KR102259099B1 - Bonding film, bonding film laminate comprising the same and metal clad laminate comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an adhesive film formed of a composition including a binder resin, an epoxy resin, and a filler. More specifically, provided are: the adhesive film which has a minimum melt viscosity of 30,000 to 60,000 Pa.s after curing, wherein the adhesive film is 85°C after curing, has 85% relative humidity, and has 1 x 10^12 Ω or more of the ion movement when a voltage of 50 V is applied under 500 hours; an adhesive film-attached laminate including the same; and a metal foil laminate including the same.

Description

접착 필름, 이를 포함하는 접착 필름 부착 적층체 및 이를 포함하는 금속박 적층체{BONDING FILM, BONDING FILM LAMINATE COMPRISING THE SAME AND METAL CLAD LAMINATE COMPRISING THE SAME}Adhesive film, a laminate with an adhesive film including the same, and a metal foil laminate including the same {BONDING FILM, BONDING FILM LAMINATE COMPRISING THE SAME AND METAL CLAD LAMINATE COMPRISING THE SAME}

본 발명은 접착 필름, 이를 포함하는 접착 필름 부착 적층체 및 이를 포함하는 금속박 적층체에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 광범위한 온도 및 주파수에서 유전상수와 유전손실이 낮고 최소 용융 점도가 특정 범위를 가짐으로써 밀착력 상승 효과가 있고 이온 이동(ion migration)이 없음으로써 내절연 효과가 있는 접착 필름, 이를 포함하는 접착 필름 부착 적층체 및 이를 포함하는 금속박 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive film, a laminate with an adhesive film including the same, and a metal foil laminate including the same. More specifically, the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss over a wide range of temperatures and frequencies, and has a minimum melt viscosity in a specific range, thereby increasing adhesion and without ion migration. It relates to a laminate with an adhesive film including the same and a metal foil laminate including the same.

최근, 전자 제품의 집적화, 소형화, 박막화, 고밀도화, 고굴곡화 추세에 따라, 보다 협소한 공간에서도 내장이 용이한 인쇄 회로 기판(printed circuit board, PCB)의 필요성이 증대되었다. 특히, 최근 반복적인 굴곡성을 갖는 연성 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB)이 개발되었다. 연성 인쇄 회로 기판은 스마트폰, 휴대용 모바일 전자기기 등의 기술적 발전으로 인해 사용이 급격하게 증가하면서 수요가 늘어나고 있다.Recently, with the trend of integration, miniaturization, thin film, high density, and high bending of electronic products, the need for a printed circuit board (PCB), which can be easily embedded in a narrow space, has increased. In particular, recently, a flexible printed circuit board (FPCB) having repetitive flexibility has been developed. The demand for flexible printed circuit boards is increasing due to the rapid increase in use due to technological developments such as smart phones and portable mobile electronic devices.

일반적으로, 연성 회로 기판은 기재 필름으로서 폴리이미드 수지 등으로 구성되는 기재 필름에 금속박으로서 동박이 적층되어 있다. 기재 필름과 금속박은 접착 필름에 의해 서로 접착된다. 종래 접착 필름으로서 폴리이미드계 접착제, 아크릴로니트릴부타디엔 러버계 접착제 등으로 형성되었다. 그러나, 폴리이미드계 접착제, 아크릴로니트릴부타디엔 러버계 접착제 등으로는 유전상수와 흡습율을 낮추는데 한계가 있었다. Generally, in a flexible circuit board, copper foil as a metal foil is laminated|stacked on the base film comprised by polyimide resin etc. as a base film. The base film and the metal foil are adhered to each other by an adhesive film. Conventionally, the adhesive film was formed of a polyimide-based adhesive, an acrylonitrile-butadiene rubber-based adhesive, or the like. However, polyimide-based adhesives, acrylonitrile-butadiene rubber-based adhesives, and the like have limitations in lowering the dielectric constant and moisture absorption.

본 발명의 배경기술은 한국공개특허 제2016-0083204호 등에 개시되어 있다.Background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Publication No. 2016-0083204 and the like.

본 발명의 목적은 유전상수와 유전손실이 낮은 접착 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an adhesive film having a low dielectric constant and a low dielectric loss.

본 발명의 다른 목적은 최저 용융 점도가 특정 범위를 갖는 접착 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an adhesive film having a minimum melt viscosity within a specific range.

본 발명의 또 다른 목적은 저항이 낮고 이온 이동이 적정 범위를 확보할 수 있는 접착 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an adhesive film having a low resistance and securing an appropriate range for ion migration.

본 발명의 또 다른 목적은 주파수 변화에 따른 유전상수와 유전손실의 변화율이 낮은 접착 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an adhesive film having a low rate of change of dielectric constant and dielectric loss according to frequency change.

본 발명의 또 다른 목적은 온도 변화에 따른 유전상수와 유전손실의 변화율이 낮은 접착 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an adhesive film having a low rate of change of dielectric constant and dielectric loss according to temperature change.

본 발명의 또 다른 목적은 접착력과 내열성이 우수한 접착 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an adhesive film having excellent adhesion and heat resistance.

본 발명의 또 다른 목적은 상온과 고온에서 유연성이 우수하고 상온과 고온 간의 탄성 모듈러스의 비가 낮아 상온과 고온 간의 유연성의 신뢰성이 우수한 접착 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an adhesive film having excellent flexibility at room temperature and high temperature, and low elasticity modulus ratio between room temperature and high temperature, and thus having excellent reliability of flexibility between room temperature and high temperature.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명의 접착 필름을 구비하는 접착 필름 부착 적층체 및 금속박 적층체를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a laminate with an adhesive film and a metal foil laminate comprising the adhesive film of the present invention.

본 발명의 일 관점은 접착 필름이다.One aspect of the present invention is an adhesive film.

1.접착 필름은 바인더 수지, 에폭시 수지 및 필러를 포함하는 조성물로 형성되고, 상기 접착 필름은 경화 후 최소 용융 점도가 30,000Pa.s 내지 60,000Pa.s이고, 상기 접착 필름은 경화 후 85℃, 85% 상대습도, 500시간 하에서 50V의 전압 인가시 이온 이동이 1 x 1012 Ω 이상이다.1. The adhesive film is formed of a composition including a binder resin, an epoxy resin and a filler, the adhesive film has a minimum melt viscosity of 30,000 Pa.s to 60,000 Pa.s after curing, and the adhesive film is at 85° C. after curing, When a voltage of 50V is applied under 85% relative humidity and 500 hours, the ion movement is 1 x 10 12 Ω or more.

2.1에서, 상기 접착 필름은 경화 후 1GHz 내지 10GHz 및 20℃ 내지 80℃에서 측정된 유전상수가 2.5 이하, 유전손실(dielectric loss, Df)이 0.004 이하이고, 상기 접착 필름은 경화 후 흡습율이 0.1% 이하일 수 있다.In 2.1, the adhesive film has a dielectric constant of 2.5 or less, a dielectric loss (Df) of 0.004 or less, measured at 1 GHz to 10 GHz and 20 ° C to 80 ° C after curing, and the adhesive film has a moisture absorption rate of 0.1 after curing % or less.

3.1-2에서, 상기 조성물은 경화제를 포함하지 않을 수 있다.In 3.1-2, the composition may not include a curing agent.

4.1-3에서, 상기 에폭시 수지 중 에폭시기의 총 몰수에 대한, 상기 바인더 수지 중 카르복시산기의 총 몰수의 비([바인더 수지 중 카르복시산기의 총 몰수]/[에폭시 수지 중 에폭시기의 총 몰수])는 1 내지 2일 수 있다.In 4.1-3, the ratio of the total number of moles of carboxylic acid groups in the binder resin to the total number of moles of epoxy groups in the epoxy resin ([Total moles of carboxylic acid groups in the binder resin]/[Total moles of epoxy groups in the epoxy resin]) It may be 1 to 2.

5.1-4에서, 상기 바인더 수지는 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르계 수지를 포함할 수 있다.In 5.1-4, the binder resin may include a carboxylic acid-modified olefin-based resin and a polyphenylene ether-based resin.

6.5에서, 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 무수말레산, 무수 이타콘산, 무수 푸마르산 중 1종 이상에 의해 변성된 올레핀계 수지를 포함할 수 있다.In 6.5, the carboxylic acid-modified olefin-based resin may include an olefin-based resin modified by at least one of acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, and fumaric anhydride. .

7.5에서, 상기 바인더 수지 총합 100중량부 중 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 50중량부 내지 95중량부, 상기 폴리페닐렌에테르계 수지는 5중량부 내지 50중량부로 포함될 수 있다.In 7.5, among 100 parts by weight of the total binder resin, the carboxylic acid-modified olefin-based resin may be included in an amount of 50 to 95 parts by weight, and the polyphenylene ether-based resin may be included in an amount of 5 to 50 parts by weight.

8.5에서, 상기 바인더 수지는 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머를 더 포함할 수 있다.In 8.5, the binder resin may further include a carboxylic acid-modified styrene-based elastomer.

9.8에서, 상기 바인더 수지 총합 100중량부 중 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 50중량부 내지 85중량부, 상기 폴리페닐렌에테르계 수지는 5중량부 내지 30중량부, 상기 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머 1중량부 내지 20중량부로 포함될 수 있다.In 9.8, among 100 parts by weight of the total binder resin, the carboxylic acid-modified olefin-based resin is 50 parts by weight to 85 parts by weight, the polyphenylene ether-based resin is 5 to 30 parts by weight, and 1 weight of the carboxylic acid-modified styrene-based elastomer It may be included in parts to 20 parts by weight.

10.5에서, 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 카르복시산 변성 선형 폴리프로필렌계 수지를 포함할 수 있다.In 10.5, the carboxylic acid-modified olefin-based resin may include a carboxylic acid-modified linear polypropylene-based resin.

11.1-10에서, 상기 필러는 무기 나노 실리카와 불소 수지 필러의 혼합물을 포함할 수 있다.In 11.1-10, the filler may include a mixture of inorganic nano silica and a fluororesin filler.

12.11에서, 상기 무기 나노 실리카 100중량부에 대하여 불소 수지 필러는 100중량부 내지 800중량부로 포함될 수 있다.In 12.11, the fluororesin filler may be included in an amount of 100 parts by weight to 800 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic nano silica.

13.1-12에서, 상기 바인더 수지 100중량부에 대하여, 상기 에폭시 수지 3중량부 내지 18중량부, 상기 필러 1중량부 내지 50중량부를 포함할 수 있다.In 13.1-12, with respect to 100 parts by weight of the binder resin, 3 parts by weight to 18 parts by weight of the epoxy resin and 1 part by weight to 50 parts by weight of the filler may be included.

본 발명의 접착 필름 부착 적층체는 폴리이미드계 수지 필름 및 상기 폴리이미드계 수지 필름의 적어도 일면에 구비된 본 발명의 접착 필름을 구비한다.A laminate with an adhesive film of the present invention includes a polyimide-based resin film and the adhesive film of the present invention provided on at least one surface of the polyimide-based resin film.

본 발명의 금속박 적층체는 폴리이미드계 수지 필름, 상기 폴리이미드계 수지 필름의 적어도 일면에 구비된 접착 필름, 및 상기 접착 필름의 일면에 구비된 금속박을 구비하고, 상기 접착 필름은 상기 폴리이미드계 수지 필름과 상기 금속박 사이에 구비되고, 상기 접착 필름은 본 발명의 접착 필름을 구비한다.The metal foil laminate of the present invention includes a polyimide-based resin film, an adhesive film provided on at least one surface of the polyimide-based resin film, and a metal foil provided on one surface of the adhesive film, wherein the adhesive film is the polyimide-based resin film. It is provided between the resin film and the metal foil, and the adhesive film includes the adhesive film of the present invention.

