KR102258294B1 - barrier film - Google Patents

barrier film Download PDF

Info

Publication number
KR102258294B1
KR102258294B1 KR1020170104688A KR20170104688A KR102258294B1 KR 102258294 B1 KR102258294 B1 KR 102258294B1 KR 1020170104688 A KR1020170104688 A KR 1020170104688A KR 20170104688 A KR20170104688 A KR 20170104688A KR 102258294 B1 KR102258294 B1 KR 102258294B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
barrier film
region
layer
undercoat layer
area
Prior art date
Application number
KR1020170104688A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190019568A (en
Inventor
안연선
류상욱
손범권
문종민
김태용
명희복
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020170104688A priority Critical patent/KR102258294B1/en
Publication of KR20190019568A publication Critical patent/KR20190019568A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102258294B1 publication Critical patent/KR102258294B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/724Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242Non-permeable
    • B32B2307/7246Water vapor barrier
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment

Abstract

본 출원은 배리어 필름에 관한 것이다. 본 출원의 배리어 필름은 기재층; 상기 기재층 상에 형성되고, 수직 하중 200g에서 스테인레스 스틸 기판에 대한 정지 마찰 계수가 0.5 이하인 언더 코팅층; 및 상기 언더 코팅층 상에 형성되어 있는 배리어층;을 포함하고, 수분투과도가 1x10-2 g/m2/day 이하이다. This application relates to a barrier film. The barrier film of the present application includes a base layer; An undercoat layer formed on the base layer and having a static friction coefficient of 0.5 or less with respect to the stainless steel substrate under a vertical load of 200 g; And a barrier layer formed on the undercoat layer, wherein the moisture permeability is 1x10 -2 g/m 2 /day or less.

Description

배리어 필름 {barrier film}Barrier film {barrier film}

본 출원은, 배리어 필름, 및 이의 용도에 대한 것이다. This application relates to a barrier film and a use thereof.

플라스틱 기판이나 필름의 표면에 산화 알루미늄, 산화 마그네슘 또는 산화 규소 등의 금속 산화물의 박막을 형성한 배리어성 필름이 수증기나 산소 등의 차단을 필요로 하는 물품의 포장, 식품이나 공업용품 및 의약품 등의 변질을 방지하기 위한 포장 용도로 넓게 이용되어 왔다. 또한, 포장 용도 이외에도 액정표시소자, 태양전지 및 전계발광(EL) 기판 등에 가스 차단 특성을 확보하기 위해 이용되고 있다.A barrier film formed by forming a thin film of metal oxide such as aluminum oxide, magnesium oxide, or silicon oxide on the surface of a plastic substrate or film is used for packaging of items requiring blocking of water vapor or oxygen, food, industrial supplies, and pharmaceuticals, etc. It has been widely used for packaging purposes to prevent deterioration. In addition to packaging, it is used to secure gas barrier properties for liquid crystal displays, solar cells, and electroluminescent (EL) substrates.

이러한 배리어 필름은, 예를 들면 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정에 의해 형성될 수 있는데, 이러한 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정에 따른 배리어 필름의 제조 시, 가스 차단 특성을 나타내는 배리어층과 가이드 롤과의 마찰에 의한 스크래치의 발생 및 그에 따른 가스 차단 특성의 저하 등의 문제가 존재할 수 있다. Such a barrier film may be formed by, for example, a roll-to-roll process. In the manufacture of a barrier film according to such a roll-to-roll process, There may be problems such as occurrence of scratches due to friction between the barrier layer exhibiting gas barrier properties and the guide roll and deterioration of gas barrier properties accordingly.

(특허문헌) (Patent Literature)

(특허문헌 0001) 특허문헌 1: 대한민국 공개특허공보 2013-0134477호(Patent Document 0001) Patent Document 1: Republic of Korea Patent Publication No. 2013-0134477

(특허문헌 0002) 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 제2006-88538호(Patent Document 0002) Patent Document 2: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-88538

본 출원의 목적은, 배리어 필름의 제조 공정 시 발생할 수 있는 스크래치 발생 등의 문제를 방지하여, 고품질의 배리어 필름을 제공하는 것이다. An object of the present application is to provide a high-quality barrier film by preventing problems such as scratches that may occur during the manufacturing process of the barrier film.

본 출원의 상기 목적 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 달성될 수 있다.All of the above and other objects of the present application can be achieved by the present application described in detail below.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 배리어 필름에 관한 것이다. In one example related to the present application, the present application relates to a barrier film.

본 발명에 따른 배리어 필름은 배리어 필름의 제조공정, 예를 들면 롤-투-롤(roll-toroll) 공정 시 발생할 수 있는 배리어층과 가이드롤과의 마찰 및 그에 따른 스크래치의 발생을 방지 하기 위해, 기재층 상에 소정의 정지 마찰 계수를 가지는 언더코팅층을 배리어 필름이 포함시키고 있으며, 이를 통해 전술한 문제를 극복할 수 있다.The barrier film according to the present invention is to prevent the occurrence of scratches and friction between the barrier layer and the guide roll that may occur during the manufacturing process of the barrier film, for example, a roll-toroll process, The barrier film includes an undercoat layer having a predetermined coefficient of static friction on the base layer, and through this, the above-described problem can be overcome.

또한, 본 출원의 언더 코팅층은 표면 조도 값이 상이한 두 영역을 포함하고 소정의 표면 요철의 종횡비를 가져, 배리어 필름 본연의 가스 차단성을 그대로 유지하면서, 높은 생산성을 확보할 수 있게 한다.In addition, the undercoat layer of the present application includes two regions having different surface roughness values and has a predetermined aspect ratio of surface irregularities, thereby maintaining high productivity while maintaining the inherent gas barrier properties of the barrier film.

본 출원의 배리어 필름은, 기재층; 상기 기재층 상에 형성되어 있는 언더 코팅층; 및 상기 언더 코팅층 상에 형성되어 있는 배리어층을 포함한다. 상기 언더 코팅층은, 수직 하중 200g에서 스테인레스 스틸 기판에 대한 정지 마찰 계수가 0.5 이하이다.The barrier film of the present application includes: a base layer; An undercoat layer formed on the base layer; And a barrier layer formed on the undercoat layer. The undercoat layer has a static friction coefficient of 0.5 or less with respect to the stainless steel substrate under a vertical load of 200 g.

구체적으로, 배리어 필름(1000)은 도 1에 도시된 바와 같이, 기재층(100); 상기 기재층(100) 상에 순차적으로 형성되어 있는 언더 코팅층(200); 및 배리어층(300)을 포함하는 구조를 가질 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 1, the barrier film 1000 includes a base layer 100; An undercoat layer 200 sequentially formed on the base layer 100; And a barrier layer 300.

본 출원의 배리어 필름은, 상기와 같이, 수직 하중 200g에서 스테인레스 스틸 기판에 대한 정지 마찰 계수를 0.5 이하인 언더 코팅층을 포함함으로써, 배리어 필름의 제조 공정 상 배리어층의 손상 등을 방지할 수 있다.As described above, the barrier film of the present application includes an undercoat layer having a static friction coefficient of 0.5 or less with respect to a stainless steel substrate under a vertical load of 200 g, thereby preventing damage to the barrier layer during the manufacturing process of the barrier film.

수증기나 산소 등의 차단 특성을 위해 배리어 필름의 필수적 구성인 배리어층은, 표면 거칠기가 낮은 평탄한 언더 코팅층 상에 형성하는 것이 배리어 특성 확보에 유리하다. 예를 들어, 언더 코팅층 상에 배리어층을 증착하게 되는데, 이 과정에서 언더 코팅층의 표면이 평탄하지 않으면 증착면에 결함(Defect)이 발생할 가능성이 높아진다.The barrier layer, which is an essential component of the barrier film for barrier properties such as water vapor or oxygen, is advantageously formed on a flat undercoat layer having a low surface roughness to secure barrier properties. For example, a barrier layer is deposited on the undercoat layer. In this process, if the surface of the undercoat layer is not flat, the possibility of occurrence of defects on the deposition surface increases.

이에 반해, 배리어 필름의 제조 시, 롤투롤 공정에서 사용하는 가이드롤은, 예를 들어 스테인레스 판(SUS plate) 재질이 적용되며, 이는 매끈한 표면을 형성하고 있다. 매끈한 표면을 가진 가이드롤과 표면 거칠기가 낮은 언더 코팅층이 접촉하게 되면, 블로킹이 잘되고, 마찰계수가 높아지게 되며, 이는 스크래치 발생의 원인으로 작용하게 된다. On the other hand, when manufacturing the barrier film, the guide roll used in the roll-to-roll process is made of, for example, a stainless steel plate, which forms a smooth surface. When a guide roll having a smooth surface and an undercoat layer having a low surface roughness come into contact with each other, blocking is well performed and the coefficient of friction increases, which acts as a cause of the occurrence of scratches.

따라서, 본 발명은 언더 코팅층 상에 증착되는 배리어층의 결함 발생을 방지하고, 롤투롤 공정에서 사용되는 가이드롤과의 접촉면에서의 마찰계수를 낮게 유지하는 것을 목적으로 한다. 이를 위해, 본 출원에 따른 배리어 필름은 기본적으로 매우 평탄한 표면을 가지면서도, 입자상 성분을 첨가하여 부분적으로 크고 완만한 형태의 요철이 형성된 언더 코팅층을 포함하게 된다. 상기 입자상 성분의 입경은 언더 코팅층의 두께보다 큰 경우가 바람직하다.Accordingly, an object of the present invention is to prevent the occurrence of defects in the barrier layer deposited on the undercoat layer, and to keep the coefficient of friction at the contact surface with the guide roll used in the roll-to-roll process low. To this end, the barrier film according to the present application basically has a very flat surface and includes an undercoat layer partially formed with large and smooth irregularities by adding a particulate component. It is preferable that the particle diameter of the particulate component is larger than the thickness of the undercoat layer.

본원의 배리어 필름은 정지 마찰 계수가 0.5 이하인 언더 코팅층을 기재층 상에 형성하고, 상기 언더 코팅층 상에 배리어층을 형성함으로써, 전술한 문제를 극복할 수 있다. 예를 들어, 본원은 매우 평탄도가 높은 언더 코팅층에 상대적으로 입경이 큰 입자상 성분을 분산시켜, 크고 완만한 형태의 요철을 형성하게 된다. 이를 통해, 배리어층 증착시 발생될 수 있는 결함을 최소화하고, 낮은 마찰계수 확보를 통해 가이드롤과의 블로킹을 방지함으로써, 공정시 발생하는 스크래치를 예방할 수 있다. 즉, 본원은 공정 중에 발생되는 표면 스크래치를 방지하면서도, 수분투과도를 1x10-2 g/m2/day 이하로 제어한 배리어 필름을 제공한다.The barrier film of the present application may overcome the above-described problem by forming an undercoat layer having a static friction coefficient of 0.5 or less on a base layer and forming a barrier layer on the undercoat layer. For example, in the present application, a particulate component having a relatively large particle diameter is dispersed in an undercoat layer having a very high flatness, thereby forming a large and smooth shape of irregularities. Through this, defects that may occur during the deposition of the barrier layer are minimized, and blocking with the guide roll is prevented by securing a low coefficient of friction, thereby preventing scratches occurring during the process. That is, the present application provides a barrier film in which the water permeability is controlled to 1x10 -2 g/m 2 /day or less while preventing surface scratches generated during the process.

예를 들어, 도 2는 본원의 하나의 실시예에 따른 배리어 필름의 단면 구조를 모식적으로 나타낸 것이다.For example, FIG. 2 schematically shows a cross-sectional structure of a barrier film according to an embodiment of the present application.

도 2를 참조하면, 기재층(101) 상에 언더 코팅층(201)이 형성된 구조로 상기 언더 코팅층(201) 내부에는 구형의 입자상 성분(211)이 분산되고, 상기 구형의 입자상 성분(211)에 의해 언더 코팅층(201)은 요철 구조를 형성하게 된다. 상기 요철 구조가 형성된 언더 코팅층(201) 상에는 다시 배리어층(301)이 증착된 구조를 형성한다. 본원에서는 입자상 성분(211)의 직경이 언더 코팅층(201)의 두께보다 큰 경우가 바람직하다. 또한, 입자상 성분(211)의 함량을 상대적으로 낮은 수준으로 제어함으로써, 언더 코팅층(201)은 입자상 성분(211)에 의해 요철이 형성된 제1 영역과, 입자상 성분(211)이 존재하지 않는 평탄면이 형성된 제2 영역이 공존하게 된다.2, a structure in which an undercoat layer 201 is formed on the base layer 101, and a spherical particulate component 211 is dispersed in the undercoat layer 201, and the spherical particulate component 211 is Accordingly, the undercoat layer 201 forms an uneven structure. A structure in which the barrier layer 301 is deposited again is formed on the undercoat layer 201 having the uneven structure formed thereon. In the present application, it is preferable that the diameter of the particulate component 211 is greater than the thickness of the undercoat layer 201. In addition, by controlling the content of the particulate component 211 to a relatively low level, the undercoat layer 201 has a first region in which irregularities are formed by the particulate component 211 and a flat surface in which the particulate component 211 does not exist. The formed second regions coexist.

본원의 배리어 필름은 정지 마찰 계수가 0.5 이하인 언더 코팅층을 포함한다. 언더 코팅층의 정지 마찰 계수는, 예를 들면 상기 언더 코팅층을 스테인레스 스틸 기판에 대하여 적층시킨 후, 200g의 수직 하중을 가한 상태에서, 상기언더 코팅층에 전단력을 가하여, 언더 코팅층이 움직인 시점에서의 전단력을 측정한 것으로부터 계산될 수 있다. 상기 정지 마찰 계수의 다른 예시는, 0.45 이하, 0.4 이하, 또는 0.35 이하일 수 있다. 상기 정지 마찰계수의 하한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 0.01 이상, 0.05이상, 0.1 이상 또는 0.2 이상일 수 있다.The barrier film of the present application includes an undercoat layer having a static friction coefficient of 0.5 or less. The coefficient of static friction of the undercoat layer is, for example, a shear force at the time when the undercoat layer moves by applying a shear force to the undercoat layer in a state where the undercoat layer is laminated to a stainless steel substrate and then a vertical load of 200g is applied. Can be calculated from the measurement of. Another example of the static friction coefficient may be 0.45 or less, 0.4 or less, or 0.35 or less. The lower limit of the static friction coefficient is not particularly limited, and may be, for example, 0.01 or more, 0.05 or more, 0.1 or more, or 0.2 or more.

본 출원의 언더 코팅층은 전술한 정지 마찰 계수를 만족하며, 동시에 표면 거칠기 값이 상이한 두 영역을 포함할 수 있다. 하나의 예시에서, 본 출원의 언더 코팅층은 중심선 표면 거칠기(Ra) 또는 거칠기 최고저치(Rpv) 값이 상이한 제 1 영역 및 제 2 영역을 포함할 수 있다. The undercoat layer of the present application satisfies the aforementioned static friction coefficient and may include two regions having different surface roughness values at the same time. In one example, the undercoat layer of the present application may include a first region and a second region having different centerline surface roughness (Ra) or roughness maximum (Rpv) values.

상기 제 1 영역 및 제 2 영역은 언더 코팅층 상에 형성되어 있는 표면 거칠기가 상이한 두 영역을 구분하기 위한 것이다. 예를 들어, 언더 코팅층은 내부에 입자상 성분을 함유하고 있으며, 제 1 영역은 언더 코팅층 내에 함유된 입자상 성분에 의해 요철이 형성된 영역이고, 제 2 영역은 언더 코팅층 내에 함유된 입자상 성분에 의한 요철이 형성되지 않은 영역이다.The first region and the second region are for separating two regions formed on the undercoat layer having different surface roughnesses. For example, the undercoat layer contains a particulate component therein, the first region is a region in which unevenness is formed by particulate components contained in the undercoat layer, and the second region is an unevenness due to particulate components contained in the undercoat layer. It is an unformed area.

본 출원에서, 제 1 영역과 제 2 영역을 합산한 전체 단위 면적당 제 1 영역이 차지하는 면적 범위는 5% 이하일 수 있다. 이는 배리어 필름 전체 면적을 기준으로, 요철이 형성된 제 1 영역이 매우 작은 면적 분율로 형성됨을 의미한다. 예를 들어, 제 1 영역과 제 2 영역을 합산한 전체 단위 면적당 제 1 영역이 차지하는 면적 범위는 0.05% 이상, 0.1% 이상, 0.5% 이상, 또는 1% 이상일 수 있고, 5% 이하, 4% 이하, 또는 3.5% 이하일 수 있다. In the present application, the area range occupied by the first area per total unit area obtained by adding the first area and the second area may be 5% or less. This means that, based on the total area of the barrier film, the first region in which the irregularities are formed is formed in a very small area fraction. For example, the area range occupied by the first area per total unit area of the sum of the first area and the second area may be 0.05% or more, 0.1% or more, 0.5% or more, or 1% or more, and 5% or less, 4% or more. It may be less than or equal to 3.5%.

본 발명에 따른 배리어 필름은 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232 ㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)가 평균 4 nm 내지 50 nm의 범위일 수 있다. The barrier film according to the present invention may have an average centerline roughness (Ra) of 310 µm x 232 µm including the first region in a range of 4 nm to 50 nm on average.

상기 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)란, 입자상 성분에 의해 형성된 요철을 하나 이상 포함하는 310 ㎛ x 232㎛ 면적에서 측정한 중심선 평균 거칠기(Ra)를 의미한다.The centerline average roughness (Ra) of an area of 310 µm x 232 µm including the first area means the average roughness of the center line (Ra) measured in an area of 310 µm x 232 µm including one or more irregularities formed by particulate components. do.

제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232 ㎛의 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)는 상기 범위에서, 5 nm 이상, 6 nm 이상, 또는 8 nm 이상일 수 있고, 45nm 이하, 또는 40nm 이하일 수 있다. 이러한 범위 내에서 목적하는 정지 마찰 계수를 달성할 수 있다.The centerline average roughness (Ra) of an area of 310 µm x 232 µm including the first region may be 5 nm or more, 6 nm or more, or 8 nm or more, 45 nm or less, or 40 nm or less in the above range. Within this range, the desired coefficient of static friction can be achieved.

또한, 본 발명에 따른 배리어 필름은 상기 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛의 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)가 50nm 내지 1000nm 의 범위 내에 있을 수 있다. 거칠기 최고저치(Rpv)는 측정 면적에서 표면 거칠기 측정값의 최고치과 최소치의 차이를 의미하는 것이다.In addition, the barrier film according to the present invention may have a maximum roughness value (Rpv) of 310 µm x 232 µm including the first region in a range of 50 nm to 1000 nm. The highest and lowest roughness value (Rpv) refers to the difference between the highest value and the lowest value of the measured surface roughness in the measurement area.

상기 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛의 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)는 입자상 성분에 의해 형성된 요철을 하나 이상 포함하는 310 ㎛ x 232㎛ 면적에서 측정한 거칠기 최고저치(Rpv)를 의미한다. The highest roughness value (Rpv) of an area of 310 µm x 232 µm including the first region refers to the highest roughness value (Rpv) measured in an area of 310 µm x 232 µm including one or more irregularities formed by particulate components. do.

다른 예시에서, 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛의 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)는 상기 범위에서, 100 nm 이상, 150 nm 이상, 또는 200 nm 이상일 수 있고, 950 nm 이하, 900 nm 이하, 또는 800 nm 이하일 수 있다. 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛의 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)를 상기 범위로 제어함으로써, 배리어 필름 제작 공정 중 배리어층의 손상을 최소화할 수 있고, 생산성을 증대시킬 수 있다. In another example, the maximum roughness (Rpv) of an area of 310 µm x 232 µm including the first region may be 100 nm or more, 150 nm or more, or 200 nm or more, and 950 nm or less, 900 nm or more in the above range. It may be less than or equal to 800 nm. By controlling the maximum roughness (Rpv) of an area of 310 µm x 232 µm including the first region within the above range, damage to the barrier layer during the barrier film manufacturing process can be minimized, and productivity can be increased.

