KR102277540B1 - 기판 처리 장치 및 컵 유닛 - Google Patents

Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 상부가 개방되어 그 내부에 처리공간을 제공하는 컵 유닛, 상기 컵 유닛 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지 유닛, 그 지지축을 중심으로 회전하고, 상기 지지 유닛에 놓인 기판을 세정하는 브러쉬 유닛 그리고 상기 하우징 내 일측에 제공되고 상기 브러쉬를 세정하는 세정액이 담긴 브러쉬 세정 유닛을 포함하되, 상기 컵 유닛은, 상기 처리공간을 감싸는 컵, 상기 컵의 일측에 제공되고, 상기 브러쉬 유닛이 회전될 때 상기 세정액의 낙하를 방지하는 방지컵을 포함할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 컵 유닛{SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND CUP UNIT}

본 발명은 컵 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 각각의 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에서는 기판을 세정하는 세정공정이 실시된다.

일반적으로 브러쉬를 이용하여 세정 공정을 진행할 경우, 브러쉬는 브러쉬를 세정하는 브러쉬 세정 유닛에 담겨 세척된다. 이 때, 브러쉬 세정 유닛에는 세정액이 담겨있는데, 브러쉬가 세정된 후 기판 상으로 이동할 때 브러쉬에 묻은 세정액이 기판 처리 장치 내부로 떨어질 수 있다.

본 발명은 브러쉬 상의 세정액 낙하를 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 공급하는 것을 일 목적으로 한다.

본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 상부가 개방되어 그 내부에 처리공간을 제공하는 컵 유닛, 상기 컵 유닛 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지 유닛, 그 지지축을 중심으로 회전하고, 상기 지지 유닛에 놓인 기판을 세정하는 브러쉬 유닛 그리고 상기 하우징 내 일측에 제공되고 상기 브러쉬를 세정하는 세정액이 담긴 브러쉬 세정 유닛을 포함하되, 상기 컵 유닛은, 상기 처리공간을 감싸는 컵, 상기 컵의 일측에 제공되고, 상기 브러쉬 유닛이 회전될 때 상기 세정액의 낙하를 방지하는 방지컵을 포함할 수 있다.

상부에서 바라볼 때, 상기 방지컵은 상기 브러쉬 유닛이 회전되는 위치에 제공될 수 있다.

상기 방지컵은 상기 컵의 상측에 부착될 수 있다.

상기 방지컵 내측의 상기 컵에는 상기 세정액을 상기 컵으로 배출하는 드레인 홀이 형성될 수 있다.

상기 세정액은 순수일 수 있다.

본 발명의 실시예에 의하면, 브러쉬 상의 세정액 낙하를 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1의 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 방지컵을 상부에서 바라본 도면이다.
도 3은 도 2를 측면에서 바라본 도면이다.
도 4는 도 3의 컵 유닛의 단면도이다.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.

이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.

도 1은 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 기판처리장치(1)는 하우징(100), 지지 유닛(200), 컵 유닛(300), 브러쉬 유닛(400), 그리고 브러쉬 세정 유닛(500)을 가진다. 하우징(100)은 기판 처리 공정이 수행되는 공간을 가진다.

지지 유닛(200)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 지지 유닛(200)은 지지 플레이트(210), 지지축(220), 구동기(230), 그리고 방지판(240)을 가진다. 지지 플레이트(210)는 기판(W)을 지지한다. 지지 플레이트(210)는 상부에서 바라볼 때, 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 지지 플레이트(210)의 저면에는 지지축(220)이 고정 결합된다. 도 1과 같이, 지지축(220)의 일단은 지지 플레이트(210)의 중앙부에 결합될 수 있다. 구동기(230)는 지지축(220)의 타단과 결합된다. 구동기(230)는 지지축(220)을 중심으로, 지지 플레이트(210)를 회전시킨다. 일 예로, 구동기(230)는 모터(M)로 제공될 수 있다. 방지판(240)은 지지 플레이트(210)에서 연장된다. 일 예로, 방지판(240)은 지지 플레이트(210)의 저면에 결합된다. 방지판(240)은 지지축(220)보다 외부에서 연장된다. 방지판(240)은 지지축(220)으로의 흄(Fume)의 유입을 방지한다. 방지판(240)은 소정의 길이를 갖는 플레이트로 제공될 수 있다.

컵 유닛(300)은 외부 컵(310), 배기덕트(320), 그리고 방지컵(330)을 포함한다. 외부 컵(310)은 상부가 개방되고, 그 내부에 처리 공간을 제공한다. 도 1 과 같이, 외부 컵(310)은 수평벽, 수직벽, 그리고 경사벽을 포함할 수 있다. 외부 컵(310)은 처리 공간을 감싸, 처리액이 외부로 비산되는 것을 방지한다. 일 예로, 처리액은 세정액일 수 있다. 또한, 외부 컵(310)은 비산되는 처리액을 배기덕트(340)로 방출시킨다. 선택적으로, 외부 컵(310)은 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개로 제공될 경우, 각각의 컵 유닛은 서로 상이한 종류의 처리액을 이용한 공정에 쓰일 수 있다. 배기덕트(320)는 외부 컵(310)에 모인 처리액 및 흄을 외부로 배출시킬 수 있다.

