitting diode), 액정 표시(liquid crystal display) 소자, 및 전기 영동 표시(electrophoretic display, EPD) 소자 중 어느 하나일 수 있다. 이러한 표시 소자들은 공통적으로 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 포함한다. 따라서, 플렉서블 표시 장치를 제조하기 위해 여러 차례의 박막 공정들이 수행되어야 한다.
이하, 도 1을 참조하여 표시소자(110)로 유기 발광 표시 소자를 포함하는 플렉서블 표시장치의 구조를 설명하기로 한다.
도 1을 참조하여, 플렉서블 기판(110)상에 표시소자(210)의 구동을 위한 구동 회로부(130)가 구비된다. 구동 회로부(130)는 박막 트랜지스터(10, 20)를 포함하며(도 2 참조), 표시소자인 유기 발광 소자(210)를 구동한다. 즉, 표시소자인 유기 발광 소자(210)는 구동 회로부(130)로부터 전달받은 구동 신호에 따라 빛을 방출하여 화상을 표시한다.
구동 회로부(130) 및 유기 발광 소자(210)의 구체적인 구조는 도 2 및 도 3에 나타나 있으나, 본 발명의 일 실시예가 도 2 및 도 3에 도시된 구조에 한정되는 것은 아니다. 구동 회로부(130) 및 유기 발광 소자(210)는 해당 기술 분야의 종사자가 용이하게 변형 실시할 수 있는 범위 내에서 다양한 구조로 형성될 수 있다.
이하, 도 2 및 도 3을 참조하여, 유기 발광 소자(210)를 구비한 플렉서블 표시 장치의 내부 구조에 대해 상세히 설명한다. 도 2는 화소의 구조를 나타낸 평면도이고, 도 3은 도 2의 I-I'선에 따른 단면을 나타낸다.
또한, 도 2 및 도 3에서 하나의 화소에 두개의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)(10, 20)와 하나의 축전 소자(capacitor)(80)를 구비하는 2Tr-1Cap 구조의 능동 구동(active matrix, AM)형 유기 발광 표시장치를 도시하고 있지만, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 하나의 화소에 셋 이상의 박막 트랜지스터와 둘 이상의 축전 소자를 구비할 수 있으며, 별도의 배선이 더 형성되어 다양한 구조를 가질 수 있다. 여기서, 화소는 화상을 표시하는 최소 단위를 말하며, 각 화소 영역에 배치된다. 플렉서블 표시장치는 복수의 화소들을 통해 화상을 표시한다.
도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 하나의 화소마다 스위칭 박막 트랜지스터(10), 구동 박막 트랜지스터(20), 축전 소자(80), 및 유기 발광 소자(210)를 포함한다. 여기서, 스위칭 박막 트랜지스터(10), 구동 박막 트랜지스터(20), 및 축전 소자(80)를 포함하는 구성을 구동 회로부(130)라 한다. 그리고 구동 회로부(130)는 일 방향을 따라 배치되는 게이트 라인(151)과, 게이트 라인(151)과 절연 교차되는 데이터 라인(171), 및 공통 전원 라인(172)을 더 포함한다. 하나의 화소 영역은 게이트 라인(151), 데이터 라인(171) 및 공통 전원 라인(172)을 경계로 정의될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 블랙 매트릭스 또는 화소정의막에 의하여 화소 영역이 정의될 수도 있다.
유기 발광 소자(210)는 애노드(anode)인 제1 전극(211)과, 캐소드(cathode)인 제2 전극(213) 및 제 1 전극(211)과 제2 전극(213) 사이에 배치된 발광층(212)을 포함한다. 하지만, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 제1 전극(211)이 캐소드 전극이되고, 제2 전극(213)이 애노드 전극이 될 수도 있다.
또한, 플렉서블 표시장치는 전면 표시형, 배면 표시형, 및 양면 표시형 중 어느 한 구조를 가질 수 있다.
플렉서블 표시장치가 전면 표시형일 경우, 제 1 전극(211)은 반사막으로 형성되고, 제 2 전극(213)은 반투과막으로 형성된다. 반면, 플렉서블 표시장치가 배면 표시형일 경우, 제 1 전극(211)이 반투과막으로 형성되고, 제 2 전극(213)은 반사막으로 형성된다. 또한, 플렉서블 표시장치가 양면 표시형일 경우, 제 1 전극(211) 및 제 2 전극(213)은 투명막 또는 반투과막으로 형성된다.
