KR101950821B1 - Liquide crystal display device with embedded touch panel therein and method for fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 브릿지 전극과 공통 전극이 전기적으로 연결되는 영역에 배향막이 남아있지 않도록, 평탄화막에 복수개의 트렌치를 형성하여, 브릿지 전극과 공통 전극의 콘택 불량을 방지할 수 있는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는, 제 1 기판 상에 형성되며 복수개의 트렌치를 가지는 평탄화층과, 상기 평탄화층 상부에 형성되어 상기 복수개의 트렌치를 따라 형성되는 제 1 공통 전극과, 상기 제 1 공통 전극을 사이에 두고 분리되어 형성되는 제 2 공통 전극과, 상기 복수개의 트렌치 내로 유입되어 상기 제 2 공통 전극을 노출시키는 하부 배향막을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이 기판과, 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판 상에 형성되며 상기 하부 배향막에 의해 노출된 상기 제 1 공통 전극과 대응하는 영역에 형성되는 컬럼 스페이서와, 상기 컬럼 스페이서가 형성된 상기 제 2 기판 상에 형성되어 상기 제 2 공통 전극과 접속되는 브릿지 전극을 포함하는 컬러 필터 어레이 기판을 구비한다.A touch panel built-in liquid crystal display device capable of preventing a contact failure between a bridge electrode and a common electrode by forming a plurality of trenches in a planarization film so that an alignment film is not left in a region where a bridge electrode and a common electrode are electrically connected, A touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention includes a planarization layer formed on a first substrate and having a plurality of trenches, and a planarization layer formed on the planarization layer and formed along the plurality of trenches A thin film transistor array substrate comprising: a first common electrode; a second common electrode formed separately by sandwiching the first common electrode; and a lower alignment layer which is introduced into the plurality of trenches and exposes the second common electrode, , A second substrate formed on a second substrate facing the first substrate and exposed by the lower alignment layer A column spacer formed in a region corresponding to the first common electrode, and a bridge electrode formed on the second substrate on which the column spacer is formed and connected to the second common electrode.

Description

터치 패널 내장형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법{LIQUIDE CRYSTAL DISPLAY DEVICE WITH EMBEDDED TOUCH PANEL THEREIN AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch panel built-in liquid crystal display device and a method of manufacturing the same,

본 발명은 터치 패널 내장형 액정 표시 장치에 관한 것으로, 터치 패널의 터치 감지시 전도율을 향상시킬 수 있는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch panel built-in liquid crystal display device, and more particularly, to a touch panel built-in liquid crystal display device and a method of manufacturing the same.

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이(display)분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 평판 표시 장치(Flat Display Device)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube: CRT)을 빠르게 대체하고 있다.In recent years, as the information age has come to a full-fledged information age, a display field for visually expressing electrical information signals has been rapidly developed. In response to this, various flat panel display devices having excellent performance of thinning, light weight, Flat Display Device) has been developed to replace CRT (Cathode Ray Tube).

이 같은 평판 표시 장치의 구체적인 예로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display device: FED), 전기 발광 표시 장치(Electro luminescence Display Device: ELD) 등을 들 수 있는데, 이들은 공통적으로 화상을 구현하는 평판 표시 패널을 필수적인 구성요소로 하는 바, 평판 표시 패널은 고유의 발광 또는 편광 물질층을 사이에 두고 한 쌍의 투명 절연기판을 대면 합착하여 형성된다.Specific examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) (Electro Luminescence Display Device: ELD). In general, a flat panel display panel that realizes an image is an essential component. The flat panel display panel has a pair of light emitting or polarizing material layers interposed therebetween The transparent insulating substrate is formed by laminating together.

특히, 액정 표시 장치는 전계를 이용하여?액정의 광 투과율을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다. 이를 위해, 액정 표시 장치는 액정셀을 가지는 표시 패널과, 표시 패널에 광을 조사하는 백 라이트 유닛 및 액정셀을 구동하기 위한 구동 회로를 포함하여 구성된다. 표시 패널은 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인이 교차하여 복수의 단위 화소 영역이 정의되며, 각 화소 영역에는 서로 대향하는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판과, 두 기판 사이에 일정한 셀갭 유지를 위해 위치하는 스페이서와, 셀갭에 채워진 액정을 구비한다.In particular, a liquid crystal display device displays an image by adjusting the light transmittance of a liquid crystal using an electric field. To this end, the liquid crystal display device comprises a display panel having a liquid crystal cell, a backlight unit for irradiating the display panel with light, and a driving circuit for driving the liquid crystal cell. The display panel has a plurality of unit pixel regions defined by a plurality of gate lines and a plurality of data lines intersected with each other, a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate opposing each other in each pixel region, And a liquid crystal filled in the cell gap.

박막 트랜지스터 어레이 기판은 게이트 라인들 및 데이터 라인들과, 그 게이트 라인들과 데이터 라인들의 교차부마다 스위칭 소자로 형성된 박막 트랜지스터와, 액정셀 단위로 형성되어 박막 트랜지스터에 접속된 화소 전극 들과, 화소 전극 상에 도포된 하부 배향막으로 구성된다. 게이트 라인들과 데이터 라인들은 각각의 패드부를 통해 구동 회로들로부터 신호를 공급받고, 박막 트랜지스터는 게이트 라인에 공급되는 스캔신호에 응답하여 데이터 라인에 공급되는 화소 전압신호를 화소 전극에 공급한다.The thin film transistor array substrate includes gate lines and data lines, thin film transistors formed by switching elements at intersections of the gate lines and data lines, pixel electrodes formed in units of liquid crystal cells and connected to the thin film transistors, And a lower alignment layer coated on the electrode. The gate lines and the data lines are supplied with signals from the driving circuits through respective pad portions, and the thin film transistors supply the pixel voltage signals to the pixel electrodes in response to the scan signals supplied to the gate lines.