하나의 예시에서, 언더 코팅층 내의 제 1 영역은, 예를 들면 소정의 표면 요철의 종횡비(aspect ratio)를 가질 수 있다. 상기 용어 「표면 요철의 종횡비」는 제 1 영역의 측정 면적 내 표면 요철의 높이에 대한 폭의 비율(폭/높이)을 의미하는 것이다.In one example, the first region in the undercoat layer may have, for example, a predetermined aspect ratio of surface irregularities. The term "aspect ratio of surface irregularities" refers to a ratio (width/height) of the width to the height of the surface irregularities in the measurement area of the first region.

하나의 예시에서, 제 1 영역에서 측정한 표면 요철의 종횡비(aspect ratio)가 100 내지 4,000의 범위 내에 있을 수 있다. 이러한 종횡비(aspect ratio)를 가지는 제 1 영역을 언더 코팅층에 포함시킴으로써, 언더 코팅층의 목적하는 정지 마찰 계수 값을 달성할 수 있고, 궁극적으로 배리어층의 손상을 방지할 수 있다. 다른 예시에서, 종횡비(aspect ratio)는 상기 범위에서 300 이상, 400 이상 또는 500 이상일 수 있고, 3,500 이하, 또는 3,000 이하 일 수 있다.In one example, the aspect ratio of the surface irregularities measured in the first area may be in the range of 100 to 4,000. By including the first region having such an aspect ratio in the undercoat layer, a desired static friction coefficient value of the undercoat layer may be achieved, and ultimately, damage to the barrier layer may be prevented. In another example, the aspect ratio may be 300 or more, 400 or more, or 500 or more, 3,500 or less, or 3,000 or less in the above range.

언더 코팅층은 상기 제 1 영역 내부에 존재하거나 또는 제1 영역 이외의 영역에 존재하는 제 2 영역을 포함할 수 있다. 또한, 제 2 영역은 제 1 영역과 표면 거칠기 값이 상이한 영역으로써, 예를 들면 제 1 영역 대비 평탄한 면을 의미할 수 있다.The undercoat layer may include a second region present inside the first region or a region other than the first region. In addition, the second region is a region having a different surface roughness value from the first region, and may mean, for example, a flat surface compared to the first region.

하나의 예시에서, 상기 제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)가 0.2 nm 내지 0.5 nm의 범위 내에 있을 수 있다. 제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)는 제 1 영역을 포함하지 않는, 즉, 언더 코팅층의 요철이 형성되지 않은 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적에서 측정한 중심선 평균 거칠기(Ra)를 의미한다. In one example, a centerline average roughness (Ra) of 5 μm x 5 μm in the second area may be in a range of 0.2 nm to 0.5 nm. Centerline average roughness (Ra) of the area of 5㎛ x 5㎛ in the second area is the average roughness of the centerline measured in the area of 5㎛ x 5㎛ in the area not including the first area, that is, the unevenness of the undercoat layer is not formed Means (Ra).

상기 다른 예시에서, 제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)는 상기 범위에서, 0.25 nm 이상, 또는 0.3 nm 이상일 수 있고, 0.45 nm 이하, 또는 0.4 nm 이하일 수 있다. 이러한 범위 내에서 목적하는 정지 마찰 계수를 달성할 수 있다.In another example, the centerline average roughness (Ra) of an area of 5 μm x 5 μm in the second region may be 0.25 nm or more, or 0.3 nm or more, and 0.45 nm or less, or 0.4 nm or less in the above range. Within this range, the desired coefficient of static friction can be achieved.

하나의 예시에서, 제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛의 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)가 2 nm 내지 6 nm 의 범위 내에 있을 수 있다. 제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛의 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)는 제 1 영역을 포함하지 않는, 즉, 언더 코팅층의 요철이 형성되지 않은 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적에서 측정한 거칠기 최고저치(Rpv)를 의미한다. In one example, a roughness maximum (Rpv) of an area of 5 µm x 5 µm in the second region may be in a range of 2 nm to 6 nm. The maximum roughness value (Rpv) of the area of 5µm x 5µm in the second area is the highest roughness measured in the area of 5µm x 5µm in the area that does not include the first area, that is, where the unevenness of the undercoat layer is not formed. It means low value (Rpv).

상기 범위 내의 거칠기 최고저치(Rpv)를 가지는 제 2 영역을 언더 코팅층에 포함시킴으로써, 배리어 필름 제작 공정 중 배리어층의 손상을 최소화할 수 있고, 생산성을 증대시킬 수 있다. 다른 예시에서, 제 2영역 내의 거칠기 최고저치(Rpv)는 상기 범위에서, 2.2 nm 이상, 또는 2.5 nm 이상일 수 있고, 5.5 nm 이하, 또는 5.0 nm 이하일 수 있다. By including the second region having the lowest roughness value (Rpv) within the above range in the undercoat layer, damage to the barrier layer during the manufacturing process of the barrier film can be minimized, and productivity can be increased. In another example, the lowest roughness value (Rpv) in the second region may be 2.2 nm or more, or 2.5 nm or more, and may be 5.5 nm or less, or 5.0 nm or less in the above range.

하나의 예시에서, 본 발명에 따른 언더 코팅층은, 평균 두께가 200nm 내지 1500nm 범위이고, 입자상 성분의 평균 입경은 250nm 내지 2500nm 범위일 수 있다. 또한, 상기 입자상 성분의 평균 입경은 언더 코팅층 평균 두께의 1.2배 내지 2배 범위일 수 있다. 언더 코팅층의 평균 두께와 입자상 성분의 입경을 상기 범위로 제어함으로써, 배리어 필름의 물성 저하 없이, 목적하는 정지 마찰 계수를 확보 및 스크래치 방지 효과를 거둘 수 있다.In one example, the undercoat layer according to the present invention may have an average thickness in the range of 200 nm to 1500 nm, and the average particle diameter of the particulate component may be in the range of 250 nm to 2500 nm. In addition, the average particle diameter of the particulate component may be in the range of 1.2 to 2 times the average thickness of the undercoat layer. By controlling the average thickness of the undercoat layer and the particle diameter of the particulate component within the above range, it is possible to secure a desired coefficient of static friction and obtain a scratch prevention effect without deteriorating the physical properties of the barrier film.

하나의 예시에서, 상기 언더 코팅층은 수지 및 상기 수지 내에 분산되어 있는 입자상 성분을 포함한다. In one example, the undercoat layer includes a resin and a particulate component dispersed in the resin.

하나의 예시에서, 상기 언더 코팅층에 포함되는 수지는 아크릴 수지일 수 있고, 상기 아크릴 수지는 (메타)아크릴레이트 단량체 및/또는 (메타)아크릴레이트 올리고머의 중합 단위를 포함할 수 있다. In one example, the resin included in the undercoat layer may be an acrylic resin, and the acrylic resin may include a polymerization unit of a (meth)acrylate monomer and/or a (meth)acrylate oligomer.

본 출원에서 (메타)아크릴레이트 단량체는, 예를 들면 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물 일 수 있다. 상기 용어 「다관능 (메타)아크릴레이트 화합물」 는 2개 이상의 중합성 관능기를 가지는 (메타)아크릴레이트 화합물을 의미할 수 있다.In the present application, the (meth)acrylate monomer may be, for example, a polyfunctional (meth)acrylate compound. The term "polyfunctional (meth)acrylate compound" may mean a (meth)acrylate compound having two or more polymerizable functional groups.

구체적인 예시에서, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부탄디올 (메타)아크릴레이트, 헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 에톡시화헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 아크릴레이트네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에폭시화네오펜딜글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트 또는 하이드록시피발산네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트 등의 2관능성 아크릴레이트 화합물일 수 있고, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스2-하이드록시에틸이소시아누레이트 트리(메타)아크릴레이트 또는 글리세린 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트 또는 디트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트 등의 3 관능의 아크릴레이트 화합물이나, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 지트리메치로르프로판 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 디트리메틸올프로판 헥사(메타)아크릴레이트 등의 3 관능 이상의 다관능 아크릴레이트 화합물 등일 수도 있다.In a specific example, the polyfunctional (meth)acrylate is ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, nonandi Oldy(meth)acrylate, ethoxylated hexanediol di(meth)acrylate, propoxylated hexanediol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, tri Propylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, acrylate neopentyl glycol di(meth)acrylate, epoxidized neopentyl glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth) Acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate or hydroxypival acid neo It may be a bifunctional acrylate compound such as pentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri( Meth)acrylate, tris2-hydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate or glycerin tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate Or a trifunctional acrylate compound such as ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di-methylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate, etc. It may also be a trifunctional or higher polyfunctional acrylate compound.

상기 (메타)아크릴레이트 올리고머는, 예를 들면 에폭시 (메타)아크릴레이트, 우레탄 (메타)아크릴레이트, 폴리 에스테르 (메타)아크릴레이트, 폴리부타디엔 (메타)아크릴레이트, 실리콘 (메타)아크릴레이트, 또는 알킬 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The (meth)acrylate oligomer is, for example, epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polybutadiene (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, or Alkyl (meth) acrylate may be exemplified, but is not limited thereto.

하나의 예시에서, 상기 입자상 성분은 무기입자, 유기입자, 또는 유-무기 입자일 수 있다. 상기 입자상 성분은 언더 코팅층을 형성하는 수지 내에 분산되어 있을 수 있다.In one example, the particulate component may be inorganic particles, organic particles, or organic-inorganic particles. The particulate component may be dispersed in a resin forming an undercoat layer.

상기 무기 입자는, 예를 들면, 실리카 입자, 티타늄 입자, 알루미늄 입자, 산화 안티몬 입자, 산화 아연 입자 및 지르코니아 입자로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 무기 입자의 굴절률 등을 특별히 제한하지는 않지만, 배리어 필름의 광 특성을 저해하지 않는 범위 내에서 소정의 굴절률 값을 가지는 무기 입자가 채택될 수 있다.The inorganic particles may be, for example, one or more selected from the group consisting of silica particles, titanium particles, aluminum particles, antimony oxide particles, zinc oxide particles, and zirconia particles, but are not limited thereto. Further, although the refractive index of the inorganic particles is not particularly limited, inorganic particles having a predetermined refractive index value may be adopted within a range that does not impair the optical properties of the barrier film.

상기 언더 코팅층에 포함되는 유기 입자는 폴리메타메타크릴레이트 입자 또는 폴리스티렌 입자 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 기술 분야에서 공지된 다양한 유기 입자를 사용할 수 있다.The organic particles included in the undercoat layer may be polymethacrylate particles or polystyrene particles, but are not limited thereto, and various organic particles known in the art may be used.

또한, 언더 코팅층에 포함될 수 있는 유-무기 입자는, 예를 들면 유기 실란 등으로 표면 개질된 무기 입자 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In addition, the organic-inorganic particles that may be included in the undercoat layer may include, for example, inorganic particles surface-modified with organic silane, etc., but are not limited thereto.

하나의 예시에서, 상기 언더 코팅층은, 아크릴 수지 100 중량부를 기준으로, 입자상 성분을 0.005 내지 2 중량부 범위로 포함할 수 있다. 또 다른 예시에서, 상기 범위 내에서, 입자상 성분을 0.01 이상, 0.02 이상, 또는 0.03 이상 포함할 수 있고, 1.7 이하, 1.4 이하, 또는 1.2 이하로 포함할 수 있다. 입자상 성분이 과량 투입되면, 제 1 영역이 차지하는 면적 분율이 커지게 되고, 이는 배리어층의 결함을 유발하게 된다. 반대로 입자상 성분이 지나치게 소량 투입되면, 가이드 롤과의 마찰계수가 증가하여 표면 스크래치 발생의 원인이 된다.In one example, the undercoat layer may include a particulate component in the range of 0.005 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic resin. In another example, within the above range, the particulate component may be 0.01 or more, 0.02 or more, or 0.03 or more, and 1.7 or less, 1.4 or less, or 1.2 or less. When an excessive amount of particulate components is added, the area fraction occupied by the first region increases, which causes defects in the barrier layer. Conversely, if an excessively small amount of particulate component is added, the coefficient of friction with the guide roll increases, causing surface scratches.

하나의 예시에서, 상기 입자상 성분은, 하기 수식 1을 만족하는 것일 수 있다.In one example, the particulate component may satisfy Equation 1 below.

[수식 1][Equation 1]

|A-B|≤≤0.1|A-B|≤≤0.1

상기 수식 1에서, A는 언더 코팅층의 633nm 파장의 광에 대한 굴절률이고, B는 입자상 성분의 633nm 파장의 광에 대한 굴절률이다.In Equation 1, A is a refractive index of the undercoat layer with respect to light having a wavelength of 633 nm, and B is a refractive index of the particulate component with respect to light having a wavelength of 633 nm.

즉, 입자상 성분은 언더 코팅층과 굴절률과 차이가 0.1의 범위 내에 있는 것일 수 있다. 이러한 굴절률 범위 내에서 투명성 등 배리어 필름에서 요구되는 물성을 달성할 수 있다.That is, the particulate component may have a refractive index and a difference of 0.1 between the undercoat layer. Within this refractive index range, properties required for the barrier film, such as transparency, can be achieved.

하나의 예시에서, 상기 언더 코팅층은 평균 입경 20 nm 내지 150nm 범위의 나노입자를 포함할 수 있다. 상기 나노입자는 아크릴 수지 100 중량부를 기준으로, 10 중량부 내지 60 중량부 범위로 포함할 수 있다.In one example, the undercoat layer may include nanoparticles having an average particle diameter of 20 nm to 150 nm. The nanoparticles may be included in the range of 10 parts by weight to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic resin.

상기 나노입자의 종류는 상기 언더 코팅층의 물성을 해치지 않는 것이라면 제한없이 포함될 수 있으며, 예를 들어, 실리카, 알루미나, 지르코니아, 인듐 주석 산화물(Indium tin oxide, ITO), 안티모니 주석 산화물(antimony tin oxide, ATO) 또는 이들의 혼합물 일 수 있다. 상기 언더 코팅층은 상기 나노 입자를 포함함으로써, 굴절률을 조절할 수 있고, 코팅성 개선을 개선시켜 경도를 향상시키며, 스크레치에 대한 내성을 향상시킬 수 있다. 또한, 각 층간의 접착력을 향상시킬 수 있다. The kind of the nanoparticles may be included without limitation as long as they do not damage the physical properties of the undercoat layer, for example, silica, alumina, zirconia, indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide. , ATO) or a mixture thereof. When the undercoat layer includes the nanoparticles, the refractive index can be adjusted, the coating properties can be improved to improve hardness, and scratch resistance can be improved. In addition, it is possible to improve the adhesion between each layer.

하나의 예시에서, 상기 언더 코팅층은 중합 개시제를 포함할 수 있다. 상기 중합 개시제는 아크릴 수지를 형성하기 위한 단량체 또는 올리고머를 중합하는 개시제로서, 예를 들면, 광 개시제일 수 있다.In one example, the undercoat layer may include a polymerization initiator. The polymerization initiator is an initiator for polymerizing a monomer or oligomer for forming an acrylic resin, and may be, for example, a photo initiator.

상기 광 개시제는, 예를 들면 자외선 등의 조사에 의해 라디칼을 생성하고, 경화 반응을 개시시킬 수 있는 것이라면, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다.The kind of the photoinitiator is not particularly limited as long as it can generate a radical by irradiation with ultraviolet rays or the like and initiate a curing reaction.

구체적인 광개시제로는, 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 n-부틸에테르, 벤조인 이소부틸에테르, 아세토페논, 디메틸아니노 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰포리노-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-2-(히드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논, p-페닐벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 디클로로벤조페논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-메틸티오잔톤(thioxanthone), 2-에틸티오잔톤, 2-클로로티오잔톤, 2,4-디메틸티오잔톤, 2,4-디에틸티오잔톤, 벤질디메틸케탈, 아세토페논 디메틸케탈, p-디메틸아미노 안식향산 에스테르, 올리고[2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논] 및 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 등이 예시 될 수 있으며, 상기 광 개시제는 1종 또는 2종 이상이 적절히 선택되어 소정의 비율로 포함될 수 있다.Specific photoinitiators include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylanino acetophenone, 2,2- Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2- Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-propan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-2-(hydroxy-2-propyl)ketone, benzo Phenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2 -Methyl thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamino Benzoic acid ester, oligo[2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone] and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, etc. In addition, one or two or more photoinitiators may be appropriately selected and included in a predetermined ratio.

상기 언더 코팅층은 필요에 따라 용매를 포함할 수 있다. 용매로써는 톨루엔, 크실렌, 사이클로헥산 또는 사이클로헥실 벤젠등의 방향족 탄화수소류; n-헥산 등의 탄화수소류; 디부틸 에테르, 디메톡시 메탄, 디메톡시 에탄, 디에톡시에탄, 프로필렌 옥사이드, 디옥산, 디옥소란, 트리옥산 또는 테트라하이드로퓨란 등의 에테르류; 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 부틸 케톤, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 디에틸 케톤, 지푸로 필 케톤, 디이소부틸 케톤, 사이클로펜타논, 사이클로헥사논, 메틸 사이클로헥사논 또는 메틸 사이클로헥사논 등의 케톤류; 포름산 에틸, 포름산 프로필, 포름산 n-펜틸초산메틸, 초산에틸, 프로피온산 메틸, 프로피온산 에틸, 초산 n-펜틸 또는 γ-프치로락톤등의 에스테르류; 메틸셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 부틸 셀로솔브 또는 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브류; 메탄올, 에탄올, n-프로필 알코올, 이소프로필 알코올 또는 에틸렌글리콜 등의 알코올류; 또는 물 등 중에서 코팅 공정의 방식 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.The undercoat layer may contain a solvent as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane or cyclohexyl benzene; hydrocarbons such as n-hexane; Ethers such as dibutyl ether, dimethoxy methane, dimethoxy ethane, diethoxy ethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, trioxane or tetrahydrofuran; Ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, zipurophil ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone or methyl cyclohexanone; Esters such as ethyl formate, propyl formate, n-pentyl methyl formate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-pentyl acetate or γ-phthyrolactone; Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, or cellosolve acetate; Alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, or ethylene glycol; Alternatively, it may be appropriately selected from water, etc. in consideration of the method of the coating process.

언더 코팅층은 본 출원의 효과에 영향을 미치지 않는 범위에서, 공지의 다양한 첨가제, 예를 들면 실란계 커플링제, 대전 방지제, 근적외선 흡수제, 경화제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 또는 가소제 등을 추가로 포함할 수 있다.The undercoat layer has various known additives, such as a silane coupling agent, an antistatic agent, a near-infrared absorber, a curing agent, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, a toning agent, a reinforcing agent, a filler, an antifoaming agent, It may further include a surfactant or a plasticizer.

상기 언더 코팅층은 전술한 성분들을 기재층 상에 코팅한 후, 열 또는 광 경화하여 형성된 것일 수 있다. 상기 언더 코팅층을 코팅하는 방식은 특별히 제한되는 것은 아니며, 공지의 코팅 방식, 예를 들면 바 코팅, 그라비아 코팅, 리버스 롤 코팅, 리버스 그라비아 코팅, 슬롯다이 코팅, 콤마 코팅, 스프레이 코팅, 나이프 코팅, 다이코팅, 딥 코팅, 마이크로 그라비아 코팅 또는 와이어 바코팅 등의 방식을 이용할 수 있다.The undercoat layer may be formed by coating the above-described components on a base layer, followed by heat or light curing. The method of coating the undercoat layer is not particularly limited, and known coating methods, such as bar coating, gravure coating, reverse roll coating, reverse gravure coating, slot die coating, comma coating, spray coating, knife coating, die Coating, dip coating, micro gravure coating, or wire bar coating may be used.

상기 기재층은, 예를 들면 금속 산화물 기재, 반도체 기재, 유리 기재 또는 고분자 기재 일 수 있다. 상기 기재층은 단층이어도 좋고 또는 2층 이상이어도 좋다.The substrate layer may be, for example, a metal oxide substrate, a semiconductor substrate, a glass substrate, or a polymer substrate. A single layer may be sufficient as the said base material layer, or two or more layers may be sufficient as it.

하나의 예시에서, 상기 기재층은 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르; 트리아세틸 셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부틸 셀룰로오스 또는 아세틸 셀룰로오스 등의 셀룰로오스, 6-나일론 또는 6,6-나일론 등의 폴리아미드; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 폴리머; 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트 또는 에틸렌비닐알코올 등의 유기 고분자로 형성된 것을 이용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 기재층은 상기 1종 또는 2종이상의 혼합물 또는 중합체로 형성된 것일 수도 있고, 복수의 층을 적층 시킨 구조의 것일 수도 있다.In one example, the base layer is a polyolefin such as polyethylene or polypropylene; Polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Cellulose such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyl cellulose or acetyl cellulose, and polyamides such as 6-nylon or 6,6-nylon; Acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; Polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, or an organic polymer such as ethylene vinyl alcohol may be used, but the present invention is not limited thereto. The base layer may be formed of one or more mixtures or polymers of the above, or may have a structure in which a plurality of layers are laminated.

또한, 상기 기재층에는 공지의 첨가제, 예컨대, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 가소제, 윤활제, 착색제, 산화방지제 또는 난연제 등이 포함되어 있을 수 있다.In addition, the base layer may contain known additives such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a plasticizer, a lubricant, a colorant, an antioxidant, or a flame retardant.

상기 기재층은 또한, 표면이 개질 된 것일 수 있다. 상기 표면 개질은, 예를 들면 화학적 처리, 코로나 방전 처리, 기계적 처리, 자외선(UV) 처리, 활성플라즈마 처리 또는 글로우 방전 처리 등의 처리방식을 채택할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, the base layer may have a modified surface. The surface modification may employ a treatment method such as chemical treatment, corona discharge treatment, mechanical treatment, ultraviolet (UV) treatment, active plasma treatment, or glow discharge treatment, but is not limited thereto.

상기 기재층의 두께는 배리어 필름 필름의 투명성, 박막화 및 가공 시에 장력에 의한 주름 등의 발생을 최소화 하기 위한 목적 등을 고려한 적절한 두께를 설정할 수 있고, 10㎛ 내지 80㎛, 또는 20㎛ 내지 50㎛인 것이 좋으나 이에 제한되는 것은 아니다.The thickness of the base layer may be set to an appropriate thickness in consideration of the purpose of minimizing the occurrence of wrinkles, etc. due to tension during thinning and processing of the barrier film film, and 10 µm to 80 µm, or 20 µm to 50 µm. It is preferable that it is ㎛, but is not limited thereto.

상기 기재층은, 예를 들면 550nm 파장의 광에 대한 굴절률이 1.0 내지 2.0의 범위 내에 있는 것일 수 있다. 이러한 범위 내에서 배리어 필름의 전체적인 투명성을 확보할 수 있고, 전자 장치에 적용될 수 있을 정도의 광 특성을 가질 수 있다.The base layer may have, for example, a refractive index of light having a wavelength of 550 nm in the range of 1.0 to 2.0. Within this range, the overall transparency of the barrier film may be ensured, and optical properties may be applied to an electronic device.

본 출원의 배리어 필름은 언더 코팅층 상에 형성되어 있는 배리어층을 포함한다. 상기 배리어층은 배리어 필름이 목적하는 배리어성을 확보할 수 있도록 하는 역할을 수행할 수 있다. 상기 배리어층의 소재 및 형성 방법은, 전술한 목적을 달성할 수 있도록 하는 범위 내에서 공지의 것이 제한 없이 이용될 수 있다.The barrier film of the present application includes a barrier layer formed on the undercoat layer. The barrier layer may play a role of securing a desired barrier property of the barrier film. Materials and methods of forming the barrier layer may be any known material within a range capable of achieving the above-described object without limitation.

하나의 예시에서, 배리어층은 주기율표 IVB, VB, VIB, IIIA, IIB, IVA, VA 및 VIA족의 산화물, 질화물, 황화물 및 이들의 조합으로부터 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 물질을 포함할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니며, 다이아몬드 카본, 또는 아모퍼스 카본 등의 탄소계 박막도 배리어층의 재료로 이용할 수 있다.In one example, the barrier layer may include any one material selected from the group consisting of oxides, nitrides, sulfides of groups IVB, VB, VIB, IIIA, IIB, IVA, VA and VIA of the periodic table, and combinations thereof. The present invention is not limited thereto, and a carbon-based thin film such as diamond carbon or amorphous carbon may also be used as a material for the barrier layer.

구체적인 예시에서, 배리어층은 SiO2, Al2O3, TiO2, ZnO, HfO2, HfON, AlN, 또는 Si3N4 등의 재료를 이용하여 형성할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In a specific example, the barrier layer may be formed using a material such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , ZnO, HfO 2 , HfON, AlN, or Si 3 N 4, but is not limited thereto.

또한, 상기 배리어층에는 산소 제거제 또는 습기 제거제 등의 공지의 첨가제가 더 포함될 수 있다. 이러한 배리어층은, 예를 들면 스퍼터링(sputtering), PLD(Pulsed Laser Deposition), 전자빔 증착(Electron beam evaporation), 열증착(thermal evaporation) 또는 L-MBE(Laser Molecular Beam Epitaxy) 등과 같은 PVD(physical Vapor Deposition) 방식; 또는 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE(Hydride Vapor Phase Epitaxy), ALD(Atomic Layer Decomposition), PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 또는 iCVD(initiated Chemical Vapor Deposition) 등의 CVD(Chemical Vapor Deposition) 등의 방식; 등을 이용하 여 형성할 수 있으나, 바람직하게는 ALD법을 이용하여 배리어층을 형성하는 것이 좋다.In addition, a known additive such as an oxygen remover or a moisture remover may be further included in the barrier layer. Such a barrier layer is, for example, sputtering (sputtering), PLD (pulsed laser deposition), electron beam evaporation (Electron beam evaporation), thermal evaporation (thermal evaporation) or L-MBE (Laser Molecular Beam Epitaxy) such as PVD (physical vapor epitaxy), etc. Deposition) method; Or CVD (Chemical Vapor Deposition) such as MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy), ALD (Atomic Layer Decomposition), PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) or iCVD (initiated Chemical Vapor Deposition), etc. Way of; Although it can be formed by using, etc., it is preferable to form the barrier layer using the ALD method.

상기 배리어층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 1 nm 내지 100 nm, 또는 5 nm 내지 70 nm 의 범위 내에 있을 수 있다.The thickness of the barrier layer is not particularly limited, but may be in the range of 1 nm to 100 nm, or 5 nm to 70 nm.

또한, 상기 배리어층의 수분 투과도는 1x10-2 g/m2/day 이하일 수 있다. 다른 예시에서, 상기 배리어층의 수분 투과도 1x10-3 g/m2/day 이하, 또는 1x10-4 g/m2/day 이하일 수 있다. 본 출원에 따른 배리어 필름은, 상기 배리어층을 포함함으로써 특히 수증기 및 산소 투과에 대한 우수한 차단 특성을 제공할 수 있다. In addition, the moisture permeability of the barrier layer may be 1x10 -2 g/m 2 /day or less. In another example, the moisture permeability of the barrier layer may be 1x10 -3 g/m 2 /day or less, or 1x10 -4 g/m 2 /day or less. The barrier film according to the present application may particularly provide excellent barrier properties against water vapor and oxygen transmission by including the barrier layer.

본 출원의 배리어 필름 내 배리어층은 그 하면에 형성되는 언더 코팅층이 낮은 정지 마찰 계수로 인하여, 배리어 필름의 제작 공정 중 배리어층의 손상을 최소화할 수 있다. 구체적으로, 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정을 이용하여 배리어 필름을 형성할 때, 배리어층이 형성된 배리어 필름은 가이드 롤 등에 의하여, 최외층에 위치하는 배리어층에 스크래치 등이 발생할 수 있으나, 본 출원의 배리어 필름은 소정의 표면 거칠기 및 정지 마찰 계수를 가지는 언더 코팅층을 형성한 후, 배리어층을 형성함으로써, 이러한 현상을 효과적으로 방지할 수 있고, 생산성을 증대시킬 수 있다.The barrier layer in the barrier film of the present application can minimize damage to the barrier layer during the manufacturing process of the barrier film due to the low static friction coefficient of the undercoat layer formed on the lower surface thereof. Specifically, when forming a barrier film using a roll-to-roll process, the barrier film on which the barrier layer is formed may cause scratches on the barrier layer located at the outermost layer by a guide roll or the like. However, in the barrier film of the present application, by forming an undercoat layer having a predetermined surface roughness and a static friction coefficient, and then forming a barrier layer, such a phenomenon can be effectively prevented and productivity can be increased.

본 출원의 배리어 필름은 또한, 배리어층 상에 보호 코팅층을 더 포함할 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 출원의 배리어 필름(1000)은 기재(100) 상에 순차적으로, 언더 코팅층(200), 배리어층(300) 및 보호 코팅층(400)을 포함하는 구조를 가질 수 있다.The barrier film of the present application may further include a protective coating layer on the barrier layer. That is, as shown in FIG. 3, the barrier film 1000 of the present application has a structure including the undercoat layer 200, the barrier layer 300, and the protective coating layer 400 sequentially on the substrate 100. I can have it.

이러한 보호 코팅층은, 예를 들면 언더 코팅층에 포함될 수 있는 무기 입자 및 바인더를 포함할 수 있다.Such a protective coating layer may include, for example, inorganic particles and a binder that may be included in the undercoat layer.

하나의 예시에서, 보호 코팅층에 포함되는 바인더는 라디칼 중합성 화합물 및/또는 양이온 중합성 화합물의 중합 단위를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 라디칼 중합성 화합물은, 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴산 메틸, 헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 페녹시 에틸아크릴레이트, 트릴옥시에틸아크릴레이트, 노닐페녹시에틸아크릴레이트, 테트라하이드로 푸르푸릴옥시에틸아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 사이클로헥실아크릴레이트, 디사이클로펜타닐아크릴레이트, 디사이클로펜테닐아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 카르비톨아크릴레이트, 또는 이소보닐아크릴레이트 등의 단관능성 라디칼 중합성 단량체; 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 디사이클로펜타닐디아크릴레이트, 부틸렌글리콜디아크릴레이트, 펜타리스리토르디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 프로피온옥사이드 변성트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 카프로락톤 변성디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 또는 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트 등의 다관능성 라디칼 중합성 단량체; 또는 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리올아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 올리고머 등이 예시될 수 있다.In one example, the binder included in the protective coating layer may include a polymerization unit of a radical polymerizable compound and/or a cationic polymerizable compound. Specifically, the radical polymerizable compound is acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl Acrylate, phenoxy ethyl acrylate, triloxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, cyclohexyl Monofunctional radical polymerizable monomers such as acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, glycidyl acrylate, carbitol acrylate, or isobornyl acrylate; 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dicyclopentanyl diacrylate, butylene glycol diacrylate, pentarisritordi Acrylate, trimethylolpropane triacrylate, propion oxide modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol Polyfunctional radical polymerizable monomers such as hexaacrylate or tetramethylolmethane tetraacrylate; Alternatively, radical polymerizable oligomers such as polyester acrylate, polyether acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, or polyol acrylate may be exemplified.

구체적으로, 양이온 중합성 화합물은 양이온 중합성 에폭시 화합물, 비닐 에테르 화합물, 옥세탄 화합물, 옥소란 화합물, 고리형 아세탈 화합물, 고리형 락톤 화합물, 티란 화합물, 티오비닐에테르 화합물, 스피로오소 에스테르 화합물, 에틸렌성 불포화 화합물, 고리형 에테르 화합물 또는 고리형 티오에테르 화합물 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니며, 바람직하게는 양이온 중합성의 에폭시 화합물 또는 옥세탄 화합물 등이 사용될 수 있다.Specifically, the cationic polymerizable compound is a cationic polymerizable epoxy compound, a vinyl ether compound, an oxetane compound, an oxorane compound, a cyclic acetal compound, a cyclic lactone compound, a tyrane compound, a thiovinyl ether compound, a spiroso ester compound, and ethylene. A sexually unsaturated compound, a cyclic ether compound, or a cyclic thioether compound may be exemplified, but is not limited thereto. Preferably, a cationic polymerizable epoxy compound or an oxetane compound may be used.

본 출원의 배리어 필름은 또한, 블로킹 방지층을 더 포함할 수 있다. 상기 블로킹 방지층은 예를 들면, 기재층의 언더 코팅층이 형성되어 있는 면의 반대 면에 형성되어 있을 수 있다.The barrier film of the present application may further include an anti-blocking layer. The blocking prevention layer may be formed, for example, on a surface opposite to the surface on which the undercoat layer of the base layer is formed.

구체적으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 출원의 배리어 필름(1000)은 기재층(100) 상에 순차적으로 언더 코팅층(200), 배리어층(300) 및 보호 코팅층(400)을 포함하고, 상기 기재층(100)의 언더 코팅층(200)이 형성되어 있는 면의 반대 면에 형성되어 있는 블로킹 방지층(500)을 포함하는 구조를 가질 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 4, the barrier film 1000 of the present application includes an under coating layer 200, a barrier layer 300 and a protective coating layer 400 sequentially on the base layer 100, The base layer 100 may have a structure including an anti-blocking layer 500 formed on a surface opposite to a surface on which the undercoat layer 200 is formed.

상기 블로킹 방지층은, 블로킹 저항성을 향상시키기 위한 층으로써, 상기 용어 「블로킹 저항성」은, 상기 언더 코팅층이 서로 달라붙으려는 현상을 방지하여, 필름의 취급성이나 권취성을 향상시키기 위한 특성을 의미한다.The anti-blocking layer is a layer for improving blocking resistance, and the term ``blocking resistance'' refers to a property for improving the handling and winding properties of the film by preventing the undercoat layer from sticking to each other. .

이러한 블로킹 방지층은, 예를 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트(naphthalate), 폴리카보네이트, 폴리에텔술 폰, 폴리아리레이트, 환상 올레핀 폴리머, 노르보르넨 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지 등을 포함하는 용액에 약 0.01~50질량%의 무기 입자, 유기 입자 또는 유-무기 입자를 첨가한 것을 기재층의 일면에 코팅함으로써, 형성될 수 있고, 또한 표면이 조면화 처리되어 있는 폴리에스테르 필름 등을 이용할 수 있다.Such an anti-blocking layer is a solution containing, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethersulfone, polyarirate, cyclic olefin polymer, norbornene resin, acrylic resin, epoxy resin, etc. It can be formed by coating on one surface of the substrate layer by adding about 0.01 to 50% by mass of inorganic particles, organic particles, or organic-inorganic particles to the substrate layer, and a polyester film having a roughened surface can be used. have.

블로킹 방지층은, 전술한 블로킹 방지 특성을 확보할 수 있는 범위내에서 소정의 표면 요철의 종횡비(aspect ratio)를 가질 수 있다.The anti-blocking layer may have a predetermined aspect ratio of surface irregularities within a range in which the above-described anti-blocking property can be secured.

하나의 예시에서, 블로킹 방지층은 310 ㎛ x 232㎛의 범위 내에서 측정한 표면 요철의 종횡비(aspect ratio)가 10 내지 700 또는 20 내지 500의 범위 내에 있을 수 있다. 이러한 범위 내에서, 전술한 권취 특성 및 필름의 취급성을 향상시킬 수 있다.In one example, the anti-blocking layer may have an aspect ratio of surface irregularities measured in a range of 310 µm x 232 µm in a range of 10 to 700 or 20 to 500. Within this range, it is possible to improve the above-described winding properties and handling properties of the film.

본 출원에 대한 또 다른 일례에서, 본 출원은 배리어 필름을 포함하는 전자 장치에 대한 것이다. 상기 전자 장치는 예를 들면, LCD 또는 OLED 등의 디스 플레이 장치나 태양 전지 등의 태양광 발전 소자 등과 같이 수분에 의해 열화되기 쉬운 제품 등일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 기타 전자 장치의 구조나 추가적으로 포함될 수 있는 구성 등은 전자 장치의 종류에 따라 공지이며, 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 사람은 이를 제한 없이 채용할 수 있다.In yet another example of the present application, the present application relates to an electronic device including a barrier film. The electronic device may be, for example, a display device such as an LCD or OLED or a product that is susceptible to deterioration by moisture, such as a photovoltaic device such as a solar cell, but is not limited thereto. Structures of other electronic devices or configurations that may be additionally included are known according to the type of electronic device, and those of ordinary skill in the art may employ them without limitation.

구체적인 예시에서, 전술한 배리어 필름의 최외층에, 도전성 전극층을 설치함으로써, 투명 도전성 전극기재로서 액정이나 유기·무기의 전계발광소자, 전기변색을 이용한 소자 등의 표시 소자, 액정 백라이트나 조명에 적합한 면상 발광체, 태양전지, 광전 변환 소자, 전기루미네선스광을 이용한 광 디바이스 등의 각종 용도에 적합하게 이용될 수 있다. 도전성 금속 산화물 전극은 기존의 인듐산화물, 주석 산화물, 산화 아연, 산화티탄, 및 이들의 혼합물을 이용해 형성할 수 있다.In a specific example, by providing a conductive electrode layer on the outermost layer of the above-described barrier film, it is suitable for display elements such as liquid crystals, organic/inorganic electroluminescent elements, elements using electrochromic as a transparent conductive electrode substrate, and liquid crystal backlights or lighting. It can be suitably used for various uses, such as an area light-emitting body, a solar cell, a photoelectric conversion element, and an optical device using electroluminescence light. The conductive metal oxide electrode can be formed using conventional indium oxide, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, and mixtures thereof.

본 출원에 따르면 제조 공정 시 발생할 수 있는 스크래치 발생 등의 문제를 방지하여, 가스 배리어성이 우수하고, 생산성이 뛰어난 배리어 필름을 제공할 수 있다.According to the present application, it is possible to provide a barrier film having excellent gas barrier properties and excellent productivity by preventing problems such as scratches that may occur during the manufacturing process.

본 출원은 또한, 이러한 배리어 필름을 포함하는 전자 장치를 제공할 수 있다.The present application may also provide an electronic device including such a barrier film.

도 1, 3 및 4은 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배리어 필름의 일 구조를 도식화 한 것이다.
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배리어 필름의 단면 구조를 도식화한 것이다.
1, 3, and 4 respectively schematically illustrate a structure of a barrier film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram of a cross-sectional structure of a barrier film according to an embodiment of the present invention.

이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in detail through examples. However, the scope of protection of the present application is not limited by the examples described below.

배리어 필름의 물성은 하기 방식에 의해 측정하였다.The physical properties of the barrier film were measured by the following method.

1. One. 언더Under 코팅층의 정지 마찰 계수 측정 Measurement of the coefficient of static friction of the coating layer

실시예 및 비교예에 따라 제조된 언더 코팅층의 정지 마찰 계수를 ASTMD1894 시험법으로 측정하여 구하였다. 측정 조건은 200g의 무게 추를 가지고 SUS plate 상에서 실시하였다. The coefficient of static friction of the undercoat layer prepared according to Examples and Comparative Examples was determined by measuring the ASTMD1894 test method. Measurement conditions were carried out on a SUS plate with a weight of 200 g.

2. 2. 제 1No. 1 영역이 포함된 Area included 310 ㎛310 μm X X 232 ㎛232 μm 면적의 중심선 표면 거칠기(Ra), 거칠기 최고저치(Rpv) 측정 Area center line surface roughness (Ra), roughness peak (Rpv) measurement

Optical profiler (Nano view E1000, Nanosystem, Korea)장비를 활용하여, 요철이 형성된 제 1 영역이 포함된 310 ㎛ X 232 ㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra), 거칠기 최고저치(Rpv)를 측정하였다.Using an optical profiler (Nano view E1000, Nanosystem, Korea), the average roughness of the center line (Ra) and the maximum roughness (Rpv) of an area of 310 µm X 232 µm including the first area where the unevenness was formed were measured.

3. 3. 제 2Second 영역 내 Within the area 5 ㎛5 μm X X 5 ㎛5 μm 면적의 중심선 표면 거칠기(Ra) 및 거칠기 Area centerline surface roughness (Ra) and roughness 최고저치(Rpv)의Of the highest value (Rpv) 측정 Measure

요철이 없는 제 2 영역 내에서 5 ㎛ X 5 ㎛ 면적에 대하여 중심선 표면 거칠기(Ra) 및 거칠기 최고저치(Rpv)의 측정의 표면 거칠기를 측정하였다. The surface roughness of the center line surface roughness (Ra) and the highest-low roughness value (Rpv) were measured for an area of 5 µm x 5 µm in the second region without irregularities.

구체적으로, AFM(Atomic Force Microscopy)를 이용하였으며, 시료 표면을 일정한 속도로 두드리는 탭핑 모드를 통하여, 5 ㎛ X 5 ㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra) 및 거칠기 최고저치(Rpv)를 측정 하였다. Specifically, AFM (Atomic Force Microscopy) was used, and the centerline average roughness (Ra) and the highest roughness value (Rpv) of an area of 5 µm X 5 µm were measured through a tapping mode in which the sample surface was tapped at a constant speed.

4. 4. 배리어Barrier 필름의 수분 투과도 측정 Measurement of moisture permeability of film

실시예 및 비교예에 따라 제조한 배리어 필름들의 수분 투과도는 30℃ 및 100% 상대 습도 하에서, AQUATRAN 1(Mocon 사)을 이용하여 평가하였다.The moisture permeability of the barrier films prepared according to Examples and Comparative Examples was evaluated using AQUATRAN 1 (Mocon) under 30° C. and 100% relative humidity.

5. 5. 언더Under 코팅층의 두께 측정 및 Measuring the thickness of the coating layer and 배리어층의Barrier layer 스크래치scratch 확인 Confirm

기재층 형성된 언더 코팅층의 두께 및 배리어층의 스크래치 유무는 전자주사현미경 (히타치사 S4800)으로 관찰하여 측정하였다.The thickness of the undercoat layer formed on the base layer and the presence or absence of scratches on the barrier layer were measured by observing with an electron scanning microscope (Hitachi S4800).

실시예Example 1 One

COP 기재 필름(두께 50㎛, 굴절률 1.53)상에 아크릴 수지 100 중량부, 실리카 나노입자 30 중량부, 요철을 형성하는 입자상 성분으로서 PMMA-PS 유기입자(평균 입경: 1.5μm) 0.05 중량부를 포함하는 조성물을 코팅 및 경화하여, 두께 약 1.0μm 인 언더 코팅층을 형성하였다. COP base film (thickness 50㎛, refractive index 1.53) acrylic resin 100 parts by weight, silica nanoparticles 30 parts by weight, PMMA-PS organic particles (average particle diameter: 1.5μm) as a particulate component forming irregularities 0.05 parts by weight The composition was coated and cured to form an undercoat layer having a thickness of about 1.0 μm.

상기 언더 코팅층 위에 두께 약 20nm의 아연 주석 산화물을 스퍼터링 방식으로 증착하여, 배리어층을 형성하여, 기재층/언더 코팅층/배리어층의 구조를 포함하는 배리어 필름을 제조 하였다. Zinc tin oxide having a thickness of about 20 nm was deposited on the undercoat layer by a sputtering method to form a barrier layer, thereby preparing a barrier film including a structure of a base layer/undercoat layer/barrier layer.

상기 제조된 배리어 필름에 대하여 상기 방식으로 물성을 측정하였고, 그 결과는 표 1에 나타낸 바와 같다.Physical properties were measured in the above manner for the prepared barrier film, and the results are as shown in Table 1.

실시예Example 2 내지 6 및 2 to 6 and 비교예Comparative example 1 내지 3 1 to 3

언더 코팅층 형성 시, 코팅 두께, 요철을 형성하는 입자상 성분의 입경과 함량을 표 1 및 표 2에 나타난 바와 같이 달리한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 배리어 필름을 제조하였다. When forming the undercoat layer, a barrier film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating thickness and the particle diameter and content of the particulate component forming irregularities were different as shown in Tables 1 and 2.

상기 제조된 배리어 필름에 대하여 상기 방식으로 물성을 측정하였고, 그 결과는 표 1 및 표 2에 나타낸 바와 같다.Physical properties were measured in the above manner for the prepared barrier film, and the results are as shown in Tables 1 and 2.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 코팅 두께Coating thickness 1000nm1000nm 1000nm1000nm 800nm800nm 500nm500nm 500nm500nm 200nm200nm 입자의 입경Particle diameter 1500nm1500nm 1500nm1500nm 1500nm1500nm 800nm800nm 800nm800nm 300nm300nm 입자의 함량(중량부)Particle content (parts by weight) 0.050.05 0.50.5 0.050.05 0.50.5 0.050.05 0.80.8 Ra(nm, OP)Ra(nm, OP) 2525 3535 3838 3030 4040 1515 Rpv(nm, OP)Rpv(nm, OP) 450450 550550 600600 280280 290290 210210 Ra(nm, AFM)Ra(nm, AFM) 0.30.3 0.30.3 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.30.3 Rpv(nm, AFM)Rpv(nm, AFM) 44 44 44 44 44 44 정지 마찰 계수Static friction coefficient 0.300.30 0.250.25 0.270.27 0.310.31 0.350.35 0.350.35 스크래치 유무Presence or absence of scratches radish radish radish radish radish radish 수분 투과도(g/m2/day)Water permeability (g/m 2 /day) 4 x 10-3 4 x 10 -3 6.0 x 10-3 6.0 x 10 -3 4.0 x 10-3 4.0 x 10 -3 6 x 10-3 6 x 10 -3 6 x 10-3 6 x 10 -3 7 x 10-3 7 x 10 -3

구분division 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 코팅 두께Coating thickness 500nm500nm 1000nm1000nm 500nm500nm 입자의 입경Particle diameter -- 800nm800nm 800nm800nm 입자의 함량(중량부)Particle content (parts by weight) 00 0.050.05 55 Ra(nm)Ra(nm) 33 88 6060 Rpv(nm)Rpv(nm) 2626 4545 11001100 Ra(nm)Ra(nm) 0.30.3 0.30.3 0.50.5 Rpv(nm)Rpv(nm) 44 44 88 정지 마찰 계수Static friction coefficient 0.5 이상0.5 or more 0.50 이상0.50 or more 0.250.25 스크래치 유무Presence or absence of scratches U U radish 수분 투과도(g/m2/day)Water permeability (g/m 2 /day) 1 x10-1 1 x10 -1 1 x10-1 1 x10 -1 7 x 10-2 7 x 10 -2

표 1 및 2를 참조하면, 실시예 1 내지 5의 배리어 필름은, 입자상 성분의 직경과 함량을 적정 범위에서 제어함으로써, 스크래치 발생을 방지하고, 낮은 수분 투과도를 구현하여 우수한 차단 특성을 제공할 수 있음을 확인하였다. Referring to Tables 1 and 2, the barrier films of Examples 1 to 5 can provide excellent barrier properties by controlling the diameter and content of particulate components in an appropriate range to prevent scratches and implement low moisture permeability. Confirmed that there is.

표 2의 비교예를 참조하면, 비교예 1은 입자상 성분을 첨가하지 않은 기존의 배리어 필름에 대응되며, 이는 스크래치가 발생됨을 알 수 있다. 또한, 배리어 필름에 발생된 스크래치로 인해 스크래치가 발생한 부분과 발생하지 않은 부분의 수분 투과도가 서로 큰 차이를 보였다. 즉, 비교예 1에 따른 배리어 필름은 균일성이 저하되어 제품으로써의 가치가 없음을 확인하였다.Referring to the comparative example of Table 2, Comparative Example 1 corresponds to the existing barrier film to which the particulate component was not added, and it can be seen that scratches are generated. In addition, the moisture permeability of the scratched portion and the non-scratched portion due to the scratch generated on the barrier film showed a large difference. That is, it was confirmed that the barrier film according to Comparative Example 1 had low uniformity and thus had no value as a product.

비교예 2는 코팅 두께에 비해 입자상 성분의 직경이 작은 경우이며, 이 경우에는 배리어 필름에 스크래치가 발생하고, 스크래치가 발생된 부위와 그렇지 않은 부위 간의 수분 투과도가 상이하게 나타남을 확인하였다. 또한, 비교예 3 은 입자상 성분의 함량이 지나치게 높은 경우이며, 이 경우에는 스크래치는 발생되지 않으나, 수분 투과도가 급격히 증가함을 알 수 있다.In Comparative Example 2, the diameter of the particulate component was small compared to the coating thickness, and in this case, it was confirmed that scratches occurred in the barrier film, and the moisture permeability between the scratched portion and the non-scratched portion was different. In addition, Comparative Example 3 is a case where the content of the particulate component is too high, and in this case, scratches do not occur, but it can be seen that the moisture permeability increases rapidly.

1000 : 배리어 필름
100, 101 : 기재층
200, 201 : 언더 코팅층
211 : 입자상 성분
300, 301 : 배리어층
400 : 보호 코팅층
500 : 블로킹 방지층
1000: barrier film
100, 101: base layer
200, 201: undercoat layer
211: particulate component
300, 301: barrier layer
400: protective coating layer
500: anti-blocking layer

Claims (19)

기재층;
상기 기재층 상에 형성되고, 수직 하중 200g에서 스테인레스 스틸 기판에 대한 정지 마찰 계수가 0.5 이하인 언더 코팅층; 및
상기 언더 코팅층 상에 형성되어 있는 배리어층;을 포함하며,
상기 언더 코팅층은 수지 및 상기 수지 내에 분산되어 있는 입자상 성분을 포함하며, 입자상 성분은 수지 100 중량부에 대해 0.005 내지 2 중량부로 포함되고,
수분투과도가 1x10-2 g/m2/day 이하인 배리어 필름.
Base layer;
An undercoat layer formed on the base layer and having a static friction coefficient of 0.5 or less with respect to the stainless steel substrate under a vertical load of 200 g; And
Includes; a barrier layer formed on the under coating layer,
The undercoat layer includes a resin and a particulate component dispersed in the resin, and the particulate component is included in an amount of 0.005 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin,
A barrier film with a moisture permeability of 1x10 -2 g/m 2 /day or less.
제1항에 있어서,
언더 코팅층은 중심선 표면 거칠기(Ra) 또는 거칠기 최고저치(Rpv) 값이 상이한 제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 배리어 필름.
The method of claim 1,
The undercoat layer is a barrier film including a first region and a second region having different centerline surface roughness (Ra) or roughness maximum (Rpv) values.
제 2항에 있어서,
제 2 영역은 제 1 영역에 내부에 존재하거나, 또는 제 1 영역 이외의 영역에 존재하는 배리어 필름.
The method of claim 2,
The second region is a barrier film that is present inside the first region or in a region other than the first region.
제 2항에 있어서,
언더 코팅층은 내부에 평균 입경이 언더 코팅층 평균 두께의 1.2배 내지 2배인 입자상 성분을 함유하고 있으며,
제 1 영역은 상기 입자상 성분에 의해 요철이 형성된 영역이고,
제 2 영역은 상기 입자상 성분에 의한 요철이 형성되지 않은 영역이고,
제 1 영역과 제 2 영역을 합산한 전체 단위 면적당 제 1 영역이 차지하는 면적 범위는 5% 이하인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
The method of claim 2,
The undercoat layer contains a particulate component having an average particle diameter of 1.2 to 2 times the average thickness of the undercoat layer inside,
The first region is a region in which irregularities are formed by the particulate component,
The second region is a region in which unevenness due to the particulate component is not formed,
A barrier film, wherein an area range occupied by the first area per total unit area obtained by adding the first area and the second area is 5% or less.
제 4항에 있어서,
제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)가 평균 4 nm 내지 50nm 의 범위인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
The method of claim 4,
Barrier film, characterized in that the centerline average roughness (Ra) of an area of 310 µm x 232 µm including the first region is in the range of 4 nm to 50 nm on average.
제4항에 있어서,
제 1 영역이 포함된 310 ㎛ x 232㎛ 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)가 50 nm 내지 1000 nm 의 범위인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
The method of claim 4,
Barrier film, characterized in that the maximum roughness (Rpv) of an area of 310 µm x 232 µm including the first region is in a range of 50 nm to 1000 nm.
제 4 항에 있어서,
제 1 영역에 형성된 요철의 종횡비(aspect ratio)는 평균 100 내지 4,000의 범위인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
The method of claim 4,
The barrier film, characterized in that the aspect ratio of the irregularities formed in the first region is in the range of 100 to 4,000 on average.
제 4 항에 있어서,
제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra)가 0.2 nm 내지 0.5 nm의 범위 내에 있는 배리어 필름.
The method of claim 4,
A barrier film having a centerline average roughness (Ra) of 5 µm x 5 µm in the second region in the range of 0.2 nm to 0.5 nm.
제 4 항에 있어서,
제 2 영역 내의 5㎛ x 5㎛ 면적의 거칠기 최고저치(Rpv)가 2 nm 내지 6 nm 의 범위 내에 있는 배리어 필름.
The method of claim 4,
A barrier film having a maximum roughness value (Rpv) of 5 µm x 5 µm in the second region in the range of 2 nm to 6 nm.
제 1 항에 있어서,
상기 입자상 성분은 무기 입자, 유기 입자 또는 유-무기 입자인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
The method of claim 1,
The particulate component is a barrier film, characterized in that the inorganic particles, organic particles, or organic-inorganic particles.
제 1 항에 있어서,
상기 언더 코팅층에 포함되는 수지는 아크릴 수지이고,
상기 아크릴 수지는 (메타)아크릴레이트 단량체 및/또는 (메타)아크릴레이트 올리고머의 중합 단위를 포함하는 배리어 필름.
The method of claim 1,
The resin included in the undercoat layer is an acrylic resin,
The acrylic resin is a barrier film comprising a polymerized unit of a (meth) acrylate monomer and/or (meth) acrylate oligomer.
제 4 항에 있어서,
언더 코팅층은,
평균 두께가 200nm 내지 1500nm 범위이고,
입자상 성분의 평균 입경은 250nm 내지 2500nm 범위인 것을 특징으로 하는 배리어 필름.
The method of claim 4,
The undercoat layer,
The average thickness is in the range of 200 nm to 1500 nm,
Barrier film, characterized in that the average particle diameter of the particulate component is in the range of 250nm to 2500nm.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
입자상 성분은 하기 수식 1을 만족하는 배리어 필름:
[수식 1]
|A-B|≤≤0.1
상기 수식 1에서, A는 언더 코팅층의 633nm 파장의 광에 대한 굴절률이고, B는 입자상 성분의 633nm 파장의 광에 대한 굴절률이다.
The method of claim 1,
The particulate component is a barrier film that satisfies the following Formula 1:
[Equation 1]
|AB|≤≤0.1
In Equation 1, A is a refractive index of the undercoat layer with respect to light having a wavelength of 633 nm, and B is a refractive index of the particulate component with respect to light having a wavelength of 633 nm.
제1항에 있어서,
상기 배리어층은 주기율표 IVB, VB, VIB, IIIA, IIB, IVA, VA 및 VIA족의 산화물, 질화물, 황화물 및 이들의 조합으로부터 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 물질을 포함하는 배리어 필름.
The method of claim 1,
The barrier layer is a barrier film comprising any one material selected from the group consisting of oxides, nitrides, sulfides, and combinations of groups IVB, VB, VIB, IIIA, IIB, IVA, VA and VIA of the periodic table.
제 1 항에 있어서,
배리어층 상에 보호 코팅층을 더 포함하는 배리어 필름.
The method of claim 1,
A barrier film further comprising a protective coating layer on the barrier layer.
제 16 항에 있어서,
기재층의 언더 코팅층이 형성되어 있는 면의 반대 면에 형성되는 블로킹 방지층을 더 포함하는 배리어 필름.
The method of claim 16,
A barrier film further comprising an anti-blocking layer formed on a surface opposite to the surface of the base layer on which the undercoat layer is formed.
제 17 항에 있어서,
블로킹 방지층은 310 ㎛ x 232㎛의 면적 내에서 측정한 표면 요철의 종횡비(aspect ratio)가 10 내지 700의 범위 내에 있는 배리어 필름.
The method of claim 17,
The anti-blocking layer is a barrier film having an aspect ratio of surface irregularities measured within an area of 310 µm x 232 µm in a range of 10 to 700.
제 1 항 내지 제 12 항 및 제 14 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 배리어 필름을 포함하는 전자 장치.

An electronic device comprising the barrier film according to any one of claims 1 to 12 and 14 to 18.

KR1020170104688A 2017-08-18 2017-08-18 barrier film KR102258294B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170104688A KR102258294B1 (en) 2017-08-18 2017-08-18 barrier film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170104688A KR102258294B1 (en) 2017-08-18 2017-08-18 barrier film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190019568A KR20190019568A (en) 2019-02-27
KR102258294B1 true KR102258294B1 (en) 2021-05-31

Family

ID=65561310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170104688A KR102258294B1 (en) 2017-08-18 2017-08-18 barrier film

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102258294B1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004098624A (en) * 2002-09-12 2004-04-02 Sumitomo Light Metal Ind Ltd Precoat aluminum alloy sheet having excellent flaw resistance
JP2015157411A (en) 2014-02-24 2015-09-03 大日本印刷株式会社 Gas barrier film and production method of the same
WO2017130617A1 (en) * 2016-01-25 2017-08-03 東レフィルム加工株式会社 Gas barrier film

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10323928A (en) * 1997-03-27 1998-12-08 Toray Ind Inc Gas barrier film and packaging material

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004098624A (en) * 2002-09-12 2004-04-02 Sumitomo Light Metal Ind Ltd Precoat aluminum alloy sheet having excellent flaw resistance
JP2015157411A (en) 2014-02-24 2015-09-03 大日本印刷株式会社 Gas barrier film and production method of the same
WO2017130617A1 (en) * 2016-01-25 2017-08-03 東レフィルム加工株式会社 Gas barrier film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190019568A (en) 2019-02-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101686644B1 (en) Plastic film laminate
KR20170113451A (en) Gas barrier film
KR101959474B1 (en) Organic-inorganic hybrid hard coating film and polarizing plate using the same
JP2013071380A (en) Transparent conductive film and touch panel
TW201441037A (en) Transparent laminated film, transparent conductive film and gas-barrier laminated film
JP2014000806A (en) Hard coating film, and polarizing plate and image display device comprising the same
US20130136936A1 (en) Gas barrier base material and gas barrier laminate
KR20180003143A (en) The barrier film and manufacturing method thereof
KR20170091396A (en) Transparent barrier film
KR101335268B1 (en) A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof
KR102258294B1 (en) barrier film
KR101793776B1 (en) The forming method of iCVD layer
TW201807109A (en) Hard coating composition, and hard coating film, window film and display device comprising the same
KR20110060037A (en) Coating composition for low refractive layer, anti-reflection film using the same and image displaying device comprising said anti-reflection film
EP3786219A1 (en) Barrier film
KR101989916B1 (en) An index matching film
KR20170044964A (en) Composition for forming hard coating and optical film using the same
TWI814157B (en) Optical laminate, article
KR102366703B1 (en) Transparent conductive film comprising polycarbonate substrate
JP5729080B2 (en) Method for producing transparent conductive film and touch panel
JP4273571B2 (en) Functional film and method for producing the same
JP7213323B2 (en) optical laminate, article
KR102232647B1 (en) Transparent conductive film and touch panel using the same
KR20080009532A (en) An anti-reflection plastic transparent sheet and a method of preparing the same
KR102118368B1 (en) The compositions using conductive film

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant