JP6800906B2 - 半導体装置及び半導体パッケージ - Google Patents

半導体装置及び半導体パッケージ Download PDF

Info

Publication number
JP6800906B2
JP6800906B2 JP2018054116A JP2018054116A JP6800906B2 JP 6800906 B2 JP6800906 B2 JP 6800906B2 JP 2018054116 A JP2018054116 A JP 2018054116A JP 2018054116 A JP2018054116 A JP 2018054116A JP 6800906 B2 JP6800906 B2 JP 6800906B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrically connected
gate
transistor
semiconductor device
normally
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018054116A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019169766A (ja
Inventor
健太郎 池田
健太郎 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2018054116A priority Critical patent/JP6800906B2/ja
Priority to US16/114,780 priority patent/US10658356B2/en
Publication of JP2019169766A publication Critical patent/JP2019169766A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6800906B2 publication Critical patent/JP6800906B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/06Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
    • H01L27/0611Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
    • H01L27/0617Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
    • H01L27/0629Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type in combination with diodes, or resistors, or capacitors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/16Modifications for eliminating interference voltages or currents
    • H03K17/161Modifications for eliminating interference voltages or currents in field-effect transistor switches
    • H03K17/162Modifications for eliminating interference voltages or currents in field-effect transistor switches without feedback from the output circuit to the control circuit
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • H01L23/5286Arrangements of power or ground buses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/12Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
    • H01L29/20Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
    • H01L29/2003Nitride compounds
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/081Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit
    • H03K17/08104Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M1/00Details of apparatus for conversion
    • H02M1/08Circuits specially adapted for the generation of control voltages for semiconductor devices incorporated in static converters
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K2217/00Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
    • H03K2217/0036Means reducing energy consumption

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Power Conversion In General (AREA)

