KR102222458B1 - Docking assembly, Apparatus for treating substrate with the assembly, and Docking method using the apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판을 처리하는 장치는 기판에 대해 도포 또는 현상 공정을 수행하며, 제1개구가 형성되는 공정 모듈, 상기 공정 모듈을 외부의 노광 장치에 연결하도록 제공되며, 상기 제1개구와 마주하는 제2개구가 형성되고, 상기 공정 모듈에 도킹되는 인터페이스 모듈, 그리고 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈의 사이에서 상기 제1개구와 상기 제2개구를 실링하는 실링 어셈블리를 포함하되, 상기 실링 어셈블리는 상기 제1개구와 상기 제2개구의 사이 공간을 실링하는 실링 부재와 상기 실링 부재가 장착되며, 상기 제1개구 또는 상기 제2개구에 설치되는 브라켓을 포함하되, 상기 실링 부재는 팽창 또는 수축 가능하게 제공된다. The present invention relates to an apparatus and method for processing a substrate. The apparatus for processing a substrate is a process module in which a first opening is formed, a process module in which a first opening is formed, and a second opening facing the first opening, provided to connect the process module to an external exposure apparatus. Is formed, and an interface module docked to the process module, and a sealing assembly for sealing the first opening and the second opening between the process module and the interface module, wherein the sealing assembly comprises the first opening And a sealing member for sealing a space between the second opening and the sealing member, and a bracket installed at the first opening or the second opening, wherein the sealing member is provided to be expandable or contractable.
Description
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for processing a substrate.
반도체소자를 제조하기 위해서, 기판에 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착 등의 다양한 공정들을 통해 원하는 패턴을 기판에 형성한다. 이러한 공정들은 다시 복수의 공정 처리들을 포함하며, 각각의 공정 처리는 서로 다른 공정 처리 장치에서 진행된다.In order to manufacture a semiconductor device, a desired pattern is formed on the substrate through various processes such as photographing, etching, ashing, ion implantation, and thin film deposition on the substrate. These processes again include a plurality of process treatments, and each process treatment is performed in a different process treatment device.
이러한 다양한 공정 처리는 정해진 순서에 따라 순차적으로 진행된다. 따라서 기판이 처리되는 순서에 따라 복수의 처리실들이 배열된다. 동종 또는 유사 종류의 공정을 수행하는 처리실들이 하나의 모듈에 포함되도록 위치된다. These various process treatments are sequentially performed according to a predetermined order. Accordingly, a plurality of processing chambers are arranged according to the order in which the substrates are processed. The processing chambers that perform processes of the same or similar types are positioned to be included in one module.
따라서 복수의 모듈은 서로 탈착되는 구조를 가지며, 2 이상의 모듈이 장착되는 과정에서 모듈들 간의 틈을 실링하기 위한 실링 부재는 필수적으로 제공된다.Accordingly, the plurality of modules have a structure in which they are detachable from each other, and a sealing member for sealing a gap between the modules in the process of mounting two or more modules is essentially provided.
도 1은 일반적으로 모듈들이 장착되여 배열되는 구조를 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1의 제1모듈과 제2모듈을 보여주는 평면도이며, 도 3은 도 1 의 제2모듈 및 실링 부재를 보여주는 정면도이다. 도 1 내지 도 3을 참조하면, 일반적으로 복수의 모듈들은 제1방향을 따라 배열되며, 이들은 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동되면서 분리된다. 이때 실링 부재(6)는 제2모듈(4)이 이동되는 과정에서 제1모듈(2)과 마찰된다. 이에 따라 실링 부재(6)는 손상되며, 제1모듈(2)과 제2모듈(6)의 틈을 실링하기 위한 기능을 제대로 수행하기 어렵다.1 is a perspective view showing a structure in which modules are generally mounted and arranged, FIG. 2 is a plan view showing a first module and a second module of FIG. 1, and FIG. 3 is a front view showing the second module and the sealing member of FIG. 1 to be. 1 to 3, in general, a plurality of modules are arranged along a first direction, and they are separated while being moved in a second direction perpendicular to the first direction. At this time, the sealing
뿐만 아니라 실링 부재(6)는 제1모듈(2)과 마주하는 제2모듈(4)의 일측면에 설치된다. 이로 인해 실링 부재만을 유지보수하거나 교체하기 위해 실링 부재를 제거하기 위해서는 제1모듈과 제2모듈의 도킹을 해제해야만 하며, 모듈들 간의 도킹 해제없이 실링 부재를 분리하는 것은 어렵다.In addition, the
본 발명은 제1모듈과 제2모듈의 틈을 실링하는 실링 부재가 손상되는 것을 방지할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an apparatus and method capable of preventing damage to a sealing member that seals a gap between a first module and a second module.
또한 본 발명은 모듈들 간의 도킹 해제없이 실링 부재를 제거할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide an apparatus and method capable of removing a sealing member without undocking between modules.
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판을 처리하는 장치는 기판에 대해 도포 또는 현상 공정을 수행하며, 제1개구가 형성되는 공정 모듈, 상기 공정 모듈을 외부의 노광 장치에 연결하도록 제공되며, 상기 제1개구와 마주하는 제2개구가 형성되고, 상기 공정 모듈에 도킹되는 인터페이스 모듈, 그리고 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈의 사이에서 상기 제1개구와 상기 제2개구를 실링하는 실링 어셈블리를 포함하되, 상기 실링 어셈블리는 상기 제1개구와 상기 제2개구의 사이 공간을 실링하는 실링 부재와 상기 실링 부재가 장착되며, 상기 제1개구 또는 상기 제2개구에 설치되는 브라켓을 포함하되, 상기 실링 부재는 팽창 또는 수축 가능하게 제공된다. Embodiments of the present invention relate to an apparatus and method for processing a substrate. The apparatus for processing a substrate is a process module in which a first opening is formed, a process module in which a first opening is formed, and a second opening facing the first opening, provided to connect the process module to an external exposure apparatus. Is formed, and an interface module docked to the process module, and a sealing assembly for sealing the first opening and the second opening between the process module and the interface module, wherein the sealing assembly comprises the first opening And a sealing member for sealing a space between the second opening and the sealing member, and a bracket installed at the first opening or the second opening, wherein the sealing member is provided to be expandable or contractable.
상기 공정 모듈에 상기 인터페이스 모듈이 도킹된 상태에서 상기 실링 부재는, 팽창 시에 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈 중 어느 하나부터 다른 하나가 제공된 영역까지 연장되게 위치되고, 수축 시에 상기 어느 하나부터 상기 다른 하나까지 연장되지 않도록 위치되게 제공될 수 있다. In a state in which the interface module is docked to the process module, the sealing member is positioned to extend from one of the process module and the interface module to an area provided with the other when inflated, and when contracted, the sealing member It may be provided to be positioned so as not to extend to the other.
상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈은 제1방향을 따라 배열되고, 상기 어느 하나는 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. The process module and the interface module may be arranged along a first direction, and one of the process modules may be provided to be movable along a second direction perpendicular to the first direction.
상기 제1개구의 내부 또는 상기 제2개구의 내부에 위치되고, 상기 실링 부재는 상기 브라켓과 결합되는 몸통부와 상기 몸통부로부터 연장되는 실링부를 포함하되, 상기 몸통부는 상기 제1개구 또는 상기 제2개구에 위치되고, 상기 실링부는 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈의 사이에 위치될 수 있다. Located inside the first opening or inside the second opening, the sealing member includes a body portion coupled to the bracket and a sealing portion extending from the body portion, wherein the body portion It is located at the two openings, and the sealing part may be located between the process module and the interface module.
제2항의 기판 처리 장치에서 상기 인터페이스 모듈을 상기 공정모듈에 도킹하는 방법에 있어서, 상기 실링 부재가 수축된 상태에서 상기 인터페이스 모듈을 상기 공정 모듈에 대해 상대 이동시켜 상기 인터페이스 모듈을 상기 공정 모듈에 도킹하고, 상기 인터페이스 모듈이 상기 공정 모듈에 도킹되면, 상기 실링 부재를 팽창시켜 상기 제1개구와 상기 제2개구 사이를 실링한다. In the method of docking the interface module to the process module in the substrate processing apparatus of
상기 공정 모듈에 상기 인터페이스 모듈이 도킹된 상태에서 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈은 제1방향으로 배열되고, 상기 인터페이스 모듈의 상대 이동은 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동될 수 있다. When the interface module is docked to the process module, the process module and the interface module are arranged in a first direction, and a relative movement of the interface module may be moved in a second direction perpendicular to the first direction.
상기 공정 모듈은 기판에 대해 도포 또는 현상 공정을 수행하고, 상기 인터페이스 모듈은 상기 공정 모듈을 외부의 노광 장치에 연결할 수 있다. The process module may perform a coating or development process on a substrate, and the interface module may connect the process module to an external exposure apparatus.
또한 기판 처리 장치는 제1개구가 형성되는 제1모듈, 상기 제1개구와 마주하는 제2개구가 형성되고, 상기 제1모듈과 도킹되는 제2모듈, 그리고 상기 제1모듈과 상기 제2모듈의 사이에서 상기 제1개구와 상기 제2개구를 실링하는 실링 어셈블리를 포함하되, 상기 실링 어셈블리는, 상기 제1개구와 상기 제2개구의 사이 공간을 실링하는 실링 부재와 상기 실링 부재가 장착되며, 상기 제2모듈에 설치되는 브라켓을 포함하되, 상기 실링 부재는 팽창 또는 수축 가능하게 제공된다. In addition, the substrate processing apparatus includes a first module having a first opening, a second module having a second opening facing the first opening, and docking with the first module, and the first module and the second module. And a sealing assembly for sealing the first opening and the second opening between, wherein the sealing assembly includes a sealing member and the sealing member for sealing a space between the first opening and the second opening, and And a bracket installed on the second module, wherein the sealing member is provided to be expandable or contractable.
상기 실링 부재는 내부에 가스가 제공되는 내부 공간을 가지고, 상기 내부 공간에 제공된 가스압에 따라 상기 실링부재는 팽창 또는 수축될 수 있다. 상기 실링 어셈블리는 상기 내부 공간과 연결되어 상기 가스를 상기 내부 공간으로 유입하거나 상기 내부 공간으로부터 가스를 배출하는 가스 라인을 더 포함할 수 있다. The sealing member has an internal space in which gas is provided, and the sealing member may expand or contract according to a gas pressure provided in the internal space. The sealing assembly may further include a gas line connected to the inner space to introduce the gas into the inner space or discharge gas from the inner space.
상기 제1모듈과 상기 제2모듈이 도킹된 상태에서 상기 실링 부재는, 팽창 시에 상기 제2모듈로부터 상기 제1모듈이 제공된 영역까지 연장되게 위치되고, 수축 시에 상기 제2모듈로부터 상기 제1모듈까지 연장되지 않게 위치되도록 제공될 수 있다. In a state in which the first module and the second module are docked, the sealing member is positioned to extend from the second module to an area where the first module is provided during expansion, and when the second module is contracted, the sealing member It may be provided to be positioned so as not to extend to one module.
상기 제1모듈과 상기 제2모듈은 제1방향을 따라 배치되고, 상기 제1모듈과 상기 제2모듈 중 하나는 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. The first module and the second module may be disposed along a first direction, and one of the first module and the second module may be provided to be movable along a second direction perpendicular to the first direction.
상기 브라켓은 상기 제2개구 내에 위치되고, 상기 실링 부재는 상기 브라켓과 결합되는 몸통부와 상기 몸통부로부터 연장되는 실링부를 포함하되, 상기 몸통부는 상기 제2개구에 위치되고, 상기 실링부는 상기 제1모듈과 상기 제2모듈의 사이에 위치될 수 있다. 상기 브라켓은 상기 제2개구를 형성하는 내측면을 감싸도록 제공되며, 상기 브라켓에는 상기 내측면을 향하는 방향으로 볼트가 체결되어 상기 브라켓과 상기 내측면이 결합될 수 있다. The bracket is located in the second opening, and the sealing member includes a body portion coupled to the bracket and a sealing portion extending from the body portion, wherein the body portion is located at the second opening, and the sealing portion It may be located between the first module and the second module. The bracket is provided to surround an inner surface forming the second opening, and a bolt is fastened to the bracket in a direction toward the inner surface, so that the bracket and the inner surface may be coupled.
본 발명의 실시예에 의하면, 실링 부재는 팽창 또는 수축이 가능하도록 제공된다. 이로 인해 실링 부재가 손상되는 것을 방지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the sealing member is provided to be able to expand or contract. This can prevent the sealing member from being damaged.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 실링 부재가 설치되는 브라켓은 모듈들의 사이 공간이 아닌 모듈에 형성된 개구 내에 위치된다. 이로 인해 모듈의 도킹 해제없이 실링 부재재를 모듈로부터 분리할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the bracket in which the sealing member is installed is located in the opening formed in the module, not in the space between the modules. This allows the sealing member to be separated from the module without undocking the module.
도 1은 일반적으로 모듈들이 장착되여 배열되는 구조를 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 제1모듈과 제2모듈을 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 1 의 제2모듈 및 실링 부재를 보여주는 정면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 5는 도 4의 도포 블럭 또는 현상 블럭을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 6은 도 4의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 7은 도 6의 반송 로봇의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 8은 도 6의 열처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 9는 도 8의 열처리 챔버의 정면도이다.
도 10은 도 6의 액 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 11은 도 4의 인터페이스 모듈을 보여주는 정면도이다.
도 12는 도 11의 실링 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 13은 도 12의 실링 어셈블리를 위에서 아래로 바라본 수평 단면도이다.
도 14 및 도 15는 실링 부재의 팽창 및 수축을 보여주는 도면들이다.1 is a perspective view showing a structure in which modules are generally mounted and arranged.
2 is a plan view showing a first module and a second module of FIG. 1.
3 is a front view showing the second module and the sealing member of FIG. 1.
4 is a perspective view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus showing the coating block or the developing block of FIG. 4.
6 is a plan view of the substrate processing apparatus of FIG. 4.
7 is a diagram illustrating an example of a hand of the transfer robot of FIG. 6.
8 is a plan view schematically showing an example of the heat treatment chamber of FIG. 6.
9 is a front view of the heat treatment chamber of FIG. 8.
10 is a diagram schematically illustrating an example of the liquid processing chamber of FIG. 6.
11 is a front view showing the interface module of FIG. 4.
12 is a perspective view showing the sealing assembly of FIG. 11.
13 is a horizontal cross-sectional view of the sealing assembly of FIG. 12 viewed from top to bottom.
14 and 15 are views showing the expansion and contraction of the sealing member.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those with average knowledge in the industry. Therefore, the shape of the element in the drawings is exaggerated to emphasize a clearer description.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 5는 도 4의 도포 블럭 또는 현상 블럭을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이며, 도 6은 도 4의 기판 처리 장치의 평면도이다.4 is a perspective view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus showing a coating block or a developing block of FIG. 4, and FIG. 6 is a substrate processing apparatus of FIG. 4 It is a top view.
