KR102200768B1 - 스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 - Google Patents

스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플레이트를 포함하는 스테이지 장치를 제공하고, 상기 플레이트는 제1 플레이트 부재, 제2 플레이트 부재, 및 제3 플레이트 부재를 포함하고, 상기 제1 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제1 면 및 상기 제2 플레이트 부재의 상기 제1 플레이트 부재 측의 제2 면 중 적어도 하나의 면은 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제1 유로를 형성하도록 구성되는 제1 오목부를 포함하고, 제2 플레이트 부재의 제3 플레이트 부재 측의 제3 면 및 제3 플레이트 부재의 제2 플레이트 부재 측의 제4 면 중 적어도 하나의 면은 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제2 유로를 형성하도록 구성되는 제2 오목부를 포함한다.

Description

스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법{STAGE APPARATUS, LITHOGRAPHY APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}
본 발명은, 스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법에 관한 것이다.
일본 특허 공개 공보 제2003-163257호는, 스테이지 장치에 관한 기술로서, 스테이지 플레이트의 고강성화와 경량화의 양립을 도모하기 위해서, 스테이지 플레이트를 중공 리브 구조로 하는 기술을 제안하고 있다. 일본 특허 공개 공보 제2003-163257호는, 스테이지 플레이트 상에 적재된 척에 기판을 보유지지하기 위해서, 부압 흡인을 행하는 기술을 개시하고 있다. 부압 흡인을 행하는 경우에는, 척에 형성된 구멍과 외부(부압 펌프)를 배관 등을 사용해서 서로 연통시킬 필요가 있다. 그러나, 일본 특허 공개 공보 제2003-163257호는 이러한 구성을 구체적으로 개시하고 있지 않다.
일본 특허 공개 공보 제2006-211812호는, 스테이지 플레이트 내부의 접합면에 냉매 유로를 형성하고, 스테이지 플레이트의 열변형의 영향을 저감하는 기술을 제안하고 있다. 또한 일본 특허 공개 공보 제2006-211812호에서는, 척을 보유지지하기 위해서 부압 흡인을 행하는 경우, 냉매 유로의 간극에 구멍을 형성하고, 배관 등을 사용해서 스테이지 플레이트의 하면으로부터 척의 상면까지의 부분들을 서로 연통시킬 필요가 있다. 그러나, 일본 특허 공개 공보 제2006-211812호는 이러한 구성을 구체적으로 개시하고 있지 않다.
최근, 노광 장치나 임프린트 장치 등의 리소그래피 장치에 대한 생산성의 향상이 요구되고 있으며, 장치 내에서 기판을 높은 속도 및 정밀도로 위치 결정가능한 스테이지 장치가 요구되고 있다. 따라서, 스테이지 장치의 제어 성능을 향상시키기 위해서, 스테이지 가동 유닛의 고강성화 및 경량화가 개선되고 있다. 임프린트 장치에서는, 스테이지 장치에 제공되는 척에 복수의 흡착 구멍을 형성하고, 기판의 각 영역에 대해 흡착을 ON/OFF할 수 있는 구성이 제안되어 있다. 이러한 구성에서는, 연통에 필요한 배관의 수가 종래보다 많아지는 경향이 있다.
그러나, 일본 특허 공개 공보 제2003-163257호에서는, 스테이지 플레이트가 척 바로 아래에 제공되기 때문에, 두꺼운 중공 리브 구조의 스테이지 플레이트 내부에 배관을 배열하는 것이 어렵다. 또한, 척의 흡착 구멍 중 대응하는 것에 연통하는 관통 구멍을 형성하기 위해서 스테이지 가동 유닛의 두꺼운 부분을 증가시키면, 경량성이 손상된다.
중공 리브 구조를 갖는 스테이지 플레이트의 접합면에 냉매 유로가 형성되어 있는 경우에는, 스테이지 플레이트의 하면으로부터 척의 상면까지의 부분들을 연통시키는 관통 구멍(부압 경로)을 스테이지 플레이트에 제공된 리브와 간섭하지 않도록 형성할 필요가 있다. 결과적으로, 중공 리브 구조 및 스테이지 플레이트 내의 실장부 등의 레이아웃의 제약을 받아서 부압 경로가 복잡화되고, 전체 스테이지 가동 유닛의 강성 및 경량성이 손상된다.
본 발명은 고강성화 및 경량화에 유리한 스테이지 장치를 제공한다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 기판을 흡착하기 위한 흡착 구멍을 갖는 척을 통해 기판을 보유지지하는 스테이지 장치가 제공되며, 상기 장치는, 상기 척을 지지면에서 지지하도록 구성된 플레이트를 포함하고, 상기 플레이트는 상기 지지면 측으로부터 두께 방향으로 제1 플레이트 부재, 제2 플레이트 부재, 및 제3 플레이트 부재를 포함하고, 상기 제1 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제1 면 및 상기 제2 플레이트 부재의 상기 제1 플레이트 부재 측의 제2 면 중 하나 이상의 면은, 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제1 유로를 형성하도록 구성된 제1 오목부를 포함하고, 상기 제2 플레이트 부재의 상기 제3 플레이트 부재 측의 제3 면 및 상기 제3 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제4 면 중 하나 이상의 면은, 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제2 유로를 형성하도록 구성된 제2 오목부를 포함하며, 상기 제1 유로 및 상기 제2 유로 중 하나는 상기 흡착 구멍과 연통한다.
본 발명의 추가적인 특징은 첨부된 도면을 참고한 예시적인 실시형태에 대한 이하의 설명으로부터 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 일 양태에 따른 임프린트 장치의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시하는 임프린트 장치의 스테이지 장치의 구성을 각각 도시하는 도면이다.
도 3은 도 2a 및 도 2b에 나타내는 스테이지 장치의 스테이지 플레이트를 도시하는 단면도이다.
도 4a 및 도 4b는 도 2a 및 도 2b에 나타내는 스테이지 장치의 척 및 스테이지 플레이트를 도시하는 도면이다.
도 5는 도 2a 및 도 2b에 나타내는 스테이지 장치의 스테이지 플레이트를 도시하는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6f는 물품을 제조하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 도 2a 및 도 2b에 나타내는 스테이지 장치의 스테이지 플레이트를 도시하는 단면도이다.
도 8은 도 2a 및 도 2b에 나타내는 스테이지 장치의 스테이지 플레이트를 도시하는 단면도이다.
본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부의 도면을 참고하여 이하에서 설명한다. 도면 전체에 걸쳐 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타내며, 그에 대한 반복적인 설명은 주어지지 않는다는 것을 유의하라.
도 1은 본 발명의 일 양태에 따른 임프린트 장치(100)의 구성을 도시하는 개략도이다. 임프린트 장치(100)는 반도체 디바이스 등의 제조에 사용되거나 기판에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이다. 임프린트 장치(100)는 몰드(4)를 사용해서 기판 상의 임프린트재(1)에 패턴을 형성하는 임프린트 처리를 행한다. 본 실시형태에서는, 임프린트 장치(100)는, 기판 상에 공급된 임프린트재(1)와 몰드(4)를 서로 접촉시키고, 임프린트재(1)에 경화 에너지를 부여함으로써, 몰드(4)의 3차원 패턴이 전사된 경화물의 패턴을 형성한다.