Description

本発明の実施形態は、半導体装置及び半導体パッケージに関する。
次世代のパワー半導体デバイス用の材料としてIII族窒化物、例えば、GaN(窒化ガリウム)系半導体が期待されている。GaN系半導体はSi(シリコン)と比較して大きなバンドギャップを備える。このため、GaN系半導体デバイスはSi(シリコン)半導体デバイスと比較して、小型で高耐圧のパワー半導体デバイスを実現出来る。また、これにより寄生容量を小さく出来るため、高速駆動のパワー半導体デバイスを実現出来る。
GaN系のトランジスタでは、一般に、2次元電子ガス(2DEG)をキャリアとするHEMT(High Electron Mobility Transistor)構造が適用される。通常のHEMTは、ゲートに電圧を印加しなくても導通してしまう、ノーマリーオントランジスタである。このため、ゲートに電圧を印加しない限り導通しない、ノーマリーオフトランジスタを実現することが困難であるという問題がある。
数百V〜1千Vという大きな電力をあつかう電源回路等では、安全面を重視してノーマリーオフの動作が要求される。そこで、ノーマリーオンのGaN系トランジスタとノーマリーオフのSiトランジスタをカスコード接続して、ノーマリーオフ動作を実現する回路構成が提案されている。
また、ドレイン−ソース間を流れる主回路電流とゲート−ソース間を流れる駆動電流がソースインダクタンスを共有する回路構成の場合、主回路電流の時間変化に伴いソースインダクタンスに発生する起電力のため、駆動電流も変調されてしまう。これに伴い発生する、パワー半導体デバイスの立ち上がり速度や立ち下がり速度の低下といった遅延や、ドレイン電流やソース電圧が激しく時間変化するリンギングが問題となっていた。そこで、主回路電流とゲート駆動電流がソースインダクタンスを共有しない、ケルビン接続を用いた回路構成が提案されている。
特開2014−187726号公報
本発明が解決しようとする課題は、遅延及びリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置を提供することにある。
実施形態の半導体装置は、第1のソースと、第1のドレインと、第1のゲートと、を有するノーマリーオフトランジスタと、第1のドレインに電気的に接続された第2のソースと、第2のドレインと、第2のゲートと、を有するノーマリーオントランジスタと、第1の端部と、第2の端部と、を有し、第2の端部は第2のゲートに電気的に接続された第1のコンデンサと、第2の端部と第2のゲートの間に電気的に接続された第1のアノードと、第1のカソードと、を有する第1のダイオードと、第1の端部と第1のゲートの間に電気的に接続された第1の抵抗と、第1の端部に電気的に接続された第2のアノードと、第1のゲートに電気的に接続された第2のカソードと、を有し、第1の抵抗と並列に設けられた第2のダイオードと、第1の抵抗と第2のアノードに電気的に接続されたゲートドライブ回路であって、ゲートドライブ回路の基準電位はゲートドライブ回路に接続された第3の配線を用いて第1のソースに電気的に接続された、ゲートドライブ回路と、第3の端部と第4の端部を有し、第3の端部は第1の配線を用いて第3の配線に電気的に接続され、第4の端部は第2のソースに電気的に接続された第2のコンデンサと、第3の配線と第3の端部の間に電気的に接続された第2の抵抗と、を備えた半導体装置である。
第1の実施形態の半導体装置の回路図である。 第1の実施形態の半導体装置において、ゲートドライブ回路基準電位線と第1の配線の接続のされ方の例を示す模式図である。 第1の実施形態の半導体装置の作用効果を示す模式図である。 第1の実施形態の半導体装置の作用効果を示す模式図である。 第2の実施形態の半導体装置の回路図である。 第3の実施形態の半導体装置の回路図である。 第4の実施形態の半導体装置の回路図である。 第5の実施形態の半導体装置の回路図である。 第6の実施形態の半導体パッケージの模式図である。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明する。なお、以下の説明では、同一又は類似の部材には同一の符号を付す場合がある。また、一度説明した部材等については適宜その説明を省略する場合がある。
また、本明細書中、半導体装置とは、ディスクリート半導体等の複数の素子が組み合わされたパワーモジュール、又は、ディスクリート半導体等の複数の素子にこれらの素子を駆動する駆動回路や自己保護機能を組み込んだインテリジェントパワーモジュール、あるいは、パワーモジュールやインテリジェントパワーモジュールを備えたシステム全体を包含する概念である。
また、本明細書中、「GaN系半導体」とは、GaN(窒化ガリウム)、AlN(窒化アルミニウム)、InN(窒化インジウム)及びそれらの中間組成を備える半導体の総称である。
(第1の実施形態)
本実施形態の半導体装置は、第1のソースと、第1のドレインと、第1のゲートと、を有するノーマリーオフトランジスタと、第1のドレインに電気的に接続された第2のソースと、第2のドレインと、第2のゲートと、を有するノーマリーオントランジスタと、第1の端部と、第2の端部と、を有し、第2の端部は第2のゲートに電気的に接続された第1のコンデンサと、第2の端部と第2のゲートの間に電気的に接続された第1のアノードと、第1のカソードと、を有する第1のダイオードと、第1の端部と第1のゲートの間に電気的に接続された第1の抵抗と、第1の端部に電気的に接続された第2のアノードと、第1のゲートに電気的に接続された第2のカソードと、を有し、第1の抵抗と並列に設けられた第2のダイオードと、第1の抵抗と第2のアノードに電気的に接続されたゲートドライブ回路であって、ゲートドライブ回路の基準電位はゲートドライブ回路に接続された第3の配線を用いて第1のソースに電気的に接続された、ゲートドライブ回路と、第3の端部と第4の端部を有し、第3の端部は第1の配線を用いて第3の配線に電気的に接続され、第4の端部は第2のソースに電気的に接続された第2のコンデンサと、を備えた半導体装置である。
そして、第1の配線の第1の外縁に平行な線はゲートドライブ回路基準電位線を通る、又はゲートドライブ回路基準電位線の第3の外縁に平行な線は第1の配線を通る。