반사막 및 반투과막은 마그네슘(Mg), 은(Ag), 금(Au), 칼슘(Ca), 리튬(Li), 크롬(Cr), 및 알루미늄(Al) 중 하나 이상의 금속 또는 이들의 합금을 사용하여 만들어진다. 이때, 반사막과 반투과막은 두께로 결정된다. 일반적으로, 반투과막은 200nm 이하의 두께를 갖는다. 반투과막은 두께가 얇아질수록 빛의 투과율이 높아지고, 두께가 두꺼워질수록 빛의 투과율이 낮아진다.
투명막은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(산화 아연) 또는 In2O3(Indium Oxide) 등의 물질을 사용하여 만들어진다.
또한, 제 1 전극(211)과 발광층(212) 사이에 정공 주입층(hole injection layer, HIL) 및 정공 수송층(hole transporting layer, HTL) 중 적어도 하나가 더 배치될 수 있으며, 발광층(210)과 제 2 전극(213) 사이에 전자 수송층(electron transportiong layer, ETL) 및 전자 주입층(electron injection layer, EIL) 중 적어도 하나를 더 배치될 수 있다.
이와 같이, 유기 발광 소자(210)는 제 1 전극(211) 및 제 2 전극(213)을 통해 정공과 전자를 발광층(212) 내부에 각각 주입한다. 주입된 정공과 전자가 결합한 엑시톤(exiton)이 여기 상태로부터 기저상태로 떨어질 때 유기 발광 소자(210)의 발광이 이루어진다.
축전 소자(80)는 층간 절연막(160)을 사이에 두고 배치된 한 쌍의 축전판(158, 178)을 포함한다. 여기서, 층간 절연막(160)은 유전체가 된다. 축전 소자(80)에서 축전된 전하와 양 축전판(158, 178) 사이의 전압에 의해 축전용량이 결정된다.
스위칭 박막 트랜지스터(10)는 스위칭 반도체층(131), 스위칭 게이트 전극(152), 스위칭 소스 전극(173), 및 스위칭 드레인 전극(174)을 포함한다. 구동 박막 트랜지스터(20)는 구동 반도체층(132), 구동 게이트 전극(155), 구동 소스 전극(176), 및 구동 드레인 전극(177)을 포함한다. 또한, 게이트 절연막(140)이 구비되어 게이트 전극(152, 1155)과 반도체층(131, 132)을 절연한다.
스위칭 박막 트랜지스터(10)는 발광시키고자 하는 화소를 선택하는 스위칭 소자로 사용된다. 스위칭 게이트 전극(152)은 게이트 라인(151)에 연결된다. 스위칭 소스 전극(173)은 데이터 라인(171)에 연결된다. 스위칭 드레인 전극(174)은 스위칭 소스 전극(173)으로부터 이격 배치되며 어느 한 축전판(158)과 연결된다.
구동 박막 트랜지스터(20)는 선택된 화소 내의 유기 발광 소자(210)의 발광층(212)을 발광시키기 위한 구동 전원을 화소 전극인 제 1 전극(211)에 인가한다. 구동 게이트 전극(155)은 스위칭 드레인 전극(174)과 연결된 축전판(158)과 연결된다. 구동 소스 전극(176) 및 다른 한 축전판(178)은 각각 공통 전원 라인(172)과 연결된다. 박막 트랜지스터(10, 20)상에 평탄화층(165)이 배치되며, 구동 드레인 전극(177)은 평탄화층(165)에 구비된 컨택홀(contact hole)을 통해 유기 발광 소자(210)의 화소 전극(211)과 연결된다.
이와 같은 구조에 의하여, 스위칭 박막 트랜지스터(10)는 게이트 라인(151)에 인가되는 게이트 전압에 의해 작동하여 데이터 라인(171)에 인가되는 데이터 전압을 구동 박막 트랜지스터(20)로 전달하는 역할을 한다. 공통 전원 라인(172)으로부터 구동 박막 트랜지스터(20)에 인가되는 공통 전압과 스위칭 박막 트랜지스터(10)로부터 전달된 데이터 전압의 차에 해당하는 전압이 축전 소자(80)에 저장되고, 축전 소자(80)에 저장된 전압에 대응하는 전류가 구동 박막 트랜지스터(20)를 통해 유기 발광 소자(210)로 흘러 유기 발광 소자(210)가 발광하게 된다.