컬러 필터 어레이 기판은 액정셀 단위로 형성된 컬러 필터와, 컬러 필터를 구분하며, 외부광의 반사를 위한 블랙 매트릭스와, 액정셀에 공통적으로 기준전압을 공급하는 공통 전극과, 공통 전극 상에 도포되는 상부 배향막으로 구성된다. 그리고, 이렇게 별도로 제작된 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 어레이 기판을 정렬한 후 서로 대향 합착한 다음 액정을 주입하고 봉입함으로써 완성하게 된다.The color filter array substrate includes a color filter formed on a unit of a liquid crystal cell, a color filter, a black matrix for reflecting external light, a common electrode commonly supplying a reference voltage to the liquid crystal cell, And an orientation film. Then, the thin film transistor substrate and the color filter array substrate separately manufactured in this way are aligned and then bonded to each other, and then the liquid crystal is injected and sealed.

특히, 최근에는 상기와 같은 액정 표시 장치에 최근 사람의 손이나 별도의 입력 수단을 통해 터치 부위를 인식하고 이에 대응하여 별도의 정보를 전달할 수 있는 터치 패널을 부가하는 요구가 늘고 있다. 이 때, 터치 패널은 액정 표시 장치 상에 부착될 수도 있고, 액정 표시 장치 내에 내장될 수도 있다. 이하, 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치에 대해 설명하면 다음과 같다.In recent years, there has been a growing demand for a touch panel capable of recognizing a touch area and transmitting additional information in response to the touch of a user through a hand or a separate input device. At this time, the touch panel may be mounted on the liquid crystal display device, or may be built in the liquid crystal display device. Hereinafter, a general touch panel built-in liquid crystal display device will be described as follows.

도 1a는 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제 1, 제 2 공통 전극의 배열을 나타낸 평면도이며, 도 1b는 도 1a의 Ⅰ-Ⅰ'에 따른 단면도이다. 그리고, 도 2는 도 1b의 A 영역을 확대한 단면도이다.1A is a plan view showing an arrangement of first and second common electrodes of a general touch panel built-in liquid crystal display device, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG. 1A. 2 is an enlarged cross-sectional view of the region A of FIG. 1B.

도 1a과 같이, 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 어레이 기판(100a) 상에 제 1, 제 2 공통 전극(150a, 150b)이 형성되며, 제 1 공통 전극(150a)은 긴 막대 형상으로 형성되고, 제 2 공통 전극(150b)은 제 1 공통 전극(150a) 사이에 분리 형성된다. 그리고, 도 1b와 같이, 분리된 제 2 공통 전극(150b)은 컬러 필터 어레이 기판(100b) 상에 형성된 브릿지 전극(180)을 통해 서로 연결되며, 구체적으로, 브릿지 전극(180)은 박막 트랜지스터 어레이 기판(100a)과 컬러 필터 어레이 기판(100b) 사이의 셀 갭을 유지하기 위한 컬럼 스페이서(170)를 통해 제 2 공통 전극(150b)과 전기적으로 연결된다.1A, first and second common electrodes 150a and 150b are formed on a thin film transistor array substrate 100a of a general touch panel built-in liquid crystal display device, and the first common electrode 150a has a long bar shape And the second common electrode 150b is separately formed between the first common electrodes 150a. 1B, the separated second common electrodes 150b are connected to each other through a bridge electrode 180 formed on the color filter array substrate 100b. Specifically, the bridge electrode 180 is connected to the thin film transistor array 100b, And is electrically connected to the second common electrode 150b through a column spacer 170 for maintaining a cell gap between the substrate 100a and the color filter array substrate 100b.

예를 들어, 제 1 공통 전극(150a)에 순차적으로 전압을 인가하면, 터치 여부에 따라 제 1 공통 전극(150a)과 제 2 공통 전극(150b) 사이에 발생하는 정전 용량(Capacitance) 변화가 발생하고, 정전 용량의 변화를 인지하여 터치 위치를 검출하고, 검출된 터치 위치를 외부로 출력하게 된다.For example, when a voltage is sequentially applied to the first common electrode 150a, a change in capacitance occurring between the first common electrode 150a and the second common electrode 150b occurs depending on the touch state Detects the touch position by recognizing the change in capacitance, and outputs the detected touch position to the outside.

특히, 액정 배향을 위해 박막 트랜지스터 어레이 기판(100a)과 컬러 필터 어레이 기판(100b) 상에는 배향막이 도포된다. 그런데, 도 2와 같이, 컬러 필터 어레이 기판(100b)의 상에 도포되는 상부 배향막(미도시)은 컬럼 스페이서(170)의 상부에는 매우 얇게 도포되고, 컬럼 스페이서(170)의 측면을 따라 흘러내려 컬럼 스페이서(170)의 측면의 일부와 컬럼 스페이서(170)에 대응되지 않는 브릿지 전극(180) 상에 도포된다.In particular, an alignment film is coated on the thin film transistor array substrate 100a and the color filter array substrate 100b for liquid crystal alignment. 2, an upper alignment film (not shown) applied on the color filter array substrate 100b is applied very thinly on the top of the column spacer 170 and flows down along the side surface of the column spacer 170 Is applied on a portion of the side of the column spacer 170 and on the bridge electrode 180 that does not correspond to the column spacer 170.

