KR102244018B1 - 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

표시 장치는 복수의 화소 영역을 포함하는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 외곽의 비표시 영역을 포함하는 표시 기판, 및 상기 비표시 영역에 배치되고, 상기 표시 기판의 내측으로 오픈되어 있는 덮개층을 포함하는 배향액 수용 구조물을 포함하고, 상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 영역에 도포되는 배향액을 수용한다.

Description

표시 장치 및 그 제조 방법{DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 내로우 베젤(narrow bezel)의 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD), 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display) 등의 표시 장치가 널리 사용되고 있다. 이러한 표시 장치는 복수의 화소에 연결되어 있는 복수의 게이트 라인 및 복수의 데이터 라인을 포함한다. 복수의 화소는 게이트 라인과 데이터 라인의 교차점에 형성된다. 복수의 게이트 라인에 게이트 온 전압의 게이트 신호가 순차적으로 인가될 때, 게이트 온 전압의 게이트 신호에 대응하여 복수의 데이터 라인에 데이터 신호가 인가되어 복수의 화소에 영상 데이터가 기입된다.
액정 표시 장치는 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어지고, 전극에 전압을 인가하여 전계를 형성함으로써 액정층의 액정 분자들을 재배열시키고, 이를 통해 빛의 투과율을 조절하여 화상을 표시하는 장치이다. 액정 분자들을 소정의 방향으로 배향하기 위하여 배향막이 사용된다. 폴리이미드(polyimide) 등의 배향액을 표시판에 도포한 후 열처리 및 러빙 처리를 하여 배향막이 형성될 수 있다.
최근, 베젤의 면적을 최소화한 내로우 베젤(narrow bezel)의 표시 장치가 만들어지고 있다. 예를 들어, 0.5mm 정도의 매우 좁은 베젤을 가진 표시 장치가 개발되고 있다.
베젤의 폭이 좁아지는 경우, 배향액을 표시판에 도포할 때 배향액이 베젤에 흘러드는 경우가 쉽게 발생할 수 있다. 이러한 경우, 두 장의 표시판을 밀봉 및 접합하기 위해 베젤에 형성되는 밀봉 부재의 접착력이 저하될 수 있으며, 밀봉 부재가 떨어지거나 배향액이 누수되어 테두리 얼룩이 발생할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 내로우 베젤의 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 복수의 화소 영역을 포함하는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 외곽의 비표시 영역을 포함하는 표시 기판, 및 상기 비표시 영역에 배치되고, 상기 표시 기판의 내측으로 오픈되어 있는 덮개층을 포함하는 배향액 수용 구조물을 포함하고, 상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 영역에 도포되는 배향액을 수용한다.
상기 배향액 수용 구조물은, 상기 표시 기판 위에 배치되어 있는 제1 절연층, 및 상기 표시 기판과 공간을 사이에 두고 이격되어 있는 제2 절연층을 포함할 수 있다.
상기 제2 절연층은 상기 표시 영역의 방향을 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구를 형성할 수 있다.
상기 표시 기판과 마주하는 대향 기판을 더 포함하고, 상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 기판 위에 배치되어 있는 제1 배향액 수용 구조물 및 상기 대향 기판 위에 배치되어 있는 제2 배향액 수용 구조물을 포함할 수 있다.
상기 제1 배향액 수용 구조물과 상기 제2 배향액 수용 구조물 사이에 배치되는 밀봉 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 배향액 수용 구조물 및 상기 제2 배향액 수용 구조물 중 적어도 어느 하나는 복수개로 마련되어 상기 비표시 영역을 따라 일렬로 배치될 수 있다.
상기 표시 기판과 마주하는 대향 기판을 더 포함하고, 상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 기판 및 상기 대향 기판 중 어느 하나의 위에 배치되어 있을 수 있다.
상기 표시 기판 및 상기 대향 기판 중에서 다른 하나의 위에서 상기 배향액 수용 구조물과 마주하여 배치되지 배향액 차단 댐을 더 포함할 수 있다.
상기 배향액 차단 댐은 상기 비표시 영역을 따라 연장될 수 있다.
상기 배향액 수용 구조물과 상기 배향액 차단 댐 사이에 배치되는 밀봉 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 배향액 수용 구조물은 복수개로 마련되어 상기 비표시 영역을 따라 복수의 열로 배치될 수 있다.
상기 배향액 수용 구조물은, 최외곽에 위치하는 제1 배향액 수용 구조물, 및 상기 최외곽에 위치하지 않는 제2 배향액 수용 구조물을 포함할 수 있다.
상기 제1 배향액 수용 구조물은 상기 표시 영역의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구를 가지는 공간 구조로 형성되어 있을 수 있다.
상기 제2 배향액 수용 구조물은 상기 표시 영역의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구 및 상기 제1 배향액 수용 구조물의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 출구를 가지는 공간 구조로 형성되어 있을 수 있다.
상기 배향액 수용 구조물은 상기 덮개층을 지지하는 적어도 하나의 지지부를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 복수의 화소를 포함하는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 외곽의 비표시 영역을 포함하는 표시 기판에서 상기 비표시 영역에 희생층을 형성하는 단계, 상기 희생층 위에 덮개층을 형성하는 단계, 상기 희생층의 일부가 노출되도록 상기 덮개층에 배향액 수용 입구를 형성하는 단계, 및 상기 희생층을 제거하여 상기 표시 기판과 상기 덮개층 사이에 공간을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 희생층이 형성되기 이전에 상기 표시 기판 위에 바닥층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 덮개층 위에 상기 배향액 수용 입구를 형성하기 위한 감광막 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 감광막 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정으로 상기 덮개층의 일부를 제거하여 상기 배향액 수용 입구를 형성할 수 있다.
