KR102233607B1 - 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치는 네일 케어에 사용되는 니퍼의 날을 연마하기 위한 장치로서, 프레임; 상기 프레임에 설치되며, 회전하여 접촉하는 니퍼 날을 연마하는 연마석; 상기 니퍼를 원하는 위치로 이송시키는 이송부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 습식 조건 하에서 수명과 날의 강도를 유지한 상태로 니퍼의 날을 연마할 수 있는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치가 제공된다.

Description

습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치{APPARATUS FOR POLISHING NAIL-CARE NIPPER}

본 발명은 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치에 관한 것으로서, 습식 조건으로 네일 케어용 니퍼 날을 연마할 수 있는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치에 관한 것이다.

손톱미용에 대한 관심이 증가하면서, 네일 케어 산업이 크게 발전하고 있다. 일반적으로 네일 케어를 위해서는 손톱 주변의 큐티클을 제거하기 위한 용도로 네일 케어용 니퍼가 사용된다.

비교적 고가인 네일 케어용 니퍼는 작업 중에 날이 손상되거나 절삭력이 약화되는 경우에도 날의 연마가 쉽지 않기 때문에 작업자는 새 제품을 구매하여야 하는 문제가 있었다.

종래에 이러한 문제를 해결하기 위하여 네일 케어용 니퍼의 날을 연마하는 장치가 등록공보 제10-1777140호에 의하여 공개된 바 있다. 그러나, 종래의 기술의 경우에는 연마용제나 물이 공급되지 않은 상태에서 연마가 진행되어 날의 강도가 저하되고, 제조사의 예측보다 수명이 단축되는 문제가 있었다.

한국특허공보 제10-1777140호

따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 습식 조건 하에서 수명과 날의 강도를 유지한 상태로 니퍼의 날을 연마할 수 있는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치를 제공함에 있다.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 네일 케어에 사용되는 니퍼의 날을 연마하기 위한 장치로서, 프레임; 상기 프레임에 설치되며, 회전하여 접촉하는 니퍼 날을 연마하는 연마석; 상기 니퍼를 원하는 위치로 이송시키는 이송부; 상기 연마석에 물을 공급하는 물 공급부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치에 의해 달성된다.

또한, 상기 이송부는, 상기 니퍼를 고정하는 홀더; 상기 홀더에 고정된 니퍼를 3축 회동시키는 회동부; 상기 홀더에 고정된 니퍼를 직선 이동시키는 직선이동부;를 포함할 수 있다.

또한, 상기 직선이동부는, 상기 니퍼를 상기 연마석의 회전축과 나란한 방향을 따라 이동시키는 제1 이동부; 상기 제1 이동부와 수직한 방향을 따라 이동시키는 제2 이동부;를 포함할 수 있다.

또한, 상기 프레임은, 지면과 수평하게 배치되는 수평 프레임; 상기 수평 프레임으로부터 상측으로 연장되는 벽체 프레임;을 포함하고, 상기 연마석은 상기 벽체 프레임 상에 높이 조절 가능하도록 설치될 수 있다.

또한, 상기 이송부는, 상기 연마석과 상기 니퍼 날 간의 가압력이 유지되도록 상기 제1 이동부를 제어하는 가압유지부를 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 이송부에 장착되며, 양측 날이 맞물린 상태에서 니퍼를 고정하는 보조 고정부를 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 프레임에 장착되며, 상기 연마석을 향하여 광을 조사하는 램프부를 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 이송부는 니퍼를 고정하는 홀더를 더 포함하고, 상기 홀더는, 연마 대상 니퍼의 한 쌍의 날이 이격된 상태로 수용될 수 있는 수용홈이 형성되는 고정 플레이트; 상기 고정 플레이트에 수용된 니퍼를 두께 방향으로 가압하여 고정시키는 가압체결부;를 포함할 수 있다.

또한, 상기 물 공급부는, 상기 연마석의 적어도 일부를 수용하는 수용케이스; 물을 흡수한 상태에서 상기 연마석과 접촉 상태를 유지하도록 상기 수용케이스 내에 설치되는 스펀지부;를 포함할 수 있다.

또한, 상기 물 공급부는, 상기 수용케이스에 물을 제공하는 물 제공부; 상기 스펀지부의 물 흡수율을 감지하는 감지부; 상기 스펀지부의 물 흡수율이 일정하게 유지되도록 상기 물 제공부를 제어하는 물 공급 제어부;를 포함할 수 있다.

본 발명에 따르면, 습식 공정으로 연마함으로써 날의 강도 및 수명을 유지한 상태로 니퍼 날의 연마가 가능한 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치가 제공된다.

또한, 3축 회동이 가능하므로, 사용자의 요구에 맞게 연마각 조절이 자유로운 장점이 있다.

또한, 가압유지부를 통하여 연마석과 니퍼 날의 접촉력(가압력)을 일정하게 유지할 수 있으므로, 불필요한 과연마를 방지하고 연마 품질을 향상시킬 수 있다.

또한, 니퍼를 지면과 나란하게 고정하는 홀더를 통하여 날의 내측면을 가공하는 동시에, 니퍼를 지면과 수직한 방향으로 고정하는 보조고정부를 통하여 날의 외측면을 후가공할 수 있는 장점이 있다.

또한, 습식 연마 공정 중에 물을 노즐 등을 통하여 직수로 공급하는 것이 아니라, 연마석을 스펀지부로 감싼 상태에서 흡수된 물이 간접적으로 연마석에 제공되는 방식을 활용하므로, 물이 과도하게 낭비되거나, 연마시 물이 작업자에게 튀는 등의 문제를 최소화할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 개략적인 사시도이고,
도 2는 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 분해사시도이고,
도 3은 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 홀더를 개략적으로 도시한 것이고,
도 4는 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 홀더의 작동 원리를 도시한 것이고,
도 5는 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 물 공급부를 설명하기 위한 것이고,
도 6은 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치를 이용한 니퍼 날 내측 연마 방법을 설명하기 위한 것이고,
도 7은 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치를 이용한 니퍼 날 외측 연마 방법을 설명하기 위한 것이다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다.

그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

또한, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.

본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 이외의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다.

이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마장치(1000)에 대하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 개략적인 사시도이고, 도 2는 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 분해사시도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본원발명의 일실시예에 따른 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치(1000)는 네일 케어에 사용되는 니퍼(10)의 날(11)을 연마하기 위한 장치로서, 프레임(100)과 연마부(200)와 이송부(300)와 램프부(400)와 물 공급부(500)를 포함한다.

상기 프레임(100)은 후술하는 연마부(200), 이송부(300), 램프부(400), 물 공급부(500)를 거치, 지지하기 위한 구조물로서, 수평 프레임(110)과 벽체 프레임(120)을 포함한다.

상기 수평 프레임(110)은 후술하는 벽체 프레임(120)의 하단으로부터 지면과 수평하게 연장되는 평판형의 구조물이다. 수평 프레임(110) 상에는 이송부(300)가 거치된다.

상기 벽체 프레임(120)은 수평프레임(110)으로부터 상측으로 연장되는 수직 구조물이다.

벽체 프레임(120)에는 중력과 나란한 방향을 따라 소정 길이만큼 절개되는 한 쌍의 절개부(121)가 형성된다. 절개부(121)에는 후술하는 연마부(200)와 물 공급부(500)를 고정하기 위한 고정나사가 삽입되며, 연마부(200)와 물 공급부(500)는 절개부(121)의 경로를 따라 승강 가능하게 설치되는 것이다.

상기 연마부(200)는 니퍼(10)의 날(11)과 직접적으로 접촉하여 실질적으로 연마 작업이 수행되는 구성으로서, 구동부(210)와 연마석(220)을 포함한다.

상기 구동부(210)는 후술하는 연마석(220)에 회전력을 제공하기 위한 것으로서, 본 실시예에서는 모터가 사용된다.

벽체 프레임(120)의 반대면으로부터 절개부(121)를 관통하는 고정나사의 단부가 구동부(210)에 체결됨으로써 구동부(210)가 상술한 벽체 프레임(120) 상에 고정된다. 이때, 고정나사의 결합력을 완화하여 절개부(121)를 따라 이동시킨 후 재고정함으로써 구동부(210)의 위치를 변경할 수 있다.

