KR102261957B1 - 발광소자 및 조명시스템 - Google Patents
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Abstract
실시예는 발광소자, 발광소자의 제조방법, 발광소자 패키지 및 조명시스템에 관한 것이다.
실시예에 따른 발광소자는 제1 도전형 제1 반도체층(112); 상기 제1 도전형 제1 반도체층(112) 상에 활성층(114); 소정의 경사면을 구비하여 상기 활성층(114) 상에 배치되는 제2 도전형 제2 반도체층(115); 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)의 경사면에 배치되는 절연층(130); 및 상기 절연층(130)과 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 상에 배치되는 제2 도전형 제3 반도체층(116);을 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자는 제1 도전형 제1 반도체층(112); 상기 제1 도전형 제1 반도체층(112) 상에 활성층(114); 소정의 경사면을 구비하여 상기 활성층(114) 상에 배치되는 제2 도전형 제2 반도체층(115); 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)의 경사면에 배치되는 절연층(130); 및 상기 절연층(130)과 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 상에 배치되는 제2 도전형 제3 반도체층(116);을 포함할 수 있다.
Description
실시예는 발광소자, 발광소자의 제조방법, 발광소자 패키지 및 조명시스템에 관한 것이다.
발광소자(Light Emitting diode)는 전기에너지가 빛 에너지로 변환되는 특성의 p-n 접합 다이오드를 주기율표상에서 Ⅲ족과 Ⅴ족의 원소가 화합하여 생성될 수 있다. LED는 화합물 반도체의 조성비를 조절함으로써 다양한 색상구현이 가능하다.
발광소자는 순방향전압 인가 시 n층의 전자(electron)와 p층의 정공(hole)이 결합하여 전도대(Conduction band)와 가전대(Valance band)의 에너지 갭에 해당하는 만큼의 에너지를 발산하는데, 이 에너지는 열이나 빛의 형태로 방출되며, 빛의 형태로 발산되면 발광소자가 되는 것이다.
예를 들어, 질화물 반도체는 높은 열적 안정성과 폭넓은 밴드갭 에너지에 의해 광소자 및 고출력 전자소자 개발 분야에서 큰 관심을 받고 있다. 특히, 질화물 반도체를 이용한 청색(Blue) 발광소자, 녹색(Green) 발광소자, 자외선(UV) 발광소자 등은 상용화되어 널리 사용되고 있다.
종래기술에 의한 발광소자에서 발광층인 활성층은 에너지 밴드갭이 작은 양자우물과 에너지 밴드갭이 큰 양자벽을 반복 적층되어 이루어지며, n층에서 주입된 전자와 p-층에서 주입된 정공이 양자우물에서 서로 만나 발광결합 하여 빛을 방출시킨다.
한편 종래기술에 의하면, ESD(Electrostatic Discharge)를 방지하거나 에피층의 스트레스(Epi layer Stress) 감소를 위해, 에피층(Epi layer)에 브이 핏(V-pit) 구조를 채용한다.
그런데, 이러한 종래기술은 V-pit이 활성층 하측에 배치되는 초격자층(super lattices layer)에 형성되어 실질적인 발광영역인 활성층으로 V-pit이 전사되는 경우가 있다. 또는 V-pit이 활성층에서부터 형성됨으로써 실질적으로 발광이 가능한 활성층의 영역이 감소되어 발광효율이 저하되는 문제가 있다.
또한 종래기술은 V-pit이 활성층으로 전사되거나 활성층 자체부터 형성됨으로써 V-pit이 영향을 미치는 에피층(Epi layer)의 분포가 넓어 에피층의 결정 품질이 저하되어 발광효율이 저하되는 문제가 있다.
실시예는 ESD 특성이 우수하면서 내부 발광효율이 우수한 발광소자, 그 제조방법, 발광소자 패키지 및 조명시스템을 제공하고자 한다.