또한, 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판(110) 상에 형성되어 표시 소자(210)를 커버하는 박막 봉지층(250)과, 표시 소자(210)와 플렉서블 기판(110) 사이에 배치된 배리어층(120)을 더 포함한다.
박막 봉지층(250)은 하나 이상의 무기막(251, 253, 255) 및 하나 이상의 유기막(252, 254)을 포함한다. 또한, 박막 봉지층(250)은 무기막(251, 253, 255)과 유기막(252, 254)이 교호적으로 적층된 구조를 갖는다. 이때, 무기막(251)이 최하부에 배치된다. 즉, 무기막(251)이 유기 발광 소자(210)와 가장 가깝게 배치된다. 도 3에서 박막 봉지층(250)은 3개의 무기막(251, 253, 255)과 2개의 유기막(252, 254)을 포함하고 있으나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다.
무기막(251, 253, 255)은 Al2O3, TiO2, ZrO, SiO2, AlON, AlN, SiON, Si3N4, ZnO, 및 Ta2O5 중 하나 이상의 무기물을 포함하여 형성된다. 무기막(251, 253, 255)은 화학증착(chemical vapor deposition, CVD)법 또는 원자층 증착(atomic layer depostion, ALD)법을 통해 형성된다. 하지만, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 무기막(251, 253, 255)은 해당 기술 분야의 종사자에게 공지된 다양한 방법을 통해 형성될 수 있다.
유기막(252, 254)은 고분자(polymer) 계열의 소재로 만들어진다. 여기서, 고분자 계열의 소재는 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 폴리이미드, 및 폴리에틸렌 등을 포함한다. 또한, 유기막(252, 254)은 열증착 공정을 통해 형성된다. 그리고, 유기막(252, 254)을 형성하기 위한 열증착 공정은 유기 발광 소자(210)를 손상시키지 않는 온도 범위 내에서 진행된다. 하지만, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 유기막(252, 254)은 해당 기술 분야의 종사자에게 공지된 다양한 방법을 통해 형성될 수 있다.
박막의 밀도가 치밀하게 형성된 무기막(251, 253, 255)이 주로 수분 또는 산소의 침투를 억제한다. 대부분의 수분 및 산소는 무기막(251, 253, 255)에 의해 유기 발광 소자(210)로의 침투가 차단된다.
무기막(251, 253, 255)을 통과한 수분 및 산소는 유기막(252, 254)에 의해 다시 차단된다. 유기막(252, 254)은 무기막(251, 253, 255)에 비해 상대적으로 투습 방지 효과는 적다. 하지만, 유기막(252, 254)은 투습 억제 외에 무기막(251, 253, 255)과 무기막(251, 253, 255) 사이에서, 플렉서블 표시장치의 휘어짐에 따른 각층들 간의 응력을 줄여주는 완충층의 역할도 함께 수행한다. 즉, 유기막(252, 254)이 없이 무기막(251, 253, 255) 바로 위에 바로 무기막(251, 253, 255)이 연속적으로 형성되면, 플렉서블 표시장치가 휘어짐에 따라 무기막(251, 253, 255)과 무기막(251, 253, 255) 사이에 응력이 발생되고, 이 응력으로 인해 무기막(251, 253, 255)이 손상되어 박막 봉지층(250)의 투습 방지 기능이 현격하게 저하될 수 있다. 또한, 유기막(252, 254)은 평탄화 특성을 가지므로, 박막 봉지층(250)의 최상부면이 평탄해질 수 있다.
박막 봉지층(250)은 10㎛ 이하의 두께로 형성될 수 있다. 따라서, 플렉서블 표시장치의 전체적인 두께가 매우 얇게 형성될 수 있다. 이와 같이 박막 봉지층(250)이 적용됨으로써, 플렉서블 표시장치의 플렉서블 특성이 극대화될 수 있다.
배리어층(120)은 다양한 무기막들 및 유기막들 중에서 하나 이상의 막으로 형성될 수 있다.