그러나, 평탄한 박막 트랜지스터 어레이 기판(100a) 상에 도포되는 하부 배향막(120)은 두껍게 도포되고, 이로 인해, 브릿지 전극(180)과 제 2 공통 전극(150b)의 콘택 불량이 발생하여 브릿지 전극(180)과 제 2 공통 전극(150b) 사이의 저항이 증가하여, 저저항의 전극을 구현할 수 없다.However, the lower orientation film 120 applied on the flat thin film transistor array substrate 100a is thickly applied, causing contact failure between the bridge electrode 180 and the second common electrode 150b, And the second common electrode 150b increases, so that it is not possible to realize a low resistance electrode.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 브릿지 전극과 공통 전극이 전기적으로 연결되는 영역에 배향막이 남아있지 않도록, 평탄화막에 트렌치를 형성하여, 브릿지 전극과 공통 전극의 콘택 불량을 방지할 수 있는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치를 제공하는데, 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method of forming a trench in a planarization film so as to prevent an alignment film from remaining in a region where a bridge electrode and a common electrode are electrically connected, A liquid crystal display device with a built-in touch panel.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는, 제 1 기판 상에 형성되며 복수개의 트렌치를 가지는 평탄화층과, 상기 평탄화층 상부에 형성되어 상기 복수개의 트렌치를 따라 형성되는 제 1 공통 전극과, 상기 제 1 공통 전극을 사이에 두고 분리되어 형성되는 제 2 공통 전극과, 상기 복수개의 트렌치 내로 유입되어 상기 제 2 공통 전극을 노출시키는 하부 배향막을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이 기판과, 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판 상에 형성되며 상기 하부 배향막에 의해 노출된 상기 제 1 공통 전극과 대응하는 영역에 형성되는 컬럼 스페이서와, 상기 컬럼 스페이서가 형성된 상기 제 2 기판 상에 형성되어 상기 제 2 공통 전극과 접속되는 브릿지 전극을 포함하는 컬러 필터 어레이 기판을 구비한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a touch panel built-in liquid crystal display device including: a planarization layer formed on a first substrate and having a plurality of trenches; a plurality of trenches formed on the planarization layer, A thin film transistor array substrate comprising: a first common electrode; a second common electrode formed separately by sandwiching the first common electrode; and a lower alignment layer which is introduced into the plurality of trenches and exposes the second common electrode, A column spacer formed on a second substrate opposite to the first substrate and formed in a region corresponding to the first common electrode exposed by the lower alignment layer, and a second spacer formed on the second substrate on which the column spacer is formed And a bridge electrode connected to the second common electrode.

상기 평탄화층은 상기 제 1 기판 상에 형성되는 박막 트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀과, 상기 복수개의 트렌치를 포함한다.The planarization layer includes a drain contact hole exposing a drain electrode of a thin film transistor formed on the first substrate, and the plurality of trenches.

상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막 트렌지스터와 접속되는 화소 전극을 더 포함한다.The thin film transistor array substrate further includes a pixel electrode connected to the thin film transistor through the drain contact hole.

상기 컬럼 스페이서는 상기 복수개의 트렌치 사이에 위치한다.The column spacer is located between the plurality of trenches.

또한, 동일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터를 포함하는 상기 제 1 기판 상에 상기 박막 트랜지스터를 노출시키는 드레인 콘택홀과 복수개의 트렌치를 가지는 평탄화층을 형성하는 단계; 상기 평탄화층 상에 상기 복수개의 트렌치를 따라 형성되는 제 1 공통 전극과 상기 제 1 공통 전극을 사이에 두고 분리되어 형성되는 제 2 공통 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1, 제 2 공통 전극을 포함하는 상기 제 1 기판 상에 상기 복수개의 트렌치로 유입되어 상기 제 2 공통 전극을 노출시키는 하부 배향막을 도포하는 단계; 제 2 기판 상에 상기 하부 배향막에 의해 노출된 상기 제 1 공통 전극과 대응되는 영역에 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 상기 컬럼 스페이서가 형성된 상기 제 2 기판 상에 상기 제 2 공통 전극과 접속되는 브릿지 전극을 형성하는 단계; 및 상기 제 1, 제 2 기판을 대향 합착하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel built-in liquid crystal display device including: forming a thin film transistor on a first substrate; Forming a planarization layer having a plurality of trenches and a drain contact hole exposing the thin film transistor on the first substrate including the thin film transistor; Forming a first common electrode formed on the planarization layer along the plurality of trenches and a second common electrode separately formed with the first common electrode interposed therebetween; Applying a lower alignment layer which is introduced into the plurality of trenches on the first substrate including the first and second common electrodes to expose the second common electrode; Forming a column spacer on the second substrate in a region corresponding to the first common electrode exposed by the lower alignment layer; Forming a bridge electrode connected to the second common electrode on the second substrate on which the column spacer is formed; And opposing the first and second substrates.

상기 평탄화층의 드레인 콘택홀과 복수개의 트렌치는 하프톤 마스크를 이용하여 형성한다.A drain contact hole and a plurality of trenches of the planarization layer are formed using a halftone mask.

상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막 트렌지스터와 접속되는 화소 전극을 형성하는 단계를 더 포함한다.The thin film transistor array substrate further includes forming a pixel electrode connected to the thin film transistor through the drain contact hole.

상기 컬럼 스페이서는 상기 복수개의 트렌치 사이에 형성한다.The column spacer is formed between the plurality of trenches.

상기와 같은 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The above-described touch panel built-in liquid crystal display device and its manufacturing method of the present invention have the following effects.

첫째, 평탄화층에 복수개의 트렌치를 형성하여, 복수개의 트렌치로 하부 배향막이 유입되어, 브릿지 전극과 공통 전극의 콘택 특성을 향상시킬 수 있다.First, a plurality of trenches are formed in the planarization layer, and a lower alignment film is introduced into the planarization layer by a plurality of trenches, so that the contact characteristics between the bridge electrode and the common electrode can be improved.

둘째, 하프톤 마스크를 이용하여 평탄화층에 형성되는 복수개의 트렌치와 박막 트랜지스터를 노출시키기 위한 드레인 콘택홀을 형성하여, 마스크 공정을 추가로 늘리지 않고도 복수개의 트렌치를 형성하여 콘택 특성을 향상시킬 수 있다.Second, a plurality of trenches formed in the planarization layer and drain contact holes for exposing the thin film transistor are formed by using a halftone mask, and a plurality of trenches can be formed without further increasing the mask process, thereby improving contact characteristics .

도 1a는 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제 1, 제 2 공통 전극의 배열을 나타낸 평면도.
도 1b는 도 1a의 Ⅰ-Ⅰ'에 따른 단면도.
도 2는 도 1b의 A 영역을 확대한 단면도.
도 3은 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 단면도.
도 4는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 트렌치의 SEM.
도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 공정 단면도.
도 6a는 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 컬럼 스페이서 상에 배향막이 남아있는 SEM.
도 6b는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 컬럼 스페이서 상에 배향막이 남아있지 않은 SEM.
1A is a plan view showing an arrangement of first and second common electrodes in a general touch panel built-in liquid crystal display device.
1B is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG. 1A;
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of region A of FIG. 1B. FIG.
3 is a sectional view of a touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention.
4 is a SEM of a trench of a liquid crystal display device incorporating a touch panel of the present invention.
5A to 5E are process sectional views of a liquid crystal display device incorporating a touch panel of the present invention.
6A is a SEM in which an alignment film remains on a column spacer of a general touch panel built-in liquid crystal display device.
6B is a SEM in which no alignment film remains on a column spacer of a liquid crystal display device with a built-in touch panel of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 단면도이다. 그리고, 도 4는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 트렌치의 SEM이다.3 is a cross-sectional view of a touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention. 4 is an SEM of a trench of a touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention.

도 3과 같이, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는 액정층(미도시)을 사이에 두고 대향 합착된 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판을 포함한다.As shown in FIG. 3, the liquid crystal display device with built-in touch panel of the present invention includes a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate which are adhered to each other with a liquid crystal layer (not shown) interposed therebetween.

도시하지는 않았지만, 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제 1 기판(210) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된다. 구체적으로, 제 1 기판(210) 상에 복수개의 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하여 복수의 화소 영역이 정의되고, 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역에 박막 트랜지스터가 형성된다.Though not shown, a thin film transistor (TFT) is formed on the first substrate 210 of the thin film transistor array substrate. Specifically, a plurality of gate lines and data lines intersect the first substrate 210 to define a plurality of pixel regions, and a thin film transistor is formed in an intersection region between the gate lines and the data lines.

박막 트랜지스터는 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층 및 소스, 드레인 전극을 포함하며, 박막 트랜지스터를 포함한 제 1 기판(210) 전면에 평탄화층(220)이 형성된다. 평탄화층(220) 상에는 화소 전극(230)이 형성되고, 화소 전극(230)은 평탄화층(220)을 선택적으로 제거하여 형성된 드레인 콘택홀(미도시)을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 접속한다.The thin film transistor includes a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, and source and drain electrodes, and a planarization layer 220 is formed on the entire surface of the first substrate 210 including the thin film transistor. A pixel electrode 230 is formed on the planarization layer 220 and the pixel electrode 230 is connected to the drain electrode of the TFT through a drain contact hole (not shown) formed by selectively removing the planarization layer 220.

그리고, 화소 전극(230)을 포함하는 평탄화층(220) 상에는 보호막(240)이 형성되고, 보호막(240) 상에 긴 막대 형상의 제 1 공통 전극(미도시)과 제 1 공통 전극(미도시) 사이에 분리된 구조로 제 2 공통 전극(250)이 형성되며, 도면에서는 제 2 공통 전극(250)만을 도시하였다. 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250)은 터치를 감지하기 위한 것으로, ITO(Indium Tin Oxide; ITO), IZO(Indium Zinc Oxide; IZO) 등과 같은 투명 도전성 물질로 형성된다.A protective film 240 is formed on the planarization layer 220 including the pixel electrode 230 and a first common electrode (not shown) having a long bar shape and a first common electrode The second common electrode 250 is formed in a separated structure, and only the second common electrode 250 is shown in the drawing. The first and second common electrodes 250 and 250 are formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) to detect a touch.

구체적으로, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250) 중 하나가 전압이 인가되는 드라이빙(Driving) 전극이면, 나머지 하나는 전압 신호를 검출하는 센싱(Sensing) 전극이다. 드라이빙 전극에 차례로 전압 신호를 인가하고, 센싱 전극측에서 전압 값을 검출하여, 사용자가 액정 표시 장치를 터치하면, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250)의 교차부분의 정전 용량이 변동되어 터치 영역을 감지할 수 있다.More specifically, if one of the first and second common electrodes (not shown) is a driving electrode to which a voltage is applied, the other is a sensing electrode that detects a voltage signal. When a voltage value is detected on the sensing electrode side by touching the liquid crystal display device, the capacitance of the intersection of the first and second common electrodes (not shown) So that the touch area can be detected.

그리고, 박막 트랜지스터 어레이 기판과 대향 합착된 컬러 필터 어레이 기판의 제 2 기판(260) 상에는 블랙 매트릭스(270)가 형성되고, 블랙 매트릭스(270)와 중첩되도록 컬러 필터(280)가 형성된다. 그리고, 블랙 매트릭스(270)와 컬러 필터(280)를 포함한 제 2 기판(260) 전면에 오버코트층(290)이 형성되어 제 2 기판(260)의 표면을 평탄화한다.A black matrix 270 is formed on the second substrate 260 of the color filter array substrate which is adhered to the thin film transistor array substrate and a color filter 280 is formed to overlap with the black matrix 270. An overcoat layer 290 is formed on the entire surface of the second substrate 260 including the black matrix 270 and the color filter 280 to planarize the surface of the second substrate 260.

블랙 매트릭스(270)에 대응되는 오버코트층(290) 상에는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 셀 갭을 유지하기 위한 컬럼 스페이서(300)가 형성된다. 그리고, 컬럼 스페이서(300)를 포함한 오버코트층(290) 상에는 브릿지 전극(310)이 형성되어, 박막 트랜지스터 어레이 기판의 분리 형성된 제 2 공통 전극(250)을 전기적으로 연결한다.On the overcoat layer 290 corresponding to the black matrix 270, a column spacer 300 for maintaining the cell gap of the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate is formed. A bridge electrode 310 is formed on the overcoat layer 290 including the column spacer 300 to electrically connect the second common electrode 250 formed separately from the thin film transistor array substrate.

특히, 액정 배향을 위해 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판 상에는 각각 상부, 하부 배향막(400a, 400b)이 도포된다. 그런데, 컬러 필터 어레이 기판 상에 도포되는 상부 배향막(400a)은 컬럼 스페이서(300)의 상부에는 매우 얇게 도포되고, 컬럼 스페이서(300)의 측면을 따라 흘러내려, 컬럼 스페이서(300)의 측면과 컬럼 스페이서(300)에 대응되지 않는 브릿지 전극(310) 상에 도포된다.In particular, the upper and lower alignment films 400a and 400b are applied on the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate, respectively, for liquid crystal alignment. The upper alignment film 400a applied on the color filter array substrate is very thinly applied to the top of the column spacer 300 and flows down along the side surface of the column spacer 300 so that the side surface of the column spacer 300, Is applied on the bridge electrode (310) not corresponding to the spacer (300).

그러나, 평탄한 박막 트랜지스터 어레이 기판 상에 도포되는 하부 배향막(400b)은 두껍게 도포되고, 이로 인해, 브릿지 전극(310)과 제 2 공통 전극(250)의 콘택 불량이 발생하고, 브릿지 전극(310)과 제 2 공통 전극(250) 사이의 저항이 커진다.However, the lower orientation film 400b applied on the flat thin film transistor array substrate is thickly applied, resulting in poor contact between the bridge electrode 310 and the second common electrode 250, The resistance between the second common electrodes 250 becomes large.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 콘택 불량을 방지하기 위해, 도 4와 같이, 박막 트랜지스터 어레이 기판의 평탄화층(220)에 복수개의 트렌치(220a)를 형성한다. 트렌치(220a)는 브릿지 전극(310)과 제 2 공통 전극(250)이 연결되는 컬럼 스페이서(300) 주변에 형성되어, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250) 표면에 형성되어 브릿지 전극(310)과 제 2 공통 전극(250)이 연결되는 영역의 하부 배향막(400b)이 복수개의 트렌치(220a) 내부로 유입되도록 한다.Accordingly, in order to prevent such contact defects as described above, the present invention forms a plurality of trenches 220a in the planarization layer 220 of the thin film transistor array substrate, as shown in FIG. The trench 220a is formed around the column spacer 300 to which the bridge electrode 310 and the second common electrode 250 are connected and is formed on the surface of the first and second common electrodes (not shown) The lower alignment layer 400b of the region where the first common electrode 310 and the second common electrode 250 are connected to the plurality of trenches 220a.

구체적으로, 평탄화층(220) 상에 형성되는 화소 전극(230), 보호막(240) 및 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250)은 드레인 콘택홀(미도시)과 트렌치(220a)를 따라 형성되고, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250)을 포함하는 제 1 기판(210) 전면에 도포되는 하부 배향막(400b)은 컬럼 스페이서(300) 주변에 형성된 복수개의 트렌치(220a) 내부로 유입된다.Specifically, the pixel electrode 230, the protective layer 240, and the first and second common electrodes (not shown) (not shown) formed on the planarization layer 220 are formed to have a drain contact hole (not shown) and a trench 220a A lower alignment layer 400b is formed on the entire surface of the first substrate 210 including the first and second common electrodes 250. The lower alignment layer 400b includes a plurality of trenches 220a formed around the column spacer 300, Respectively.

따라서, 컬럼 스페이서(300) 상의 브릿지 전극(310)은 트렌치(220a) 내부로 유입된 하부 배향막(400b)으로 인해 노출된 제 2 공통 전극(250)과 접속되므로, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는, 브릿지 전극(310)과 제 2 공통 전극(250)의 콘택 불량을 감소시켜, 저저항 전극을 형성할 수 있다.The bridge electrode 310 on the column spacer 300 is connected to the exposed second common electrode 250 due to the lower alignment layer 400b flowing into the trench 220a, The device can reduce the contact failure between the bridge electrode 310 and the second common electrode 250 and form a low resistance electrode.

특히, 평탄화층(220) 상에 형성되는 화소 전극(230)은 평탄화층(220)을 선택적으로 제거하여 박막 트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 통해 드레인 전극과 전기적으로 접속되므로, 트렌치(220a)를 통해 화소 전극(230)이 드레인 전극을 제외한 다른 금속 배선과 접속하지 않도록, 트렌치(220a)는 평탄화층(220) 하부의 배선을 노출시키지 않는 것이 바람직하다.In particular, since the pixel electrode 230 formed on the planarization layer 220 is electrically connected to the drain electrode through the drain contact hole exposing the drain electrode of the TFT by selectively removing the planarization layer 220, It is preferable that the trench 220a does not expose the wiring under the planarization layer 220 so that the pixel electrode 230 is not connected to another metal wiring except the drain electrode through the through holes 220a.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a manufacturing method of a touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 공정 단면도로, 도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 어레이 기판의 공정 단면도이며, 도 5d와 도 5e는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 컬러 필터 어레이 기판의 공정 단면도이다. 그리고, 도 5f는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판을 합착한 단면도이다.FIGS. 5A to 5E are process sectional views of a liquid crystal display device incorporating a touch panel of the present invention, FIGS. 5A to 5C are process sectional views of a thin film transistor array substrate of a liquid crystal display device with a touch panel of the present invention, Sectional view of the color filter array substrate of the touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention. 5F is a cross-sectional view of the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate of the touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention assembled together.

먼저, 도 5a와 같이, 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층 및 소스, 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터가 형성된 제 1 기판(210) 상에 평탄화층(220)을 형성한다. 평탄화층(220)은 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기물질 또는 BCB와 같은 유기물질로 형성될 수 있다.5A, a planarization layer 220 is formed on a first substrate 210 on which a thin film transistor including a gate electrode, a gate insulating layer, a semiconductor layer, and a source and a drain electrode is formed. The planarization layer 220 may be formed of an inorganic material such as a silicon nitride film (SiNx), a silicon oxide film (SiOx), or an organic material such as BCB.

그리고, 평탄화층(220)을 선택적으로 제거하여 박막 트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀(미도시)을 형성함과 동시에, 복수개의 트렌치(220a)를 형성한다. 구체적으로, 평탄화층(220) 상에 포토 레지스트를 도포하고, 투과 영역, 반투과 영역 및 차단 영역을 갖는 하프톤(Half Tone) 마스크를 이용하여 드레인 콘택홀(미도시)을 형성함과 동시에, 복수개의 트렌치(220a)를 형성한다.Then, the planarization layer 220 is selectively removed to form a drain contact hole (not shown) for exposing the drain electrode of the thin film transistor, and a plurality of trenches 220a are formed. Specifically, a photoresist is applied on the planarization layer 220, a drain contact hole (not shown) is formed by using a halftone mask having a transmission region, a semi-transmission region, and a blocking region, Thereby forming a plurality of trenches 220a.

또한, 화소 전극(230)이 평탄화층(220)을 선택적으로 제거하여 박막 트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 통해 드레인 전극과 전기적으로 접속되므로, 트렌치(220a)를 통해 화소 전극(230)이 드레인 전극을 제외한 다른 금속 배선과 접속하지 않도록, 트렌치(220a)는 평탄화층(220) 하부의 배선을 노출시키지 않는 것이 바람직하다. 트렌치(220a)의 깊이는 하프톤 마스크의 반투과 영역의 투과율을 조절하여 조절할 수 있다.The pixel electrode 230 is electrically connected to the drain electrode through the drain contact hole exposing the drain electrode of the TFT by selectively removing the planarization layer 220. The pixel electrode 230 is electrically connected to the drain electrode through the trench 220a, It is preferable that the trench 220a does not expose the wiring under the planarization layer 220 so as not to connect to the other metal wiring except the drain electrode. The depth of the trench 220a can be adjusted by adjusting the transmittance of the transflective region of the halftone mask.

도 5b와 같이, 드레인 콘택홀(미도시)과 복수개의 트렌치(220a)를 포함한 평탄화층(220) 전면에 화소 전극(230)을 형성하고, 화소 전극(230)은 드레인 콘택홀(미도시)을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 접속한다. 그리고, 화소 전극(230) 상에 보호막(240)을 형성한다.5B, a pixel electrode 230 is formed on the entire surface of the planarization layer 220 including a drain contact hole (not shown) and a plurality of trenches 220a. The pixel electrode 230 includes a drain contact hole (not shown) To the drain electrode of the thin film transistor. A protective film 240 is formed on the pixel electrode 230.

이어, 보호막(240) 상에 터치를 감지하기 위한 제 1 공통 전극(미도시)과 제 2 공통 전극(250)을 형성하며 도면에서는 제 2 공통 전극(250) 만을 도시하였다. 구체적으로, 제 1 공통 전극(미도시)은 긴 막대 형상으로 형성되며, 제 2 공통 전극(250)은 제 1 공통 전극(미도시)의 사이에 형성되며, 분리된 구조로 형성된다. Next, a first common electrode (not shown) and a second common electrode 250 are formed on the protective layer 240 to sense a touch, and only the second common electrode 250 is shown in the drawing. Specifically, the first common electrode (not shown) is formed in a long bar shape, and the second common electrode 250 is formed between the first common electrodes (not shown) and formed in a separated structure.

예를 들어, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250) 중 하나가 전압이 인가되는 드라이빙(Driving) 전극이면, 나머지 하나는 전압 신호를 검출하는 센싱(Sensing) 전극이다. 드라이빙 전극에 차례로 전압 신호를 인가하고, 센싱 전극측에서 전압 값을 검출하여, 사용자가 액정 표시 장치를 터치하면, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250)의 교차부분의 정전 용량(Capacitance)이 변동되어 터치 위치를 검출하고, 검출된 터치 위치를 외부로 출력하게 된다.For example, if one of the first and second common electrodes (not shown) is a driving electrode to which a voltage is applied, the other is a sensing electrode that detects a voltage signal. A voltage signal is sequentially applied to the driving electrode and a voltage value is detected on the sensing electrode side. When a user touches the liquid crystal display device, capacitance of the intersection of the first and second common electrodes (not shown) ) Is changed to detect the touch position and output the detected touch position to the outside.

이어, 액정 분자를 배향하기 위해, 도 5c와 같이, 제 1, 제 2 공통 전극(미도시, 250) 상에 하부 배향막(400b)을 도포한다. 이 때, 하부 배향막(400b)은 복수개의 트렌치(220a) 내부로 유입되며, 트렌치(220a) 내부로 유입된 하부 배향막(400b)으로 인해 제 2 공통 전극(250)이 노출된다.Next, in order to align the liquid crystal molecules, the lower alignment film 400b is coated on the first and second common electrodes (not shown) as shown in FIG. 5C. At this time, the lower alignment layer 400b flows into the plurality of trenches 220a, and the second common electrode 250 is exposed due to the lower alignment layer 400b flowing into the trenches 220a.

그리고, 도 5d와 같이, 제 2 기판(260) 상에 블랙 매트릭스(270)를 형성하고, 블랙 매트릭스(270)와 중첩되도록 컬러 필터(280)를 형성한다. 그리고, 블랙 매트릭스(270)와 컬러 필터(280)를 포함한 제 2 기판(260) 전면에 오버코트층(290)을 형성하여, 제 2 기판(260)의 표면을 평탄화하며, 오버코트층(290)을 형성하는 공정을 생략해도 무방하다. 5D, a black matrix 270 is formed on the second substrate 260, and a color filter 280 is formed so as to overlap with the black matrix 270. As shown in FIG. An overcoat layer 290 is formed on the entire surface of the second substrate 260 including the black matrix 270 and the color filter 280 to flatten the surface of the second substrate 260 and to cover the overcoat layer 290 And the step of forming may be omitted.

이어, 도 5e와 같이, 블랙 매트릭스(270)에 대응되는 오버코트층(290) 상에는 박막 트랜지스터 어레이 기판(200a)과 컬러 필터 어레이 기판(200b)의 셀 갭을 유지하기 위한 컬럼 스페이서(300)를 형성한다. 그리고, 컬럼 스페이서(300)를 포함한 오버코트층(290) 상에 브릿지 전극(310)을 형성하여, 분리 형성된 제 2 공통 전극(250)을 전기적으로 연결한다.5E, a column spacer 300 is formed on the overcoat layer 290 corresponding to the black matrix 270 to maintain a cell gap between the thin film transistor array substrate 200a and the color filter array substrate 200b do. A bridge electrode 310 is formed on the overcoat layer 290 including the column spacer 300 to electrically connect the separated second common electrode 250.

특히, 브릿지 전극(310)을 포함한 제 2 기판(260) 상에도 상부 배향막(400a)을 도포하는데, 상부 배향막(400a)은 컬럼 스페이서(300)의 상부에는 매우 얇게 도포되고, 컬럼 스페이서(300)의 측면을 따라 흘러내려 컬럼 스페이서(300)의 측면의 일부와 컬럼 스페이서(300)에 대응되지 않는 브릿지 전극(310) 상에 도포된다.Particularly, the upper alignment layer 400a is also applied on the second substrate 260 including the bridge electrode 310. The upper alignment layer 400a is applied very thinly on the upper portion of the column spacer 300, And is applied onto a portion of the side surface of the column spacer 300 and the bridge electrode 310 that does not correspond to the column spacer 300.

따라서, 도 5f와 같이, 컬럼 스페이서(300) 상의 브릿지 전극(310)은 트렌치(220a) 내부로 유입된 하부 배향막(400b)으로 인해 노출된 제 2 공통 전극(250)과 접속되므로, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는, 브릿지 전극(310)과 제 2 공통 전극(250)의 콘택 불량을 감소시켜, 저저항 전극을 형성할 수 있다.5F, since the bridge electrode 310 on the column spacer 300 is connected to the second common electrode 250 exposed by the lower alignment layer 400b flowing into the trench 220a, The touch panel built-in liquid crystal display device can reduce the contact failure between the bridge electrode 310 and the second common electrode 250, thereby forming a low-resistance electrode.

도 6a는 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 컬럼 스페이서 상에 배향막이 남아있는 SEM이며, 도 6b는 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 컬럼 스페이서 상에 배향막이 남아있지 않은 SEM이다.6A is an SEM in which an alignment film remains on a column spacer of a general touch panel built-in liquid crystal display device, and FIG. 6B is an SEM in which no alignment film remains on a column spacer of a touch panel built-in liquid crystal display device of the present invention.

도 6a와 같이, 일반적인 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는 평탄화층에 38.1㎚ 두께의 배향막이 그대로 도포되어, 분리된 제 2 공통 전극을 서로 연결시키기 위한 브릿지 전극과 제 2 공통 전극의 콘택 불량이 발생할 수 있다. 그러나, 도 6b와 같이, 본 발명의 터치 패널 내장형 액정 표시 장치는 트렌치를 통해 배향막이 유입되어, 컬럼 스페이서 상에 배향막이 남아있지 않다. 따라서, 브릿지 전극과 제 2 공통 전극의 콘택 특성이 향상되어, 저저항 전극을 구현할 수 있으며, 드레인 콘택홀을 형성할 때 트렌치를 형성하여, 추가로 마스크 공정을 진행하지 않아도 브릿지 전극과 제 2 공통 전극의 콘택 특성을 향상시킬 수 있다.6A, in a general touch panel built-in liquid crystal display device, a 38.1 nm thick alignment layer is directly applied to the planarization layer, and a contact defect between the bridge electrode and the second common electrode for connecting the separated second common electrodes may occur have. However, as shown in FIG. 6B, in the liquid crystal display device with a built-in touch panel of the present invention, the alignment film flows through the trench, and no alignment film remains on the column spacer. Therefore, the contact characteristics between the bridge electrode and the second common electrode can be improved to realize a low-resistance electrode, a trench can be formed to form the drain contact hole, and the bridge electrode and the second common electrode The contact characteristics of the electrode can be improved.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Will be apparent to those of ordinary skill in the art.

210: 제 1 기판 220: 평탄화층
220a: 트렌치 230: 화소 전극
240: 보호막 250: 제 2 공통 전극
260: 제 2 기판 270: 블랙 매트릭스
280: 컬러 필터 290: 오버코트층
300: 컬럼 스페이서 310: 브릿지 전극
400a: 상부 배향막 400b: 하부 배향막
210: first substrate 220: planarization layer
220a: Trench 230: Pixel electrode
240: protective film 250: second common electrode
260: second substrate 270: black matrix
280: color filter 290: overcoat layer
300: column spacer 310: bridge electrode
400a: upper alignment film 400b: lower alignment film

Claims (8)

제 1 기판 상에 형성되며 복수개의 트렌치를 가지는 평탄화층과, 상기 평탄화층 상부에 형성되어 상기 복수개의 트렌치를 따라 형성되는 제 1 공통 전극과, 상기 제 1 공통 전극을 사이에 두고 분리되어 형성되는 제 2 공통 전극과, 상기 복수개의 트렌치 내로 유입되어 상기 제 2 공통 전극을 노출시키는 하부 배향막을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이 기판과,
상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판 상에 형성되며 상기 하부 배향막에 의해 노출된 상기 제 1 공통 전극과 대응하는 영역에 상기 복수개의 트렌치 사이에 위치하여 형성되는 컬럼 스페이서와, 상기 컬럼 스페이서가 형성된 상기 제 2 기판 상에 형성되어 상기 제 2 공통 전극과 접속되는 브릿지 전극을 포함하는 컬러 필터 어레이 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치.
A planarization layer formed on the first substrate and having a plurality of trenches, a first common electrode formed on the planarization layer and formed along the plurality of trenches, and a second common electrode formed separately on the first common electrode A thin film transistor array substrate including a first common electrode, a second common electrode, and a lower alignment layer which is introduced into the plurality of trenches and exposes the second common electrode,
A column spacer formed on the second substrate facing the first substrate and formed between the plurality of trenches in a region corresponding to the first common electrode exposed by the lower alignment layer; And a bridge electrode formed on the second substrate and connected to the second common electrode. The touch panel built-in liquid crystal display device of claim 1,
제 1 항에 있어서,
상기 평탄화층은 상기 제 1 기판 상에 형성되는 박막 트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀과, 상기 복수개의 트렌치를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the planarization layer includes a drain contact hole exposing a drain electrode of a thin film transistor formed on the first substrate, and the plurality of trenches.
제 2 항에 있어서,
상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되는 화소 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the thin film transistor array substrate further comprises a pixel electrode connected to the thin film transistor through the drain contact hole.
삭제delete 제 1 기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 박막 트랜지스터를 포함하는 상기 제 1 기판 상에 상기 박막 트랜지스터를 노출시키는 드레인 콘택홀과 복수개의 트렌치를 가지는 평탄화층을 형성하는 단계;
상기 평탄화층 상에 상기 복수개의 트렌치를 따라 형성되는 제 1 공통 전극과 상기 제 1 공통 전극을 사이에 두고 분리되어 형성되는 제 2 공통 전극을 형성하는 단계;
상기 제 1, 제 2 공통 전극을 포함하는 상기 제 1 기판 상에 상기 복수개의 트렌치로 유입되어 상기 제 2 공통 전극을 노출시키는 하부 배향막을 도포하는 단계;
제 2 기판 상에 상기 하부 배향막에 의해 노출된 상기 제 1 공통 전극과 대응되는 영역에 상기 복수개의 트렌치 사이에 위치하도록 컬럼 스페이서를 형성하는 단계;
상기 컬럼 스페이서가 형성된 상기 제 2 기판 상에 상기 제 2 공통 전극과 접속되는 브릿지 전극을 형성하는 단계; 및
상기 제 1, 제 2 기판을 대향 합착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제조 방법.
Forming a thin film transistor on the first substrate;
Forming a planarization layer having a plurality of trenches and a drain contact hole exposing the thin film transistor on the first substrate including the thin film transistor;
Forming a first common electrode formed on the planarization layer along the plurality of trenches and a second common electrode separately formed with the first common electrode interposed therebetween;
Applying a lower alignment layer which is introduced into the plurality of trenches on the first substrate including the first and second common electrodes to expose the second common electrode;
Forming a column spacer on the second substrate so as to be located between the plurality of trenches in a region corresponding to the first common electrode exposed by the lower alignment layer;
Forming a bridge electrode connected to the second common electrode on the second substrate on which the column spacer is formed; And
And attaching the first and second substrates to each other in a face-to-face manner.
제 5 항에 있어서,
상기 평탄화층의 드레인 콘택홀과 복수개의 트렌치는 하프톤 마스크를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the drain contact hole of the planarization layer and the plurality of trenches are formed using a halftone mask.
제 5 항에 있어서,
상기 평탄화층을 형성하는 단계 후, 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 접속되는 화소 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 내장형 액정 표시 장치의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
And forming a pixel electrode connected to the thin film transistor through the drain contact hole after forming the planarization layer.
삭제delete
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