실시예에 따른 발광소자는 제1 도전형 제1 반도체층(112); 상기 제1 도전형 제1 반도체층(112) 상에 활성층(114); 소정의 경사면을 구비하여 상기 활성층(114) 상에 배치되는 제2 도전형 제2 반도체층(115); 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)의 경사면에 배치되는 절연층(130); 및 상기 절연층(130)과 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 상에 배치되는 제2 도전형 제3 반도체층(116);을 포함할 수 있다.
실시예에 따른 조명시스템은 상기 발광소자를 구비하는 발광유닛을 포함할 수 있다.
실시예는 ESD 특성이 우수하면서 내부 발광효율이 우수한 발광소자, 그 제조방법, 발광소자 패키지 및 조명시스템을 제공할 수 있다.
도 1은 실시예에 따른 발광소자의 단면도.
도 2 내지 도 5는 실시예에 따른 발광소자의 제조 공정도.
도 6은 실시예에 따른 발광소자 패키지의 단면도.
도 7은 실시예에 따른 조명 장치의 분해 사시도.
도 2 내지 도 5는 실시예에 따른 발광소자의 제조 공정도.
도 6은 실시예에 따른 발광소자 패키지의 단면도.
도 7은 실시예에 따른 조명 장치의 분해 사시도.
실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on/over)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on/over)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.
(실시예)
도 1은 실시예에 따른 발광소자(100)의 단면도이며, 실시예는 수평형 발광소자에 적용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 수직형 발광소자 또는 플립칩형 발광소자에도 적용될 수 있다.
실시예에 따른 발광소자(100)는 기판(102), 제1 도전형 제1 반도체층(112), 활성층(114), 소정의 경사면을 구비하는 제2 도전형 제2 반도체층(115), 절연층(130), 제2 도전형 제3 반도체층(116)을 포함할 수 있다. 또한 실시예에 따른 발광소자(100)는 상기 활성층(114)과 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 사이에 전자차단층(122)을 구비할 수 있다. 또한 실시예는 제2 도전형 제3 반도체층(116) 상에 투광성 전극(140)을 포함할 수 있다.예를 들어, 실시예에 따른 발광소자(100)는 제1 도전형 제1 반도체층(112)과, 상기 제1 도전형 제1 반도체층(112) 상에 활성층(114)과, 소정의 경사면을 구비하여 상기 활성층(114) 상에 배치되는 제2 도전형 제2 반도체층(115)과, 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)의 경사면에 배치되는 절연층(130) 및 상기 절연층(130)과 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 상에 배치되는 제2 도전형 제3 반도체층(116)을 포함할 수 있다.
상기 제1 도전형 제1 반도체층(112), 상기 활성층(114), 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 및 상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)은 발광구조물(110)을 형성할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 실시예는 제2 도전형 제3 반도체층(116) 상에 투광성 전극(140)투광성 전극(140)을 포함할 수 있고, 제2 도전형 제3 반도체층(116), 제1 도전형 제1 반도체층(112)과 각각 전기적으로 연결되는 제2 전극(152), 제1 전극(151)을 포함할 수 있다.
상기 제1 도전형 제1 반도제층(112)은 n형 반도체층일 수 있으며, 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)과 상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)은 p형 반도체층일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예에서 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)은 경사면을 포함하는 브이 핏 구조(V-pit structure)(V)를 구비할 수 있다.
실시예에 의하면 p형 반도체층인 제2 도전형 제2 반도체층(115)에 V-pit 구조(V)를 형성할 수 있다. 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)은 활성층(114)의 상측에 배치되며 활성층(114)과 이격되어 배치됨으로써 활성층(114)의 결정품질을 향상시킬 수 있다.
실시예는 상기 활성층(114)과 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 사이에 전자차단층(122)을 구비할 수 있다. 상기 전자차단층(122)은 AlpGaqIn1-p-qN층(단,0<p≤1, 0≤q≤1)(122)일 수 있으며, 활성층(114)에서 제2 도전형 제2 반도체층(115)으로 오버플로우되는 전자차단 기능을 통해 발광효율을 증대시킬 수 있다.
또한 실시예에 의하면 상기 V-pit 구조(V) 위에 절연층(130)을 형성시킬 수 있다. 상기 절연층(130)은 질화물또는 산화물을 포함하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 절연층(130)은 SiN 마스크(Mask)일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 절연층(130)은 상기 경사면을 덮는 형태일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 실시예에서 상기 절연층(130)은 복수의 이격된 형태로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 절연층(130)은 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)의 V-pit 구조(V)의 경사면에 상호 이격된 형태로 형성될 수 있다. 이후, 상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)이 상호 이격된 절연층(130) 사이의 경사면에 형성되어 머지되면서 제2 도전형 제3 반도체층(116)이 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 절연층(130)은 약 0.001nm 내지 1nm이하로 형성될 수 있으며, 0,001nm 미만으로 형성되는 경우 절연층(130) 본연의 기능을 하지 못할 수 있고 1nm 를 초과하여 형성되는 경우 이후 형성되는 제2 도전형 제3 반도체층(116)의 결정품질에 영향을 미칠 수 있다.
실시예에 의하면 절연층(130)이 V-pit 구조(V)에 형성되며, p형 도펀트, 예를 들어 Mg과 절연층 물질, 예를 들어 Si이 복합(Complex) 구조를 이루며 높은 저항을 가지게 됨에 따라 ESD 특성이 개선되고, 전위(Dislocation)가 존재하는 부분에서 V-pit 구조(V)가 발생하므로 리키지(Leakage) 특성이 향상되어 수율이 증대되는 장점이 있다.
이하 도 2 내지 도 5를 참조하여, 실시예에 따른 발광소자의 제조방법을 설명하기로 한다.
먼저, 도 2와 같이 기판(102)을 준비한다. 상기 기판(102)은 열전도성이 뛰어난 물질로 형성될 수 있으며, 전도성 기판 또는 절연성 기판일 수 있다.
예를 들어, 상기 기판(102)은 사파이어(Al2O3), SiC, Si, GaAs, GaN, ZnO, GaP, InP, Ge, Ga203 중 적어도 하나를 사용할 수 있다. 상기 기판(102) 위에는 요철 구조(미도시)가 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
이때, 상기 기판(102) 위에는 버퍼층(미도시)이 형성될 수 있다. 상기 버퍼층은 이후 형성되는 발광구조물(110)의 재료와 기판(102)의 격자 부정합을 완화시켜 줄 수 있으며, 버퍼층의 재료는 3족-5족 화합물 반도체, 예컨대, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.
다음으로, 상기 제1 기판(102) 상에 제1 도전형 제1 반도체층(112), 활성층(114), AlpGaqIn1-p-qN층(단,0<p≤1, 0≤q≤1)(122), 제2 도전형 제2 반도체층(115)이 형성될 수 있다.
상기 제1 도전형 제1 반도체층(112)은 반도체 화합물, 예를 들어 3족-5족, 2족-6족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 상기 제1 도전형 제1 반도체층(112)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서, Si, Ge, Sn, Se, Te을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 제1 도전형 제1 반도체층(112)은 IndAleGa1-d-eN (0≤d≤1, 0≤e≤1, 0≤d+e≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 도전형 제1 반도체층(112)은 GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN,AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.
상기 활성층(114)은 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물 구조(MQW: Multi Quantum Well), 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 활성층(114)은 트리메틸 갈륨 가스(TMGa), 암모니아 가스(NH3), 질소 가스(N2), 및 트리메틸 인듐 가스(TMIn)가 주입되어 다중 양자우물구조가 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 활성층(114)은 양자우물/양자벽 구조일 수 있으며, 예를 들어 AlGaN/AlGaN, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InGaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs/AlGaAs, InGaAs/AlGaAs, GaP/AlGaP, InGaP/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
다음으로, 상기 AlpGaqIn1-p-qN층(단,0<p≤1, 0≤q≤1)(122)은 활성층(114)의 에너지 밴드 갭보다는 높은 에너지 밴드 갭을 가지도록 형성되어 전자 차단(electron blocking) 및 활성층의 클래딩(MQW cladding) 역할을 해줌으로써 발광효율을 개선될 수 있다.
실시예는 상기 활성층(114)과 이후 형성되는 제2 도전형 제2 반도체층(115) 사이에 상기 AlpGaqIn1-p-qN층(단,0<p≤1, 0≤q≤1)(122)을 구비하여 전자차단 기능을 통해 발광효율을 증대시킬 수 있다.
다음으로, 상기 AlpGaqIn1-p-qN층(단,0<p≤1, 0≤q≤1)(122) 상에 소정의 경사면을 구비하는 제2 도전형 제2 반도체층(115)이 형성될 수 있다.
또한 실시예에서 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)는 상기 경사면을 구비하는 브이 핏 구조(V-pit structure)(V)를 포함할 수 있다.
또한 실시예는 상기 AlpGaqIn1-p-qN층(단,0<p≤1, 0≤q≤1)(122)은 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)에 형성되는 V-pit 구조(V)가 활성층(114)으로 전사되는 것을 차단하여 활성층(114)의 결정품질을 향상시켜 발광효율을 향상시킬 수 있다.
실시예에 의하면 p형 반도체층인 제2 도전형 제2 반도체층(115)에 V-pit 구조(V)를 형성하고, 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115)은 상기 활성층(114)의 상측에 배치되며 상기 활성층(114)과 이격되어 배치됨으로써 V-pit 구조(V)와 활성층(114)을 이격시킴으로써 활성층(114)의 결정품질을 향상시킬 수 있다.
실시예에서 제2 도전형 제2 반도체층(115)에 V-pit 구조(V)를 형성시키기 위해, 약 800℃~약 900℃의 온도에서 N2와 NH3 혹은 N2, H2, NH3 혼합기체의 성장 분위기에서 제2 도전형 제2 반도체층(115)을 형성할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
다음으로 도 3과 같이, 상기 V-pit 구조(V) 위에 절연층(130)이 형성될 수 있다.
상기 절연층(130)은 질화물 또는 산화물을 포함하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 절연층(130)은 SiN 마스크(Mask)일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 절연층(130)은 상기 경사면을 덮는 형태일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예에서 절연층(130)은 V-pit 구조(V) 영역에 성장될 수 있으며, 절연층(130)의 성장 온도는 약 900℃~1000℃이며, N2, H2, NH3의 혼합기체 성장 분위기에서 SiH4 혹은 Si2H6, Si5H12등 Si 소스(Source)를 이용하여 형성될 수 있고, 상기 절연층(130)은 전위(Dislocation)를 벤딩(Bending) 또는 차단시켜 결정성을 향상시킬 수 있다.
실시예에 의하면 절연층(130)이 V-pit 구조(V)에 형성될 때, p형 도펀트, 예를 들어 Mg과 절연층(130)의 물질, 예를 들어 Si과 복합(Complex) 구조를 이루며 높은 저항을 가지게 됨에 따라 ESD 특성이 개선되고, 전위(Dislocation)가 존재하는 부분에서 V-pit 구조(V)가 발생하기에 리키지(Leakage) 특성이 향상되어 수율이 증대되는 장점이 있다.
다음으로, 상기 제2 도전형 제2 반도체층(115) 및 절연층(130) 상에 제2 도전형 제3 반도체층(116)이 형성될 수 있다.
상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)은 IndAleGa1-d-eN (0≤d≤1, 0≤e≤1, 0≤d+e≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제2 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있다.
상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)은 약 950℃~약 1050℃의 온도에서 N2, H2, NH3의 혼합기체 성장 분위기 에서 성장될 수 있다.
실시예에 의하면 제2 도전형 제3 반도체층(116)은 상기 절연층(130)이 형성된 V-pit 구조(V)의 빈 공간을 채우며 2차원 성장(2D Growth)을 통해 편평한 표면을 만들 수 있다.
실시예에서 발광구조물(110)은 n-p 접합 구조, p-n 접합 구조, n-p-n 접합 구조, p-n-p 접합 구조 중 어느 한 구조로 구현할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
이후, 상기 제2 도전형 제3 반도체층(116) 상에 투광성 전극(140)투광성 전극(140)이 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 투광성 전극(140)투광성 전극(140)은 오믹층을 포함할 수 있으며, 정공주입을 효율적으로 할 수 있도록 단일 금속 혹은 금속합금, 금속산화물 등을 단층 또는 다층으로 적층하여 형성할 수 있다.
예를 들어, 상기 투광성 전극(140)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이러한 재료에 한정되는 않는다.
다음으로 도 4와 같이, 제1 도전형 제1 반도체층(112)이 노출되도록 투광성 전극(140), 제2 도전형 제3 반도체층(116), 제2 도전형 제2 반도체층(115), AlpGaqIn1-p-qN층(단, 0<p≤1, 0≤q≤1)(122) 및 활성층(114)의 일부가 제거되어 메사 식각 영역(H)이 형성될 수 있다.
다음으로 도 5와 같이, 상기 투광성 전극(140) 상에 제2 전극(152), 노출된 제1 도전형 제1 반도체층(112) 상에 제1 전극(151)을 각각 형성하여 실시예에 따른 발광소자를 형성할 수 있다.
상기 투광성 전극(140)은 일부 영역에 관통 홀(미도시)이 형성되어 상기 투광성 전극(140)상에 형성된 제2 전극(152)이 상기 제2 도전형 제3 반도체층(116)에 접하게 할 수도 있으나 이에 한정하지 않는다. 또한 상기 투광성 전극(140)의 상면 또는 제2 도전형 제3 반도체층(116)상면에는 요철형상(미도시)이 형성되어 상기 활성층(114)로부터 나오는 광의 외부 추출 효율을 향상시킬 수 있으나 이에 한정하지 않는다.
실시예는 ESD 특성이 우수하면서 내부 발광효율이 우수한 발광소자, 그 제조방법, 발광소자 패키지 및 조명시스템을 제공할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자는 패키지 형태로 복수개가 기판 상에 어레이될 수 있으며, 발광소자 패키지에서 방출되는 광의 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트, 형광 시트 등이 배치될 수 있다.
예를 들어, 도 6은 실시예들에 따른 발광소자가 설치된 발광소자 패키지를 설명하는 도면이다.
실시예에 따른 발광 소자 패키지는 패키지 몸체부(205)와, 상기 패키지 몸체부(205)에 설치된 제3 전극층(213) 및 제4 전극층(214)과, 상기 패키지 몸체부(205)에 설치되어 상기 제3 전극층(213) 및 제4 전극층(214)과 전기적으로 연결되는 발광 소자(100)와, 상기 발광 소자(100)를 포위하는 몰딩부재(230)를 포함할 수 있으며, 상기 몰딩부재(230)에는 형광체(232)가 포함될 수 있다. 상기 몰딩부재(230)은 상면이 평평하거나 오목 또는 볼록하게 형성할 수 있으며 이에 한정하지 않는다.
상기 제3 전극층(213) 및 제4 전극층(214)은 서로 전기적으로 분리되며, 상기 발광 소자(100)에 전원을 제공하는 역할을 한다. 또한, 상기 제3 전극층(213) 및 제4 전극층(214)은 상기 발광 소자(100)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시키는 역할을 할 수 있으며, 상기 발광 소자(100)에서 발생된 열을 외부로 배출시키는 역할을 할 수도 있다.
상기 발광 소자(100)는 상기 제3 전극층(213) 및/또는 제4 전극층(214)과 와이어 방식, 플립칩 방식 또는 다이 본딩 방식 중 어느 하나에 의해 전기적으로 연결될 수도 있다.
실시예에 따른 발광소자는 백라이트 유닛, 조명 유닛, 디스플레이 장치, 지시 장치, 램프, 가로등, 차량용 조명장치, 차량용 표시장치, 스마트 시계 등에 적용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어 도 7은 실시예에 따른 조명시스템의 분해 사시도이다.
실시예에 따른 조명 장치는 커버(2100), 광원 모듈(2200), 방열체(2400), 전원 제공부(2600), 내부 케이스(2700), 소켓(2800)을 포함할 수 있다. 또한, 실시 예에 따른 조명 장치는 부재(2300)와 홀더(2500) 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 상기 광원 모듈(2200)은 실시 예에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지를 포함할 수 있다.
상기 광원 모듈(2200)은 광원부(2210), 연결 플레이트(2230), 커넥터(2250)를 포함할 수 있다. 상기 부재(2300)는 상기 방열체(2400)의 상면 위에 배치되고, 복수의 광원부(2210)들과 커넥터(2250)이 삽입되는 가이드홈(2310)들을 갖는다.
상기 홀더(2500)는 내부 케이스(2700)의 절연부(2710)의 수납홈(2719)를 막는다. 따라서, 상기 내부 케이스(2700)의 상기 절연부(2710)에 수납되는 상기 전원 제공부(2600)는 밀폐된다. 상기 홀더(2500)는 가이드 돌출부(2510)를 갖는다.
상기 전원 제공부(2600)는 돌출부(2610), 가이드부(2630), 베이스(2650), 연장부(2670)를 포함할 수 있다. 상기 내부 케이스(2700)는 내부에 상기 전원 제공부(2600)와 함께 몰딩부를 포함할 수 있다. 몰딩부는 몰딩 액체가 굳어진 부분으로서, 상기 전원 제공부(2600)가 상기 내부 케이스(2700) 내부에 고정될 수 있도록 한다.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
기판(102), 제1 도전형 제1 반도체층(112), 활성층(114),
제2 도전형 제2 반도체층(115), 절연층(130),
전자차단층(122), 제2 도전형 제3 반도체층(116), 투광성 전극(140),
제1 전극(151), 제2 전극(152)
제2 도전형 제2 반도체층(115), 절연층(130),
전자차단층(122), 제2 도전형 제3 반도체층(116), 투광성 전극(140),
제1 전극(151), 제2 전극(152)
Claims (6)
- 기판 상에 배치되는 제1 도전형 제1 반도체층;
상기 제1 도전형 제1 반도체층 상에 배치되는 활성층;
상기 활성층 상에 배치되는 제2 도전형 제2 반도체층;
상기 제2 도전형 반도체층 상에 배치되는 제2 도전형 제3 반도체층;
상기 제2 도전형 제3 반도체층 상에 배치되는 투광성 전극;
상기 제1 도전형 제1 반도체층과 전기적으로 연결되는 제1 전극; 및
상기 제2 도전형 제2 반도체층과 전기적으로 연결되는 제2 전극;을 포함하고,
상기 제2 도전형 제2 반도체층은 상기 활성층의 상측에 배치되며 상기 활성층과 이격되어 배치되고,
상기 제2 도전형 제2 반도체층은 적어도 하나의 핏(pit)을 포함하며 상기 핏에 의해 형성된 경사면을 포함하고,
상기 제2 도전형 제2 반도체층의 경사면 상에 배치되는 절연층을 포함하고,
상기 절연층은 상기 제2 도전형 제2 반도체층 및 상기 제2 도전형 제3 반도체층 사이에 배치되는 발광소자. - 제1항에 있어서,
상기 절연층은 상기 경사면을 덮는 형태인 발광소자. - 제1 항에 있어서,
상기 절연층은 SiN 마스크를 포함하여 형성되는 발광소자. - 제1 항에 있어서,
상기 활성층과 상기 제2 도전형 제2 반도체층 사이에 전자차단층을 더 포함하고,
상기 전자차단층은 AlpGaqIn1-p-qN층(단, 0<p≤1, 0≤q≤1)을 포함하는 발광소자. - 제1 항 내지 제4 항 중 어느 하나의 항에 기재된 발광소자를 구비하는 발광유닛을 포함하는 조명시스템.
- 삭제
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