본 발명은 유전상수와 유전손실이 낮은 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film having a low dielectric constant and low dielectric loss.

본 발명은 최저 용융 점도가 특정 범위를 갖는 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film having a minimum melt viscosity in a specific range.

본 발명은 저항이 낮고 이온 이동이 적정 범위를 확보할 수 있는 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film having low resistance and securing an appropriate range for ion migration.

본 발명은 주파수 변화에 따른 유전상수와 유전손실의 변화율이 낮은 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film having a low rate of change of dielectric constant and dielectric loss according to frequency change.

본 발명은 온도 변화에 따른 유전상수와 유전손실의 변화율이 낮은 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film having a low rate of change of dielectric constant and dielectric loss according to temperature change.

본 발명은 접착력과 내열성이 우수한 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film excellent in adhesive strength and heat resistance.

본 발명은 상온과 고온에서 유연성이 우수하고 상온과 고온 간의 탄성 모듈러스의 비가 낮아 상온과 고온 간의 유연성의 신뢰성이 우수한 접착 필름을 제공하였다.The present invention provides an adhesive film having excellent flexibility at room temperature and high temperature and having excellent reliability of flexibility between room temperature and high temperature due to a low ratio of elastic modulus between room temperature and high temperature.

본 발명은 본 발명의 접착 필름을 구비하는 접착 필름 부착 적층체 및 금속박 적층체를 제공하였다.The present invention provided a laminate with an adhesive film and a metal foil laminate comprising the adhesive film of the present invention.

도 1은 본 발명 일 실시예의 접착 필름 부착 적층체의 단면도이다.
도 2는 본 발명 일 실시예의 금속박 적층체의 단면도이다.
도 3은 실시예 1, 비교예 1, 비교예 2의 접착 필름의 주파수 변화에 따른 유전상수와 유전손실을 나타낸 것이다. 도 3에서, △는 실시예 1, ◇는 비교예 1, □는 비교예 2의 결과이다.
도 4는 실시예 1, 비교예 2의 접착 필름의 온도 변화에 따른 유전상수와 유전손실을 나타낸 것이다. 도 4에서 ○는 실시예 1, □는 비교예 2의 결과이다.
1 is a cross-sectional view of a laminate with an adhesive film according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a metal foil laminate according to an embodiment of the present invention.
3 shows the dielectric constant and dielectric loss according to the frequency change of the adhesive films of Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2. In FIG. 3, △ indicates Example 1, ◇ indicates Comparative Example 1, and □ indicates the result of Comparative Example 2.
4 shows the dielectric constant and dielectric loss according to the temperature change of the adhesive films of Example 1 and Comparative Example 2. FIG. In FIG. 4, ○ indicates the result of Example 1, and □ indicates the result of Comparative Example 2.

본 발명을 하기 실시예에 의하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 도면에서 각 구성 요소의 길이, 두께 등은 본 발명을 설명하기 위해 도시된 것으로 본 발명이 도면에서 기재된 길이, 두께 등에 한정되는 것은 아니다.The present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention by way of the following examples. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification. In the drawings, the length, thickness, etc. of each component are shown for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the length, thickness, etc. described in the drawings.

본 명세서에서 수치 범위 기재시 "X 내지 Y"는 X 이상 Y 이하(X≤ 그리고 ≤Y)를 의미한다.In the present specification, when describing a numerical range, "X to Y" means X or more and Y or less (X≤ and ≤Y).

본 발명의 발명자는 바인더 수지, 에폭시 수지 및 필러를 포함하는 조성물로 형성되는 접착 필름에 있어서, 상기 바인더 수지로서 하기 상술되는 수지를 반드시 포함시켰다. 이를 통해, 본 발명은 하기 상술되는 최소 용융 점도와 이온 이동(ion migration)을 확보할 수 있다. In the adhesive film formed of a composition including a binder resin, an epoxy resin, and a filler, the inventor of the present invention necessarily includes the resin described in detail below as the binder resin. Through this, the present invention can ensure the minimum melt viscosity and ion migration described in detail below.

접착 필름은 경화 후 용융 점도가 최소가 되는 온도는 120℃ 내지 150℃, 예를 들면 125℃ 내지 135℃이고, 이때의 용융 점도(최소 용융 점도)는 30,000Pa.s 내지 60,000Pa.s 예를 들면 35,000Pa.s 내지 60,000Pa.s가 될 수 있다. 상기 범위에서, 충진성과 밀착력 개선 효과가 있을 수 있다.The temperature at which the adhesive film has a minimum melt viscosity after curing is 120° C. to 150° C., for example, 125° C. to 135° C., and the melt viscosity (minimum melt viscosity) at this time is 30,000 Pa.s to 60,000 Pa.s, for example. For example, it may be 35,000 Pa.s to 60,000 Pa.s. In the above range, there may be an effect of improving the filling and adhesion.

접착 필름은 경화 후 85℃, 85% 상대습도, 500시간 하에서 50V의 전압 인가시 이온 이동이 1 x 1012 Ω 이상, 예를 들면 1 x 1012 Ω 내지 10 x 1013Ω이 될 수 있다. 상기 범위에서, 내이온 절연성 효과가 있을 수 있다. After curing, the adhesive film may have an ion movement of 1 x 10 12 Ω or more, for example, 1 x 10 12 Ω to 10 x 10 13 Ω when a voltage of 50 V is applied under 85° C., 85% relative humidity, and 500 hours. In the above range, there may be an ionic insulation effect.

본 발명의 접착 필름은 경화 후, 주파수 변화에 따른 유전상수(dielectric constant, Dk)과 유전손실(dielectric loss, Df)의 변화율이 낮았다.After curing, the adhesive film of the present invention had a low rate of change of a dielectric constant (Dk) and a dielectric loss (Df) according to a change in frequency.

본 명세서에서 "유전상수", "유전손실"은 경화 후 접착 필름의 유전상수 및/또는 유전손실을 의미한다.As used herein, "dielectric constant" and "dielectric loss" refer to the dielectric constant and/or dielectric loss of the adhesive film after curing.

본 명세서에서 "유전상수", "유전손실"은 1GHz 내지 10GHz 및 20℃ 내지 80℃에서 측정된 값을 의미한다. 바람직하게는 유전상수, 유전손실은 10GHz 및 25℃에서 측정된 값이다.In the present specification, "dielectric constant" and "dielectric loss" mean values measured at 1 GHz to 10 GHz and 20° C. to 80° C. Preferably, the dielectric constant and the dielectric loss are values measured at 10 GHz and 25°C.

하기 상술되겠지만, 본 발명의 접착 필름은 반경화 상태(B 스테이지)이다.As will be described in detail below, the adhesive film of the present invention is in a semi-cured state (B stage).

본 명세서에서 특별히 기술하지 않는 한, "경화 후"는 접착 필름을 150℃ 내지 200℃에서 45분 내지 90분 동안 경화시키는 것을 의미한다. 즉, 예를 들어, "경화 후 유전상수"는 접착 필름을 상술한 조건에서 경화시킨 후 측정된 유전상수를 의미한다.Unless otherwise specified herein, "after curing" means curing the adhesive film at 150° C. to 200° C. for 45 minutes to 90 minutes. That is, for example, "dielectric constant after curing" means a dielectric constant measured after curing the adhesive film under the above-described conditions.

본 발명의 접착 필름은 하기 식 1의 주파수 변화량에 따른 유전상수의 변화율이 0.6% 이하, 예를 들면 0% 내지 0.6%가 될 수 있고, 하기 식 2의 주파수 변화량에 따른 유전손실의 변화율이 0.01% 이하, 예를 들면 0% 내지 0.01%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상술한 실용 가능성과 신뢰성을 확보할 수 있다: In the adhesive film of the present invention, the rate of change of the dielectric constant according to the frequency change of Equation 1 may be 0.6% or less, for example, 0% to 0.6%, and the rate of change of the dielectric loss according to the frequency change of Equation 2 is 0.01 % or less, for example 0% to 0.01%. Within the above range, the above-mentioned practicality and reliability can be ensured:

[식 1][Equation 1]

유전상수의 변화율 = │Dk(@10GHz) - Dk(@1GHz)│/│10-1│ x 100Rate of change of dielectric constant = │Dk(@10GHz) - Dk(@1GHz)│/│10-1│ x 100

(상기 식 1에서,(In Equation 1 above,

Dk(@10GHz)는 경화 후 접착 필름의 주파수 10GHz에서의 유전상수,Dk (@10GHz) is the dielectric constant of the adhesive film at a frequency of 10GHz after curing,

Dk(@1GHz)는 경화 후 접착 필름의 주파수 1GHz에서의 유전상수)Dk (@1GHz) is the dielectric constant of the adhesive film at a frequency of 1GHz after curing)

[식 2][Equation 2]

유전손실의 변화율 = │Df(@10GHz) - Df(@1GHz)│/│10-1│ x 100Rate of change of dielectric loss = │Df(@10GHz) - Df(@1GHz)│/│10-1│ x 100

(상기 식 2에서,(In Equation 2 above,

Df(@10GHz)는 경화 후 접착 필름의 주파수 10GHz에서의 유전손실,Df (@10 GHz) is the dielectric loss at a frequency of 10 GHz of the adhesive film after curing,

Df(@1GHz)는 경화 후 접착 필름의 주파수 1GHz에서의 유전손실),Df (@1GHz) is the dielectric loss at the frequency of 1GHz of the adhesive film after curing),

일반적으로, 접착 필름의 유전상수는 측정 주파수가 높아질수록 그 값이 낮아지고, 접착 필름의 유전손실은 측정 주파수가 높아질수록 그 값이 증가하는 것이 일반적이다. 본 발명의 접착 필름은 하기 상술한 낮은 유전상수와 유전손실을 확보하면서도 주파수 변화에서 유전상수의 변화율과 유전손실의 변화율을 낮춤으로써 하기 상술되는 적층체에서의 실용 가능성과 신뢰성을 높일 수 있었다.In general, the dielectric constant of the adhesive film decreases as the measurement frequency increases, and the dielectric loss of the adhesive film generally increases as the measurement frequency increases. The adhesive film of the present invention was able to increase the practicality and reliability of the laminate to be described in detail below by lowering the rate of change of the dielectric constant and the rate of change of the dielectric loss in the frequency change while ensuring the low dielectric constant and dielectric loss described below.

본 발명의 접착 필름은 광범위한 주파수 및 광범위한 온도 범위에서도 경화 후 유전상수와 유전손실이 낮아서, 하기 상술되는 금속박 적층시 신뢰성을 높일 수 있다. The adhesive film of the present invention has a low dielectric constant and a low dielectric loss after curing even in a wide frequency range and a wide temperature range, so that reliability during lamination of the metal foil described in detail below can be improved.

일 구체예에서, 접착 필름은 경화 후 유전상수가 2.5 이하, 예를 들면 0 내지 2.5 이하, 0.1 내지 2.5, 2.0내지 2.45가 될 수 있다. 상기 범위에서, 접착 필름이 부착되는 소자에 대한 정전기 또는 전기의 이동을 최소화함으로써 접착 필름에 대한 전기적인 영향을 최소화할 수 있다. In one embodiment, the adhesive film may have a dielectric constant of 2.5 or less after curing, for example, 0 to 2.5 or less, 0.1 to 2.5, 2.0 to 2.45. In the above range, it is possible to minimize the electrical influence on the adhesive film by minimizing the movement of static electricity or electricity to the device to which the adhesive film is attached.

