KR102168874B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 인접한 서브화소 사이의 비 표시 영역의 전계를 감소시켜 측면에서의 혼색을 방지하여 표시 품질을 향상시키며 동시에 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 미스 얼라인이 발생하여 합착 불량이 발생하여도 빛 샘을 방지할 수 있는 액정 표시 장치에 관한 것으로, 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 형성된 박막 트랜지스터; 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 형성된 보호막; 상기 보호막 상에 형성되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및 절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 형성된 공통 전극을 포함하며, 상기 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판 상에 불투명한 전도성 물질로 형성되어 상기 데이터 배선과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하여 이루어져, 상기 블랙 매트릭스와 상기 공통 전극 사이에서 수직 전계가 발생한다.The present invention improves display quality by reducing the electric field in the non-display area between adjacent subpixels to prevent color mixing at the side, and at the same time, misalignment between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate occurs, resulting in a bonding failure. A liquid crystal display device capable of preventing light leakage, wherein a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, wherein the thin film transistor array substrate is on a first substrate. A thin film transistor formed for each of a plurality of subpixels having a matrix shape defined by crossing the gate line and the data line; A protective film formed to cover the thin film transistor; A pixel electrode formed on the protective film and connected to the thin film transistor; And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween, and formed to a region overlapping the data line, wherein the color filter array substrate is formed of an opaque conductive material on the second substrate, It includes an overlapping black matrix, and a vertical electric field is generated between the black matrix and the common electrode.

Description

액정 표시 장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Liquid crystal display device {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로, 측면에서의 혼색을 방지하여 표시 품질을 향상시키며 정면 빛 샘을 방지할 수 있는 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and relates to a liquid crystal display device capable of preventing color mixture from side surfaces to improve display quality and prevent front light leakage.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms. Display) and other flat panel display devices have been studied, and some are already used as display devices in various equipment.

그 중, 액정 표시 장치는 컬러 필터가 형성된 컬러 필터 어레이 기판, 박막 트랜지스터가 형성된 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 컬러 필터 어레이 기판과 박막 트랜지스터 어레이 기판 사이에 형성된 액정층을 포함한다. 박막 트랜지스터 어레이 기판에는 게이트 배선과 데이터 배선이 서로 교차하여 서브화소를 정의하고, 각 서브화소에 박막 트랜지스터가 형성된다. 컬러 필터 어레이 기판에 형성된 컬러 필터는 각 서브화소에 대응되도록 형성되어, 박막 트랜지스터가 구동됨에 따라 각 컬러 필터에 대응되는 컬러의 광을 구현한다. 컬러 필터 어레이 기판에는 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 등이 형성된 비 표시 영역에 대응되도록 블랙 매트릭스가 구비되어, 비 표시 영역에서의 빛 샘을 방지한다.Among them, the liquid crystal display device includes a color filter array substrate on which a color filter is formed, a thin film transistor array substrate on which a thin film transistor is formed, and a liquid crystal layer formed between the color filter array substrate and the thin film transistor array substrate. In the thin film transistor array substrate, a gate line and a data line cross each other to define a subpixel, and a thin film transistor is formed in each subpixel. The color filters formed on the color filter array substrate are formed to correspond to each subpixel, and as the thin film transistor is driven, light of a color corresponding to each color filter is realized. The color filter array substrate is provided with a black matrix to correspond to a non-display area in which a thin film transistor, a gate line, a data line, etc. are formed, to prevent light leakage in the non-display area.

특히, 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극이 절연막을 사이에 공통 전극과 중첩되어 프린지 전계를 발생시키는 프린지 전계 모드 액정 표시 장치의 경우, 정면 투과율을 향상시키기 위해 데이터 배선에 대응되는 인접한 서브화소 사이에도 공통 전극을 형성한다. 상기와 같은 프린지 전계 모드 액정 표시 장치는 화소 전극과 공통 전극이 중첩되는 화소 영역의 중앙부에서는 프린지 전계가 형성되며, 데이터 배선 주변에서는 횡전계가 발생한다. 즉, 상기와 같이 발생한 횡전계에 의해 서브화소 주변부의 액정 역시 회전하여 정면 투과율이 향상된다.In particular, in the case of a fringe electric field mode liquid crystal display in which a pixel electrode connected to a thin film transistor overlaps a common electrode between an insulating film to generate a fringe electric field, it is also common between adjacent subpixels corresponding to the data wiring to improve the front transmittance. To form an electrode. In the fringe electric field mode liquid crystal display as described above, a fringe electric field is formed in a central portion of a pixel region where the pixel electrode and the common electrode overlap, and a lateral electric field is generated around the data line. That is, the liquid crystal around the sub-pixel is also rotated by the transverse electric field generated as described above, thereby improving the front transmittance.

그런데, 횡전계에 의해 액정이 회전하면서 측면에서 액정 표시 장치를 보는 경우 인접한 서브화소의 컬러 필터에 의해 혼색이 발생하여 표시 품질이 저하된다. 예를 들어, 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)의 컬러 필터가 구비된 적색, 녹색 및 청색 서브화소가 매트릭스 형태로 구비된 경우, 적색 서브화소만 구동시켜도 적색 서브화소 주변부에서 발생한 횡전계에 의해 액정이 회전한다. 따라서, 적색 광은 인접한 서브화소의 청색 광 및 녹색 광과 혼합된다.However, when the liquid crystal display is viewed from the side while the liquid crystal rotates due to the lateral electric field, color mixture occurs due to the color filters of adjacent sub-pixels, resulting in deterioration of display quality. For example, when red, green, and blue subpixels with red, green, and blue color filters are provided in a matrix form, driving only the red subpixels will The liquid crystal rotates by the generated transverse electric field. Thus, red light is mixed with blue light and green light of adjacent subpixels.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 데이터 배선에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 전계를 감소시켜 측면에서의 혼색을 방지하여 표시 품질을 향상시키며 동시에 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 미스 얼라인이 발생하여 합착 불량이 발생하여도 빛 샘을 방지할 수 있는 액정 표시 장치를 제공하는데, 그 목적이 있다.The present invention has been conceived to solve the above problems, and reduces the electric field between adjacent sub-pixels corresponding to the data line to prevent color mixing at the side to improve display quality, and at the same time, a thin film transistor array substrate and a color filter array Provided is a liquid crystal display device capable of preventing light leakage even when a misalignment of a substrate occurs and a bonding failure occurs, and there is an object thereof.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 형성된 박막 트랜지스터; 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 형성된 보호막; 상기 보호막 상에 형성되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및 절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 형성된 공통 전극을 포함하며, 상기 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판 상에 불투명한 전도성 물질로 형성되어 상기 데이터 배선과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하여 이루어져, 상기 블랙 매트릭스와 상기 공통 전극 사이에서 수직 전계가 발생한다.The liquid crystal display of the present invention for achieving the above object is a liquid crystal display in which a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, wherein the thin film transistor array substrate is on a first substrate. A thin film transistor formed for each of a plurality of subpixels having a matrix shape defined by crossing the gate line and the data line; A protective film formed to cover the thin film transistor; A pixel electrode formed on the protective film and connected to the thin film transistor; And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween, and formed to a region overlapping the data line, wherein the color filter array substrate is formed of an opaque conductive material on the second substrate, It includes an overlapping black matrix, and a vertical electric field is generated between the black matrix and the common electrode.