図1は、本実施形態の半導体装置100の回路図である。本実施形態の半導体装置100は、例えば、定格電圧が600Vや1200Vのパワーモジュールである。
本実施形態の半導体装置100は、ノーマリーオフトランジスタ10と、ノーマリーオントランジスタ20と、第1のコンデンサ30と、第1のダイオード40と、第1の抵抗48と、第2のダイオード44と、ゲートドライブ回路71と、第2のコンデンサ80と、信号源68と、ソース端子50と、ドレイン端子52を備える。
ノーマリーオフトランジスタ10は、第1のソース11と、第1のドレイン12と、第1のゲート13と、を有する。
ノーマリーオフトランジスタ10は、ゲートに電圧を印加しない場合にはドレイン電流が流れないトランジスタである。ノーマリーオフトランジスタ10は、例えば、Si(シリコン)半導体を用いた縦型MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)である。なお、ノーマリーオフトランジスタ10は、図示しない寄生ボディダイオードを備えている。
ノーマリーオフトランジスタ10の耐圧は、例えば10V以上30V以下である。
ノーマリーオントランジスタ20は、第2のソース21と、第2のドレイン22と、第2のゲート23と、を有する。第2のソース21は、第1のドレイン12に電気的に接続されている。
ノーマリーオントランジスタ20は、ゲートに電圧を印加しない場合にもドレイン電流が流れるトランジスタである。ノーマリーオントランジスタ20は、例えば、GaN(窒化ガリウム)系半導体を用いたHEMTである。
ノーマリーオントランジスタ20の耐圧は、ノーマリーオフトランジスタ10の耐圧より高い。ノーマリーオントランジスタ20の耐圧は、例えば600V以上1200V以下である。
本実施形態の半導体装置100は、ノーマリーオフトランジスタ10とノーマリーオントランジスタ20を直接に接続した、いわゆるカスコード接続により、ノーマリーオフ動作を実現する回路構成を有する。
第1のソース11は、第1のソース端子(ソース端子)50に電気的に接続されている。第2のドレイン22は、ドレイン端子52に電気的に接続されている。
第1のインダクタンス78は、ノーマリーオントランジスタ20のソースインダクタンスである。第2のインダクタンス79は、ノーマリーオフトランジスタ10のソースインダクタンスである。
ドレイン−ソース間を流れる主回路電流は、ドレイン端子52、ノーマリーオントランジスタ20、第1のインダクタンス78、ノーマリーオフトランジスタ10、第2のインダクタンス79、ソース端子50を流れる。主回路配線15は、主回路電流が流れる配線である。
寄生容量28は、ノーマリーオントランジスタ20のゲート−ソース間寄生容量である。
第1のコンデンサ30は、第1の端部31と第2の端部32を有する。第2の端部32は、第2のゲート23に電気的に接続されている。
第1のダイオード40は、第1のアノード41と、第1のカソード42と、を有する。第1のアノード41は、第2の端部32と第2のゲート23の間に電気的に接続されている。
図1に示した半導体装置100において、第1のカソード42は、第1のソース11に電気的に接続されている。
第1の抵抗48は、第1の端部31と第1のゲート13の間に電気的に接続されている。
第2のダイオード44は、第2のアノード45と、第2のカソード46と、を有する。第2のアノード45は第1の端部31に電気的に接続されている。第2のカソード46は第1のゲート13に電気的に接続されている。第2のダイオード44は、第1の抵抗48と並列に設けられている。
信号源68は、例えば方形波等の信号を出力する。
ゲートドライブ回路71は、信号源68から出力された信号に基づいて、ノーマリーオフトランジスタ10とノーマリーオントランジスタ20を駆動する信号を出力する。
ゲートドライブ回路71は、複数の素子がワンチップ化されたIC、又は、複数の電子部品が配置された電子回路基板である。
ゲートドライブ回路71の基準電位は、ゲートドライブ回路71に接続されたゲートドライブ回路基準電位線72を用いて第1のソース11に電気的に接続されている。なおゲートドライブ回路基準電位線72は、第3の配線の一例である。
第4の抵抗88及び第5の抵抗89は、ゲート抵抗である。
第2のコンデンサ80は、第3の端部81と第4の端部82を有する。第3の端部81は、第1の配線60を用いてゲートドライブ回路基準電位線72に電気的に接続されている。第4の端部82は、第2のソース21に電気的に接続されている。
第2のコンデンサ80の容量は第1のコンデンサ30の容量以上であることが好ましい。
図2は、本実施形態の半導体装置100において、ゲートドライブ回路基準電位線72と第1の配線60の接続のされ方の例を示す模式図である。なお、主回路配線15を合わせて図示している。
図2は、例えば、図示しないプリント基板上に、第1の配線60と、ゲートドライブ回路基準電位線72と、主回路配線15が形成された場合を想定した模式図である。
第2のコンデンサ80を通る変位電流は、第1の配線60から主回路配線15の一部を経由し、ゲートドライブ回路基準電位線72に流れる。
上述の場合、第1の配線60の第1の外縁61に平行で第1の配線60を通る線と、第1の配線60の第2の外縁62に平行で第1の配線60を通る線のいずれか一方が、主回路配線15を通り、ゲートドライブ回路基準電位線72を通ることが好ましい。又は、ゲートドライブ回路基準電位線72の第3の外縁(第2の外縁)73に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線と、ゲートドライブ回路基準電位線72の第4の外縁74に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線のいずれか一方が、主回路配線15を通り、第1の配線60を通ることが好ましい。