일 구체예에서, 접착 필름은 경화 후 유전손실이 0.004이하, 예를 들면 0 내지 0.004, 0.0001 내지 0.0035가 될 수 있다. 상기 범위에서, 접착 필름이 부착되는 소자에 대한 정전기 또는 전기의 이동을 최소화함으로써 접착 필름에 대한 전기적인 영향을 최소화할 수 있다.In one embodiment, the adhesive film may have a dielectric loss of 0.004 or less after curing, for example, 0 to 0.004, 0.0001 to 0.0035. In the above range, it is possible to minimize the electrical influence on the adhesive film by minimizing the movement of static electricity or electricity to the device to which the adhesive film is attached.

본 발명의 접착 필름은 상술한 유전상수와 유전손실을 확보하면서도 주파수 변화에 따른 유전상수의 변화율과 유전손실의 변화율이 낮음을 특징으로 한다. 그 결과, 광범위한 주파수 내에서도 균일한 유전상수와 유전손실을 확보함으로써 실용 가능성을 높일 수 있다. 또한, 본 발명의 접착 필름은 광번위한 온도 변화에서도 균일한 유전상수와 유전손실을 확보함으로써 실용 가능성을 확보할 수 있다.The adhesive film of the present invention is characterized in that the rate of change of the dielectric constant and the rate of change of the dielectric loss according to the frequency change while securing the above-described dielectric constant and dielectric loss are low. As a result, it is possible to increase the practicability by ensuring a uniform dielectric constant and dielectric loss even within a wide frequency range. In addition, the adhesive film of the present invention can secure practical feasibility by ensuring a uniform dielectric constant and dielectric loss even in a wide temperature change.

일 구체예에서, 접착 필름은 하기 식 3의 온도 변화량에 따른 유전상수의 변화율이 0.3% 이하, 예를 들면 0% 내지 0.3%가 될 수 있고, 하기 식 4의 온도 변화량에 따른 유전손실의 변화율이 0.001% 이하, 예를 들면 0% 내지 0.001%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상술한 실용 가능성과 신뢰성을 확보할 수 있다:In one embodiment, in the adhesive film, the rate of change of the dielectric constant according to the temperature change of Equation 3 may be 0.3% or less, for example, 0% to 0.3%, and the rate of change of the dielectric loss according to the temperature change of Equation 4 It may be 0.001% or less, for example 0% to 0.001%. Within the above range, the above-mentioned practicality and reliability can be ensured:

[식 3][Equation 3]

유전상수의 변화율 = │Dk(@80℃) - Dk(@20℃)│/│80-20│ x 100Rate of change of dielectric constant = │Dk(@80℃) - Dk(@20℃)│/│80-20│ x 100

(상기 식 3에서,(In Equation 3 above,

Dk(@80℃)는 경화 후 접착 필름의 80℃에서의 유전상수,Dk (@80℃) is the dielectric constant at 80℃ of the adhesive film after curing,

Dk(@20℃)는 경화 후 접착 필름의 20℃에서의 유전상수)Dk (@20℃) is the dielectric constant of the adhesive film at 20℃ after curing)

[식 4][Equation 4]

유전손실의 변화율 = │Df(@80℃) - Df(@20℃)│/│80-20│ x 100Rate of change of dielectric loss = │Df(@80℃) - Df(@20℃)│/│80-20│ x 100

(상기 식4에서,(In Equation 4 above,

Df(@80℃)는 경화 후 접착 필름의 80℃에서의 유전손실,Df (@80℃) is the dielectric loss at 80℃ of the adhesive film after curing,

Df(@20℃)는 경화 후 접착 필름의 20℃에서의 유전손실)Df (@20℃) is the dielectric loss at 20℃ of the adhesive film after curing)

일반적으로, 접착 필름의 유전상수와 유전손실은 측정 온도가 높아질수록 그 값이 높아지는 것이 일반적이다. 본 발명의 접착 필름은 상술한 유전상수와 유전손실을 확보하면서도 온도 변화에서 유전상수의 변화율과 유전손실의 변화율을 낮춤으로써 하기 상술되는 적층체에서의 실용 가능성과 신뢰성을 높일 수 있었다.In general, the dielectric constant and dielectric loss of the adhesive film are generally higher as the measurement temperature increases. The adhesive film of the present invention was able to increase the practicality and reliability of the laminate to be described in detail below by lowering the rate of change of the dielectric constant and the rate of change of the dielectric loss in a temperature change while ensuring the above-described dielectric constant and dielectric loss.

일 실시예에서, 접착 필름은 동일 주파수에 있어서, 경화 후 유전손실에 대한 경화 후 유전상수의 비(경화 후 유전상수/경화 후 유전손실)가 700이상, 예를 들면 900 내지 2000이 될 수 있다. 상기 범위에서, 접착 필름을 하기 상술되는 적층체에 적용시 접착 신뢰성을 높이고 피착체 간에 접착성, 전기 특성을 개선할 수 있다.In one embodiment, the adhesive film may have a ratio of dielectric constant after curing to dielectric loss after curing (dielectric constant after curing/dielectric loss after curing) of 700 or more, for example, 900 to 2000, at the same frequency. . In the above range, when the adhesive film is applied to a laminate to be described in detail below, it is possible to increase adhesion reliability and improve adhesion and electrical properties between adherends.

본 명세서에서 "흡습율"은 경화 후 접착 필름에 대해 IPC-TM 650 2.6.2.1A에 의해 측정된 값을 의미한다. 일 구체예에서, 접착 필름은 경화후 흡습율이 0.1% 이하, 예를 들면 0% 내지 0.1%, 0.01% 내지 0.05%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 부품 실장시 대기 중으로부터 재료 내로 유입된 수분에 의한 악영향을 줄여 각 재료 간의 접착성이나 전기 특성에 문제가 생기는 것을 막을 수 있다.In this specification, "moisture absorption rate" means a value measured by IPC-TM 650 2.6.2.1A for an adhesive film after curing. In one embodiment, the adhesive film may have a moisture absorption rate of 0.1% or less after curing, for example, 0% to 0.1%, 0.01% to 0.05%. Within the above range, it is possible to reduce the adverse effects caused by moisture introduced into the material from the air during component mounting, thereby preventing problems in adhesion or electrical properties between the respective materials.

접착 필름은 상술한 범위로 유전상수, 유전손실 및 흡습율을 동시에 만족시킬 수 있다. 따라서, 접착 필름을 하기 상술되는 금속박 적층체에 적용시 접착 신뢰성을 높이고 피착체 간에 접착성, 전기 특성을 개선할 수 있다. 예를 들면, 접착 필름은 금속박 적층체와 같이 기재 필름과 금속박을 접착시키는 용도로 사용될 수 있다. 이에 대해서는 하기에서 상술된다.The adhesive film may simultaneously satisfy the dielectric constant, dielectric loss and moisture absorption within the above-described ranges. Therefore, when the adhesive film is applied to the metal foil laminate to be described in detail below, it is possible to increase adhesion reliability and improve adhesion and electrical properties between adherends. For example, the adhesive film may be used for bonding a base film and a metal foil, such as a metal foil laminate. This is detailed below.

본 발명의 접착 필름은 상술한 전기적 특성, 배리어 특성 이외에도 유연성을 확보함으로써, 하기 상술되는 적층체에서 기재 필름과 금속판의 접착에 사용되며 특히 연성 인쇄 회로 기판 제조에 용이하도록 할 수 있다. The adhesive film of the present invention is used for bonding the base film and the metal plate in the laminate to be described in detail below by securing flexibility in addition to the above-described electrical properties and barrier properties, and in particular, it can be made easy to manufacture a flexible printed circuit board.

일 구체예에서, 접착 필름은 경화 후에도 탄성 모듈러스(elastic modulus)가 낮아서 유연성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 강성도 만족할 수 있다. 특히, 본 발명의 접착 필름은 상온과 고온 간의 탄성 모듈러스의 비율이 종래 접착 필름 대비 낮아서 상온과 고온간의 유연성 면에서 신뢰성을 확보할 수 있다. In one embodiment, since the adhesive film has a low elastic modulus even after curing, flexibility may be secured and rigidity may be satisfied. In particular, since the adhesive film of the present invention has a lower ratio of elastic modulus between room temperature and high temperature compared to the conventional adhesive film, reliability can be secured in terms of flexibility between room temperature and high temperature.

일 구체예에서, 접착 필름은 경화 후 25℃에서 탄성 모듈러스 : 경화후 160℃에서 탄성 모듈러스 = 100 : 1 내지 1200: 1, 구체적으로 100 : 1 내지 1100: 1이 될 수 있다. 상기 범위에서, 상온과 고온간의 탄성 모듈러스가 균일하여 유연성 면에서 신뢰성을 확보할 수 있다.In one embodiment, the adhesive film may have an elastic modulus at 25° C. after curing: an elastic modulus at 160° C. after curing = 100:1 to 1200:1, specifically 100:1 to 1100:1. In the above range, the elastic modulus between room temperature and high temperature is uniform, so that reliability in terms of flexibility can be secured.

일 구체예에서, 접착 필름은 경화 후 25℃에서 탄성 모듈러스가 0.1GPa 내지 2GPa, 예를 들면 0.1GPa 내지 1.5GPa가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상온에서 탄성율이 낮아 접착 필름 및 이를 구비하는 적층체의 유연성을 확보할 수 있다. In one embodiment, the adhesive film may have an elastic modulus of 0.1 GPa to 2 GPa, for example 0.1 GPa to 1.5 GPa at 25° C. after curing. In the above range, the flexibility of the adhesive film and the laminate having the same can be ensured due to the low elastic modulus at room temperature.

접착 필름은 경화 후 130℃ 또는 160℃에서 탄성 모듈러스가 0.1MPa 내지 3.0MPa, 예를 들면 1.0MPa 내지 3.0MPa가 될 수 있다. 상기 범위에서, 고온에서 탄성 모듈러스가 낮아 접착 필름 및 이를 구비하는 적층체의 유연성을 확보할 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 접착 필름은 상온과 고온 모두에서 유연성이 높아서 하기 상술되는 적층체에 적용시 사용 가능성을 높일 수 있다.The adhesive film may have an elastic modulus of 0.1 MPa to 3.0 MPa at 130° C. or 160° C. after curing, for example, 1.0 MPa to 3.0 MPa. In the above range, it is possible to secure the flexibility of the adhesive film and the laminate having the same because the elastic modulus is low at high temperature. As such, since the adhesive film of the present invention has high flexibility at both room temperature and high temperature, it can increase the possibility of use when applied to a laminate to be described in detail below.

본 발명의 접착 필름은 하기 상술되는 금속박 적층체에 적용되는 만큼 기재 필름 예를 들면 폴리이미드 필름과 금속박 예를 들면 동박에 대한 박리강도(peel strength)가 우수하여 접착 신뢰성을 우수할 수 있다.The adhesive film of the present invention has excellent peel strength with respect to a base film, for example, a polyimide film, and a metal foil, for example, a copper foil as much as it is applied to a metal foil laminate to be described in detail below, so that it can be excellent in adhesive reliability.

일 구체예에서, 접착 필름은 폴리이미드 필름, 접착 필름, 폴리이미드 필름이 순차적으로 적층된 적층체에 대해 측정된 경화 후 박리강도가 1Kgf/cm 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 접착 필름을 하기 상술되는 적층체에 적용시 접착 신뢰성을 높일 수 있다. 예를 들면, 상기 박리강도는 1Kgf/cm 내지 3Kgf/cm 이 될 수 있다. In one embodiment, the adhesive film may have a peel strength of 1Kgf/cm or more after curing measured for a laminate in which a polyimide film, an adhesive film, and a polyimide film are sequentially stacked. In the above range, it is possible to increase the adhesion reliability when the adhesive film is applied to the laminate to be described in detail below. For example, the peel strength may be 1Kgf/cm to 3Kgf/cm.