상기 수직 전계는 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판 중 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에서 상기 공통 전극과 상기 화소 전극에 의해 발생하는 횡전계에 의해 상기 액정층의 액정이 회전하는 것을 방지한다.The vertical electric field prevents the liquid crystal of the liquid crystal layer from rotating due to a lateral electric field generated by the common electrode and the pixel electrode in a region of the thin film transistor array substrate corresponding to the data line.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 형성된 박막 트랜지스터; 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 형성된 보호막; 상기 보호막 상에 형성되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및 절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 형성된 공통 전극을 포함하며, 상기 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판 상에 형성되어 상기 데이터 배선과 중첩되는 추가 전극을 포함하여 이루어져, 상기 추가 전극과 상기 공통 전극 사이에서 수직 전계가 발생한다.In addition, in a liquid crystal display according to another embodiment of the present invention, in a liquid crystal display in which a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer therebetween, the thin film transistor array substrate is on the first substrate. A thin film transistor formed for each of a plurality of subpixels having a matrix shape defined by crossing the gate line and the data line; A protective film formed to cover the thin film transistor; A pixel electrode formed on the protective film and connected to the thin film transistor; And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween and formed to a region overlapping the data line, wherein the color filter array substrate is formed on the second substrate to provide an additional electrode overlapping the data line. And a vertical electric field is generated between the additional electrode and the common electrode.

상기 수직 전계는 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판 중 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에서 상기 공통 전극과 상기 화소 전극에 의해 발생하는 횡전계에 의해 상기 액정층의 액정이 회전하는 것을 방지한다.The vertical electric field prevents the liquid crystal of the liquid crystal layer from rotating due to a lateral electric field generated by the common electrode and the pixel electrode in a region of the thin film transistor array substrate corresponding to the data line.

상기 컬러 필터 어레이 기판은 상기 제 2 기판 상에 형성되어 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터와 중첩되도록 구비된 블랙 매트릭스, 상기 서브화소에 대응되도록 상기 제 2 기판 상에 형성된 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스와 상기 컬러 필터를 덮도록 형성된 오버 코트층을 포함하며, 상기 추가 전극은 상기 오버 코트층 또는 상기 컬러 필터 상에 형성되거나, 상기 블랙 매트릭스 상에 형성되어 상기 블랙 매트릭스와 동일 패턴으로 형성된다.The color filter array substrate is formed on the second substrate and provided to overlap the gate wiring, the data wiring, and the thin film transistor, and the color filter formed on the second substrate to correspond to the subpixel, and the black matrix And an overcoat layer formed to cover the color filter, wherein the additional electrode is formed on the overcoat layer or the color filter, or is formed on the black matrix to have the same pattern as the black matrix.

상기 추가 전극의 폭은 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역의 상기 블랙 매트릭스의 폭과 동일하다.The width of the additional electrode is the same as the width of the black matrix in an area overlapping the data line.

상기 추가 전극은 불투명한 전도성 물질로 형성되거나 투명한 전도성 물질로 형성된다.The additional electrode is formed of an opaque conductive material or a transparent conductive material.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 형성된 박막 트랜지스터; 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 형성된 보호막; 상기 보호막 상에 형성되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및 절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 형성된 공통 전극을 포함하며, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판과 상기 컬러 필터 어레이 기판 중 적어도 하나의 기판에 형성되며, 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에 형성된 전계 방지 패턴을 포함하여 이루어져, 상기 전계 방지 패턴이 형성된 영역의 상기 액정층의 셀 갭이 나머지 영역의 상기 액정층의 셀 갭보다 작다.In addition, in a liquid crystal display according to another embodiment of the present invention, in a liquid crystal display in which a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer therebetween, the thin film transistor array substrate is on the first substrate. A thin film transistor formed for each of a plurality of subpixels having a matrix shape defined by crossing the gate line and the data line; A protective film formed to cover the thin film transistor; A pixel electrode formed on the protective film and connected to the thin film transistor; And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween and formed to a region overlapping the data line, and is formed on at least one of the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate, and the data A cell gap of the liquid crystal layer in a region in which the field prevention pattern is formed is smaller than a cell gap of the liquid crystal layer in the remaining region, which includes an electric field prevention pattern formed in a region corresponding to the wiring.

상기 전계 방지 패턴이 형성된 영역에서 발생하는 전계의 세기가 상기 절연막을 사이에 두고 중첩된 상기 화소 전극과 상기 공통 전극에 의해 발생하는 전계의 세기보다 약하다.The strength of the electric field generated in the area where the electric field prevention pattern is formed is weaker than the strength of the electric field generated by the common electrode and the pixel electrode overlapped with the insulating layer therebetween.

상기 전계 방지 패턴은 상기 보호막과 일체형으로 형성된다.The electric field prevention pattern is integrally formed with the protective layer.

상기 전계 방지 패턴은 상기 절연막 상에 형성된다.The electric field prevention pattern is formed on the insulating layer.

상기 전계 방지 패턴은 유기 절연 물질로 형성된다.The electric field prevention pattern is formed of an organic insulating material.

상기 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판과, 상기 제 2 기판 상에 형성되어 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터와 중첩되도록 구비된 블랙 매트릭스, 상기 서브화소에 대응되도록 상기 제 2 기판 상에 형성된 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스와 상기 컬러 필터를 덮도록 형성된 오버 코트층을 포함한다.The color filter array substrate includes a second substrate, a black matrix formed on the second substrate to overlap the gate wiring, the data wiring, and the thin film transistor, and a color formed on the second substrate to correspond to the subpixels. And a filter and an overcoat layer formed to cover the black matrix and the color filter.

상기 전계 방지 패턴은 상기 오버 코트층과 일체형으로 형성된다.The electric field prevention pattern is integrally formed with the overcoat layer.

상기 전계 방지 패턴은 상기 데이터 배선을 따라 복수 개가 일렬로 배열된 구조로 형성되거나, 상기 데이터 배선과 중첩되고 상기 게이트 배선에 대응되는 영역에서는 분리된 구조로 형성되거나, 상기 게이트 배선 및 상기 데이터 배선과 중첩되도록 형성되어 상기 서브화소를 감싸는 구조로 형성된다.The field prevention pattern may be formed in a structure in which a plurality of fields are arranged in a line along the data line, overlap the data line, and formed in a separate structure in a region corresponding to the gate line, or the gate line and the data line It is formed to overlap and is formed in a structure surrounding the subpixels.

상기와 같은 본 발명의 액정 표시 장치는 다음과 같은 효과가 있다.The liquid crystal display of the present invention as described above has the following effects.

첫째, 블랙 매트릭스를 불투명한 전도성 물질로 형성함으로써, 데이터 배선에 대응되는 비 표시 영역에서 블랙 매트릭스와 공통 전극에 의해 수직 전계를 발생시킨다. 수직 전계는 서브화소 주변부에서 횡전계가 발생하는 것을 방지하므로, 서브화소 주변부의 액정 회전이 감소되어 측면 혼색이 방지된다. 특히, 데이터 배선에 대응되도록 컬러 필터 또는 오버 코트층 상에 추가 전극을 형성함으로써, 상술한 수직 전계를 발생시킬 수 있다.First, by forming the black matrix of an opaque conductive material, a vertical electric field is generated by the black matrix and the common electrode in the non-display area corresponding to the data line. Since the vertical electric field prevents the lateral electric field from being generated in the periphery of the sub-pixel, rotation of the liquid crystal in the periphery of the sub-pixel is reduced to prevent lateral color mixing. In particular, by forming an additional electrode on the color filter or the overcoat layer to correspond to the data line, the above-described vertical electric field can be generated.

둘째, 데이터 배선에 대응되는 비 표시 영역에 대응되도록 박막 트랜지스터 어레이 기판에 전계 감소 패턴을 형성함으로써, 데이터 배선에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 셀 갭이 감소된다. 따라서, 인접한 서브화소 사이에서 발생하는 횡전계의 크기가 감소하여 투과율 역시 감소된다. 특히, 전계 감소 패턴의 두께를 조절하여 투과율을 용이하게 조절할 수 있다.Second, by forming an electric field reduction pattern on the thin film transistor array substrate so as to correspond to the non-display area corresponding to the data line, a cell gap between adjacent subpixels corresponding to the data line is reduced. Accordingly, the magnitude of the transverse electric field generated between adjacent subpixels decreases, so that the transmittance is also reduced. In particular, it is possible to easily adjust the transmittance by adjusting the thickness of the electric field reduction pattern.