상기 희생층은 상기 덮개층을 지지하는 지지부를 형성하기 위한 홀을 포함할수 있다.
내로우 베젤의 표시 장치에서 밀봉 부재의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 내로우 베젤의 표시 장치의 밀봉 및 접합 불량에 따른 테두리 얼룩 등의 문제를 해결할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 나타내는 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 표시 영역과 비표시 영역을 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 2의 III-III 선에 따라 자른 단면도이다.
도 4 내지 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 배향액 수용 구조물을 도시한 단면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치를 나타내는 단면도이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 표시 영역과 비표시 영역을 나타내는 평면도이다.
도 13은 도 12의 XIII-XIII 선을 따라 자른 단면도이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 배향액 수용 구조물을 도시한 평면도이다.
도 15는 도 14의 XV-XV 선을 따라 자른 단면도이다.
도 16은 도 14의 XVI-XVI 선을 따라 자른 단면도이다.
도 17 내지 21은 도 14의 배향액 수용 구조물의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1 실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체에서, 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 그리고, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 나타내는 블록도이다.
도 1을 참조하면, 표시 장치는 신호 제어부(1100), 게이트 구동부(1200), 데이터 구동부(1300), 계조 전압 생성부(1400) 및 액정 표시판 조립체(liquid crystal panel assembly)(1500)를 포함한다.
액정 표시판 조립체(1500)는 복수의 게이트선(S1~Sn), 복수의 데이터선(D1~Dm) 및 복수의 화소(PX)를 포함한다. 복수의 화소(PX)는 복수의 게이트선(S1~Sn) 및 복수의 데이터선(D1~Dm)에 연결되어 대략 행렬의 형태로 배열된다. 복수의 게이트선(S1~Sn)은 대략 행 방향으로 연장되어 서로가 거의 평행하다. 복수의 데이터선(D1~Dm)은 대략 열 방향으로 연장되어 서로가 거의 평행하다. 여기서는 복수의 화소(PX)에 복수의 게이트선(S1~Sn) 및 복수의 데이터선(D1~Dm)만이 연결되어 있는 것으로 도시하였으나, 화소(PX)의 구조나 구동 방법 등에 따라 복수의 화소(PX)에는 전원선, 분압 기준 전압선 등의 다양한 신호선들이 추가적으로 연결될 수 있을 것이다.
한편, 액정 표시판 조립체(1500)의 후면에는 액정 표시판 조립체(1500)에서 표시되는 영상의 휘도를 조절하는 백라이트(back light)(미도시)가 마련될 수 있다. 백라이트는 액정 표시판 조립체(1500)로 광을 방출한다.
신호 제어부(1100)는 영상 신호(R, G, B) 및 입력 제어 신호를 수신한다. 영상 신호(R, G, B)는 복수의 화소의 휘도(luminance) 정보를 담고 있다. 휘도는 정해진 수효, 예를 들어, 1024(=210), 256(=28) 또는 64(=26)개의 계조(gray)를 가지고 있다. 입력 제어 신호는 데이터 인에이블 신호(DE), 수평 동기 신호(Hsync), 수직 동기 신호(Vsync) 및 메인 클록 신호(MCLK)를 포함한다.
신호 제어부(1100)는 영상 신호(R, G, B), 데이터 인에이블 신호(DE), 수평 동기 신호(Hsync), 수직 동기 신호(Vsync) 및 메인 클록 신호(MCLK)에 따라 게이트 제어신호(CONT1), 데이터 제어신호(CONT2) 및 영상 데이터 신호(DAT)를 생성한다. 신호 제어부(1100)는 수직 동기 신호(Vsync)에 따라 프레임 단위로 영상 신호(R, G, B)를 구분하고, 수평 동기 신호(Hsync)에 따라 게이트 라인 단위로 영상 신호(R, G, B)를 구분하여 영상 데이터 신호(DAT)를 생성한다.
신호 제어부(1100)는 영상 데이터 신호(DAT) 및 데이터 제어신호(CONT2)를 데이터 구동부(1300)에 제공한다. 데이터 제어신호(CONT2)는 데이터 구동부(1300)의 동작을 제어하는 신호로써, 영상 데이터 신호(DAT)의 전송 시작을 알리는 수평 동기 시작 신호(STH), 데이터선(D1~Dm)에 데이터 신호의 출력을 지시하는 로드 신호(LOAD) 및 데이터 클록 신호(HCLK)를 포함한다. 데이터 제어신호(CONT2)는 공통 전압(Vcom)에 대한 영상 데이터 신호(DAT)의 전압 극성을 반전시키는 반전 신호(RVS)를 더 포함할 수 있다.
신호 제어부(1100)는 게이트 제어신호(CONT1)를 게이트 구동부(1200)에 제공한다. 게이트 제어신호(CONT1)는 게이트 구동부(1200)에서의 주사 시작 신호(STV) 및 게이트 온 전압의 출력을 제어하는 적어도 하나의 클록 신호를 포함한다. 게이트 제어신호(CONT1)는 게이트 온 전압의 지속 시간을 한정하는 출력 인에이블 신호(OE)를 더 포함할 수 있다.
