KR102205134B1 - Mounting structure of ionizer in substrate processing chamber - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조는 수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물과, 상기 결합홈에 고정되고 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 복수의 브라켓과, 상기 복수의 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함한다.The present invention relates to a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber, wherein the mounting structure of the ionizer in a substrate processing chamber according to the present invention includes a fixing structure having a coupling groove formed in a vertical direction and fixed to the coupling groove. And a plurality of brackets for fixing the ionizer in a horizontal or inclined state, and a bar-shaped ionizer fixed to the fixed structure by the plurality of brackets.
Description
본 발명은 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판처리챔버 내에 이오나이저를 수평 또는 경사진 상태로 고정할 수 있는 이오나이저의 장착구조에 관한 것이다.The present invention relates to a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber, and more particularly, to a mounting structure of an ionizer capable of fixing the ionizer in a horizontal or inclined state in a substrate processing chamber.
최근 들어 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능, 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있으며, 이러한 정보처리 장치는 가공된 정보를 표시하는 디스플레이 장치를 필요로 한다. 정보 디스플레이 장치로는 지금까지 주로 CRT 모니터가 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 경량, 소형이면서 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치가 급격히 증대하고 있다.In recent years, information processing devices are rapidly developing to have various forms and functions, and faster information processing speed, and such information processing devices require a display device that displays processed information. Until now, CRT monitors have been mainly used as information display devices, but in recent years, with the rapid development of semiconductor technology, flat panel display devices that are lightweight, compact and occupy a small space are rapidly increasing.
포토공정, 세정공정, 에칭 공정에서는 평판 디스플레이 장치 내에 정전기가 대전하기 쉬운 물질이 다량으로 이용되는데, 이때 정전기로 인한 먼지 등의 이물질 부착 등의 이슈로 수율 저하, 패턴 파괴 등의 문제가 발생한다.In the photo process, cleaning process, and etching process, a large amount of materials that are easily charged with static electricity are used in the flat panel display device. At this time, problems such as yield reduction and pattern destruction occur due to issues such as adhesion of foreign substances such as dust due to static electricity.
따라서 평판 디스플레이 장치의 제조공정에서는 정전기를 제거하기 위한 바 형태의 이오나이저가 사용된다.Therefore, in the manufacturing process of a flat panel display device, a bar-type ionizer is used to remove static electricity.
도 1a 및 도 1b은 종래의 이오나이저의 장착한 기판처리챔버의 구조를 도시한 도면이다.1A and 1B are diagrams showing the structure of a substrate processing chamber in which a conventional ionizer is mounted.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 기판처리챔버(1) 내의 바 형태의 이오나이저(5)는 브라켓(6)을 이용하여 고정프레임(4)에 장착 고정된다.1A and 1B, the bar-
고정프레임(4)은 메인프레임(2)의 천정 부분에 수직방향의 연결되어 있다. 고정프레임(4)는 이오나이저(5)를 고정하기 위한 프레임이다. 이오나이저(5)는 브라켓(6)을 이용하여 고정프레임(4)에 고정된다. The
정전기를 제거하는 기판처리챔버에는, 도 1a와 같이 공정에 따라 기판이 수평인 상태에서 정전기가 제거되는 경우와 도 1b와 같이 기판이 기울여진 경사진 상태에서 정전기가 제거되는 경우가 존재한다.In a substrate processing chamber for removing static electricity, there are cases in which static electricity is removed while the substrate is horizontal according to a process as shown in FIG. 1A, and in a case where the substrate is inclined inclined as shown in FIG. 1B.
도 1a와 같이 기판이 수평인 상태에서 정전기를 제거하는 기판처리챔버의 경우, 이오나이저(5)는 메인프레임(2)의 저면과 수평인 상태에서 고정프레임(4)에 브라켓(6)을 이용하여 고정된다. 그리고 도 1b와 같이 기판이 경사진 상태에서 정전기를 제거하는 기판처리챔버의 경우, 이오나이저(5)는 메인프레임(2)의 저면과 경사진 상태에서 고정프레임(4)에 브라켓(6)을 이용하여 고정된다. In the case of a substrate processing chamber that removes static electricity while the substrate is horizontal as shown in FIG. 1A, the
이오나이저를 수평으로 고정하기 위한 고정용 프레임은, 이오나이저를 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임과 서로 호환되지 않는다. 따라서 서로 다른 형태의 프레임이 별도로 설계 제작되어야 한다. 또한 설계 과정에서 오차가 발생하는 경우, 설비 품질이 저하될 수 있다. The fixing frame for fixing the ionizer horizontally is not compatible with the fixing frame for fixing the ionizer in an inclined state. Therefore, different types of frames must be designed and manufactured separately. In addition, if an error occurs in the design process, the quality of the facility may deteriorate.
대한민국 특허출원 제10-2011-0057605호Korean Patent Application No. 10-2011-0057605
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 고정할 수 있는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 제공함에 그 목적이 있다. An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber capable of fixing a bar-shaped ionizer in a horizontal state and an inclined state.
상기와 같은 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 기판처리챔버 내 바 형태의 이오나이저의 장착구조는, 수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물; 상기 결합홈에 고정되고, 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 브라켓; 상기 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함한다.In order to solve the above problems, the mounting structure of the bar-shaped ionizer in a substrate processing chamber according to the present invention includes: a fixed structure having a coupling groove formed in a vertical direction; A bracket fixed to the coupling groove and fixing the ionizer in a horizontal or inclined state; It includes a bar-shaped ionizer fixed to the fixed structure by the bracket.
또한 실시예에 있어서, 상기 브라켓은, 상기 고정구조물의 결합홈에 삽입 고정되는 고정돌기를 구비하는 제1 몸체; 상기 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며, 상기 이오나이저를 고정하는 결속구를 구비하는 제2 몸체를 포함한다.In addition, in an embodiment, the bracket includes: a first body having a fixing protrusion inserted and fixed into a coupling groove of the fixing structure; It is rotatably coupled to the first body, and includes a second body having a binding tool for fixing the ionizer.
또한 실시예에 있어서, 상기 결속구는 상기 이오나이저를 탈착식으로 고정할 수 있다.In addition, in an embodiment, the binding tool may detachably fix the ionizer.
또한 실시예에 있어서, 상기 제1 몸체에는 상기 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도 표식이 구비될 수 있다.In addition, in an embodiment, the first body may be provided with a rotation angle mark indicating a relative rotation angle with respect to the second body.
또한 실시예에 있어서, 상기 고정구조물은 수직방향의 복수의 고정프레임을 포함하고, 상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 복수의 고정프레임 각각에 길이방향을 따라 구비될 수 있다. In addition, in an embodiment, the fixing structure includes a plurality of fixing frames in a vertical direction, and the coupling groove is a plurality of fixing so that one side and the other side of the ionizer can be fixed at the same height or different heights. Each of the frames may be provided along the longitudinal direction.
또한 실시예에 있어서, 상기 복수의 고정프레임 각각에는 상기 이오나이저의 고정각도에 따른 상기 브라켓의 고정위치를 표시하는 높이식별표식이 구비될 수 있다. In addition, in an embodiment, each of the plurality of fixing frames may be provided with a height identification mark indicating the fixing position of the bracket according to the fixing angle of the ionizer.
또한 실시예에 있어서, 상기 고정구조물은, 수직방향의 복수의 고정프레임과, 기 복수의 고정프레임에 고정되는 고정플레이트를 포함하고, 상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 고정플레이트에 수직방향으로 형성된다.In addition, in an embodiment, the fixing structure includes a plurality of fixing frames in a vertical direction, and a fixing plate fixed to the plurality of fixing frames, and the coupling groove has the same height as one side and the other side of the ionizer. Alternatively, it is formed in a direction perpendicular to the fixing plate so that it can be fixed at different heights.
본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 의하면, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 선택적으로 고정할 수 있으므로 수평인 상태와 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임을 별도로 설계 제작할 필요가 없다. 또한 이오나이저의 고정각도와 무관하게 동일한 고정프레임을 이용할 수 있으므로 설비 품질을 향상시킬 수 있다.According to the mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber according to the present invention, since the bar-shaped ionizer can be selectively fixed in a horizontal state and an inclined state, a fixing frame for fixing in a horizontal state and an inclined state There is no need to separately design and manufacture. In addition, since the same fixed frame can be used regardless of the fixed angle of the ionizer, the quality of equipment can be improved.
도 1a 및 도 1b는 종래의 이오나이저의 장착구조를 도시한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조가 적용된 기판처리챔버를 도시한 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 고정구조물의 다른 예를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 고정프레임을 설명하기 위한 단면도이다.
도 6은 도 4에 도시된 고정프레임에 브라켓이 고정된 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 측면도이다.
도 8은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 정면도이다.1A and 1B are views showing a mounting structure of a conventional ionizer.
2A and 2B are views showing a substrate processing chamber to which an ionizer mounting structure is applied in the substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing another example of the fixing structure shown in FIG. 2.
4 is a perspective view showing a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view for explaining the fixing frame shown in FIG. 4.
6 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a bracket is fixed to the fixing frame shown in FIG. 4.
7 is a side view for explaining the bracket shown in FIG. 4.
8 is a front view for explaining the bracket shown in FIG. 4.
이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명에 따른 동작 및 작용을 이해하는 데 필요한 부분을 중심으로 상세히 설명한다.Hereinafter, a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. It will be described in detail focusing on the parts necessary to understand the operation and operation according to the present invention.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 동일한 명칭의 구성 요소에 대하여 도면에 따라 다른 참조부호를 부여할 수도 있으며, 서로 다른 도면임에도 불구하고 동일한 참조부호를 부여할 수도 있다. 그러나, 이와 같은 경우라 하더라도 해당 구성 요소가 실시예에 따라 서로 다른 기능을 갖는다는 것을 의미하거나, 서로 다른 실시예에서 동일한 기능을 갖는다는 것을 의미하는 것은 아니며, 각각의 구성 요소의 기능은 해당 실시예에서의 각각의 구성 요소에 대한 설명에 기초하여 판단하여야 할 것이다. 또한 본 발명의 구성을 설명하는 데 있어서, 단수로 표현된 구성 요소는 단수 또는 복수개의 구성 요소를 포함한다. In addition, in describing the constituent elements of the present invention, different reference numerals may be assigned to the constituent elements of the same name according to the drawings, and the same reference numerals may be assigned even though the drawings are different. However, even in such a case, it does not mean that the corresponding component has different functions according to the embodiment, or that it has the same function in different embodiments, and the function of each component is the corresponding implementation. It should be determined based on the description of each component in the example. In addition, in describing the configuration of the present invention, the constituent elements expressed in the singular include the singular or plural constituent elements.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 바 형태의 이오나이저의 장착구조가 적용된 기판처리챔버를 도시한 도면이다.2A and 2B are views showing a substrate processing chamber to which the mounting structure of a bar-shaped ionizer according to an embodiment of the present invention is applied.
기판처리챔버(10)는 기판의 세정공정, 에칭공정, 포토공정을 진행하기 위한 기판처리장치 내 구비되는 챔버들 중 어느 하나일 수 있다. 기판처리챔버 내에서 처리되는 기판은 반도체, 모니터 또는 TV용 디스플레이 패널, 모바일 디스플레이 패널, 기타 디스플레이 장치의 패널 중 어느 하나일 수 있다. The
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 정전기 제거를 위한 기판처리챔버(10)는 메인프레임(100)과, 메인프레임 하단에 위치하여 기판을 이송하는 기판이송부(200)와, 메인프레임 상단에 연결되어 이오나이저를 고정하기 위한 고정구조물(300)과, 고정용 프레임에 고정되는 이오나이저(400)와, 이오나이저를 고정구조물에 고정하기 위한 브라켓(500)을 포함한다.2A and 2B, the
메인프레임(100)은 수직방향 및 수평방향의 메인프레임을 포함하며, 기판이송부(200), 고정구조물(300), 이오나이저(400), 브라켓(500)을 내부에 수용한다. 메인프레임(200)의 측면, 상면, 밑면 등에 플레이트가 결합되어 내부가 닫혀 있을 수 있다. The
기판이송부(200)는 메인프레임(100)의 하단에 배치되어 도 2a에서 도면을 바라보는 방향 또는 그 반대 방향으로 기판을 이송한다. 기판이송부(200)는 기판을 이송하기 위한 컨베이어 벨트를 이용할 수 있다. The
기판처리챔버(10)에는, 도 2a와 같이 기판처리챔버(10)의 저면에 평행한 수평 상태로 기판을 이송하기 위한 구조를 갖는 기판이송부(200) 또는 도 2b와 같이 기판처리챔버(10)의 저면에 경사진 상태로 기판을 이송하기 위한 구조를 갖는 기판이송부(200)가 구비될 수 있다.In the
고정구조물(300)에는 브라켓(500)에 의해 이오나이저(400)가 고정된다. The
고정구조물(300)은 메인프레임(100)의 상단에서 하방으로 일정길이 연장된 수직방향의 복수의 고정프레임(310)을 포함할 수 있다. The
복수의 고정프레임(310) 각각에는 브라켓(500)을 고정하기 위한 길이방향 즉, 수직방향으로 길게 형성된 결합홈(320)이 형성된다. 기판이송부(200)에 위치한 기판의 경사에 대응되도록, 어느 하나의 고정프레임에 고정된 브라켓(500)은 다른 하나의 고정프레임에 고정된 브라켓과 서로 동일한 높이 또는 다른 높이에 위치할 수 있다. Each of the plurality of fixing
도 3은 도 2에 도시된 고정구조물의 다른 예를 도시한 도면이다. 도 3을 참조하면, 기판처리챔버(10)의 복수의 고정프레임(310)에는 고정플레이트(330)가 결합되고, 고정플레이트(330) 상에 수직방향을 길게 형성되는 결합홈(320)이 수평방향으로 복수개 배치될 수도 있다. 3 is a view showing another example of the fixing structure shown in FIG. 2. Referring to FIG. 3, a fixing
다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 바 형태의 이오나이저(400)는 기판이송부(200) 상의 기판에 정전기를 제거하는 기능을 수행한다.Referring back to FIGS. 2A and 2B, the bar-shaped
바 형태의 이오나이저(400)은 기판이송부(200)의 경사에 대응되도록 도 2a와 같이 메인프레임(100)의 저면과 수평인 상태 또는 도 2b와 같이 경사진 상태로 고정프레임(300)에 고정된다. The bar-shaped
브라켓(500)은 이오나이저(400)을 고정프레임(310)에 고정하는 기능을 수행한다. The
이하 도 4 내지 도 8을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 바 형태의 이오나이저의 장착구조에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, a mounting structure of a bar-type ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 8.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 도시한 사시도이다. 도 5는 도 4에 도시된 고정프레임을 설명하기 위한 단면도이고, 도 6은 고정프레임에 브라켓이 고정된 구조를 설명하기 위한 단면도이다. 도 7은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 측면도이고, 도 8은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 정면도이다.4 is a perspective view showing a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention. 5 is a cross-sectional view illustrating the fixing frame shown in FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a bracket is fixed to the fixing frame. FIG. 7 is a side view illustrating the bracket shown in FIG. 4, and FIG. 8 is a front view illustrating the bracket shown in FIG. 4.
도 4 및 도 5를 참조하면, 수직방향의 고정프레임(310)에는 고정프레임(310)의 길이방향 즉 수직방향으로 길게 형성되는 결합홈(320)이 구비된다. 고정프레임(310)의 길이방향으로 형성되는 결합홈(320) 중 특정 높이에서 브라켓(500)이 고정될 수 있다.4 and 5, the fixing
이오나이저의 일측을 고정하는 브라켓(500)이 이오나이저(400)의 타측을 고정하는 브라켓(500)보다 다른 높이에 고정되거나 또는 동일한 높이에 고정될 수 있다. 따라서 이오나이저는 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정될 수 있다.The
이오나이저(400)의 고정각도에 따른 상기 브라켓(500)의 고정위치를 표시하는 높이식별표식(340)이 구비된다. 고정각도가 0도가 아닌 경우, 이오나이저의 일측 또는 타측을 각각 고정하는 브라켓의 고정높이는 달라지게 되며, 고정프레임(300)에는 결함홈 주위에 브라켓의 고정위치를 나타내는 높이식별표식(330)이 구비된다. A height identification mark 340 indicating a fixed position of the
예를 들어, 이오나이저(400)의 고정각도가 0도, 5도, 10도 인 경우, 고정각도 0도, 5도, 10도 각각에 대응되는 높이식별표식이 고정프레임(310)마다 표시될 수 있다. 이오나이저(400)의 고정각도에 따른 높이식별표식은, 고정프레임(310)에 고정될 브라켓(500)의 위치를 쉽게 파악할 수 있게 한다. For example, when the fixed angle of the
도 4 및 도 5를 참조하면, 브라켓(500)은, 결합홈(320)에 삽입 고정되는 고정돌기(511)를 구비하는 제1 몸체(510)와, 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며 이오나이저를 고정하는 결속구(521)를 구비하는 제2 몸체(520)를 포함한다.4 and 5, the
구체적으로 제1 몸체(510)는, 일측에 형성되며 결합홈(320)에 삽입 고정되는 고정돌기(511)와, 타측에 형성되며 제2 몸체와 회전가능한 결합을 위한 회전돌기(514)와, 가장자리에 형성되는 복수의 고정나사홀(512)과, 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도표식(515)을 포함한다.Specifically, the
고정돌기(511)는 수직방향으로 길게 형성되는 결합홈(320)내에 삽입되어 고정되며, 결합홈(320) 내에서 위치이동이 가능하다. 고정돌기(511)의 고정위치가 설정되면, 제1 몸체(510)에 형성된 고정나사홀(512)을 통해 고정나사(513)가 체결됨으로써 브라켓(500)이 고정프레임(300)에 견고히 고정될 수 있다.The fixing
회전돌기(514)는 제1 몸체(510)의 타측에 형성되고, 제2 몸체(520)의 회전돌기홈(522)에 삽입된다. 따라서 제2 몸체(520)는 회전돌기(514) 및 회전돌기(514)가 삽입된 회전돌기홈(522)에 의해 제1 몸체(510)에 대해 회전이 가능하게 된다. 따라서 이오나이저(400)를 수평인 상태 또는 경사진 상태에서 결속구(521)에 의한 정확하게 고정할 수 있다.The
이와는 다르게 회전돌기(514)가 제2 몸체(520)에 구비되고, 회전돌기홈(522)이 제1 몸체(510)에 구비될 수도 있다.Unlike this, the
도 8을 참조하면, 제1 몸체(510)의 회전각도표식(515)는 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도표식(515)을 포함한다. 이오나이저의 경사 정도에 따라 제2 몸체(520)를 제1 몸체(510)에 대해 미리 회전시킨 후 결합하는 경우, 이오나이저의 정확한 고정이 가능하게 된다.Referring to FIG. 8, a
다시 도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 몸체(520)에는 일측에 형성되고 제1 몸체의 회전돌기(514)를 수용하는 회전돌기홈(522)과, 타측에 형성되고 이오나이저를 고정하는 결속구(521)을 포함한다.6 and 7 again, a
회전돌기홈(522)은 제1 몸체(510)에 구비되는 회전돌기(514)과 체결되어 제1 몸체(510)에 대한 제2 몸체(520)의 회전을 가능하게 한다.The
결속구(521)는 이오나이저(400)을 고정한다. 결속구(521)는 이오나이저(400)의 유지 보수를 위해 탈착식으로 이오나이저(400)를 장착할 수 있다. 특히 결속구(521)는 후크(hook) 형태로 구비될 수 있다. The
본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 의하면, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 선택적으로 고정할 수 있으므로 수평인 상태와 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임을 별도로 설계 제작할 필요가 없다. 또한 이오나이저의 고정각도와 무관하게 동일한 고정프레임을 이용할 수 있으므로 설비 품질을 향상시킬 수 있다.According to the mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber according to the present invention, since the bar-shaped ionizer can be selectively fixed in a horizontal state and an inclined state, a fixing frame for fixing in a horizontal state and an inclined state There is no need to separately design and manufacture. In addition, since the same fixed frame can be used regardless of the fixed angle of the ionizer, the quality of equipment can be improved.
따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments.
본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
10: 기판처리챔버 100: 메인프레임
200: 기판이송부 300: 고정구조물
310: 고정프레임 320: 결합홈
330: 고정플레이트 340: 높이식별표식
400: 이오나이저 500: 브라켓
510: 제1 몸체 511: 고정돌기
512: 고정나사홀 513: 고정나사
514: 회전돌기 515: 회전각도표식
520: 제2 몸체 521: 결속구
522: 회전돌기홈10: substrate processing chamber 100: main frame
200: substrate transfer unit 300: fixed structure
310: fixing frame 320: coupling groove
330: fixed plate 340: height identification mark
400: ionizer 500: bracket
510: first body 511: fixing protrusion
512: fixing screw hole 513: fixing screw
514: rotation protrusion 515: rotation angle mark
520: second body 521: binding tool
522: rotation protrusion groove
Claims (7)
수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물;
상기 결합홈에 고정되고, 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 브라켓;
상기 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.In the mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber,
A fixed structure having a coupling groove formed in a vertical direction;
A bracket fixed to the coupling groove and fixing the ionizer in a horizontal or inclined state;
A mounting structure for an ionizer in a substrate processing chamber, comprising: a bar-shaped ionizer fixed to the fixed structure by the bracket.
상기 브라켓은,
상기 고정구조물의 결합홈에 삽입 고정되는 고정돌기를 구비하는 제1 몸체;
상기 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며, 상기 이오나이저를 고정하는 결속구를 구비하는 제2 몸체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조The method of claim 1,
The bracket is,
A first body having a fixing protrusion inserted and fixed into the coupling groove of the fixing structure;
Mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, characterized in that it is rotatably coupled to the first body and includes a second body having a binding hole for fixing the ionizer
상기 결속구는 상기 이오나이저를 탈착식으로 고정하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 2,
The binding tool is a mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, characterized in that the detachable fixing the ionizer.
상기 제1 몸체에는 상기 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도 표식이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 2,
The mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, wherein the first body is provided with a rotation angle mark indicating a relative rotation angle with respect to the second body.
상기 고정구조물은 복수의 수직방향의 고정프레임을 포함하고,
상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 복수의 고정프레임 각각에 길이방향을 따라 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 1,
The fixing structure includes a plurality of vertical fixing frames,
The coupling groove of the ionizer in the substrate processing chamber, characterized in that it is provided along the longitudinal direction of each of the plurality of fixing frames so that one side and the other side of the ionizer can be fixed at the same height or different heights. Mounting structure.
상기 복수의 고정프레임 각각에는 상기 이오나이저의 고정각도에 따른 상기 브라켓의 고정위치를 표시하는 높이식별표식이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 5,
The mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, wherein each of the plurality of fixing frames is provided with a height identification mark indicating a fixing position of the bracket according to a fixing angle of the ionizer.
상기 고정구조물은,
수직방향의 복수의 고정프레임과,
상기 복수의 고정프레임에 고정되는 고정플레이트를 포함하고,
상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 고정플레이트의 수직방향으로 길게 형성되고 수평방향으로 배열되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 1,
The fixed structure,
A plurality of fixed frames in the vertical direction,
It includes a fixing plate fixed to the plurality of fixing frames,
The coupling groove is formed in a vertical direction of the fixing plate and arranged in a horizontal direction so that one side and the other side of the ionizer can be fixed at the same height or different heights. Mounting structure of the Niger.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190080553A KR102205134B1 (en) | 2019-07-04 | 2019-07-04 | Mounting structure of ionizer in substrate processing chamber |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210004310A KR20210004310A (en) | 2021-01-13 |
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ID=74142212
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102205134B1 (en) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW424001B (en) * | 1996-02-02 | 2001-03-01 | Applied Materials Inc | An apparatus for the electrostatic collection of contaminant particles from a substrate in semiconductor substrate processing equipment and a method for removing contaminant particles from the surface of a substrate |
KR20020092088A (en) * | 2001-06-02 | 2002-12-11 | 삼성전자 주식회사 | Vacuum chamber with ionizer |
JP3887570B2 (en) * | 2002-02-18 | 2007-02-28 | 協和化工株式会社 | High speed dryer |
JP5295808B2 (en) * | 2009-02-09 | 2013-09-18 | 東京エレクトロン株式会社 | Particle adhesion prevention method and substrate transport method |
KR101079417B1 (en) | 2009-11-24 | 2011-11-02 | 삼성전기주식회사 | Tuner and assembly of tuner |
-
2019
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Publication number | Publication date |
---|---|
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