図2(a)は本実施形態の半導体装置100において、好ましいゲートドライブ回路基準電位線72と第1の配線60の接続のされ方の例を示す模式図である。点線で示した、第1の外縁61及び第2の外縁62に平行で第1の配線60を通る線78aが、主回路配線15を通り、ゲートドライブ回路基準電位線72を通っている。また、点線で示した、第3の外縁73及び第4の外縁74に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線78bが、主回路配線15を通り、第1の配線60を通っている。なお、図2(a)においては、線78a及び線78bは、同一の線となり得る。
図2(b)も、好ましいゲートドライブ回路基準電位線72と第1の配線60の接続のされ方の例を示す模式図である。点線で示した、第1の外縁61及び第2の外縁62に平行で第1の配線60を通る線78cが、主回路配線15を通り、ゲートドライブ回路基準電位線72を通っている。また、第3の外縁73及び第4の外縁74に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線78dが、主回路配線15を通り、第1の配線60を通っている。
図2(c)に示した例は、比較形態となる図である。第1の外縁61及び第2の外縁62に平行で第1の配線を通る線78eが、ゲートドライブ回路基準電位線72を通っていない。また、第3の外縁73及び第4の外縁74に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線78fが、第1の配線を通っていない。
図2(d)に示した例は、比較形態となる図である。第1の外縁61及び第2の外縁62に平行で第1の配線を通る線78fが、ゲートドライブ回路基準電位線72を通る前に配線が形成されていない部分を通ってしまうため好ましくない。
次に、本実施形態の半導体装置100の動作について述べる。
例えば信号源68及びゲートドライブ回路71を用いて、0Vと、ノーマリーオフトランジスタ10をオンさせることが出来る有限の電圧Vを往復する方形波を出力する。
第1のゲート13にVが入力されているときには、ノーマリーオフトランジスタ10は、オンになる。また、第1のゲート13に0Vが入力されているときには、ノーマリーオフトランジスタ10は、オフになる。
ゲートドライブ回路71からVが出力されているとき、第1のコンデンサ30から第1のダイオード40を経由してソース端子50へと電流が流れる。第2のゲート23には、第1のダイオード40の順方向電圧Vに相当する電圧が入力される。従って、ノーマリーオントランジスタ20は、オンになる。一方、ゲートドライブ回路71から0Vが出力されているときには、寄生容量28から第1のコンデンサ30へと電流が流れる。第2のゲート23には、VとVの差分に相当する負の電圧(V−V)が入力される。従って、ノーマリーオントランジスタ20は、オフになる。
ここで、半導体装置100がオフからオンに移行する際に、ノーマリーオントランジスタ20よりもノーマリーオフトランジスタ10が先にオンすることが望ましい。もし、ノーマリーオントランジスタ20が先にオンすると、第1のドレイン12と第2のソース21との接続部に高い電圧が加わるため、耐圧の低いノーマリーオフトランジスタ10の特性が劣化する恐れがあるからである。
本実施形態の半導体装置100では、半導体装置がオフ状態からオン状態に移行する際には、電流が第1の抵抗48に並列に設けられた第2のダイオード44を流れる。このため、第1のゲート13の充電は、第1の抵抗48の影響を受けない。従って、第1のゲート13を速やかに充電出来る。よって、半導体装置がオフ状態からオン状態に移行する際に、ノーマリーオントランジスタ20よりもノーマリーオフトランジスタ10を確実に先にオンさせることが可能となる。
また、第1の抵抗48を設けることにより、ノーマリーオフトランジスタ10のオフタイミングと、ノーマリーオントランジスタ20のオフタイミングを所望の時間だけ遅延させることが出来る。従って、半導体装置がオン状態からオフ状態に移行する際に、ノーマリーオフトランジスタ10よりもノーマリーオントランジスタ20を先にオフさせることが可能となる。
次に、本実施形態の半導体装置100の作用効果を記載する。
本実施形態の半導体装置のごとく、第1のソースと、第1のドレインと、第1のゲートと、を有するノーマリーオフトランジスタと、第1のドレインに電気的に接続された第2のソースと、第2のドレインと、第2のゲートと、を有するノーマリーオントランジスタと、第1の端部と、第2の端部と、を有し、第2の端部は第2のゲートに電気的に接続された第1のコンデンサと、第2の端部と第2のゲートの間に電気的に接続された第1のアノードと、第1のカソードと、を有する第1のダイオードと、第1の端部と第1のゲートの間に電気的に接続された第1の抵抗と、第1の端部に電気的に接続された第2のアノードと、第1のゲートに電気的に接続された第2のカソードと、を有し、第1の抵抗と並列に設けられた第2のダイオードと、第1の抵抗と第2のアノードに電気的に接続されたゲートドライブ回路であって、ゲートドライブ回路の基準電位はゲートドライブ回路に接続されたゲートドライブ回路基準電位線を用いて第1のソースに電気的に接続された、ゲートドライブ回路と、第3の端部と第4の端部を有し、第3の端部は第1の配線を用いてゲートドライブ回路基準電位線に電気的に接続され、第4の端部は第2のソースに電気的に接続された第2のコンデンサと、を備えることにより、遅延及びリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置の提供が可能となる。
ノーマリーオントランジスタ20をケルビン接続させる場合、例えば第2のソース21を配線等によりソース端子50に直接的に電気的に接続させることが考えられる。しかしこの場合、ノーマリーオフトランジスタ10を経由せず、ドレイン端子52からノーマリーオントランジスタ20のみを経由してソース端子50に主回路電流が流れる経路が形成されるため、半導体装置100はカスコード接続された回路として機能しなくなってしまうという問題があった。
本実施形態の半導体装置100は、第3の端部81と第4の端部82を有し、第3の端部81はゲートドライブ回路基準電位線72に電気的に接続され、第4の端部82は第2のソース21に電気的に接続された第2のコンデンサ80を備える。言い換えると、ノーマリーオントランジスタ20は第2のコンデンサ80を用いて交流的にソース端子50に接続されている。