다른 구체예에서, 접착 필름은 경화 후, 폴리이미드 필름, 접착 필름, 금속박이 순차적으로 적층된 적층체에 대해 측정된 경화 후 박리강도가 1Kgf/cm 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 접착 필름을 하기 상술되는 적층체에 적용시 접착 신뢰성을 높일 수 있다. 예를 들면, 상기 박리강도는 1Kgf/cm 내지 3Kgf/cm 이 될 수 있다. 본 명세서에서 "박리강도"는 IPC-TM 650 2.4.8C기준에 따라 측정된 값을 의미한다.In another embodiment, the adhesive film may have a peel strength of 1Kgf/cm or more after curing, measured for a laminate in which a polyimide film, an adhesive film, and a metal foil are sequentially laminated after curing. In the above range, it is possible to increase the adhesion reliability when the adhesive film is applied to the laminate to be described in detail below. For example, the peel strength may be 1Kgf/cm to 3Kgf/cm. In this specification, "peel strength" means a value measured according to IPC-TM 650 2.4.8C standard.

접착 필름은 경화후 유리전이온도가 60℃ 내지 80℃, 예를 들면 60℃ 내지 70℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 내열성 효과가 있을 수 있다.The adhesive film may have a glass transition temperature of 60°C to 80°C after curing, for example, 60°C to 70°C. In the above range, there may be an excellent heat resistance effect.

접착 필름은 경화 후 하기 식 5에 따른 질량 손실 비율 5%가 일어나는 온도가 300℃ 내지 500℃, 예를 들면 350℃ 내지 450℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 접착 필름은 내열성이 우수하여, 하기 상술되는 적층체에 사용될 수 있다.After curing, the adhesive film may have a temperature at which a mass loss ratio of 5% according to Equation 5 occurs at 300°C to 500°C, for example, 350°C to 450°C. In the above range, the adhesive film is excellent in heat resistance and can be used in a laminate to be described in detail below.

[식 5][Equation 5]

질량 손실 비율 = │ 경화후 접착 필름의 가온 후의 질량 - 경화후 접착 필름의 최초 질량│/ 경화후 접착 필름의 최초 질량 x 100Mass loss ratio = │ After curing, the mass of the adhesive film after warming - the initial mass of the adhesive film after curing │/ The initial mass of the adhesive film after curing x 100

상기 질량 손실 비율 5%가 일어나는 온도는 TGA(thermogravimetric analysis)에 의해 측정될 수 있다. 구체적으로, 접착 필름의 최초 질량 10mg에 대하여 최초 온도 25℃에서 시작하여 승온 속도 10℃/분의 속도로 가온시켜 측정될 수 있다.The temperature at which the mass loss ratio of 5% occurs may be measured by thermogravimetric analysis (TGA). Specifically, with respect to the initial mass of 10 mg of the adhesive film, starting at an initial temperature of 25° C., it can be measured by heating at a rate of 10° C./min.

접착 필름은 경화 후 표면 저항(surface resistivity)이 1 x 109 내지 10 x 1010 MΩ, 예를 들면 1 x 109 내지 1 x 1010 MΩ이 될 수 있다. 접착 필름은 경화후 부피 저항(volume resistivity)이 1 x 109 내지 10 x 1010 MΩ.cm, 예를 들면 1 x 109 내지 1 x 1010 MΩ.cm이 될 수 있다. 상기 범위에서, 절연 효과가 있을 수 있다. 본 명세서에서 표면 저항, 부피 저항은 각각 IPC TM-650 2.5.17에 의해 측정될 수 있다.The adhesive film has a surface resistivity after curing of 1 x 10 9 to 10 x 10 10 MΩ, for example 1 x 10 9 to It can be 1 x 10 10 MΩ. The adhesive film may have a volume resistivity after curing of 1 x 10 9 to 10 x 10 10 MΩ.cm, for example, 1 x 10 9 to 1 x 10 10 MΩ.cm. In the above range, there may be an insulating effect. In this specification, the surface resistance and the volume resistance may be measured by IPC TM-650 2.5.17, respectively.

접착 필름은 두께가 10㎛ 내지 200㎛, 예를 들면 20㎛ 내지 100㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 하기 상술되는 적층체에 사용될 수 있다.The adhesive film may have a thickness of 10 μm to 200 μm, for example, 20 μm to 100 μm. Within the above range, it can be used in the laminate to be detailed below.

접착 필름은 경화 후, 폴리이미드 필름/ 접착 필름/폴리이미드 필름에서의 솔더 저항(solder resistance)이 288℃ 이상이고, 경화 후, 폴리이미드 필름/ 접착 필름/금속박에서의 솔더 저항이 280℃ 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 내열성 효과가 있을 수 있다. 솔더 저항은 IPC TM-650 2.4.13F에 의해 측정될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The adhesive film has a solder resistance of 288° C. or higher in the polyimide film/adhesive film/polyimide film after curing, and a solder resistance of 280° C. or higher in the polyimide film/adhesive film/metal foil after curing. can be In the above range, there may be an excellent heat resistance effect. Solder resistance may be measured by, but not limited to, IPC TM-650 2.4.13F.

본 발명의 접착 필름은 하기 상술되는 조성물에 의해 구현될 수 있다. 이하, 본 발명의 조성물에 대해 설명한다.The adhesive film of the present invention may be embodied by the composition detailed below. Hereinafter, the composition of the present invention will be described.

상술 조성물은 바인더 수지, 에폭시 수지 및 필러를 포함하고, 상기 바인더 수지는 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르계 수지를 포함한다. 상술 조성물은 올레핀계 수지로서 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르 수지를 반드시 포함해야 한다. 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르계 수지 중 어느 하나라도 없거나 어느 하나라도 하기 상술되는 수지 이외의 다른 종류의 수지로 치환되는 경우 본 발명의 효과를 제대로 구현할 수 없다.The composition includes a binder resin, an epoxy resin, and a filler, and the binder resin includes a carboxylic acid-modified olefin-based resin and a polyphenylene ether-based resin. The above composition must include a carboxylic acid-modified olefin-based resin and a polyphenylene ether resin as the olefin-based resin. If any one of the carboxylic acid-modified olefin-based resin and the polyphenylene ether-based resin is absent, or any one of them is substituted with a resin other than the resin described in detail below, the effects of the present invention cannot be properly implemented.

일 구체예에서, 바인더 수지는 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르계 수지의 2종의 수지로만 이루어질 수 있다. In one embodiment, the binder resin may be made of only two kinds of resins, a carboxylic acid-modified olefin-based resin and a polyphenylene ether-based resin.

다른 구체예에서, 바인더 수지는 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머를 더 포함하여 3종의 수지(카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머, 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르계 수지)로만 이루어질 수 있다.In another embodiment, the binder resin may be made of only three types of resins (carboxylic acid-modified styrene-based elastomer, carboxylic acid-modified olefin-based resin and polyphenylene ether-based resin) further including a carboxylic acid-modified styrene-based elastomer.

카르복시산 변성 올레핀계 수지는 상술 조성물 중 일 성분으로서 접착 필름의 접착성과 유연성 및 전기적 특성을 부여할 수 있다.The carboxylic acid-modified olefin-based resin may provide adhesiveness, flexibility, and electrical properties of the adhesive film as one component of the composition.

카르복시산 변성 올레핀계 수지는 선형의 폴리올레핀계 수지를 포함할 수 있다. 이때 선형은 직선형 또는 분지형의 폴리올레핀계 수지를 포함할 수 있고, 바람직하게는 직선형의 폴리올레핀계 수지를 포함할 수 있다. 일 구체예에서, 올레핀계 수지는 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리부틸렌계 수지 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 올레핀계 수지는 폴리프로필렌계 수지를 포함할 수 있고, 이것은 상술한 폴리페닐렌에테르계 수지와 함께 포함시 본 발명의 효과 구현이 용이할 수 있다.The carboxylic acid-modified olefin-based resin may include a linear polyolefin-based resin. In this case, the linear may include a linear or branched polyolefin-based resin, and preferably may include a linear polyolefin-based resin. In one embodiment, the olefin-based resin may include one or more of a polyethylene-based resin, a polypropylene-based resin, and a polybutylene-based resin. Preferably, the olefin-based resin may include a polypropylene-based resin, which may facilitate implementation of the effects of the present invention when included together with the above-described polyphenylene ether-based resin.

카르복시산 변성 올레핀계 수지는 소정의 변성 물질 예를 들면 불포화 카르복시산 또는 그의 무수물에 의해 변성된 폴리올레핀계 수지를 포함할 수 있다. 불포화 카르복시산 또는 그의 무수물은 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 무수말레산, 무수 이타콘산, 무수 푸마르산 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 변성 물질은 말레산 무수물이 될 수 있다. The carboxylic acid-modified olefin-based resin may include a polyolefin-based resin modified with a predetermined modified material, for example, an unsaturated carboxylic acid or an anhydride thereof. The unsaturated carboxylic acid or anhydride thereof may include, for example, at least one of acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, and fumaric anhydride. Preferably, the modified material may be maleic anhydride.

카르복시산 변성 올레핀계 수지는 산가가 0.5 내지 1.5 mgCH3ONa/g, 예를 들면 0.51 내지 1.5 mgCH3ONa/g이 될 수 있다. 상기 범위에서, 양호한 접착성, 내열성을 구현할 수 있다. 상기 "산가"는 ASTM D 1613 방법에 의해 측정될 수 있다.The carboxylic acid-modified olefin-based resin may have an acid value of 0.5 to 1.5 mgCH 3 ONa/g, for example, 0.51 to 1.5 mgCH 3 ONa/g. Within the above range, good adhesion and heat resistance can be realized. The "acid value" may be measured by the ASTM D 1613 method.

카르복시산 변성 올레핀계 수지는 유리전이온도가 5℃ 내지 100℃, 예를 들면 10℃ 내지 50℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 내열성 효과가 있을 수 있다.The carboxylic acid-modified olefin-based resin may have a glass transition temperature of 5°C to 100°C, for example, 10°C to 50°C. Within the above range, there may be a heat-resistant effect.

카르복시산 변성 올레핀계 수지는 바인더 수지 총합 100중량부 중 50중량부 내지 95중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 유전상수와 흡습율에 도달할 수 있고, 양호한 접착력 효과가 있을 수 있다. 구체적으로 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 바인더 수지 총합 100중량부 중 50중량부 내지 85중량부로 포함될 수 있다.The carboxylic acid-modified olefin-based resin may be included in an amount of 50 to 95 parts by weight out of 100 parts by weight of the total binder resin. In the above range, the dielectric constant and moisture absorption rate of the present invention can be reached, and there can be a good adhesion effect. Specifically, the carboxylic acid-modified olefin-based resin may be included in an amount of 50 to 85 parts by weight out of 100 parts by weight of the total binder resin.

폴리페닐렌에테르계 수지는 상술 조성물 중 일 성분으로서 접착 필름의 접착성과 유연성 및 전기적 특성을 부여한다.The polyphenylene ether-based resin provides adhesiveness, flexibility, and electrical properties of the adhesive film as one component of the composition.

폴리페닐렌에테르계 수지는 비변성 폴리페닐렌에테르, 변성 폴리페닐렌에테르 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 폴리페닐렌에테르계 수지는 비변성 폴리페닐렌에테르를 포함할 수 있다.The polyphenylene ether-based resin may include at least one of unmodified polyphenylene ether and modified polyphenylene ether. Preferably, the polyphenylene ether-based resin may include unmodified polyphenylene ether.