도 2는 방지컵(330)을 상부에서 바라본 도면이다. 도 3은 도 2를 측면에서 바라본 도면이다. 도 4는 도 3의 컵 유닛(300)의 단면도이다. 방지컵(330)은 외부 컵(310)의 일측에 제공될 수 있다. 방지컵(330)은 브러쉬 유닛(400)이 회전될 때, 브러쉬 유닛(400)에 묻는 세정액의 낙하를 방지한다. 방지컵(330)은 상부에서 바라볼 때, 컵 유닛(300)과 브러쉬 세정 유닛(500) 사이에서 브러쉬 유닛(400)이 회전되는 위치에 제공된다. 방지컵(330)은 외부 컵(310)의 상측에 부착될 수 있다. 이 때, 방지컵(330) 내측의 외부 컵(310)에는, 방지컵(330)에 모인 세정액을 외부 컵(310)으로 유입시키는 드레인 홀이 형성될 수 있다. 세정액이 외부 컵(310)으로 유입되면, 배기덕트(320)를 향해 배출될 수 있다.

브러쉬 유닛(400)은 기판(W)을 세정한다. 브러쉬 유닛(400)은 구동기(410), 지지축(420), 아암(430), 그리고 브러쉬(440)를 포함한다. 지지축(420)은 하우징(100)의 일측에 배치된다. 지지축(420)은 그 길이방향이 상하방향으로 제공되는 로드 형상을 가진다. 지지축(420)은 구동 부재(400)에 의해 스윙 및 승강된다. 이와 달리 지지축(420)은 구동부재(400)에 의해 수평 방향으로 직선 이동 및 승강할 수 있다. 지지축의 상단에는 아암(430)이 고정결합된다. 아암(430)은 브러쉬(440)를 지지한다. 브러쉬(440)는 아암(430)의 끝단에 위치된다.

브러쉬 세정 유닛(500)은 하우징(100) 내 타측에 제공된다. 브러쉬 세정 유닛(500)은 브러쉬를 세정한다. 또한, 브러쉬 세정 유닛(500)은 브러쉬()가 대기하는 공간을 제공한다. 브러쉬 세정 유닛(500)에는 세정액이 담길 수 있다. 일 예로, 세정액은 순수일 수 있다. 선택적으로, 세정액은 케미컬로 제공될 수 있다. 일 예로, 처리액은 황산(H2SO4) 및 과산화수소(H2O2)을 포함하는 세정액일 수 있다. 선택적으로, 처리액은 수소수, 산소수, 그리고 오존수 중 어느 하나이거나 이들을 포함할 수 있다.

이상의 본 실시예에서는, 브러쉬를 갖는 기판 처리 장치를 예로 들어 설명하였다. 그러나, 이와 달리, 브러쉬가 아닌 기판 상에 회전되며 처리액을 분사하는 다양한 종류의 분사 유닛에 적용될 수 있다. 또한, 이상의 본 실시예에서는 세정 공정을 수행하는 것으로 예로 들어 설명하였다. 그러나, 이와 달리, 기판 상에 처리액이 공급되고 기판이 회전되며 진행되는 다양한 다른 종류의 공정을 수행할 수 있다. 예를 들어, 식각 등의 공정을 수행할 수 있다. 또한, 이상에서 설명한 기판 처리 장치는 단일의 컵을 갖는 구조를 예를 들어 설명하였으나, 이와 달리 다양한 개수의 컵을 갖는 구조에도 적용될 수 있다. 또한, 컵이 아닌 지지 유닛을 감싸는 구조로 제공되는 다양한 종류의 기판 처리 장치에도 적용될 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 수정, 치환 및 변형이 가능하므로 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다. 또한, 본 명세서에서 설명된 실시예들은 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.

100: 하우징
200: 지지 유닛
210: 지지 플레이트
220: 지지축
230: 구동기
300: 컵 유닛
310: 컵
320: 배기덕트
330: 방지컵
400: 브러쉬 유닛
500: 브러쉬 세정 유닛

Claims (9)

1. 기판 처리 장치에 있어서,
   상부가 개방되어 그 내부에 처리공간을 제공하는 컵 유닛;
   상기 컵 유닛 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지 유닛;
   그 지지축을 중심으로 회전하고, 상기 지지 유닛에 놓인 기판을 세정하는 브러쉬 유닛; 그리고
   상기 하우징 내 일측에 제공되고 상기 브러쉬를 세정하는 세정액이 담긴 브러쉬 세정 유닛;을 포함하되,
   상기 컵 유닛은,
   상기 처리공간을 감싸는 컵;
   상기 컵의 일측에 제공되고, 상기 브러쉬 유닛이 회전될 때 상기 세정액의 낙하를 방지하는 방지컵을 포함하는 기판 처리 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상부에서 바라볼 때, 상기 방지컵은 상기 컵 유닛과 상기 브러쉬 세정 유닛 사이의 상기 브러쉬 유닛이 회전되는 위치에 제공되는 기판 처리 장치.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 방지컵은 상기 컵의 상측에 부착되는 기판 처리 장치.
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 방지컵 내측의 상기 컵에는 상기 세정액을 상기 컵으로 배출하는 드레인 홀이 형성되는 기판 처리 장치.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 세정액은 순수인 기판 처리 장치.
6. 지지 유닛에 지지된 기판을 브러쉬를 회전시키며 세정하되, 상기 브러쉬에 묻은 세정액의 낙하를 방지하는 컵 유닛에 있어서,
   상기 컵 유닛은,
   상부가 개방되어 그 내부에 처리공간을 제공하는 컵;
   상기 컵의 일측에 제공되고, 상기 브러쉬 유닛이 회전될 때 상기 세정액의 낙하를 방지하는 방지컵을 포함하는 컵 유닛.
7. 제 6 항에 있어서,
   상부에서 바라볼 때, 상기 방지컵은 상기 브러쉬 유닛이 회전되는 위치에 제공되는 컵 유닛.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 방지컵은 상기 컵의 상측에 부착되는 컵 유닛.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 방지컵 내측의 상기 컵에는 상기 세정액을 상기 컵으로 배출하는 드레인 홀이 형성되는 컵 유닛.

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