これにより、主回路電流はノーマリーオフトランジスタ10とノーマリーオントランジスタ20を流れる。さらに、過渡的に生じる電流は、第2のインダクタンス79を流れずに、第2のコンデンサ80を経由してソース端子50へと流れる。すなわち、過渡的に生じる電流については、ケルビン接続の効果が得られることとなる。これにより、遅延及びリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置100の提供が可能となる。
図3は、本実施形態の半導体装置100の作用効果を示す模式図である。言い換えると、図3は、本実施形態の半導体装置100の作用を調べるための、半導体装置100aの回路の模式図である。第2のコンデンサ80と第2のソース21の間に、第1のインダクタンス78及び第2のインダクタンス79が電気的に接続されている。言い換えると、主回路電流が流れる経路のソースインダクタンスと、第2のコンデンサ80を流れる電流の経路のインダクタンスを同じにしている。
図4は、本実施形態の半導体装置100の作用効果を示す模式図である。言い換えると、図4の実線は、図3に示した回路で、トランジスタのスイッチングをさせた際の損失エネルギーを示したものである。また、図4の点線は、第2のコンデンサ80を通る経路が設けられていない比較形態の半導体装置において、トランジスタのスイッチングをさせた際の損失エネルギーを示したものである。
図4に示されたとおり、比較形態の半導体装置よりも本実施形態の半導体装置の方が、回路で発生する損失が速く消失している。縦軸の損失を時間で積分すると、発生した損失のエネルギーが計算される。比較形態の半導体装置で発生した損失のエネルギーが71.1μJであるのに対し、本実施形態の半導体装置での損失のエネルギーは38.9μJであった。よって、本実施形態の半導体装置により、スイッチング損失が低減することが明らかとなった。
なお、図3に示した半導体装置では、上述の通り、主回路電流が流れる経路のソースインダクタンスと、第2のコンデンサ80を流れる電流の経路のインダクタンスを同じにしている。よって、第2のコンデンサ80を流れる経路のインダクタンスを、主回路電流が流れる経路のインダクタンスよりも小さくすることにより、さらにスイッチング損失が低減するものと考えられる。
第1の配線60の第1の外縁61に平行で第1の配線60を通る線と、第1の配線60の第2の外縁62に平行で第1の配線60を通る線のいずれか一方が、主回路配線15を通り、ゲートドライブ回路基準電位線72を通ることが好ましい。又は、ゲートドライブ回路基準電位線72の第3の外縁(第2の外縁)73に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線と、ゲートドライブ回路基準電位線72の第4の外縁74に平行でゲートドライブ回路基準電位線72を通る線のいずれか一方が、主回路配線15を通り、第1の配線60を通ることが好ましい。なぜなら、これにより、第2のコンデンサ80を流れる電流が、ゲートドライブ回路基準電位線72に直接流れ込みやすくなる。そのため、ノーマリーオフトランジスタ10のソースインダクタンスを迂回して、ノーマリーオントランジスタ20をより良好にケルビン接続させることが可能であるからである。
第2のコンデンサ80の容量が第1のコンデンサ30の容量以上であることは、第1のコンデンサ30に蓄えられた電荷を迅速に第2のコンデンサ80からソース端子50へと流し、ノーマリーオントランジスタ20の遅延やリンギングを抑制する上で好ましい。
以上、本実施形態の半導体装置によれば、遅延やリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置の提供が可能になる。
(第2の実施形態)
本実施形態の半導体装置は、第3の端部81が主回路配線15を介さずに、ゲートドライブ回路基準電位線72に直接電気的に接続されている点で、第1の実施形態と異なっている。ここで、第1の実施形態と重複する内容については、記載を省略する。
図5は、本実施形態の半導体装置110の回路図である。
第3の端部81が主回路配線15を介さず、第1の配線60を用いてゲートドライブ回路基準電位線72に直接接続されているため、主回路配線15を流れる主回路電流の影響をより小さくしたケルビン接続が実現可能となる。そのため、遅延やリンギングがさらに抑制される。
本実施形態の半導体装置によれば、遅延やリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置の提供が可能になる。
(第3の実施形態)
本実施形態の半導体装置は、ゲートドライブ回路基準電位線72と第3の端部81の間に電気的に接続された第2の抵抗70をさらに備えた点で、第1の実施形態の半導体装置と異なっている。ここで、第1の実施形態と重複する内容については、記載を省略する。
図6は、本実施形態の半導体装置120の回路図である。
第2のコンデンサ80は、図示しない寄生インダクタンスを有する。そのため、第2のコンデンサ80自身の容量と、第2のコンデンサ80の寄生インダクタンスによる共振が発生する点が問題となる。
本実施形態の半導体装置120のように第2の抵抗70をさらに備えることで、上述の共振の発生が抑制されるため、さらに良好なケルビン接続を行うことが出来る。
本実施形態の半導体装置によれば、遅延やリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置の提供が可能になる。
(第4の実施形態)
本実施形態の半導体装置は、第2のソースに電気的に接続された第3のアノードと、第4の端部に電気的に接続された第3のカソードと、を有する第3のダイオードと、第4のアノードと、第2のソースに電気的に接続された第4のカソードと、を有する第4のダイオードと、第5の端部と、第6の端部と、を有し、第5の端部は第2の配線を用いてゲートドライブ回路基準電位線に電気的に接続され、第6の端部は第4のアノードに電気的に接続された第3のコンデンサと、ゲートドライブ回路基準電位線と第5の端部の間に電気的に接続された第3の抵抗と、をさらに備え、第4のダイオード、第3のコンデンサ及び第3の抵抗は、第3のダイオード、第2のコンデンサ及び第2の抵抗と並列に設けられた第2の実施形態の半導体装置と異なっている。ここで、第1乃至第3の実施形態と重複する点については、記載を省略する。
