KR102178865B1 - 고속 스위칭 성능을 갖는 캐스코드 타입의 스위치 회로 - Google Patents
고속 스위칭 성능을 갖는 캐스코드 타입의 스위치 회로 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102178865B1 KR102178865B1 KR1020150026605A KR20150026605A KR102178865B1 KR 102178865 B1 KR102178865 B1 KR 102178865B1 KR 1020150026605 A KR1020150026605 A KR 1020150026605A KR 20150026605 A KR20150026605 A KR 20150026605A KR 102178865 B1 KR102178865 B1 KR 102178865B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- transistor
- signal path
- switch circuit
- node
- gate
- Prior art date
Links
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 7
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 235000015067 sauces Nutrition 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/04—Modifications for accelerating switching
- H03K17/041—Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit
- H03K17/04106—Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit in field-effect transistor switches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/18—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/492—Bases or plates or solder therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49838—Geometry or layout
- H01L23/49844—Geometry or layout for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/072—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
- H03K17/6871—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
- H03K17/693—Switching arrangements with several input- or output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48153—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
- H01L2224/48175—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being metallic
- H01L2224/48177—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1032—III-V
- H01L2924/1033—Gallium nitride [GaN]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
본 발명은 스위치 회로에 관한 것이다. 본 발명의 스위치 회로는, 제1 트랜지스터 및 제2 트랜지스터, 제1 신호 경로를 통해 제2 트랜지스터의 제2 노드와 연결되고, 제2 신호 경로를 통해 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 연결되는 소스 패드, 제3 신호 경로를 통해 제2 트랜지스터의 게이트 노드와 연결되는 게이트 패드, 그리고 제4 신호 경로를 통해 제1 트랜지스터의 제1 노드와 연결되는 드레인 패드를 포함한다. 제1 트랜지스터의 제2 노드와 제2 트랜지스터의 제1 노드는 제5 신호 경로를 통해 서로 연결되고, 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 제2 트랜지스터의 제2 노드는 제1 신호 경로 및 제2 신호 경로와 분리된 제6 신호 경로를 통해 서로 연결된다.
Description
본 발명은 반도체 회로에 관한 것으로, 더 상세하게는 제1 트랜지스터 및 제2 트랜지스터를 포함하는 스위치 회로에 관한 것이다.
전력전자 시스템에 사용되는 스위치 회로는 높은 항복 전압(breakdown voltage), 통상 오프(normally off)의 동작 특성, 낮은 온(on) 저항, 높은 전류 특성, 고속 스위칭 특성을 필요로 한다. 특히, 고속 스위칭 동작이 가능한 스위치 회로가 사용되면, 전력전자 시스템의 인덕터 및 커패시터의 크기가 감소될 수 있으며, 따라서, 전력전자 시스템의 사이즈 및 제조 비용이 감소될 수 있다. 통상 온(normally on)의 동작 특성을 갖는 소자를 이용하여 스위치 회로가 제조되면, 낮은 제조 비용과 사이즈로 높은 전류 특성을 갖는 스위치 회로가 제조될 수 있다. 따라서, 낮은 항복 전압과 통상 오프의 동작 특성을 갖는 소자 및 높은 항복 전압과 통상 온의 동작 특성을 갖는 소자를 조합한 스위치 회로가 연구되고 있다.
그런데, 복수의 소자들을 이용하여 스위치 회로가 제조되면, 복수의 소자들 및 복수의 소자들을 연결하는 배선들에 의해 기생 인덕턴스가 발생한다. 기생 인덕턴스는 스위치 회로의 동작 속도를 저해하는 주요한 원인이다.
본 발명의 목적은, 감소된 기생 인덕턴스를 가지며, 따라서 향상된 동작 속도를 갖는 스위치 회로를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 스위치 회로는, 제1 트랜지스터 및 제2 트랜지스터; 제1 신호 경로를 통해 상기 제2 트랜지스터의 제2 노드와 연결되고, 제2 신호 경로를 통해 상기 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 연결되는 소스 패드; 제3 신호 경로를 통해 상기 제2 트랜지스터의 게이트 노드와 연결되는 게이트 패드; 그리고 제4 신호 경로를 통해 상기 제1 트랜지스터의 제1 노드와 연결되는 드레인 패드를 포함하고, 상기 제1 트랜지스터의 제2 노드와 상기 제2 트랜지스터의 제1 노드는 제5 신호 경로를 통해 서로 연결되고, 상기 제1 트랜지스터의 상기 게이트 노드와 상기 제2 트랜지스터의 상기 제2 노드는 상기 제1 신호 경로 및 상기 제2 신호 경로와 분리된 제6 신호 경로를 통해 서로 연결된다.