폴리페닐렌에테르계 수지는 카르복실산 변성 올레핀계 수지 대비 유리전이온도가 높은 종류를 사용할 수 있다. 이를 통해, 본 발명의 효과 구현이 용이할 수 있다. 폴리페닐렌에테르계 수지와 카르복시산 변성된 올레핀계 수지의 유리전이온도 차이는 100℃ 내지 250℃, 예를 들면 100℃ 내지 150℃가 될 수 있다. 폴리페닐렌에테르계 수지는 유리전이온도가 100℃ 초과 300℃ 이하, 예를 들면 110℃ 내지 200℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 내열성 효과가 있을 수 있다.As the polyphenylene ether-based resin, a type having a higher glass transition temperature than the carboxylic acid-modified olefin-based resin may be used. Through this, the effect of the present invention can be easily realized. The glass transition temperature difference between the polyphenylene ether-based resin and the carboxylic acid-modified olefin-based resin may be 100°C to 250°C, for example, 100°C to 150°C. The polyphenylene ether-based resin may have a glass transition temperature of greater than 100°C and less than or equal to 300°C, for example, 110°C to 200°C. Within the above range, there may be a heat-resistant effect.

폴리페닐렌에테르계 수지는 바인더 수지 총합 100중량부 중 5중량부 내지 50중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 유전상수와 흡습율에 도달할 수 있고, 내열성 효과가 있을 수 있다. 구체적으로 폴리페닐렌에테르계 수지는 5중량부 내지 30중량부, 15중량부 내지 50중량부로 포함될 수 있다.The polyphenylene ether-based resin may be included in an amount of 5 to 50 parts by weight out of 100 parts by weight of the total binder resin. In the above range, the dielectric constant and moisture absorption of the present invention can be reached, and there can be a heat resistance effect. Specifically, the polyphenylene ether-based resin may be included in an amount of 5 parts by weight to 30 parts by weight, and 15 parts by weight to 50 parts by weight.

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 상술한 조성물 중 일 성분으로서 접착 필름의 접착성과 유연성 및 전기적 특성을 부여한다. 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 공액 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물의 랜덤, 블록 또는 교호 공중합체를 불포화 카르복실산으로 변성시킨 것이다.The carboxylic acid-modified styrene-based elastomer provides adhesiveness, flexibility, and electrical properties of the adhesive film as one component of the above-described composition. Carboxylic acid-modified styrene-based elastomers are obtained by modifying a random, block or alternating copolymer of a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound with an unsaturated carboxylic acid.

공액 디엔 화합물은 탄소수 4 내지 탄소수 10의 공액 디엔 화합물을 들 수 있다. 예를 들면, 공액 디엔 화합물은 부타디엔, 이소프렌, 1,3-펜타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 공액 디엔 화합물은 부타디엔을 들 수 있다. 방향족 비닐 화합물은 스티렌, 메틸스티렌, 디비닐벤젠, 디페닐스티렌, 비닐톨루엔 등을 들 수 있다. 불포화 카르복실산은 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 무수말레산, 무수 이타콘산, 무수 푸마르산 등을 들 수 있다.Examples of the conjugated diene compound include a conjugated diene compound having 4 to 10 carbon atoms. Examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, and 2,3-dimethyl-1,3-butadiene. Preferably, the conjugated diene compound includes butadiene. Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, methylstyrene, divinylbenzene, diphenylstyrene, and vinyltoluene. Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, and fumaric acid anhydride.

일 구체예에서, 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 공중합체, 스티렌-에틸렌-프로필렌 공중합체 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체가 될 수 있고, 하기 상술되는 올레핀계 수지와 폴리페닐렌에테르계 수지와 함께 포함시 본 발명의 효과를 잘 구현할 수 있다.In one embodiment, the carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may include at least one of a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, a styrene-butadiene-styrene copolymer, and a styrene-ethylene-propylene copolymer. Preferably, the carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may be a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, and the effect of the present invention may be well realized when included together with the olefin-based resin and polyphenylene ether-based resin described in detail below. have.

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 산가가 5 내지 13 mgCH3ONa/g, 예를 들면 5.1 내지 13.0 mgCH3ONa/g이 될 수 있다. 상기 범위에서, 양호한 접착성, 내열성을 구현할 수 있다. 상기 "산가"는 ASTM D 1613 방법에 의해 측정될 수 있다.The carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may have an acid value of 5 to 13 mgCH 3 ONa/g, for example, 5.1 to 13.0 mgCH 3 ONa/g. Within the above range, good adhesion and heat resistance can be realized. The "acid value" may be measured by the ASTM D 1613 method.

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 상기 폴리페닐렌에테르계 수지 대비 유리전이온도가 낮을 수 있다. 이를 통해 상술한 본 발명의 접착 필름의 유리전이온도에 도달할 수 있다. 일 구체예에서, 카르복시산 변성 올레핀계 수지와 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머의 유리전이온도 차이는 50℃ 내지 120℃, 예를 들면 50℃ 내지 100℃가 될 수 있다. 폴리페닐렌에테르계 수지와 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머의 유리전이온도 차이는 150℃ 내지 300℃, 예를 들면 150℃ 내지 250℃가 될 수 있다.The carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may have a lower glass transition temperature than the carboxylic acid-modified olefin-based resin and the polyphenylene ether-based resin. Through this, it is possible to reach the glass transition temperature of the adhesive film of the present invention described above. In one embodiment, the glass transition temperature difference between the carboxylic acid-modified olefin-based resin and the carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may be 50°C to 120°C, for example, 50°C to 100°C. The glass transition temperature difference between the polyphenylene ether-based resin and the carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may be 150°C to 300°C, for example, 150°C to 250°C.

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 유리전이온도가 -80℃ 내지 -50℃, 예를 들면 -70℃ 내지 -50℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 유연성 효과가 있을 수 있다.The carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may have a glass transition temperature of -80°C to -50°C, for example, -70°C to -50°C. In the above range, there may be an excellent flexibility effect.

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머는 바인더 수지 총합 100중량부 중 0중량부 내지 20중량부, 구체적으로 1중량부 내지 20중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 유전상수와 흡습율에 도달할 수 있고, 내굴곡성 효과가 있을 수 있다.The carboxylic acid-modified styrene-based elastomer may be included in an amount of 0 parts by weight to 20 parts by weight, specifically, 1 part by weight to 20 parts by weight of the total 100 parts by weight of the binder resin. In the above range, the dielectric constant and moisture absorption rate of the present invention can be reached, and there can be a bending resistance effect.

에폭시 수지는 상술한 바인더 수지 특히 카르복시산 변성 올레핀계 수지의 카르복시산기와 반응하여 접착성, 내열성을 높일 수 있다.The epoxy resin may react with the carboxylic acid group of the above-described binder resin, particularly, the carboxylic acid-modified olefin-based resin to increase adhesion and heat resistance.

에폭시 수지는 바인더 수지 총합 100중량부에 대해 3중량부 내지 18중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 유전상수와 흡습율에 도달할 수 있고, 양호한 접착력 효과가 있을 수 있다.The epoxy resin may be included in an amount of 3 to 18 parts by weight based on 100 parts by weight of the total binder resin. In the above range, the dielectric constant and moisture absorption rate of the present invention can be reached, and there can be a good adhesion effect.

에폭시 수지는 2개 이상의 에폭시기를 갖는 당업자에게 알려진 통상의 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 예를 들면, 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비스페놀 AD형 에폭시 수지, 고무 변성 에폭시 수지, 지방산 변성 에폭시 수지, 우레탄 변성 에폭시 수지, 저염소형 에폭시 수지, 실란 변성 에폭시 수지, 다이사이클로펜타디엔형 에폭시 수지, 다관능성 노볼락형 에폭시 수지, 글리시딜 에테르계 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락 에폭시 수지 등을 포함할 수 있지만, 이들에 제한되는 것은 아니다. 바람직하게는, 에폭시 수지는 크레졸 노볼락 에폭시 수지를 포함할 수 있다.The epoxy resin may include a conventional epoxy resin known to those skilled in the art having two or more epoxy groups. For example, the epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol S type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, a rubber modified epoxy resin, a fatty acid modified epoxy resin, a urethane modified epoxy resin, a low chlorine type epoxy resin , silane-modified epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, polyfunctional novolac type epoxy resin, glycidyl ether type epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, etc. may include, but are not limited to. Preferably, the epoxy resin may comprise a cresol novolac epoxy resin.

한편, 상술 조성물은 경화제를 포함하지 않는다. 본 발명의 접착 필름은 에폭시 수지의 에폭시기와, 상술한 올레핀계 수지 중 카르복실산의 반응만에 의해 접착 필름을 제조함으로써 추가적인 경화제를 필요로 하지 않는다.On the other hand, the above composition does not include a curing agent. The adhesive film of the present invention does not require an additional curing agent because the adhesive film is prepared only by the reaction of the epoxy group of the epoxy resin and the carboxylic acid among the olefin resins described above.

이를 위해, 에폭시 수지 중 에폭시기의 총 몰수에 대한, 바인더 수지 중 카르복시산기의 총 몰수의 비는 1 이상 예를 들면 1 내지 2가 될 수 있다. 상기 범위에서, 경화제 없이 본 발명의 접착 필름을 구현할 수 있다.To this end, the ratio of the total number of moles of carboxylic acid groups in the binder resin to the total number of moles of epoxy groups in the epoxy resin may be 1 or more, for example, 1-2. In the above range, it is possible to implement the adhesive film of the present invention without a curing agent.

필러는 무기 필러, 유기 필러 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 필러는 무기 필러와 유기 필러의 혼합물을 사용할 수 있다. 이를 통해 상술한 올레핀계 수지, 에폭시 수지와 조합시 본 발명의 흡습율, 유전상수에 용이하게 도달할 수 있다. The filler may include at least one of an inorganic filler and an organic filler. Preferably, the filler may be a mixture of an inorganic filler and an organic filler. Through this, when combined with the above-described olefin resin and epoxy resin, the moisture absorption and dielectric constant of the present invention can be easily reached.

무기 필러는 금속, 비금속, 금속 산화물, 비금속 산화물 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 예를 들면, 무기 필러는 실리카, 티타니아, 알루미나, 산화아연, 구리, 은 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 무기 필러는 실리카, 예를 들면 무기 나노 실리카를 포함할 수 있다. 무기 필러는 평균 입경(D50)이 10nm 내지 1000nm, 바람직하게는 10nm 내지 500nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 부피 팽창율 효과가 있을 수 있다.The inorganic filler may include at least one of a metal, a non-metal, a metal oxide, and a non-metal oxide. For example, the inorganic filler may include at least one of silica, titania, alumina, zinc oxide, copper, and silver. Preferably, the inorganic filler may include silica, for example, inorganic nano-silica. The inorganic filler may have an average particle diameter (D50) of 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 500 nm. In the above range, there may be an excellent volume expansion rate effect.

유기 필러는 불소 수지 필러를 포함할 수 있다. 불소 수지 필러는 예를 들면 폴리테트라프루오로에틸렌 필러, 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬 비닐 에테르 공중합체 필러, 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌 공중합체 필러, 테트라플루오로에틸렌-에틸렌 공중합체 필러, 폴리클로로트리플루오로에틸렌 필러 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 유기 필러는 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬 비닐 에테르 공중합체 필러를 포함할 수 있다. 유기 필러는 평균 입경이 1㎛ 내지 100㎛, 바람직하게는 5㎛ 내지 50㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 안정한 수축율 효과가 있을 수 있다.The organic filler may include a fluororesin filler. The fluororesin filler is, for example, a polytetrafluoroethylene filler, a tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer filler, a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer filler, and a tetrafluoroethylene-ethylene copolymer. It may include one or more of a coalescing filler and a polychlorotrifluoroethylene filler. Preferably the organic filler may comprise a tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer filler. The organic filler may have an average particle diameter of 1 μm to 100 μm, preferably 5 μm to 50 μm. In the above range, there may be a stable shrinkage effect.