도 4 내지 도 6을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 인덱스 모듈(20,index module), 공정 모듈(30, treating module), 인터페이스 모듈(40, interface module), 그리고 도킹 어셈블리를 포함한다. 일 실시예에 의하며, 인덱스 모듈(20), 공정 모듈(30), 그리고 인터페이스 모듈(40)은 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(20), 공정 모듈(30), 그리고 인터페이스 모듈(40)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하고, 제1방향(12) 및 제2방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3 방향(16)이라 한다.4 to 6, the
인덱스 모듈(20)은 기판(W)이 수납된 용기(10)로부터 기판(W)을 공정 모듈(30)로 반송하고, 처리가 완료된 기판(W)을 용기(10)로 수납한다. 인덱스 모듈(20)의 길이 방향은 제2방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(20)은 로드포트(22)와 인덱스 프레임(24)을 가진다. 인덱스 프레임(24)을 기준으로 로드포트(22)는 공정 모듈(30)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(10)는 로드포트(22)에 놓인다. 로드포트(22)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(22)는 제2방향(14)을 따라 배치될 수 있다. The
용기(10)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기(10)가 사용될 수 있다. 용기(10)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드포트(22)에 놓일 수 있다. As the
인덱스 프레임(24)의 내부에는 인덱스 로봇(2200)이 제공된다. 인덱스 프레임(24) 내에는 길이 방향이 제2방향(14)으로 제공된 가이드 레일(2300)이 제공되고, 인덱스 로봇(2200)은 가이드 레일(2300) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(2200)은 기판(W)이 놓이는 핸드(2220)를 포함하며, 핸드(2220)는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. An
공정 모듈(30)은 기판(W)에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행한다. 공정 모듈(30)은 도포 블럭(30a) 및 현상 블럭(30b)을 가진다. 도포 블럭(30a)은 기판(W)에 대해 도포 공정을 수행하고, 현상 블럭(30b)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행한다. 도포 블럭(30a)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 현상 블럭(30b)은 복수 개가 제공되며, 현상 블럭들(30b)은 서로 적층되게 제공된다. 도 3의 실시예에 의하면, 도포 블럭(30a)은 2개가 제공되고, 현상 블럭(30b)은 2개가 제공된다. 도포 블럭들(30a)은 현상 블럭들(30b)의 아래에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 2개의 도포 블럭들(30a)은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다. 또한, 2개의 현상 블럭들(30b)은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다.The
도 6을 참조하면, 도포 블럭(30a)은 열처리 챔버(3200), 반송 챔버(3400), 액 처리 챔버(3600), 그리고 버퍼 챔버(3800)를 가진다. 열처리 챔버(3200)는 기판(W)에 대해 열처리 공정을 수행한다. 열처리 공정은 냉각 공정 및 가열 공정을 포함할 수 있다. 액처리 챔버(3600)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 액막을 형성한다. 액막은 포토레지스트막 또는 반사방지막일 수 있다. 반송 챔버(3400)는 도포 블럭(30a) 내에서 열처리 챔버(3200)와 액처리 챔버(3600) 간에 기판(W)을 반송한다. Referring to FIG. 6, the
반송 챔버(3400)는 그 길이 방향이 제1방향(12)과 평행하게 제공된다. 반송 챔버(3400)에는 반송 로봇(3422)이 제공된다. 반송 로봇(3422)은 열처리 챔버(3200), 액처리 챔버(3600), 그리고 버퍼 챔버(3800) 간에 기판을 반송한다. 일 예에 의하면, 반송 로봇(3422)은 기판(W)이 놓이는 핸드(3420)를 가지며, 핸드(3420)는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 챔버(3400) 내에는 그 길이 방향이 제1방향(12)과 평행하게 제공되는 가이드 레일(3300)이 제공되고, 반송 로봇(3422)은 가이드 레일(3300) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. The conveying
도 7는 도 4의 반송 로봇의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 7을 참조하면, 핸드(3420)는 베이스(3428) 및 지지 돌기(3429)를 가진다. 베이스(3428)는 원주의 일부가 절곡된 환형의 링 형상을 가질 수 있다. 베이스(3428)는 기판(W)의 직경보다 큰 내경을 가진다. 지지 돌기(3429)는 베이스(3428)로부터 그 내측으로 연장된다. 지지 돌기(3429)는 복수 개가 제공되며, 기판(W)의 가장자리 영역을 지지한다. 일 예에 의하며, 지지 돌기(3429)는 등 간격으로 4개가 제공될 수 있다. 7 is a diagram illustrating an example of a hand of the transfer robot of FIG. 4. Referring to FIG. 7, the
열처리 챔버(3200)는 복수 개로 제공된다. 열처리 챔버들(3200)은 제1방향(12)을 따라 나열되게 배치된다. 열처리 챔버들(3202)은 반송 챔버(3400)의 일측에 위치된다. 열처리 챔버들(3202) 중 인덱스 모듈(20)에 가장 인접하게 위치되는 열처리 챔버는 액처리 챔버(3600)에 기판을 반송하기 전에 기판을 열처리하고, 그 외의 열처리 챔버는 액처리 챔버(3600)에서 액처리된 기판을 열처리한다. 본 실시예에는 인덱스 모듈(20)에 가장 인접하게 위치되는 열처리 챔버를 전단 열처리 챔버로 정의한다. The
전단 열처리 챔버는 기판(W) 가열 중에 가스를 공급하여 포토레지스트의 기판(W) 부착률을 향상시킬 수 있다. 일 예에 의하면, 가스는 헥사메틸디실란(hexamethyldisilane) 가스일 수 있다. The shear heat treatment chamber may supply gas while heating the substrate W to improve the adhesion rate of the photoresist to the substrate W. According to an example, the gas may be hexamethyldisilane gas.
도 8은 도 6의 열처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 9는 도 8의 열처리 챔버의 정면도이다. 도 8 및 도 9를 참조하면, 열처리 챔버(3202)는 하우징(3210), 냉각 유닛(3220), 가열 유닛(3230), 그리고 반송 플레이트(3240)를 가진다. 8 is a plan view schematically showing an example of the heat treatment chamber of FIG. 6, and FIG. 9 is a front view of the heat treatment chamber of FIG. 8. 8 and 9, the
하우징(3210)은 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 하우징(3210)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(도시되지 않음)가 형성된다. 반입구는 개방된 상태로 유지될 수 있다. 선택적으로 반입구를 개폐하도록 도어(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. 냉각 유닛(3220), 가열 유닛(3230), 그리고 반송 플레이트(3240)는 하우징(3210) 내에 제공된다. 냉각 유닛(3220) 및 가열 유닛(3230)은 제2방향(14)을 따라 나란히 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 유닛(3220)은 가열 유닛(3230)에 비해 반송 챔버(3400)에 더 가깝게 위치될 수 있다.The
냉각 유닛(3220)은 냉각판(3222)을 가진다. 냉각판(3222)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 냉각판(3222)에는 냉각부재(3224)가 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각부재(3224)는 냉각판(3222)의 내부에 형성되며, 냉각 유체가 흐르는 유로로 제공될 수 있다. The
가열 유닛(3230)은 가열판(3232), 커버(3234), 그리고 히터(3233)를 가진다. 가열판(3232)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가진다. 가열판(3232)은 기판(W)보다 큰 직경을 가진다. 가열판(3232)에는 히터(3233)가 설치된다. 히터(3233)는 전류가 인가되는 발열저항체로 제공될 수 있다. 가열판(3232)에는 제3 방향(16)을 따라 상하 방향으로 구동 가능한 리프트 핀(3238)들이 제공된다. 리프트 핀(3238)은 가열 유닛(3230) 외부의 반송 수단으로부터 기판(W)을 인수받아 가열판(3232) 상에 내려놓거나 가열판(3232)으로부터 기판(W)을 들어올려 가열 유닛(3230) 외부의 반송 수단으로 인계한다. 일 예에 의하면, 리프트 핀(3238)은 3개가 제공될 수 있다. 커버(3234)는 내부에 하부가 개방된 공간을 가진다. 커버(3234)는 가열판(3232)의 상부에 위치되며 구동기(3236)에 의해 상하 방향으로 이동된다. 커버(3234)가 가열판(3232)에 접촉되면, 커버(3234)와 가열판(3232)에 의해 둘러싸인 공간은 기판(W)을 가열하는 가열 공간으로 제공된다. The
반송 플레이트(3240)는 대체로 원판 형상을 제공되고, 기판(W)과 대응되는 직경을 가진다. 반송 플레이트(3240)의 가장자리에는 노치(3244)가 형성된다. 노치(3244)는 상술한 반송 로봇(3422)의 핸드(3420)에 형성된 돌기(3429)와 대응되는 형상을 가질 수 있다. 또한, 노치(3244)는 핸드(3420)에 형성된 돌기(3429)와 대응되는 수로 제공되고, 돌기(3429)와 대응되는 위치에 형성된다. 핸드(3420)와 반송 플레이트(3240)가 상하 방향으로 정렬된 위치에서 핸드(3420)와 반송 플레이트(3240)의 상하 위치가 변경하면 핸드(3420)와 반송 플레이트(3240) 간에 기판(W)의 전달이 이루어진다. 반송 플레이트(3240)는 가이드 레일(3249) 상에 장착되고, 구동기(3246)에 의해 가이드 레일(3249)을 따라 제1영역(3212)과 제2영역(3214) 간에 이동될 수 있다. 반송 플레이트(3240)에는 슬릿 형상의 가이드 홈(3242)이 복수 개 제공된다. 가이드 홈(3242)은 반송 플레이트(3240)의 끝단에서 반송 플레이트(3240)의 내부까지 연장된다. 가이드 홈(3242)은 그 길이 방향이 제2방향(14)을 따라 제공되고, 가이드 홈(3242)들은 제1방향(12)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 가이드 홈(3242)은 반송 플레이트(3240)와 가열 유닛(3230) 간에 기판(W)의 인수인계가 이루어질 때 반송 플레이트(3240)와 리프트 핀(1340)이 서로 간섭되는 것을 방지한다. The
기판(W)의 가열은 기판(W)이 지지 플레이트(1320) 상에 직접 놓인 상태에서 이루어지고, 기판(W)의 냉각은 기판(W)이 놓인 반송 플레이트(3240)가 냉각판(3222)에 접촉된 상태에서 이루어진다. 냉각판(3222)과 기판(W) 간에 열전달이 잘 이루어지도록 반송 플레이트(3240)는 열전달율이 높은 재질로 제공된다. 일 예에 의하면, 반송 플레이트(3240)는 금속 재질로 제공될 수 있다. The substrate W is heated while the substrate W is directly placed on the support plate 1320, and the substrate W is cooled by the
액처리 챔버(3600)는 복수 개로 제공된다. 액처리 챔버들(3600) 중 일부는 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 액 처리 챔버들(3600)은 반송 챔버(3402)의 일측에 배치된다. 액 처리 챔버들(3600)은 제1방향(12)을 따라 나란히 배열된다. 액 처리 챔버들(3600) 중 일부는 인덱스 모듈(20)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액처리 챔버를 전단 액처리 챔버(3602)(front liquid treating chamber)라 칭한다. 액 처리 챔버들(3600)은 중 다른 일부는 인터페이스 모듈(40)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액처리 챔버를 후단 액처리 챔버(3604)(rear heat treating chamber)라 칭한다. The
전단 액처리 챔버(3602)는 기판(W)상에 제1액을 도포하고, 후단 액처리 챔버(3604)는 기판(W) 상에 제2액을 도포한다. 제1액과 제2액은 서로 상이한 종류의 액일 수 있다. 일 실시예에 의하면, 제1액은 반사 방지막이고, 제2액은 포토레지스트이다. 포토레지스트는 반사 방지막이 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액은 포토레지스트이고, 제2액은 반사방지막일 수 있다. 이 경우, 반사방지막은 포토레지스트가 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액과 제2액은 동일한 종류의 액이고, 이들은 모두 포토레지스트일 수 있다.The front
도 10은 도 6의 액 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 10 을 참조하면, 액 처리 챔버(3600)는 하우징(3610), 처리 용기(3620), 기판 지지 유닛(3640), 그리고 액 공급 유닛(1000)을 가진다. 하우징(3610)은 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 하우징(3610)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(도시되지 않음)가 형성된다. 반입구는 도어(도시되지 않음)에 의해 개폐될 수 있다. 처리 용기(3620), 기판 지지 유닛(3640), 그리고 액 공급 유닛(1000)은 하우징(3610) 내에 제공된다. 하우징(3610)의 상벽에는 하우징(3260) 내에 하강 기류를 형성하는 팬 필터 유닛(3670)이 제공될 수 있다. 처리 용기(3620)는 상부가 개방된 컵 형상으로 제공된다. 처리 용기(3620)는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 가진다. 기판 지지 유닛(3640)은 처리 공간 내에 배치되며, 기판(W)을 지지한다. 기판 지지 유닛(3640)은 액 처리 도중에 기판(W)이 회전 가능하도록 제공된다. 액 공급 유닛(1000)은 기판 지지 유닛(3640)에 지지된 기판(W)으로 액을 공급한다. 10 is a diagram schematically illustrating an example of the liquid processing chamber of FIG. 6. Referring to FIG. 10, a
액 공급 유닛(1000)은 처리액 노즐(1100)을 포함한다. 처리액 노즐(1100)은 기판 지지 유닛(3640)에 지지된 기판(W)에 처리액을 토출한다. 예컨대, 처리액은 포토레지스트와 같은 감광액일 수 있다. 처리액 노즐(1100)은 공정 위치와 대기 위치 간에 이동된다. 여기서 공정 위치는 처리액 노즐(1100)이 기판 지지 유닛(3640)에 지지된 기판(W)의 상부에서 기판(W)과 마주하는 위치이고, 대기 위치는 처리액 노즐(1100)이 공정 위치를 벗어난 위치이다. 공정 위치는 처리액 노즐(1100)이 기판(W)의 중심으로 처리액 토출이 가능한 위치일 수 있다. The
다시 도 5 및 도 6을 참조하면, 버퍼 챔버(3800)는 복수 개로 제공된다. 버퍼 챔버들(3800) 중 일부는 인덱스 모듈(20)과 반송 챔버(3400) 사이에 배치된다. 이하, 이들 버퍼 챔버를 전단 버퍼(3802, front buffer)라 칭한다. 전단 버퍼들(3802)은 복수 개로 제공되며, 상하 방향을 따라 서로 적층되게 위치된다. 버퍼 챔버들(3802, 3804) 중 다른 일부는 반송 챔버(3400)와 인터페이스 모듈(40) 사이에 배치된다 이하. 이들 버퍼 챔버를 후단 버퍼(3804, rear buffer)라 칭한다. 후단 버퍼들(3804)은 복수 개로 제공되며, 상하 방향을 따라 서로 적층되게 위치된다. 전단 버퍼들(3802) 및 후단 버퍼들(3804) 각각은 복수의 기판들(W)을 일시적으로 보관한다. 전단 버퍼(3802)에 보관된 기판(W)은 인덱스 로봇(2200) 및 반송 로봇(3422)에 의해 반입 또는 반출된다. 후단 버퍼(3804)에 보관된 기판(W)은 반송 로봇(3422) 및 제1로봇(4602)에 의해 반입 또는 반출된다. Referring again to FIGS. 5 and 6, a plurality of buffer chambers 3800 are provided. Some of the buffer chambers 3800 are disposed between the
전단 버퍼(3802)의 일측에는 전단 반송 로봇이 위치된다. 전단 반송 로봇은 전단 버퍼(3802)와 전단 열처리 챔버 간에 기판을 반송한다. A shear transfer robot is positioned on one side of the
현상 블럭(30b)은 열처리 챔버(3200), 반송 챔버(3400), 그리고 액처리 챔버(3600)를 가진다. 현상 블럭(30b)의 열처리 챔버(3200), 그리고 반송 챔버(3400)는 도포 블럭(30a)의 열처리 챔버(3200), 그리고 반송 챔버(3400)와 대체로 유사한 구조 및 배치로 제공되므로, 이에 대한 설명은 생략한다. The developing
현상 블록(30b)에서 액처리 챔버들(3600)은 모두 동일하게 현상액을 공급하여 기판을 현상 처리하는 현상 챔버(3600)로 제공된다. In the developing
인터페이스 모듈(40)은 공정 모듈(30)을 외부의 노광 장치(50)와 연결한다. 인터페이스 모듈(40)은 인터페이스 프레임(4100), 부가 공정 챔버(4200), 인터페이스 버퍼(4400), 그리고 반송 부재(4600)를 가진다. The
인터페이스 프레임(4100)의 상단에는 내부에 하강기류를 형성하는 팬필터유닛이 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(4200), 인터페이스 버퍼(4400), 그리고 반송 부재(4600)는 인터페이스 프레임(4100)의 내부에 배치된다. 부가 공정 챔버(4200)는 도포 블럭(30a)에서 공정이 완료된 기판(W)이 노광 장치(50)로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(4200)는 노광 장치(50)에서 공정이 완료된 기판(W)이 현상 블럭(30b)으로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 일 예에 의하면, 부가 공정은 기판(W)의 에지 영역을 노광하는 에지 노광 공정, 또는 기판(W)의 상면을 세정하는 상면 세정 공정, 또는 기판(W)의 하면을 세정하는 하면 세정공정일 수 있다. 부가 공정 챔버(4200)는 복수 개가 제공되고, 이들은 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(4200)는 모두 동일한 공정을 수행하도록 제공될 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(4200)들 중 일부는 서로 다른 공정을 수행하도록 제공될 수 있다.A fan filter unit may be provided at an upper end of the
인터페이스 버퍼(4400)는 도포 블럭(30a), 부가 공정챔버(4200), 노광 장치(50), 그리고 현상 블럭(30b) 간에 반송되는 기판(W)이 반송도중에 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 인터페이스 버퍼(4400)는 복수 개가 제공되고, 복수의 인터페이스 버퍼들(4400)은 서로 적층되게 제공될 수 있다.The
일 예에 의하면, 반송 챔버(3400)의 길이 방향의 연장선을 기준으로 일 측면에는 부가 공정 챔버(4200)가 배치되고, 다른 측면에는 인터페이스 버퍼(4400)가 배치될 수 있다.According to an example, an
반송 부재(4600)는 도포 블럭(30a), 부가 공정챔버(4200), 노광 장치(50), 그리고 현상 블럭(30b) 간에 기판(W)을 반송한다. 반송 부재(4600)는 1개 또는 복수 개의 로봇으로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 반송 부재(4600)는 제1로봇(4602) 및 제2로봇(4606)을 가진다. 제1로봇(4602)은 도포 블럭(30a), 부가 공정챔버(4200), 그리고 인터페이스 버퍼(4400) 간에 기판(W)을 반송하고, 인터페이스 로봇(4606)은 인터페이스 버퍼(4400)와 노광 장치(50) 간에 기판(W)을 반송하고, 제2로봇(4604)은 인터페이스 버퍼(4400)와 현상 블럭(30b) 간에 기판(W)을 반송하도록 제공될 수 있다.The conveying
제1로봇(4602) 및 제2로봇(4606)은 각각 기판(W)이 놓이는 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)에 평행한 축을 기준으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. Each of the
인덱스 로봇(2200), 제1로봇(4602), 그리고 제2 로봇(4606)의 핸드는 모두 반송 로봇(3422)의 핸드(3420)와 동일한 형상으로 제공될 수 있다. 선택적으로 열처리 챔버의 반송 플레이트(3240)와 직접 기판(W)을 주고받는 로봇의 핸드는 반송 로봇(3422)의 핸드(3420)와 동일한 형상으로 제공되고, 나머지 로봇의 핸드는 이와 상이한 형상으로 제공될 수 있다.The hand of the
일 실시예에 의하면, 인덱스 로봇(2200)은 도포 블럭(30a)에 제공된 전단 열처리 챔버(3200)의 가열 유닛(3230)과 직접 기판(W)을 주고받을 수 있도록 제공된다. According to an embodiment, the
또한, 도포 블럭(30a) 및 현상 블럭(30b)에 제공된 반송 로봇(3422)은 열처리 챔버(3200)에 위치된 반송 플레이트(3240)와 직접 기판(W)을 주고받을 수 있도록 제공될 수 있다. In addition, the
다음에는 상술한 기판 처리 장치(1)를 이용하여 기판을 처리하는 방법의 일 실시예에 대해 설명한다. Next, an embodiment of a method of processing a substrate using the
기판(W)에 대해 도포 처리 공정(S20), 에지 노광 공정(S40), 노광 공정(S60), 그리고 현상 처리 공정(S80)이 순차적으로 수행된다. A coating process (S20), an edge exposure process (S40), an exposure process (S60), and a developing process (S80) are sequentially performed on the substrate W.
도포 처리 공정(S20)은 열처리 챔버(3200)에서 열처리 공정(S21), 전단 액처리 챔버(3602)에서 반사방지막 도포 공정(S22), 열처리 챔버(3200)에서 열처리 공정(S23), 후단 액처리 챔버(3604)에서 포토레지스트막 도포 공정(S24), 그리고 열처리 챔버(3200)에서 열처리 공정(S25)이 순차적으로 이루어짐으로써 수행된다. The coating treatment process (S20) is a heat treatment process (S21) in the
이하, 용기(10)에서 노광 장치(50)까지 기판(W)의 반송 경로의 일 예를 설명한다. Hereinafter, an example of a conveyance path of the substrate W from the
인덱스 로봇(2200)은 기판(W)을 용기(10)에서 꺼내서 전단 버퍼(3802)로 반송한다. 반송 로봇(3422)은 전단 버퍼(3802)에 보관된 기판(W)을 전단 열처리 챔버(3200)로 반송한다. 기판(W)은 반송 플레이트(3240)에 의해 가열 유닛(3230)에 기판(W)을 반송한다. 가열 유닛(3230)에서 기판의 가열 공정이 완료되면, 반송 플레이트(3240)는 기판을 냉각 유닛(3220)으로 반송한다. 반송 플레이트(3240)는 기판(W)을 지지한 상태에서, 냉각 유닛(3220)에 접촉되어 기판(W)의 냉각 공정을 수행한다. 냉각 공정이 완료되면, 반송 플레이트(3240)가 냉각 유닛(3220)의 상부로 이동되고, 반송 로봇(3422)은 열처리 챔버(3200)에서 기판(W)을 반출하여 전단 액처리 챔버(3602)로 반송한다. The
전단 액처리 챔버(3602)에서 기판(W) 상에 반사 방지막을 도포한다. An anti-reflection film is applied on the substrate W in the shear
반송 로봇(3422)이 전단 액처리 챔버(3602)에서 기판(W)을 반출하여 열처리 챔버(3200)로 기판(W)을 반입한다. 열처리 챔버(3200)에는 상술한 가열 공정 및 냉각 공정 순차적으로 진행되고, 각 열처리 공정이 완료되면, 반송 로봇(3422)은 기판(W)을 반출하여 후단 액처리 챔버(3604)로 반송한다. The
이후, 후단 액처리 챔버(3604)에서 기판(W) 상에 포토레지스트막을 도포한다. Thereafter, a photoresist film is applied on the substrate W in a
반송 로봇(3422)이 후단 액처리 챔버(3604)에서 기판(W)을 반출하여 열처리 챔버(3200)으로 기판(W)을 반입한다. 열처리 챔버(3200)에는 상술한 가열 공정 및 냉각 공정이 순차적으로 진행되고, 각 열처리 공정이 완료되면, 반송 로봇(3422)은 기판(W)을 후단 버퍼(3804)로 반송한다. 인터페이스 모듈(40)의 제1로봇(4602)이 후단 버퍼(3804)에서 기판(W)을 반출하여 보조 공정챔버(4200)로 반송한다. The
보조 공정챔버(4200)에서 기판(W)에 대해 에지 노광 공정이 수행된다.An edge exposure process is performed on the substrate W in the
이후, 제1로봇(4602)이 보조 공정챔버(4200)에서 기판(W)을 반출하여 인터페이스 버퍼(4400)로 기판(W)을 반송한다.Thereafter, the
이후, 제2로봇(4606)은 인터페이스 버퍼(4400)에서 기판(W)을 반출하여 노광 장치(50)로 반송한다.Thereafter, the
현상 처리 공정(S80)은 열처리 챔버(3200)에서 열처리 공정(S81), 액처리 챔버(3600)에서 현상 공정(S82), 그리고 열처리 챔버(3200)에서 열처리 공정(S83)이 순차적으로 이루어짐으로써 수행된다. The development treatment process (S80) is performed by sequentially performing a heat treatment process (S81) in the
이하, 노광 장치(50)에서 용기(10)까지 기판(W)의 반송 경로의 일 예를 설명한다, Hereinafter, an example of a conveyance path of the substrate W from the
제2로봇(4606)이 노광 장치(50)에서 기판(W)을 반출하여 인터페이스 버퍼(4400)로 기판(W)을 반송한다.The
이후, 제1로봇(4602)이 인터페이스 버퍼(4400)에서 기판(W)을 반출하여 후단 버퍼(3804)로 기판(W)을 반송한다. 반송 로봇(3422)은 후단 버퍼(3804)에서 기판(W)을 반출하여 열처리 챔버(3200)로 기판(W)을 반송한다. 열처리 챔버(3200)에는 기판(W)의 가열 공정 및 냉각 공정이 순차적으로 수행한다. 냉각 공정이 완료되면, 기판(W)은 반송 로봇(3422)에 의해 현상 챔버(3600)로 반송한다. Thereafter, the
현상 챔버(3600)에는 기판(W) 상에 현상액을 공급하여 현상 공정을 수행한다. A developing process is performed by supplying a developer to the developing
기판(W)은 반송 로봇(3422)에 의해 현상 챔버(3600)에서 반출되어 열처리 챔버(3200)로 반입된다. 기판(W)은 열처리 챔버(3200)에서 가열 공정 및 냉각 공정이 순차적으로 수행된다. 냉각 공정이 완료되면, 기판(W)은 반송 로봇(3422)에 의해 열처리 챔버(3200)에서 기판(W)을 반출되어 전단 버퍼(3802)로 반송한다. The substrate W is carried out from the developing
이후, 인덱스 로봇(2200)이 전단 버퍼(3802)에서 기판(W)을 꺼내어 용기(10)로 반송한다. Thereafter, the
상술한 기판 처리 장치(1)의 처리 블럭은 도포 처리 공정과 현상 처리 공정을 수행하는 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리 기판 처리 장치(1)는 인터페이스 모듈 없이 인덱스 모듈(20)과 처리 블럭(37)만을 구비할 수 있다. 이 경우, 처리 블럭(37)은 도포 처리 공정만을 수행하고, 기판(W) 상에 도포되는 막은 스핀 온 하드마스크막(SOH)일 수 있다.The processing block of the above-described
다음은 각각의 모듈을 도킹하는 도킹 어셈블리에 대해 설명한다. 도킹 어셈블리는 2 개의 모듈인 제1모듈(30)과 제2모듈(40)이 도킹되는 상태에서 이들 모듈 간의 틈을 실링하는 실링 어셈블리(5000)를 포함한다. 여기서 제1모듈(30)과 제2모듈(40)은 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)일 수 있다. 실링 어셈블리(5000)에 설명하기 앞서, 각 모듈이 도킹 및 해제되는 과정에 대해 설명한다.The following describes a docking assembly for docking each module. The docking assembly includes a sealing
상술한 바와 같이 인덱스 모듈(20), 공정 모듈(30), 그리고 인터페이스 모듈(40)은 서로 도킹된 상태에서 제1방향(12)으로 배치된다. As described above, the
인덱스 모듈(20)은 공정 모듈(30)에 상대 이동되어 공정 모듈(30)에 도킹되거나 도킹이 해제된다. 이와 유사하게 인터페이스 모듈(40)은 공정 모듈(30)에 상대 이동되어 공정 모듈(30)에 도킹되거나 도킹이 해제된다. 인덱스 모듈(20)과 인터페이스 모듈(40) 각각은 제2방향(14)으로 직선 이동되어 공정 모듈(30)에 도킹되거나 도킹이 해제될 수 있다. 예컨대, 공정 모듈(30)은 그 위치가 고정되고, 인덱스 모듈(20)과 인터페이스 모듈(40)의 위치가 이동되어 도킹 및 도킹 해제될 수 있다. 공정 모듈(30)에는 전단 및 후단 각각에 개구가 형성되고, 인덱스 모듈(20)과 인터페이스 모듈(40)에는 공정 모듈(30)과 마주하는 일면에 개구가 형성된다. 인덱스 모듈(20)의 도킹과 인터페이스 모듈(40)의 도킹은 동일한 방식으로 이루어진다. 따라서 본 실시예는 인터페이스 모듈(40)이 공정 모듈(30)에 도킹되는 과정을 일 예로 도킹 어셈블리에 대해 설명한다. The
도 11은 도 4의 인터페이스 모듈을 보여주는 정면도이고, 도 12는 도 11의 실링 어셈블리를 보여주는 사시도이며, 도 13은 도 12의 실링 어셈블리를 위에서 아래로 바라본 수평 단면도이고, 도 14 및 도 15는 실링 부재(5200)의 팽창 및 수축을 보여주는 도면들이다. 도 11 내지 도 15를 참조하면, 실링 어셈블리(5000)는 인덱스 모듈(20)과 공정 모듈(30)의 사이 공간을, 그리고 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)의 사이 공간을 실링한다. 이에 따라 인덱스 모듈(20), 공정 모듈(30), 그리고 인터페이스 모듈(40) 각각의 내부가 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다. 실링 어셈블리(5000)는 인덱스 모듈(20)과 공정 모듈(30)의 사이 공간에, 그리고 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)의 사이 공간에 각각 제공된다. 본 실시예에는 각 모듈에 사이에 위치되는 실링 어셈블리(5000)는 동일한 구조를 가지므로, 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)의 사이에 제공되는 실링 어셈블리(5000)에 대해 설명한다. 공정 모듈(30)의 후단에 형성되는 개구를 제1개구(31)로 정의하고, 인터페이스 모듈(40)에 형성되는 개구를 제2개구(41)로 정의한다. 제1개구(31)와 제2개구(41)는 동일한 형상으로 제공될 수 있다. 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)은 제1개구(31)와 제2개구(41)가 서로 마주하도록 도킹될 수 있다.FIG. 11 is a front view showing the interface module of FIG. 4, FIG. 12 is a perspective view showing the sealing assembly of FIG. 11, FIG. 13 is a horizontal cross-sectional view of the sealing assembly of FIG. 12 from top to bottom, and FIGS. 14 and 15 are sealing These are views showing the expansion and contraction of the
실링 어셈블리(5000)는 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)의 틈을 실링한다. 실링 어셈블리(5000)는 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40) 중 어느 하나에 설치된다. 본 실시예에 의하면 실링 어셈블리(5000)는 인터페이스 모듈(40)에 설치되는 것으로 설명한다. The sealing
실링 어셈블리(5000)는 브라켓(5100), 실링 부재(5200), 가스 라인, 그리고 제어기(5500)를 포함한다. 브라켓(5100)은 실링 부재(5200)가 인터페이스 모듈(40)에 설치되도록 이들을 연결시키는 연결체로 기능한다. 브라켓(5100)은 인터페이스의 제2개구(41) 내에 위치된다. 브라켓(5100)은 제2개구(41)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 브라켓(5100)은 제2개구(41)를 형성하는 인터페이스 모듈(40)의 내측면을 감싸도록 제공된다. 브라켓(5100)은 볼트(5120)에 의해 인터페이스 모듈(40)에 체결된다. 볼트(5120)는 제2개구(41)가 향하는 방향과 수직한 방향으로 체결될 수 있다. 볼트(5120)는 브라켓(5100)이 제2개구(41)를 형성하는 내측면을 향하는 방향을 향해 체결될 수 있다. 따라서 작업자는 인터페이스 모듈(40)의 도킹 해제 없이 브라켓(5100)을 설치 또는 분리할 수 있다.The sealing
실링 부재(5200)는 브라켓(5100)에 설치된다. 실링 부재(5200)는 제2개구(41)를 감싸는 링 형상으로 제공된다. 예컨대, 실링 부재(5200)는 O링일 수 있다. 실링 부재(5200)는 몸통부(5220) 및 실링부(5240)를 가진다. 몸통부(5220)는 브라켓(5100)에 결합되며, 제2개구(41) 내에 위치된다. 실링부(5240)는 몸통부(5220)로부터 연장되어 제2개구(41)로부터 돌출되게 위치된다. 실링부(5240)는 공정 모듈(30)을 향하는 방향을 연장되게 제공된다. 가스 라인은 실링 부재(5200)의 내부 공간에 가스를 공급하거나, 그 내부 공간으로부터 가스를 배출한다. 가스 라인을 통한 가스 공급에 의해 실링 부재(5200)는 팽창 또는 수축 가능하도록 제공된다. 실링 부재(5200)의 내부 공간에 가스 공급이 이루어지면 실링 부재(5200)는 팽창된다. 이와 반대로, 가스 공급이 중지되거나 가스 배출이 이루어지면 실링 부재(5200)는 수축된다. 실링 부재(5200)는 팽창 시 실링부(5240)가 공정 모듈(30)이 제공되는 영역까지 연장되게 위치된다. 이와 달리 실링 부재(5200)는 수축 시 실링부(5240)가 공정 모듈(30)까지 연장되지 않게 제공된다. 예컨대, 실링 부재(5200)는 수축 시 실링부(5240)가 제2개구(41) 내에 위치될 수 있다. The sealing
제어기(5500)는 도킹 또는 도킹이 해제되는 과정에서 실링 부재(5200)의 팽창 및 수축을 조절한다. 제어기(5500)는 인터페이스 모듈(40)이 이동되는 중에, 실링 부재(5200)가 공정 모듈(30)에 마찰되어 손상되는 것을 방지하고자 실링 부재(5200)를 수축시킬 수 있다. 이와 반대로, 제어기(5500)는 인터페이스 모듈(40)이 공정 모듈(30)에 도킹되면, 실링 부재(5200)를 팽창시킬 수 있다. The
다음은 상술한 도킹 어셈블리를 이용하여 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)을 도킹하는 과정을 설명한다. 인터페이스 모듈(40)은 공정 모듈(30)과 이격된 위치에서 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인터페이스 모듈(40)이 공정 모듈(30)과 이격된 위치에서 공정 모듈(30)에 도킹될 때까지 실링 부재(5200)는 수축된 상태를 유지한다. 이에 따라 실링부(5240)는 제2개구(41) 내에 위치되며, 인터페이스 모듈(40)이 이동되는 중에 공정 모듈(30)과 마찰되는 것을 방지할 수 있다. 인터페이스 모듈(40)이 공정 모듈(30)과 제1방향(12)을 따라 나란하게 배열되면, 실링 부재(5200)는 수축 상태에서 팽창 상태로 전환된다. 실링 부재(5200)는 팽창 상태로 전환됨에 따라 실링부(5240)는 제2개구(41) 내에서 돌출되어 공정 모듈(30)과 접촉되게 위치된다. 이에 따라 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40) 간의 틈을 실링할 수 있다. Next, a process of docking the
또한 실링 부재(5200)의 낙후나 유지보수로 인해 실링 부재(5200)를 교체해야 하는 작업에 있어서, 작업자는 실링 부재(5200)를 수축시킨 후에 공정 모듈(30)로부터 도킹을 해제하여 실링 부재(5200)를 교체할 수 있다 이와 달리, 브라켓(5100)은 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40)의 사이에 위치되지 않고, 제2개구(41) 내에 위치되므로, 작업자는 공정 모듈(30)과 인터페이스 모듈(40) 간의 도킹 해제없이 인터페이스 모듈(40) 내에 진입하여 실링 부재(5200)를 교체할 수 있다. In addition, in the work in which the sealing
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 상술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The detailed description above is illustrative of the present invention. In addition, the above description shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications may be made within the scope of the concept of the invention disclosed in the present specification, the scope equivalent to the disclosed contents, and/or the skill or knowledge of the art. The above-described embodiments are to describe the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in the specific application fields and uses of the present invention are also possible. Therefore, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiment. In addition, the appended claims should be construed as including other embodiments.