임프린트재(1)에는, 경화 에너지를 수취함으로써 경화되는 경화성 조성물(미경화 수지라고도 칭할 수 있음)이 사용된다. 경화 에너지로서는 전자기파, 열 등이 사용된다. 전자기파로서는, 예를 들어 그 파장이 10nm(포함) 내지 1mm(포함)의 범위로부터 선택되는, 적외선, 가시광선, 자외선 등의 광을 사용한다.
경화성 조성물은 광의 조사 또는 가열에 의해 경화되는 조성물이다. 광의 조사에 의해 경화하는 광경화성 조성물은, 적어도 중합성 화합물과 광중합 개시제를 함유하고, 필요에 따라 비중합성 화합물 또는 용제를 함유할 수 있다. 비중합성 화합물은, 적어도 증감제, 수소공여체, 내부 이형제, 계면활성제, 산화방지제, 중합체 성분 등을 포함하는 군으로부터 선택되는 재료이다.
임프린트재(1)는 스핀 코터나 슬릿 코터에 의해 기판 상에 막 형상으로 부여되어도 된다. 대안적으로, 액체 분사 헤드는, 기판 상에, 액적 형상 또는 서로 연결된 복수의 액적에 의해 형성된 섬 형상 또는 필름 형상을 갖는 임프린트재(1)를 도포할 수 있다. 임프린트재(1)의 점도(25℃에서의 점도)는 예를 들어 1mPa·s(포함) 내지 100mPa·s(포함)으로 설정된다.
임프린트 장치(100)는, 스테이지 장치(3)와, 공급 유닛(5)과, 임프린트 헤드(6)와, 경화 유닛(7)과, 계측 유닛(8)과, 구조체(9)와, 제어 유닛(10)과, 반송 유닛(11)을 갖는다. 공급 유닛(5), 임프린트 헤드(6), 경화 유닛(7) 및 계측 유닛(8)은 구조체(9)에 의해 지지되어 있다. 스테이지 장치(3)는 정반 상을 이동하도록 구성된다. 제어 유닛(10)은, 예를 들어 CPU, 메모리 등을 포함하고, 임프린트 장치(100)의 각 유닛을 제어함으로써 임프린트 처리를 행한다.
몰드(4)는, 임프린트재(1)를 경화시키는 광(예를 들어, 자외선)을 투과시킬 수 있는 석영 등과 같은 재료로 구성된다. 몰드(4)의 기판 측 면의 일부 영역에는, 기판 상의 임프린트재(1)를 성형하기 위한 3차원 패턴이 형성된다. 기판(2)은, 예를 들어 단결정 실리콘 기판, 유리 기판 등을 포함한다.
공급 유닛(5)은 기판(2)의 표면에 임프린트재(1)를 공급(도포)한다. 임프린트 헤드(6)는, 예를 들어 진공 흡착력이나 정전기의 힘에 의해 몰드(4)를 보유지지하는 몰드 척과, 몰드 척을 Z축 방향으로 구동하는 몰드 구동 유닛을 포함한다.
경화 유닛(7)은, 임프린트 처리에서, 임프린트재(1)를 경화시키는 광을, 몰드(4)를 통해 기판 상의 임프린트재(1)에 조사하여, 임프린트재(1)를 경화시킨다. 계측 유닛(8)은, 몰드(4)(의 패턴 영역)에 제공된 얼라인먼트 마크와 기판(2)(의 샷 영역)에 제공된 얼라인먼트 마크를 검출하고, 몰드(4)와 기판(2)의 상대 위치(위치 어긋남)를 계측한다.
반송 유닛(11)은, 로봇 핸드(11a)를 포함하고, 기판(2)을 반송한다. 반송 유닛(11)은, 임프린트 장치(100)의 내부에 기판(2)을 반입하고, 기판(2)을 스테이지 장치(3)에 이송한다. 또한, 반송 유닛(11)은, 스테이지 장치(3)로부터 기판(2)을 수취하고, 기판(2)을 임프린트 장치(100)의 외부에 반출한다.
스테이지 장치(3)는, 진공 흡착력에 의해 기판(2)을 보유지지하는 척(301)을 통해서 기판(2)을 보유지지한다. 스테이지 장치(3)는, 척(301)을 지지하면서 정반 상을 이동하도록 구성되는 가동 유닛(302)을 포함하고, 기판(2)의 X축 방향 및 Y축 방향에서의 위치 결정을 행한다. 또한, 스테이지 장치(3)는, 기판(2)의 Z축 방향이나 θ 방향에서의 위치를 조정하는 기능이나 기판(2)의 기울기를 보정하는 기능을 갖고 있어도 된다.
도 2a 및 도 2b를 참조하여, 스테이지 장치(3)의 구성에 대해서 설명한다. 도 2a는, 스테이지 장치(3)를 Z축 방향으로부터 도시하는 평면도이다. 도 2b는 도 2a에 나타내는 스테이지 장치(3)의 A-A' 선을 따라 취한 단면도이다. 스테이지 장치(3)는, 예를 들어 X 스테이지(303) 및 Y 스테이지(304)를 갖는 가동 유닛(302)을 갖는다. X 스테이지(303)는 정반(309) 위를 X축 방향으로 이동하도록 구성된다. Y 스테이지(304)는, 척(301)을 보유지지하도록 구성되고, 정압 안내(도시하지 않음)를 통해 Y축 방향으로 이동한다.
이렇게 구성된 가동 유닛(302)은, X 스테이지(303)를 X축 방향으로 이동함으로써, Y 스테이지(304) 및 척(301)을 X축 방향으로 이동시킬 수 있다. 또한, 가동 유닛(302)은, Y 스테이지(304)를 Y축 방향으로 이동시킴으로써, 척(301)을 Y축 방향으로 이동시킬 수 있다. 따라서, 스테이지 장치(3)는, 기판(2)을 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시킬 수 있다.
정압 가이드는 정반(309)에 대하여 미리결정된 양을 갖는 간극을 형성하도록 X 스테이지(303)의 위치 결정을 행한다. X 구동 유닛(303c)은 X 스테이지(303)를 정반 상에서 X축 방향으로 구동한다. X 구동 유닛(303c)은, 예를 들어 복수의 코일을 포함하는 가동자와, X축 방향을 따라서 배열된 영구 자석을 포함하는 고정자(305)를 갖는 리니어 모터를 포함한다. X 구동 유닛(303c)은 코일을 냉각하도록 구성되는 냉각 유닛을 실장하고 있다.
X 스테이지(303)의 X 방향의 위치는, 예를 들어 인코더, 간섭계 등을 포함하는 계측 유닛에서 계측된다. 본 실시형태에서는, X 스테이지(303)의 X 방향의 위치를 계측하는 계측 유닛으로서, X 스케일(306) 및 X 헤드(303d)를 포함하는 인코더가 제공된다.