이와 같이 형성된 박막 봉지층(250)과 배리어층(120)은 함께 유기 발광 소자(210)에 수분과 같이 불필요한 성분이 침투하는 것을 방지한다.
이러한 구성에 의하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 불량의 발생이 효과적으로 억제될 수 있다.
도 4에 도 1의 플렉서블 표시장치가 벤딩된 상태가 개시되어 있다.
굽힘 모멘트에 의하여 플렉서블 표시장치가 벤딩되면, 중립면(neutral plane, 中立面)(NP)이 생긴다. 중립면은 부재가 힘을 받아 휘어질 때, 늘어나거나 줄어들지 않고 본래의 길이를 유지하는 면을 말한다. 벤딩시 응력을 받지 않는 중립면을 기준으로, 중립면(NP)보다 가까운 쪽에서는 압축응력이 발생하고 중립면(NP)보다 먼 쪽에서는 인장응력이 발생한다.
플렉서블 표시장치가 휘어져 사용되는 경우 유기 발광 소자(210) 및 구동 회로부(130)는 응력을 받으며, 또한 박막 봉지층(250)도 응력을 받는다. 이 때, 플렉서블 표시장치에 가해지는 응력은 중립면(NP)으로부터 멀어질수록 강해진다.
플렉서블 표시장치에 응력이 반복해서 가해지거나, 파괴강도 이상의 응력이 가해지면 플렉서블 표시장치의 내부에 형성된 박막 트랜지스터(10, 20)와 같은 소자가 손상되거나 도전 배선이 단선될 수 있다. 또한, 박막 봉지층(250)이 응력에 의하여 손상되면 박막 봉지층(250)으로 수분 등이 침투되어 유기 발광 소자(210)나 구동 회로부(130)가 손상될 수 있다.
코팅에 의해 형성되는 코팅층은 필름 부재에 비하여 두께 조절이 용이하기 때문에, 본 발명의 일 실시예에서, 코팅층(400)의 두께를 조절하여, 중립면(NP)이 플렉서블 표시장치의 유기 발광 소자(210), 구동 회로부(130) 또는 이들에 인접영역에 위치될 수 있다. 그에 따라 플렉서블 표시장치가 벤딩되더라도 유기 발광 소자(210)나 구동 회로부(130)가 받은 응력이 감소되고, 이들의 손상이 방지될 수 있다.
한가지 구성 요소로 이루어진 평판 부재의 경우, 중립면은 평판 부재의 두께방향 중심면상에 위치될 것이다. 그러나, 서로 다른 여러 가지 구성요소들이 적층되어 이루어진 평판 부재의 경우, 중립면이 반드시 평판 부재의 두께방향 중심면에 위치되는 것은 아니다. 그렇더라도, 만약 상기 서로 다른 구성요소들의 물성이 크게 다르지 않은 경우, 중립면은 평판 부재의 두께 방향 중심면 근방에 위치될 것이다.
또한, 본 발명의 일 실시예에서, 코팅층(400)의 두께를 조절하여 중립면(NP)이 박막 봉지층(250)에 인접하게 위치될 수 있다.표 2는 도 4와 같이 플렉서블 표시장치가 벤딩될 경우, 코팅층(400)의 두께에 따라 최외곽층에 인가되는 응력 비를 보여준다. 여기서 최외곽층은 박막 봉지층(250)의 최외곽 무기층(255)이며, 곡률 반경(R)은 2mm이다. 박막 봉지층(250)의 최외곽 무기층(255)은 중립면(NP)보다 외곽에 위치하기 때문에 인장응력을 받는다.
코팅층(400)의 두께(㎛) 무기층(255)이 받는 응력 비(%)
100 1.13
80 0.88
60 0.65
40 0.42
20 0.22
표 2를 참조하면, 코팅층(400)의 두께가 얇아지면 중립면(NP)이 박막 봉지층(250)의 최외곽 무기층(255) 쪽으로 이동되어, 최외곽 무기층(255)이 받는 응력이 감소된다. 박막 봉지층(250)의 최외곽 무기층(255)은 표시소자(210)로 침투하는 수분이나 기체를 막는 중요한 층이다. 박막 봉지층(250)의 최외곽 무기층(255)가 받는 응력이 감소되면 최외곽 무기층(255)의 손상이 방지되어 표시소자(210)가 효율적으로 보호될 수 있다.
