KR102205134B1 - Mounting structure of ionizer in substrate processing chamber - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조는 수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물과, 상기 결합홈에 고정되고 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 복수의 브라켓과, 상기 복수의 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함한다.The present invention relates to a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber, wherein the mounting structure of the ionizer in a substrate processing chamber according to the present invention includes a fixing structure having a coupling groove formed in a vertical direction and fixed to the coupling groove. And a plurality of brackets for fixing the ionizer in a horizontal or inclined state, and a bar-shaped ionizer fixed to the fixed structure by the plurality of brackets.

Description

기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조{MOUNTING STRUCTURE OF IONIZER IN SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER}Mounting structure of ionizer in substrate processing chamber {MOUNTING STRUCTURE OF IONIZER IN SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER}

본 발명은 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판처리챔버 내에 이오나이저를 수평 또는 경사진 상태로 고정할 수 있는 이오나이저의 장착구조에 관한 것이다.The present invention relates to a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber, and more particularly, to a mounting structure of an ionizer capable of fixing the ionizer in a horizontal or inclined state in a substrate processing chamber.

최근 들어 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능, 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있으며, 이러한 정보처리 장치는 가공된 정보를 표시하는 디스플레이 장치를 필요로 한다. 정보 디스플레이 장치로는 지금까지 주로 CRT 모니터가 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 경량, 소형이면서 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치가 급격히 증대하고 있다.In recent years, information processing devices are rapidly developing to have various forms and functions, and faster information processing speed, and such information processing devices require a display device that displays processed information. Until now, CRT monitors have been mainly used as information display devices, but in recent years, with the rapid development of semiconductor technology, flat panel display devices that are lightweight, compact and occupy a small space are rapidly increasing.

포토공정, 세정공정, 에칭 공정에서는 평판 디스플레이 장치 내에 정전기가 대전하기 쉬운 물질이 다량으로 이용되는데, 이때 정전기로 인한 먼지 등의 이물질 부착 등의 이슈로 수율 저하, 패턴 파괴 등의 문제가 발생한다.In the photo process, cleaning process, and etching process, a large amount of materials that are easily charged with static electricity are used in the flat panel display device. At this time, problems such as yield reduction and pattern destruction occur due to issues such as adhesion of foreign substances such as dust due to static electricity.

따라서 평판 디스플레이 장치의 제조공정에서는 정전기를 제거하기 위한 바 형태의 이오나이저가 사용된다.Therefore, in the manufacturing process of a flat panel display device, a bar-type ionizer is used to remove static electricity.

도 1a 및 도 1b은 종래의 이오나이저의 장착한 기판처리챔버의 구조를 도시한 도면이다.1A and 1B are diagrams showing the structure of a substrate processing chamber in which a conventional ionizer is mounted.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 기판처리챔버(1) 내의 바 형태의 이오나이저(5)는 브라켓(6)을 이용하여 고정프레임(4)에 장착 고정된다.1A and 1B, the bar-shaped ionizer 5 in the substrate processing chamber 1 is mounted and fixed to the fixing frame 4 using the bracket 6.

고정프레임(4)은 메인프레임(2)의 천정 부분에 수직방향의 연결되어 있다. 고정프레임(4)는 이오나이저(5)를 고정하기 위한 프레임이다. 이오나이저(5)는 브라켓(6)을 이용하여 고정프레임(4)에 고정된다. The fixed frame 4 is connected to the ceiling portion of the main frame 2 in a vertical direction. The fixing frame 4 is a frame for fixing the ionizer 5. The ionizer (5) is fixed to the fixing frame (4) using a bracket (6).

정전기를 제거하는 기판처리챔버에는, 도 1a와 같이 공정에 따라 기판이 수평인 상태에서 정전기가 제거되는 경우와 도 1b와 같이 기판이 기울여진 경사진 상태에서 정전기가 제거되는 경우가 존재한다.In a substrate processing chamber for removing static electricity, there are cases in which static electricity is removed while the substrate is horizontal according to a process as shown in FIG. 1A, and in a case where the substrate is inclined inclined as shown in FIG. 1B.