30: 제1모듈 40: 제2모듈
5000: 실링 어셈블리 5100: 브라켓
5120: 볼트 5200; 실링 부재
5500:제어기30: first module 40: second module
5000: sealing assembly 5100: bracket
5120:
5500: controller
Claims (14)
기판에 대해 도포 또는 현상 공정을 수행하며, 제1개구가 형성되는 공정 모듈과;
상기 공정 모듈을 외부의 노광 장치에 연결하도록 제공되며, 상기 제1개구와 마주하는 제2개구가 형성되고, 상기 공정 모듈에 도킹되는 인터페이스 모듈과;
상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈의 사이에서 상기 제1개구와 상기 제2개구를 실링하는 실링 어셈블리를 포함하되,
상기 실링 어셈블리는,
상기 제1개구와 상기 제2개구의 사이 공간을 실링하는 실링 부재와;
상기 실링 부재가 장착되며, 상기 제1개구 또는 상기 제2개구에 설치되는 브라켓을 포함하되,
상기 실링 부재는 팽창 또는 수축 가능하게 제공되고,
상기 제1개구의 내부 또는 상기 제2개구의 내부에 위치되고,
상기 실링 부재는,
상기 브라켓과 결합되는 몸통부와;
상기 몸통부로부터 연장되는 실링부를 포함하되,
상기 몸통부는 상기 제1개구 또는 상기 제2개구에 위치되고,
상기 실링부는 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈의 사이에 위치되며 상기 실링부는 상기 브라켓 외부에 위치되는 기판 처리 장치.In the apparatus for processing a substrate,
A process module for performing a coating or developing process on the substrate and in which a first opening is formed;
An interface module provided to connect the process module to an external exposure apparatus, having a second opening facing the first opening, and docking the process module;
And a sealing assembly for sealing the first opening and the second opening between the process module and the interface module,
The sealing assembly,
A sealing member sealing a space between the first opening and the second opening;
The sealing member is mounted and includes a bracket installed at the first opening or the second opening,
The sealing member is provided to be expandable or contractable,
It is located inside the first opening or inside the second opening,
The sealing member,
A body portion coupled to the bracket;
Including a sealing portion extending from the body,
The body portion is located at the first opening or the second opening,
The sealing unit is located between the process module and the interface module, and the sealing unit is located outside the bracket.
상기 공정 모듈에 상기 인터페이스 모듈이 도킹된 상태에서 상기 실링 부재는,
팽창 시에 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈 중 어느 하나부터 다른 하나가 제공된 영역까지 연장되게 위치되고,
수축 시에 상기 어느 하나부터 상기 다른 하나까지 연장되지 않도록 위치되게 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
In a state in which the interface module is docked to the process module, the sealing member,
It is positioned to extend from one of the process module and the interface module to an area provided with the other during expansion,
A substrate processing apparatus provided so as to be positioned so as not to extend from any one to the other during contraction.
상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈은 제1방향을 따라 배열되고, 상기 어느 하나는 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 따라 이동 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 2,
The process module and the interface module are arranged along a first direction, and any one of the process modules is provided to be movable along a second direction perpendicular to the first direction.
상기 실링 부재가 수축된 상태에서 상기 인터페이스 모듈을 상기 공정 모듈에 대해 상대 이동시켜 상기 인터페이스 모듈을 상기 공정 모듈에 도킹하고,
상기 인터페이스 모듈이 상기 공정 모듈에 도킹되면, 상기 실링 부재를 팽창시켜 상기 제1개구와 상기 제2개구 사이를 실링하는 도킹 방법.In the method of docking the interface module to the process module in the substrate processing apparatus of claim 2,
Docking the interface module to the process module by moving the interface module relative to the process module while the sealing member is contracted,
When the interface module is docked to the process module, the sealing member is expanded to seal between the first opening and the second opening.
상기 공정 모듈에 상기 인터페이스 모듈이 도킹된 상태에서 상기 공정 모듈과 상기 인터페이스 모듈은 제1방향으로 배열되고,
상기 인터페이스 모듈의 상대 이동은 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동되는 것을 포함하는 도킹 방법.The method of claim 5,
In a state in which the interface module is docked to the process module, the process module and the interface module are arranged in a first direction,
And the relative movement of the interface module is moved in a second direction perpendicular to the first direction.
상기 공정 모듈은 기판에 대해 도포 또는 현상 공정을 수행하고,
상기 인터페이스 모듈은 상기 공정 모듈을 외부의 노광 장치에 연결하는 도킹 방법.The method of claim 6,
The process module performs a coating or developing process on the substrate,
The interface module is a docking method for connecting the process module to an external exposure apparatus.
상기 제1개구와 마주하는 제2개구가 형성되고, 상기 제1모듈과 도킹되는 제2모듈과;
상기 제1모듈과 상기 제2모듈의 사이에서 상기 제1개구와 상기 제2개구를 실링하는 실링 어셈블리를 포함하되,
상기 실링 어셈블리는,
상기 제1개구와 상기 제2개구의 사이 공간을 실링하는 실링 부재와;
상기 실링 부재가 장착되며, 상기 제2모듈에 설치되는 브라켓을 포함하되,
상기 실링 부재는 팽창 또는 수축 가능하게 제공되고,
상기 브라켓은 상기 제2개구 내에 위치되고,
상기 실링 부재는,
상기 브라켓과 결합되는 몸통부와;
상기 몸통부로부터 연장되는 실링부를 포함하되,
상기 몸통부는 상기 제2개구에 위치되고,
상기 실링부는 상기 제1모듈과 상기 제2모듈의 사이에 위치되며 상기 실링부는 상기 브라켓 외부에 위치되는 도킹 어셈블리.A first module in which a first opening is formed;
A second module having a second opening facing the first opening and docking with the first module;
And a sealing assembly for sealing the first opening and the second opening between the first module and the second module,
The sealing assembly,
A sealing member sealing a space between the first opening and the second opening;
The sealing member is mounted and includes a bracket installed on the second module,
The sealing member is provided to be expandable or contractable,
The bracket is located within the second opening,
The sealing member,
A body portion coupled to the bracket;
Including a sealing portion extending from the body,
The body portion is located at the second opening,
A docking assembly wherein the sealing part is located between the first module and the second module, and the sealing part is located outside the bracket.
상기 실링 부재는 내부에 가스가 제공되는 내부 공간을 가지고,
상기 내부 공간에 제공된 가스압에 따라 상기 실링부재는 팽창 또는 수축되는 도킹 어셈블리.The method of claim 8,
The sealing member has an internal space in which gas is provided,
A docking assembly in which the sealing member expands or contracts according to the gas pressure provided in the inner space.
상기 실링 어셈블리는,
상기 내부 공간과 연결되어 상기 가스를 상기 내부 공간으로 유입하거나 상기 내부 공간으로부터 가스를 배출하는 가스 라인을 더 포함하는 도킹 어셈블리.The method of claim 9,
The sealing assembly,
A docking assembly further comprising a gas line connected to the inner space to introduce the gas into the inner space or discharge gas from the inner space.
상기 제1모듈과 상기 제2모듈이 도킹된 상태에서 상기 실링 부재는,
팽창 시에 상기 제2모듈로부터 상기 제1모듈이 제공된 영역까지 연장되게 위치되고,
수축 시에 상기 제2모듈로부터 상기 제1모듈까지 연장되지 않게 위치되도록 제공되는 도킹 어셈블리.The method according to any one of claims 8 to 10,
When the first module and the second module are docked, the sealing member,
It is positioned to extend from the second module to the area where the first module is provided during expansion,
A docking assembly provided to be positioned so as not to extend from the second module to the first module when contracted.
상기 제1모듈과 상기 제2모듈은 제1방향을 따라 배치되고, 상기 제1모듈과 상기 제2모듈 중 하나는 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 따라 이동가능하게 제공되는 도킹 어셈블리.The method of claim 11,
The first module and the second module are disposed along a first direction, and one of the first module and the second module is provided to be movable along a second direction perpendicular to the first direction.
상기 브라켓은 상기 제2개구를 형성하는 내측면을 감싸도록 제공되며,
상기 브라켓에는 상기 내측면을 향하는 방향으로 볼트가 체결되어 상기 브라켓과 상기 내측면이 결합되는 도킹 어셈블리.
The method of claim 8,
The bracket is provided to surround the inner surface forming the second opening,
A docking assembly in which a bolt is fastened to the bracket in a direction toward the inner surface so that the bracket and the inner surface are coupled.
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