실시 예로서, 상기 제2 트랜지스터는, 기판 위에 배치된 도전 플레이트; 상기 도전 플레이트 위에 배치되며, 상기 도전 플레이트와 전기적으로 연결되는 드레인 단자; 상기 드레인 단자 위에 배치되는 제1 활성 영역; 상기 제1 활성 영역 위의 제1 부분에 배치되는 게이트 단자; 그리고 상기 제1 활성 영역 위의 제2 부분에 배치되는 소스 단자를 포함한다.
실시 예로서, 상기 제1 신호 경로는 상기 제2 트랜지스터의 상기 소스 단자와 상기 소스 패드를 연결하는 배선을 포함하고, 상기 제3 신호 경로는 상기 제2 트랜지스터의 상기 게이트 단자와 상기 소스 패드를 연결하는 배선을 포함한다.
실시 예로서, 상기 제1 트랜지스터는, 상기 기판 위의 제2 부분에 배치된 제2 활성 영역; 상기 제2 활성 영역 위의 제1 부분에 배치된 게이트 단자; 상기 제2 활성 영역 위의 제2 부분에 배치된 드레인 단자; 그리고 상기 제2 활성 영역 위의 제3 부분에 배치된 소스 단자를 포함한다.
실시 예로서, 상기 제2 신호 경로는 상기 제1 트랜지스터의 상기 게이트 단자와 상기 소스 패드를 연결하는 배선을 포함하고, 상기 제4 신호 경로는 상기 제1 트랜지스터의 상기 드레인 단자와 상기 드레인 패드를 연결하는 배선을 포함한다.
실시 예로서, 상기 제5 신호 경로는 상기 제1 트랜지스터의 상기 소스 단자와 상기 도전 플레이트를 연결하는 배선을 포함한다.
실시 예로서, 상기 제6 신호 경로는 상기 제1 트랜지스터의 상기 게이트 단자와 상기 제2 트랜지스터의 상기 소스 단자를 연결하는 배선을 포함한다.
실시 예로서, 상기 제1 트랜지스터는, 상기 도전 플레이트 위의 제2 부분에 배치된 제2 활성 영역; 상기 제2 활성 영역 위의 제1 부분에 배치된 게이트 단자; 상기 제2 활성 영역 위의 제2 부분에 배치된 드레인 단자; 그리고 상기 제2 활성 영역 위의 제3 부분에 배치된 소스 단자를 포함한다.
실시 예로서, 상기 제5 신호 경로는 상기 제1 트랜지스터의 상기 소스 단자와 상기 도전 플레이트를 연결하는 배선을 포함한다.
실시 예로서, 상기 제5 신호 경로는 상기 제2 활성 영역을 관통하여 상기 제1 트랜지스터의 상기 소스 단자 및 상기 도전 플레이트와 접촉하는 비아 콘택을 포함한다.
실시 예로서, 상기 제1 트랜지스터는 통상 온 타입(normally on type)의 질화갈륨(GaN) 트랜지스터를 포함한다.
실시 예로서, 상기 제2 트랜지스터는 통상 오프 타입(normally off type)의 금속 산화물 트랜지스터(MOSFET)를 포함한다.
실시 예로서, 상기 제1 트랜지스터와 병렬 연결되며 상기 제1 트랜지스터와 공통으로 제어되는 제3 트랜지스터를 더 포함한다.
실시 예로서, 상기 제2 트랜지스터와 병렬 연결되며 상기 제2 트랜지스터와 공통으로 제어되는 제4 트랜지스터를 더 포함한다.
본 발명의 실시 예들에 따르면, 제1 트랜지스터의 게이트와 제2 트랜지스터의 소스를 연결하는 추가 배선을 포함하는 스위치 회로가 제공된다. 추가 배선에 의해 스위치 회로의 기생 인덕턴스가 감소하므로, 스위치 회로의 고속 스위칭 특성이 향상된다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 스위치 회로를 보여주는 회로도이다.
도 2는 종래의 실시 예에 따른 스위치 회로를 보여주는 회로도이다.
도 3은 도 2의 스위치 회로에서 소스 패드와 연관된 기생 인덕턴스들이 반영된 예를 보여준다.
도 4는 도 1의 스위치 회로에서 소스 패드와 연관된 기생 인덕턴스들이 반영된 예를 보여준다.