셋째, 전계 감소 패턴에 의해 데이터 배선에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 횡전계가 감소하므로, 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 미스 얼라인에 의해 합착 불량이 발생하여도 정면 빛 샘을 방지할 수 있다.Third, since the lateral electric field between adjacent subpixels corresponding to the data wiring is reduced by the electric field reduction pattern, front light leakage can be prevented even if a bonding failure occurs due to misalignment between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate. I can.

도 1은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 3a는 일반적인 액정 표시 장치의 투과율 및 전계를 나타낸 단면도이며, 도 3b는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 투과율 및 전계를 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 투과율 및 전계를 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 8a 내지 도 8c는 전계 감소 패턴의 평면도이다.
도 9a 내지 도 9e는 도 8a의 Ⅰ-Ⅰ'의 단면도이다.
도 10은 합착 불량이 발생한 일반적인 액정 표시 장치의 투과율을 나타낸 그래프이다.
도 11은 합착 불량이 발생한 본 발명의 액정 표시 장치의 투과율을 나타낸 그래프이다.
1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.
2A to 2C are cross-sectional views of a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention.
3A is a cross-sectional view illustrating a transmittance and an electric field of a general liquid crystal display, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating a transmittance and an electric field of a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a third exemplary embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating transmittance and electric field of a liquid crystal display according to a third exemplary embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a fifth exemplary embodiment of the present invention.
8A to 8C are plan views of electric field reduction patterns.
9A to 9E are cross-sectional views taken along line I-I' of FIG. 8A.
10 is a graph showing transmittance of a general liquid crystal display device in which bonding failure occurs.
11 is a graph showing the transmittance of the liquid crystal display device of the present invention in which bonding failure occurs.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 액정 표시 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 1과 같이, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 제 1 기판(110)과, 제 1 기판(110)에 형성된 박막 트랜지스터(미도시), 화소 전극(130) 및 공통 전극(140)을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이 기판, 제 2 기판(210)과, 제 2 기판(210)에 형성된 블랙 매트릭스(215), 컬러 필터(220) 및 오버 코트층(225)을 포함하는 컬러 필터 어레이 기판 및 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판 사이의 액정층(300)을 포함하며, 블랙 매트릭스(215)는 불투명 전도성 물질로 형성되어 공통 전극(140)과 블랙 매트릭스(215) 사이에서 수직 전계가 발생한다.1, the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention includes a first substrate 110, a thin film transistor (not shown) formed on the first substrate 110, a pixel electrode 130, and a common electrode ( A color filter array including a thin film transistor array substrate including 140), a second substrate 210, a black matrix 215 formed on the second substrate 210, a color filter 220, and an overcoat layer 225 It includes a substrate and a liquid crystal layer 300 between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate, and the black matrix 215 is formed of an opaque conductive material so that a vertical electric field is generated between the common electrode 140 and the black matrix 215. Occurs.

구체적으로, 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판(110) 상에 게이트 배선과 데이터 배선(DL)이 교차하여 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소가 정의된다. 서브화소마다 게이트 전극, 게이트 절연막(115), 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터(미도시)가 형성되며, 박막 트랜지스터를 덮도록 보호막(125)이 형성된다. 보호막(125)은 무기 절연 물질로 형성된 제 1 보호막(125a)과 유기 절연 물질로 형성된 제 2 보호막(125b)이 차례로 적층된 구조로 형성될 수 있다. 제 1 보호막(125a)은 산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx) 등이며, 제 2 보호막(125b)은 감광성 화합물(Photo active compound; PAC)인 것이 바람직하다.Specifically, in the thin film transistor array substrate, a plurality of subpixels in a matrix form are defined by crossing the gate line and the data line DL on the first substrate 110. A thin film transistor (not shown) including a gate electrode, a gate insulating film 115, a semiconductor layer, a source electrode, and a drain electrode is formed for each sub-pixel, and a protective film 125 is formed to cover the thin film transistor. The passivation layer 125 may be formed in a structure in which a first passivation layer 125a formed of an inorganic insulating material and a second passivation layer 125b formed of an organic insulating material are sequentially stacked. The first passivation layer 125a is preferably silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or the like, and the second passivation layer 125b is preferably a photo active compound (PAC).

보호막(125) 상에 박막 트랜지스터(미도시)와 접속되는 화소 전극(130)이 구비된다. 화소 전극(130)은 통전극 형태로 형성되며, 서브화소마다 분리된 구조로 형성된다. 화소 전극(130)을 덮도록 절연막(135)이 형성된다. 절연막(135) 상에는 화소 전극(130)과 중첩되도록 슬릿 형태의 공통 전극(140)이 형성된다. 공통 전극(140)은 정면 투과율을 향상시키기 위해 데이터 배선(DL)을 사이에 두고 인접하는 서브화소 사이에도 형성된다.A pixel electrode 130 connected to a thin film transistor (not shown) is provided on the passivation layer 125. The pixel electrode 130 is formed in the form of a current electrode, and is formed in a structure separated for each sub-pixel. An insulating layer 135 is formed to cover the pixel electrode 130. A slit-shaped common electrode 140 is formed on the insulating layer 135 to overlap the pixel electrode 130. The common electrode 140 is also formed between adjacent subpixels with the data line DL interposed therebetween to improve the front transmittance.

도면에서는 공통 전극(140)이 절연막(135) 상부에 구비되는 것을 도시하였으나, 화소 전극(130)이 절연막(135) 상에 구비되고 공통 전극(140)이 보호막(125)과 절연막(135) 사이에 구비될 수도 있다. 이 경우, 공통 전극(140)이 인접한 서브화소 사이를 덮도록 제 1 기판(110) 전면에 통전극 형태로 형성되며, 화소 전극(130)은 각 서브화소에 대응되도록 슬릿 형태로 형성된다.Although the drawing shows that the common electrode 140 is provided on the insulating layer 135, the pixel electrode 130 is provided on the insulating layer 135 and the common electrode 140 is disposed between the protective layer 125 and the insulating layer 135. It may be provided in. In this case, the common electrode 140 is formed in the form of a current electrode on the entire surface of the first substrate 110 so as to cover between adjacent subpixels, and the pixel electrode 130 is formed in a slit shape to correspond to each subpixel.

액정층(300)을 사이에 두고 박막 트랜지스터 어레이 기판과 대향 합착되는 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판(210)과, 제 2 기판(210)에 형성된 블랙 매트릭스(215), 컬러 필터(220), 오버 코트층(225) 등을 포함한다.The color filter array substrate, which is bonded to the thin film transistor array substrate with the liquid crystal layer 300 therebetween, includes a second substrate 210, a black matrix 215 formed on the second substrate 210, a color filter 220, And an overcoat layer 225 and the like.

블랙 매트릭스(215)는 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터(미도시) 등에 대응되도록 형성되어 비 표시 영역의 빛 샘을 방지한다. 그리고, 각 서브화소에 대응되도록 적색, 녹색 및 청색 컬러 필터(220R, 220G, 220B)가 형성되어, 적색, 녹색 및 청색 컬러 필터(220R, 220G, 220B)가 형성된 서브화소는 적색, 녹색 및 청색 광을 방출한다.The black matrix 215 is formed to correspond to a gate line, a data line, and a thin film transistor (not shown) to prevent light leakage in a non-display area. In addition, red, green, and blue color filters 220R, 220G, and 220B are formed to correspond to each sub-pixel, and the sub-pixels on which the red, green, and blue color filters 220R, 220G, and 220B are formed are red, green, and blue. Emits light.

컬러 필터(220)는 인접한 블랙 매트릭스(215) 사이에만 형성되거나 가장자리가 블랙 매트릭스(215)와 중첩되도록 형성될 수 있으며, 도면에서는 컬러 필터(220)가 블랙 매트릭스(215)까지 덮도록 형성되어 컬러 필터(220)의 가장자리가 블랙 매트릭스(215)와 중첩되는 것을 도시하였다. 그리고, 상기와 같은 컬러 필터(220)와 블랙 매트릭스(215)를 덮도록 제 2 기판(210) 전면에 오버 코트층(225)이 형성된다.The color filter 220 may be formed only between adjacent black matrices 215 or may be formed so that the edge overlaps the black matrix 215. In the drawing, the color filter 220 is formed to cover the black matrix 215 It is shown that the edge of the filter 220 overlaps the black matrix 215. In addition, an overcoat layer 225 is formed on the entire surface of the second substrate 210 to cover the color filter 220 and the black matrix 215 as described above.

블랙 매트릭스(215)는 불투명한 전도성 물질, 예를 들어 몰리브덴, 알루미늄, 구리, 티타늄, 크롬 등과 같은 불투명한 금속으로 형성된다. 상기와 같은 블랙 매트릭스(215)에는 박막 트랜지스터 어레이 기판에 형성된 공통 전극(140)과 수직 전계를 형성하기 위한 전압이 인가된다. 블랙 매트릭스(215)에는 DC 전압 또는 AC 전압이 인가된다. 예를 들어, 공통 전압에 DC전압으로 0V가 인가되는 경우, 블랙 매트릭스에 2V의 전압을 인가하여 데이터 배선에 대응되는 영역에서 수직 전계를 발생시킬 수 있다.The black matrix 215 is formed of an opaque conductive material, for example, an opaque metal such as molybdenum, aluminum, copper, titanium, or chromium. A voltage for forming a vertical electric field with the common electrode 140 formed on the thin film transistor array substrate is applied to the black matrix 215 as described above. DC voltage or AC voltage is applied to the black matrix 215. For example, when 0V is applied as a DC voltage to the common voltage, a vertical electric field may be generated in a region corresponding to the data line by applying a voltage of 2V to the black matrix.

일반적으로, 액정 표시 장치는 절연막(135)을 사이에 두고 화소 전극(130)과 공통 전극(140)이 중첩되는 서브화소의 중앙부에서는 프린지 전계가 발생하여 액정이 프린지 전계에 의해 액정이 회전한다. 그리고, 화소 전극(130)과 공통 전극(140)이 중첩되지 않는 서브화소의 주변부에서는 횡전계가 발생한다. 그런데, 상술한 바와 같이, 횡전계에 의해 액정이 회전하면서 측면에서 액정 표시 장치를 보는 경우 인접한 서브화소의 컬러 필터에 의해 혼색이 발생하여 표시 품질이 저하된다.In general, in a liquid crystal display device, a fringe electric field is generated in a central portion of a subpixel where the pixel electrode 130 and the common electrode 140 overlap with the insulating layer 135 interposed therebetween, so that the liquid crystal rotates by the fringe electric field. In addition, a lateral electric field is generated at the periphery of the sub-pixel where the pixel electrode 130 and the common electrode 140 do not overlap. However, as described above, when the liquid crystal display is viewed from the side while the liquid crystal is rotated by the horizontal electric field, color mixture is generated by the color filters of adjacent sub-pixels, resulting in deterioration of display quality.

본 발명은 이를 방지하기 위해 블랙 매트릭스(215)를 불투명한 전도성 물질로 형성하여 전압을 인가한다. 즉, 블랙 매트릭스(215)와 공통 전극(140) 사이에서 수직 전계가 발생하고, 발생한 수직 전계가 데이터 배선(DL)에 인접한 서브화소 주변부에서 공통 전극(140)과 화소 전극(130)에 의해 횡전계가 발생하는 것을 방지한다. 특히, 횡전계가 발생하더라도, 블랙 매트릭스(215)와 공통 전극(140)에 의한 수직 전계에 의해 데이터 배선(DL)에 인접한 서브화소 주변부에서 액정이 충분히 회전하지 못하므로, 측면에서 액정 표시 장치를 시청하더라도 측면 혼색이 발생하지 않는다.In the present invention, to prevent this, a voltage is applied by forming the black matrix 215 of an opaque conductive material. That is, a vertical electric field is generated between the black matrix 215 and the common electrode 140, and the generated vertical electric field is transverse by the common electrode 140 and the pixel electrode 130 at the periphery of the sub-pixel adjacent to the data line DL. Prevents the generation of electric fields. In particular, even if a horizontal electric field is generated, the liquid crystal is not sufficiently rotated around the sub-pixel adjacent to the data line DL due to the vertical electric field generated by the black matrix 215 and the common electrode 140. Even if you watch, side color mixing does not occur.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.2A to 2C are cross-sectional views of a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 2a와 같이, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스(215) 상에 블랙 매트릭스(215)와 동일 패턴으로 추가 전극(230)을 형성한다. 이 때, 추가 전극(230)은 ITO, IZO 등과 같은 투명 전도성 물질로 형성되거나, 몰리브덴, 알루미늄 등과 같은 불투명한 금속을 포함하는 불투명한 전도성 물질로 형성될 수 있다. 특히, 추가 전극(230)이 불투명한 전도성 물질로 형성되면 액정 표시 장치를 측면에서 시청할 때 혼색이 발생하는 것을 효율적으로 방지할 수 있다. 추가 전극(230)은 도 2b와 같이 컬러 필터(220) 상에 형성되거나, 도 2c와 같이 오버 코트층(225) 상에 형성될 수도 있다.2A, in the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention, an additional electrode 230 is formed on the black matrix 215 in the same pattern as the black matrix 215. In this case, the additional electrode 230 may be formed of a transparent conductive material such as ITO or IZO, or may be formed of an opaque conductive material including an opaque metal such as molybdenum or aluminum. In particular, when the additional electrode 230 is formed of an opaque conductive material, it is possible to efficiently prevent the occurrence of color mixture when viewing the liquid crystal display from the side. The additional electrode 230 may be formed on the color filter 220 as shown in FIG. 2B or on the overcoat layer 225 as shown in FIG. 2C.

이 때, 추가 전극(230)은 데이터 배선(DL)만을 따라 복수 개가 일렬로 배열된 구조로 형성되거나, 데이터 배선(DL)뿐만 아니라 게이트 배선(GL)과도 중첩되도록 형성될 수 있다. 또한, 추가 전극(230)의 폭은 투과율을 고려하여 용이하게 조절될 수 있다. 그런데, 추가 전극(230)의 폭이 너무 좁은 경우 충분한 수직 전계가 발생하지 않고, 추가 전극(230)의 폭이 너무 넓은 경우 프린지 전계가 형성되는 영역까지 수직 전계가 발생하여 정면 투과율이 저하될 수 있다. 따라서, 추가 전극(230)의 폭은 인접한 서브화소 사이, 즉, 데이트 배선(DL)과 중첩되는 영역의 블랙 매트릭스(215)의 폭과 동일한 것이 바람직하다.In this case, the additional electrodes 230 may be formed in a structure in which a plurality of additional electrodes 230 are arranged in a line only along the data line DL, or may be formed to overlap not only the data line DL but also the gate line GL. In addition, the width of the additional electrode 230 may be easily adjusted in consideration of transmittance. However, if the width of the additional electrode 230 is too narrow, a sufficient vertical electric field does not occur, and if the width of the additional electrode 230 is too wide, a vertical electric field is generated up to the area where the fringe electric field is formed, resulting in a decrease in front transmittance. have. Accordingly, it is preferable that the width of the additional electrode 230 is the same as the width of the black matrix 215 between adjacent subpixels, that is, in a region overlapping with the data line DL.

도 3a는 일반적인 액정 표시 장치의 투과율 및 전계를 나타낸 단면도이며, 도 3b는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 투과율 및 전계를 나타낸 단면도로, 추가 전극이 오버 코트층 하부에 형성된 것을 도시하였다.3A is a cross-sectional view showing the transmittance and electric field of a general liquid crystal display device, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing the transmittance and electric field of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention, showing that an additional electrode is formed under the overcoat layer. Shown.

일반적인 액정 표시 장치는 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이에서 공통 전극(140)과 화소 전극(130)에 의한 횡전계가 발생한다. 따라서, 도 3a와 같이, 블랙 매트릭스(215)가 구비되어도 횡전계에 의해 서브화소 주변부에서도 액정이 회전하므로 정면 투과율이 향상되나, 측면에서 액정 표시 장치를 보면 인접한 서브화소의 컬러 필터(220)에 의해 혼색이 발생하여 표시 품질이 저하된다.In a typical liquid crystal display, a horizontal electric field is generated by the common electrode 140 and the pixel electrode 130 between adjacent subpixels corresponding to the data line DL. Therefore, even if the black matrix 215 is provided as shown in FIG. 3A, the front transmittance is improved because the liquid crystal rotates at the periphery of the sub-pixel by the horizontal electric field. However, when the liquid crystal display device is viewed from the side, the color filter 220 of the adjacent sub-pixel As a result, color mixing occurs and the display quality deteriorates.

특히, 하기 표 1과 같이 측면 시청 각도가 커질수록 정면 투과율 대비 측면 투과율 역시 커진다.In particular, as shown in Table 1 below, as the side viewing angle increases, the side transmittance compared to the front transmittance also increases.

측면 시청 각도Side viewing angle 45°45° 60°60° 75°75° 정면 투과율 대비 측면 투과율Side transmittance compared to front transmittance 0.91%0.91% 3.04%3.04% 6.15%6.15%

반면에, 도 3b와 같이, 본 발명의 액정 표시 장치는 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이에서 수직 전계가 발생하므로, 수직 전계에 의해 화소 전극(130)과 공통 전극(140) 사이에 발생하는 횡전계가 감소된다. 이에 따라, 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 액정이 회전하는 것을 방지하여 비 표시 영역의 투과율을 감소시킬 수 있다. 특히, 하기 표 2와 같이 측면 시청 각도가 커져도 정면 투과율 대비 측면 투과율이 적어 혼색을 방지할 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 3B, since a vertical electric field is generated between adjacent subpixels corresponding to the data line DL, the liquid crystal display device of the present invention generates a vertical electric field between the pixel electrode 130 and the common electrode 140. The transverse electric field generated in the is reduced. Accordingly, it is possible to reduce the transmittance of the non-display area by preventing rotation of the liquid crystal between adjacent subpixels corresponding to the data line DL. In particular, as shown in Table 2 below, even if the side viewing angle is increased, the side transmittance is low compared to the front transmittance, so that color mixing can be prevented.

측면 시청 각도Side viewing angle 45°45° 60°60° 75°75° 정면 투과율 대비 측면 투과율Side transmittance compared to front transmittance 0.42%0.42% 1.61%1.61% 3.23%3.23%

즉, 본 발명의 제 1 및 제 2 실시 예는 블랙 매트릭스(215)를 불투명한 전도성 물질로 형성하거나, 데이터 배선(DL)에 대응되도록 추가 전극(230)을 구비하여 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이에서 수직 전계가 발생한다. 따라서, 횡전계에 의해 데이터 배선(DL)에 대응되는 영역의 액정이 회전하여 측면 혼색이 발생하는 것을 방지하여 표시 품질이 향상된다.That is, in the first and second embodiments of the present invention, the black matrix 215 is formed of an opaque conductive material, or an additional electrode 230 is provided to correspond to the data line DL to correspond to the data line DL. A vertical electric field is generated between adjacent subpixels. Accordingly, since the liquid crystal in the region corresponding to the data line DL is rotated by the horizontal electric field, side mixture color is prevented from occurring, thereby improving display quality.

도 4는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이며, 도 5는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 투과율 및 전계를 나타낸 단면도이다. 그리고, 도 6은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing transmittance and an electric field of the liquid crystal display according to the third embodiment of the present invention. And, FIG. 6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 제 3, 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판에 전계 감소 패턴을 구비한다. 전계 감소 패턴은 인접한 서브 화소 사이에 형성된다.The liquid crystal display according to the third and fourth embodiments of the present invention includes an electric field reduction pattern on a thin film transistor array substrate. The electric field reduction pattern is formed between adjacent sub-pixels.

도 4와 같이, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터(미도시)를 덮도록 형성된 제 2 보호막(125b)이 제 2 보호막(125b)의 상부면에서 돌출된 구조의 전계 감소 패턴(125c)을 포함하며, 전계 감소 패턴(125c)과 제 2 보호막(125b)은 일체형으로 형성된다.As shown in FIG. 4, in the liquid crystal display according to the third embodiment of the present invention, a second passivation layer 125b formed to cover a thin film transistor (not shown) protrudes from an upper surface of the second passivation layer 125b. The reduction pattern 125c is included, and the electric field reduction pattern 125c and the second passivation layer 125b are integrally formed.

전계 감소 패턴(125c)이 보호막(126b)과 일체형으로 형성되는 경우, 하프톤 마스크 또는 슬릿 마스크를 이용하여 형성된다. 이 때,보호막(125b)은 서로 다른 제 1, 제 2 두께를 갖도록 형성된다. 제 1 두께를 갖는 부분은 절연막(135)을 사이에 두고 화소 전극(130)과 공통 전극(140)이 중첩되는 서브화소의 중앙부에 대응되는 영역이며, 제 2 두께를 갖는 부분은 전계 감소 패턴(125c)에 대응되는 영역이다.When the electric field reduction pattern 125c is integrally formed with the passivation layer 126b, it is formed using a halftone mask or a slit mask. In this case, the protective layer 125b is formed to have different first and second thicknesses. The portion having the first thickness is a region corresponding to the central portion of the subpixel where the pixel electrode 130 and the common electrode 140 overlap with the insulating layer 135 interposed therebetween, and the portion having the second thickness is an electric field reduction pattern ( This area corresponds to 125c).

또한, 두께가 일정한 제 2 보호막(125b)을 형성한 후, 추가적인 마스크를 이용하여 제 2 보호막(125b)의 상부면에서 돌출된 구조의 전계 감소 패턴(125c)을 형성할 수도 있으나 이 경우 공정이 복잡해지고 제조 비용이 증가한다.In addition, after forming the second passivation layer 125b having a constant thickness, an electric field reduction pattern 125c having a structure protruding from the upper surface of the second passivation layer 125b may be formed using an additional mask. Complexity and manufacturing costs increase.

특히, 도면에서는 공통 전극(140)이 절연막(135) 상부에 구비되는 것을 도시하였으나, 화소 전극(130)이 절연막(135) 상에 구비되고 공통 전극(140)이 보호막(125)과 절연막(135) 사이에 구비될 수도 있다. 이 경우, 공통 전극(140)이 인접한 서브화소 사이를 덮도록 제 1 기판(110) 전면에 통전극 형태로 형성되며, 화소 전극(130)은 각 서브화소에 대응되도록 슬릿 형태로 형성된다.일반적으로 액정층(300)의 셀 갭이 클수록 전계의 세기가 약해지므로, 액정층의 셀 갭이 작은 영역의 액정이 셀 갭이 큰 영역의 액정보다 적게 회전한다. 따라서, 본 발명의 액정 표시 장치는 전계 감소 패턴(125c)이 형성된 영역의 액정층(300)의 셀 갭이 나머지 영역의 액정층(300)의 셀 갭보다 감소하므로, 전계 감소 패턴(125c)이 형성된 영역의 전계 세기가 감소된다. 예를 들어, 전계 감소 패턴(125c)의 두께(d)가 0.1㎛이면 서브화소 중앙부의 액정층(300)의 셀 갭이 3.4㎛인 경우, 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 액정층(300)의 셀 갭은 3,3㎛으로 감소한다.In particular, although the drawing shows that the common electrode 140 is provided on the insulating film 135, the pixel electrode 130 is provided on the insulating film 135 and the common electrode 140 is formed of the protective film 125 and the insulating film 135. ) May be provided between. In this case, the common electrode 140 is formed in the form of a current electrode on the entire surface of the first substrate 110 to cover between adjacent subpixels, and the pixel electrode 130 is formed in a slit form to correspond to each subpixel. As the cell gap of the liquid crystal layer 300 increases, the electric field strength decreases, so that the liquid crystal in the region of the liquid crystal layer with a small cell gap rotates less than the liquid crystal in the region with a large cell gap. Accordingly, in the liquid crystal display of the present invention, since the cell gap of the liquid crystal layer 300 in the region where the electric field reduction pattern 125c is formed is smaller than the cell gap of the liquid crystal layer 300 in the remaining region, the electric field reduction pattern 125c is The electric field strength in the formed area is reduced. For example, when the thickness d of the electric field reduction pattern 125c is 0.1 μm, when the cell gap of the liquid crystal layer 300 at the center of the sub-pixel is 3.4 μm, between adjacent sub-pixels corresponding to the data line DL The cell gap of the liquid crystal layer 300 is reduced to 3,3 μm.

따라서, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 인접한 서브 화소 사이에도 공통 전극(140)을 형성하여 정면 투과율을 향상시킴과 동시에 인접한 서브 화소 사이의 액정 회전 정도를 감소시켜 측면 혼색을 방지할 수 있다.Accordingly, in the liquid crystal display according to the third embodiment of the present invention, the common electrode 140 is formed between adjacent sub-pixels to improve front transmittance and at the same time, reduce the degree of rotation of the liquid crystal between adjacent sub-pixels to prevent side-mixing. can do.

구체적으로, 도 5와 같이, 전계 감소 패턴(125c)을 데이터 배선(DL)과 중첩되는 영역에 형성한 경우, 전계 감소 패턴(125c)에 의해 데이터 배선(DL)에 대응되는 액정층(300)의 셀 갭이 화소 전극(130)과 공통 전극(140)이 중첩되는 서브화소의 중앙부의 액정층(300)의 셀 갭보다 작아진다. 이에 따라, 데이터 배선(DL)에 대응되는 영역에서 발생하는 횡전계의 크기가 감소하여 투과율이 감소된다. 특히, 하기 표 3과 같이 측면 시청 각도가 커져도 정면 투과율 대비 측면 투과율이 적어 혼색을 방지할 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 5, when the electric field reduction pattern 125c is formed in a region overlapping the data line DL, the liquid crystal layer 300 corresponding to the data line DL by the electric field reduction pattern 125c The cell gap of is smaller than the cell gap of the liquid crystal layer 300 at the center of the subpixel where the pixel electrode 130 and the common electrode 140 overlap. Accordingly, the size of the transverse electric field generated in the area corresponding to the data line DL is reduced, and thus transmittance is decreased. In particular, as shown in Table 3 below, even if the side viewing angle is increased, the side transmittance is small compared to the front transmittance, so that color mixing can be prevented.

측면 시청 각도Side viewing angle 45°45° 60°60° 75°75° 정면 투과율 대비 측면 투과율Side transmittance compared to front transmittance 0.1%0.1% 0.945%0.945% 2.11%2.11%

도 6과 같이, 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 절연막(135) 상에 전계 감소 패턴(145)을 구비한다. 이 경우, 전계 감소 패턴(145)은 충분한 두께를 갖도록 유기 절연 물질로 형성되는 것이 바람직하며, 절연막(135)을 형성한 후, 추가적인 마스크를 이용하여 형성된다.6, the liquid crystal display according to the fourth exemplary embodiment includes an electric field reduction pattern 145 on an insulating layer 135. In this case, the electric field reduction pattern 145 is preferably formed of an organic insulating material to have a sufficient thickness, and is formed using an additional mask after forming the insulating layer 135.

즉, 본 발명의 제 3, 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판에 전계 감소 패턴(125c, 145)을 구비하여, 액정층(300)의 셀 갭을 다르게 하여 서브화소 주변부에서 발생하는 횡전계를 감소시킬 수 있다.That is, in the liquid crystal display according to the third and fourth embodiments of the present invention, the electric field reduction patterns 125c and 145 are provided on the thin film transistor array substrate, so that the cell gap of the liquid crystal layer 300 is different so that at the periphery of the subpixel. It can reduce the transverse electric field generated.

도 7은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a fifth exemplary embodiment of the present invention.

도 7과 같이, 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 컬러 필터 어레이 기판에 전계 감소 패턴(225a)을 구비한다. 전계 감소 패턴(225a)은 인접한 서브화소 사이, 예를 들어 데이터 배선(DL)에 대응되는 영역에 형성되며, 하프톤 마스크 또는 슬릿 마스크를 이용하여 도시된 바와 같이 오버 코트층(225)과 일체형으로 형성되거나, 추가적인 마스크를 이용하여 오버 코트층(225)과 다른 물질로 오버 코트층(225) 상에 추가로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 7, the liquid crystal display according to the fifth exemplary embodiment includes an electric field reduction pattern 225a on a color filter array substrate. The electric field reduction pattern 225a is formed between adjacent subpixels, for example, in a region corresponding to the data line DL, and is integrated with the overcoat layer 225 as shown by using a halftone mask or a slit mask. It may be formed or may be additionally formed on the overcoat layer 225 using a material different from the overcoat layer 225 using an additional mask.

특히, 도시하지는 않았으나, 전계 감소 패턴(125c, 145, 225)는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판에 모두 형성될 수도 있다.In particular, although not shown, the electric field reduction patterns 125c, 145, and 225 may be formed on both the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate.

도 8a 내지 도 8c는 전계 감소 패턴의 평면도이며, 도 9a 내지 도 9e는 도 8a의 Ⅰ-Ⅰ'의 단면도이다.8A to 8C are plan views of the electric field reduction pattern, and FIGS. 9A to 9E are cross-sectional views taken along line I-I' of FIG. 8A.

전계 감소 패턴(125c, 145, 225a)은 도 8a와 같이, 데이터 배선(DL)을 따라 복수 개가 일렬로 배열된 구조로 형성되거나, 도 8b와 같이 데이터 배선(DL)과 중첩되며, 게이트 배선(GL)에 대응되는 영역에서는 분리된 구조로 형성될 수 있다. 또한, 도 8c와 같이, 게이트 배선(GL) 및 데이터 배선(DL)과 중첩되도록 형성되어 각 서브화소를 감싸는 구조로 형성될 수 있다. 전계 감소 패턴(125c, 145, 225a)은 도 9a 내지 도 9c와 같이, 다각형의 단면을 갖거나, 도 9d 및 도 9e와 같이 단면이 곡면을 포함하여 이루어질 수 있다.The electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a are formed in a structure in which a plurality of electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a are arranged in a line along the data line DL, as shown in FIG. 8A, or overlap the data line DL, as shown in FIG. In the region corresponding to GL), it may be formed in a separate structure. In addition, as shown in FIG. 8C, the gate line GL and the data line DL may be overlapped to each other to surround each sub-pixel. The electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a may have a polygonal cross section as shown in FIGS. 9A to 9C, or may have a cross section including a curved surface as shown in FIGS. 9D and 9E.

도 10은 합착 불량이 발생한 일반적인 액정 표시 장치의 투과율을 나타낸 그래프이다. 그리고, 도 11은 합착 불량이 발생한 본 발명의 액정 표시 장치의 투과율을 나타낸 그래프로, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 투과율을 나타내었다.10 is a graph showing transmittance of a general liquid crystal display device in which bonding failure occurs. In addition, FIG. 11 is a graph showing the transmittance of the liquid crystal display device of the present invention in which a bonding failure occurs, and shows the transmittance of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.

일반적인 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 미스 얼라인에 의해 합착 불량이 발생한 경우, 컬러 필터 어레이 기판에 형성된 블랙 매트릭스가 인접한 서브화소 사이가 아닌 서브화소 중앙부에 대응될 수 있다. 이 경우, 도 10 및 표 4와 같이 서브화소 주변부에서 빛 샘이 발생하고, 미스 얼라인 정도가 증가할수록 빛 샘부의 투과율 역시 증가하여 표시 품질이 저하된다.In a typical liquid crystal display, when a bonding failure occurs due to misalignment between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate, the black matrix formed on the color filter array substrate may correspond to the center of the subpixel, not between adjacent subpixels. In this case, as shown in FIG. 10 and Table 4, light leakage occurs in the periphery of the sub-pixel, and as the degree of misalignment increases, the transmittance of the light leakage portion also increases, thereby deteriorating display quality.

미스 얼라인 정도Miss Alignment Degree 0㎛(미스 얼라인 발생X)0㎛ (misalignment occurrence X) 1㎛1㎛ 2㎛2㎛ 3㎛3㎛ 빛 샘부 투과율Light source transmittance 0.03%0.03% 0.11%0.11% 0.45%0.45% 1.94%1.94%

반면에, 본 발명의 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이 기판에 전계 감소 패턴(125c, 145, 225a)이 구비되어 데이터 배선(DL)에 대응되는 영역에서는 서브화소 중앙부에서 발생하는 전계보다 작은 전계가 발생한다. 따라서, 인접한 서브화소 사이에서 강한 전계가 발생하지 못하므로 도 11 및 표 5와 같이, 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 미스 얼라인에 의해 합착 불량이 발생하더라도 빛 샘이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 미스 얼라인 정도가 증가하더라도 빛 샘부 투과율이 크게 증가하지 않으며, 일반적인 액정 표시 장치의 빛 샘부 투과율에 비해 최대 85.6% 개선할 수 있다.On the other hand, in the liquid crystal display of the present invention, the electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a are provided on the thin film transistor array substrate, so that an electric field smaller than the electric field generated at the center of the sub-pixel is generated in the area corresponding to the data line DL. do. Accordingly, since a strong electric field cannot be generated between adjacent subpixels, light leakage can be prevented even if a bonding failure occurs due to misalignment between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate, as shown in FIGS. 11 and 5. I can. In addition, even if the misalignment degree is increased, the transmittance of the light leaking part does not increase significantly, and the transmittance of the light leaking part of a general liquid crystal display device can be improved by up to 85.6%.

미스 얼라인 정도Miss Alignment Degree 0㎛(미스 얼라인 발생X)0㎛ (misalignment occurrence X) 1㎛1㎛ 2㎛2㎛ 3㎛3㎛ 빛 샘부 투과율Light source transmittance 0.03%0.03% 0.07%0.07% 0.18%0.18% 0.28%0.28%

즉, 본 발명의 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스(215)를 불투명한 전도성 물질로 형성함으로써, 데이터 배선(DL)에 대응되는 비 표시 영역에서 블랙 매트릭스(215)와 공통 전극(140)에 의해 수직 전계가 발생한다. 수직 전계에 의해 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이에서 발생하는 횡전계에 의해 액정이 회전하는 것이 감소된다. 이에 따라, 측면 혼색을 방지하여 표시 품질이 향상된다. 특히, 데이터 배선(DL)에 대응되도록 컬러 필터(220) 또는 오버 코트층(225) 상에 추가 전극(230)을 형성함으로써, 상술한 수직 전계를 발생시킬 수 있다.That is, in the liquid crystal display of the present invention, by forming the black matrix 215 of an opaque conductive material, the vertical electric field is generated by the black matrix 215 and the common electrode 140 in the non-display area corresponding to the data line DL. Occurs. The rotation of the liquid crystal is reduced by a horizontal electric field generated between adjacent subpixels corresponding to the data line DL by the vertical electric field. Accordingly, side mixing is prevented and display quality is improved. In particular, by forming the additional electrode 230 on the color filter 220 or the overcoat layer 225 to correspond to the data line DL, the above-described vertical electric field may be generated.

또한, 데이터 배선(DL)에 대응되는 비 표시 영역에 대응되도록 박막 트랜지스터 어레이 기판에 전계 감소 패턴(125c, 145, 225a)을 형성함으로써, 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 셀 갭이 감소된다. 따라서, 인접한 서브화소 사이에서 발생하는 횡전계의 크기가 감소하여, 투과율 역시 감소된다. 특히, 전계 감소 패턴(125c, 145, 225a)의 두께를 조절하여 투과율을 용이하게 조절할 수 있다.In addition, by forming the electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a on the thin film transistor array substrate to correspond to the non-display area corresponding to the data line DL, the cell gap between adjacent subpixels corresponding to the data line DL Is reduced. Accordingly, the magnitude of the transverse electric field generated between adjacent subpixels decreases, so that the transmittance also decreases. In particular, the transmittance can be easily adjusted by adjusting the thickness of the electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a.

특히, 상술한 전계 감소 패턴(125c, 145, 225a)에 의해 데이터 배선(DL)에 대응되는 인접한 서브화소 사이의 횡전계가 감소하므로, 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판의 미스 얼라인에 의해 합착 불량이 발생하여도 정면 빛 샘을 방지할 수 있다.In particular, since the lateral electric field between adjacent subpixels corresponding to the data line DL is reduced by the electric field reduction patterns 125c, 145, and 225a described above, misalignment between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate Even if bonding failure occurs, front light leakage can be prevented.

또한, 도시하지는 않았으나, 본 발명의 액정 표시 장치는 프린지 전계 모드뿐만 아니라 횡전계 모드에도 적용 가능하다.Further, although not shown, the liquid crystal display of the present invention can be applied not only to a fringe electric field mode but also to a transverse electric field mode.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.On the other hand, the present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications and changes are possible within the scope of the technical spirit of the present invention. It will be obvious to those of ordinary skill in

110: 제 1 기판 115: 게이트 절연막
125: 보호막 125a: 제 1 보호막
125b: 제 2 보호막 125c, 145, 225a: 전계 감소 패턴
130: 화소 전극 135: 절연막
140: 공통 전극 210: 제 2 기판
215: 블랙 매트릭스 220: 컬러 필터
225: 오버 코트층 230: 추가 전극
300: 액정층 DL: 데이터 배선
GL: 게이트 배선
110: first substrate 115: gate insulating film
125: protective film 125a: first protective film
125b: second passivation layer 125c, 145, 225a: electric field reduction pattern
130: pixel electrode 135: insulating film
140: common electrode 210: second substrate
215: black matrix 220: color filter
225: overcoat layer 230: additional electrode
300: liquid crystal layer DL: data wiring
GL: gate wiring

Claims (15)

박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서,
상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 배치되는 박막 트랜지스터;
상기 박막 트랜지스터 상에 배치되는 보호막;
상기 보호막 상에 배치되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및
절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 배치되는 공통 전극을 포함하며,
상기 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판 상에 불투명한 전도성 물질로 형성되어 상기 데이터 배선과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하며,
상기 블랙 매트릭스와 상기 공통 전극 사이에서 수직 전계가 발생되도록 상기 블랙매트릭스에는 상기 공통 전극에 인가되는 공통 전압과 다른 레벨의 전압이 인가되는 액정 표시 장치.
In a liquid crystal display device in which a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer therebetween,
The thin film transistor array substrate includes: a thin film transistor disposed on a first substrate for each of a plurality of subpixels in a matrix form defined by crossing a gate line and a data line;
A protective film disposed on the thin film transistor;
A pixel electrode disposed on the protective layer and connected to the thin film transistor; And
And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween and disposed to a region overlapping the data line,
The color filter array substrate is formed of an opaque conductive material on the second substrate and includes a black matrix overlapping the data line,
A liquid crystal display device in which a voltage of a level different from a common voltage applied to the common electrode is applied to the black matrix so that a vertical electric field is generated between the black matrix and the common electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 수직 전계는 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판 중 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에서 상기 공통 전극과 상기 화소 전극에 의해 발생하는 횡전계에 의해 상기 액정층의 액정이 회전하는 것을 방지하는 액정 표시 장치.
The method of claim 1,
The vertical electric field prevents the liquid crystal of the liquid crystal layer from rotating due to a horizontal electric field generated by the common electrode and the pixel electrode in a region of the thin film transistor array substrate corresponding to the data line.
박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서,
상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 배치되는 박막 트랜지스터;
상기 박막 트랜지스터 상에 배치되는 보호막;
상기 보호막 상에 배치되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및
절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 배치되는 공통 전극을 포함하며,
상기 컬러 필터 어레이 기판은 제 2 기판 상에 배치되어 상기 데이터 배선과 중첩되는 추가 전극을 포함하며,
상기 추가 전극과 상기 공통 전극 사이에서 수직 전계가 발생되도록 상기 추가 전극에는 상기 공통 전극에 인가되는 공통 전압과 다른 레벨의 전압이 인가되는 액정 표시 장치.
In a liquid crystal display device in which a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer therebetween,
The thin film transistor array substrate includes: a thin film transistor disposed on a first substrate for each of a plurality of subpixels in a matrix form defined by crossing a gate line and a data line;
A protective film disposed on the thin film transistor;
A pixel electrode disposed on the protective layer and connected to the thin film transistor; And
And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween and disposed to a region overlapping the data line,
The color filter array substrate includes an additional electrode disposed on the second substrate and overlapping the data line,
A liquid crystal display in which a voltage of a level different from that of a common voltage applied to the common electrode is applied to the additional electrode so that a vertical electric field is generated between the additional electrode and the common electrode.
제 2 항에 있어서,
상기 수직 전계는 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판 중 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에서 상기 공통 전극과 상기 화소 전극에 의해 발생하는 횡전계에 의해 상기 액정층의 액정이 회전하는 것을 방지하는 액정 표시 장치.
The method of claim 2,
The vertical electric field prevents the liquid crystal of the liquid crystal layer from rotating due to a horizontal electric field generated by the common electrode and the pixel electrode in a region of the thin film transistor array substrate corresponding to the data line.
제 3 항에 있어서,
상기 컬러 필터 어레이 기판은 상기 제 2 기판 상에 배치되어 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터와 중첩되도록 구비된 블랙 매트릭스, 상기 서브화소에 대응되도록 상기 제 2 기판 상에 배치된 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스와 상기 컬러 필터를 덮도록 배치된 오버 코트층을 포함하며,
상기 추가 전극은 상기 오버 코트층 또는 상기 컬러 필터 상에 배치되거나, 상기 블랙 매트릭스 상에 배치되어 상기 블랙 매트릭스와 동일 패턴으로 형성되는 액정 표시 장치.
The method of claim 3,
The color filter array substrate is disposed on the second substrate and includes a black matrix provided to overlap the gate line, the data line, and the thin film transistor, and the color filter and the black disposed on the second substrate to correspond to the subpixels. Including a matrix and an overcoat layer disposed to cover the color filter,
The additional electrode is disposed on the overcoat layer or the color filter, or on the black matrix to form the same pattern as the black matrix.
제 5 항에 있어서,
상기 추가 전극의 폭은 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역의 상기 블랙 매트릭스의 폭과 동일한 액정 표시 장치.
The method of claim 5,
The width of the additional electrode is the same as the width of the black matrix in an area overlapping the data line.
제 3 항에 있어서,
상기 추가 전극은 불투명한 전도성 물질로 형성되거나 투명한 전도성 물질로 형성되는 액정 표시 장치.
The method of claim 3,
The additional electrode is formed of an opaque conductive material or a transparent conductive material.
박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판이 액정층을 사이에 두고 대향 합착된 액정 표시 장치에 있어서,
상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 정의된 매트릭스 형태의 복수 개의 서브화소마다 배치되는 박막 트랜지스터;
상기 박막 트랜지스터 상에 배치되는 보호막;
상기 보호막 상에 배치되어 상기 박막 트랜지스터와 접속된 화소 전극; 및
절연막을 사이에 두고 상기 화소 전극과 중첩되며, 상기 데이터 배선과 중첩되는 영역까지 배치된 공통 전극을 포함하며,
상기 데이터 배선 및 상기 공통 전극이 배치된 상기 제1 기판과 마주보는 제2 기판 상에 배치되며, 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에 배치된 전계 방지 패턴을 포함하며,
상기 전계 방지 패턴이 배치된 영역의 상기 액정층의 셀 갭이 나머지 영역의 상기 액정층의 셀 갭보다 작은 액정 표시 장치.
In a liquid crystal display device in which a thin film transistor array substrate and a color filter array substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer therebetween,
The thin film transistor array substrate includes: a thin film transistor disposed on a first substrate for each of a plurality of subpixels in a matrix form defined by crossing a gate line and a data line;
A protective film disposed on the thin film transistor;
A pixel electrode disposed on the protective layer and connected to the thin film transistor; And
And a common electrode overlapping the pixel electrode with an insulating layer therebetween and disposed up to a region overlapping the data line,
An electric field prevention pattern disposed on a second substrate facing the first substrate on which the data line and the common electrode are disposed, and disposed in a region corresponding to the data line,
A liquid crystal display device in which a cell gap of the liquid crystal layer in a region in which the field prevention pattern is disposed is smaller than a cell gap of the liquid crystal layer in the remaining region.
제 8 항에 있어서,
상기 전계 방지 패턴이 배치된 영역에서 발생하는 전계의 세기가 상기 절연막을 사이에 두고 중첩된 상기 화소 전극과 상기 공통 전극에 의해 발생하는 전계의 세기보다 약한 액정 표시 장치.
The method of claim 8,
An electric field intensity generated in a region where the electric field prevention pattern is disposed is weaker than an electric field intensity generated by the common electrode and the pixel electrode overlapped with the insulating layer therebetween.
삭제delete 삭제delete 제 8 항에 있어서,
상기 전계 방지 패턴은 유기 절연 물질로 형성되는 액정 표시 장치.
The method of claim 8,
The electric field prevention pattern is formed of an organic insulating material.
제 8 항에 있어서,
상기 컬러 필터 어레이 기판은 상기 제 2 기판과, 상기 제 2 기판 상에 배치되어 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터와 중첩되도록 구비된 블랙 매트릭스, 상기 서브화소에 대응되도록 상기 제 2 기판 상에 배치된 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스와 상기 컬러 필터를 덮도록 배치된 오버 코트층을 포함하는 액정 표시 장치.
The method of claim 8,
The color filter array substrate is disposed on the second substrate, a black matrix disposed on the second substrate to overlap the gate line, the data line, and the thin film transistor, and disposed on the second substrate to correspond to the subpixels And an overcoat layer disposed to cover the black matrix and the color filter.
제 13 항에 있어서,
상기 전계 방지 패턴은 상기 오버 코트층과 일체형으로 형성되는 액정 표시 장치.
The method of claim 13,
The electric field prevention pattern is integrally formed with the overcoat layer.
제 8 항에 있어서,
상기 전계 방지 패턴은 상기 데이터 배선을 따라 복수 개가 일렬로 배열된 구조로 배치되거나, 상기 데이터 배선과 중첩되고 상기 게이트 배선에 대응되는 영역에서는 분리된 구조로 배치되거나, 상기 게이트 배선 및 상기 데이터 배선과 중첩되도록 배치되어 상기 서브화소를 감싸는 구조로 배치되는 액정 표시 장치.
The method of claim 8,
The field prevention patterns are arranged in a structure in which a plurality of fields are arranged in a row along the data line, overlap with the data line, and are arranged in a separate structure in a region corresponding to the gate line, or between the gate line and the data line The liquid crystal display is arranged to overlap and surround the sub-pixels.
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