図7は、本実施形態の半導体装置130の回路図である。
本実施形態の半導体装置130においては、第3のダイオード75、第2のコンデンサ80及び第2の抵抗70を介した経路と、第4のダイオード90、第3のコンデンサ95及び第3の抵抗85を介した経路の両方で、ノーマリーオントランジスタ20がケルビン接続されている。
例えば、ノーマリーオントランジスタ20がオン駆動するときとオフ駆動するときで、第3のダイオード75を経由した経路と第4のダイオード90を経由した経路それぞれでケルビン接続されるものと想定した回路設計が可能となる。そのため、設計の自由度が増加し、さらに良好なケルビン接続が可能となる。
なお、良好なケルビン接続のため、第2の配線65の第5の外縁(第3の外縁)に平行で主回路配線15及び第2の配線65を通る線はゲートドライブ回路基準電位線72を通る、又はゲートドライブ回路基準電位線72の第6の外縁(第4の外縁)に平行で主回路配線15及びゲートドライブ回路基準電位線72を通る線は第2の配線65を通ることが好ましい。
本実施形態の半導体装置によれば、遅延やリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置の提供が可能になる。
(第5の実施形態)
本実施形態の半導体装置は、第1のカソード42は第2のソース21に電気的に接続されている点で、第1の実施形態と異なっている。ここで、第1乃至第4の実施形態と重複する点については、記載を省略する。
図8は、本実施形態の半導体装置140の回路図である。
本実施形態の半導体装置140においても、他の実施形態の半導体装置と同様、過渡的に生じる電流について第2のコンデンサ80を介したケルビン接続の効果が得られる。これにより、遅延及びリンギングが抑制される。
本実施形態の半導体装置によっても、遅延やリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体装置の提供が可能になる。
(第6の実施形態)
本実施形態の半導体パッケージは、第1のソースと、第1のドレインと、第1のゲートと、を有するノーマリーオフトランジスタと、第1のドレインに電気的に接続された第2のソースと、第2のドレインと、第2のゲートと、を有するノーマリーオントランジスタと、第1の端部と、第2の端部と、を有し、第2の端部は第2のゲートに電気的に接続された第1のコンデンサと、第2の端部と第2のゲートの間に電気的に接続された第1のアノードと、第1のカソードと、を有する第1のダイオードと、第1の端部と第1のゲートの間に電気的に接続された第1の抵抗と、第1の端部に電気的に接続された第2のアノードと、第1のゲートに電気的に接続された第2のカソードと、を有し、第1の抵抗と並列に設けられた第2のダイオードと、第3の端部と第4の端部を有し、第4の端部は第2のソースに電気的に接続された第2のコンデンサと、第2のドレインに電気的に接続されたドレイン端子と、第1の端部、第1の抵抗及び第2のアノードに電気的に接続されたゲート端子と、第1のソースに電気的に接続された第1のソース端子と、第3の端部に電気的に接続された第2のソース端子と、を備えた半導体パッケージである。ここで、第1乃至第5の実施形態と重複する内容については、記載を省略する。
図9は、本実施形態の半導体パッケージの模式図である。
図9(a)は、本実施形態の半導体パッケージに用いられている半導体装置150の回路図である。
ゲート端子54は、第1の抵抗48、第2のアノード45及び第1の端部31に電気的に接続されている。ドレイン端子52は、第2のドレイン22に電気的に接続されている。第1のソース端子50は、第1のソース11に電気的に接続されている。第2のソース端子56は、第3の端部81に電気的に接続されている。
図9(b)は、図9(a)に示した回路図を用いた半導体パッケージ200の模式図である。パッケージ210の外に、ゲート端子54、ドレイン端子52、第1のソース端子50及び第2のソース端子56が設けられている。
第1のソース端子50と第2のソース端子56が物理的に別の端子となっているため、良好なケルビン接続を行うことが可能となる。
本実施形態の半導体パッケージによれば、遅延やリンギングの抑制された、ノーマリーオフトランジスタとノーマリーオントランジスタがカスコード接続された半導体パッケージの提供が可能になる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことが出来る。例えば、一実施形態の構成要素を他の実施形態の構成要素と置き換え又は変更してもよい。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10 ノーマリーオフトランジスタ
11 第1のソース
12 第1のドレイン
13 第1のゲート
15 主回路配線
20 ノーマリーオントランジスタ
21 第2のソース
22 第2のドレイン
23 第2のゲート
28 寄生容量
30 第1のコンデンサ
31 第1の端部
32 第2の端部
40 第1のダイオード
41 第1のアノード
42 第1のカソード
44 第2のダイオード
45 第2のアノード
46 第2のカソード
48 第1の抵抗
50 第1のソース端子(ソース端子)
52 ドレイン端子
54 ゲート端子
56 第2のソース端子
60 第1の配線
61 第1の外縁
62 第2の外縁
65 第2の配線
70 第2の抵抗
71 ゲートドライブ回路
72 ゲートドライブ回路基準電位線(第3の配線)
73 第3の外縁(第2の外縁)
74 第4の外縁
75 第3のダイオード
76 第3のアノード
77 第3のカソード
80 第2のコンデンサ
81 第3の端部
82 第4の端部
85 第3の抵抗
88 第4の抵抗
89 第5の抵抗
90 第4のダイオード
91 第4のアノード
92 第4のカソード
95 第3のコンデンサ
96 第5の端部
97 第6の端部
100 半導体装置
110 半導体装置
120 半導体装置
130 半導体装置
140 半導体装置
150 半導体装置
200 半導体パッケージ
210 パッケージ

Claims (7)

  1. 第1のソースと、第1のドレインと、第1のゲートと、を有するノーマリーオフトランジスタと、
    前記第1のドレインに電気的に接続された第2のソースと、第2のドレインと、第2のゲートと、を有するノーマリーオントランジスタと、
    第1の端部と、第2の端部と、を有し、前記第2の端部は前記第2のゲートに電気的に接続された第1のコンデンサと、
    前記第2の端部と前記第2のゲートの間に電気的に接続された第1のアノードと、第1のカソードと、を有する第1のダイオードと、
    前記第1の端部と前記第1のゲートの間に電気的に接続された第1の抵抗と、
    前記第1の端部に電気的に接続された第2のアノードと、前記第1のゲートに電気的に接続された第2のカソードと、を有し、前記第1の抵抗と並列に設けられた第2のダイオードと、
    前記第1の抵抗と前記第2のアノードに電気的に接続されたゲートドライブ回路であって、前記ゲートドライブ回路の基準電位は前記ゲートドライブ回路に接続された第3の配線を用いて第1のソースに電気的に接続された、前記ゲートドライブ回路と、
    第3の端部と第4の端部を有し、前記第3の端部は第1の配線を用いて前記第3の配線に電気的に接続され、前記第4の端部は前記第2のソースに電気的に接続された第2のコンデンサと、
    前記第3の配線と前記第3の端部の間に電気的に接続された第2の抵抗と、
    を備えた半導体装置。
  2. 前記第2のソースに電気的に接続された第3のアノードと、前記第4の端部に電気的に接続された第3のカソードと、を有する第3のダイオードと、
    第4のアノードと、前記第2のソースに電気的に接続された第4のカソードと、を有する第4のダイオードと、
    第5の端部と、第6の端部と、を有し、前記第5の端部は第2の配線を用いて前記第3の配線に電気的に接続され、前記第6の端部は前記第4のアノードに電気的に接続された第3のコンデンサと、
    前記第3の配線と前記第5の端部の間に電気的に接続された第3の抵抗と、
    をさらに備え、
    前記第4のダイオード、前記第3のコンデンサ及び前記第3の抵抗は、前記第3のダイオード、前記第2のコンデンサ及び前記第2の抵抗と並列に設けられた請求項記載の半導体装置。
  3. 前記第1のカソードは前記第1のソースに電気的に接続された請求項1又は請求項2記載の半導体装置。
  4. 前記第1のカソードは前記第2のソースに電気的に接続された請求項1又は請求項2記載の半導体装置。
  5. 第1のソースと、第1のドレインと、第1のゲートと、を有するノーマリーオフトランジスタと、
    前記第1のドレインに電気的に接続された第2のソースと、第2のドレインと、第2のゲートと、を有するノーマリーオントランジスタと、
    第1の端部と、第2の端部と、を有し、前記第2の端部は前記第2のゲートに電気的に接続された第1のコンデンサと、
    前記第2の端部と前記第2のゲートの間に電気的に接続された第1のアノードと、第1のカソードと、を有する第1のダイオードと、
    前記第1の端部と前記第1のゲートの間に電気的に接続された第1の抵抗と、
    前記第1の端部に電気的に接続された第2のアノードと、前記第1のゲートに電気的に接続された第2のカソードと、を有し、前記第1の抵抗と並列に設けられた第2のダイオードと、
    前記第1の抵抗と前記第2のアノードに電気的に接続されたゲートドライブ回路であって、前記ゲートドライブ回路の基準電位は前記ゲートドライブ回路に接続された第3の配線を用いて第1のソースに電気的に接続された、前記ゲートドライブ回路と、
    第3の端部と第4の端部を有し、前記第3の端部は第1の配線を用いて前記第3の配線に電気的に接続され、前記第4の端部は前記第2のソースに電気的に接続された第2のコンデンサと、
    を備え、
    前記第2のコンデンサの容量は前記第1のコンデンサの容量以上である半導体装置。
  6. 前記第1のカソードは前記第1のソースに電気的に接続された請求項5記載の半導体装置。
  7. 前記第1のカソードは前記第2のソースに電気的に接続された請求項5記載の半導体装置。
JP2018054116A 2018-03-22 2018-03-22 半導体装置及び半導体パッケージ Active JP6800906B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018054116A JP6800906B2 (ja) 2018-03-22 2018-03-22 半導体装置及び半導体パッケージ
US16/114,780 US10658356B2 (en) 2018-03-22 2018-08-28 Semiconductor device and semiconductor package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018054116A JP6800906B2 (ja) 2018-03-22 2018-03-22 半導体装置及び半導体パッケージ