도 5는 파이 네트워크가 티 네트워크로 변환되는 예를 보여준다.
도 6은 도 5의 변환 예에 따라 도 4의 스위치 회로가 변환된 예를 보여준다.
도 7은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 스위치 회로의 구조를 보여준다.
도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 스위치 회로의 구조를 보여준다.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 스위치 회로의 구조를 보여준다.
도 2는 종래의 실시 예에 따른 스위치 회로를 보여주는 회로도이다.
도 3은 도 2의 스위치 회로에서 소스 패드와 연관된 기생 인덕턴스들이 반영된 예를 보여준다.
도 4는 도 1의 스위치 회로에서 소스 패드와 연관된 기생 인덕턴스들이 반영된 예를 보여준다.
도 5는 파이 네트워크가 티 네트워크로 변환되는 예를 보여준다.
도 6은 도 5의 변환 예에 따라 도 4의 스위치 회로가 변환된 예를 보여준다.
도 7은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 스위치 회로의 구조를 보여준다.
도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 스위치 회로의 구조를 보여준다.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 스위치 회로의 구조를 보여준다.
이하에서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 스위치 회로(100)를 보여주는 회로도이다. 도 1을 참조하면, 스위치 회로(100)는 제1 트랜지스터(TR1), 제2 트랜지스터(TR2), 드레인 패드(D), 게이트 패드(G), 그리고 소스 패드(S)를 포함한다.
제1 트랜지스터(TR1)는 제1 게이트(TG1), 제1 소스(TS1), 그리고 제1 드레인(TD1)을 포함한다. 제1 드레인(TD1)은 제4 신호 경로(W4)를 통해 드레인 패드(D)에 연결된다. 제1 소스(TS1)는 제5 신호 경로(W5)를 통해 제2 트랜지스터(TR2)와 연결된다. 제1 게이트(TG1)는 제2 신호 경로(W2)를 통해 제1 노드(N1)에 연결된다. 제1 트랜지스터(TR1)는 높은 항복 전압 및 통상 온의 동작 특성을 가질 수 있다. 제1 트랜지스터(TR1)는 질화갈륨(GaN), 실리콘 카바이드(SiC) 등을 포함하는 전계효과 트랜지스터(FET)일 수 있다.
제2 트랜지스터(TR2)는 제2 게이트(TG2), 제2 드레인(TD2), 그리고 제2 소스(TS2)를 포함한다. 제2 드레인(TD2)은 제5 신호 경로(W5)를 통해 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 소스(TS1)와 연결된다. 제2 게이트(TG2)는 제3 신호 경로(W3)를 통해 게이트 패드(G)와 연결된다. 제2 소스(TS2)는 제1 신호 경로(W1)를 통해 제1 노드(N1)에 연결된다. 제2 트랜지스터(TR2)는 낮은 항복 전압 및 통상 오프의 동작 특성을 가질 수 있다. 제2 트랜지스터(TR2)는 실리콘(Si), 질화갈륨(GaN), 실리콘 카바이드(SiC) 등을 포함하는 전계효과 트랜지스터(FET)일 수 있다.
제1 노드(N1)는 소스 패드(S)와 연결된다. 드레인 패드(D), 소스 패드(S) 및 게이트 패드(G)는 스위치 회로(100)의 입출력 패드들일 수 있다.
스위치 회로(100)는 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 게이트(TG1)와 제2 트랜지스터(TR2)의 제2 소스(TS2)를 연결하는 제6 신호 경로(W6)를 더 포함한다. 제6 신호 경로(W6)는 제1 신호 경로(W1) 또는 제2 신호 경로(W2)와 분리된 별도의 신호 경로일 수 있다. 제6 신호 경로(W6)는 소스 패드(S)와 연결되지 않고, 소스 패드(S)를 우회할 수 있다. 제6 신호 경로(W6)가 제공되면, 스위치 회로(100)의 기생 인덕턴스가 감소하며, 스위치 회로(100)의 고속 스위칭 특성이 향상된다. 제6 신호 경로(W6)는 도 3 내지 도 6을 참조하여 더 상세하게 설명된다.
도 2는 종래의 실시 예에 따른 스위치 회로(200)를 보여주는 회로도이다. 도 2를 참조하면, 스위치 회로(100)는 제1 트랜지스터(TR1), 제2 트랜지스터(TR2), 드레인 패드(D), 게이트 패드(G), 그리고 소스 패드(S)를 포함한다. 도 1의 스위치 회로(100)와 비교하면, 스위치 회로(200)에 제6 신호 경로(W6)가 제공되지 않는다.
도 3은 도 2의 스위치 회로(200)에서 소스 패드(S)와 연관된 기생 인덕턴스들이 반영된 예를 보여준다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 신호 경로(W1)의 기생 인덕턴스는 제1 인덕턴스(L1)로 반영된다. 제2 신호 경로(W2)의 기생 인덕턴스는 제2 인덕턴스(L2)로 반영된다. 소스 패드(S)의 기생 인덕턴스는 제3 인덕턴스(S3)로 반영된다.
도 4는 도 1의 스위치 회로(100)에서 소스 패드(S)와 연관된 기생 인덕턴스들이 반영된 예를 보여준다. 도 1 및 도 4를 참조하면, 제1 신호 경로(W1)의 기생 인덕턴스는 제1 인덕턴스(L1)로 반영된다. 제2 신호 경로(W2)의 기생 인덕턴스는 제2 인덕턴스(L2)로 반영된다. 소스 패드(S)의 기생 인덕턴스는 제3 인덕턴스(S3)로 반영된다. 제6 신호 경로(W6)의 기생 인덕턴스는 제4 인덕턴스(L4)로 반영된다.
도 3의 스위치 회로(200')와 비교하면, 스위치 회로(100')는 제6 신호 경로(W6)에 의한 제4 인덕턴스(L4)를 더 포함한다.
도 5는 파이(pi) 네트워크(PN)가 티(T) 네트워크(TN)로 변환되는 예를 보여준다. 도 5를 참조하면, 제1 내지 제3 임피던스들(Z1~Z3)을 포함하는 파이 네트워크(PN)는 제4 내지 제6 임피던스들(Z4~Z5)을 포함하는 티 네트워크(TN)로 변환될 수 있다. 제4 임피던스(Z4)는 제1 내지 제3 임피던스들(Z1~Z3)에 따라 수학식 1과 같이 계산될 수 있다.
제5 임피던스(Z5)는 제1 내지 제3 임피던스들(Z1~Z3)에 따라 수학식 2와 같이 계산될 수 있다.
제6 임피던스(Z6)는 제1 내지 제3 임피던스들(Z1~Z3)에 따라 수학식 3과 같이 계산될 수 있다.
도 6은 도 5의 변환 예에 따라 도 4의 스위치 회로(100')가 변환된 예를 보여준다. 도 4 및 도 6을 참조하면, 스위치 회로(100')의 파이 네트워크를 형성하는 인덕턴스들(L1, L2, L4)은 스위치 회로(100'')의 티 네트워크를 형성하는 인덕턴스들(L5, L6, L7)로 변환될 수 있다. 수학식 1에 기반하여, 제5 인덕턴스(L5)는 수학식 4로 계산된다.
수학식 2에 기반하여, 제6 인덕턴스(L6)는 수학식 5로 계산된다.
수학식 3에 기반하여, 제7 인덕턴스(L7)는 수학식 6으로 계산된다.
이하에서, 도 3 및 도 6을 참조하여, 스위치 회로들(100'', 200')의 기생 인덕턴스들이 비교된다. 스위치 회로(200')의 제2 트랜지스터(TR2)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스는 제1 인덕턴스(L1)이다. 스위치 회로(100'')의 제2 트랜지스터(TR2)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스는 제5 및 제7 인덕턴스들(L5, L7)이다. 스위치 회로(200')의 제1 인덕턴스(L1)에 대응하는 위치에서, 스위치 회로(100'')의 인덕턴스(L1')는 수학식 7로 계산된다.
수학식 7에서 계산된 바와 같이, 스위치 회로(100'')의 제2 트랜지스터(TR2)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스는 스위치 회로(200')의 제2 트랜지스터(TR2)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스보다 작다.
스위치 회로(200')의 제1 트랜지스터(TR1)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스는 제2 인덕턴스(L2)이다. 스위치 회로(100'')의 제1 트랜지스터(TR1)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스는 제6 및 제7 인덕턴스들(L6, L7)이다. 스위치 회로(200')의 제2 인덕턴스(L2)에 대응하는 위치에서, 스위치 회로(100'')의 인덕턴스(L2')는 수학식 8로 계산된다.
수학식 8에서 계산된 바와 같이, 스위치 회로(100'')의 제1 트랜지스터(TR1)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스는 스위치 회로(200')의 제1 트랜지스터(TR1)와 제1 노드(N1) 사이의 기생 인덕턴스보다 작다.
