KR102277419B1 - 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기 및 그의 구현방법 - Google Patents

음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기 및 그의 구현방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기 및 그의 구현방법에 관한 것으로서, 해당 세라믹 도파기는, 세라믹 유전체 공진기를 포함하되, 세라믹 유전체 공진기에는 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀이 개구되어 설치되고, 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀은 이를 구비한 세라믹 유전체 공진기의 공진주파수를 디버깅하는데 사용되며, 세라믹 유전체 공진기에는 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 더 개구되어 설치되되, 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀은 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀 사이에 위치하고, 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 개구는 서로 반대로 설치되며, 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 개구되어 형성된 깊이는 교차되도록 설치되고, 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀은 사이에 간격을 두고 상대적으로 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 교차되는 부분은 세라믹 유전체 공진기의 용량성 커플링을 구현하기 위한 것이다. 본 발명은 세라믹 도파관 필터가 용량성 커플링을 구현하기 힘든 문제점을 해결함으로써, 근단 주파수에 대한 억제능력을 향상시킨다.

Description

음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기 및 그의 구현방법{CERAMIC WAVEGUIDE FOR INCREASING NEGATIVE COUPLING AND IMPLEMENTATION METHOD THEREOF}
본 발명은 필터 분야에 속하는 것으로서, 특히 음의 커플링(negative coupling)을 증가하기 위한 세라믹 도파기 및 그의 구현방법에 관한 것이다.
현대 통신 기술이 발전함에 따라, 통신설비의 소형화는 불가피한 추세이며, 특히 5G시대에서, 통신설비의 소형화가 극히 중요하다. 5G통신에서는, 필터도 줄곧 소형화를 향해 발전하고 있으며, 그중 세라믹 도파관 필터는 설비의 소형화 수요를 잘 해결하였으나, 통신 기술이 발전함에 따라, 스펙트럼 자원이 갈수록 부족해지고, 통신 주파수대역 간격이 점점 가까워져, 상응한 간섭도 점점 심각해지므로, 상응한 필터설비가 대역 외 억제 능력에 대한 요구는 갈수록 높아지고 있다.
중국특허번호가 201380046875.9인 특허<유전체 필터, 송수신기 및 기지국>에 있어서, 세라믹 도파관 필터의 두 개의 주파수 사이에서 음의 커플링을 구현하는 것은 모두 두 개의 주파수 사이의 딥커플링홀(또는 홈)의 저부와 세라믹의 본체 사이의 유전체 두께를 통해 음의 커플링을 구현하는 것이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 음의 커플링을 동시에 구현하는 방법으로 이루어낸 좌, 우 두 개의 영점 주파수 위치는 비교적 일치하며, 영점 주파수는 수행하기 어렵다. 실제 제품을 사용함에 있어서, 통과대역의 양쪽에 대한 대역 외 억제 요구가 일치하지 않을 수 있기 때문에, 때로는 하나의 영점이 더 높고, 다른 하나의 영점이 더 낮을 필요가 있으므로, 영점 주파수 위치가 매우 일치하게 되면, 오히려 제품의 설계 및 생산이 보다 어렵게 된다.
중국 공개특허공보 제108598635호
본 발명은 상기 기술적 과제를 해결하기 위해 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기 및 그의 구현방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 아래와 같은 기술방안을 사용하였다.
음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기는, 세라믹 유전체 공진기를 포함하되, 상기 세라믹 유전체 공진기에는 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀이 개구되어 설치되고, 상기 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀은 각각 세라믹 유전체 공진기의 공진주파수를 디버깅하기 위한 블라인드홀이며 동일 측을 향해 개구되어 설치되며, 상기 세라믹 유전체 공진기에는 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 더 개구되어 설치되되, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀은 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀 사이에 위치하고, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀은 각각 블라인드홀이며, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 개구는 서로 반대로 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 개구되어 형성된 깊이는 교차되도록 설치되고, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀은 사이에 간격을 두고 마주보게 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 교차되는 부분은 상기 세라믹 유전체 공진기의 용량성 커플링을 구현하기 위한 것이고, 상기 세라믹 유전체 공진기, 제 1 디버깅홀, 제 2 디버깅홀, 제 1 음의 커플링홀 및 제 2 음의 커플링홀 표면에는 각각 도전층이 커버된다.
바람직하게는, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀은 같은 형상구조를 갖는 사각형홀 또는 원주형홀이다.
바람직하게는, 상기 도전층은 은층이다.
바람직하게는, 상기 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 바닥부가 교차되도록 설치된다.
세라믹 도파기 음의 커플링의 구현방법은:
제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀 사이에 서로 반대로 개구된 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀을 설치하는 단계 (1);
제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀이 교차하는 부분이 용량성 커플링을 이루는 단계 (2); 를 포함하되,
그 공식은 C=K*A/T이며,
여기서,
K는 유전상수이고;
A는 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 교차 면적이며;
T는 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 상대 간격인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 제 1 디버깅홀과 제 2 디버깅홀의 도전층은 주파수를 조절할 수 있도록 제거될 수 있다.
상기 방안을 통해, 본 발명은 적어도 아래와 같은 이점을 갖는다.
본 발명은, 서로 반대로 개구된 제 1 커플링홈 및 제 2 커플링홈이 제 1 주파수 블라인드홀 및 제 2 주파수 블라인드홀과 협력하여, 세라믹 도파관 필터가 용량성 커플링(capacitive coupling)을 구현하기 힘든 문제점을 해결함으로써, 근단 주파수에 대한 억제능력을 향상시킨다. 동시에 두 개의 영점 주파수의 위치에 대한 조절도 원활하게 이루어질 수 있다.
상기 설명은 단지 본 발명의 기술방안에 대한 약술이며, 본 발명의 기술수단을 보다 명확하게 이해하고 명세서의 내용에 따라 실시하기 위하여, 이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예와 도면을 결합하여 상세히 설명하도록 한다.
본 발명의 실시예의 기술방안을 보다 명확하게 설명하기 위하여, 이하에서는 실시예에서 사용되는 도면을 간단하게 소개하되, 이해해야 할 것은, 아래 도면은 본 발명의 일부 실시예만 예시하였을 뿐, 범위에 대한 한정으로 간주하여서는 아니될 것이며, 본 분야의 당업자라면 노동 창출 없이도, 이러한 도면에 의하여 기타 관련된 도면을 획득할 수도 있다.
도 1은 본 발명의 구조 개략도이다.
도 2는 본 발명의 측면도이다.
도 3은 기존의 영점 주파수 도면이다.
도 4는 본 발명의 영점 주파수 도면이다.
이하에서는 도면과 실시예를 결합하여, 본 발명의 구체적인 실시예를 보다 상세히 설명하도록 한다. 이하 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
본 분야의 당업자가 본 발명의 방안을 보다 잘 이해하도록 하기 위하여, 이하에서는 본 발명의 실시예와 도면을 결합하여, 본 발명의 실시예 중의 기술방안을 명확하고 완전하게 설명하도록 하되, 분명한 것은, 설명한 실시예는 단지 본 발명의 일부 실시예일 뿐, 전체 실시예가 아니다. 일반적으로 도면에서 설명 및 예시하는 본 발명의 실시예의 부품은 여러 가지 상이한 형태로 배치 및 설치될 수 있다. 따라서, 이하 도면에서 제공한 본 발명의 실시예에 대한 상세한 설명은 단지 본 발명의 선택된 실시예를 나타낼 뿐, 청구하려는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다. 본 발명의 실시예에 기반하여, 본 분야의 당업자가 노동 창출 없이 획득한 기타 실시예들은 모두 본 발명의 보호 범위에 속한다.
실시예
도 1과 도 2에 도시된 바와 같이, 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기는, 세라믹 유전체 공진기(1)를 포함하되, 상기 세라믹 유전체 공진기(1)에는 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3)이 개구되어 설치되고, 상기 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3)은 각각 블라인드홀이며, 이를 구비한 세라믹 유전체 공진기의 공진주파수를 디버깅하는데 사용되고, 동일 측을 향해 개구되어 설치되며, 상기 세라믹 유전체 공진기(1)에는 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 더 개구되어 설치되되, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3) 사이에 위치하고, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 각각 블라인드홀이며, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)의 개구는 서로 반대로 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 개구되어 형성된 깊이는 교차되도록 설치되고, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 사이에 간격을 두고 마주보게 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 교차되는 부분은 상기 세라믹 유전체 공진기(1)의 용량성 커플링을 구현하기 위한 것이며, 상기 세라믹 유전체 공진기(1), 제 1 디버깅홀(2), 제 2 디버깅홀(3), 제 1 음의 커플링홀(4) 및 제 2 음의 커플링홀(5) 표면에는 각각 도전층이 커버된다.
본 발명에서 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 같은 형상구조를 갖는 사각형홀 또는 원주형홀이고, 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)의 형상은 상기 두가지 형상에 한정되는 것이 아니라, 불규칙적인 형상일 수도 있으며, 가공함에 있어서 가공의 편의성 때문에 이들을 상기 형상으로만 가공하는 것이다.
본 발명에서 상기 도전층은 은층(Silver layer)으로서, 구체적으로 본체 표면에 금속을 도금하여 형성될 수 있다. 금속은 은일 수 있고, 실제 요구를 만족하는 기타 금속일 수도 있다.
구체적으로 제조할 때, 일체화 성형을 통해 디버깅 홀과 음의 커플링홀을 갖는 본체를 획득하고, 또 본체를 표면 금속화(예하면, 표면 도금)하여, 세라믹 유전체 공진기를 획득한다. 이렇게 일체화 성형 방식을 사용하여 세라믹 유전체 공진기를 획득함으로써, 이의 가공 공정이 보다 간단해질 수 있다.
본 발명에서 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)의 바닥부는 교차되도록 설치된다.
세라믹 도파기 음의 커플링을 구현하기 위한 방법은:
제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3) 사이에 서로 반대로 개구된 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)을 설치하는 단계 (1);
제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 교차하는 부분이 용량성 커플링을 이루는 단계 (2); 를 포함하되,
그 공식은 C=K*A/T이며,
여기서,
K는 유전상수이고;
A는 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 교차 면적이며;
T는 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀의 상대 간격이다.
구체적으로, 세라믹 유전체 공진기의 용량성 커플링은 제 1 음의 커플링홀과 제 2 음의 커플링홀을 통해 구현되고, 도 4를 참조하면, 세라믹 유전체 공진기가 서로 다른 요구에 적응하도록 그의 영점 주파수를 변경할 수 있음을 명확하게 알 수 있다.
본 발명에서 상기 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3)의 도전층은 주파수를 조절할 수 있도록 제거될 수 있다. 다시 말해서, 디버깅 홀 내의 일부 도전층을 제거하여, 디버깅 홀을 구비한 공진기의 공진주파수를 조절할 수 있다. 구체적으로, 디버깅 홀 내의 도전층이 제거되는 면적의 크기를 조절하여, 공진주파수의 크기를 변경할 수 있다. 연마하는 방식으로 해당 디버깅 홀 내의 도전층이 제거되는 일부 면적을 조절할 수 있는데, 본 발명의 실시예는 이를 한정하지 않을 수 있다. 도전층이 제거되는 부분은 디버깅 홀 내의 내부 바닥 또는 내측부에 위치할 수 있되, 이는 한곳일 수 있고, 연속되지 않는 여러 곳일 수도 있으며, 구체적으로 실제 수요에 따라 설계할 수 있다. 본체의 블라인드홀 내의 도전층을 제거하여 공진주파수를 조절하므로, 공진주파수의 유지성이 더욱 좋을 수 있다.
본 발명은, 서로 반대로 개구된 제 1 커플링홈 및 제 2 커플링홈이 제 1 주파수 블라인드홀 및 제 2 주파수 블라인드홀과 협력하여, 세라믹 도파관 필터가 용량성 커플링을 구현하기 힘든 문제점을 해결함으로써, 근단 주파수에 대한 억제능력을 향상시킨다. 동시에 두 개의 영점 주파수의 위치에 대한 조절도 원활하게 이루어질 수 있다.
상기 서술된 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태일 뿐, 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 분야 당업자라면, 본 발명의 기술적 원리에서 벗어나지 않는 범위에서, 약간의 개선 및 변형을 진행할 수도 있으며, 이러한 개선 및 변형 또한 본 발명의 보호 범위로 간주되어야 한다.
1: 세라믹 유전체 공진기
2: 제1 디버깅홀
3: 제2 디버깅홀
4: 제1음의 커플링홀
5: 제2음의 커플링홀

Claims (6)

  1. 세라믹 유전체 공진기(1)를 포함하되, 상기 세라믹 유전체 공진기(1)에는 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3)이 개구되어 설치되고, 상기 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3)은 모두 세라믹 유전체 공진기의 공진주파수를 디버깅하기 위한 블라인드홀이며 동일 측을 향해 개구되어 설치되며, 상기 세라믹 유전체 공진기(1)에는 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 더 개구되어 설치되되, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 제 1 디버깅홀(2)과 제 2 디버깅홀(3) 사이에 위치하고, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 각각 블라인드홀이며, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)의 개구는 서로 반대로 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 개구되어 형성된 깊이는 교차되도록 설치되고, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 사이에 간격을 두고 마주보게 설치되며, 상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)이 교차되는 부분은 상기 세라믹 유전체 공진기(1)의 용량성 커플링을 구현하기 위한 것이며, 상기 세라믹 유전체 공진기(1), 제 1 디버깅홀(2), 제 2 디버깅홀(3), 제 1 음의 커플링홀(4) 및 제 2 음의 커플링홀(5) 표면에는 각각 도전층이 커버되는 것을 특징으로 하는 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)은 같은 형상구조를 갖는 사각형홀 또는 원주형홀인 것을 특징으로 하는 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 도전층은 은층인 것을 특징으로 하는 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 음의 커플링홀(4)과 제 2 음의 커플링홀(5)의 바닥부가 교차되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 음의 커플링을 증가하기 위한 세라믹 도파기.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021077379A1 (zh) * 2019-10-24 2021-04-29 华为技术有限公司 带阻滤波器及电子设备
CN111129667B (zh) * 2019-11-25 2021-02-12 江苏希奥飞尔微电子科技有限公司 一种应用于介质波导滤波器中的负耦合结构及介质波导滤波器
CN111463529B (zh) * 2020-01-19 2022-03-18 武汉凡谷陶瓷材料有限公司 一种容性耦合装置及滤波器
CN111370825B (zh) * 2020-04-03 2021-03-26 南京理工大学 一种基于陶瓷介质谐振器的巴伦滤波器
KR102333921B1 (ko) * 2020-04-10 2021-12-03 주식회사 아이.티.에프 비대칭 커플링을 갖는 도파관 필터
CN111628253A (zh) * 2020-06-30 2020-09-04 瑞声精密制造科技(常州)有限公司 容性耦合结构及介质波导滤波器

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018526949A (ja) 2015-11-27 2018-09-13 華為技術有限公司Huawei Technologies Co.,Ltd. 誘電体フィルタ、トランシーバ、および基地局

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3309483B2 (ja) * 1993-04-12 2002-07-29 松下電器産業株式会社 誘電体フィルタ
JPH11220307A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Toko Inc 誘電体フィルタ
WO2014190536A1 (zh) * 2013-05-31 2014-12-04 华为技术有限公司 介质滤波器,收发信机及基站
CN109309272A (zh) * 2018-11-14 2019-02-05 苏州波发特电子科技有限公司 一种用于介质滤波器的电容耦合结构
CN209948008U (zh) * 2019-07-30 2020-01-14 苏州市协诚五金制品有限公司 一种用于增加负耦合的陶瓷波导器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018526949A (ja) 2015-11-27 2018-09-13 華為技術有限公司Huawei Technologies Co.,Ltd. 誘電体フィルタ、トランシーバ、および基地局

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