이하, 도 5a 내지 5f를 참조하여 도 1의 플렉서블 표시장치의 제조 방법을 설명한다.
먼저, 캐리어 기판(310)상에 플렉서블 기판(110)을 배치한다(도 5a).
캐리어 기판(310)으로 유리기판이 사용된다.
플렉서블 기판(110)은 내열성 및 내구성이 우수한 플라스틱 소재로 만들어진다. 그렇지만, 플라스틱 소재로 만들어진 플렉서블 기판(110)은 열을 가할 경우 휘거나 늘어나는 성질이 있어, 플렉서블 기판(110)에 각종 전극이나 도전 배선 등의 박막 패턴이 정밀하게 형성되기 어려운 점이 있다. 이에, 캐리어 기판(310)에 플렉서블 기판(110)을 배치하여 여러 박막 패턴 형성 공정이 진행된다.
캐리어 기판(310)상에 플렉서블 기판(110)을 배치하는 방법으로, 캐리어 기판(310)상에 플렉서블 기판용 고분자 물질 도포한 후 고분자 물질을 경화시킴으로써 플라스틱 기판을 형성하는 방법이 있다. 구체적으로, 캐리어 기판(310) 상에 고분자 물질, 예컨대 폴리이미드(PI)를 슬릿 코딩, 스크린 프린팅, 스핀 코팅, 또는 바(Bar) 코팅 기법을 이용하여 전면에 도포함으로써 고분자 물질층을 형성한 후, 경화 장치를 이용하여 고분자 물질층을 경화시킴으로써 폴리이미드(PI)로 된 플렉서블 기판(110)을 캐리어 기판(310)상에 배치할 수 있다.
또한, 플렉서블 기판(110)은 제조 환경이나 플렉서블한 특성을 고려하여 5㎛ 내지 200㎛ 범위 내의 두께를 갖도록 형성된다.
플렉서블 기판(110) 상에 배리어층(120)을 배치한다(도 5b).
배리어층(120)은 플렉서블 기판(110)을 통한 수분이나 다른 기체들의 침투를 막는 역할을 한다. 구체적으로, 무기 절연물질, 예컨대 산화 실리콘(SiO2) 또는 질화 실리콘(SiNx)을 폴리이미드(PI)로 된 플렉서블 기판(110)상의 전면에 증착함으로써 버퍼층을 형성할 수 있다.
배리어층(120)상에 구동 회로부(130)와 표시소자인 유기 발광 소자(210)를 형성한다(도 5c).
또한, 플렉서블 기판(110) 상에 유기 발광 소자(210) 및 구동 회로부(130)를 커버하는 박막 봉지층(250)을 형성된다(도 5d).
이어, 캐리어 기판(310)이 플렉서블 기판(110)으로부터 분리된다(도 5e). 구체적으로, 레이저를 조사하여 플렉서블 기판(110)과 캐피어 기판(310)을 서로 분리시킨다. 레이저로 엑시머 레이저가 사용될 수 있다. 캐리어 기판(310)을 통해 레이저가 조사되어 캐리어 기판과 폴리이미드(PI)로 된 플렉서블 기판(110)이 캐리어 기판(310)으로부터 분리된다.
캐리어 기판(310)이 제거된 플렉서블 기판(110)에 코팅층을 형성한다(도 5f). 코팅층은 고분자 수지(401)와 고분자 수지(401)에 분산된 나노입자(403)를 포함한다.
구체적으로, 상기 플렉서블 기판(110)의 일면상에 고분자 수지(401)와 나노입자(403)를 포함하는 코팅용 조성물을 도포하고 경화시켜 코팅층을 형성한다. 코팅용 조성물의 도포 방법으로, 예를 들어, 스핀 코팅, 슬릿 코팅 등이 있다. 슬릿 코팅이 적용되는 경우 너비 500 내지 1600mm의 슬릿 노즐(410)이 사용될 수 있다. 슬릿 노즐에서 유출되는 코팅용 조성물의 양을 조정하거나 슬릿 노즐의 이동속도를 조정하여 코팅층의 두께를 조정할 수 있다. 슬릿 노즐의 이동 속도는 10 내지 50 m/s의 범위가 될 수 있다.
코팅용 조성물은 고분자 수지 형성용 모노머와 올리고머 및 나노입자를 포함한다. 또한, 코팅용 조성물은 용매를 비롯하여, 중합개시제, 분산제, 가교제, 경화제, 중합 개시제 등을 더 포함할 수 있다. 코팅용 조성물이 열 개시제를 더 포함되는 경우, 열경화에 의하여 코팅용 조성물이 경화되어 안정적인 코팅층(400)이 형성된다. 코팅용 조성물이 광 개시제를 포함하는 경우, 광경화에 의하여 코팅용 조성물이 경화되어 안정적인 코팅층(400)이 형성된다.
코팅의 용이성 및 흐름성 등을 고려하여, 코팅용 조성물은 50 내지 15000cSt의 점도를 가질 수 있다.
코팅층(400)은 고분자 수지로 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함한다. 따라서, 코팅용 조성물은 상기 고분자 수지를 형성하기 위한 모노머 또는 올리고머를 포함할 수 있다.
예를 들어, 코팅층(400)이 아크릴계 수지를 포함하는 경우, 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르계 단량체 및 상기 단량체와 공중합이 가능한 극성 단량체가 코팅용 조성물에 포함될 수 있다.
나노입자(403)로, SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide) 및 그래핀 옥사이드(graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나가 포함될 수 있다. 이 때, 1 내지 1000nm의 평균입경을 갖는 나노입자(403)가 사용될 수 있다.
코팅층(400)상기 고분자 수지 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부의 나노입자를 포함한다.
플렉서블 기판(110) 보호를 위하여 점착층을 갖는 보호필름이 사용되는 경우 보호필름의 두께를 자유롭게 조정하기가 용이하지 않다. 반면, 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅층(400)의 두께가 10 내지 500㎛의 범위로 용이하게 조절될 수 있다.
또한, 플렉서블 기판(110) 보호를 위하여 점착층을 갖는 보호필름이 사용되는 경우, 상기 보호필름의 부착과정에서 시인성에 영향을 주는 기포가 생길 수 있다. 이러한 기포가 플렉서블 기판(110)과 보호필름 사이에 일렬로 형성되어 기포선(氣泡線)를 형성할 수 있다.
반면, 본 발명에 따라 플렉서블 기판(110)에 코팅층을 형성하는 경우, 표시장치에 기포 또는 기포선이 발생되지 않는다.
이하, 도 6을 참조하여 본 발명의 다른 일 실시예를 설명한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판(110), 플렉서블 기판(110)의 일면에 배치된 코팅층(420), 코팅층(420)상에 구동 회로부(130) 및 구동회로부(130)상에 배치된 표시 소자(210)를 포함한다. 또한, 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판(110) 상에 형성되어 표시 소자(210)를 커버하는 박막 봉지층(250)을 포함한다.
코팅층(420)은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지에 분산된 나노입자를 포함한다. 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함하며, 나노입자는 SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide) 및 그래핀 옥사이드(graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함한다. 나노입자는 평균입경이 1 내지 1000nm이다. 또한, 나노입자는 상기 고분자 수지 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부의 함량을 갖는다.
또한, 상기 코팅층의 두께는 10 내지 500㎛이다.
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치이다. 도 7의 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판(110), 플렉서블 기판(110)의 일면에 배치된 코팅층(420), 코팅층(420)상에 배치된 배리어층(120), 배리어층(120)상에 배치된 구동 회로부(130) 및 구동회로부(130)상에 배치된 표시 소자(210)를 포함한다. 또한, 플렉서블 표시장치는 플렉서블 기판(110) 상에 형성되어 표시 소자(210)를 커버하는 박막 봉지층(250)을 포함한다. 도 7의 플렉서블 표시장치는 도 6의 플렉서블 표시장치와 비교하여 배리어층(120)을 더 포함한다. 배리어층(120)은 상기에서 설명되었으므로, 중복을 피하기 위하여 구체적인 설명은 생략한다.
이상에서, 도면에 도시된 예들을 참고하여 본 발명을 설명하였으나, 이러한 설명은 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능할 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
110: 플렉서블 기판 120: 배리어층
130: 구동 회로부 210: 표시소자
211: 제 1 전극 121: 발광층
213: 제 2 전극 250: 박막봉지층
310: 캐리어 기판 400, 420: 코팅층
401: 고분자 수지 403: 나노입자
410: 슬릿 노즐

Claims (21)

  1. 플렉서블(flexible) 기판;
    상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 코팅층;
    상기 플렉서블 기판의 타면상에 배치된 구동 회로부; 및
    상기 구동 회로부상에 배치된 표시소자;를 포함하며,
    상기 코팅층은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지에 분산된 나노입자를 포함하고,
    상기 플렉서블 표시장치의 중립면은, 상기 플렉서블 기판의 상기 일면에서 상기 타면을 향하는 방향으로, 상기 플렉서블 기판으로부터, 상기 구동 회로부보다 멀리 위치되는 플렉서블 표시장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함하는 플렉서블 표시장치.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 나노입자는 SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide) 및 그래핀 옥사이드(graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 플렉서블 표시장치.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 나노입자는 평균입경이 1 내지 1000nm인 플렉서블 표시장치.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 나노입자는 상기 고분자 수지 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부의 함량을 갖는 플렉서블 표시장치.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 코팅층의 두께는 10 내지 500㎛인 플렉서블 표시장치.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 표시소자는 유기발광소자, 액정표시소자 및 전기 영동 표시 소자 중 어느 하나인 플렉서블 표시장치.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 표시소자상에 배치된 박막봉지층을 더 포함하는 플렉서블 표시장치.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 플렉서블 표시장치의 중립면이, 상기 박막봉지층에 위치되는 플렉서블 표시장치.
  10. 캐리어 기판을 준비하는 단계;
    상기 캐리어 기판 상에 플렉서블 기판을 배치하는 단계;
    상기 플렉서블 기판상에 표시소자를 배치하는 단계;
    상기 플렉서블 기판을 상기 캐리어 기판과 분리하는 단계; 및
    상기 플렉서블 기판의 일면에 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고,
    상기 코팅층은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지에 분산된 나노입자를 포함하고,
    상기 플렉서블 표시장치의 중립면은, 상기 플렉서블 기판에서 상기 표시소자를 향하는 방향으로, 상기 플렉서블 기판과 인접하는 상기 표시소자의 일면에 또는 그보다 상기 플렉서블 기판으로부터 멀리 위치되는 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  11. 삭제
  12. 제 10항에 있어서, 상기 고분자 수지는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  13. 제 10항에 있어서, 상기 나노입자는 SiO2, Al2O3, BaSO4, BiOCl, CaCO3, FePO4, Li2MoO4, MoO3, WO3, Y2Eu2O3, ZnO, 그라파이트 옥사이드(graphite oxide) 및 그래핀 옥사이드(graphene oxide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  14. 제 10항에 있어서, 상기 나노입자는 평균입경이 1 내지 1000nm인 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  15. 제 10항에 있어서, 상기 나노입자의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부인 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  16. 제 10항에 있어서, 상기 코팅층의 두께는 10 내지 500㎛인 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  17. 제 10항에 있어서, 상기 표시소자는 유기발광소자, 액정표시소자 및 전기 영동 표시 소자 중 어느 하나인 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  18. 제 10항에 있어서,
    상기 표시소자를 배치하는 단계 후, 상기 플렉서블 기판을 상기 캐리어 기판과 분리하는 단계 전에,
    상기 표시소자상에 박막봉지층을 형성하는 단계를 더 포함하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.
  19. 플렉서블(flexible) 기판;
    상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 코팅층;
    상기 코팅층상에 배치된 구동 회로부; 및
    상기 구동 회로부상에 배치된 표시소자;를 포함하며,
    상기 코팅층은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지에 분산된 나노입자를 포함하고,
    상기 플렉서블 표시장치의 중립면은, 상기 플렉서블 기판에서 상기 구동 회로부를 향하는 방향으로, 상기 플렉서블 기판으로부터, 상기 구동 회로부보다 멀리 위치되는 플렉서블 표시장치.
  20. 제 19항에 있어서, 상기 코팅층과 상기 구동 회로부 사이에 배치된 배리어층 및 상기 표시소자 상에 배치된 박막봉지층 중 적어도 하나를 더 포함하는 플렉서블 표시장치.
  21. 제 1항에 있어서, 상기 플렉서블 표시장치의 중립면이 상기 표시소자에 위치되는 플렉서블 표시장치.
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