즉, 수학식 7 및 수학식 8에 나타난 바와 같이, 스위치 회로(100)에 제6 신호 경로(W6)가 제공됨으로써, 스위치 회로(100)의 기생 인덕턴스는 스위치 회로(200)의 기생 인덕턴스보다 작아진다. 따라서, 스위치 회로(100)의 고속 스위칭 특성이 스위치 회로(200)의 고속 스위칭 특성보다 향상된다.
도 7은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 스위치 회로(100)의 구조를 보여준다. 도 1 및 도 7을 참조하면, 기판(SUB) 위에 제1 트랜지스터(TR1) 및 제2 트랜지스터(TR2)가 배치된다. 기판(SUB)은 절연물질 또는 도전물질을 포함할 수 있다. 기판(SUB)이 도전물질을 포함하는 경우, 기판(SUB) 위에 기판(SUB)과 제1 및 제2 트랜지스터들(TR1, TR2)을 분리하는 절연막이 제공될 수 있다.
제1 트랜지스터(TR1)는 기판(SUB) 위의 제1 부분에 배치되는 제1 활성 영역(TA1)을 포함한다. 제1 활성 영역(TA1)은 제1 타입(P 타입 또는 N 타입)으로 도핑된 소스 영역 및 드레인 영역, 그리고 제2 타입(N 타입 또는 P 타입)으로 도핑된 채널 영역을 포함할 수 있다. 제1 트랜지스터(TR1)는 제1 활성 영역(TA1) 위의 서로 다른 영역들에 배치되는 제1 게이트 단자(TG1), 제1 드레인 단자(TD1), 그리고 제1 소스 단자(TS1)를 포함한다. 제1 게이트 단자(TG1)는 제1 활성 영역(TA1)의 채널 영역에 인접하게 배치될 수 있다. 제1 드레인 단자(TD1)는 제1 활성 영역(TA1)의 드레인 영역에 연결될 수 있다. 제1 소스 단자(TS1)는 제1 활성 영역(TA1)의 소스 영역에 연결될 수 있다. 제1 활성 영역(TA1)의 구성은 이 분야에 숙련된 기술을 가진 자들(이하, 당업자들이라 칭함)에게 잘 알려져 있으므로, 제1 활성 영역(TA1)에 대한 상세한 설명은 생략된다.
제2 트랜지스터(TR2)는 기판(SUB) 위의 제2 부분에 배치되는 도전판(CP), 도전판(CP) 위의 일부 영역에 배치되는 제2 드레인 단자(TD2), 제2 드레인 단자(TD2) 위에 배치되는 제2 활성 영역(TA2), 그리고 제2 활성 영역(TA2) 위의 서로 다른 영역들에 배치되는 제2 게이트 단자(TG2) 및 제2 소스 단자(TS2)를 포함한다. 제2 활성 영역(TA2)은 제1 타입(P 타입 또는 N 타입)으로 도핑된 소스 영역 및 드레인 영역, 그리고 제2 타입(N 타입 또는 P 타입)으로 도핑된 채널 영역을 포함할 수 있다. 제2 게이트 단자(TG2)는 제2 활성 영역(TA2)의 채널 영역에 인접하게 배치될 수 있다. 제2 드레인 단자(TD2)는 제2 활성 영역(TA2)의 드레인 영역에 연결될 수 있다. 제2 소스 단자(TS2)는 제2 활성 영역(TA2)의 소스 영역에 연결될 수 있다. 제2 활성 영역(TA2)의 구성은 당업자들에게 잘 알려져 있으므로, 제2 활성 영역(TA2)에 대한 상세한 설명은 생략된다.
제1 신호 경로(W1)는 제2 트랜지스터(TR2)의 제2 소스 단자(TS2)와 소스 패드(S)를 연결하는 배선, 예를 들어 본딩 와이어일 수 있다. 제2 신호 경로(W2)는 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 게이트 단자(TG1)와 소스 패드(S)를 연결하는 배선일 수 있다. 제1 신호 경로(W1)와 제2 신호 경로(W2)가 연결되는 소스 패드(S)의 영역은 제1 노드(N1)를 형성할 수 있다.
제3 신호 경로(W3)는 제2 트랜지스터(TR2)의 제2 게이트 단자(TG2)와 게이트 패드(G)를 연결하는 배선일 수 있다. 제4 신호 경로(W4)는 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 드레인 단자(TD1)와 드레인 패드(D)를 연결하는 배선일 수 있다. 제5 신호 경로(W5)는 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 소스 단자(TS1)와 도전판(CP)을 연결하는 배선일 수 있다. 제6 신호 경로(W6)는 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 게이트 단자(TG1)와 제2 트랜지스터(TR2)의 제2 소스 단자(TS2)를 연결하는 배선일 수 있다.
도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 스위치 회로(100)의 구조를 보여준다. 도 7과 비교하면, 제1 트랜지스터(TR1)는 도전판(CP)의 제1 부분에 배치되고, 제2 트랜지스터(TR2)는 도전판(CP2)의 제2 부분에 배치될 수 있다.
도전판(CP)이 제1 트랜지스터(TR1)의 하부로 확장되면, 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 소스 단자(TS1)와 도전판(CP)을 연결하는 제5 신호 경로(W5)의 길이가 감소된다. 따라서, 스위치 회로(100)의 기생 인덕턴스가 더 감소된다.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 스위치 회로(100)의 구조를 보여준다. 도 8과 비교하면, 제5 신호 경로(W5)는 제1 트랜지스터(TR1)의 제1 활성 영역(TA1)을 관통하여 도전판(CP) 및 제1 드레인 단자(TD1)와 접촉하는 비아 콘택일 수 있다. 제5 신호 경로(W5)가 비아 콘택으로 구현되면, 제5 신호 경로(W5)가 배선으로 구현될 때보다 스위치 회로(100)의 기생 인덕턴스가 더 감소된다.
도 7 내지 도 9에서, 제1 및 제2 트랜지스터들(TR1, TR2)은 제1 내지 제4 신호 경로들(W1~W4)을 통해 게이트 패드(G), 드레인 패드(D) 및 소스 패드(S)에 직접 연결되는 것으로 설명되었다. 그러나, 제1 및 제2 트랜지스터들(TR1, TR2)은 기판(예를 들어, 인쇄 회로 기판)에 실장될 수 있다. 제1 및 제2 트랜지스터들(TR1, TR2)은 본딩 패드들을 통해 기판과 연결되고, 기판 상에 인쇄된 배선들을 통해 게이트 패드(G), 드레인 패드(D) 및 소스 패드(S)에 연결되도록 제조될 수 있다.
도 10은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 스위치 회로(100a)를 보여주는 회로도이다. 도 10을 참조하면, 스위치 회로(100)는 제1 트랜지스터들(TR1_1~TR1_M), 제2 트랜지스터들(TR2_1~TR2_N), 드레인 패드(D), 게이트 패드(G), 그리고 소스 패드(S)를 포함한다. 도 1의 스위치 회로(100)와 비교하면, 스위치 회로(100a)는 병렬 연결된 복수의 제1 트랜지스터들(TR1_1~TR1_M) 및 병렬 연결된 복수의 제2 트랜지스터들(TR2_1~TR2_N)을 포함한다. 따라서, 스위치 휘로(100a)가 전달할 수 있는 전류량이 증가된다.
제6 신호 경로(W6)는 제1 트랜지스터(TR1_1)의 제1 게이트(TG1) 및 제2 트랜지스터(TR2_1)의 제2 소스(TS2)에 연결될 수 있다. 그러나, 본 발명의 기술적 사상은 한정되지 않는다. 예를 들어, 제1 트랜지스터(TR1_i, i는 1 이상 M 이하인 양의 정수)의 제1 게이트(TG1)와 제2 트랜지스터(TR2_j, j는 1 이상 N 이하인 양의 정수)의 제2 소스(TS2)를 연결하는 배선이 스위치 회로(100a)에 제공될 수 있다.
스위치 회로(100a)에 복수개의 신호 경로들이 제공될 수 있다. 예를 들어, p개(p는 양의 정수)의 제1 트랜지스터들(TR1)의 제1 게이트들(TG1)과 q개(q는 양의 정수)의 제2 트랜지스터들(TR2)의 제2 소스들(TS2)을 서로 연결하는 신호 경로들(예를 들어, 도 7 내지 도 9를 참조하여 설명된 배선)이 스위치 회로(100a)에 제공될 수 있다.
본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위와 기술적 사상에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능하다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
100, 100', 100'', 200, 200'; 스위치 회로
TR1, TR2; 트랜지스터
TS1, TS2; 소스
TG1, TG2; 게이트
TD1, TD2; 드레인
G; 게이트 패드
S; 소스 패드
D; 드레인 패드
W1~W6; 신호 경로
TR1, TR2; 트랜지스터
TS1, TS2; 소스
TG1, TG2; 게이트
TD1, TD2; 드레인
G; 게이트 패드
S; 소스 패드
D; 드레인 패드
W1~W6; 신호 경로
Claims (14)
- 제1 트랜지스터 및 제2 트랜지스터;
제1 신호 경로를 통해 상기 제2 트랜지스터의 제2 노드와 연결되고, 제2 신호 경로를 통해 상기 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 연결되는 소스 패드;
제3 신호 경로를 통해 상기 제2 트랜지스터의 게이트 노드와 연결되는 게이트 패드; 그리고
제4 신호 경로를 통해 상기 제1 트랜지스터의 제1 노드와 연결되는 드레인 패드를 포함하고,
상기 제1 트랜지스터의 제2 노드와 상기 제2 트랜지스터의 제1 노드는 제5 신호 경로를 통해 서로 연결되고,
상기 제1 트랜지스터의 상기 게이트 노드와 상기 제2 트랜지스터의 상기 제2 노드는 상기 제1 신호 경로 및 상기 제2 신호 경로와 분리된 제6 신호 경로를 통해 서로 연결되고,
상기 제2 트랜지스터는,
기판 위에 배치된 도전 플레이트;
상기 도전 플레이트 위에 배치되며, 상기 도전 플레이트와 전기적으로 연결되는 드레인 단자;
상기 드레인 단자 위에 배치되는 제1 활성 영역;
상기 제1 활성 영역 위의 제1 부분에 배치되는 게이트 단자; 그리고
상기 제1 활성 영역 위의 제2 부분에 배치되는 소스 단자를 포함하고,
상기 제1 트랜지스터는,
상기 도전 플레이트 위의 제2 부분에 배치된 제2 활성 영역;
상기 제2 활성 영역 위의 제1 부분에 배치된 게이트 단자;
상기 제2 활성 영역 위의 제2 부분에 배치된 드레인 단자; 그리고
상기 제2 활성 영역 위의 제3 부분에 배치된 소스 단자를 포함하고,
상기 제5 신호 경로는 상기 제2 활성 영역을 관통하여 상기 제1 트랜지스터의 상기 소스 단자 및 상기 도전 플레이트와 접촉하는 비아 콘택을 포함하는 스위치 회로. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 신호 경로는 상기 제2 트랜지스터의 상기 소스 단자와 상기 소스 패드를 연결하는 배선을 포함하고,
상기 제3 신호 경로는 상기 제2 트랜지스터의 상기 게이트 단자와 상기 소스 패드를 연결하는 배선을 포함하는 스위치 회로. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터는 통상 온 타입(normally on type)의 질화갈륨(GaN) 트랜지스터를 포함하는 스위치 회로. - 제1 항에 있어서,
상기 제2 트랜지스터는 통상 오프 타입(normally off type)의 금속 산화물 트랜지스터(MOSFET)를 포함하는 스위치 회로. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터와 병렬 연결되며 상기 제1 트랜지스터와 공통으로 제어되는 제3 트랜지스터를 더 포함하는 스위치 회로. - 제1 항에 있어서,
상기 제2 트랜지스터와 병렬 연결되며 상기 제2 트랜지스터와 공통으로 제어되는 제4 트랜지스터를 더 포함하는 스위치 회로. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 신호 경로, 상기 제2 신호 경로, 그리고 상기 제6 신호 경로는 기생 인덕턴스와 함께 파이 네트워크를 형성하는 스위치 회로. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150026605A KR102178865B1 (ko) | 2015-02-25 | 2015-02-25 | 고속 스위칭 성능을 갖는 캐스코드 타입의 스위치 회로 |
US14/815,378 US9666569B2 (en) | 2015-02-25 | 2015-07-31 | Switch circuit of cascode type having high speed switching performance |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150026605A KR102178865B1 (ko) | 2015-02-25 | 2015-02-25 | 고속 스위칭 성능을 갖는 캐스코드 타입의 스위치 회로 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160104165A KR20160104165A (ko) | 2016-09-05 |
KR102178865B1 true KR102178865B1 (ko) | 2020-11-18 |
Family
ID=56693659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150026605A KR102178865B1 (ko) | 2015-02-25 | 2015-02-25 | 고속 스위칭 성능을 갖는 캐스코드 타입의 스위치 회로 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9666569B2 (ko) |
KR (1) | KR102178865B1 (ko) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9735095B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-08-15 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9818674B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-11-14 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9780019B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-10-03 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US10388539B2 (en) | 2015-07-24 | 2019-08-20 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US10128174B2 (en) | 2015-07-24 | 2018-11-13 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9905500B2 (en) * | 2015-07-24 | 2018-02-27 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9818677B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-11-14 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component having group III nitride semiconductor device mounted on substrate and interconnected to lead frame |
WO2017043611A1 (ja) * | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 古河電気工業株式会社 | パワーデバイス |
CN105914192B (zh) * | 2015-12-25 | 2019-02-01 | 苏州捷芯威半导体有限公司 | 基于级联电路的半导体封装结构 |
KR102094491B1 (ko) * | 2016-11-22 | 2020-03-30 | 한국전자통신연구원 | 레벨 쉬프터를 포함하는 캐스코드 스위치 회로 |
US10256811B2 (en) | 2016-11-22 | 2019-04-09 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Cascode switch circuit including level shifter |
KR102045498B1 (ko) * | 2018-05-25 | 2019-11-18 | 한국과학기술원 | 위상 천이기 회로 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020153938A1 (en) * | 1999-01-22 | 2002-10-24 | Siemens Ag. | Hybrid power MOSFET |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5999028A (en) * | 1997-12-22 | 1999-12-07 | Hewlett-Packard Company | Differential circuits with adjustable propagation timing |
US6259618B1 (en) * | 2000-05-03 | 2001-07-10 | Analog And Power Electronics Corp. | Power chip set for a switching mode power supply having a device for providing a drive signal to a control unit upon startup |
US9773877B2 (en) * | 2004-05-13 | 2017-09-26 | Cree, Inc. | Wide bandgap field effect transistors with source connected field plates |
US7276976B2 (en) | 2004-12-02 | 2007-10-02 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Triple cascode power amplifier of inner parallel configuration with dynamic gate bias technique |
US7061660B1 (en) * | 2005-04-13 | 2006-06-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | MEMs device with feedback control |
JP2008143576A (ja) | 2006-12-12 | 2008-06-26 | Toyo Jidoki Co Ltd | 袋詰包装におけるスチーム置換脱気方法及びスチーム置換脱気用ノズル |
US8432212B2 (en) * | 2011-04-29 | 2013-04-30 | Clean Energy Labs, Llc | Switching element having an electromechanical switch and methods for making and using same |
JP5290354B2 (ja) | 2011-05-06 | 2013-09-18 | シャープ株式会社 | 半導体装置および電子機器 |
JP6211829B2 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-10-11 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
-
2015
- 2015-02-25 KR KR1020150026605A patent/KR102178865B1/ko active IP Right Grant
- 2015-07-31 US US14/815,378 patent/US9666569B2/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020153938A1 (en) * | 1999-01-22 | 2002-10-24 | Siemens Ag. | Hybrid power MOSFET |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160247792A1 (en) | 2016-08-25 |
KR20160104165A (ko) | 2016-09-05 |
US9666569B2 (en) | 2017-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102178865B1 (ko) | 고속 스위칭 성능을 갖는 캐스코드 타입의 스위치 회로 | |
US9654001B2 (en) | Semiconductor device | |
JP7224918B2 (ja) | 半導体装置及び半導体パッケージ | |
US9966945B2 (en) | Semiconductor device | |
US9171837B2 (en) | Cascode circuit | |
US9306558B2 (en) | Field-effect transistor | |
US8716748B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same, and power supply apparatus | |
US11296601B2 (en) | Power transistor with distributed gate | |
JP2012517699A (ja) | Iii族窒化物デバイスおよび回路 | |
JP6800906B2 (ja) | 半導体装置及び半導体パッケージ | |
JP2021531655A (ja) | エンハンスメント・モード及びデプレッション・モード・トランジスタの両者を有するモノリシック・マイクロ波集積回路 | |
JP2013042270A (ja) | トランジスタ回路、双方向スイッチ回路、ダイオード回路及びトランジスタ回路の製造方法 | |
US20220139797A1 (en) | Semiconductor module, power semiconductor module, and power electronic equipment using the semiconductor module or the power semiconductor module | |
JP2013045979A (ja) | 半導体デバイスパッケージ及び半導体デバイスパッケージの製造方法 | |
CN106373996B (zh) | 半导体装置 | |
US11664447B2 (en) | Semiconductor device and a method of making a semiconductor device | |
JP2010199241A (ja) | 半導体装置 | |
JPWO2017043611A1 (ja) | パワーデバイス | |
JP6487021B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7003194B2 (ja) | 半導体パッケージ | |
KR101873219B1 (ko) | 질화갈륨계 전력 스위칭 장치 | |
US20180040601A1 (en) | Semiconductor device and composite semiconductor device | |
CN109155283A (zh) | 功率转换器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |