KR102204871B1 - Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하부기판 및 상기 하부기판과 대향하는 상부기판 사이에 형성되는 컬럼스페이서를 포함하고, 상기 컬럼스페이서가 형성된 영역이 오픈되도록 상기 하부기판 및 상부기판에 형성되는 배향막들을 포함하는 액정 표시패널을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
본 발명에 따른 액정 표시패널은, 하부기판, 상기 하부기판과 대향하며, 블랙매트릭스 및 컬럼스페이서가 형성되어 있는 상부기판, 상기 하부기판에 형성되며, 상기 컬럼스페이서와 마주보는 제1영역이 오픈되어 있는 제1배향막, 상기 상부기판에 형성되며, 상기 컬럼스페이서가 형성된 제2영역이 오픈되어 있는 제2배향막 및 상기 제1배향막 및 제2배향막 사이에 구비되는 액정층을 포함한다.
본 발명에 의하면, 컬럼스페이서가 형성된 영역이 오픈되도록 상기 하부기판 및 상부기판에 배향막들이 형성됨으로써, 액정 표시패널에서 발생되는 빛샘불량이 방지될 수 있다.
The present invention provides a liquid crystal display panel including a lower substrate and a column spacer formed between the lower substrate and an upper substrate opposite to the lower substrate, and including alignment layers formed on the lower substrate and the upper substrate so that a region in which the column spacer is formed is opened. To provide is a technical problem.
In the liquid crystal display panel according to the present invention, a lower substrate, an upper substrate facing the lower substrate and having a black matrix and a column spacer formed thereon, is formed on the lower substrate, and a first region facing the column spacer is opened. A first alignment layer formed on the upper substrate, a second alignment layer in which a second region in which the column spacer is formed is open, and a liquid crystal layer provided between the first alignment layer and the second alignment layer.
According to the present invention, since the alignment layers are formed on the lower substrate and the upper substrate so that the region in which the column spacer is formed is opened, a light leakage defect occurring in the liquid crystal display panel can be prevented.

Description

액정 표시패널 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME} Liquid crystal display panel and its manufacturing method {LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 표시패널에 관한 것으로서, 특히, 컬럼스페이서가 형성된 영역을 오픈하며 배향막이 선택적으로 패터닝 되어 있는 액정 표시패널 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a display panel, and more particularly, to a liquid crystal display panel in which a region in which a column spacer is formed is opened and an alignment layer is selectively patterned, and a method of manufacturing the same.

정보화 사회로 시대가 발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시장치(FPD : Flat Panel Display Device)의 중요성이 증대되고 있다. 평판 표시장치에는, 액정 표시장치(LCD : Liquid Crystal Display Device), 플라즈마 표시장치(PDP : Plasma Display Panel Device), 유기발광 표시장치(OLED : Organic Light Emitting Display Device) 등이 있으며, 전기영동 표시장치(EPD : Electrophoretic Display Device)도 널리 이용되고 있다.As the era develops into an information society, the importance of a flat panel display device (FPD) having excellent characteristics such as thinner, lighter, and low power consumption is increasing. Flat panel displays include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel device (PDP), an organic light emitting display device (OLED), and the like, and an electrophoretic display device. (EPD: Electrophoretic Display Device) is also widely used.

이 중, 박막트랜지스터를 포함하는 액정 표시장치는 해상도, 컬러 표시, 화질 등에서 우수하여 텔레비전, 노트북, 테블릿 컴퓨터, 또는 데스크 탑 컴퓨터의 표시 장치로 널리 상용화되고 있다. Among them, a liquid crystal display device including a thin film transistor is widely commercialized as a display device for a television, a notebook computer, a tablet computer, or a desktop computer because it is excellent in resolution, color display, and image quality.

도 1은 종래의 일반적인 액정 표시패널의 구조를 나타낸 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional general liquid crystal display panel.

종래의 일반적인 액정 표시패널(10)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트라인들(미도시) 및 데이터라인들(미도시)의 교차영역 마다 픽셀이 형성되어 있는 하부기판(11), 상기 하부기판(11)과 대향하며, 컬럼스페이서(13)가 형성되어 있는 상부기판(12), 상기 하부기판(11) 상면 및 상부기판(12) 하면 전체를 덮는 배향막들(15a, 15b) 및 상기 하부기판(11) 및 상부기판(12) 사이에 형성되는 액정층(14)을 포함한다. 상기 배향막들(15a, 15b) 중 하부배향막(15a)은 하부기판(11)을 덮으며 형성된다. 또한, 상기 배향막들(15a, 15b) 중 상부배향막(15b)은 상기 컬럼스페이서(13)를 포함하는 상기 상부기판(12) 하면 전체를 덮으며 형성된다. As shown in FIG. 1, a conventional general liquid crystal display panel 10 includes a lower substrate 11 in which a pixel is formed at each intersection area of gate lines (not shown) and data lines (not shown), and the Alignment layers 15a, 15b facing the lower substrate 11 and covering the upper substrate 12 on which the column spacer 13 is formed, the upper surface of the lower substrate 11 and the lower surface of the upper substrate 12, and the It includes a liquid crystal layer 14 formed between the lower substrate 11 and the upper substrate 12. Among the alignment layers 15a and 15b, a lower alignment layer 15a is formed to cover the lower substrate 11. In addition, among the alignment layers 15a and 15b, the upper alignment layer 15b is formed to cover the entire lower surface of the upper substrate 12 including the column spacer 13.

상기한 바와 같은 종래의 액정 표시패널(10)에서는, 외부에서 압력이 가해지는 경우(예를 들어, 상기 패널을 누르거나, 상기 패널이 구부러지는 경우), 상기 컬럼스페이서(13)가 압력에 의해 눌리거나, 움직이는 현상이 발생될 수 있다. In the conventional liquid crystal display panel 10 as described above, when pressure is applied from the outside (for example, when the panel is pressed or the panel is bent), the column spacer 13 is Pressing or moving may occur.

상기 컬럼스페이서(13)가 움직임에 따라, 상기 컬럼스페이서(13)를 덮고 있는 배향막들(15a, 15b)이 손상된다. As the column spacer 13 moves, the alignment layers 15a and 15b covering the column spacer 13 are damaged.

또한, 상기 배향막들(15a, 15b)이 손상됨에 따라 배향막들(15a, 15b)의 배향력이 저하되며, 상기 배향막들(15a, 15b)이 손상된 부분으로 빛이 방출되는 빛샘불량이 발생될 수 있다. In addition, as the alignment layers 15a and 15b are damaged, the alignment force of the alignment layers 15a and 15b decreases, and a light leakage defect may occur in which light is emitted to the damaged portion of the alignment layers 15a and 15b. have.

또한, 상기 배향막들(15a, 15b)이 손상됨에 따라, 상기 표시패널의 액정층(14)으로 배향막들(15a, 15b)로부터 이물이 떨어져 나올 수 있으며, 상기 이물에 의해서도, 빛샘불량은 발생될 수 있다. In addition, as the alignment layers 15a and 15b are damaged, foreign matters may come off from the alignment layers 15a and 15b into the liquid crystal layer 14 of the display panel, and light leakage defects may occur due to the foreign matters. I can.

또한, 상기 컬럼스페이서(13)가 움직임에 따라, 하부기판에 형성된 박막트랜지스터와 픽셀전극이 연결되는 컨택홀 부분에서는, 배향막으로 사용되는 배향물질이 집중될 수 있다. In addition, as the column spacer 13 moves, an alignment material used as an alignment layer may be concentrated in a contact hole portion in which the thin film transistor formed on the lower substrate and the pixel electrode are connected.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 컬럼스페이서가 형성된 영역이 오픈되도록 하부기판 및 상부기판에 형성되는 배향막들을 포함하는 액정 표시패널을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. The present invention has been proposed in order to solve the above-described problem, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel including alignment layers formed on a lower substrate and an upper substrate so that a region in which a column spacer is formed is opened.

본 발명에 따른 액정 표시패널은, 하부기판, 상기 하부기판과 대향하며, 블랙매트릭스 및 컬럼스페이서가 형성되어 있는 상부기판, 상기 하부기판에 형성되며, 상기 컬럼스페이서와 마주보는 제1영역이 오픈되어 있는 제1배향막, 상기 상부기판에 형성되며, 상기 컬럼스페이서가 형성된 제2영역이 오픈되어 있는 제2배향막 및 상기 제1배향막 및 제2배향막 사이에 구비되는 액정층을 포함한다. In the liquid crystal display panel according to the present invention, a lower substrate, an upper substrate facing the lower substrate and having a black matrix and a column spacer formed thereon, is formed on the lower substrate, and a first region facing the column spacer is opened. A first alignment layer formed on the upper substrate, a second alignment layer in which a second region in which the column spacer is formed is open, and a liquid crystal layer provided between the first alignment layer and the second alignment layer.

또한, 본 발명에 따른 액정 표시패널은, 하부기판 상에 스위칭 소자를 형성하는 단계, 상부기판 상에 컬럼스페이서를 형성하는 단계, 상기 컬럼스페이서와 마주보는 제1영역이 오픈되도록, 상기 하부기판에 제1배향막을 형성하는 단계, 상기 컬럼스페이서가 형성된 제2영역이 오픈되도록, 상기 상부기판에 제2배향막을 형성하는 단계 및 액정층을 사이에 두고, 상기 하부기판과 상부기판을 합착하는 단계를 포함한다.In addition, in the liquid crystal display panel according to the present invention, forming a switching element on a lower substrate, forming a column spacer on an upper substrate, and opening a first region facing the column spacer are provided on the lower substrate. Forming a first alignment layer, forming a second alignment layer on the upper substrate so that the second region in which the column spacer is formed is opened, and bonding the lower substrate and the upper substrate with a liquid crystal layer therebetween. Include.

본 발명에 의하면, 컬럼스페이서가 형성된 영역이 오픈되도록 상기 하부기판 및 상부기판에 배향막들을 형성함으로써, 상기 컬럼스페이서의 움직임에 따라, 상기 컬럼스페이서를 덮고 있는 배향막들의 손상을 방지할 수 있다. 상기 배향막들의 손상을 방지함에 따라, 상기 배향막들의 배향력이 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, by forming alignment layers on the lower substrate and the upper substrate so that the area in which the column spacer is formed is opened, damage to the alignment layers covering the column spacer can be prevented according to the movement of the column spacer. By preventing damage to the alignment layers, it is possible to prevent a decrease in the alignment force of the alignment layers.

또한, 상기 배향막들로부터 발생되는 이물이 액정층 내부로 유입되는 현상이 방지될 수 있다. 상기 배향막의 손상 및 액정층으로의 이물유입이 방지됨으로써, 액정 표시패널에서 발생되는 빛샘불량이 방지될 수 있다. In addition, a phenomenon in which foreign substances generated from the alignment layers flow into the liquid crystal layer may be prevented. By preventing damage to the alignment layer and inflow of foreign substances into the liquid crystal layer, defects in light leakage occurring in the liquid crystal display panel may be prevented.

또한, 박막트랜지스터와 픽셀전극이 연결되는 컨택홀 부분에, 배향막으로 사용되는 배향물질이 집중되는 것이 방지될 수 있다. In addition, concentration of an alignment material used as an alignment layer can be prevented in a portion of the contact hole where the thin film transistor and the pixel electrode are connected.

도 1은 종래의 일반적인 액정표시패널의 구조를 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 액정 표시패널이 적용되는 표시장치의 구성을 개략적으로 나타낸 예시도.
도 3은 본 발명에 따른 액정 표시패널의 구조를 나타낸 단면도.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명에 따른 표시패널의 제조방법을 설명하기 위한 예시도들.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명에 따른 표시패널에 적용되는 배향막 제조방법을 설명하기 위한 예시도들.
1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional general liquid crystal display panel.
2 is an exemplary view schematically showing a configuration of a display device to which a liquid crystal display panel according to the present invention is applied.
3 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display panel according to the present invention.
4A to 4C are exemplary views for explaining a method of manufacturing a display panel according to the present invention.
5A to 5D are exemplary views illustrating a method of manufacturing an alignment layer applied to a display panel according to the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms different from each other, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to those who have it, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are exemplary, and the present invention is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same components throughout the specification. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.When'include','have','consists of' and the like mentioned in the present specification are used, other parts may be added unless'only' is used. In the case of expressing the constituent elements in the singular, it includes the case of including the plural unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is interpreted as including an error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as'upper','upper of','lower of','next to','right' Or, unless'direct' is used, one or more other parts may be located between the two parts.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, when a temporal predecessor relationship is described as'after','following','after','before', etc.,'right' or'direct' It may also include cases that are not continuous unless this is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.First, second, etc. are used to describe various elements, but these elements are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first component mentioned below may be a second component within the technical idea of the present invention.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present invention can be partially or entirely combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments can be implemented independently of each other or can be implemented together in a related relationship. May be.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 상세히 설명된다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 액정 표시패널이 적용되는 표시장치의 구성을 개략적으로 나타낸 예시도이다.2 is an exemplary view schematically showing a configuration of a display device to which a liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

본 발명에 따른 액정 표시패널이 적용되는 표시장치는, 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트라인들(GL1~GLg)과 데이터라인들(DL1~DLd)의 교차영역마다 픽셀(P)(110)이 형성되어 있는 패널(100), 상기 패널(100)에 형성되어 있는 상기 게이트라인들(GL1~GLg)에 순차적으로 스캔펄스를 공급하기 위한 게이트 드라이버(200), 상기 패널(100)에 형성되어 있는 상기 데이터라인들(DL1~DLd)로 데이터 전압을 공급하기 위한 데이터 드라이버(300) 및 상기 게이트 드라이버(200)와 상기 데이터 드라이버(300)의 기능을 제어하기 위한 타이밍 컨트롤러(400)를 포함한다. In the display device to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied, as shown in FIG. 2, a pixel P 110 is provided at each intersection area between the gate lines GL1 to GLg and the data lines DL1 to DLd. A gate driver 200 for sequentially supplying scan pulses to the panel 100 formed on the panel 100, the gate lines GL1 to GLg formed on the panel 100, and formed on the panel 100 A data driver 300 for supplying a data voltage to the data lines DL1 to DLd and a timing controller 400 for controlling functions of the gate driver 200 and the data driver 300 .

첫째, 상기 패널(100)의 하부기판(미도시)에는, 다수의 데이터라인들(DL1~DLd), 상기 데이터라인들(DL1~DLd)과 교차되는 다수의 게이트라인들(GL1~GLg), 상기 데이터라인들(DL1~DLd)과 상기 게이트라인들(GL1~GLg)의 교차부들 마다에 형성되는 픽셀(P)(110)들에 형성된 박막 트랜지스터(Oxide Thin Film Transistor)들, 상기 픽셀(P)(110)들 각각에 형성되어 있으며 상기 픽셀들 각각에 데이터전압을 충전시키기 위한 픽셀전극들 및 상기 픽셀전극들과 함께 상기 픽셀에 충전된 액정을 구동하기 위한 공통전극들이 형성된다. 상기 데이터 라인들(DL1~DLd)과 상기 게이트 라인들(GL1~GLg)의 교차 구조에 의해 상기 픽셀들이 매트릭스 형태로 배치된다.First, on a lower substrate (not shown) of the panel 100, a plurality of data lines DL1 to DLd, a plurality of gate lines GL1 to GLg crossing the data lines DL1 to DLd, Oxide Thin Film Transistors formed on the pixels P 110 formed at each intersection of the data lines DL1 to DLd and the gate lines GL1 to GLg, and the pixel P )(110), pixel electrodes for charging a data voltage to each of the pixels, and common electrodes for driving a liquid crystal charged in the pixel together with the pixel electrodes are formed. The pixels are arranged in a matrix form by an intersection structure between the data lines DL1 to DLd and the gate lines GL1 to GLg.

상기 패널(100)의 상부기판(미도시)에는 블랙매트릭스(BM: Black Matrix)와 컬러필터가 형성된다. A black matrix (BM) and a color filter are formed on an upper substrate (not shown) of the panel 100.

상기 패널(100)의 상부기판과 하부기판 각각에는 편광판이 부착되고, 액정과 접하는 내면에는 상기 액정의 프리틸트각을 설정하기 위한 배향막이 형성된다. 상기 패널(100)의 상부 유리기판과 하부 유리기판 사이에는 셀갭(Cell gap)을 유지하기 위한 컬럼스페이서(CS: Column Spacer)가 형성될 수 있다. 상기 패널(100)은, 이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여 상세히 설명된다.A polarizing plate is attached to each of the upper and lower substrates of the panel 100, and an alignment layer for setting the pretilt angle of the liquid crystal is formed on an inner surface in contact with the liquid crystal. A column spacer (CS) for maintaining a cell gap may be formed between the upper glass substrate and the lower glass substrate of the panel 100. The panel 100 will be described in detail below with reference to FIGS. 3 to 5.

둘째, 상기 패널구동부(200, 300, 400)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 패널(100)에 형성되어 있는 상기 데이터 라인들(DL1~DLd)에 데이터전압을 공급하기 위한 데이터 드라이버(300), 상기 데이터전압이 출력되는 동안 상기 패널(100)에 형성되어 있는 상기 게이트 라인들(GL1~GLg)에 순차적으로 상기 스캔펄스를 공급하기 위한 게이트 드라이버(200) 및 상기 데이터 드라이버(300)와 상기 게이트 드라이버(200)를 제어하기 위한 타이밍 컨트롤러(400)를 포함한다. Second, the panel driver 200, 300, 400, as shown in FIG. 2, a data driver for supplying a data voltage to the data lines DL1 to DLd formed in the panel 100 ( 300), a gate driver 200 and the data driver 300 for sequentially supplying the scan pulses to the gate lines GL1 to GLg formed on the panel 100 while the data voltage is being output And a timing controller 400 for controlling the gate driver 200.

상기 타이밍 컨트롤러(400)는 외부시스템으로부터 데이터 인에이블 신호(Data Enable, DE), 도트 클럭(CLK) 등의 타이밍신호를 입력받아, 상기 데이터 드라이버(300)와 상기 게이트 드라이버(200)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 제어신호들(GCS, DCS)을 발생한다. The timing controller 400 receives timing signals such as a data enable signal (Data Enable, DE) and a dot clock (CLK) from an external system, and the operation timing of the data driver 300 and the gate driver 200 It generates control signals (GCS, DCS) to control.

상기 데이터 드라이버(300)는 상기 타이밍 컨트롤러(400)로부터 입력된 상기 영상데이터를 상기 데이터 전압으로 변환하여, 상기 게이트 라인에 스캔펄스가 공급되는 1수평기간마다 1수평라인분의 데이터 전압을 상기 데이터 라인들에 공급한다. The data driver 300 converts the image data input from the timing controller 400 into the data voltage, and converts the data voltage for one horizontal line into the data voltage for every horizontal period in which a scan pulse is supplied to the gate line. Supply to the lines.

상기 게이트 드라이버(200)는 상기 타이밍 컨트롤러(400)로부터 전송되어온 게이트 스타트 펄스(Gate Start Pulse; GSP)를 게이트 쉬프트 클럭(Gate Shift Clock; GSC)에 따라 쉬프트시켜, 순차적으로 상기 게이트 라인들(GL1~GLg)에 게이트 온 전압(Von)을 갖는 스캔펄스를 공급한다. 그리고, 상기 게이트 드라이버(200)는 상기 게이트 온 전압(Von)을 갖는 상기 스캔펄스가 공급되지 않는 나머지 기간 동안에는 상기 게이트 라인(GL1~GLn)들에 게이트 오프 전압(Voff)을 공급한다.The gate driver 200 shifts a gate start pulse (GSP) transmitted from the timing controller 400 according to a gate shift clock (GSC), and sequentially shifts the gate lines GL1 A scan pulse having a gate-on voltage (Von) is supplied to ~GLg). In addition, the gate driver 200 supplies a gate-off voltage Voff to the gate lines GL1 to GLn during the remaining period when the scan pulse having the gate-on voltage Von is not supplied.

상기 설명에서는, 상기 데이터 드라이버(300), 상기 게이트 드라이버(200) 및 상기 타이밍 컨트롤러(400)가 독립적으로 구성된 것으로서 설명되었으나, 상기 데이터 드라이버(300) 또는 상기 게이트 드라이버(200)들 중 적어도 어느 하나는 상기 타이밍 컨트롤러(400)에 구성될 수도 있다.
In the above description, the data driver 300, the gate driver 200, and the timing controller 400 have been described as being independently configured, but at least one of the data driver 300 or the gate driver 200 May be configured in the timing controller 400.

도 3은 본 발명에 따른 액정 표시패널의 구조를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display panel according to the present invention.

본 발명에 따른 액정 표시패널은, 하부기판(160), 상기 하부기판(160)과 대향하며, 블랙매트릭스(183) 및 컬럼스페이서(185)가 형성되어 있는 상부기판(180), 상기 하부기판(160)에 형성되며, 상기 컬럼스페이서(185)와 마주보는 제1영역(A)이 오픈되어 있는 제1배향막(151), 상기 상부기판(180)에 형성되며, 상기 컬럼스페이서(185)가 형성된 제2영역(B)이 오픈되어 있는 제2배향막(152) 및 상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152) 사이에 액정층(140)을 포함한다.The liquid crystal display panel according to the present invention includes a lower substrate 160, an upper substrate 180 facing the lower substrate 160 and on which a black matrix 183 and a column spacer 185 are formed, and the lower substrate ( 160, the first alignment layer 151 in which the first region A facing the column spacer 185 is open, is formed on the upper substrate 180, and the column spacer 185 is formed. A second alignment layer 152 in which the second region B is open and a liquid crystal layer 140 between the first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 are included.

먼저, 상기 하부기판(160)에는, 게이트라인들(미도시) 및 데이터라인들(미도시)의 교차영역 마다 픽셀이 형성되어 있다. 상기 픽셀은 박막 트랜지스터(162), 공통전극(167) 및 픽셀전극(165)을 포함한다. First, a pixel is formed on the lower substrate 160 in each crossing region of gate lines (not shown) and data lines (not shown). The pixel includes a thin film transistor 162, a common electrode 167 and a pixel electrode 165.

상기 박막 트랜지스터(162)는, 도면에 상세하게 도시되지는 않았으나, 제1기판(161) 상에 형성된 게이트, 상기 게이트 상에 형성된 게이트 절연막(GI: Gate Insulator), 상기 게이트 절연막 상에 형성된 액티브 및 상기 액티브와 연결되는 제1전극 및 제2전극을 포함한다. Although not shown in detail in the drawings, the thin film transistor 162 includes a gate formed on the first substrate 161, a gate insulating layer (GI) formed on the gate, an active layer formed on the gate insulating layer, and And a first electrode and a second electrode connected to the active.

상기 박막 트랜지스터(162)는 각각의 픽셀에 전기적 신호를 전달하고, 제어하는 스위칭 역할을 한다. 상기 제1전극 및 제2전극 상에는, 상기 박막트랜지스터(162)를 덮는 제1보호막(163) 및 평탄화막(164)이 형성된다. 상기 제1보호막(163) 및 평탄화막(164)에는 상기 박막 트랜지스터(162)의 제2전극을 노출시키기 위한 제1콘택홀(166)이 형성되어 있다,The thin film transistor 162 serves as a switching function to transmit and control an electric signal to each pixel. A first protective layer 163 and a planarization layer 164 covering the thin film transistor 162 are formed on the first electrode and the second electrode. A first contact hole 166 for exposing the second electrode of the thin film transistor 162 is formed in the first protective layer 163 and the planarization layer 164.

상기 공통전극(167)은, 상기 평탄화막(164) 상에 형성된다. 상기 공통전극(167)에는 액정을 구동하기 위한, 공통전압(Vcom)이 인가된다. 상기 공통전극(167) 상에는 상기 공통전극(167)을 덮는 제2보호막(168)이 형성된다.The common electrode 167 is formed on the planarization layer 164. A common voltage Vcom for driving the liquid crystal is applied to the common electrode 167. A second protective layer 168 covering the common electrode 167 is formed on the common electrode 167.

상기 픽셀전극(165)은, 상기 공통전극(167)을 덮는 상기 제2보호막(168) 상에 형성된다. 이 때, 상기 픽셀전극(165)은 박막 트랜지스터(162)의 제2전극과 연결된다.The pixel electrode 165 is formed on the second protective layer 168 covering the common electrode 167. In this case, the pixel electrode 165 is connected to the second electrode of the thin film transistor 162.

상기 상부기판(180)은 블랙매트릭스(BM)(183)와 컬러필터(182)를 포함한다. 상기 컬러필터(182)에는, R(Red), G(Green), B(Blue) 패턴이 형성되어 있다. 상기 블랙매트릭스(BM)(183)는 상기 컬러필터(182)의 R, G, B 패턴 사이에 각각 배치된다. 또한, 상부기판(180)은 상기 상부기판(180)과 하부기판(160) 사이의 셀갭(Cell gap)을 유지하기 위한 컬럼스페이서(185)를 포함한다. The upper substrate 180 includes a black matrix (BM) 183 and a color filter 182. The color filter 182 has R(Red), G(Green), and B(Blue) patterns formed thereon. The black matrix (BM) 183 is disposed between the R, G, and B patterns of the color filter 182, respectively. In addition, the upper substrate 180 includes a column spacer 185 for maintaining a cell gap between the upper substrate 180 and the lower substrate 160.

상기 하부기판(160) 및 상부기판(180)에는, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 액정층(140)에 구비된 액정(141)들을 배향시키기 위한 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)이 형성된다.In the lower substrate 160 and the upper substrate 180, as shown in FIG. 3, a first alignment layer 151 and a second alignment layer for aligning the liquid crystals 141 provided in the liquid crystal layer 140 152) is formed.

상기 제1배향막(151)은, 상기 컬럼스페이서(185)와 마주보는 제1영역(A)이 오픈되도록, 상기 하부기판(160)에 형성된다. 상기 제2배향막(152)은 상기 컬럼스페이서(185)가 형성된 제2영역(B)이 오픈되도록, 상기 상부기판(180)에 형성된다. The first alignment layer 151 is formed on the lower substrate 160 so that the first area A facing the column spacer 185 is opened. The second alignment layer 152 is formed on the upper substrate 180 so that the second region B in which the column spacer 185 is formed is opened.

상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)은 배향물질이 형성되어 있는 패터닝 몰드에 의해 형성된다. 상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)은, 상기 패터닝 몰드에 의해 형성되어 있는 배향물질을 상기 상부기판 및 하부기판에 전사함으로써, 형성될 수 있다. The first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 are formed by a patterning mold in which an alignment material is formed. The first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 may be formed by transferring an alignment material formed by the patterning mold to the upper and lower substrates.

상기 제1영역(A)은 상기 컬럼스페이서(185)가 외력에 의해 이동 가능한 영역이다. 예를 들어 외력에 의해 컬럼스페이서(185)가 이동 가능한 영역은 약 20㎛ 내지 약 30㎛ 정도이며, 이에 한정되는 것은 아니다.The first area A is an area in which the column spacer 185 can be moved by an external force. For example, an area in which the column spacer 185 can be moved by an external force is about 20 μm to about 30 μm, but is not limited thereto.

상기 제2영역(B)은 상기 상부기판(180) 상에 형성된 컬럼스페이서(185)와 상기 제2배향막(152)이 접촉하는 영역을 제외한 영역이다. The second region B is a region excluding a region in which the column spacer 185 formed on the upper substrate 180 and the second alignment layer 152 contact each other.

따라서, 상기 제1영역(A)은 상기 컬럼스페이서(185)에 대응되는 영역보다 크고, 상기 제2영역(B)은 상기 컬럼스페이서(185)가 형성되어 있는 영역보다 크다.Accordingly, the first area A is larger than an area corresponding to the column spacer 185, and the second area B is larger than an area in which the column spacer 185 is formed.

또한, 상기 제1영역(A) 및 상기 제2영역(B)은 상기 블랙매트릭스(183)가 형성되어 있는 영역보다 작거나 같다. 이 때, 상기 제1영역(A)은 상기 하부기판(160)에 형성된 박막트랜지스터(162)와 픽셀전극(165)을 접속시키기 위한 제1컨택홀(166)이 형성되어 있는, 제1컨택홀영역(A1)을 포함한다. Further, the first region A and the second region B are smaller than or equal to the region in which the black matrix 183 is formed. In this case, the first region A is a first contact hole in which a first contact hole 166 for connecting the thin film transistor 162 formed on the lower substrate 160 and the pixel electrode 165 is formed. It includes the area A1.

상기한 바와 같이, 상기 제1영역(A)과 상기 제2영역(B)이 오픈되도록 상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)이 형성됨에 따라, 외력에 의한 컬럼스페이서(185)의 이동에 의해 발생되는, 배향막들(151, 152)의 손상이 방지될 수 있다. 상기 배향막들(151, 152)의 손상이 방지됨에 따라, 상기 액정 표시패널에서 발생되는 빛샘불량이 개선될 수 있다.As described above, as the first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 are formed so that the first area A and the second area B are open, the column spacer 185 by an external force Damage to the alignment layers 151 and 152 caused by movement of the alignment layers 151 and 152 may be prevented. As damage to the alignment layers 151 and 152 is prevented, a light leakage defect occurring in the liquid crystal display panel may be improved.

또한, 상기한 바와 같이, 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)이 형성됨에 따라, 상기 배향막들(151, 152)의 배향력이 향상될 수 있다. 또한, 배향막들(151, 152)로부터 이물이 액정층(140)에 떨어져 나오는 현상이 방지될 수 있고, 상기 이물에 의한 빛샘불량이 개선될 수 있다.In addition, as described above, as the first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 are formed, the alignment force of the alignment layers 151 and 152 may be improved. In addition, a phenomenon in which a foreign material falls off the liquid crystal layer 140 from the alignment layers 151 and 152 may be prevented, and light leakage due to the foreign material may be improved.

또한, 상기 제1영역(A)에 포함되는 제1컨택홀영역(A1)이 오픈되며 제1배향막(151)이 형성됨으로써, 상기 제1배향막(151)으로 사용되는 배향물질이 상기 제1컨택홀 영역(A1)에 집중되는 현상이 방지될 수 있다.In addition, since the first contact hole area A1 included in the first area A is opened and the first alignment layer 151 is formed, the alignment material used as the first alignment layer 151 is used as the first contact. A phenomenon concentrated in the hole area A1 can be prevented.

상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)을 형성하는 방법은 이하, 도 4a 내지 도 4c 및 도 5a 내지 도 5d를 참조하여, 상세하게 설명된다. A method of forming the first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 will be described in detail below with reference to FIGS. 4A to 4C and FIGS. 5A to 5D.

상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152) 사이에는 액정층(140)이 구비된다. 예를 들어, 상기 액정층(140)은 제1배향막(151)을 포함하는 하부기판 상에 액정(141)이 적하됨으로써 형성될 수 있다. 상기 액정 표시패널(100)에서는 상기 액정층(140)에 구비된 액정(141)이 갖는 여러 가지 성질들 중, 상기 액정(141)에 전압을 가하면 분자의 배열이 변하는 성질을 이용하여 화상이 표시된다.
A liquid crystal layer 140 is provided between the first alignment layer 151 and the second alignment layer 152. For example, the liquid crystal layer 140 may be formed by dropping the liquid crystal 141 on the lower substrate including the first alignment layer 151. In the liquid crystal display panel 100, among various properties of the liquid crystal 141 provided in the liquid crystal layer 140, an image is displayed using the property of changing the arrangement of molecules when a voltage is applied to the liquid crystal 141. do.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명에 따른 표시패널의 제조방법을 설명하기 위한 예시도들이고, 도 5a 내지 도 5d는 본 발명에 따른 표시패널에 적용되는 배향막 제조방법을 설명하기 위한 예시도들이다.4A to 4C are exemplary views illustrating a method of manufacturing a display panel according to the present invention, and FIGS. 5A to 5D are exemplary diagrams illustrating a method of manufacturing an alignment layer applied to a display panel according to the present invention.

본 발명에 따른 표시패널의 제조방법은, 도 4a 내지 도 4c는 및 도 5a 내지 도 5d에 도시된 바와 같이, 하부기판(160) 상에 스위칭 소자를 형성하는 단계, 상부기판(180) 상에 컬럼스페이서(185)를 형성하는 단계, 상기 컬럼스페이서(185)와 마주보는 제1영역(A)이 오픈되도록, 상기 하부기판(160)에 제1배향막(151)을 형성하는 단계, 상기 컬럼스페이서(185)가 구비된 제2영역(B)이 오픈되도록, 상기 상부기판(180)에 제2배향막(152)을 형성하는 단계 및 액정층(140)을 사이에 두고, 상기 하부기판(160)과 상부기판(180)을 합착하는 단계를 포함한다. In the method of manufacturing a display panel according to the present invention, as shown in FIGS. 4A to 4C and 5A to 5D, forming a switching element on the lower substrate 160, on the upper substrate 180 Forming a column spacer 185, forming a first alignment layer 151 on the lower substrate 160 so that the first area A facing the column spacer 185 is opened, the column spacer The step of forming a second alignment layer 152 on the upper substrate 180 so that the second region B with 185 is provided therebetween and the lower substrate 160 with the liquid crystal layer 140 interposed therebetween And bonding the upper substrate 180 to each other.

먼저, 상기 하부기판(160)에는, 도 4a에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터(162), 공통전극(167) 및 픽셀전극(165)이 형성되어 있다. First, on the lower substrate 160, as shown in FIG. 4A, a thin film transistor 162, a common electrode 167, and a pixel electrode 165 are formed.

상기 박막 트랜지스터(162)는, 도면에 상세하게 도시되지는 않았으나, 제1기판(161) 상에 형성된 게이트, 상기 게이트 상에 형성된 게이트 절연막(GI: Gate Insulator), 상기 게이트 절연막 상에 형성된 액티브, 상기 액티브 상에 형성된 층간 절연막(ILD: Inter Layer Dielectric) 및 상기 층간절연막 상에 형성되어 액티브와 연결되는 제1전극 및 제2전극을 포함한다. 상기 박막 트랜지스터(162)는 각각의 픽셀에 전기적 신호를 전달하고, 제어하는 스위칭 역할을 하는 스위칭 소자이다.The thin film transistor 162, although not shown in detail in the drawing, is a gate formed on the first substrate 161, a gate insulating film (GI) formed on the gate, an active formed on the gate insulating film, And an inter-layer dielectric (ILD) formed on the active layer and a first electrode and a second electrode formed on the interlayer insulating layer and connected to the active. The thin film transistor 162 is a switching element that transmits and controls an electrical signal to each pixel.

본 발명에 따른 액정 표시패널은 바텀 게이트(Bottom Gate) 방식으로 박막 트랜지스터가 형성되어 있으나, 이에 한정된 것은 아니며, 상기 박막 트랜지스터는 탑 게이트(Top Gate) 방식으로 형성될 수도 있다. In the liquid crystal display panel according to the present invention, a thin film transistor is formed in a bottom gate method, but the present invention is not limited thereto, and the thin film transistor may be formed in a top gate method.

또한, 상기 박막 트랜지스터는 비정질 실리콘 박막 트랜지스터(a-Si TFT), 다결정 실리콘 박막 트랜지스터(poly-Si TFT), 산화물 박막 트랜지스터(Oxide TFT)등이 될 수 있다. 또한, 상기 트랜지스터들은 N형, 또는 P형 박막 트랜지스터가 될 수도 있다.Further, the thin film transistor may be an amorphous silicon thin film transistor (a-Si TFT), a polycrystalline silicon thin film transistor (poly-Si TFT), an oxide thin film transistor (Oxide TFT), or the like. In addition, the transistors may be N-type or P-type thin film transistors.

상기 박막 트랜지스터(162) 상에는 상기 박막 트랜지스터(162)를 덮는 제1보호막(163) 및 평탄화막(164)이 형성된다. 상기 평탄화막(164)은 2.0㎛~3.0㎛의 두께를 가지는 포토아크릴(Photo Acryl)로 형성될 수 있으며, 상기 하부기판(160)을 평탄화 시키는 기능을 한다. 상기 제1보호막(163) 및 평탄화막(164)에는 상기 박막트랜지스터(162)의 제2전극을 노출시키는 제1콘택홀(166)이 구비된다. 상기 제1콘택홀(166)을 통해, 상기 제2전극과 픽셀전극(165)이 연결된다. A first protective layer 163 and a planarization layer 164 covering the thin film transistor 162 are formed on the thin film transistor 162. The planarization layer 164 may be formed of photoacryl having a thickness of 2.0 μm to 3.0 μm, and functions to planarize the lower substrate 160. A first contact hole 166 exposing the second electrode of the thin film transistor 162 is provided in the first protective layer 163 and the planarization layer 164. The second electrode and the pixel electrode 165 are connected through the first contact hole 166.

상기 공통전극(167)은, 상기 평탄화막(164) 상에 형성된다. 상기 공통전극(167)으로는 액정을 구동하기 위한, 공통전압(Vcom)이 인가된다. 상기 공통전극(167)은 예를 들어, 인듐 틴 옥사이드(ITO: Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전도성 물질로 형성될 수 있다. 상기 공통전극(167) 상에는 상기 공통전극(167)을 덮는 제2보호막(168)이 형성된다. 상기 공통전극(167)은 직선 형상 또는 핑거 패턴(finger pattern 또는 comb-shaped)으로 형성하거나 판 형태(rectangular shape)으로 형성할 수 있으며, 적어도 하나 이상의 굴곡을 가지는 지그재그 형상(zig-zag shape)으로 형성할 수도 있으며, 픽셀전극이나 공통전극의 형상에 한정되는 것은 아니다. The common electrode 167 is formed on the planarization layer 164. A common voltage Vcom for driving the liquid crystal is applied to the common electrode 167. The common electrode 167 may be formed of, for example, a transparent conductive material such as Indium Tin Oxide (ITO). A second protective layer 168 covering the common electrode 167 is formed on the common electrode 167. The common electrode 167 may be formed in a linear shape or a finger pattern (finger pattern or comb-shaped) or in a rectangular shape, and has a zig-zag shape having at least one curvature. It may be formed, and is not limited to the shape of the pixel electrode or the common electrode.

상기 픽셀전극(165)은, 상기 공통전극(167)을 덮는 상기 제2보호막(168) 상에 형성된다. 상기 픽셀전극(165)은 직선 형상 또는 핑거 패턴(finger pattern 또는 comb-shaped)을 가지도록 형성되거나 적어도 하나 이상의 굴곡을 가지는 지그재그 형상(zig-zag shape)으로 형성될 수 있다. 상기 픽셀전극(165)은 예를 들어, 인듐 틴 옥사이드(ITO: Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전도성 물질로 형성될 수 있다. The pixel electrode 165 is formed on the second protective layer 168 covering the common electrode 167. The pixel electrode 165 may be formed to have a linear shape or a finger pattern or comb-shaped, or may be formed in a zig-zag shape having at least one curvature. The pixel electrode 165 may be formed of, for example, a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO).

상기 픽셀전극(165) 및 공통전극(167)은, 상기 픽셀전극(165)이 공통전극(167) 상에 형성된 픽셀전극 온 탑 구조(pixel electrode on the common electrode)로 형성될 수 있다. 그러나, 이에 한정된 것은 아니며, 상기 공통전극(167)이 픽셀전극(165)상에 형성된 공통전극 온 탑 구조(common electrode on the pixel electrode)로도 형성될 수도 있다.
The pixel electrode 165 and the common electrode 167 may be formed in a pixel electrode on the common electrode in which the pixel electrode 165 is formed on the common electrode 167. However, the present invention is not limited thereto, and the common electrode 167 may also be formed in a common electrode on the pixel electrode formed on the pixel electrode 165.

다음, 상기 상부기판(180)에는, 도 4b에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭스(BM)(183)와 컬러필터(182)가 형성되어 있다. 상기 제2기판(181) 상에는 상기 블랙매트릭스(BM)(183)가 형성되고, 상기 블랙매트릭스(BM)(183) 상에는 상기 컬러필터(182)가 형성된다. 상기 컬러필터(182)에는, R(Red), G(Green), B(Blue) 패턴이 형성되어 있다. 상기 컬러필터(182)는 상기 표시패널(100)에서 컬러를 구현하기 위해 사용된다. 상기 블랙매트릭스(BM)(183)들은 상기 컬러필터(182)의 R, G, B 패턴 사이에 각각 위치되어, 상기 R, G, B의 빛을 구분하거나, 또는, 차단하는 기능을 수행한다. 상기 블랙매트릭스(183)가 형성됨에 따라, 상기 표시패널의 콘트라스트는 향상되고, 상기 박막 트랜지스터(162)의 누설 전류는 감소될 수 있다. Next, on the upper substrate 180, a black matrix (BM) 183 and a color filter 182 are formed as shown in FIG. 4B. The black matrix (BM) 183 is formed on the second substrate 181, and the color filter 182 is formed on the black matrix (BM) 183. The color filter 182 has R(Red), G(Green), and B(Blue) patterns formed thereon. The color filter 182 is used to implement colors in the display panel 100. The black matrices (BM) 183 are positioned between the R, G, and B patterns of the color filter 182, respectively, and perform a function of classifying or blocking the R, G, and B light. As the black matrix 183 is formed, a contrast of the display panel may be improved, and a leakage current of the thin film transistor 162 may be reduced.

상기 컬러필터(182) 상에는 블랙매트릭스(183) 및 컬러필터(182)가 형성된 제2기판(181)을 평탄화시키기 위한, 오버코팅층(187)이 형성된다.An overcoat layer 187 is formed on the color filter 182 to planarize the second substrate 181 on which the black matrix 183 and the color filter 182 are formed.

상기 오버코팅층(187)을 포함하는, 상기 제2기판(181) 상에는 컬럼스페이서(185)가 형성된다. 상기 컬럼스페이서(185)가 형성됨으로써, 상부기판(180)이 완성된다. 상기 컬럼스페이서(185)는 상기 상부기판(180)과 하부기판(160) 사이의 셀갭(Cell gap)을 유지시켜주는 기능을 수행한다. 상기 컬럼스페이서(185)는, 수지 등이 패터닝됨으로써 형성될 수 있다. 본 발명에서는 상기 컬럼스페이서(185)가 상부기판에 형성되는 것을 일예로 하여 본 발명이 설명되었으나, 상기 컬럼스페이서(185)는 하부기판(160)에 형성될 수도 있다.
A column spacer 185 is formed on the second substrate 181 including the overcoat layer 187. By forming the column spacer 185, the upper substrate 180 is completed. The column spacer 185 functions to maintain a cell gap between the upper substrate 180 and the lower substrate 160. The column spacer 185 may be formed by patterning a resin or the like. In the present invention, the present invention has been described by taking the column spacer 185 formed on the upper substrate as an example, but the column spacer 185 may be formed on the lower substrate 160.

다음, 상기 하부기판(160)에는, 도 4a에 도시된 바와 같이, 액정층(140)에 구비된 액정(141)들을 배향시키기 위한 제1배향막(151)이 형성된다. Next, a first alignment layer 151 for aligning the liquid crystals 141 provided in the liquid crystal layer 140 is formed on the lower substrate 160 as shown in FIG. 4A.

상기 제1배향막(151)을 형성하는 단계는, 도 5a 내지 5d에 도시된 바와 같이, 패턴(620)이 형성되어 있는 패터닝 몰드(600)를 제작하는 단계, 상기 패터닝 몰드(600)에 배향물질(153)을 형성하는 단계, 상기 패턴(620) 상에 형성된 배향물질(153)을 상기 하부기판(160)에 전사하는 단계를 포함한다. In the forming of the first alignment layer 151, as shown in FIGS. 5A to 5D, the step of preparing a patterning mold 600 in which a pattern 620 is formed, and an alignment material in the patterning mold 600 Forming 153, and transferring the alignment material 153 formed on the pattern 620 to the lower substrate 160.

상기 패터닝 몰드(600)는 베이스몰드(610) 및 상기 베이스몰드(610)상에 형성된 패턴(620)을 포함하여 구성된다. 상기 베이스몰드(610) 상에는, 상기 하부기판(160)의 제1영역(A)에 대응되는 부분이 형성되도록, 상기 패턴(620)이 형성되어 있다.The patterning mold 600 includes a base mold 610 and a pattern 620 formed on the base mold 610. The pattern 620 is formed on the base mold 610 so that a portion corresponding to the first region A of the lower substrate 160 is formed.

상기 제1영역(A)은 상기 컬럼스페이서(185)가 외력에 의해 이동 가능한 영역이다. 예를 들어 외력에 의해 컬럼스페이서(185)가 이동 가능한 영역은 약 20㎛ 내지 약 30㎛ 정도이며, 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 상기 제1영역(A)은 상기 컬럼스페이서(185)에 대응되는 영역보다 크다. 또한, 상기 제1영역(A)은 상기 블랙매트릭스(183)가 형성되어 있는 영역보다 작거나 같다. 이 때, 상기 제1영역(A)에는 상기 박막 트랜지스터(162) 및 픽셀전극(165)을 접속시키기 위한 제1컨택홀(166)이 형성되어 있는 제1컨택홀영역(A1)이 포함된다. The first area A is an area in which the column spacer 185 can be moved by an external force. For example, an area in which the column spacer 185 can be moved by an external force is about 20 μm to about 30 μm, but is not limited thereto. Accordingly, the first area A is larger than the area corresponding to the column spacer 185. In addition, the first region A is smaller than or equal to the region in which the black matrix 183 is formed. In this case, the first region A includes a first contact hole region A1 in which a first contact hole 166 for connecting the thin film transistor 162 and the pixel electrode 165 is formed.

상기 패턴(620)은, 도 5a에 도시된 바와 같이, 상기 베이스 몰드(600)로부터 볼록하게 돌출되어 있다. 또한, 상기 하부기판(160)의 제1영역(A)에 대응되는 부분에는, 패턴들이 형성되지 않아 오목하게 형상을 나타낸다. The pattern 620 is convexly protruded from the base mold 600, as shown in FIG. 5A. In addition, in the portion of the lower substrate 160 corresponding to the first region A, no patterns are formed, so that the shape is concave.

상기 패터닝 몰드(600) 전면에는, 도 5b에 도시된 바와 같이, 배향물질(153)이 코팅된다. 예를 들어, 상기 배향물질(153)은 스핀코팅 방법을 이용하여 형성될 수 있다. 상기 배향물질(153)로는 폴리이미드(PI: Polyimide)가 사용될 수 있다. An alignment material 153 is coated on the entire surface of the patterning mold 600 as shown in FIG. 5B. For example, the alignment material 153 may be formed using a spin coating method. Polyimide (PI) may be used as the alignment material 153.

상기 패터닝 몰드(600)에 코팅된 배향물질(153)은, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상기 하부기판(160)에 전사된다. 이 경우, 상기 패턴(620)의 돌출된 부분에 코팅된 배향물질(153)만이 상기 하부기판(160)에 전사된다. 상기 배향물질(153)은 50℃ 내지 150℃의 온도 중 어느 한 온도에서 상기 하부기판(160) 상에 전사된다. 상기 배향물질(153)이 상기 하부기판(160)에 전사됨으로써, 상기 하부기판(160) 상에는 제1영역(A)이 오픈된, 상기 제1배향막(151)이 형성된다. The alignment material 153 coated on the patterning mold 600 is transferred to the lower substrate 160 as shown in FIG. 5C. In this case, only the alignment material 153 coated on the protruding portion of the pattern 620 is transferred to the lower substrate 160. The alignment material 153 is transferred onto the lower substrate 160 at any one of 50°C to 150°C. As the alignment material 153 is transferred to the lower substrate 160, the first alignment layer 151 is formed on the lower substrate 160 with the first region A open.

이 때, 상기 패턴(620)과 배향물질(153) 사이의 접촉각은, 상기 하부기판(160)과 배향물질(153) 사이의 접촉각보다 크다. 이 경우, 상기 패턴(620)과 배향물질(153) 사이의 접촉각(Contact angle)은 25° 내지 50° 중 어느 하나 일 수 있으며, 상기 하부기판(160)과 배향물질(153) 사이의 접촉각(Contact angle)은 5° 내지 20° 중 어느 하나 일 수 있다. 상기 접촉각은 액체가 고체에 접촉하고 있을 때, 액체면과 고체면 사이의 각도로 정의된다. 상기 접촉각이 클수록 밀착력은 낮아진다. In this case, a contact angle between the pattern 620 and the alignment material 153 is greater than a contact angle between the lower substrate 160 and the alignment material 153. In this case, a contact angle between the pattern 620 and the alignment material 153 may be any one of 25° to 50°, and a contact angle between the lower substrate 160 and the alignment material 153 ( Contact angle) may be any one of 5° to 20°. The contact angle is defined as the angle between the liquid surface and the solid surface when the liquid is in contact with the solid. The larger the contact angle, the lower the adhesion.

상기 패터닝 몰드(600)는 상기 배향물질(153)이 하부기판에 전사된 후, 제거된다. The patterning mold 600 is removed after the alignment material 153 is transferred to the lower substrate.

다음, 상기 상부기판(180)에는, 도 4b에 도시된 바와 같이, 액정층(140)에 구비된 액정(141)들을 배향시키기 위한 제2배향막(152)이 형성된다. Next, a second alignment layer 152 for aligning the liquid crystals 141 provided in the liquid crystal layer 140 is formed on the upper substrate 180, as shown in FIG. 4B.

상기 제2배향막(152)을 형성하는 단계는 상기 제1배향막(151) 형성하는 단계와 동일하다. 다만, 상기 제2배향막(152) 형성하는 단계에 이용되는 패터닝 몰드(600)와 상기 제1배향막(151)을 형성하는 단계에 이용되는 패터닝 몰드(600)에 그 차이가 있다.The step of forming the second alignment layer 152 is the same as the step of forming the first alignment layer 151. However, there is a difference between the patterning mold 600 used in forming the second alignment layer 152 and the patterning mold 600 used in forming the first alignment layer 151.

상기 패터닝 몰드(600)는 베이스몰드(610) 및 상기 베이스몰드(610)상에 형성된 패턴(620)을 포함하여 구성된다. 상기 베이스몰드(610) 상에는, 상기 상부기판(180)의 제2영역(B)에 대응되는 부분이 오픈되도록 패턴(620)이 형성되어 있다. The patterning mold 600 includes a base mold 610 and a pattern 620 formed on the base mold 610. A pattern 620 is formed on the base mold 610 such that a portion corresponding to the second region B of the upper substrate 180 is opened.

여기서, 상기 제2영역(B)은 상기 상부기판(180) 상에 형성된 컬럼스페이서(185)가 오픈된 영역이다. 따라서, 상기 제2영역(B)은 상기 컬럼스페이서(185)가 형성된 영역보다 크다. 또한, 상기 제2영역(B)은 상기 블랙매트릭스(183)가 형성되어 있는 영역보다 작거나 같다. Here, the second area B is an area in which the column spacer 185 formed on the upper substrate 180 is open. Accordingly, the second region B is larger than the region in which the column spacer 185 is formed. Also, the second region B is smaller than or equal to the region in which the black matrix 183 is formed.

상기 패턴(620)은 상기 베이스 몰드(600)로부터 볼록하게 돌출되어 있다. 또한, 상기 상부기판(160)의 제2영역(B)에 대응되는 부분은, 패턴(620)들 사이에서 오목하게 형성되어 있다. The pattern 620 is convexly protruded from the base mold 600. In addition, a portion of the upper substrate 160 corresponding to the second region B is formed to be concave between the patterns 620.

상기 제2영역(B) 즉, 컬럼스페이서(185)가 형성되어 있는 영역을 오픈하고, 상기 상부기판(180)에 상기 제2배향막(152)이 전사되어야 하므로, 상기 패턴(620)의 높이는, 상기 컬럼스페이서(185)의 높이보다 크게 형성된다. 상기 패턴(620)의 높이가 상기 컬럼스페이서(185)의 높이보다 크게 형성됨으로써, 상기 컬럼스페이서(185)에는 배향물질(153)이 전사되지 않는다. Since the second region B, that is, the region in which the column spacer 185 is formed, is opened, and the second alignment layer 152 must be transferred to the upper substrate 180, the height of the pattern 620 is, It is formed larger than the height of the column spacer 185. Since the height of the pattern 620 is formed larger than the height of the column spacer 185, the alignment material 153 is not transferred to the column spacer 185.

또한, 상기 제2배향막(152) 및 상기 제1배향막(151)이 커버하는 영역이 서로 다르므로, 상기 제2배향막(152)을 형성하는 단계에 이용되는 패터닝 몰드(600)에 포함되는 패턴(620)의 형태는 상기 제1배향막(151)을 형성하는 단계에 이용되는 패터닝 몰드(600)에 포함되는 패턴(620)의 형태와 다르게 형성된다. In addition, since the regions covered by the second alignment layer 152 and the first alignment layer 151 are different from each other, the pattern included in the patterning mold 600 used in the step of forming the second alignment layer 152 ( The shape 620 is formed differently from the shape of the pattern 620 included in the patterning mold 600 used in the step of forming the first alignment layer 151.

상기 패터닝 몰드(600) 전면에는, 배향물질(153)이 코팅된다. 예를 들어, 상기 배향물질(153)은 스핀코팅 방법을 이용하여, 형성될 수 있다. 상기 배향물질(153)로는 폴리이미드(PI: Polyimide)가 사용될 수 있다. An alignment material 153 is coated on the entire surface of the patterning mold 600. For example, the alignment material 153 may be formed using a spin coating method. Polyimide (PI) may be used as the alignment material 153.

상기 패터닝 몰드(600)에 코팅된 배향물질(153)은, 상기 상부기판(180)에 전사된다. 이 경우, 상기 패턴(620)이 형성되어 있는 부분에 코팅된 배향물질(153)만이 상기 상부기판(180)에 전사된다. 상기 배향물질(153)은 50℃ 내지 150℃의 온도 중 어느 한 온도에서 상기 상부기판(180) 상에 전사된다. 또는, 상기 배향물질(153)의 프리베이킹(prebaking) 온도 영역에서 상기 배향물질(153)이 상기 상부기판(180) 상에 전사될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 이에 따라, 상기 상부기판(180)에는, 상기 제2영역(A)이 오픈되도록 상기 제2배향막(152)이 형성된다. The alignment material 153 coated on the patterning mold 600 is transferred to the upper substrate 180. In this case, only the alignment material 153 coated on the portion where the pattern 620 is formed is transferred to the upper substrate 180. The alignment material 153 is transferred onto the upper substrate 180 at any one of 50°C to 150°C. Alternatively, the alignment material 153 may be transferred onto the upper substrate 180 in a prebaking temperature range of the alignment material 153, but is not limited thereto. Accordingly, the second alignment layer 152 is formed on the upper substrate 180 to open the second region A.

상기 패턴(620)과 배향물질(153) 사이의 접촉각은, 상기 상부기판(180)과 배향물질(153) 사이의 접촉각보다 크다. 이 경우, 상기 패턴(620)과 배향물질(153) 사이의 접촉각(Contact angle)은 25° 내지 50° 중 어느 하나 일 수 있으며, 상기 상부기판(180)과 배향물질(153) 사이의 접촉각(Contact angle)은 5° 내지 20° 중 어느 하나 일 수 있다. 상기 접촉각은, 액체가 고체에 접촉하고 있을 때, 액체면과 고체면 사이의 각도로 정의된다. 상기 접촉각이 클수록 밀착력은 낮아진다. A contact angle between the pattern 620 and the alignment material 153 is greater than a contact angle between the upper substrate 180 and the alignment material 153. In this case, a contact angle between the pattern 620 and the alignment material 153 may be any one of 25° to 50°, and a contact angle between the upper substrate 180 and the alignment material 153 ( Contact angle) may be any one of 5° to 20°. The contact angle is defined as the angle between the liquid surface and the solid surface when the liquid is in contact with the solid. The larger the contact angle, the lower the adhesion.

상기 패터닝 몰드(600)는 상기 배향물질(153)이 상부기판(180)에 전사된 후, 제거된다. The patterning mold 600 is removed after the alignment material 153 is transferred to the upper substrate 180.

상기한 바와 같은 방법을 통하여, 별도의 에칭 공정이나 마스크 없이도, 상기 제1배향막(151) 및 제2배향막(152)은 각각 하부기판(160) 및 상부기판(180)에 패터닝 될 수 있다. Through the above-described method, the first alignment layer 151 and the second alignment layer 152 may be patterned on the lower substrate 160 and the upper substrate 180, respectively, without a separate etching process or mask.

마지막으로, 상기 하부기판(160) 또는 상기 상부기판(180)에는 액정층(140)을 형성하는 액정(141)들이 적하된다. 이 경우, 상기 제1영역(A) 및 상기 제2영역(B)에는 액정(141)들이 적하되지 않을 수 있다.Finally, liquid crystals 141 forming a liquid crystal layer 140 are dropped onto the lower substrate 160 or the upper substrate 180. In this case, liquid crystals 141 may not be dropped in the first region A and the second region B.

상기 하부기판(160)과 상부기판(180)은, 실재(sealant)를 이용하여, 합착된다. 이 때, 하부기판(160) 및 상부기판(180) 사이에는 적하된 액정(141)들에 의해 형성된 액정층(140)이 구비된다. 상기 실재는 상기 하부기판(160) 또는 상기 상부기판(180)에 형성될 수 있다. 상기 액정 표시패널의 표시 영역은 상기 실재(sealant)에 의해 외부와 차폐된다.
The lower substrate 160 and the upper substrate 180 are bonded together using a sealant. In this case, a liquid crystal layer 140 formed by the dropped liquid crystals 141 is provided between the lower substrate 160 and the upper substrate 180. The actual material may be formed on the lower substrate 160 or the upper substrate 180. The display area of the liquid crystal panel is shielded from the outside by the sealant.

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those skilled in the art to which the present invention pertains will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not limiting. The scope of the present invention is indicated by the claims to be described later rather than the detailed description, and all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention. do.

100 : 패널 200 : 게이트 드라이버
300 : 데이터 드라이버 400 : 타이밍 컨트롤러
100: panel 200: gate driver
300: data driver 400: timing controller

Claims (9)

하부기판;
상기 하부기판과 대향하며, 블랙매트릭스 및 컬럼스페이서가 형성되어 있는 상부기판;
상기 하부기판에 형성되며, 상기 컬럼스페이서와 마주보는 제1영역이 오픈되어 있는 제1배향막;
상기 상부기판에 형성되며, 상기 컬럼스페이서가 형성된 제2영역이 오픈되어 있는 제2배향막; 및
상기 제1배향막 및 상기 제2배향막 사이에 액정층을 포함하며,
상기 제1배향막 및 상기 제2배향막은 상기 컬럼스페이서와 이격되도록 형성되며,
상기 제1영역은 제1컨택홀영역을 포함하며,
상기 제1컨택홀영역은 상기 하부기판에 형성된 박막트랜지스터와 픽셀전극을 접속시키기 위한 제1컨택홀이 형성된, 액정 표시 패널.
Lower substrate;
An upper substrate facing the lower substrate and having a black matrix and a column spacer formed thereon;
A first alignment layer formed on the lower substrate and having a first region facing the column spacer open;
A second alignment layer formed on the upper substrate and in which a second region in which the column spacer is formed is open; And
A liquid crystal layer between the first alignment layer and the second alignment layer,
The first alignment layer and the second alignment layer are formed to be spaced apart from the column spacer,
The first region includes a first contact hole region,
In the first contact hole region, a first contact hole for connecting a pixel electrode to a thin film transistor formed on the lower substrate is formed.
제 1 항에 있어서,
상기 제1영역 및 상기 제2영역은 상기 블랙매트릭스가 형성되어 있는 영역보다 작거나 같은, 액정 표시패널.
The method of claim 1,
The first area and the second area are smaller than or equal to the area in which the black matrix is formed.
삭제delete 하부기판 상에 스위칭 소자를 형성하는 단계;
상부기판 상에 블랙매트릭스와 컬럼스페이서를 형성하는 단계;
상기 컬럼스페이서와 마주보는 제1영역이 오픈되도록, 상기 하부기판에 제1배향막을 형성하는 단계;
상기 컬럼스페이서가 구비된 제2영역이 오픈되도록, 상기 상부기판에 제2배향막을 형성하는 단계; 및
액정층을 사이에 두고, 상기 하부기판과 상부기판을 합착하는 단계를 포함하며,
상기 제1배향막 및 상기 제2배향막은 상기 컬럼스페이서와 이격되도록 형성되며,
상기 제1영역은 제1컨택홀영역을 포함하며,
상기 제1컨택홀영역은 상기 스위칭 소자와 픽셀전극을 접속시키기 위한 제1컨택홀이 형성된, 액정 표시 패널 제조방법.
Forming a switching element on the lower substrate;
Forming a black matrix and a column spacer on the upper substrate;
Forming a first alignment layer on the lower substrate so that the first area facing the column spacer is opened;
Forming a second alignment layer on the upper substrate so that the second region including the column spacer is opened; And
A liquid crystal layer interposed therebetween, comprising the step of bonding the lower substrate and the upper substrate,
The first alignment layer and the second alignment layer are formed to be spaced apart from the column spacer,
The first region includes a first contact hole region,
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein the first contact hole region has a first contact hole for connecting the switching element and the pixel electrode.
제 4 항에 있어서,
상기 제1배향막 또는 제2배향막을 형성하는 단계는,
패턴이 형성되어 있는 패터닝 몰드를 제작하는 단계;
상기 패터닝 몰드에 배향물질을 형성하는 단계;
상기 패턴 상에 형성된 배향물질을 상기 하부기판 또는 상부기판에 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.
The method of claim 4,
Forming the first alignment layer or the second alignment layer,
Manufacturing a patterning mold in which a pattern is formed;
Forming an alignment material in the patterning mold;
And transferring the alignment material formed on the pattern to the lower substrate or the upper substrate.
제 5 항에 있어서,
상기 배향물질은 상기 패터닝 몰드 전면에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.
The method of claim 5,
The alignment material is formed on the entire surface of the patterning mold.
제 5 항에 있어서,
상기 패턴과 상기 배향물질 사이의 접촉각은, 상기 하부기판 또는 상부기판과 배향물질 사이의 접촉각보다 큰 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.
The method of claim 5,
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein a contact angle between the pattern and the alignment material is greater than a contact angle between the lower or upper substrate and the alignment material.
제 5 항에 있어서,
상기 패턴의 높이는, 상기 컬럼스페이서의 높이보다 큰 것을 특징으로 하는 액정표시패널 제조방법.
The method of claim 5,
The method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein the height of the pattern is greater than the height of the column spacer.
제 4 항에 있어서,
상기 제1영역 및 상기 제2영역은 상기 블랙매트릭스가 형성되어 있는 영역보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 액정표시패널 제조방법.
The method of claim 4,
The first region and the second region are smaller than or equal to the region in which the black matrix is formed.
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