무기 필러와 유기 필러는 본 발명의 접착제 조성물 중 특정 함량 비율로 포함될 수 있다. 예를 들면, 무기 필러 100중량부에 대하여 유기 필러는 100중량부 내지 800중량부, 예를 들면 100중량부 내지 600중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 최적 수축변화율 효과가 있을 수 있다.The inorganic filler and the organic filler may be included in a specific content ratio in the adhesive composition of the present invention. For example, based on 100 parts by weight of the inorganic filler, the organic filler may be included in an amount of 100 parts by weight to 800 parts by weight, for example, 100 parts by weight to 600 parts by weight. In the above range, there may be an optimal shrinkage change rate effect.

필러는 바인더 수지 총합 100중량부에 대하여 1중량부 내지 50중량부, 예를 들면 1중량부 내지 30중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 유전상수가 낮아질 수 있다.The filler may be included in an amount of 1 to 50 parts by weight, for example, 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total binder resin. In the above range, the dielectric constant may be lowered.

상술한 조성물은 필요에 따라 가소제, 레벨링제, 자외선 흡수제, 난연제 등의 첨가제, 증점제 중 1종 이상을 더 포함할 수 있지만, 이들에 제한되지 않는다.The above-described composition may further include at least one of a plasticizer, a leveling agent, an additive such as a UV absorber, a flame retardant, and a thickener, if necessary, but is not limited thereto.

상술한 조성물은 용제를 더 포함함으로써 접착 필름의 도포성을 높일 수 있다. 상기 용제는 디메틸포름아미드, 메틸에틸케톤, 디메틸아세트아미드 중 1종 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The above-described composition may improve the applicability of the adhesive film by further including a solvent. The solvent may include at least one of dimethylformamide, methylethylketone, and dimethylacetamide, but is not limited thereto.

접착 필름은 상술한 조성물을 기재 필름 또는 이형 필름에 소정의 두께로 도포하고 건조 및 열처리함으로써 반경화 상태로 제조될 수 있다. 예를 들면, 접착 필름은 50℃ 내지 170℃에서 1분 내지 60분 동안 열처리함으로써 반 경화 상태로 제조될 수 있다.The adhesive film may be prepared in a semi-cured state by applying the above-described composition to a base film or a release film to a predetermined thickness, drying and heat treatment. For example, the adhesive film may be prepared in a semi-cured state by heat treatment at 50° C. to 170° C. for 1 minute to 60 minutes.

이하, 본 발명 일 실시예의 접착 필름 부착 적층체를 설명한다.Hereinafter, a laminate with an adhesive film according to an embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 접착 필름 부착 적층체는 기재 필름, 기재 필름의 적어도 일면에 구비된 접착 필름을 구비하고, 상기 접착 필름은 본 발명의 접착 필름을 포함한다. 본 발명의 접착 필름 부착 적층체는 커버레이 필름을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The laminate with an adhesive film of the present invention includes a base film and an adhesive film provided on at least one surface of the base film, and the adhesive film includes the adhesive film of the present invention. The laminate with an adhesive film of the present invention may include, but is not limited to, a coverlay film.

도 1을 참조하면, 접착 필름 부착 적층체는 기재 필름 (10), 기재 필름 (10)의 일면에 구비된 제1접착 필름 (20) 및 기재 필름 (10)의 다른 일면에 구비된 제2접착 필름 (30)을 구비하고, 제1 접착 필름 (20), 제2 접착 필름 (30) 중 1종 이상은 본 발명의 접착 필름을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the adhesive film-attached laminate includes a base film 10 , a first adhesive film 20 provided on one surface of the base film 10 , and a second adhesive provided on the other surface of the base film 10 . The film 30 is provided, and at least one of the first adhesive film 20 and the second adhesive film 30 may include the adhesive film of the present invention.

기재 필름 (10)은 폴리이미드 수지로 형성된 필름을 포함한다. 폴리이미드 수지는 고내열성을 제공하는 수지로서, 접착 필름 부착 적층체를 커버 레이 필름 용도로 사용하는데 적합하도록 할 수 있다. 기재 필름 (10)의 두께는 5㎛ 내지 100㎛, 바람직하게는 5㎛ 내지 50㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 커버 레이 필름의 기재 필름으로 사용될 수 있고, 연성과 강성이 모두 구현될 수 있다.The base film 10 includes a film formed of a polyimide resin. The polyimide resin is a resin that provides high heat resistance, and can make a laminate with an adhesive film suitable for use as a coverlay film. The thickness of the base film 10 may be 5 μm to 100 μm, preferably 5 μm to 50 μm. In the above range, it may be used as a base film of the coverlay film, and both ductility and rigidity may be implemented.

제1접착 필름 (20), 제2 접착 필름 (30)은 각각 상술한 본 발명의 접착 필름이 될 수도 있고, 제1 접착 필름 (20), 제2 접착 필름 (30) 중 어느 하나만 본 발명의 접착 필름이 될 수 있다. 제1 접착 필름 (20), 제2 접착 필름 (30)은 반 경화 상태 즉 B 스테이지 상태의 접착 필름이 될 수 있다.Each of the first adhesive film 20 and the second adhesive film 30 may be the adhesive film of the present invention described above, and only one of the first adhesive film 20 and the second adhesive film 30 is It can be an adhesive film. The first adhesive film 20 and the second adhesive film 30 may be adhesive films in a semi-cured state, that is, in a B-stage state.

제1접착 필름 (20), 제2 접착 필름 (30)은 서로 두께가 동일하거나 다를 수 있고, 예를 들면 상술한 본 발명의 접착 필름의 두께 범위가 될 수 있다.The first adhesive film 20 and the second adhesive film 30 may have the same or different thicknesses, for example, the thickness range of the adhesive film of the present invention described above.

이하, 본 발명 일 실시예의 금속박 적층체를 설명한다.Hereinafter, a metal foil laminate of an embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 금속박 적층체는 기재 필름, 기재 필름의 적어도 일면에 구비된 접착 필름, 및 상기 접착 필름의 일면에 구비된 금속박을 구비하고, 상기 접착 필름은 본 발명의 접착 필름을 포함한다. 본 발명의 금속박 적층체는 인쇄 회로 기판, 예를 들면 연성 회로 기판을 포함할 수 있다.The metal foil laminate of the present invention includes a base film, an adhesive film provided on at least one surface of the base film, and a metal foil provided on one surface of the adhesive film, wherein the adhesive film includes the adhesive film of the present invention. The metal foil laminate of the present invention may include a printed circuit board, for example, a flexible circuit board.

도 2를 참조하면, 금속박 적층체는 기재 필름 (10), 기재 필름 (10)의 일면에 구비된 제1 접착 필름 (20), 제1 접착 필름 (20)의 일면에 구비된 제1금속박 (40), 기재 필름 (10)의 다른 일면에 구비된 제2접착 필름 (30), 제2 접착 필름 (30)의 일면에 구비된 제2 금속박 (50)을 구비할 수 있다.2, the metal foil laminate is a base film 10, a first adhesive film 20 provided on one surface of the base film 10, and a first metal foil provided on one surface of the first adhesive film 20 ( 40), a second adhesive film 30 provided on the other surface of the base film 10, and a second metal foil 50 provided on one surface of the second adhesive film 30 may be provided.

기재 필름 (10), 제1 접착 필름 (20), 제2 접착 필름 (30)에 대한 설명은 상기 도 1에서 설명한 바와 같다. 제1 금속박 (40), 제2 금속박 (50)은 동박, 은박, 알루미늄박, 스테인레스박 중 1종 이상을 포함하고, 바람직하게는 동박을 포함할 수 있다. 제1금속박 (40), 제2금속박 (50)은 동일하게 동박일 수도 있고, 어느 하나는 동박, 다른 하나는 동박 이외의 금속박이 될 수 있다. 제1금속박 (40), 제2금속박 (50) 각각의 두께는 동일하거나 다를 수 있고, 예를 들면 5㎛ 내지 200㎛, 예를 들면 10㎛ 내지 150㎛가 될 수 있다.Descriptions of the base film 10 , the first adhesive film 20 , and the second adhesive film 30 are the same as those described with reference to FIG. 1 . The first metal foil 40 and the second metal foil 50 may include at least one of copper foil, silver foil, aluminum foil, and stainless foil, and preferably include copper foil. The first metal foil 40 and the second metal foil 50 may be the same copper foil, one of which may be a copper foil, and the other may be a metal foil other than the copper foil. The thickness of each of the first metal foil 40 and the second metal foil 50 may be the same or different, for example, 5 μm to 200 μm, for example, 10 μm to 150 μm.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 하나, 이러한 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로, 본 발명을 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples, but these examples are for illustrative purposes only and should not be construed as limiting the present invention.

실시예 1Example 1

카르복시산 변성 폴리프로필렌계 수지(SM040A, 도요보, 산가: 1.0 mgCH3ONa/g) 54중량부, 폴리페닐렌에테르계 수지(PPO, 사빅, -OH값: 800mgKOH/g) 16중량부, 크레졸 노볼락 에폭시 수지(YDCN1P, 국도화학, EEW: 20eq/g) 11중량부, 무기 나노 실리카(R972, 에보닉, 평균 입경(D50): 17nm) 5중량부, 불소 수지 필러(PFA, AGC, 평균 입경(D50): 10㎛) 14중량부를 혼합하고, 용제 메틸에틸케톤 150중량부를 추가로 첨가하여 조성물을 제조하였다. Carboxylic acid-modified polypropylene resin (SM040A, Toyobo, acid value: 1.0 mgCH 3 ONa/g) 54 parts by weight, polyphenylene ether-based resin (PPO, Sabic, -OH value: 800 mgKOH/g) 16 parts by weight, cresolno 11 parts by weight of rock epoxy resin (YDCN1P, Kukdo Chemical, EEW: 20eq/g), 5 parts by weight of inorganic nano silica (R972, Evonik, average particle diameter (D50): 17 nm), fluororesin filler (PFA, AGC, average particle diameter) (D50): 10 µm) 14 parts by weight were mixed, and 150 parts by weight of a solvent methyl ethyl ketone was further added to prepare a composition.

상기 제조한 조성물을 폴리이미드 필름에 소정의 두께로 코팅하고 130℃에서 3분 동안 건조 및 열처리하여 반 경화 상태의 접착 필름(두께: 25㎛)을 제조하였다.The prepared composition was coated on a polyimide film to a predetermined thickness, dried and heat treated at 130° C. for 3 minutes to prepare an adhesive film (thickness: 25 μm) in a semi-cured state.

실시예 2Example 2

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머(SM300A, 도요보, 산가: 10 mgCH3ONa/g) 11중량부, 카르복시산 변성 폴리프로필렌계 수지(SM040A, 산가: 1.0 mgCH3ONa/g, 도요보) 62중량부, 폴리페닐렌에테르계 수지(PPO, -OH값: 800mgKOH/g, 사빅) 7중량부, 크레졸 노볼락 에폭시 수지(YDCN1P, EEW: 200eq/g, 국도화학) 6중량부, 무기 나노 실리카(R972, 평균 입경(D50): 17nm, 에보닉) 6중량부, 불소 수지 필러(PFA, 평균 입경(D50): 10㎛, AGC) 8중량부를 혼합하고, 용제 메틸에틸케톤 150중량부를 추가로 첨가하여 조성물을 제조하였다. Carboxylic acid-modified styrenic elastomer (SM300A, Toyobo, acid value: 10 mgCH 3 ONa/g) 11 parts by weight, carboxylic acid-modified polypropylene resin (SM040A, acid value: 1.0 mgCH 3 ONa/g, Toyobo) 62 parts by weight, poly 7 parts by weight of phenylene ether-based resin (PPO, -OH value: 800 mgKOH/g, SABIC), 6 parts by weight of cresol novolac epoxy resin (YDCN1P, EEW: 200 eq/g, Kukdo Chemical), inorganic nano silica (R972, average Particle size (D50): 17 nm, Evonik) 6 parts by weight, fluororesin filler (PFA, average particle diameter (D50): 10 μm, AGC) 8 parts by weight are mixed, and 150 parts by weight of solvent methyl ethyl ketone is further added to prepare the composition. prepared.

상기 제조한 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 접착 필름을 제조하였다.An adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared composition.

실시예 3과 실시예 4Examples 3 and 4

실시예 1에서, 각 성분의 함량을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반 경화 상태의 접착 필름을 제조하였다. 하기 표 1에서 단위는 중량부이고, "-"는 해당 성분이 포함되지 않음을 의미한다.In Example 1, an adhesive film in a semi-cured state was prepared in the same manner as in Example 1, except that the content of each component was changed as shown in Table 1 below. In Table 1, the unit is parts by weight, and "-" means that the corresponding component is not included.

비교예 1Comparative Example 1

비할로겐 에폭시 수지로서 p-Amino Phenol 형(jER630, Mitsubishi Chemical, EEW: 100eq/g) 100중량부, 바이페닐형 에폭시 수지(NC3000H, 일본화약, EEW: 290eq/g) 50중량부, 카르복시산기 함유 아크릴로니트릴부타디엔 고무(Nipol1072, 니폰제온, -COOH: 8중량%) 50중량부, 에폭시 수지용 경화제로 4,4-디아미노디페닐술폰(DDS, 시그마알드리치, EEW: 64eq/g) 16중량부, 폴리페닐렌에테르계 수지(PPO, 사빅, -OH값: 800mgKOH/g) 20중량부, 경화 촉진제로서 운데실이미다졸(C11Z, 시코쿠화성) 0.5중량부를 혼합하고 용제 메틸에틸케톤 150중량부를 추가로 첨가하여 조성물을 제조하였다. As a non-halogen epoxy resin, 100 parts by weight of p-Amino Phenol type (jER630, Mitsubishi Chemical, EEW: 100eq/g), 50 parts by weight of a biphenyl type epoxy resin (NC3000H, Nippon Chemicals, EEW: 290eq/g), containing a carboxylic acid group 50 parts by weight of acrylonitrile butadiene rubber (Nipol1072, Nippon Zeon, -COOH: 8% by weight), 4,4-diaminodiphenylsulfone (DDS, Sigma-Aldrich, EEW: 64eq/g) as a curing agent for epoxy resins, by 16 weight parts, 20 parts by weight of polyphenylene ether-based resin (PPO, Sabic, -OH value: 800 mgKOH/g), 0.5 parts by weight of undecylimidazole (C11Z, Shikoku Kasei) as a curing accelerator, and 150 parts by weight of solvent methyl ethyl ketone Further parts were added to prepare a composition.

상기 제조한 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 접착 필름을 제조하였다.An adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared composition.

비교예 2Comparative Example 2

비할로겐 변성 폴리이미드아마이드계 수지(PIAD200, 아라카와) 60중량부, 비할로겐 변성 폴리이미드아마이드계 수지(PIAD150L, 아라카와) 25중량부, 비할로겐 에폭시 수지 p-Amino Phenol 형(jER630, Mitsubishi Chemical, EEW: 100eq/g) 5중량부, 에스테르 변성 경화제(HPC-8150, DIC) 10중량부, 경화 촉진제로서 2-에틸 4-메틸 이미다졸(2E4MZ, 시코쿠화성) 0.05중량부를 혼합하고, 용제 메틸에틸케톤 150중량부를 추가로 첨가하여 조성물을 제조하였다.60 parts by weight of non-halogen-modified polyimideamide-based resin (PIAD200, Arakawa), 25 parts by weight of non-halogen-modified polyimideamide-based resin (PIAD150L, Arakawa), non-halogenated epoxy resin p-Amino Phenol type (jER630, Mitsubishi Chemical, EEW) : 100 eq/g) 5 parts by weight, 10 parts by weight of an ester-modified curing agent (HPC-8150, DIC), and 0.05 parts by weight of 2-ethyl 4-methylimidazole (2E4MZ, Shikoku Kasei) as a curing accelerator were mixed, and the solvent was methyl ethyl ketone. An additional 150 parts by weight was added to prepare a composition.

상기 제조한 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 접착 필름을 제조하였다.An adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared composition.

비교예 3Comparative Example 3

카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머(SM300A, 도요보, 산가: 10 mgCH3ONa/g) 9중량부, 폴리프로필렌계 수지(JSS-395N, 산가: 0 mgCH3ONa/g, 호남석유화학, 카르복시산 변성되지 않음) 55중량부, 폴리페닐렌에테르계 수지(PPO, -OH값: 800mgKOH/g, 사빅) 12중량부, 크레졸 노볼락 에폭시 수지(YDCN1P, EEW: 200eq/g, 국도화학) 3중량부, 무기 나노 실리카(R972, 평균 입경(D50): 17nm, 에보닉) 5중량부, 불소 수지 필러(PFA, 평균 입경(D50): 10㎛, AGC) 16중량부, 경화제(4,4-DDS, Sigma-Aldrich) 1.55중량부를 혼합하고, 용제 메틸에틸케톤 150중량부를 추가로 첨가하여 조성물을 제조하였다.Carboxylic acid-modified styrene-based elastomer (SM300A, Toyobo, acid value: 10 mgCH 3 ONa/g) 9 parts by weight, polypropylene resin (JSS-395N, acid value: 0 mgCH 3 ONa/g, Honam Petrochemical, carboxylic acid unmodified) ) 55 parts by weight, polyphenylene ether-based resin (PPO, -OH value: 800 mgKOH/g, Sabic) 12 parts by weight, cresol novolac epoxy resin (YDCN1P, EEW: 200 eq/g, Kukdo Chemical) 3 parts by weight, inorganic 5 parts by weight of nano silica (R972, average particle diameter (D50): 17 nm, Evonik), 16 parts by weight of a fluororesin filler (PFA, average particle diameter (D50): 10 μm, AGC), curing agent (4,4-DDS, Sigma) -Aldrich) 1.55 parts by weight was mixed, and 150 parts by weight of a solvent methyl ethyl ketone was further added to prepare a composition.

상기 제조한 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 접착 필름을 제조하였다.An adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared composition.

실시예와 비교예의 접착 필름을 120℃에서 60분 동안 열처리하여 완전 경화 상태의 접착 필름을 제조하였다. 경화 상태의 접착 필름에 대하여 하기 물성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 2, 표 3 및 도 3, 도 4에 나타내었다.The adhesive films of Examples and Comparative Examples were heat-treated at 120° C. for 60 minutes to prepare an adhesive film in a fully cured state. The following physical properties were evaluated for the adhesive film in a cured state, and the results are shown in Tables 2 and 3 and FIGS. 3 and 4 below.

(1)박리 강도(단위: Kgf/cm): 박리 강도는 IPC TM-650 2.4.8C에 따라 평가하였다. 폴리이미드(PI) 필름/접착 필름/폴리이미드 필름, 폴리이미드 필름/접착 필름/동박(Cu)에 대하여, 25℃, 박리각도 180°, 박리속도 50mm/min에 의해 박리강도를 평가하였다.(1) Peel strength (unit: Kgf/cm): Peel strength was evaluated according to IPC TM-650 2.4.8C. For polyimide (PI) film/adhesive film/polyimide film, polyimide film/adhesive film/copper foil (Cu), peel strength was evaluated by 25° C., peel angle 180°, and peel rate 50 mm/min.

(2)솔더 저항(단위: ℃/초): IPC TM-650 2.4.13F에 의해 측정하였다. 폴리이미드(PI) 필름/접착 필름/폴리이미드(PI) 필름, 폴리이미드(PI) 필름/접착 필름/동박(Cu)에 대하여, 솔더 저항을 측정하였다.(2) Solder resistance (unit: deg. C/sec): Measured by IPC TM-650 2.4.13F. Solder resistance was measured for polyimide (PI) film/adhesive film/polyimide (PI) film, polyimide (PI) film/adhesive film/copper foil (Cu).

(3) 유전상수(단위: 없음)와 유전손실(단위: 없음): 접착 필름에 대하여 25℃, 주파수 10GHz, Network Analyzer(MS4642B 36585K, Anritsu Co.)를 사용해서 유전상수(Dk)와 유전손실(Df)을 평가하였다.(3) Dielectric constant (unit: none) and dielectric loss (unit: none): For the adhesive film, the dielectric constant (Dk) and the dielectric loss using a network analyzer (MS4642B 36585K, Anritsu Co.) at 25℃, frequency 10GHz (Df) was evaluated.

(4)유리전이온도(단위: ℃): 접착 필름에 대하여, DMA(dynamic mechanical analyzer)를 사용해서 tanδ 모듈러스가 최대가 되는 온도를 유리전이온도라고 하였다. (4) Glass transition temperature (unit: ℃): For the adhesive film, using a dynamic mechanical analyzer (DMA), the temperature at which the tanδ modulus is maximized was called the glass transition temperature.

(5)탄성 모듈러스(단위: MPa): DMA(dynamic mechanical analyzer)를 사용해서 초기 온도 25℃부터 200℃ 까지 측정하여 탄성 모듈러스(E")를 확인 하였다.(5) Elastic modulus (unit: MPa): The elastic modulus (E") was confirmed by measuring from an initial temperature of 25°C to 200°C using a dynamic mechanical analyzer (DMA).

(6)최저 용융 점도 및 최저 용융 점도가 나타나는 온도(단위: Pa.s, 단위: ℃): 최저 용융 점도는 온도에 따른 ARES로 평가하였다.(6) The minimum melt viscosity and the temperature at which the minimum melt viscosity appears (unit: Pa.s, unit: °C): The minimum melt viscosity was evaluated by ARES according to temperature.

(7)열팽창 계수(단위: ppm/℃): 접착 필름에 대하여, IPC TM-650 2.4.41.3에 의해 TMA(thermomechanical analyzer)를 사용해서 α1, α2를 분석하였다.(7) Coefficient of thermal expansion (unit: ppm/°C): For the adhesive film, α1 and α2 were analyzed using a thermomechanical analyzer (TMA) according to IPC TM-650 2.4.41.3.

(8)5% 질량 손실 온도(단위: ℃): 접착 필름에 대하여 5% 질량 손실은 TGA(thermogravimetric analysis)로 분석하였다.(8) 5% mass loss temperature (unit: ° C.): 5% mass loss for the adhesive film was analyzed by thermogravimetric analysis (TGA).

(9)표면 저항과 부피 저항(각각 단위는 MΩ, MΩ.cm): 접착 필름에 대하여 표면 저항과 부피 저항은 IPC-TM-6500 2.5.17에 따라 평가하였다.(9) Surface resistance and volume resistance (units are MΩ and MΩ.cm, respectively): The surface resistance and volume resistance of the adhesive film were evaluated according to IPC-TM-6500 2.5.17.

(10)이온-이동(ion-migration, 단위: Ω): 접착 필름에 대하여, 이온 이동은 85℃, 85%, 500시간, 50V, L/S=50㎛/50㎛으로 평가하였다.(10) Ion-migration (unit: Ω): For the adhesive film, ion migration was evaluated at 85° C., 85%, 500 hours, 50V, L/S=50 μm/50 μm.

(11)흡습율(단위: %): 접착 필름에 대하여, 흡습율은 IPC TM-650 2.6.2.1A에 의해 측정하였다.(11) Moisture absorption rate (unit: %): For the adhesive film, the moisture absorption rate was measured according to IPC TM-650 2.6.2.1A.

(12)주파수 변화에 따른 유전상수와 유전손실: (3)과 동일한 방법으로 유전상수와 유전손실을 측정하되 25℃에서 주파수를 1GHz, 3GHz, 5GHz, 10GHz로 변경하면서 유전상수와 유전손실을 측정하였다. 상기 식 1, 식 2를 이용해서 변화율을 계산하였다.(12) Dielectric constant and dielectric loss according to frequency change: Measure the dielectric constant and dielectric loss in the same way as (3), but measure the dielectric constant and dielectric loss while changing the frequency to 1GHz, 3GHz, 5GHz, and 10GHz at 25℃ did. The rate of change was calculated using Equation 1 and Equation 2 above.

(13)온도 변화에 따른 유전상수와 유전손실: (3)과 동일한 방법으로 유전상수와 유전손실을 측정하되 10GHz에서 측정 온도를 20℃, 40℃, 60℃, 80℃로 변경하면서 유전상수와 유전손실을 측정하였다. 상기 식 3, 식 4를 이용해서 변화율을 계산하였다.(13) Dielectric constant and dielectric loss according to temperature change: Measure the dielectric constant and dielectric loss in the same way as in (3), but change the measured temperature at 10 GHz to 20℃, 40℃, 60℃, 80℃ Dielectric loss was measured. The rate of change was calculated using Equation 3 and Equation 4 above.

[표 1][Table 1]

Figure 112020022817871-pat00001
Figure 112020022817871-pat00001

[표 2][Table 2]

Figure 112020022817871-pat00002
Figure 112020022817871-pat00002

*탄성 모듈러스 비: 25℃에서 탄성 모듈러스/160℃에서 탄성 모듈러스*Elastic modulus ratio: elastic modulus at 25℃ / elastic modulus at 160℃

[표 3][Table 3]

Figure 112020022817871-pat00003
Figure 112020022817871-pat00003

상기 표 2, 표 3, 도 3, 도 4에서와 같이, 본 발명의 접착 필름은 주파수 변화 및 온도 변화에 따른 유전상수 및 유전손실의 변화율이 낮았으며, 최저 용융 점도가 특정 범위를 가지며 저항이 낮고 이온 이동이 적정 범위를 확보할 수 있었다.As shown in Tables 2, 3, 3, and 4, the adhesive film of the present invention had a low rate of change in dielectric constant and dielectric loss according to frequency change and temperature change, and had a minimum melt viscosity in a specific range and resistance was It was low and the ion movement was able to secure an appropriate range.

반면에, 종래의 아크릴로니트릴 부타디엔계 접착 필름인 비교예 1, 폴리이미드계 접착 필름인 비교예 2, 변성되지 않은 올레핀계 수지와 경화제를 포함하는 비교예 3은 본 발명의 효과를 얻을 수 없었다.On the other hand, Comparative Example 1, which is a conventional acrylonitrile-butadiene-based adhesive film, Comparative Example 2, which is a polyimide-based adhesive film, and Comparative Example 3, which includes an unmodified olefin-based resin and a curing agent, could not obtain the effect of the present invention. .

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications or changes of the present invention can be easily carried out by those of ordinary skill in the art, and all such modifications or changes can be considered to be included in the scope of the present invention.

Claims (18)

바인더 수지, 에폭시 수지 및 필러를 포함하는 조성물로 형성되는 접착 필름으로서,
상기 접착 필름은 경화 후 최소 용융 점도가 30,000Pa.s 내지 60,000Pa.s이고,
상기 접착 필름은 경화 후 85℃, 85% 상대습도, 500시간 하에서 50V의 전압 인가시 이온 이동이 1 x 1012 Ω 이상인 것인, 접착 필름.
As an adhesive film formed of a composition comprising a binder resin, an epoxy resin and a filler,
The adhesive film has a minimum melt viscosity of 30,000 Pa.s to 60,000 Pa.s after curing,
After curing, the adhesive film has an ion movement of 1 x 10 12 Ω or more when a voltage of 50V is applied under 85° C., 85% relative humidity and 500 hours after curing.
제1항에 있어서, 상기 접착 필름은 경화 후 1GHz 내지 10GHz 및 20℃ 내지 80℃에서 측정된 유전상수가 2.5 이하, 유전손실(dielectric loss, Df)이 0.004 이하이고, 상기 접착 필름은 경화 후 흡습율이 0.1% 이하인 것인, 접착 필름.
According to claim 1, wherein the adhesive film has a dielectric constant of 2.5 or less and a dielectric loss (Df) of 0.004 or less measured at 1 GHz to 10 GHz and 20 ° C to 80 ° C after curing, and the adhesive film absorbs moisture after curing The rate is 0.1% or less, the adhesive film.
제1항에 있어서, 상기 조성물은 경화제를 포함하지 않는 것인, 접착 필름.
The adhesive film of claim 1 , wherein the composition does not include a curing agent.
제1항에 있어서, 상기 에폭시 수지 중 에폭시기의 총 몰수에 대한, 상기 바인더 수지 중 카르복시산기의 총 몰수의 비([바인더 수지 중 카르복시산기의 총 몰수]/[에폭시 수지 중 에폭시기의 총 몰수])는 1 내지 2인 것인, 접착 필름.
According to claim 1, wherein the ratio of the total number of moles of carboxylic acid groups in the binder resin to the total number of moles of epoxy groups in the epoxy resin ([Total moles of carboxylic acid groups in the binder resin]/[Total moles of epoxy groups in the epoxy resin]) is 1 to 2, the adhesive film.
제1항에 있어서, 상기 바인더 수지는 카르복시산 변성 올레핀계 수지 및 폴리페닐렌에테르계 수지를 포함하는 것인, 접착 필름.
The adhesive film according to claim 1, wherein the binder resin includes a carboxylic acid-modified olefin-based resin and a polyphenylene ether-based resin.
제5항에 있어서, 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 무수말레산, 무수 이타콘산, 무수 푸마르산 중 1종 이상에 의해 변성된 올레핀계 수지를 포함하는 것인, 접착 필름.
The method of claim 5, wherein the carboxylic acid-modified olefin-based resin comprises an olefin-based resin modified with at least one of acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, and fumaric anhydride. The thing to do is an adhesive film.
제5항에 있어서, 상기 바인더 수지 총합 100중량부 중 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 50중량부 내지 95중량부, 상기 폴리페닐렌에테르계 수지는 5중량부 내지 50중량부로 포함되는 것인, 접착 필름.
The adhesion of claim 5, wherein the carboxylic acid-modified olefin-based resin is included in an amount of 50 parts by weight to 95 parts by weight, and the polyphenylene ether-based resin is included in an amount of 5 parts by weight to 50 parts by weight among 100 parts by weight of the total binder resin. film.
제5항에 있어서, 상기 바인더 수지는 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머를 더 포함하는 것인, 접착 필름.
The adhesive film according to claim 5, wherein the binder resin further comprises a carboxylic acid-modified styrene-based elastomer.
제8항에 있어서, 상기 바인더 수지 총합 100중량부 중 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 50중량부 내지 85중량부, 상기 폴리페닐렌에테르계 수지는 5중량부 내지 30중량부, 상기 카르복시산 변성 스티렌계 엘라스토머 1중량부 내지 20중량부로 포함되는 것인, 접착 필름.
The method of claim 8, wherein the carboxylic acid-modified olefin-based resin is 50 parts by weight to 85 parts by weight of the total of 100 parts by weight of the binder resin, the polyphenylene ether-based resin is 5 to 30 parts by weight, the carboxylic acid-modified styrene-based resin The adhesive film which is included in 1 part by weight to 20 parts by weight of the elastomer.
제5항에 있어서, 상기 카르복시산 변성 올레핀계 수지는 카르복시산 변성 선형 폴리프로필렌계 수지를 포함하는 것인, 접착 필름.
The adhesive film according to claim 5, wherein the carboxylic acid-modified olefin-based resin comprises a carboxylic acid-modified linear polypropylene-based resin.
제1항에 있어서, 상기 필러는 무기 나노 실리카와 불소 수지 필러의 혼합물을 포함하는 것인, 접착 필름.
The adhesive film according to claim 1, wherein the filler comprises a mixture of inorganic nano silica and a fluororesin filler.
제11항에 있어서, 상기 무기 나노 실리카 100중량부에 대하여 불소 수지 필러는 100중량부 내지 800중량부로 포함되는 것인, 접착 필름.
The adhesive film according to claim 11, wherein the fluororesin filler is included in an amount of 100 parts by weight to 800 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic nano-silica.
제1항에 있어서, 상기 바인더 수지 100중량부에 대하여, 상기 에폭시 수지 3중량부 내지 18중량부, 상기 필러 1중량부 내지 50중량부를 포함하는 것인, 접착 필름.
According to claim 1, With respect to 100 parts by weight of the binder resin, 3 parts by weight to 18 parts by weight of the epoxy resin, and 1 part by weight to 50 parts by weight of the filler, the adhesive film.
폴리이미드계 수지 필름, 상기 폴리이미드계 수지 필름의 적어도 일면에 구비된 접착 필름을 구비하고, 상기 접착 필름은 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 접착 필름을 포함하는 것인, 접착 필름 부착 적층체.
A polyimide-based resin film, an adhesive film provided on at least one surface of the polyimide-based resin film, wherein the adhesive film comprises the adhesive film of any one of claims 1 to 13, with an adhesive film attached laminate.
제14항에 있어서, 상기 접착 필름 부착 적층체는 커버레이 필름을 포함하는 것인, 접착 필름 부착 적층체.
The laminate with an adhesive film according to claim 14, wherein the laminate with an adhesive film comprises a coverlay film.
폴리이미드계 수지 필름, 상기 폴리이미드계 수지 필름의 적어도 일면에 구비된 접착 필름, 및 상기 접착 필름의 일면에 구비된 금속박을 구비하고, 상기 접착 필름은 상기 폴리이미드계 수지 필름과 상기 금속박 사이에 구비되고,
상기 접착 필름은 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 접착 필름을 구비하는 것인, 금속박 적층체.
A polyimide-based resin film, an adhesive film provided on at least one surface of the polyimide-based resin film, and a metal foil provided on one surface of the adhesive film, wherein the adhesive film is disposed between the polyimide-based resin film and the metal foil. provided,
The adhesive film is a metal foil laminate comprising the adhesive film of any one of claims 1 to 13.
제16항에 있어서, 상기 금속박은 동박을 포함하는 것인, 금속박 적층체.
The metal foil laminate according to claim 16, wherein the metal foil comprises a copper foil.
제16항에 있어서, 상기 금속박 적층체는 연성 회로 기판을 포함하는 것인, 금속박 적층체.

The metal foil laminate according to claim 16, wherein the metal foil laminate comprises a flexible circuit board.

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040029939A (en) * 2000-03-31 2004-04-08 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Adhesive Composition, Method for Preparing the Same, Adhesive Film Using the Same, Substrate for Carrying Semiconductor and Semiconductor Device
KR20190020622A (en) * 2017-08-21 2019-03-04 아지노모토 가부시키가이샤 Resin composition
WO2019230445A1 (en) * 2018-05-28 2019-12-05 東洋紡株式会社 Low-dielectric adhesive composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040029939A (en) * 2000-03-31 2004-04-08 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Adhesive Composition, Method for Preparing the Same, Adhesive Film Using the Same, Substrate for Carrying Semiconductor and Semiconductor Device
KR20190020622A (en) * 2017-08-21 2019-03-04 아지노모토 가부시키가이샤 Resin composition
WO2019230445A1 (en) * 2018-05-28 2019-12-05 東洋紡株式会社 Low-dielectric adhesive composition

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