정압 가이드는 X 스테이지(303)에 대하여 미리결정된 양을 갖는 간극을 형성하도록 Y 스테이지(304)의 위치 결정을 행한다. Y 구동 유닛(304a)은 Y 스테이지(304)를 X 빔(303a) 상에서 Y축 방향으로 구동한다. Y 구동 유닛(304a)은, X 구동 유닛(303c)과 마찬가지로, 리니어 모터를 포함한다. 또한, Y 구동 유닛(304a)은, 코일을 냉각하도록 구성되는 냉각 유닛을 실장하고 있다.
Y 스테이지(304)의 Y 방향의 위치는, 예를 들어 인코더, 간섭계 등을 포함하는 계측 유닛에서 계측된다. 본 실시형태에서는, Y 스테이지(304)의 Y 방향의 위치를 계측하는 계측 유닛으로서, X 빔(303a)에 배치된 Y 스케일(303b) 및 Y 헤드(304b)를 포함하는 인코더가 제공된다.
예를 들어, 스테이지 장치(3)에 대한 전력 및 용력(utility) 공급에는, 임프린트 장치(100)의 내부 또는 외부에 설치된 전력/용력 설비(12)가 사용된다. 먼저, 전력/용력 설비(12)로부터, 스테이지 장치(3)에 대한 전력 공급, 냉각 실장부(304g)에 대한 냉매 공급, 흡인 실장부(304f) 및 압력 조정 유닛(304i) 중 대응하는 것에 대한 배기 및 부압(진공) 흡인이 행하여진다. 전력/용력 설비(12)는, X축 방향으로 가동하는 X 가동 실장부(307)에 접속되고, X 스테이지(303)에 대하여 전력 공급 및 용력 공급을 행한다. 또한, 전력/용력 설비(12)는, X 가동 실장부(307)를 개재하여, Y축 방향으로 가동하는 Y 가동 실장부(308)에 접속되고, Y 스테이지(304)에 대하여 전력 공급 및 용력 공급을 행한다. X 스테이지(303) 및 Y 스테이지(304)에 배열된 계측 유닛 사이, 예를 들어 X 헤드(303d) 및 Y 헤드(304b)와 제어 유닛(10) 사이의 통신(예를 들어, 검출 신호나 제어 신호의 송수신)은 전력 및 용력 공급 경로와 동일한 경로를 통해서 행하여진다.
이제, Y 스테이지(304)의 구성을 상세하게 설명한다. Y 스테이지(304)는, 주로 2개의 구조체, 더 구체적으로는, 정압 가이드(도시하지 않음)를 포함하는 Y 슬라이더(304d)와 Y 슬라이더(304d) 상에 고정되는 스테이지 플레이트(304c)로 구성된다. 스테이지 플레이트(304c)는, 가동 유닛 전체의 고강성화 및 경량화를 실현하며, 제어 대역을 향상시킬 수 있는 재료, 일반적으로는 알루미나, 탄화규소, 질화규소, 또는 코디어라이트 등의 세라믹스로 구성된다. 스테이지 플레이트(304c)는, 적어도 3개의 플레이트 부재를 포함하고, 이들 플레이트 부재는 그 두께 방향(Z축 방향)으로 접합되어 있다.
도 3은 스테이지 플레이트(304c)를 도시하는 단면도이다. 도 4a는, 척(301) 및 스테이지 플레이트(304c)를 3차원적으로 도시하는 도면이다. 도 4b는 스테이지 플레이트(304c)의 내부 구조를 도시하는 전개도이다. 스테이지 플레이트(304c)는, 기판(2)을 흡착하기 위한 흡착 구멍(310)을 갖는 척(301)을 지지면(SS)에서 지지한다. 본 실시형태에서는, 스테이지 플레이트(304c)는, 지지면(SS)의 측으로부터 순서대로 두께 방향으로 적층되는, 제1 플레이트 부재(322), 제2 플레이트 부재(324) 및 제3 플레이트 부재(326)를 포함한다. 스테이지 플레이트(304c)의 하면 또는 측면에는, 기판(2)을 승강시키도록 구성되는 승강 유닛(304e), Y 헤드(304b)(계측 유닛), 냉각 실장부(304g), 흡인 실장부(304f), 압력 조정 유닛(304i) 등이 고정되어 있다.
임프린트 처리 전에, 반송 유닛(11)(로봇 핸드(11a))에 의해 임프린트 장치(100)의 내부에 반입된 기판(2)은, 척(301)보다 높은 위치로 이동된 승강 유닛(304e)(승강 핀) 위에 배치된다. 승강 유닛(304e)은, 진공 흡착력 또는 정전기에 의해 기판(2)을 보유지지한다. 그리고, 기판(2)을 보유지지하는 승강 유닛(304e)이 하강함으로써, 이러한 기판(2)을 척(301)에 이송한다. 임프린트 처리 후에는, 승강 유닛(304e)이 상승함으로써, 척(301)으로부터 기판(2)을 상승시킨다(이격시킨다). 이 상태에서, 승강 유닛(304e)은, 진공 흡착력 또는 정전기력에 의해 기판(2)을 보유지지한다. 그리고, 반송 유닛(11)이 승강 유닛(304e)에 보유지지된 기판(2)을 회수하여 그것을 임프린트 장치(100)의 외부에 반출한다.
상기와 같이 기판(2)을 방송하기 위해서 사용되는 승강 유닛(304e)에 대한 전력 공급 및 용력 공급에 관한 케이블 및 배관 튜브 등의 실장부는, 스테이지 플레이트(304c)의 하면 또는 측면에 고정된다. 즉, 실장부는 스테이지 플레이트(304c)의 지지면(SS)과 상이한 면에 고정된다. Y 헤드(304b)에 관한 신호 케이블 및 신호 기판 등의 실장부도 동일한 방식으로 스테이지 플레이트(304c)의 하면 또는 측면에 고정된다. 이들 실장부는, Y 가동 실장부(308)를 통해 전력/용력 설비(12) 및 제어 유닛(10)에 접속되어 있다.
임프린트 처리에서는, 상술한 바와 같이, 임프린트재(1)를 경화시키는 광을 몰드(4)를 통해 기판 상의 임프린트재(1)에 조사한다. 따라서, 기판 상의 임프린트재(1)에 조사된 광에 의해 발생된 열이 기판(2)에 흡수되고, 이는 기판(2)의 열변형 및 몰드(4)와 기판(2)의 상대 위치의 어긋남을 유발할 수 있다. 그러므로, 임프린트재(1)를 경화시키는 광의 조사에 의한 기판(2)의 열변형을 저감하기 위해서, 스테이지 플레이트(304c)로부터 척(301)을 통해 기판(2)을 냉각하는 것이 바람직하다.
또한, 임프린트 장치(100)에서는, 몰드(4)와 기판 상의 임프린트재(1)를 서로 접촉시키는 몰드 가압 단계 또는 기판 상의 경화된 임프린트재(1)로부터 몰드(4)를 분리하는 몰드 분리 단계에서, 몰드(4)와 기판(2)의 상대 위치의 어긋남의 발생을 감소시킬 필요가 있다. 이를 달성하기 위해서, 기판(2)을 흡착하기 위한 복수의 흡착 영역(201)을 제공함으로써, 몰드 가압 단계 또는 몰드 분리 단계의 과정에 따라서 몰드(4)와 기판(2) 사이의 위치 어긋남을 억제하도록, 복수의 흡착 영역(201) 각각의 흡착 압(각 흡착 구멍의 압력)을 조절함으로써 기판(2)을 강제적으로 변형시키는 것이 바람직하다.
본 실시형태에서는, 척(301)은, 복수의 흡착 영역(201)으로서, 3개의 흡착 영역(201a, 201b 및(201c)을 포함한다. 흡착 영역(201a, 201b 및 201c)에는 각각 흡착 구멍(310a, 310b 및 310c)이 형성된다. 흡착 영역(201a 내지 201c)은, 각각 흡착 구멍(310a 내지 310c)을 통해서, 전력/용력 설비(12)에 접속된 압력 조정 유닛(304i)에 접속되어 있다. 압력 조정 유닛(304i)은, 임프린트 처리의 대상이 되는 샷 영역을 포함하는 영역에 대응한 기판(2)의 이면과 척(301)의 표면 사이의 공간의 압력을 조정함으로써, 기판(2)(의 샷 영역)을 강제적으로 변형시킨다. 본 실시형태에서는, 압력 조정 유닛(304i)은 흡착 영역(201a 내지 201c)의 각각의 흡착 압을 서로 독립적으로 조정(제어)한다.
예를 들어, 압력 조정 유닛(304i)이 흡착 영역(201b)의 압력을 감소시켜 부압 상태로 설정하면, 기판(2)을 척(301)으로 보유지지하면서 흡착 영역(201b)에 대응하는 기판(2)의 영역을 오목 형상으로 변형시킬 수 있다. 한편, 압력 조정 유닛(304i)이 흡착 영역(201b)을 가압하여 정의 압력 상태로 설정하면, 흡착 영역(201a 및 201c)에서 기판(2)을 흡착하면서, 흡착 영역(201b)에 대응하는 기판(2)의 영역을 볼록 형상으로 변형시킬 수 있다.
이와 같이, 척(301)의 흡착 영역(201a 내지 201c)의 흡착 압을 변화시켜서 기판(2)을 국소적으로 변형시킴으로써, 기판(2)(의 샷 영역)의 형상을 몰드 가압 단계 또는 몰드 분리 단계의 과정에서 몰드(4)의 형상에 맞출 수 있다. 본 실시형태에서는, 기판(2)의 평평도를 교정하기 위해서, 척(301)의 흡착 영역(201a 내지 201c)의 흡착 압을 변화시킬 수 있으며, 예를 들어 기판(2)은 기판(2)의 평평도의 교정 범위를 초과해서 Z축 방향으로 변형되지 않는다는 것을 유의하라.
스테이지 플레이트(304c)가 척(301)을 지지하는 상태에서, 각 흡착 영역(201a 내지 201c)의 흡착 압을 변화시키기 위해서는, 이하에 설명하는 구성이 필요하다. 예를 들어, 각 흡착 영역(201a 내지 201c)에 형성된 각 흡착 구멍(310a 내지 310c)을 스테이지 플레이트(304c)의 지지면(SS)의 하부로부터 스테이지 플레이트(304c)의 이면까지 서로 독립적으로 연통시켜서, 압력 조정 유닛(304i)에 접속시키는 구성이 필요하다. 이러한 구성을 달성하기 위해서는, 스테이지 플레이트(304c)에 대하여, 척(301)을 냉각하기 위해서 형성되어 있는 유로와의 간섭을 피하면서 복수의 관통 구멍을 형성하고, 이들 관통 구멍과 흡착 구멍(310a 내지 310c)을 서로 연통시킬 필요가 있다.
척(301)을 냉각하기 위한 유로는, 일반적으로 X-Y 평면을 따른 방향으로 형성되고, 이러한 유로를 통해 유동하는 냉매의 공급구 및 회수구는 스테이지 플레이트(304c)의 외측 에지에 가까운 주연부에 형성된다. 또한, 냉매의 공급구 및 회수구는 Y 가동 실장부(308)로부터 배설된 튜브에 접속된다. 또한, 상술한 바와 같이, 스테이지 플레이트(304c)의 하면 또는 측면에는, 승강 유닛(304e), Y 헤드(304b)(계측 유닛), 냉각 실장부(304g), 흡인 실장부(304f), 압력 조정 유닛(304i) 등이 고정되어 있다. 따라서, 예를 들어 스테이지 플레이트(304c)의 연직 방향(Z축 방향)에 부압(진공) 흡인을 행하기 위한 배관을 실장할 수 있는 공간은 한정된다. 복수의 배관이 스테이지 플레이트(304c)의 작은 간극에 실장될 수 있는 경우에도, 많은 실장부가 고정될 필요가 있어, 스테이지 플레이트(304c)의 두께를 증가시키고 전체 가동 유닛의 중량을 증가시킨다는 것을 유의하라. 부가적으로, 실장부의 수의 증가로 인해, 예를 들어 스테이지 플레이트(304c)의 강성을 확보하기 위해서 필요한 리브 구조를 배치할 수 없게 되는 설계 제약이 크고, 레이아웃 자유도가 크게 저하된다.
따라서, 예를 들어 부압 흡인을 행하기 위한 배관은 스테이지 플레이트(304c)의 중앙부에 배열하지 않고, 척(301)을 냉각하기 위한 유로를 통해 유동하는 냉매의 공급구 및 회수구와 마찬가지로 스테이지 플레이트(304c)의 외측 에지에 가까운 주연부에 집약하여 배열하는 것이 바람직하다. 또한, 척(301)을 냉각하기 위한 유로와 마찬가지로, 부압 흡인을 행하기 위한 유로를, X-Y 평면을 따른 방향으로 형성함으로써, 스테이지 플레이트(304c)의 구조를 단순화시켜서, 설계 자유도를 향상시킬 수 있다.
그러므로, 본 실시형태에서는, 스테이지 플레이트(304c)를 이하와 같이 배열하고 있다. 제1 플레이트 부재(322)의 제2 플레이트 부재(324) 측의 면을 제1 면(322a)으로 한다는 것을 유의하라. 제2 플레이트 부재(324)의 제1 플레이트 부재(322) 측의 면을 제2 면(324a)으로 하고, 제2 플레이트 부재(324)의 제3 플레이트 부재(326) 측의 면을 제3 면(324b)으로 한다. 제3 플레이트 부재(326)의 제2 플레이트 부재(324) 측의 면을 제4 면(326a)으로 한다.
제1 플레이트 부재(322) 및 제2 플레이트 부재(324)에 관해서 제1 면(322a)은 평면이며, 제2 면(324a)에 제1 오목부(324d)를 형성하고 있다. 결과적으로, 제1 플레이트 부재(322)와 제2 플레이트 부재(324) 사이(접합면)(304h)에 X-Y 평면을 따른 방향으로 연장되는 제1 유로(362)가 형성된다. 척(301)을 냉각하기 위한 냉매가 제1 유로(362)를 통해 유동한다. 즉, 제1 유로(362)는 척(301)을 냉각하기 위한 냉매 유로로서 기능한다. 제1 유로(362)는, 복수의 유로를 포함할 수 있고, 각 유로의 유량 및 온도 설정 값을 서로 독립적으로 제어할 수 있다. 또한, 제1 유로(362)는, 제2 플레이트 부재(324)의 주연부에 두께 방향으로 관통하도록 형성된 관통 구멍(제4 관통 구멍)(324f)과 연통하고, 관통 구멍(324f)을 통해서 제1 유로(362)를 통해 유동하는 냉매를 공급하는 냉각 실장부(304g)들 중 대응하는 것에 접속되어 있다. 제3 플레이트 부재(326)의 하면에 냉각 실장부(304g)가 실장되어 있는 경우에는, 관통 구멍(324f)에 대응해서 두께 방향으로 관통하는 관통 구멍(제5 관통 구멍)을 제3 플레이트 부재(326)에 형성할 수 있고, 이들 관통 구멍과 제1 유로(362)를 서로 연통시킬 수 있다는 것을 유의하라.
제2 플레이트 부재(324) 및 제3 플레이트 부재(326)에 관해서 제3 면(324b)은 평면이고, 제4 면(326a)에 제2 오목부(326d)가 형성되어 있다. 결과적으로, 제2 플레이트 부재(324)와 제3 플레이트 부재(326) 사이(접합면)(304k)에 X-Y 평면을 따른 방향으로 연장되는 제2 유로(364)가 형성된다. 제2 플레이트 부재(324)는, 제1 유로(362)가 형성되는 부분과 상이한 부분에 두께 방향으로 관통하도록 형성된 관통 구멍(제1 관통 구멍)(324g)을 포함한다. 관통 구멍(324g)은 제1 유로(362)가 형성되는 부분과 상이한 부분에 제공됨으로써, 관통 구멍(324g) 중 대응하는 것에 접속된 압력 조정 유닛(304i)에 의한 흡인 기능과, 제1 유로(362)에서의 냉각 기능이 서로 간섭하는 것을 방지한다. 제1 플레이트 부재(322)는, 관통 구멍(324g)에 대응해서 두께 방향으로 관통하도록 형성된 관통 구멍(제2 관통 구멍)(322g)을 포함한다. 제3 플레이트 부재(326)는, 제3 플레이트 부재(326)의 주연부에 두께 방향으로 관통하도록 형성된 관통 구멍(제3 관통 구멍)(326g)을 포함한다. 그리고, 제2 유로(364)는, 관통 구멍(324g 및 322g)을 통해서 흡착 구멍(310)과 연통하고, 관통 구멍(326g)과 연통하는 흡인 실장부(304f) 및 압력 조정 유닛(304i) 중 대응하는 것에 접속된다. 따라서, 제2 유로(364)는, 기판(2)을 흡착하기 위한 흡착 영역(201) 및 흡착 구멍(310)에 대하여 부압(진공) 흡인을 행하는 흡인 유로로서 기능한다. 제3 플레이트 부재(326)의 측면에 흡인 실장부(304f) 및 압력 조정 유닛(304i)이 실장되어 있는 경우에는, 제4 면(326a)과 측면을 서로 연통시키는 연통로를 제3 플레이트 부재(326)에 형성하여, 이러한 연통로와 제2 유로(364)를 서로 연통시킬 수 있다.
상술한 바와 같이, 제2 유로(364)는, 제1 유로(362)와 간섭하지 않고, 제1 유로(362)의 간극으로부터 스테이지 플레이트(304c)의 상면(척(301))까지 연통하고, 기판(2) 및 척(301)을 흡착할 수 있다. 제2 유로(364)는, 복수의 유로를 포함할 수 있고, 각 유로의 유량 및 압력 설정 값을 서로 독립적으로 제어할 수 있다. 예를 들어, 제2 유로(364)를 각각의 흡착 영역(201a 내지 201c)에 대응해서 형성함으로써, 각각의 흡착 영역(201a 내지 201c)의 흡착 압을 서로 독립적으로 조정할 수 있다.
본 실시형태에서와 같이, 제1 유로(362)는 냉각 유로로서의 역할을 하고, 제2 유로(364)는 흡인 유로로서의 역할을 하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 제1 유로(362)가 흡인 유로로서의 역할을 하고, 제2 유로(364)가 냉각 유로로서의 역할을 하는 경우에 비하여, 척(301)에 대한 냉각 효율을 높일 수 있다. 그러나, 제1 유로(362)는 흡인 유로로서의 역할을 할 수 있고, 제2 유로(364)는 냉각 유로로서의 역할을 할 수 있다. 즉, 각각의 제1 유로(362) 및 각각의 제2 유로(364) 중 하나가 흡착 구멍(310)들 중 대응하는 것과 연통하면 된다. 제1 유로(362)가 흡인 유로로서의 역할을 하고 제2 유로(364)가 냉각 유로로서의 역할을 하는 경우에도, 각각의 유로서 서로 간섭되지 않고 서로 독립적으로 배열되면 된다.
또한, 본 실시형태에서는, 제2 면(324a)에 제1 오목부(324d)가 형성되고, 제4 면(326a)에 제2 오목부(326d)가 형성된다. 그러나, 제1 오목부(324d)는 제1 면(322a)에 형성될 수 있으며, 제2 오목부(326d)는 제3 면(324b)에 형성될 수 있다. 따라서, 제1 면(322a) 및 제2 면(324a) 중 하나에 제1 오목부(324d)가 형성될 수 있으며, 제3 면(324b) 및 제4 면(326a) 중 하나에 제2 오목부(326d)가 형성될 수 있다. 그리고, 제1 면(322a) 및 제2 면(324a) 중 다른 것이 평면일 수 있고, 제3 면(324b) 및 제4 면(326a) 중 다른 것이 평면일 수 있다. 이러한 구성에서도, 제1 플레이트 부재(322)와 제2 플레이트 부재(324) 사이의 면(304h)에 제1 유로(362)가 형성될 수 있으며, 제2 플레이트 부재(324)와 제3 플레이트 부재(326) 사이의 면(304k)에 제2 유로(364)가 형성될 수 있다.
제2 면(324a) 및 제3 면(324b)에는 각각 제1 오목부(324d) 및 제2 오목부(326d)를 형성하고, 제1 면(322a) 및 제4 면(326a)을 평면으로 함으로써, 제1 유로(362) 및 제2 유로(364)을 형성하는 것도 가능하다. 그러나, 이 경우에는, 제2 플레이트 부재(324)의 두께 방향의 양면에 오목부가 형성되기 때문에, 그 제조의 점에서 불리해질 가능성이 있다. 따라서, 제2 플레이트 부재(324)에는, 각각의 제1 오목부(324d) 및 각각의 제2 오목부(326d) 중 하나만을 형성하는 것이 바람직하다.
본 실시형태에서는, 스테이지 장치(3)에서, 스테이지 플레이트(304c)에서의 레이아웃의 장애가 되는 실장부의 볼륨을 저감하고, 배관 및 유로를 형성하기 위한 스테이지 플레이트(304c)의 두께의 증대를 억제할 수 있다. 따라서, 고강성화 및 경량화의 양립에 유리한 스테이지 장치(3)를 제공할 수 있다.
임프린트 장치(100)에서, 몰드(4)와 기판 상의 임프린트재(1)를 서로 접촉시키는 몰드 가압 단계에서는, 스테이지 플레이트(304c)에 대하여 가압력이 하측 방향(Z축을 따른 부의 방향)으로 가해진다. 기판 상의 경화된 임프린트재(1)로부터 몰드(4)를 분리하는 몰드 분리 단계에서는, 스테이지 플레이트(304c)에 대하여, 분리력이 상측 방향(Z축을 따른 정의 방향)으로 가해진다.
상술한 가압력 및 분리력으로 인해 스테이지 플레이트(304c)가 변형될 수 있고, 몰드(4)와 기판(2)의 상대 위치에 어긋남이 발생할 수 있다. 스테이지 플레이트(304c)의 변형을 억제하기 위해서는, 스테이지 플레이트(304c)를 두껍게 해서 그 강성을 증가시키는 것이 바람직하다. 한편, 스테이지 플레이트(304c)를 두껍게 하면, 가동 유닛(302)의 중량이 증가하여, 경량화를 저해한다. 스테이지 플레이트(304c)에는 고강성화와 경량화의 양립이 요구된다.
따라서, 도 5에 도시한 바와 같이, 스테이지 플레이트(304c)의 최하면, 더 구체적으로는 스테이지 플레이트(304c)를 형성하는 제3 플레이트 부재(326)의 제4 면(326a)과 반대측의 면(326b)에, 리브 구조(370)를 형성하여, 스테이지 플레이트(304c)를 두껍게 한다. 스테이지 플레이트(304c)의 하면 또는 측면에는, 상술한 바와 같이, 승강 유닛(304e), Y 헤드(304b)(계측 유닛), 냉각 실장부(304g), 흡인 실장부(304f), 압력 조정 유닛(304i) 등이 고정되어 있다. 그러나, 리브 구조(370)는 그들 사이(간극)에 형성되어 있기 때문에, 레이아웃의 장애가 안된다. 본 실시형태에서는, 리브 구조(370)는 제3 플레이트 부재(326)의 외측 에지를 따라서 형성된다. 따라서, 도 5에 도시하는 스테이지 플레이트(304c)를 갖는 스테이지 장치(3)는, 리브 구조(370)에 의한 중량의 증가를 최소화하면서 더 높은 강성을 확보할 수 있다.
도 7에 도시한 바와 같이, 스테이지 플레이트(304c)는, 제1 플레이트 부재(322), 제2 플레이트 부재(324) 및 제3 플레이트 부재(326) 이외에, 제2 플레이트 부재(324)와 제3 플레이트 부재(326) 사이에 제4 플레이트 부재(702)를 더 포함할 수 있다. 제1 플레이트 부재(322), 제2 플레이트 부재(324), 제4 플레이트 부재(702) 및 제3 플레이트 부재(326)는 지지면(SS) 측으로부터 순서대로 두께 방향으로 적층된다. 도 7에서는, 제3 플레이트 부재(326) 및 제4 플레이트 부재(702)에 관해서, 제4 플레이트 부재(702)의 제2 플레이트 부재(324) 측의 면(702a) 및 제3 플레이트 부재(326) 측의 면(702b)을 평면으로 하고, 제4 면(326a)에 제2 오목부(326d)를 형성하고 있다. 결과적으로, 제4 플레이트 부재(702)와 제3 플레이트 부재(326) 사이(접합면)(704)에 X-Y 평면을 따른 방향으로 연장되는 제2 유로(364)가 형성된다. 제4 플레이트 부재(702)는, 관통 구멍(324g)(관통 구멍(322g))에 대응하여 두께 방향으로 관통하도록 형성되는 관통 구멍(706)을 포함한다. 따라서, 제2 유로(364)는, 관통 구멍(706, 324g, 및 322g)을 통해서 흡착 구멍(310)과 연통하고, 관통 구멍(326g)과 연통하는 흡인 실장부(304f) 및 압력 조정 유닛(304i) 중 대응하는 것에 접속된다. 또한, 제4 플레이트 부재(702)는 관통 구멍(324f)에 대응해서 두께 방향으로 관통하도록 형성된 관통 구멍(708)을 포함한다. 따라서, 제1 유로(362)는, 관통 구멍(324f 및 708)과 연통하고, 관통 구멍(324f 및 708)을 통해서 냉매 실장부(304g) 중 대응하는 것에 접속된다.
도 7에서는, 스테이지 플레이트(304c)가 제2 플레이트 부재(324)와 제3 플레이트 부재(326) 사이에 1개의 제4 플레이트 부재(702)를 포함하는 예를 설명하였다. 그러나, 스테이지 플레이트(304c)는, 제2 플레이트 부재(324)와 제3 플레이트 부재(326) 사이에 2개 이상의 제4 플레이트 부재를 포함할 수 있다. 이 경우, 제2 오목부(326d)는, 제2 유로(364)를 제3 플레이트 부재(326)와 2개 이상의 제4 플레이트 부재 중에서 제3 플레이트 부재(326) 상에 적층되는 제4 플레이트 부재 사이에 형성한다. 한편, 제3 면(324b)에 제2 오목부(326d)가 형성되어 있는 경우에는, 제2 오목부(326d)는 제2 유로(364)를 제2 플레이트 부재(324)와 2개 이상의 제4 플레이트 부재 중에서 제2 플레이트 부재(324) 상에 적층되는 제4 플레이트 부재 사이에 형성한다. 스테이지 플레이트(304c)가 2개 이상의 제4 플레이트 부재를 포함하는 경우에도, 제1 유로(362)가 냉매 실장부(304g)에 접속될 수 있고, 제2 유로(364)가 흡착 구멍(310), 흡인 실장부(304f) 및 압력 조정 유닛(304i)에 접속될 수 있도록, 관통 구멍이 각각의 제4 플레이트 부재에 형성된다는 것을 유의하라.
도 8에 도시한 바와 같이, 스테이지 플레이트(304c)는, 제1 플레이트 부재(322), 제2 플레이트 부재(324) 및 제3 플레이트 부재(326) 이외에, 제1 플레이트 부재(322)와 제2 플레이트 부재(324) 사이에 제5 플레이트 부재(802)를 더 포함할 수 있다. 제1 플레이트 부재(322), 제5 플레이트 부재(802), 제2 플레이트 부재(324) 및 제3 플레이트 부재(326)는 지지면(SS) 측으로부터 순서대로 두께 방향으로 적층된다. 도 8에서는, 제2 플레이트 부재(324) 및 제5 플레이트 부재(802)에 관해서, 제5 플레이트 부재(802)의 제1 플레이트 부재(322) 측의 면(802a) 및 제2 플레이트 부재(324) 측의 면(802b)을 평면으로 하고, 제2 면(324a)에 제1 오목부(324d)를 형성하고 있다. 결과적으로, 제5 플레이트 부재(802)와 제2 플레이트 부재(324) 사이(접합면)(804)에, X-Y 평면을 따른 방향으로 연장되는 제1 유로(362)가 형성된다. 제5 플레이트 부재(802)는, 관통 구멍(324g)(관통 구멍(322g))에 대응해서 두께 방향으로 관통하도록 형성된 관통 구멍(806)을 포함한다. 따라서, 제2 유로(364)는, 관통 구멍(324g, 806, 및 322g)을 통해서 흡착 구멍(310)과 연통하고, 관통 구멍(326g)과 연통해서 흡인 실장부(304f) 및 압력 조정 유닛(304i) 중 대응하는 것에 접속된다.
도 8에서는, 스테이지 플레이트(304c)가 제1 플레이트 부재(322)와 제2 플레이트 부재(324) 사이에 1개의 제5 플레이트 부재(802)를 포함하는 예를 설명하였다. 그러나, 스테이지 플레이트(304c)는, 제1 플레이트 부재(322)와 제2 플레이트 부재(324) 사이에 2개 이상의 제5 플레이트 부재를 포함해도 된다. 이 경우, 제1 오목부(324d)는, 제1 유로(362)를, 제2 플레이트 부재(324)와 2개 이상의 제5 플레이트 부재 중에서 제2 플레이트 부재(324) 상에 적층되는 제5 플레이트 부재 사이에 형성한다. 한편, 제1 면(322a)에 제1 오목부(324d)가 형성되어 있는 경우에는, 제1 오목부(324d)는 제1 유로(362)를 제1 플레이트 부재(322)와 2개 이상의 제5 플레이트 부재 중에서 제1 플레이트 부재(322) 상에 적층되는 제5 플레이트 부재 사이에 형성한다. 스테이지 플레이트(304c)가 2개 이상의 제5 플레이트 부재를 포함하는 경우에도, 제2 유로(364)가 흡착 구멍(310), 흡인 실장부(304f), 및 압력 조정 유닛(304i)에 접속할 수 있도록 각각이 제5 플레이트 부재에 관통 구멍을 형성한다는 것을 유의하라.
임프린트 장치(100)를 사용해서 형성한 경화물의 패턴은, 다양한 물품의 적어도 일부에 영구적으로 사용되거나 다양한 물품을 제조할 때 일시적으로 사용한다. 물품은 전기 회로 소자, 광학 소자, MEMS, 기록 소자, 센서, 다이 등을 포함한다. 전기 회로 소자는, DRAM, SRAM, 플래시 메모리, MRAM 등의 휘발성 또는 불휘발성 반도체 메모리, 또는 LSI, CCD, 이미지 센서, 또는 FPGA 등의 반도체 소자를 포함한다. 다이는 임프린트용 몰드 등을 포함한다.
경화물의 패턴은, 상술한 물품의 적어도 일부의 구성 부재로서 그대로 사용되거나 레지스트 마스크로서 일시적으로 사용된다. 기판의 가공 단계에서 에칭, 이온 주입 등이 행하여진 후에 레지스트 마스크는 제거된다.
이제, 물품의 구체적인 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 6a에 도시한 바와 같이, 절연체 등의 피가공재가 표면에 형성된 실리콘 웨이퍼 등의 기판(2)을 준비하고, 계속해서 잉크젯법 등에 의해 피가공재의 표면에 임프린트재(1)를 부여한다. 복수의 액적으로 형성된 임프린트재(1)가 기판 상에 부여된 상태가 나타나 있다.
도 6b에 도시한 바와 같이, 임프린트용 몰드(4)의, 그 3차원 패턴이 형성된 측을 기판 상의 임프린트재(1)에 대향시킨다. 도 6c에 도시한 바와 같이, 임프린트재(1)가 부여된 기판(2)과 몰드(4)를 서로 접촉시켜, 압력을 가한다. 임프린트재(1)는 몰드(4)와 피가공재 사이의 간극에 충전된다. 이 상태에서 경화 에너지로서 광을 몰드(4)를 통해 조사하여 임프린트재(1)를 경화시킨다.
도 6d에 도시한 바와 같이, 임프린트재(1)를 경화시킨 후, 몰드(4)와 기판(2)을 분리함으로써, 기판 상에 임프린트재(1)의 경화물의 패턴이 형성된다. 이 경화물의 패턴은, 몰드(4)의 오목부가 경화물의 볼록부에 대응하고, 몰드(4)의 볼록부가 경화물의 오목부에 대응하는 형상을 갖는다. 즉, 임프린트재(1)에 몰드(4)의 3차원 패턴이 전사된다.
도 6e에 도시된 바와 같이, 경화물의 패턴을 내 에칭 마스크로서 사용하여 에칭을 행함으로써, 피가공재의 표면 중, 경화물이 없는 부분 또는 경화물이 얇게 유지되는 부분이 제거되어 홈이 된다. 도 6f에 도시한 바와 같이, 경화물의 패턴을 제거함으로써 피가공재의 표면에 홈이 형성된 물품을 얻을 수 있다. 여기에서는 경화물의 패턴이 제거된다. 그러나, 경화물의 패턴을 가공 후에도 제거하지 않고, 그것을 예를 들어 반도체 소자 등에 포함되는 층간 유전체 막, 즉 물품의 구성 부재로서 이용해도 된다.
본 발명은, 리소그래피 장치를 임프린트 장치에 한정하지 않고, 노광 장치 및 묘화 장치 등의 리소그래피 장치에도 적용될 수 있다. 노광 장치는, 마스크 또는 레티클(원판)과 투영 광학계를 통해 기판을 노광함으로써 기판 상에 패턴(잠상 패턴)을 형성하는 리소그래피 장치라는 것을 유의하라. 묘화 장치는, 하전 입자 선(전자선)으로 기판에 묘화를 행함으로써 기판 상에 패턴(잠상 패턴)을 형성하는 리소그래피 장치이다. 이들 리소그래피 장치는 상술한 다양한 물품을 제조하는데 사용될 수 있다.
본 발명을 예시적인 실시형태를 참고하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시형태로 한정되지 않는다는 것을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 이러한 모든 변형과 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.

Claims (19)

  1. 기판을 흡착하기 위한 흡착 구멍을 갖는 척을 통해 기판을 보유지지하는 스테이지 장치이며,
    상기 척을 지지면에서 지지하도록 구성된 플레이트를 포함하고,
    상기 플레이트는 상기 지지면 측으로부터 두께 방향으로 제1 플레이트 부재, 제2 플레이트 부재, 및 제3 플레이트 부재를 포함하고,
    상기 제1 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제1 면 및 상기 제2 플레이트 부재의 상기 제1 플레이트 부재 측의 제2 면 중 하나 이상의 면은, 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제1 유로를 형성하도록 구성된 제1 오목부를 포함하고,
    상기 제2 플레이트 부재의 상기 제3 플레이트 부재 측의 제3 면 및 상기 제3 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제4 면 중 하나 이상의 면은, 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제2 유로를 형성하도록 구성된 제2 오목부를 포함하며,
    상기 제1 유로 및 상기 제2 유로 중 하나는 상기 흡착 구멍과 연통하는, 스테이지 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 플레이트 부재, 상기 제2 플레이트 부재, 및 상기 제3 플레이트 부재는 상기 지지면 측으로부터 순서대로 상기 두께 방향으로 적층되고,
    상기 제1 오목부는 상기 제1 유로를 상기 제1 플레이트 부재와 상기 제2 플레이트 부재 사이에 형성하며,
    상기 제2 오목부는 상기 제2 유로를 상기 제2 플레이트 부재와 상기 제3 플레이트 부재 사이에 형성하는, 스테이지 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 면 및 상기 제2 면 중 하나의 면에만 상기 제1 오목부가 형성되고,
    상기 제3 면 및 상기 제4 면 중 하나의 면에만 상기 제2 오목부가 형성되는, 스테이지 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 면 및 상기 제2 면 중 다른 면은 평면이며,
    상기 제3 면 및 상기 제4 면 중 다른 면은 평면인, 스테이지 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제2 플레이트 부재에는 상기 제1 오목부 및 상기 제2 오목부 중 하나의 오목부만이 형성되어 있는, 스테이지 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 제2 면에 상기 제1 오목부가 형성되고,
    상기 제4 면에 상기 제2 오목부가 형성되며,
    상기 제1 면 및 상기 제3 면은 평면인, 스테이지 장치.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 제2 플레이트 부재는, 상기 제1 유로가 형성되는 부분과 상이한 부분에 상기 두께 방향으로 관통하도록 형성된 제1 관통 구멍을 포함하고,
    상기 제1 플레이트 부재는, 상기 제1 관통 구멍에 대응해서 상기 두께 방향으로 관통하도록 형성된 제2 관통 구멍을 포함하며,
    상기 제2 유로는, 상기 제1 관통 구멍 및 상기 제2 관통 구멍을 통해서 상기 흡착 구멍과 연통하는, 스테이지 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 척을 냉각하기 위한 냉매가 상기 제1 유로를 통해 유동하는, 스테이지 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 척은 상기 기판을 흡착하기 위한 복수의 흡착 영역을 포함하고,
    상기 흡착 구멍은 상기 복수의 흡착 영역 각각에 형성되며,
    상기 제2 유로는 상기 복수의 흡착 영역 각각에 대응해서 형성되는, 스테이지 장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제3 플레이트 부재는, 상기 제3 플레이트 부재의 주연부에 상기 두께 방향으로 관통하도록 형성된 제3 관통 구멍을 포함하고,
    상기 제2 유로는 상기 제3 관통 구멍과 연통하는, 스테이지 장치.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 제3 플레이트 부재는, 상기 제3 플레이트 부재의 상기 제4 면과 측면을 서로 연통시키도록 구성된 연통로를 포함하고,
    상기 제2 유로는 상기 연통로와 연통하는, 스테이지 장치.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 제2 플레이트 부재는, 상기 제2 플레이트 부재의 주연부에 상기 두께 방향으로 관통하도록 형성된 제4 관통 구멍을 포함하고,
    상기 제1 유로는 상기 제4 관통 구멍과 연통하는, 스테이지 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제3 플레이트 부재는, 상기 제4 관통 구멍에 대응해서 상기 두께 방향으로 관통하도록 형성된 제5 관통 구멍을 포함하고,
    상기 제1 유로는 상기 제4 관통 구멍 및 상기 제5 관통 구멍과 연통하는, 스테이지 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 제3 플레이트 부재는 상기 제4 면의 반대 측의 면에 형성된 리브 구조를 갖고,
    상기 리브 구조는 상기 제3 플레이트 부재의 외측 에지를 따라 형성되는, 스테이지 장치.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 플레이트는 상기 제2 플레이트 부재와 상기 제3 플레이트 부재 사이에 하나 이상의 제4 플레이트 부재를 더 포함하고,
    상기 제1 플레이트 부재, 상기 제2 플레이트 부재, 상기 하나 이상의 제4 플레이트 부재, 및 상기 제3 플레이트 부재는 상기 지지면 측으로부터 상기 두께 방향으로 적층되고,
    상기 제1 오목부는 상기 제1 유로를 상기 제1 플레이트 부재와 상기 제2 플레이트 부재 사이에 형성하며,
    상기 제2 오목부는, 상기 제2 유로를, 상기 제2 플레이트 부재와 상기 하나 이상의 제4 플레이트 부재 중 상기 제2 플레이트 부재가 적층되는 제4 플레이트 부재 사이의 부분, 및 상기 제3 플레이트 부재와 상기 하나 이상의 제4 플레이트 부재 중 상기 제3 플레이트 부재 상에 적층되는 제4 플레이트 부재 사이의 부분 중 하나 이상에 형성하는, 스테이지 장치.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 플레이트는 상기 제1 플레이트 부재와 상기 제2 플레이트 부재 사이에 하나 이상의 제5 플레이트 부재를 더 포함하고,
    상기 제1 플레이트 부재, 상기 하나 이상의 제5 플레이트 부재, 상기 제2 플레이트 부재, 및 상기 제3 플레이트 부재는 상기 지지면 측으로부터 상기 두께 방향으로 적층되고,
    상기 제1 오목부는, 상기 제1 유로를, 상기 제1 플레이트 부재와 상기 하나 이상의 제5 플레이트 부재 중 상기 제1 플레이트 부재가 적층되는 제5 플레이트 부재 사이의 부분, 및 상기 제2 플레이트 부재와 상기 하나 이상의 제5 플레이트 부재 중 상기 제2 플레이트 부재 상에 적층되는 제5 플레이트 부재 사이의 부분 중 하나 이상에 형성하며,
    상기 제2 오목부는 상기 제2 유로를 상기 제2 플레이트 부재와 상기 제3 플레이트 부재 사이에 형성하는, 스테이지 장치.
  17. 패턴을 기판에 형성하는 리소그래피 장치이며,
    제1항에 기재되고 상기 기판을 보유지지하도록 구성된 스테이지 장치를 포함하는, 리소그래피 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 스테이지 장치에 보유지지된 기판 상의 임프린트재에 몰드를 사용해서 패턴을 형성하는 임프린트 처리를 행하는, 리소그래피 장치.
  19. 물품 제조 방법이며,
    리소그래피 장치를 사용하여 기판에 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 물품을 제조하기 위해서 상기 패턴이 형성된 기판을 가공하는 단계를 포함하고,
    상기 리소그래피 장치는,
    상기 기판을 흡착하는 흡착 구멍을 갖는 척을 통해 상기 기판을 보유지지하도록 구성된 스테이지 장치를 포함하고,
    상기 스테이지 장치는,
    상기 척을 지지면에서 지지하도록 구성된 플레이트를 포함하고,
    상기 플레이트는 상기 지지면 측으로부터 두께 방향으로 제1 플레이트 부재, 제2 플레이트 부재, 및 제3 플레이트 부재를 포함하고,
    상기 제1 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제1 면 및 상기 제2 플레이트 부재의 상기 제1 플레이트 부재 측의 제2 면 중 하나 이상의 면은, 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제1 유로를 형성하도록 구성된 제1 오목부를 포함하고,
    상기 제2 플레이트 부재의 상기 제3 플레이트 부재 측의 제3 면 및 상기 제3 플레이트 부재의 상기 제2 플레이트 부재 측의 제4 면 중 하나 이상의 면은, 상기 면을 따른 방향으로 연장되는 제2 유로를 형성하도록 구성된 제2 오목부를 포함하며,
    상기 제1 유로 및 상기 제2 유로 중 하나는 상기 흡착 구멍과 연통하는, 물품 제조 방법.
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