KR102242410B1 - 패들 장치 및 연마 장치 - Google Patents
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
도 2는 종래의 패들 장치에 의해 웨이퍼에 발생된 크랙을 보여준다.
도 3은 종래의 패들 장치에서 웨이퍼 크랙을 발생시키는 라운드면을 도시한다.
도 4는 제1 실시예에 따른 패들 장치에서 웨이퍼 크랙을 최소화하는 수평면을 도시한다.
도 5는 제2 실시예에 따른 패들 장치를 도시한 평면도이다.
도 6은 제2 실시예에 따른 패들 장치에서 A-A'라인을 따라 절단한 제1 단면도이다.
도 7은 제2 실시예에 따른 패들 장치에서 A-A'라인을 따라 절단한 제2 단면도이다.
도 8은 제3 실시예에 따른 패들 장치를 도시한다.
도 9는 도 8의 압력 감지 센서의 확대도이다.
도 10은 제3 실시예에 따른 패들 장치를 도시한 블록도이다.
도 11은 도 10의 디스플레이부의 화면을 도시한다.
105: 패들부
110, 111: 프레임
120: 패들
121: 링부
122, 123: 지지부
125: 걸림턱
127: 연결부
130, 131, 132, 133, 134: 충격 흡수 부재
140: 받침 부재
150: 압력 감지 센서
153: 근접 센서
151: 감지부
152: 감지 영역
153: 연결라인
160: 디스플레이부
170: 제어부
191, 192, 193, 194: 컬러 표시 영역
Claims (14)
- 웨이퍼를 카셋트로부터 마운팅부로 이송하기 위한 패들 장치에 있어서,
제1 및 제2 프레임;
상기 제1 및 제2 프레임에 체결되고, 상면이 수평면을 갖는 패들; 및
상기 프레임 및 상기 패들 중 적어도 하나에 배치되어 상기 웨이퍼가 안착되는 충격 흡수 부재를 포함하고,
상기 패들은,
일측이 상기 제1 및 제2 프레임 각각의 상면 일부에 체결되는 링부;
상기 링부의 상기 일측의 반대측의 제1 영역 및 제2 영역 각각으로부터 상기 제1 및 제2 프레임의 길이 방향을 따라 연장되는 제1 및 제2 지지부; 및
상기 제1 지지부와 상기 제2 지지부를 연결하는 연결부를 포함하고,
상기 링부, 상기 제1 지지부, 상기 제2 지지부 및 상기 연결부는 일체로 형성되고,
상기 충격 흡수 부재는,
상기 제1 및 제2 프레임 각각에 배치되는 제1 및 제2 충격 흡수 부재; 및
상기 제1 및 제2 지지부 각각에 배치되는 제3 및 제4 충격 흡수 부재를 포함하며,
상기 웨이퍼는 상기 제1 충격 흡수 부재, 상기 제2 충격 흡수 부재, 상기 제3 충격 흡수 부재 및 상기 제4 충격 흡수 부재와 접촉되는 패들 장치. - 제1항에 있어서,
상기 충격 흡수 부재는 고무 재질, 폴리 우레탄 수지 및 폴리에스테르 파이버 중 하나를 포함하는 패들 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1 충격 흡수 부재는 상기 제2 프레임으로부터 멀리 이격된 상기 제1 프레임의 상면의 일측에 배치되고,
상기 제2 충격 흡수 부재는 상기 제1 프레임으로부터 멀리 이격된 상기 제2 프레임의 상면의 일측에 배치되는 패들 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1 충격 흡수 부재의 두께는 상기 지지부의 두께와 상기 제2 충격 흡수 부재의 두께의 합인 패들 장치. - 제1항에 있어서,
상기 프레임과 상기 제1 충격 흡수 부재 사이에 배치되는 받침 부재(140)를 더 포함하는 패들 장치. - 제5항에 있어서,
상기 받침 부재의 두께는 상기 지지부의 두께와 동일하고,
상기 제1 충격 흡수 부재의 두께는 상기 제2 충격 흡수 부재의 두께와 동일한 패들 장치. - 제5항에 있어서,
상기 받침 부재는 4mm 내지 6mm의 두께를 갖고,
상기 제1 충격 흡수 부재는 1mm 내지 3mm의 두께를 갖는 패들 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 충격 흡수 부재 중 적어도 하나 이상의 아래에 배치되는 압력 감지 센서를 더 포함하는 패들 장치. - 제8항에 있어서,
상기 압력 감지 센서는 적어도 하나 이상의 제1 압력 감지 센서 및 적어도 하나 이상의 제2 압력 감지 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나 이상의 제1 압력 감지 센서는 상기 적어도 하나 이상의 프레임 각각과 상기 적어도 하나 이상의 제1 충격 흡수 부재 각각 사이에 배치되며,
상기 적어도 하나 이상의 제2 압력 감지 센서는 상기 적어도 하나 이상의 지지부 각각과 상기 적어도 하나 이상의 제2 충격 흡수 부재 각각 사이에 배치되는 패들 장치. - 제8항에 있어서,
상기 압력 감지 센서는,
감지 영역을 포함하는 감지부; 및
상기 감지부와 연결되는 연결라인을 포함하는 패들 장치. - 제10항에 있어서,
상기 감지부는 0.5mm 내지 1.5mm의 두께를 갖고,
상기 감지부는 6mm 내지 10mm의 직경을 갖고,
상기 감지 영역은 5mm 내지 9mm의 직경을 갖는 패들 장치. - 제8항에 있어서,
디스플레이부; 및
제어부를 더 포함하고,
상기 제어부는,
상기 압력 감지 센서에서 감지된 압력에 기초하여 알람 정보를 표시하도록 상기 디스플레이부를 제어하는 패들 장치. - 웨이퍼가 적재된 카세트;
상기 웨이퍼를 블록에 마운팅하는 마운팅부;
상기 마운팅된 웨이퍼를 연마하는 연마부; 및
상기 적재된 웨이퍼를 상기 카세트로부터 상기 마운팅부로 이송하기 위해 제1 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 의한 패들 장치를 포함하는 연마 장치. - 삭제
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100217870B1 (ko) | 1992-06-15 | 1999-09-01 | 크리스토퍼 이이 아우거 | 웨이퍼 연마 방법 및 장치 |
JP2001223252A (ja) | 2000-02-07 | 2001-08-17 | Assist Japan Kk | ロボットの吸着レスハンド |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6361422B1 (en) * | 1999-06-15 | 2002-03-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for transferring semiconductor substrates using an input module |
KR100508651B1 (ko) * | 2002-11-06 | 2005-08-17 | 동부아남반도체 주식회사 | 버퍼 스테이션의 웨이퍼 파손 방지 장치 |
KR101208644B1 (ko) * | 2009-07-03 | 2012-12-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 위치 이탈 방지 장치, 이를 구비한 기판 보지구, 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100217870B1 (ko) | 1992-06-15 | 1999-09-01 | 크리스토퍼 이이 아우거 | 웨이퍼 연마 방법 및 장치 |
JP2001223252A (ja) | 2000-02-07 | 2001-08-17 | Assist Japan Kk | ロボットの吸着レスハンド |
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