상기 연마석(220)은 구동부(210)의 구동축 상에 체결되며, 구동부(210)로부터 회전력을 전달받아 회전함으로써, 니퍼(10)의 날(11)에 실질적인 연마기능을 제공하는 구성이다.

한편, 연마석(220)은 중앙부는 가공이 및 구동부와의 체결이 용이하도록 플라스틱 소재의 원판형 구조물로 구성되며, 니퍼(10)의 날(11)과 실질적으로 접촉하게 되는 중앙부의 외주면은 다이아몬드 소재로 둘러싸는 구조로 구성된다.

따라서, 상술한 구조와 같이, 연마석(220)은 연마 기능이 필요한 영역만을 다이아몬드 소재로 구성하고, 연마 기능이 불필요한 중앙부는 플라스틱 소재로 구성함으로써, 전체적으로 중량은 줄이고, 구동부(220)와 체결에 필요한 가공을 용이하게 하는 동시에, 제작 비용을 절감할 수 있게 된다.

상기 이송부(300)는 연마 대상이 되는 니퍼(10)를 고정하여, 연마 작업이 수행될 수 있도록 고정된 니퍼(10)를 연마석(220) 측으로 이동시키기 위한 구조물이며, 홀더(310)와 회동부(320)와 직선이동부(330)와 보조고정부(340)와 가압유지부(350)를 포함한다.

도 3은 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 홀더를 개략적으로 도시한 것이고, 도 4는 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 홀더의 작동 원리를 도시한 것이다.

도 3을 참조하여 설명하면, 상기 홀더(310)는 니퍼(10)를 고정하기 위한 것으로서, 고정플레이트(311)와 가압체결부(313)를 포함한다.

상기 고정플레이트(311)는 한 쌍의 손잡이부(12)가 서로 엇갈린 상태로 니퍼(10)를 수용, 고정하기 위한 플레이트 형태의 구조물이다. 이러한 고정플레이트(311)에는 수용홈(312)이 형성된다.

상기 가압체결부(313)는 고정플레이트(311)의 수용홈(312) 내에 수용된 상태의 니퍼(10)를 두께 방향으로 가압하여 체결력을 인가하기 위한 것으로서, 플랜지(314)와 접촉부재(315)와 조작부재(316)를 포함한다.

상기 플랜지(314)는 고정플레이트(311) 상에 설치되어, 후술하는 접촉부재(315)와 조작부재(316)가 회동할 수 있도록 지지하는 구조물이다.

플랜지(314)는 고정플레이트(311) 상에 고정되는 지지패널(314a)과, 지지패널(314a)의 일측에 회동 가능하게 설치되는 보조링크(314b)로 구성된다. 지지패널(314a)의 일측에는 접촉부재(315)가 회동 가능하게 설치되고, 보조링크(314b)의 단부에는 조작부재(316)가 회동 가능하게 설치된다. 지지패널(314a)의 외측면은 상단부가 양단부가 돌출되고, 중앙부가 함몰되는 형태의 굴곡면을 형성한다.

상기 접촉부재(315)는 일단부가 지지패널(314a)에 회동 가능하게 장착되고, 타단부는 니퍼(10)를 가압하여 고정하는 기능을 수행한다.

상기 조작부재(316)는 일단부가 상술한 지지패널(314a)의 단부에 회동 가능하게 장착되고, 타단부는 사용자로부터 가해지는 외력에 의하여 승강 가능한 형태로 구성된다.

한편, 조작부재(316)의 일단부는 두 지점이 회동 가능하게 고정되는데, 구체적으로는, 종단부가 상술한 접촉부재(315)와 동축('제1축' 이라함) 상에서 회동 가능한 형태로 고정되고, 종단부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 제2축을 중심으로 지지패널(314a)의 단부에 회동 가능하게 고정되는 구조를 갖는다.

즉, 도 4에 도시된 바와 같이, 사용자가 조작부재(316)에 외력을 가하면 보조링크(314b)와 결합된 제2축이 하강하여 지지패널(314a)의 함몰영역에 삽입되는 동시에, 접촉부재(315)와 연결된 제1축이 반대쪽 방향으로 상승하면서 연결된 접촉부재(315)의 반대쪽 단부를 하강시키면서 니퍼(10)에 가압력을 인가함으로써 니퍼(10)를 고정하게 되는 것이다.

상기 회동부(320)는 상술한 홀더(310)를 고정한 상태에서 니퍼(10)를 3축 회동시키기 위한 구조물이다. 즉, X축, Y축, Z축을 중심으로 원하는 각도로 조절할 수 있다. 회동부(320)에는 회동 각도를 측정할 수 있는 각도 측정 부재(미도시)가 설치되어 있으며, 사용자는 회동부(320)를 조작함으로써 니퍼(10)의 날을 원하는 연마 각도로 조작할 수 있다.

상기 직선이동부(330)는 상술한 홀더(310)를 고정한 상태에서 니퍼(10)를 직선 이동시키기 위한 것으로서, 제1 이동부(331)와 제2 이동부(332)를 포함한다.

상기 제1 이동부(331)는 연마석(220)의 회전축과 나란한 축을 따라 니퍼(10)를 직선 이동시키기 위한 것이다.

즉, 사용자의 제1 이동부(331) 조작을 통하여 니퍼(10)를 Y축 상에서 이동시킬 수 있는 것이다.

상기 제2 이동부(332)는 제1 이동부(331)와 수직한 축을 따라서 니퍼(10)를 직선 이동시키기 위한 것이다.

즉, 사용자의 제2 이동부(332) 조작을 통하여 니퍼(10)를 X축 상에서 이동시킬 수 있는 것이다.

따라서, 상술한 이송부(300)의 구조에 의하면, 홀더(310)를 이용하여 니퍼(10)를 고정한 상태에서, 직선이동부(330)를 이용하여 연마석(220)에 인접한 영역으로 니퍼(10)를 이동시킨 후, 회동부(320)를 이용하여 니퍼(10)를 원하는 각도롤 조절한 상태에서 니퍼(10)의 날(11)을 연마할 수 있다.

상기 보조고정부(340)는 고정플레이트(311)의 측면부에 설치되어, 상술한 홀더(310)와 다른 방향에서 날을 연마하기 위한 목적으로 니퍼(10)를 고정하기 위한 구조물로서, 베이스패널(341)과 이격패널(342)과 간격조절부재(343)를 포함한다.

상기 베이스패널(341)은 고정플레이트(311)의 측면에 고정되는 것으로, 후술하는 이격패널(342)과의 사이 공간에 니퍼(10)를 수용할 수 있는 공간을 제공한다.

상기 이격패널(342)은 베이스패널(341)로부터 이격되어 니퍼(10)가 고정될 수 있는 공간을 형성한다.

상기 간격조절부재(343)는 이격패널(342)을 베이스패널(341) 측으로 가압함으로써 니퍼(10)를 고정하기 위한 가압력을 인가한다.

상기 가압유지부(350)는 연마석(220)과 접촉한 상태에서 연마 시에 니퍼(10)에 가해지는 가압력을 제어하기 위한 구성으로서, 가압력 측정센서(351)와 제어모터(352)와 가압제어모듈(353)을 포함한다.

상기 가압력 측정센서(351)는 연마석(220)과 니퍼(10)의 날(11) 사이에 가해지는 가해지는 실시간 가압력을 측정하기 위한 센서이다.

상기 제어모터(352)는 제1 이동부(331)를 제어하여 이동량을 전기적으로 제어하기 위한 모터이다.

상기 가압제어모듈(353)은 가압력 측정센서(351)로부터 측정되는 실시간 가압력 정보를 기반으로, 가압력을 유지하기 위한 니퍼(10)의 이동량을 산출한 후 제어모터(352)를 구동시켜 제1 이동부(331)를 통한 니퍼(10)의 이동을 제어하기 위한 모듈이다.

상기 램프부(400)는 연마가 수행되는 영역에 광을 조사하기 위한 것으로서, 본 실시예에서는 벽체 프레임(120)의 상단부에 장착되는 다수의 LED의 형태로 구성되나, 램프부(400)는 적절한 광량을 갖는 발광체라면 LED에 제한되는 것은 아니다.

도 5는 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치의 물 공급부를 설명하기 위한 것이다.

도 5를 참조하여 설명하면, 상기 물 공급부(500)는 연마시에 연마석(220)에 물을 지속적으로 공급하기 위한 것으로서, 수용케이스(510)와 스펀지부(520)와 감지부(530)와 물 공급 제어부(540)를 포함한다.

상기 수용케이스(510)는 연마석(220)의 일부와 접촉하는 스펀지부(520)를 수용하기 위한 것으로서, 벽체 프레임(120)에 장착된다.

상기 스펀지부(520)는 수용케이스(510) 내에 수용되며, 일정량의 물을 흡수한 상태에서 연마석(220)과 접촉하여 연마석(220)에 지속적으로 수분을 공급하기 위한 것이다.

상기 감지부(530)는 스펀지부(520)의 물 흡수율을 실시간으로 감지하는 센서이다.

상기 물 공급 제어부(540)는 스펀지부(520)의 물 흡수율이 미리 설정된 값 이상으로 지속될 수 있도록 수용케이스(510) 내에 물을 공급하기 위한 구성이다.

이하에서는 상술한 본 발명의 일실시예에 따른 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치(1000)의 작동방법에 대하여 상세히 설명한다.

도 6은 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치를 이용한 니퍼 날 내측 연마 방법을 설명하기 위한 것이다.

니퍼 고정 단계

먼저, 사용자는 연마 대상 니퍼(10)를 홀더(310) 상에 장착한다. 구체적으로는, 손잡이부(12)를 양측으로 벌린 상태에서 니퍼(10)를 고정플레이트(311)의 수용홈(312) 내에 거치한다. 조작부재(316)의 일단부를 가압하여 하강시키면, 조작부재(316)의 타단부는 접착부재(315)의 일단부와 동시에 승강하는 반면 접촉부재(315)의 타단부는 하강하면서 니퍼(10)를 가압함으로써, 니퍼(10)는 고정된다.

즉, 니퍼(10)는 수용홈(312) 내에서 면방향의 이동이 제한되고, 가압체결부(313)를 통하여 두께 방향의 이동이 제한됨으로써, 단순한 홀더(310)의 구조 만으로도 니퍼(10)를 보다 효과적으로 고정할 수 있는 것이다.

니퍼 이동 단계

사용자는 니퍼(10)가 고정된 상태에서 회동부(320)를 작동시켜 니퍼(10) 날의 연마각을 조절시킨다. 즉, 니퍼(10)의 브랜드, 종류, 크기에 따라서 날의 각도가 모두 상이하므로 사용자는 이를 고려하여 연마하고자 하는 각도로 니퍼(10)의 각도를 조절한다.

각도 조절이 완료되면 제1 이동부(331)를 이용하여 연마석(220)의 연마면과 니퍼(10)의 날이 대략 일치하도록 니퍼(10)를 이동시킨다. 다음으로, 제2 이동부(332)를 이용하여 연마석(220)을 벽체 프레임(120) 측으로 이동시켜, 연마석(220)의 인근영역으로 접근시킨다.

니퍼 연마 단계

사용자가 구동부(210)를 작동시킴으로써 연마석(220)을 회전시킨다. 사용자는 제1 이동부(331)를 이용하여 회전하는 연마석(220)의 연마면에 연마 대상이 되는 니퍼(10)의 날을 접촉시킴으로써 연마를 시작한다.

이때, 연마석(220)과 니퍼(10)의 날(11) 간의 접촉력에 의하여 연마의 정도 및 품질이 결정되는 것이므로, 세밀한 조정이 필요하다.

본 실시예에서는 가압유지부(350)가 연마석(220)과 니퍼(10) 날 간의 접촉력을 정밀하게 제어한다. 구체적으로는, 사용자는 니퍼(10)의 종류, 날의 두께, 날의 각도, 소재 등을 종합적으로 고려하여, 니퍼(10) 날에 의하여 연마석(220)에 가해지는 져야하는 가압력을 사전에 설정하고, 이러한 정보를 가압제어모듈(353)에 입력한다.

일단 니퍼(10) 날(11)이 연마석(220)에 접촉한 후에는 가압력 측정센서(351)가 니퍼(10) 날에 의하여 연마석(220)에 가해지는 가압력, 즉, 접촉력을 실시간으로 센싱한다.

가압제어모듈(353)은 제어모터(352)를 통하여 제1 이동부(331)를 제어하는 방식으로 가압력 측정센서(351)로부터 측정되는 접촉력이 사용자에 의하여 입력된 값에 미달하는 경우에는 니퍼(10) 날(11)을 연마석(220) 측으로 추가 가압하고, 접촉력이 미리 입력된 값보다 큰 경우에는 니퍼 날로부터 가해지는 힘을 감소시킴으로써 과연마 현상이 발생하여 니퍼 날의 손상, 수명 단축 등을 방지할 수 있다.

한편, 본 실시예의 연마 공정은 물 공급부(500)에 의하여 지속적으로 수분이 공급되는 방식, 즉, 습식으로 이루어진다.

즉, 연마석(220)의 하단 일부는 수용케이스(510) 내에 수용된 스펀지부(520)와 접촉 상태를 유지한다.

스펀지부(520)는 일정량의 수분을 흡수한 상태를 유지하며, 연마석(220)은 접촉한 스펀지부(520)로부터 수분을 지속적으로 공급받음으로써, 습식 연마 공정이 진행될 수 있는 것이다. 이때, 감지부(530)가 스펀지부(520)의 물 흡수율을 실시간으로 감지하며, 물 공급 제어부(540)는 스펀지부(520)의 흡수율이 정해진 정도로 유지될 수 있도록 물 공급을 제어한다.

이러한 방식에 의하여, 스펀지부(520)의 물 흡수율은 항상 일정하게 유지되고, 일정한 조건 하에서 습식 연마가 진행될 수 있다. 종래의 니퍼(10) 날(11)을 연마하는 장치의 경우에는 물을 공급하지 않고 건식 조건으로 진행되어, 니퍼(10) 날(11)의 수명이 줄어들고, 날의 강도가 감소하는 등의 문제가 있었으나, 본 실시예에서와 같은 습식 연마 공정에 의하면 니퍼 날의 강도를 유지한 상태로 연마가 가능하다는 장점이 있다.

특히, 상술한 수분 공급 방식에 의하면, 노즐과 같은 방식을 기반으로 물을 직접 공급하는 경우에 발생할 수 있는 과도한 물 낭비 문제를 해결할 수 있을 뿐만 아니라, 연마 과정에서 튀는 물에 의하여 작업자의 옷이 젖는 등의 부가적인 문제도 해결될 수 있다는 장점이 있는 것이다.

보조 고정부를 통한 니퍼 연마

도 7은 도 1의 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치를 이용한 니퍼 날 외측 연마 방법을 설명하기 위한 것이다.

상술한 방법에 의하여 니퍼(10)를 구성하는 한 쌍의 날(11)을 각각 연마한 후에 연마 정도의 차이로 인하여 한 쌍의 날이 정확히 맞닿지 않는 경우가 발생할 수 있다. 이러한 경우에는 한 쌍의 날을 오므린 후 외측면의 연마가 필요하다

본 실시예에서는 보조고정부(350)에 니퍼(10)를 고정시킨 상태에서 연마를 진행함으로써, 니퍼(10) 날(11)의 외측을 연마할 수 있다.

즉, 도 7에 도시된 바와 같이, 베이스패널(341)과 이격패널(342) 사이에 니퍼(10)를 세로로 진입시키고, 간격조절부재(343)를 조절하여 베이스패널(341)과 이격패널(342) 사이의 공간을 감소시킴으로써 니퍼를 고정시킨다.

상술한 방법에서와 같이, 이송부(300)를 이용하여 니퍼(10)를 연마석에 접근시켜 연마를 수행함으로써, 니퍼(10)의 외측면의 연마가 가능하다.

따라서 본 발명에 의하면, 홀더(310)에 양측 날을 이격시킨 상태로 니퍼(10)를 가로방향(지면과 나란하게)으로 고정하여 각각의 내측면을 연마할 수 있을 뿐만 아니라, 양측 날을 오므린 상태로 니퍼(10)를 세로 방향으로 고정하여 날의 외측면을 동시에 연마하는 후공정을 수행함으로써, 보다 세밀한 연마가 가능할 수 있다.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.

100 : 프레임 200 : 연마부
300 : 이송부 400 : 램프부
500 : 물 공급부

Claims (10)

1. 네일 케어에 사용되는 니퍼의 날을 연마하기 위한 장치로서,
   프레임;
   상기 프레임에 설치되며, 회전하여 접촉하는 니퍼 날을 연마하는 연마석;
   상기 니퍼를 원하는 위치로 이송시키는 이송부;
   상기 연마석에 물을 공급하는 물 공급부;
   상기 이송부에 장착되며, 양측 날이 맞물린 상태에서 니퍼를 고정하는 보조 고정부;를 포함하고,
   상기 이송부는, 상기 니퍼를 고정하는 홀더; 상기 홀더에 고정된 니퍼를 3축 회동시키는 회동부; 상기 홀더에 고정된 니퍼를 직선 이동시키는 직선이동부;를 포함하고,
   상기 홀더는, 한 쌍의 손잡이부가 서로 엇갈린 상태로 니퍼가 수용되는 수용홈이 형성된 고정플레이트; 상기 수용홈에 수용된 니퍼에 밀착하여 두께 방향으로 가압하는 가압체결부;를 포함하고,
   상기 직선이동부는, 상기 니퍼를 상기 연마석의 회전축과 나란한 방향을 따라 이동시키는 제1 이동부; 상기 제1 이동부와 수직한 방향을 따라 이동시키는 제2 이동부;를 포함하고,
   상기 이송부는, 상기 연마석과 상기 니퍼 날 간의 가압력이 유지되도록 상기 제1 이동부를 제어하는 가압유지부를 더 포함하고,
   상기 가압유지부는, 상기 연마석과 상기 니퍼의 날 사이에 가해지는 가압력을 실시간으로 측정하는 가압력 측정센서; 상기 제1 이동부의 이동량을 제어하는 제어모터; 상기 가압력 측정센서로부터 측정되는 가압력 정보를 기반으로, 상기 니퍼의 날에 가해지는 가압력을 유지하도록 상기 제어모터를 제어하는 가압제어모듈;을 포함하고,
   상기 물 공급부는, 상기 연마석의 적어도 일부를 수용하는 수용케이스; 물을 흡수한 상태에서 상기 연마석과 접촉 상태를 유지하도록 상기 수용케이스 내에 설치되는 스펀지부; 상기 수용케이스에 물을 제공하는 물 제공부; 상기 스펀지부의 물 흡수율을 실시간으로 감지하는 감지부; 상기 스펀지부의 물 흡수율이 일정하게 유지되도록 상기 물 제공부를 제어하는 물 공급 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치.
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4. 청구항 1에 있어서,
   상기 프레임은,
   지면과 수평하게 배치되는 수평 프레임; 상기 수평 프레임으로부터 상측으로 연장되는 벽체 프레임;을 포함하고,
   상기 연마석은 상기 벽체 프레임 상에 높이 조절 가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치.
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7. 청구항 1에 있어서,
   상기 프레임에 장착되며, 상기 연마석을 향하여 광을 조사하는 램프부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치.
8. 청구항 7에 있어서,
   상기 이송부는 니퍼를 고정하는 홀더를 더 포함하고,
   상기 홀더는,
   연마 대상 니퍼의 한 쌍의 날이 이격된 상태로 수용될 수 있는 수용홈이 형성되는 고정 플레이트; 상기 고정 플레이트에 수용된 니퍼를 두께 방향으로 가압하여 고정시키는 가압체결부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 기반의 네일 케어용 니퍼 날 연마 장치.
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