도 1a와 같이 기판이 수평인 상태에서 정전기를 제거하는 기판처리챔버의 경우, 이오나이저(5)는 메인프레임(2)의 저면과 수평인 상태에서 고정프레임(4)에 브라켓(6)을 이용하여 고정된다. 그리고 도 1b와 같이 기판이 경사진 상태에서 정전기를 제거하는 기판처리챔버의 경우, 이오나이저(5)는 메인프레임(2)의 저면과 경사진 상태에서 고정프레임(4)에 브라켓(6)을 이용하여 고정된다. In the case of a substrate processing chamber that removes static electricity while the substrate is horizontal as shown in FIG. 1A, the ionizer 5 uses a bracket 6 on the fixing frame 4 in a state horizontal to the bottom of the main frame 2 Is fixed. And, in the case of a substrate processing chamber that removes static electricity while the substrate is inclined as shown in FIG. 1B, the ionizer 5 attaches the bracket 6 to the fixing frame 4 in a state inclined with the bottom of the main frame 2 Is fixed by using.

이오나이저를 수평으로 고정하기 위한 고정용 프레임은, 이오나이저를 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임과 서로 호환되지 않는다. 따라서 서로 다른 형태의 프레임이 별도로 설계 제작되어야 한다. 또한 설계 과정에서 오차가 발생하는 경우, 설비 품질이 저하될 수 있다. The fixing frame for fixing the ionizer horizontally is not compatible with the fixing frame for fixing the ionizer in an inclined state. Therefore, different types of frames must be designed and manufactured separately. In addition, if an error occurs in the design process, the quality of the facility may deteriorate.

대한민국 특허출원 제10-2011-0057605호Korean Patent Application No. 10-2011-0057605

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 고정할 수 있는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 제공함에 그 목적이 있다. An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber capable of fixing a bar-shaped ionizer in a horizontal state and an inclined state.

상기와 같은 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 기판처리챔버 내 바 형태의 이오나이저의 장착구조는, 수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물; 상기 결합홈에 고정되고, 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 브라켓; 상기 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함한다.In order to solve the above problems, the mounting structure of the bar-shaped ionizer in a substrate processing chamber according to the present invention includes: a fixed structure having a coupling groove formed in a vertical direction; A bracket fixed to the coupling groove and fixing the ionizer in a horizontal or inclined state; It includes a bar-shaped ionizer fixed to the fixed structure by the bracket.

또한 실시예에 있어서, 상기 브라켓은, 상기 고정구조물의 결합홈에 삽입 고정되는 고정돌기를 구비하는 제1 몸체; 상기 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며, 상기 이오나이저를 고정하는 결속구를 구비하는 제2 몸체를 포함한다.In addition, in an embodiment, the bracket includes: a first body having a fixing protrusion inserted and fixed into a coupling groove of the fixing structure; It is rotatably coupled to the first body, and includes a second body having a binding tool for fixing the ionizer.

또한 실시예에 있어서, 상기 결속구는 상기 이오나이저를 탈착식으로 고정할 수 있다.In addition, in an embodiment, the binding tool may detachably fix the ionizer.

또한 실시예에 있어서, 상기 제1 몸체에는 상기 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도 표식이 구비될 수 있다.In addition, in an embodiment, the first body may be provided with a rotation angle mark indicating a relative rotation angle with respect to the second body.

또한 실시예에 있어서, 상기 고정구조물은 수직방향의 복수의 고정프레임을 포함하고, 상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 복수의 고정프레임 각각에 길이방향을 따라 구비될 수 있다. In addition, in an embodiment, the fixing structure includes a plurality of fixing frames in a vertical direction, and the coupling groove is a plurality of fixing so that one side and the other side of the ionizer can be fixed at the same height or different heights. Each of the frames may be provided along the longitudinal direction.

또한 실시예에 있어서, 상기 복수의 고정프레임 각각에는 상기 이오나이저의 고정각도에 따른 상기 브라켓의 고정위치를 표시하는 높이식별표식이 구비될 수 있다. In addition, in an embodiment, each of the plurality of fixing frames may be provided with a height identification mark indicating the fixing position of the bracket according to the fixing angle of the ionizer.

또한 실시예에 있어서, 상기 고정구조물은, 수직방향의 복수의 고정프레임과, 기 복수의 고정프레임에 고정되는 고정플레이트를 포함하고, 상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 고정플레이트에 수직방향으로 형성된다.In addition, in an embodiment, the fixing structure includes a plurality of fixing frames in a vertical direction, and a fixing plate fixed to the plurality of fixing frames, and the coupling groove has the same height as one side and the other side of the ionizer. Alternatively, it is formed in a direction perpendicular to the fixing plate so that it can be fixed at different heights.

본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 의하면, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 선택적으로 고정할 수 있으므로 수평인 상태와 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임을 별도로 설계 제작할 필요가 없다. 또한 이오나이저의 고정각도와 무관하게 동일한 고정프레임을 이용할 수 있으므로 설비 품질을 향상시킬 수 있다.According to the mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber according to the present invention, since the bar-shaped ionizer can be selectively fixed in a horizontal state and an inclined state, a fixing frame for fixing in a horizontal state and an inclined state There is no need to separately design and manufacture. In addition, since the same fixed frame can be used regardless of the fixed angle of the ionizer, the quality of equipment can be improved.

도 1a 및 도 1b는 종래의 이오나이저의 장착구조를 도시한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조가 적용된 기판처리챔버를 도시한 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 고정구조물의 다른 예를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 고정프레임을 설명하기 위한 단면도이다.
도 6은 도 4에 도시된 고정프레임에 브라켓이 고정된 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 측면도이다.
도 8은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 정면도이다.1A and 1B are views showing a mounting structure of a conventional ionizer.
2A and 2B are views showing a substrate processing chamber to which an ionizer mounting structure is applied in the substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing another example of the fixing structure shown in FIG. 2.
4 is a perspective view showing a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view for explaining the fixing frame shown in FIG. 4.
6 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a bracket is fixed to the fixing frame shown in FIG. 4.
7 is a side view for explaining the bracket shown in FIG. 4.
8 is a front view for explaining the bracket shown in FIG. 4.

이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명에 따른 동작 및 작용을 이해하는 데 필요한 부분을 중심으로 상세히 설명한다.Hereinafter, a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. It will be described in detail focusing on the parts necessary to understand the operation and operation according to the present invention.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 동일한 명칭의 구성 요소에 대하여 도면에 따라 다른 참조부호를 부여할 수도 있으며, 서로 다른 도면임에도 불구하고 동일한 참조부호를 부여할 수도 있다. 그러나, 이와 같은 경우라 하더라도 해당 구성 요소가 실시예에 따라 서로 다른 기능을 갖는다는 것을 의미하거나, 서로 다른 실시예에서 동일한 기능을 갖는다는 것을 의미하는 것은 아니며, 각각의 구성 요소의 기능은 해당 실시예에서의 각각의 구성 요소에 대한 설명에 기초하여 판단하여야 할 것이다. 또한 본 발명의 구성을 설명하는 데 있어서, 단수로 표현된 구성 요소는 단수 또는 복수개의 구성 요소를 포함한다. In addition, in describing the constituent elements of the present invention, different reference numerals may be assigned to the constituent elements of the same name according to the drawings, and the same reference numerals may be assigned even though the drawings are different. However, even in such a case, it does not mean that the corresponding component has different functions according to the embodiment, or that it has the same function in different embodiments, and the function of each component is the corresponding implementation. It should be determined based on the description of each component in the example. In addition, in describing the configuration of the present invention, the constituent elements expressed in the singular include the singular or plural constituent elements.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 바 형태의 이오나이저의 장착구조가 적용된 기판처리챔버를 도시한 도면이다.2A and 2B are views showing a substrate processing chamber to which the mounting structure of a bar-shaped ionizer according to an embodiment of the present invention is applied.

기판처리챔버(10)는 기판의 세정공정, 에칭공정, 포토공정을 진행하기 위한 기판처리장치 내 구비되는 챔버들 중 어느 하나일 수 있다. 기판처리챔버 내에서 처리되는 기판은 반도체, 모니터 또는 TV용 디스플레이 패널, 모바일 디스플레이 패널, 기타 디스플레이 장치의 패널 중 어느 하나일 수 있다. The substrate processing chamber 10 may be any one of chambers provided in a substrate processing apparatus for performing a substrate cleaning process, an etching process, and a photo process. The substrate processed in the substrate processing chamber may be any one of a semiconductor, a display panel for a monitor or TV, a mobile display panel, and a panel of other display devices.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 정전기 제거를 위한 기판처리챔버(10)는 메인프레임(100)과, 메인프레임 하단에 위치하여 기판을 이송하는 기판이송부(200)와, 메인프레임 상단에 연결되어 이오나이저를 고정하기 위한 고정구조물(300)과, 고정용 프레임에 고정되는 이오나이저(400)와, 이오나이저를 고정구조물에 고정하기 위한 브라켓(500)을 포함한다.2A and 2B, the substrate processing chamber 10 for removing static electricity is connected to the main frame 100, the substrate transfer unit 200 located at the bottom of the main frame to transfer the substrate, and the top of the main frame. It includes a fixed structure 300 for fixing the ionizer, an ionizer 400 fixed to the fixing frame, and a bracket 500 for fixing the ionizer to the fixed structure.

메인프레임(100)은 수직방향 및 수평방향의 메인프레임을 포함하며, 기판이송부(200), 고정구조물(300), 이오나이저(400), 브라켓(500)을 내부에 수용한다. 메인프레임(200)의 측면, 상면, 밑면 등에 플레이트가 결합되어 내부가 닫혀 있을 수 있다. The main frame 100 includes a main frame in a vertical direction and a horizontal direction, and accommodates the substrate transfer unit 200, the fixed structure 300, the ionizer 400, and the bracket 500 therein. The plate may be coupled to a side surface, an upper surface, a bottom surface of the main frame 200 and the inside thereof may be closed.

기판이송부(200)는 메인프레임(100)의 하단에 배치되어 도 2a에서 도면을 바라보는 방향 또는 그 반대 방향으로 기판을 이송한다. 기판이송부(200)는 기판을 이송하기 위한 컨베이어 벨트를 이용할 수 있다. The substrate transfer unit 200 is disposed at the lower end of the main frame 100 to transfer the substrate in a direction looking at the drawing in FIG. 2A or the opposite direction. The substrate transfer unit 200 may use a conveyor belt for transferring a substrate.

기판처리챔버(10)에는, 도 2a와 같이 기판처리챔버(10)의 저면에 평행한 수평 상태로 기판을 이송하기 위한 구조를 갖는 기판이송부(200) 또는 도 2b와 같이 기판처리챔버(10)의 저면에 경사진 상태로 기판을 이송하기 위한 구조를 갖는 기판이송부(200)가 구비될 수 있다.In the substrate processing chamber 10, a substrate transfer unit 200 having a structure for transferring a substrate in a horizontal state parallel to the bottom surface of the substrate processing chamber 10 as shown in FIG. 2A or a substrate processing chamber 10 as shown in FIG. 2B. A substrate transfer unit 200 having a structure for transferring the substrate in an inclined state may be provided on the bottom surface of ).

고정구조물(300)에는 브라켓(500)에 의해 이오나이저(400)가 고정된다. The ionizer 400 is fixed to the fixed structure 300 by a bracket 500.

고정구조물(300)은 메인프레임(100)의 상단에서 하방으로 일정길이 연장된 수직방향의 복수의 고정프레임(310)을 포함할 수 있다. The fixing structure 300 may include a plurality of fixing frames 310 in a vertical direction extending a predetermined length downward from the top of the main frame 100.

복수의 고정프레임(310) 각각에는 브라켓(500)을 고정하기 위한 길이방향 즉, 수직방향으로 길게 형성된 결합홈(320)이 형성된다. 기판이송부(200)에 위치한 기판의 경사에 대응되도록, 어느 하나의 고정프레임에 고정된 브라켓(500)은 다른 하나의 고정프레임에 고정된 브라켓과 서로 동일한 높이 또는 다른 높이에 위치할 수 있다. Each of the plurality of fixing frames 310 is formed with a coupling groove 320 formed to be elongated in a longitudinal direction, that is, a vertical direction for fixing the bracket 500. The bracket 500 fixed to one of the fixing frames may be positioned at the same height or at a different height than the bracket fixed to the other fixing frame so as to correspond to the inclination of the substrate positioned on the substrate transfer unit 200.

도 3은 도 2에 도시된 고정구조물의 다른 예를 도시한 도면이다. 도 3을 참조하면, 기판처리챔버(10)의 복수의 고정프레임(310)에는 고정플레이트(330)가 결합되고, 고정플레이트(330) 상에 수직방향을 길게 형성되는 결합홈(320)이 수평방향으로 복수개 배치될 수도 있다. 3 is a view showing another example of the fixing structure shown in FIG. 2. Referring to FIG. 3, a fixing plate 330 is coupled to a plurality of fixing frames 310 of the substrate processing chamber 10, and a coupling groove 320 formed in a vertical direction on the fixing plate 330 is horizontal. A plurality of directions may be arranged.

다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 바 형태의 이오나이저(400)는 기판이송부(200) 상의 기판에 정전기를 제거하는 기능을 수행한다.Referring back to FIGS. 2A and 2B, the bar-shaped ionizer 400 performs a function of removing static electricity from the substrate on the substrate transfer unit 200.

바 형태의 이오나이저(400)은 기판이송부(200)의 경사에 대응되도록 도 2a와 같이 메인프레임(100)의 저면과 수평인 상태 또는 도 2b와 같이 경사진 상태로 고정프레임(300)에 고정된다. The bar-shaped ionizer 400 is attached to the fixed frame 300 in a state horizontal to the bottom of the main frame 100 as shown in FIG. 2A or in an inclined state as in FIG. 2B so as to correspond to the inclination of the substrate transfer unit 200. It is fixed.

브라켓(500)은 이오나이저(400)을 고정프레임(310)에 고정하는 기능을 수행한다. The bracket 500 performs a function of fixing the ionizer 400 to the fixing frame 310.

이하 도 4 내지 도 8을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 바 형태의 이오나이저의 장착구조에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, a mounting structure of a bar-type ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 8.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 도시한 사시도이다. 도 5는 도 4에 도시된 고정프레임을 설명하기 위한 단면도이고, 도 6은 고정프레임에 브라켓이 고정된 구조를 설명하기 위한 단면도이다. 도 7은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 측면도이고, 도 8은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 정면도이다.4 is a perspective view showing a mounting structure of an ionizer in a substrate processing chamber according to an embodiment of the present invention. 5 is a cross-sectional view illustrating the fixing frame shown in FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a bracket is fixed to the fixing frame. FIG. 7 is a side view illustrating the bracket shown in FIG. 4, and FIG. 8 is a front view illustrating the bracket shown in FIG. 4.

도 4 및 도 5를 참조하면, 수직방향의 고정프레임(310)에는 고정프레임(310)의 길이방향 즉 수직방향으로 길게 형성되는 결합홈(320)이 구비된다. 고정프레임(310)의 길이방향으로 형성되는 결합홈(320) 중 특정 높이에서 브라켓(500)이 고정될 수 있다.4 and 5, the fixing frame 310 in the vertical direction is provided with a coupling groove 320 formed to be elongated in the longitudinal direction of the fixing frame 310, that is, in the vertical direction. The bracket 500 may be fixed at a specific height among the coupling grooves 320 formed in the longitudinal direction of the fixing frame 310.

이오나이저의 일측을 고정하는 브라켓(500)이 이오나이저(400)의 타측을 고정하는 브라켓(500)보다 다른 높이에 고정되거나 또는 동일한 높이에 고정될 수 있다. 따라서 이오나이저는 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정될 수 있다.The bracket 500 fixing one side of the ionizer may be fixed to a different height or fixed to the same height than the bracket 500 fixing the other side of the ionizer 400. Therefore, the ionizer may be fixed in a horizontal or inclined state.

이오나이저(400)의 고정각도에 따른 상기 브라켓(500)의 고정위치를 표시하는 높이식별표식(340)이 구비된다. 고정각도가 0도가 아닌 경우, 이오나이저의 일측 또는 타측을 각각 고정하는 브라켓의 고정높이는 달라지게 되며, 고정프레임(300)에는 결함홈 주위에 브라켓의 고정위치를 나타내는 높이식별표식(330)이 구비된다. A height identification mark 340 indicating a fixed position of the bracket 500 according to a fixed angle of the ionizer 400 is provided. When the fixed angle is not 0 degrees, the fixing height of the brackets that fix one side or the other side of the ionizer are different, and the fixing frame 300 is provided with a height identification mark 330 indicating the fixing position of the bracket around the defect groove. do.

예를 들어, 이오나이저(400)의 고정각도가 0도, 5도, 10도 인 경우, 고정각도 0도, 5도, 10도 각각에 대응되는 높이식별표식이 고정프레임(310)마다 표시될 수 있다. 이오나이저(400)의 고정각도에 따른 높이식별표식은, 고정프레임(310)에 고정될 브라켓(500)의 위치를 쉽게 파악할 수 있게 한다. For example, when the fixed angle of the ionizer 400 is 0 degrees, 5 degrees, and 10 degrees, a height identification mark corresponding to each of the fixed angles of 0 degrees, 5 degrees, and 10 degrees may be displayed for each fixed frame 310. have. The height identification mark according to the fixed angle of the ionizer 400 makes it possible to easily identify the position of the bracket 500 to be fixed to the fixed frame 310.

도 4 및 도 5를 참조하면, 브라켓(500)은, 결합홈(320)에 삽입 고정되는 고정돌기(511)를 구비하는 제1 몸체(510)와, 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며 이오나이저를 고정하는 결속구(521)를 구비하는 제2 몸체(520)를 포함한다.4 and 5, the bracket 500 is rotatably coupled to the first body 510 having a fixing protrusion 511 that is inserted and fixed in the coupling groove 320, It includes a second body 520 having a binding tool 521 for fixing the niger.

구체적으로 제1 몸체(510)는, 일측에 형성되며 결합홈(320)에 삽입 고정되는 고정돌기(511)와, 타측에 형성되며 제2 몸체와 회전가능한 결합을 위한 회전돌기(514)와, 가장자리에 형성되는 복수의 고정나사홀(512)과, 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도표식(515)을 포함한다.Specifically, the first body 510 has a fixing protrusion 511 formed on one side and inserted and fixed in the coupling groove 320, a rotation protrusion 514 formed on the other side and rotatably coupled to the second body, It includes a plurality of fixing screw holes 512 formed at the edges, and a rotation angle mark 515 indicating a relative rotation angle with respect to the second body.

고정돌기(511)는 수직방향으로 길게 형성되는 결합홈(320)내에 삽입되어 고정되며, 결합홈(320) 내에서 위치이동이 가능하다. 고정돌기(511)의 고정위치가 설정되면, 제1 몸체(510)에 형성된 고정나사홀(512)을 통해 고정나사(513)가 체결됨으로써 브라켓(500)이 고정프레임(300)에 견고히 고정될 수 있다.The fixing protrusion 511 is inserted and fixed in the coupling groove 320 formed long in the vertical direction, and the position can be moved within the coupling groove 320. When the fixing position of the fixing protrusion 511 is set, the fixing screw 513 is fastened through the fixing screw hole 512 formed in the first body 510 so that the bracket 500 is firmly fixed to the fixing frame 300. I can.

회전돌기(514)는 제1 몸체(510)의 타측에 형성되고, 제2 몸체(520)의 회전돌기홈(522)에 삽입된다. 따라서 제2 몸체(520)는 회전돌기(514) 및 회전돌기(514)가 삽입된 회전돌기홈(522)에 의해 제1 몸체(510)에 대해 회전이 가능하게 된다. 따라서 이오나이저(400)를 수평인 상태 또는 경사진 상태에서 결속구(521)에 의한 정확하게 고정할 수 있다.The rotation protrusion 514 is formed on the other side of the first body 510 and is inserted into the rotation protrusion groove 522 of the second body 520. Accordingly, the second body 520 can be rotated with respect to the first body 510 by the rotation protrusion 514 and the rotation protrusion groove 522 into which the rotation protrusion 514 is inserted. Therefore, the ionizer 400 can be accurately fixed by the binding tool 521 in a horizontal or inclined state.

이와는 다르게 회전돌기(514)가 제2 몸체(520)에 구비되고, 회전돌기홈(522)이 제1 몸체(510)에 구비될 수도 있다.Unlike this, the rotation protrusion 514 may be provided in the second body 520, and the rotation protrusion groove 522 may be provided in the first body 510.

도 8을 참조하면, 제1 몸체(510)의 회전각도표식(515)는 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도표식(515)을 포함한다. 이오나이저의 경사 정도에 따라 제2 몸체(520)를 제1 몸체(510)에 대해 미리 회전시킨 후 결합하는 경우, 이오나이저의 정확한 고정이 가능하게 된다.Referring to FIG. 8, a rotation angle mark 515 of the first body 510 includes a rotation angle mark 515 indicating a relative rotation angle with respect to the second body. When the second body 520 is rotated in advance with respect to the first body 510 according to the degree of inclination of the ionizer and then coupled, the ionizer can be accurately fixed.

다시 도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 몸체(520)에는 일측에 형성되고 제1 몸체의 회전돌기(514)를 수용하는 회전돌기홈(522)과, 타측에 형성되고 이오나이저를 고정하는 결속구(521)을 포함한다.6 and 7 again, a rotation protrusion groove 522 formed on one side of the second body 520 and accommodating the rotation protrusion 514 of the first body, and a rotation protrusion groove 522 formed on the other side to fix the ionizer. It includes a binding tool (521).

회전돌기홈(522)은 제1 몸체(510)에 구비되는 회전돌기(514)과 체결되어 제1 몸체(510)에 대한 제2 몸체(520)의 회전을 가능하게 한다.The rotation protrusion groove 522 is fastened with the rotation protrusion 514 provided in the first body 510 to enable rotation of the second body 520 with respect to the first body 510.

결속구(521)는 이오나이저(400)을 고정한다. 결속구(521)는 이오나이저(400)의 유지 보수를 위해 탈착식으로 이오나이저(400)를 장착할 수 있다. 특히 결속구(521)는 후크(hook) 형태로 구비될 수 있다. The binding tool 521 fixes the ionizer 400. The binding tool 521 may attach the ionizer 400 in a detachable manner for maintenance of the ionizer 400. In particular, the binding tool 521 may be provided in the form of a hook.

본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 의하면, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 선택적으로 고정할 수 있으므로 수평인 상태와 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임을 별도로 설계 제작할 필요가 없다. 또한 이오나이저의 고정각도와 무관하게 동일한 고정프레임을 이용할 수 있으므로 설비 품질을 향상시킬 수 있다.According to the mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber according to the present invention, since the bar-shaped ionizer can be selectively fixed in a horizontal state and an inclined state, a fixing frame for fixing in a horizontal state and an inclined state There is no need to separately design and manufacture. In addition, since the same fixed frame can be used regardless of the fixed angle of the ionizer, the quality of equipment can be improved.

따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments.

본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

10: 기판처리챔버 100: 메인프레임
200: 기판이송부 300: 고정구조물
310: 고정프레임 320: 결합홈
330: 고정플레이트 340: 높이식별표식
400: 이오나이저 500: 브라켓
510: 제1 몸체 511: 고정돌기
512: 고정나사홀 513: 고정나사
514: 회전돌기 515: 회전각도표식
520: 제2 몸체 521: 결속구
522: 회전돌기홈10: substrate processing chamber 100: main frame
200: substrate transfer unit 300: fixed structure
310: fixing frame 320: coupling groove
330: fixed plate 340: height identification mark
400: ionizer 500: bracket
510: first body 511: fixing protrusion
512: fixing screw hole 513: fixing screw
514: rotation protrusion 515: rotation angle mark
520: second body 521: binding tool
522: rotation protrusion groove

Claims (7)

기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 있어서,
수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물;
상기 결합홈에 고정되고, 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 브라켓;
상기 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.In the mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber,
A fixed structure having a coupling groove formed in a vertical direction;
A bracket fixed to the coupling groove and fixing the ionizer in a horizontal or inclined state;
A mounting structure for an ionizer in a substrate processing chamber, comprising: a bar-shaped ionizer fixed to the fixed structure by the bracket. 제1항에 있어서,
상기 브라켓은,
상기 고정구조물의 결합홈에 삽입 고정되는 고정돌기를 구비하는 제1 몸체;
상기 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며, 상기 이오나이저를 고정하는 결속구를 구비하는 제2 몸체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조The method of claim 1,
The bracket is,
A first body having a fixing protrusion inserted and fixed into the coupling groove of the fixing structure;
Mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, characterized in that it is rotatably coupled to the first body and includes a second body having a binding hole for fixing the ionizer 제2항에 있어서,
상기 결속구는 상기 이오나이저를 탈착식으로 고정하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 2,
The binding tool is a mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, characterized in that the detachable fixing the ionizer. 제2항에 있어서,
상기 제1 몸체에는 상기 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도 표식이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 2,
The mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, wherein the first body is provided with a rotation angle mark indicating a relative rotation angle with respect to the second body. 제1항에 있어서,
상기 고정구조물은 복수의 수직방향의 고정프레임을 포함하고,
상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 복수의 고정프레임 각각에 길이방향을 따라 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 1,
The fixing structure includes a plurality of vertical fixing frames,
The coupling groove of the ionizer in the substrate processing chamber, characterized in that it is provided along the longitudinal direction of each of the plurality of fixing frames so that one side and the other side of the ionizer can be fixed at the same height or different heights. Mounting structure. 제5항에 있어서,
상기 복수의 고정프레임 각각에는 상기 이오나이저의 고정각도에 따른 상기 브라켓의 고정위치를 표시하는 높이식별표식이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 5,
The mounting structure of the ionizer in the substrate processing chamber, wherein each of the plurality of fixing frames is provided with a height identification mark indicating a fixing position of the bracket according to a fixing angle of the ionizer. 제1항에 있어서,
상기 고정구조물은,
수직방향의 복수의 고정프레임과,
상기 복수의 고정프레임에 고정되는 고정플레이트를 포함하고,
상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 고정플레이트의 수직방향으로 길게 형성되고 수평방향으로 배열되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.The method of claim 1,
The fixed structure,
A plurality of fixed frames in the vertical direction,
It includes a fixing plate fixed to the plurality of fixing frames,
The coupling groove is formed in a vertical direction of the fixing plate and arranged in a horizontal direction so that one side and the other side of the ionizer can be fixed at the same height or different heights. Mounting structure of the Niger.
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