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020131498A Division JP7003194B2 (ja) 2020-08-03 2020-08-03 半導体パッケージ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019169766A JP2019169766A (ja) 2019-10-03
JP6800906B2 true JP6800906B2 (ja) 2020-12-16

Family

ID=67984526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018054116A Active JP6800906B2 (ja) 2018-03-22 2018-03-22 半導体装置及び半導体パッケージ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10658356B2 (ja)
JP (1) JP6800906B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210016060A (ko) * 2018-06-29 2021-02-10 쿨리케 앤드 소파 인더스트리즈, 인코포레이티드 와이어 본딩 기계 상의 본딩 위치와 본딩 와이어 사이의 본딩을 검출하는 방법
JP7224918B2 (ja) * 2019-01-04 2023-02-20 株式会社東芝 半導体装置及び半導体パッケージ
WO2020252561A1 (en) * 2019-06-17 2020-12-24 Smartd Technologies Inc. Dynamic balancing of transistors
CN112992834B (zh) * 2021-02-09 2022-02-18 捷捷微电(上海)科技有限公司 一种源栅间接电连接的先进二极管封装结构
TWI810702B (zh) * 2021-11-05 2023-08-01 國立陽明交通大學 功率模組
CN117040512B (zh) * 2023-10-10 2024-02-06 广东致能科技有限公司 耗尽型晶体管的驱动电路

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2967520D1 (en) * 1979-12-28 1985-10-31 Int Rectifier Corp Field effect transistor circuit configuration
DE19902520B4 (de) * 1999-01-22 2005-10-06 Siemens Ag Hybrid-Leistungs-MOSFET
DE10229633A1 (de) * 2002-07-02 2004-01-29 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Ansteuerung für einen Halbbrückenwechselrichter
JP4916964B2 (ja) 2007-07-12 2012-04-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Dc−dcコンバータ、ドライバic、およびシステムインパッケージ
US20120262220A1 (en) * 2011-04-13 2012-10-18 Semisouth Laboratories, Inc. Cascode switches including normally-off and normally-on devices and circuits comprising the switches
JP5794855B2 (ja) 2011-08-05 2015-10-14 トランスフォーム・ジャパン株式会社 電源装置の駆動回路及び電源装置
JP5996465B2 (ja) * 2013-03-21 2016-09-21 株式会社東芝 半導体装置
JP6196931B2 (ja) * 2014-04-23 2017-09-13 株式会社豊田中央研究所 スナバ回路内蔵モジュール
WO2017009990A1 (ja) 2015-07-15 2017-01-19 株式会社 東芝 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
US10658356B2 (en) 2020-05-19
JP2019169766A (ja) 2019-10-03
US20190296008A1 (en) 2019-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6800906B2 (ja) 半導体装置及び半導体パッケージ
CN111415916B (zh) 半导体装置以及半导体封装
US9653449B2 (en) Cascoded semiconductor device
US10084442B2 (en) Semiconductor device
JP6223918B2 (ja) 半導体装置
JP6558359B2 (ja) 半導体装置
US8878571B2 (en) Driver circuit of Schottky transistor
US10897249B1 (en) Switching circuits having drain connected ferrite beads
CN114172123B (zh) 半导体装置
JP6779932B2 (ja) 半導体装置
US20180083617A1 (en) Paralleling of Switching Devices for High Power Circuits
US8854112B2 (en) FET drive circuit and FET module
JP7003194B2 (ja) 半導体パッケージ
US10771057B1 (en) Semiconductor device
US20230412167A1 (en) Power Electronic Module Comprising a Gate-Source Control Unit
JP7337618B2 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190813

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200514

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200602

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200803

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20201027

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201125

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6800906

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151