데이터 구동부(1300)는 액정 표시판 조립체(1500)의 데이터선(D1~Dm)에 연결되며, 계조 전압 생성부(1400)로부터의 계조 전압을 선택한다. 데이터 구동부(1300)는 선택한 계조 전압을 데이터 신호로서 데이터선(D1~Dm)에 인가한다. 계조 전압 생성부(1400)는 모든 계조에 대한 전압을 제공하지 않고 정해진 수의 기준 계조 전압만을 제공할 수 있다. 이때, 데이터 구동부(1300)는 기준 계조 전압을 분압하여 전체 계조에 대한 계조 전압을 생성하고, 이 중에서 데이터 신호를 선택할 수 있다.
게이트 구동부(1200)는 액정 표시판 조립체(1500)의 게이트선(S1~Sn)에 연결되어 있는 스위칭 소자(도2의 Qa, Qb, Qc)를 턴 온(turn on)시키는 게이트 온 전압과 턴 오프(turn off)시키는 게이트 오프 전압의 조합으로 이루어진 게이트 신호를 게이트선(S1~Sn)에 인가한다.
상술한 신호 제어부(1100), 게이트 구동부(1200), 데이터 구동부(1300) 및 계조 전압 생성부(1400) 각각은 적어도 하나의 집적 회로 칩의 형태로 액정 표시판 조립체(1500) 위에 직접 장착되거나, 가요성 인쇄 회로막(flexible printed circuit film)(미도시) 위에 장착되거나 TCP(tape carrier package)의 형태로 액정 표시판 조립체(1500)에 부착되거나, 별도의 인쇄 회로 기판(printed circuit board)(미도시) 위에 장착될 수 있다. 또는 신호 제어부(1100), 게이트 구동부(1200), 데이터 구동부(1300) 및 계조 전압 생성부(1400)는 신호선(S1~Sn, D1~Dm)과 함께 액정 표시판 조립체(1500)에 집적될 수도 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 표시 영역과 비표시 영역을 나타내는 평면도이다.
도 2를 참조하면, 액정 표시판 조립체(1500)는 복수의 화소(PX)를 포함하는 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA) 외곽의 비표시 영역(NDA)을 포함한다. 즉, 액정 표시판 조립체(1500)는 복수의 화소(PX)에 의해 영상이 표시되는 표시 영역(DA)과 베젤(bezel)에 해당하는 비표시 영역(NDA)으로 구분될 수 있다.
비표시 영역(NDA)은 제1 비표시 영역(NDA1)과 제2 비표시 영역(NDA2)을 포함할 수 있다. 제1 비표시 영역(NDA1)은 액정 표시판 조립체(1500)의 일측 변에 해당하는 영역으로 제2 비표시 영역(NDA2)에 비해 상대적으로 넓은 부분이다. 제1 비표시 영역(NDA1)에는 도 1에서 상술한 게이트 구동부(1200), 데이터 구동부(1300) 등이 IC(integrated circuit) 칩 형태로 배치될 수 있다.
제2 비표시 영역(NDA2)은 제1 비표시 영역(NDA1)에 비해 상대적으로 좁은 부분으로, 내로우 베젤(narrow bezel)에 해당한다. 제2 비표시 영역(NDA2)은 액정 표시판 조립체(1500)의 다른 3 변에 해당하는 영역일 수 있다. 제2 비표시 영역(NDA2)의 폭은 대략 0.5mm 이하일 수 있다. 제2 비표시 영역(NDA2)에는 배향액 수용 구조물(400)이 포함된다.
배향액 수용 구조물(400)은 복수개로 마련되어 제2 비표시 영역(NDA2)을 따라 일렬(one line)로 배치될 수 있다. 배향액 수용 구조물(400)은 표시 영역(DA) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구(E)를 가지는 공간(cavity) 구조로 형성되어 있다. 배향액 수용 구조물(400)은 액정 표시판 조립체(1500)의 제조 과정에서 표시 영역(DA)에 배향액을 도포할 때 제2 비표시 영역(NDA2)으로 흐르는 배향액을 수용한다.
여기서는 배향액 수용 구조물(400)이 복수개로 마련되어 제2 비표시 영역(NDA)을 따라 일렬로 배치되는 구조를 도시하였으나, 하나의 배향액 수용 구조물(400)이 액정 표시판 조립체(1500)의 일측 변을 따라 연장되어 형성될 수도 있다.
이하, 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에서 표시 영역(DA)에 배치되어 있는 화소(PX) 및 제2 비표시 영역(NDA2)에 배치되어 있는 배향액 수용 구조물(400)의 구조에 대하여 상세하게 설명한다.
도 3은 도 2의 III-III 선에 따라 자른 단면도이다.
도 3을 참조하면, 액정 표시판 조립체(1500)는 서로 마주하는 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200), 및 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 사이에 들어 있는 액정층(3)을 포함한다. 상부 표시판(200)은 하부 표시판(100)에 대향하는 대향 기판이라 할 수 있다.
먼저, 표시 영역(DA)에서 하부 표시판(100)에 대하여 설명한다.
하부 표시판(100)은 투명한 유리 또는 플라스틱 따위로 만들어진 제1 기판(110) 위에 게이트선(gate line) 및 유지 전극선(storage line)이 형성되어 있다. 게이트선은 게이트 신호를 전달하며 주로 가로 방향으로 뻗어 있으며, 게이트선으로부터 돌출한 게이트 전극(124)을 가진다.
유지 전극선은 소정의 전압을 인가 받으며 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 각 유지 전극선은 유지 전극선으로부터 뻗은 유지 전극(133)을 포함한다.
게이트 전극(124) 및 유지 전극(133) 위에는 게이트 절연막(gate insulating layer)(140)이 배치되어 있다. 게이트 절연막(140)은 산화 규소(SiOx) 또는 질화 규소(SiNx) 등으로 형성될 수 있다. 게이트 절연막(140)은 물리적 성질이 다른 적어도 두 개의 절연층을 포함하는 다층막 구조를 가질 수도 있다.
게이트 절연막(140) 위에는 반도체(154)가 배치되어 있다. 반도체(154)는 수소화 비정질 규소 또는 결정질 규소 등으로 만들어질 수 있다. 반도체(154)는 산화물 반도체를 포함할 수 있다.
반도체(154) 위에는 서로 마주하는 저항성 접촉 부재(163, 165)가 쌍을 이루어 위치한다. 저항성 접촉 부재(163, 165)는 인(phosphorus) 따위의 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어지거나 실리사이드(silicide)로 만들어질 수 있다. 저항성 접촉 부재(163, 165)는 쌍을 이루어 반도체(154) 위에 배치될 수 있다. 반도체(154)가 산화물 반도체인 경우, 저항성 접촉 부재(163, 165)는 생략 가능하다.
저항성 접촉 부재(163, 165) 및 게이트 절연막(140) 위에는 소스 전극(source electrode)(173)을 가지는 데이터선(data line)과 드레인 전극(drain electrode)(175)이 배치되어 있다.
데이터선은 데이터 전압을 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선과 교차한다.
드레인 전극(175)은 게이트 전극(124)을 중심으로 소스 전극(173)과 마주 본다.
하나의 게이트 전극(124), 하나의 소스 전극(173) 및 하나의 드레인 전극(175)은 반도체(154)와 함께 하나의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 이루며, 박막 트랜지스터의 채널은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 반도체(154)에 형성된다.
소스 전극(173)과 드레인 전극(175)은 몰리브덴, 크롬, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속(refractory metal) 또는 이들의 합금으로 만들어지는 것이 바람직하며, 내화성 금속막(도시하지 않음)과 저저항 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 다중막 구조의 예로는 크롬 또는 몰리브덴 (합금) 하부막과 알루미늄 (합금) 상부막의 이중막, 몰리브덴 (합금) 하부막과 알루미늄 (합금) 중간막과 몰리브덴 (합금) 상부막의 삼중막을 들 수 있다. 그러나 소스 전극(173)과 드레인 전극(175)은 이외에도 여러 가지 다양한 금속 또는 도전체로 만들어질 수 있다.
소스 전극(173), 드레인 전극(175) 및 노출된 반도체(154) 위에는 보호막(passivation)(180)이 형성되어 있다. 보호막(180)은 질화 규소, 산화 규소 등의 무기 절연물, 또는 유기 절연물 및 유전율이 4.0 이하의 저유전율 절연 물질로 만들어질 수 있다.
보호막(180)은 드레인 전극(175)을 노출하는 접촉 구멍(185)을 포함한다.
보호막(180) 위에는 화소 전극(pixel electrode)(191)이 형성되어 있다. 화소 전극(191)은 투명한 도전 물질, 예를 들어 ITO, IZO 등으로 이루어지며, 접촉 구멍(185)을 통해서 드레인 전극(175)과 전기적으로 연결되어 있다.
화소 전극(191) 및 보호막(180) 위에는 제1 절연층(401) 및 제2 절연층(402)이 순서대로 배치되어 있다. 제1 절연층(401)은 생략될 수도 있다.
제2 절연층(402) 위에는 제1 배향막(11)이 형성되어 있다.
다음으로, 표시 영역(DA)에서 상부 표시판(200)에 대해서 설명한다.
상부 표시판(200)은 제2 기판(210) 및 제2 기판(210) 위에 배치되어 하부 표시판(100)과 마주하는 공통 전극(270)을 포함한다.
공통 전극(270)은 면형으로서 기판(110) 전면 위에 통판으로 형성되어 있을 수 있다. 공통 전극(270)은 ITO, IZO 등의 투명한 도전 물질로 형성될 수 있다. 여기서는 공통 전극(270)이 상부 표시판(200)에 배치되는 구성에 대하여 설명하였으나, 공통 전극(270)은 하부 표시판(100)에 배치될 수도 있다.
공통 전극(270) 위에는 제3 절연층(403) 및 제4 절연층(404)이 순서대로 배치되어 있다. 제3 절연층(403)은 생략될 수도 있다.
제4 절연층(404) 위에는 제2 배향막(21)이 형성되어 있다.
이제, 제2 비표시 영역(NDA2)에서 하부 표시판(100) 및 상부 표시판(200)에 대하여 설명한다.
하부 표시판(100)에서, 제1 기판(110) 위에 제1 절연층(401)이 배치되어 있다. 제1 절연층(401)은 생략될 수도 있다. 제1 절연층(401) 위에 제2 절연층(402)이 배치되어 있다. 제2 절연층(402)은 제1 기판(110)과 공간을 사이에 두고 이격되어 있는 덮개층을 형성한다. 덮개층을 형성하는 제2 절연층(402)은 표시 영역(DA) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구(E)를 형성한다. 제1 절연층(401) 및 제2 절연층(402)은 제2 비표시 영역(NDA2)에서 하부 표시판(100)의 배향액 수용 구조물(400)을 형성한다. 배향액 수용 구조물(400)은 표시 영역(DA) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구(E)를 가지는 공간(cavity) 구조이다. 배향액 수용 구조물(400)은 표시 영역(DA)의 반대 방향 측이 막혀 있다. 즉, 배향액 수용 구조물(400)은 하부 표시판(100)의 내측으로 오픈되어 있다.
상부 표시판(200)에서, 제2 기판(210) 위에 제3 절연층(403)이 배치되어 있다. 제3 절연층(403)은 생략될 수도 있다. 제3 절연층(403) 위에 제4 절연층(404)이 배치되어 있다. 제4 절연층(404)은 제2 기판(210)과 공간을 사이에 두고 이격되어 있는 덮개층을 형성한다. 덮개층을 형성하는 제4 절연층(404)은 표시 영역(DA) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구(E)를 형성한다. 제3 절연층(403) 및 제4 절연층(404)은 제2 비표시 영역(NDA2)에서 상부 표시판(200)의 배향액 수용 구조물(400)을 형성한다. 즉, 배향액 수용 구조물(400)은 상부 표시판(200)의 내측으로 오픈되어 있다.
배향액 수용 구조물(400)은 액정 표시판 조립체(1500)의 제조 과정에서 표시 영역(DA)에 배향액이 도포될 때 제2 비표시 영역(NDA2)으로 흐르는 배향액을 수용한다. 이때, 배향액 수용 구조물(400)의 상부, 즉 제2 절연층(402)의 상부 및 제4 절연층(404)의 상부에는 배향액이 흐르지 않는다. 즉, 배향액 수용 구조물(400)의 상부에는 배향막(11, 21)이 형성되지 않는다.
제2 비표시 영역(NDA2)에서, 하부 표시판(100)의 제2 절연층(402)과 상부 표시판(200)의 제4 절연층(404) 사이에는 밀봉 부재(300)가 배치된다. 즉, 밀봉 부재(300)는 하부 표시판(100)의 배향액 수용 구조물(400)과 상부 표시판(200)의 배향액 수용 구조물(400) 사이에 배치된다. 밀봉 부재(300)는 비표시 영역(NDA)을 따라 연장되어 배치되고, 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200)을 합착하고, 액정 표시판 조립체(1500)의 내부를 밀봉한다.
배향액 수용 구조물(400)의 상부에는 배향액이 흐르지 않게 되고, 배향막(11, 21)이 형성되지 않으므로, 밀봉 부재(300)의 접착력이 배향액에 의해 약화되는 것을 방지할 수 있다. 그리고 복수의 배향액 수용 구조물(400)이 제2 비표시 영역(NDA2)을 따라 배치되면, 제2 절연층(402)과 밀봉 부재(300) 간의 접촉 면적이 증가되고, 제4 절연층(404)과 밀봉 부재(300) 간의 접촉 면적이 증가되므로, 밀봉 부재(300)의 접착력이 향상될 수 있다.
이하, 도 4 내지 9를 참조하며 표시 장치의 제2 비표시 영역(NDA2)에 배향액 수용 구조물(400)을 형성하는 방법에 대하여 설명한다. 설명의 편의를 위해, 하부 표시판(100)에서 배향액 수용 구조물(400)을 형성하는 방법에 대하여 설명한다. 상부 표시판(200)의 배향액 수용 구조물(400)은 동일한 방법으로 형성될 수 있다.
도 4 내지 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4를 참조하면, 비표시 영역(NDA2)에서 제1 기판(110) 위에 제1 절연층(401)이 형성된다. 제1 절연층(401)은 표시 영역(DA)의 박막 트랜지스터, 보호막(180), 화소 전극(191) 등이 형성된 후 표시 영역(DA)과 제2 비표시 영역(NDA2)에 형성될 수 있다. 제1 절연층(401)은 배향액 수용 구조물(400)의 바닥층이 될 수 있다. 제1 절연층(401)을 형성하는 과정을 생략될 수 있다.
도 5를 참조하면, 제2 비표시 영역(NDA2)에 희생층(501)이 형성된다. 제1 절연층(401) 위에 감광 수지(photoresist)를 도포한 후 포토리소그래피 공정을 수행하여 희생층(501)이 형성될 수 있다. 제1 절연층(401)이 생략된 경우, 제1 기판(110) 위에 감광 수지를 도포한 후 포토리소그래피 공정을 수행하여 희생층(501)이 형성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 희생층(501)이 형성된 후 표시 영역(DA)과 제2 비표시 영역(NDA2)에 제2 절연층(402)이 형성된다. 제2 절연층(402)은 배향액 수용 구조물(400)의 덮개층이 될 수 있다. 제1 절연층(401) 및 제2 절연층(402)으로 산화 실리콘(SiO2), 질화 실리콘(SiNx) 등의 무기 절연 물질이 이용될 수 있다. 또는 제1 절연층(401) 및 제2 절연층(402)으로 다양한 종류의 유기 절연 물질이 이용될 수 있다.
도 7을 참조하면, 제2 절연층(402)이 형성된 후, 제2 절연층(402) 위에 배향액 수용 입구(E)를 형성하기 위한 감광막 패턴(511)이 형성된다. 제2 절연층(402) 위에 감광 수지를 도포한 후 포토리소그래피 공정을 수행하여 감광막 패턴(511)이 형성될 수 있다. 감광막 패턴(511)은 배향액 수용 입구(E)가 형성될 위치의 제2 절연층(402)의 일부가 노출되도록 형성된다.
도 8을 참조하면, 감광막 패턴(511)을 마스크로 이용한 식각 공정으로 노출된 제2 절연층(402)이 식각된다. 노출된 제2 절연층(402)이 식각되어 제거됨으로써 배향액 수용 입구(E)가 형성될 수 있다.
도 9를 참조하면, 감광막 패턴(511) 및 희생층(501)은 감광 수지 제거(photoresist strip) 방법으로 제거된다. 이에 따라, 배향액 수용 입구(E)를 갖는 배향액 수용 구조물(400)이 형성된다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 배향액 수용 구조물을 도시한 단면도이다. 도 9와 비교하여 차이점 위주로 설명한다.
도 10을 참조하면, 배향액 수용 구조물(400)은 제2 절연층(402) 위에 유기막을 더 포함한다. 배향액 수용 구조물(400)의 형성 과정에서, 감광막 패턴(511)으로 감광성 유기 물질을 사용할 수 있다. 감광성 유기 물질은 감광 수지 제거 방법으로 제거되지 않고 남게 된다. 이에 따라, 유기 물질의 감광막 패턴(511)이 배향액 수용 구조물(400)의 유기막이 된다.
유기막은 복수의 배향액 수용 구조물(400) 사이에 채워지게 되고, 복수의 배향액 수용 구조물(400) 사이로 배향액이 흐르는 것을 막을 수 있으며, 복수의 배향액 수용 구조물(400) 사이의 배향액에 의해 밀봉 부재(300)의 접착력이 약해지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 유기막이 배향액 수용 구조물(400)을 더욱 견고하게 지지하게 되어 배향액 수용 구조물(400)의 구조적 안정성이 향상될 수 있다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 3과 비교하여 차이점 위주로 설명한다.
도 11을 참조하면, 상부 표시판(200)의 제2 비표시 영역(NDA2)에는 배향액 수용 구조물(400)이 형성되지 않고, 배향액 차단 댐(450)이 형성된다. 배향액 차단 댐(450)은 하부 표시판(100)의 배향액 수용 구조물(400)과 마주한다. 배향액 차단 댐(450)은 제2 비표시 영역(NDA2)을 따라 연장된다. 배향액 차단 댐(450)은 표시 영역(DA)에 도포되는 배향액이 제2 비표시 영역(NDA2)로 흐르는 것을 차단한다.
밀봉 부재(300)는 하부 표시판(100)의 배향액 수용 구조물(400)과 상부 표시판(200)의 배향액 차단 댐(450) 사이에 배치되어, 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200)을 합착하고, 액정 표시판 조립체(1500)의 내부를 밀봉한다.
여기서는 배향액 차단 댐(450)이 상부 표시판(200)에 형성되는 구성에 대하여 설명하였으나, 배향액 차단 댐(450)이 하부 표시판(100)에 형성되고, 배향액 수용 구조물(400)이 상부 표시판(200)에 형성될 수도 있다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 표시 영역과 비표시 영역을 나타내는 평면도이다. 도 13은 도 12의 XIII-XIII 선을 따라 자른 단면도이다. 도 2 및 3과 비교하여 차이점 위주로 설명한다. 표시 영역(DA)에서의 구조는 도 3에서 설명한 바와 동일하므로 상세한 설명은 생략하고, 제2 표시 영역(NDA2)에서 하부 표시판(100) 및 상부 표시판(200)에 대하여 설명한다.
도 12 및 13을 참조하면, 배향액 수용 구조물(400)은 복수개로 마련되어 제2 비표시 영역(NDA2)을 따라 복수의 열로 배치된다. 배향액 수용 구조물(400)은 액정 표시판 조립체(1500)의 최외곽에 위치하는 제1 배향액 수용 구조물(410) 및 최외곽에 위치하지 않는 제2 배향액 수용 구조물(420)을 포함한다.
제1 배향액 수용 구조물(410)은 표시 영역(DA) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구(E)를 가지는 공간 구조로 형성되어 있다. 하부 표시판(100)에서, 제1 기판(110) 위에 제1 절연층(401)이 배치되어 있다. 제1 절연층(401)은 생략될 수도 있다. 제1 절연층(401) 위에 제2 절연층(402)이 배치되어 있다. 제2 절연층(402)은 제1 기판(110)과 공간을 사이에 두고 이격되어 있는 복수의 덮개층을 형성한다. 복수의 덮개층 중에서 최외곽에 위치하는 덮개층이 제1 배향액 수용 구조물(410)을 형성한다. 제1 배향액 수용 구조물(410)은 표시 영역(DA)의 반대 방향 측이 막혀 있다. 이에 따라 배향액이 제2 비표시 영역(NDA2)의 바깥쪽, 즉 액정 표시판 조립체(1500)의 바깥으로 누출되지 않게 된다.
제2 배향액 수용 구조물(420)은 표시 영역(DA) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구(E) 및 제1 배향액 수용 구조물(410) 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 출구(O)를 가지는 공간 구조로 형성되어 있다. 하부 표시판(100)에서, 제2 절연층(402)이 형성하는 복수의 덮개층 중에서 최외곽에 위치하지 않는 덮개층이 제2 배향액 수용 구조물(420)을 이룬다. 제2 배향액 수용 구조물(420)은 배향액 수용 출구(O)를 가짐으로써, 배향액 수용 입구(E)로 수용되는 배향액이 제2 배향액 수용 구조물(420)의 위로 넘치지 않고 다음의 제2 배향액 수용 구조물(420) 또는 제1 배향액 수용 구조물(410) 측으로 흐르도록 한다.
상부 표시판(100)에서의 제1 배향액 수용 구조물(410) 및 제2 배향액 수용 구조물(420)은 하부 표시판(100)에서와 같은 방식으로 형성될 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
제2 비표시 영역(NDA2)을 따라 복수의 열로 배치되는 복수의 배향액 수용 구조물(400)을 제조 방법은 도 4 내지 9에서 설명한 제조 방법에서 배향액 수용 구조물(400)의 개수의 차이만 있을 뿐이고 동일한 방식으로 제조될 수 있다.
이하, 도 14 내지 16을 참조하여, 배향액 수용 구조물(400)의 구조적 안정성을 향상시킬 수 있는 구조에 대하여 설명하고, 도 17 내지 21을 참조하고 그 제조 방법에 대하여 설명한다. 설명의 편의를 위해, 하부 표시판(100)의 배향액 수용 구조물(400)을 예로 들어 설명한다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 배향액 수용 구조물을 도시한 평면도이다. 도 15는 도 14의 XV-XV 선을 따라 자른 단면도이다. 도 16은 도 14의 XVI-XVI 선을 따라 자른 단면도이다.
도 14 내지 16을 참조하면, 도 12의 배향액 수용 구조물(400)과 비교하여 각각의 배향액 수용 구조물(400)이 하나 이상의 지지부(405)를 포함한다. 도시한 바와 같이, 제1 배향액 수용 구조물(410) 및 제2 배향액 수용 구조물(420) 각각은 4개의 지지부(405)를 포함할 수 있다. 지지부(405)는 제2 절연층(402)이 형성하는 덮개층을 지지한다. 지지부(405)는 제2 절연층(402)을 형성될 때 같이 형성된다. 즉, 지지부(405)는 제2 절연층(402)과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
도 17 내지 21은 도 14의 배향액 수용 구조물의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 17을 참조하면, 비표시 영역(NDA2)에서 제1 기판(110) 위에 제1 절연층(401)이 형성된다. 제1 절연층(401)은 표시 영역(DA)의 박막 트랜지스터, 보호막(180), 화소 전극(191) 등이 형성된 후 표시 영역(DA)과 제2 비표시 영역(NDA2)에 형성될 수 있다. 제1 절연층(401)을 형성하는 과정을 생략될 수 있다.
도 18을 참조하면, 제2 비표시 영역(NDA2)에 희생층(501)이 형성된다. 제1 절연층(401) 위에 감광 수지(photoresist)를 도포한 후 포토리소그래피 공정을 수행하여 희생층(501)이 형성될 수 있다. 포토리소그래피 공정에서 지지부(405)가 형성될 위치에 제1 절연층(401)을 노출시키는 홀(hole)(502)이 형성된다. 즉, 희생층(501)은 제1 절연층(401)을 노출시키는 홀(502)을 포함한다. 홀(502)은 배향액 수용 구조물(400)이 가지는 지지부(405)의 개수에 대응하는 개수로 형성될 수 있다.
도 19를 참조하면, 희생층(501)이 형성된 후 표시 영역(DA)과 제2 비표시 영역(NDA2)에 제2 절연층(402)이 형성된다. 제1 절연층(401) 및 제2 절연층(402)으로 산화 실리콘(SiO2), 질화 실리콘(SiNx) 등의 무기 절연 물질이 이용될 수 있다. 또는 제1 절연층(401) 및 제2 절연층(402)으로 다양한 종류의 유기 절연 물질이 이용될 수 있다. 절연 물질로 제2 절연층(402)이 형성될 때, 절연 물질은 희생층(501)에 형성되어 있는 홀(502)을 채우게 된다. 홀(502)에 채워진 절연 물질이 지지부(405)를 형성하게 된다.
도 20을 참조하면, 제2 절연층(402)이 형성된 후, 제2 절연층(402) 위에 배향액 수용 입구(E) 및 배향액 수용 출구(O)를 형성하기 위한 감광막 패턴(511)이 형성된다. 제2 절연층(402) 위에 감광 수지를 도포한 후 포토리소그래피 공정을 수행하여 감광막 패턴(511)이 형성될 수 있다. 감광막 패턴(511)은 배향액 수용 입구(E) 및 배향액 수용 출구(O)가 형성될 위치의 제2 절연층(402)의 일부가 노출되도록 형성된다.
도 21을 참조하면, 감광막 패턴(511)을 마스크로 이용한 식각 공정으로 노출된 제2 절연층(402)이 식각된다. 노출된 제2 절연층(402)이 식각되어 제거됨으로써 배향액 수용 입구(E) 및 배향액 수용 출구(O)가 형성될 수 있다. 이후, 감광 수지 제거(photoresist strip) 방법으로 감광막 패턴(511) 및 희생층(501)을 제거하면, 도 15에 도시되어 있는 배향액 수용 구조물(400)이 형성될 수 있다.
지금까지 참조한 도면과 기재된 발명의 상세한 설명은 단지 본 발명의 예시적인 것으로서, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
400 : 배향액 수용 구조물
401 : 제1 절연층
402 : 제2 절연층
403 : 제3 절연층
404 : 제4 절연층
405 : 지지부

Claims (20)

  1. 복수의 화소 영역을 포함하는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 외곽의 비표시 영역을 포함하는 표시 기판; 및
    상기 비표시 영역에 배치되고, 상기 표시 기판의 내측으로 오픈되어 있는 덮개층을 포함하는 배향액 수용 구조물을 포함하고,
    상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 영역에 도포되는 배향액을 수용하고,
    상기 배향액 수용 구조물은,
    최외곽에 위치하고 상기 표시 영역의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구를 가지는 공간 구조로 형성되어 있는 제1 배향액 수용 구조물; 및
    상기 최외곽에 위치하지 않고 상기 표시 영역의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구 및 상기 제1 배향액 수용 구조물의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 출구를 가지는 공간 구조로 형성되어 있는 제2 배향액 수용 구조물을 포함하는 표시 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 배향액 수용 구조물은,
    상기 표시 기판 위에 배치되어 있는 제1 절연층; 및
    상기 표시 기판과 공간을 사이에 두고 이격되어 있는 제2 절연층을 포함하는 표시 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제2 절연층은 상기 표시 영역의 방향을 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 입구를 형성하는 표시 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 기판과 마주하는 대향 기판을 더 포함하고,
    상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 기판 위에 배치되어 있는 하부 배향액 수용 구조물 및 상기 대향 기판 위에 배치되어 있는 상부 배향액 수용 구조물을 포함하는 표시 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 하부 배향액 수용 구조물과 상기 상부 배향액 수용 구조물 사이에 배치되는 밀봉 부재를 더 포함하는 표시 장치.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 하부 배향액 수용 구조물 및 상기 상부 배향액 수용 구조물 중 적어도 어느 하나는 복수개로 마련되어 상기 비표시 영역을 따라 일렬로 배치되는 표시 장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 기판과 마주하는 대향 기판을 더 포함하고,
    상기 배향액 수용 구조물은 상기 표시 기판 및 상기 대향 기판 중 어느 하나의 위에 배치되어 있는 표시 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 표시 기판 및 상기 대향 기판 중에서 다른 하나의 위에서 상기 배향액 수용 구조물과 마주하여 배치되는 배향액 차단 댐을 더 포함하는 표시 장치.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 배향액 차단 댐은 상기 비표시 영역을 따라 연장되는 표시 장치.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 배향액 수용 구조물과 상기 배향액 차단 댐 사이에 배치되는 밀봉 부재를 더 포함하는 표시 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 배향액 수용 구조물은 복수개로 마련되어 상기 비표시 영역을 따라 복수의 열로 배치되는 표시 장치.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 제1 항에 있어서,
    상기 배향액 수용 구조물은 상기 덮개층을 지지하는 적어도 하나의 지지부를 포함하는 표시 장치.
  16. 복수의 화소를 포함하는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 외곽의 비표시 영역을 포함하는 표시 기판에서 상기 비표시 영역에 희생층을 형성하는 단계;
    상기 희생층 위에 덮개층을 형성하는 단계;
    상기 희생층의 일부가 노출되도록 상기 덮개층에 배향액 수용 입구를 형성하는 단계; 및
    상기 희생층을 제거하여 상기 표시 기판과 상기 덮개층 사이에 공간을 형성하여 배향액 수용 구조물을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 배향액 수용 구조물은,
    최외곽에 위치하고 상기 표시 영역의 방향으로 향하여 개방되어 있는 상기 배향액 수용 입구를 가지는 공간 구조로 형성되어 있는 제1 배향액 수용 구조물; 및
    상기 최외곽에 위치하지 않고 상기 표시 영역의 방향으로 향하여 개방되어 있는 상기 배향액 수용 입구 및 상기 제1 배향액 수용 구조물의 방향으로 향하여 개방되어 있는 배향액 수용 출구를 가지는 공간 구조로 형성되어 있는 제2 배향액 수용 구조물을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 희생층이 형성되기 이전에 상기 표시 기판 위에 바닥층을 형성하는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 덮개층 위에 상기 배향액 수용 입구를 형성하기 위한 감광막 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 감광막 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정으로 상기 덮개층의 일부를 제거하여 상기 배향액 수용 입구를 형성하는 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제16 항에 있어서,
    상기 희생층은 상기 덮개층을 지지하는 지지부를 형성하기 위한 홀을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102324543B1 (ko) * 2014-12-11 2021-11-11 엘지디스플레이 주식회사 표시장치 및 표시패널
KR102378360B1 (ko) * 2015-05-12 2022-03-25 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
KR102466959B1 (ko) 2015-12-31 2022-11-11 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
JP2018124480A (ja) * 2017-02-02 2018-08-09 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100972148B1 (ko) * 2002-12-31 2010-07-23 엘지디스플레이 주식회사 씰패턴 하부의 적층구조에 특징을 가지는 액정표시장치
KR101009668B1 (ko) 2003-10-06 2011-01-19 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법
JP2006202722A (ja) * 2004-12-21 2006-08-03 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 有機ｅｌ表示装置の製造方法
TWI345652B (en) * 2006-12-01 2011-07-21 Chimei Innolux Corp Liquid crystal panel and method of manufacturing the same
US8603922B2 (en) 2010-01-27 2013-12-10 Creator Technology B.V. Semiconductor device, display, electronic apparatus and method of manufacturing a semiconductor device
KR101117399B1 (ko) * 2010-05-11 2012-03-07 주식회사 에이치엔에이치글로벌리소스 휴대용 디스플레이 장치 및 장치의 결합 방법
EP2581784A4 (en) 2010-06-10 2014-01-01 Sharp Kk LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
JP5457321B2 (ja) * 2010-09-28 2014-04-02 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
JP5974415B2 (ja) 2011-10-05 2016-08-23 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
KR20140027794A (ko) * 2012-08-27 2014-03-07 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP5961543B2 (ja) * 2012-12-19 2016-08-02 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置及びその製造方法
KR101984269B1 (ko) * 2013-04-29 2019-05-30 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법
KR101697759B1 (ko) 2013-06-28 2017-01-19 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치

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