KR102165741B1 - 세 개 이상의 상태에 기초한 전력 및 주파수의 조절 - Google Patents

Abstract

세 개 이상의 상태에 기초하여 전력 및 주파수를 조절하는 방법들 및 시스템들이 개시된다. 방법들 중 하나는 다수의 상태를 가지는 펄스 신호를 수신하는 단계를 포함한다. 펄스 신호가 다수의 무선 주파수 (RF) 생성기에 의해 수신된다. 제 1 상태를 가지는 펄스 신호가 수신될 때에, 미리-세팅된 전력 레벨을 가지는 RF 신호가 제 1 RF 생성기에 의해 생성되고, 미리-세팅된 전력 레벨을 가지는 RF 신호가 제 2 RF 생성기에 의해 생성된다. 더욱이, 제 2 상태를 가지는 펄스 신호가 수신될 때에, 미리-세팅된 전력 레벨을 가지는 RF 신호가 제 1 및 제 2 RF 생성기에 의해 생성된다. 더욱이, 제 3 상태를 가지는 펄스 신호가 수신될 때에, 미리-세팅된 전력 레벨을 가지는 RF 신호가 제 1 및 제 2 RF 생성기에 의해 생성된다.

Description

세 개 이상의 상태에 기초한 전력 및 주파수의 조절 {ADJUSTMENT OF POWER AND FREQUENCY BASED ON THREE OR MORE STATES}

본 발명은 플라즈마 임피던스의 변화에 대한 반응 시간을 개선하는 것과 관련된 것으로서, 보다 구체적으로는 세 개 이상의 상태에 기초하여 전력 및 주파수를 조절하기 위한 컴퓨터 프로그램, 장치 및 방법에 관한 것이다.

일부 플라즈마 프로세싱 시스템에서, 다수의 무선 주파수 (RF) 신호가 플라즈마 챔버 내의 하나 이상의 전극에 공급된다. RF 신호는 플라즈마 챔버 내에서 플라즈마를 생성하는데 도움을 준다. 플라즈마는 다양한 동작들, 예를 들어 하부 전극 상에 배치되는 기판의 세정, 기판의 에칭 등에 이용된다.

이러한 상황에서, 본 발명에 개시된 실시예들이 제공될 것이다.

본 발명의 실시예들은 세 개 이상의 상태에 기초하여 전력 및 주파수를 조정하기 위한 장치, 방법 및 컴퓨터 프로그램을 공급한다. 본 발명의 실시예들은 다양한 방식으로, 예를 들어 프로세스, 장치, 시스템, 디바이스 또는 컴퓨터 판독가능한 매체 상의 방법으로 구현될 수 있다. 여러 실시예들이 아래에서 설명된다.

일부 실시예에서, 플라즈마 프로세싱 시스템이 개시된다. 플라즈마 시스템은 세 개의 일차 전력 제어부를 포함하는 일차 생성기를 포함한다. 상기 일차 전력 제어부 각각은 미리 정의된 전력 세팅 (setting) 을 가지도록 구성된다. 플라즈마 시스템은 세 개의 이차 전력 제어부를 포함하는 이차 생성기를 포함한다. 상기 이차 전력 제어부 각각은 미리 정의된 전력 세팅을 가지도록 구성된다. 플라즈마 시스템은 일차 생성기 및 이차 생성기 각각에 인풋 (input) 으로 접속되는 제어 회로를 포함한다. 제어 회로는 펄스 신호를 생성하도록 구성되고, 상기 펄스 신호는 복수의 사이클을 위해 동작들 동안 반복되는 사이클을 정의하는 세 개의 상태를 포함하도록 정의된다. 각 상태는 세 개의 일차 전력 제어부 중 첫 번째, 또는 두 번째, 또는 세 번째를 선택하면서, 또한 세 개의 이차 전력 제어부 중 첫 번째, 또는 두 번째, 또는 세 번째를 선택하도록 정의된다.

일 실시예에서, 다수의 상태에 기초하여 동작하도록 구성되는 플라즈마 시스템이 개시된다. 플라즈마 시스템은 펄스 신호를 수신하는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기를 포함한다. 펄스 신호는 세 개 이상의 상태를 가진다. 세 개 이상의 상태는 제 1 상태, 제 2 상태 및 제 3 상태를 포함한다. 일차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하도록 구성된다. 플라즈마 시스템은 또한 펄스 신호를 수신하는 이차 RF 생성기를 포함한다. 이차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하도록 구성된다. 일차 RF 생성기 및 이차 RF 생성기 각각은 펄스 신호가 제 1 상태인지, 또는 제 2 상태인지, 또는 제 3 상태인지 결정하도록 구성된다. 일차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 (quantitative) 레벨을 가지는 RF 신호를 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성된다. 이차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성된다. 일차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성된다. 이차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 이차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성된다. 일차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 일차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성된다. 이차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 3 이차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성된다.

여러 실시예에서, 다수의 상태에 기초하여 동작하도록 구성된 플라즈마 시스템이 개시된다. 플라즈마 시스템은 세 개 이상의 상태를 가지는 펄스 신호를 수신하는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기를 포함한다. 상기 세 개 이상의 상태는 제 1 상태, 제 2 상태 및 제 3 상태를 포함한다. 일차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하도록 구성된다. 일차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 1 상태, 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하도록 구성된다. 일차 RF 생성기는 펄스 신호가 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 플라즈마 챔버에 공급하여 플라즈마를 스트라이크 (strike) 하도록 구성되고, 펄스 신호가 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 플라즈마 챔버에 공급하도록 구성되고, 펄스 신호가 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 일차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 상기 플라즈마 챔버에 공급하도록 구성된다. 플라즈마 시스템은 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하는 이차 RF 생성기를 포함한다. 이차 RF 생성기는 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 1 임계치를 초과하는지 여부를 결정한다. 이차 RF 생성기는 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 1 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 공급하도록 구성되고, 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 1 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 제 2 이차 정량 레벨을 가지는 RF 신호를 공급하도록 구성된다.

일부 실시예에서, 플라즈마 방법은 펄스 신호를 수신하는 단계를 포함한다. 상기 펄스 신호를 수신하는 동작은 일차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 플라즈마 방법은 또한 펄스 신호를 수신하는 단계를 포함한다. 펄스 신호를 수신하는 동작은 이차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 펄스 신호가 제 1 상태. 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 단계를 포함한다. 펄스 신호가 제 1 상태. 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 동작은 일차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 펄스 신호가 제 1 상태. 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 단계를 포함한다. 펄스 신호가 제 1 상태. 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 동작은 이차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 또한 펄스 신호가 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨의 제 1 무선 주파수 (RF) 신호를 일차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함한다. 제 1 일차 정량 레벨을 공급하는 동작은 일차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨의 제 2 RF 신호를 이차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함한다. 제 1 이차 정량 레벨을 공급하는 동작은 이차 프로세서에 의해 수행된다.

이러한 실시예에서, 상기 플라즈마 방법은 펄스 신호가 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨의 제 1 RF 신호를 일차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함한다. 제 1 일차 정량 레벨을 공급하는 단계는 일차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 펄스 신호가 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 이차 정량 레벨의 제 2 RF 신호를 이차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함한다. 제 2 이차 정량 레벨을 공급하는 동작은 이차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 펄스 신호가 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 일차 정량 레벨의 제 1 RF 신호를 일차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함한다. 제 2 일차 정량 레벨을 공급하는 단계는 일차 프로세서에 의해 수행된다. 상기 방법은 펄스 신호가 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 3 이차 정량 레벨의 제 2 RF 신호를 이차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함한다. 제 3 이차 정량 레벨을 공급하는 동작은 이차 프로세서에 의해 수행된다.

앞서 설명된 실시예들의 일부 이점은 플라즈마 챔버 내부의 플라즈마 임피던스의 변화에 응답하여 반응 시간을 감소시키는 것을 포함한다. 예를 들어, 펄스 신호, 이를 테면, 트랜지스터-트랜지스터 로직 (TTL) 신호 등이 다수의 RF 전력 공급부에 의해 공급되는 주파수 및/또는 전력을 제어하는 데 이용될 때에, RF 공급부의 제 1 객체는 RF 공급부의 제 2 객체의 전력 및/또는 주파수의 변화에 응답하기 위한 시간을 필요로 하지 않는다. 일반적으로, 제 1 RF 공급부로의 주파수 및/또는 전력 인풋이 변화할 때에, 플라즈마 임피던스의 변화가 있으며, 제 1 RF 공급부는 임피던스의 변화에 반응한다. 이러한 반응은 시간을 소요하며, 이는 플라즈마 챔버 내부에서 발생하는 프로세스, 이를 테면 에칭, 증착, 세정 등에 부정적으로 영향을 미친다. RF 공급부가 미리-결정된 주파수 및/또는 미리-결정된 전력과 관련하여 상태 신호의 상태에의 변화에 반응할 때에, 플라즈마 임피던스의 변화에 반응하는 시간은 감소된다. 이러한 감소는 프로세스에 부정적으로 영향을 미치는데 이용되는 시간의 감소를 야기한다.

앞서-설명된 실시예의 일부 추가적인 이점은, 정확한 (accurate) 전력 및/또는 주파수 레벨을 공급하여 플라즈마를 안정화하는 것, 예를 들어 소스와 부하의 임피던스 사이의 차이를 감소하는 것을 포함한다. 플라즈마 임피던스의 변화에 기초하여 전력 및/또는 주파수 레벨이 생성될 때에, 주파수 및/또는 전력 레벨이 정확하다. 예를 들어, 플라즈마 임피던스의 변화를 생성하기 위해 복합 전압 및 복합 전류가 측정되고 이용된다. 플라즈마 임피던스의 변화가 임계치를 초과하는지 여부가 결정되고, 그렇다면, 전력 및/또는 주파수 레벨이 플라즈마를 안정화하기 위해 변화한다.

실시예들의 다른 이점은 플라즈마의 안정성을 달성하기 위한 시간의 양을 감소하는 것을 포함한다. 트레이닝 루틴 (training routine) 이 구동부 및 증폭기 시스템에 적용하기 위한 주파수 및/또는 전력 레벨을 결정하는데 이용된다. 전력 및/또는 주파수 레벨은 트레이닝 루틴 동안 또한 결정되는 플라즈마 임피던스의 변화에 대응한다. 트레이닝 루틴은 생산 동안의 시간, 예를 들어 기판을 세정하기 위한 시간, 기판을 프로세싱하기 위한 시간, 기판을 에칭하기 위한 시간, 기판 상에 물질을 증착하기 위한 시간 등을 절약한다. 예를 들어, 생산 동안에, 플라즈마 임피던스의 변화가 임계치를 초과한다고 결정될 때에, 전력 및/또는 주파수 레벨을 튜닝할 필요가 없이 전력 및/또는 주파수 레벨이 전력 공급부에 적용된다.

첨부된 도면과 관련하여 설명되는 이하의 상세한 설명으로부터 다른 양태가 명백하게 될 것이다.

본 발명의 실시예들이 첨부된 도면과 관련하여 설명되는 이하의 상세한 설명을 참고하여 더 원활하게 이해될 수 있다.
도 1은 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 펄스 신호의 다수의 상태에 기초하여 무선 주파수 (RF) 생성기의 주파수 및/또는 전력을 조절하는 시스템에 관한 블록도이다.
도 2는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 상태 S1, S2 및 S3을 설명하는 그래프이다.
도 3은 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 상이한 상태들에 대한 상이한 시간 범위를 도시하는 그래프에 관한 도면이다.
도 4는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 펄스 신호의 상태에 기초하여 자동 주파수 튜너들 (AFT) 중 하나를 선택하기 위한 시스템에 관한 도면이다.
도 5는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 플라즈마의 임피던스의 변화 및 펄스 신호의 상태에 기초하여 y MHz RF 생성기에 의해 생성되는 RF 신호의 주파수 및/또는 전력을 제어하기 위한 시스템에 관한 도면이다.
도 6은 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, RF 생성기에 의해 공급되는 RF 신호의 주파수 레벨 또는 전력 레벨을 결정하기 위해 임계치와 임피던스의 변화를 비교하여 도시하는 테이블에 관한 도면이다.
도 7은 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 파라미터 값이 임계치를 초과하는지 여부에 기초하여 그리고 펄스 신호의 상태에 기초하여 AFT를 선택하기 위한 시스템에 관한 도면이다.
도 8a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 두 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가진다.
도 8b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 두 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가진다.
도 9a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 두 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가진다.
도 9b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 두 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가진다.
도 10a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 모든 상태 동안 일정한 전력 값을 가진다.
도 10b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 모든 상태 동안 일정한 전력 값을 가진다.
도 11a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 모든 상태 동안 일정한 전력 값을 가진다.
도 11b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 두 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 모든 상태 동안 일정한 전력 값을 가진다.
도 12a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 12b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 13a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 13b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 14a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 14b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 일 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 15a는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 각 상태에 대해 상이한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로의 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.
도 15b는 본 발명에 개시된 일 실시예들에 따른, 세 개의 RF 생성기에 의해 생성되는 신호를 설명하기 위한 그래프에 관한 도면으로서, 여기서 상기 신호들 중 하나는 두 개의 상태에 대해 동일한 전력 값을 가지며, 상기 신호들 중 다른 하나는 모든 상태 동안 제로가 아닌 전력 값을 가지고, 상기 신호들 중 또 다른 하나는 두 개의 상태 동안 동일한 전력 값을 가진다.

이하의 실시예들은 세 개 이상의 상태에 기초하여 전력 및 주파수를 조절하는 방법 및 시스템을 개시한다. 이러한 구체적인 설명의 일부 또는 전부 없이도 본 발명의 실시예들이 실행될 수 있음은 물론이다. 다른 예에서, 본 발명을 불필요하게 모호하게 만들지 않기 위하여 익히 공지된 프로세스 동작들은 상세하게 개시되지 않았다.

도 1은 생산 동안, 펄스 신호 (102) 의 다수의 상태에 기초하여 RF 생성기의 주파수 및 전력을 조절하는 시스템의 일 실시예에 관한 블록도이다. 시스템 (100) 은 RF 신호를 생성하는 x 메가헤르츠 (megahertz) 무선 주파수 (RF) 전력 생성기를 포함하며, RF 신호가 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 플라즈마 챔버 (104) 의 하부 전극 (102) 으로 공급된다. 유사하게, y MHz 전력 공급부가 RF 신호를 생성하며, 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 하부 전극 (120) 으로 RF 신호를 공급한다.

x의 값은 2, 27, 또는 60일 수 있다. 또한, y의 값은 27, 60, 또는 2일 수 있다. 예를 들어, x가 2일 때에, y가 27 또는 60이다. 다른 예로서, x가 27일 때에, y는 2 또는 60이다. 또 다른 예로서, x가 60일 때에, y는 2 또는 27이다. 더욱이, 값들 2 MHz, 27 MHz, 및 60 MHz 이 예로서 공급되며, 이에 제한되지 아니함을 주목해야 한다. 예를 들어, 2 MHz RF 생성기 대신에, 2.5 MHz RF 생성기가 이용될 수 있으며, 60 MHz RF 생성기 대신에, 65 MHz RF 생성기가 이용될 수 있다. 일 실시예에서, 2 MHz RF 생성기 및 27 MHz RF 생성기에 부가하여, 60 MHz RF 생성기가 하부 전극 (120) 으로 RF 전력을 공급하는데 이용된다.

임피던스 매칭 회로는, 임피던스 매칭 회로에 커플링되는 소스의 임피던스를 임피던스 매칭 회로에 커플링되는 부하 (load) 의 임피던스와 매칭하기 위해 전기 회로 부품, 예를 들어, 인덕터, 캐패시터 등을 포함한다. 예를 들어, 임피던스 매칭 회로 (106) 는, x MHz RF 생성기 및 x MHz RF 생성기를 임피던스 매칭 회로 (106) 에 커플링시키는 임의의 부품들, 예를 들어, RF 케이블 등의 임피던스와, 플라즈마 챔버 (104) 및 플라즈마 챔버 (104) 를 임피던스 매칭 회로 (106) 에 커플링시키는 임의의 부품, 예를 들어 RF 전송 라인 등의 임피던스를 매칭한다. 일 실시예에서, 임피던스 매칭 회로에 커플링되는 소스의 임피던스와 임피던스 매칭 회로에 커플링되는 부하의 임피던스 사이의 매칭을 용이하게 하기 위해 임피던스 매칭 회로가 튜닝된다. 소스와 부하 사이의 임피던스 매칭은 부하로부터 반사될 (reflected) 전력이 소스로 향할 기회를 감소시킨다.

플라즈마 챔버 (104) 는 하부 전극 (120), 상부 전극 (122) 및 다른 부품 (도시되지 않음), 예를 들어, 상부 전극 (122) 을 둘러싸는 상부 유전체 링, 상부 유전체 링을 둘러싸는 하부 전극 연장부, 하부 전극을 둘러싸는 하부 유전체 링, 하부 전극 (120) 을 둘러싸는 하부 전극 연장부, 상부 플라즈마 배제 구역 (PEZ) 링, 하부 PEZ 링 등을 포함한다. 상부 전극 (122) 은 하부 전극 (120) 에 대항하여, 하부 전극 (120) 과 마주 보며 위치된다.

기판 (124), 예를 들어 반도체 웨이퍼는 하부 전극 (120) 의 상부 표면 (126) 상에서 지지된다. 집적 회로, 예를 들어 응용 주문형 집적 회로 (ASIC), 프로그램 가능한 로직 디바이스 (PLD) 등이 기판 (124) 상에 전개되며, 집적 회로가 다양한 디바이스, 예를 들어 핸드폰, 태블릿, 스마트폰, 컴퓨터, 랩탑, 네트워킹 장비 등에서 이용된다. 하부 전극 (120) 은 양극 산화된 알루미늄, 알루미늄 합금 등으로 제조된다. 또한, 상부 전극 (122) 은 금속, 예를 들어 알루미늄, 알루미늄 합금 등으로 제조된다.

일 실시예에서, 상부 전극 (122) 은 중앙 가스 공급부 (도시되지 않음) 에 커플링되는 홀을 포함한다. 중앙 가스 공급부는 가스 공급부 (도시되지 않음) 로부터 하나 이상의 프로세스 가스를 받는다. 프로세스 가스의 예들은 산소-함유 가스, 이를 테면 O₂를 포함한다. 프로세스 가스의 다른 예는 테트파플루오로메탄 (tetrafluoromethane; CF₄), 육불화항 (sulfur hexafluoride; SF₆), 헥사플루오로에탄 (C₂F₆) 등을 포함한다. 상부 전극 (122) 은 접지된다. 하부 전극 (120) 은 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 하나 이상의 RF 생성기에 커플링된다. 예를 들어, 하부 전극 (122) 은 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 x MHz RF 생성기에, 그리고 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 y MHz RF 전력 공급부에 커플링된다.

프로세스 가스가 상부 전극 (122) 과 하부 전극 (120) 사이에 공급될 때에, 그리고 RF 생성기, 예를 들어 x MHz RF 생성기 및/또는 y MHz RF 생성기가 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 하부 전극 (120) 에 전력을 공급할 때에, 프로세스 가스는 점화되어 플라즈마 챔버 (104) 내부에 플라즈마를 생성한다. 예를 들어, 2 MHz RF 생성기는 프로세스 가스를 점화하여 플라즈마를 생성하기 위해 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 전력을 공급한다. 일부 실시예에서, 2 MHz RF 생성기는 마스터 RF 생성기이다.

컴퓨터 (도시되지 않음) 상의 툴 유저 인터페이스 (UI; 151), 예를 들어 제어 회로 등은 펄스 신호 (102), 예를 들어 트랜지스터-트랜지스터 로직 (TTL) 신호, 디지털 펄싱 (pulsing) 신호, 클록 신호, 듀티 사이클 (duty cycle) 을 가지는 신호 등을 생성하는데 이용된다. 일 실시예에서, 컴퓨터는 TTL 회로를 포함한다. 본 명세서에서 이용될 때에, 컴퓨터 대신에, 프로세서, 제어부, ASIC 또는 PLD 가 이용되며, 이러한 용어들은 본 명세서에서 상호교환 가능하게 이용된다.

펄스 신호 (102) 는 상태 S1, S2 및 S3를 포함한다. 다양한 실시예에서, 상태 S1, S2 및 S3은 클록 사이클로 반복된다. 각 클록 사이클은 상태 S1, S2 및 S3를 포함한다. 예를 들어, 절반의 클록 사이클 기간 동안 상태 S1 및 S2가 수행되고, 남아 있는 절반의 클록 사이클의 기간 동안 상태 S3가 수행된다. 다른 예로서, 클록 사이클의 3분의 1의 시간 범위 동안 상태 S1이 수행되고, 또 다른 3분의 1의 시간 범위 동안 상태 S2가 수행되고, 그리고 남은 3분의 1의 시간 범위 동안 상태 S3가 수행된다. 일부 실시예에서, 펄스 신호 (102) 는 세 개보다 더 많은 또는 더 적은 상태를 포함한다. 상태 S1의 예는 제 1 범위의 전력 레벨을 가지는 상태를 포함한다. 상태 S2의 예는 제 2 범위의 전력 레벨을 가지는 상태를 포함한다. 상태 S3의 예는 제 3 범위의 전력 레벨을 가지는 상태를 포함한다. 일부 실시예에서, 제 2 범위의 전력 레벨은 제 1 범위의 전력 레벨보다 크고, 제 3 범위의 전력 레벨은 제 2 범위의 전력 레벨보다 크다. 다양한 실시예에서, 제 3 범위의 전력 레벨은 제 2 범위의 전력 레벨보다 작고, 제 2 범위의 전력 레벨은 제 1 범위의 전력 레벨보다 작다. 일 실시예에서, 제 3 범위의 전력 레벨은 제 2 범위의 전력 레벨과 같지 않으며, 제 2 범위의 전력 레벨은 제 1 범위의 전력 레벨과 같지 않다.

일부 실시예에서, 일 범위의 전력 레벨은 하나 이상의 전력 레벨을 포함한다.

다양한 실시예에서, 컴퓨터 대신에, 클록 소스, 예를 들어, 수정 진동자 (crystal oscillator) 등이 아날로그-투-디지털 신호 변환기에 의해 펄스 신호 (102) 와 유사한 디지털 신호로 변환되는, 아날로그 클록 신호를 생성하는데 이용된다. 예를 들어, 수정 진동자는 수정 진동자 상의 또는 수정 진동자 근처의 전극에 전압을 인가함으로써 전기장 내에서 진동하도록 제조된다.

일부 실시예에서, 두 개의 디지털 클록 소스, 예를 들어 프로세서, 컴퓨터 등은 펄스 신호 (102) 를 생성하는데 이용된다. 제 1 디지털 클록 소스의 제 1 클록 신호는 상태 1과 0을 가지며, 제 2 디지털 클록 소스의 제 2 클록 신호는 상태 1과 0을 가진다. 가산기, 예를 들어 추가 회로 등이 제 1 및 제 2 디지털 신호를 합하여 세 개의 상태를 가지는 펄스 신호 (102) 를 생성하기 위해 두 개의 클록 소스와 커플링 된다.

펄스 신호 (102) 는 x MHz RF 생성기의 디지털 신호 프로세서 (DSP; 140) 및 또 다른 y MHz RF 생성기의 DSP (153) 로 송신된다. DSP (140, 153) 각각은 펄스 신호를 수신하며, 펄스 신호 (102) 의 상태 S1, S2 및 S3를 식별한다. 예를 들어, DSP (140) 는 상태 S1, S2 및 S3를 구별한다. DSP (140) 가 상태 S1, S2 및 S3를 구별하는 방식을 설명하기 위해, DSP (140) 는 펄스 신호 (102) 가 제 1 시간 범위 동안 제 1 범위의 전력 레벨을, 제 2 시간 범위 동안 제 2 범위의 전력 레벨을, 제 3 시간 범위 동안 제 3 전력 레벨을 가진다는 것을 결정한다. 제 1 범위의 전력 레벨이 상태 S1에 대응하고, 제 2 범위의 전력 레벨이 상태 S2에 대응하며, 제 3 범위의 전력 레벨이 상태 S3에 대응한다는 것이 DSP (140) 에 의해 미리-결정된다.

일부 실시예에서, 제 1 시간 범위는 제 2 시간 범위 및 제 3 시간 범위 각각과 동일하다. 다양한 실시예에서, 제 1 시간 범위는 제 1 시간 범위 또는 제 2 시간 범위와 동일하다. 일 실시예에서, 제 1 시간 범위는 제 1 및 제 2 시간 범위 각각과 동일하지 않다. 다양한 실시예에서, 제 1 시간 범위는 제 1 시간 범위 또는 제 2 시간 범위와 동일하지 않다.

DSP (140 및 153) 각각은 DSP 내부의 하나 이상의 메모리들의 메모리 위치에 상태 S1, S2 및 S3을 저장한다. 메모리 디바이스의 예들은 랜덤 액세스 메모리 (RAM) 및 리드-온리 메모리 (ROM) 를 포함한다. 메모리 디바이스는 플래쉬 메모리, 하드 디스크, 저장 디바이스, 컴퓨터 읽기 가능한 매체일 수 있다.

다양한 실시예에서, 일 범위의 전력 레벨과 펄스 신호 (102) 의 상태 사이의 대응이 DSP의 메모리 디바이스 내에 저장된다. 예를 들어, 제 1 범위의 전력 레벨과 상태 S1 사이의 맵핑 (mapping) 이 DSP (140) 의 메모리 디바이스 내에 저장된다. 다른 예로서, 제 2 범위의 전력 레벨과 상태 S2 사이의 맵핑이 DSP (153) 의 메모리 디바이스 내에 저장된다. 또 다른 예로서, 제 3 범위의 전력 레벨과 상태 S3 사이의 맵핑이 DSP (140) 내에 저장된다.

DSP (140 및 153) 각각은 대응하는 메모리 위치에서부터 대응하는 자동 주파수 튜너 (AFTs; 130, 132, 134, 138, 141 및 142) 까지, 그리고 전력 제어부 (144, 146, 148, 150, 152 및 154) 까지 식별된 상태 S1, S2, 및 S3을 공급한다. 예를 들어, DSP (140) 는 에 펄스 신호 (102) 가 제 1 시간 범위의 t1과 t2 사이의 상태 S1에 있다는 것을 ATF (130) 및 전력 제어부 (144) 에 표시한다. 다른 예로서, DSP (140) 는 전력 신호 (102) 가 제 2 시간 범위의 시간 t2와 t3 사이의 상태 S2에 있다는 것을 AFT (132) 및 전력 제어부 (146) 에 표시한다. 또 다른 예로서, DSP (140) 는 펄스 신호 (102) 가 제 3 시간 범위의 시간 t3와 t4 사이의 상태 S3에 있다는 것을 AFT (134) 및 전력 제어부 (148) 에 표시한다. 다른 예로서, DSP (153) 는 펄스 신호 (102) 가 제 1 시간 범위의 시간 t1와 t2 사이의 상태 S1에 있다는 것을 AFT (138) 및 전력 제어부 (150) 에 표시한다. 또 다른 예로서, DSP (153) 는 펄스 신호 (102) 가 제 2 시간 범위의 시간 t2와 t3 사이의 상태 S2에 있다는 것을 AFT (141) 및 전력 제어부 (152) 에 표시한다. 또 다른 예로서, DSP (153) 는 펄스 신호 (102) 가 제 3 시간 범위의 시간 t3와 t4 사이의 상태 S3에 있다는 것을 AFT (142) 및 전력 제어부 (154) 에 표시한다. 일부 실시예에서, 용어 튜너 및 제어부는 본 명세서에서 상호교환가능하게 이용된다. AFT의 예가 미국특허 제 6,020,794 호에 공급되며, 상기 내용은 그 전체로서 본 명세서에 편입된다.

각 AFT (130, 132, 134, 138, 141 및 142) 는 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 주파수 레벨을 결정하며, 각 전력 제어부 (144, 146, 148, 150, 152 및 154) 는 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 전력 레벨을 결정한다. 예를 들어, AFT (130) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에 주파수 레벨 Fp1이 x MHz RF 생성기의 전력 공급부 (160) 에 공급될 것을 결정하고, 전력 제어부 (144) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에 전력 레벨 Pp1이 전력 공급부 (160) 에 공급될 것을 결정한다. 다른 예로서, AFT (132) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S2일 때에 주파수 레벨 Fp2가 전력 공급부 (160) 에 공급될 것을 결정하고, 전력 제어부 (146) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S2일 때에 전력 레벨 Pp2가 전력 공급부 (160) 에 공급될 것을 결정한다. 또 다른 예로서, AFT (134) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3일 때에 주파수 레벨 Fp3이 전력 공급부 (160) 에 공급될 것을 결정하고, 전력 제어부 (148) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3일 때에 전력 레벨 Pp3이 전력 공급부 (160) 에 공급될 것을 결정한다.

다른 예로서, AFT (138) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에 주파수 레벨 Fs1이 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급될 것을 결정하고, 전력 제어부 (150) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에 전력 레벨 Ps1이 전력 공급부 (162) 에 공급될 것을 결정한다. 또 다른 예로서, AFT (141) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S2일 때에 주파수 레벨 Fs2가 전력 공급부 (162) 에 공급될 것을 결정하고, 전력 제어부 (152) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S2일 때에 전력 레벨 Ps2가 전력 공급부 (162) 에 공급될 것을 결정한다. 또 다른 예로서, AFT (142) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3일 때에 주파수 레벨 Fs3가 전력 공급부 (162) 에 공급될 것을 결정하고, 전력 제어부 (154) 는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3일 때에 전력 레벨 Ps3가 전력 공급부 (162) 에 공급될 것을 결정한다.

다양한 실시예에서, 레벨은 하나 이상의 값을 포함한다. 예를 들어, 주파수 레벨은 하나 이상의 주파수 값을 포함하며, 전력 레벨은 하나 이상의 전력 값을 포함한다.

일부 실시예에서, 주파수 레벨 Fp1, Fp2 및 Fp3은 동일하다. 다양한 실시예에서, 주파수 레벨 Fp1, Fp2, 및 Fp3 중 두 개 이상은 동일하지 아니하다. 예를 들어, 주파수 레벨 Fp1은, 주파수 레벨 Fp3와 동일하지 아니한, 주파수 레벨 Fp2와 동일하지 아니하다. 이러한 예에서, 주파수 레벨 Fp3는 주파수 레벨 Fp1과 동일하지 아니하다. 다른 예로서, 주파수 레벨 Fp1은, 주파수 레벨 Fp3과 동일한, 주파수 레벨 Fp2와 동일하지 아니하다.

유사하게, 여러 실시예에서, 주파수 레벨 Fs1, Fs2 및 Fs3은 동일하며, 또는 주파수 레벨 Fs1, Fs2 및 Fs3 중 두 개 이상은 동일하지 아니하고 나머지 주파수 레벨들은 동일하고, 또는 주파수 레벨 Fs1, Fs2 및 Fs3 중 두 개 이상은 동일하고 나머지 주파수 레벨들은 동일하지 아니하다.

다양한 실시예에서, 전력 레벨 Pp1, Pp2 및 Pp3은 동일하다. 예를 들어, 전력 레벨 Pp1은, 전력 레벨 Pp3과 동일한, 전력 레벨 Pp2와 동일하다. 다수의 실시예에서, 전력 레벨 Pp1, Pp2 및 Pp3 중 두 개 이상은 동일하지 아니하며, 나머지 전력 레벨들은 동일하다. 예를 들어, 전력 레벨 Pp1은, 전력 레벨 Pp3와 동일한, 전력 레벨 Pp2와 동일하지 아니하다. 또 다른 예로서, 전력 레벨 Pp2는, 전력 레벨 Pp1와 동일한, 전력 레벨 Pp3와 동일하지 아니하다. 다른 예로서, 전력 레벨 Pp1은, 전력 레벨 Pp3와 동일하지 아니한, 전력 레벨 Pp2와 동일하다. 일부 실시예에서, 전력 레벨 Pp1, Pp2 및 Pp3 중 두 개 이상이 동일하고 나머지 전력 레벨들은 동일하지 아니하다.

유사하게, 일부 실시예에서, 전력 레벨 Ps1, Ps2 및 Ps3는 동일하다. 다양한 실시예에서, 전력 레벨 Ps1, Ps2 및 Ps3 중 두 개 이상은 동일하지 아니하며, 나머지 전력 레벨들은 동일하다. 여러 실시예에서, 전력 레벨 Ps1, Ps2 및 Ps3 중 두 개 이상은 동일하며 나머지 전력 레벨들은 동일하지 아니하다.

일 실시예에서, 주파수 레벨 Fs1 및 전력 레벨 Ps1은 트레이닝 루틴에 기초하여 생성된다. 트레이닝 루틴 동안, x MHz RF 생성기가 그의 전력 레벨 신호를 낮은 전력 레벨에서 높은 전력 레벨로, 또는 낮은 전력 레벨에서 높은 전력 레벨로 변화시킬 때에, 플라즈마 챔버 (104) 내의 하나 이상의 부분과 y MHz RF 생성기 사이에 임피던스 미스매칭 (mismatch) 이 있다. 높은 전력 레벨은 낮은 전력 레벨보다 높다. x MHz RF 생성기로 공급되는 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3에서 S1으로 변화할 때에, x MHz RF 생성기는 그의 RF 전력 신호를 변화시킨다. 이러한 경우에, y MHz RF 생성기는 x MHz RF 생성기가 높은 전력 레벨에서 또는 낮은 전력 레벨에서 전력의 공급을 시작할 때에 튜닝되는 그의 주파수 및 전력을 가진다. 임피던스 미스매칭을 감소시키기 위해, y MHz RF 생성기는 주파수 레벨로 그리고 전력 레벨로의 튜닝을, 예를 들어 컨버징 (converging) 을 시작한다. 기준 편차 또는 다른 기술에 기초하여, DSP (153) 에 의해 컨버전스 (convergence) 의 달성이 결정될 수 있다. y MHz RF 생성기가 주파수 레벨로 그리고 전력 레벨로 컨버징하도록, x MHz RF 생성기는 평소 기간보다 더 연장된 기간 동안 높은 전력 레벨로 또는 낮은 전력 레벨로 유지된다. 평소 기간은 임피던스 미스매칭이 감소되지 아니하는, 예를 들어 제거되지 아니하는 시간의 양이다. y MHz RF 생성기가 주파수 레벨 및 전력 레벨로 컨버징할 때에, 컨버징된 주파수 레벨은 AFT (138) 내에 주파수 레벨 Fs1으로 저장되고, 컨버징된 주파수 레벨은 전력 제어부 (150) 내에 전력 레벨 Ps1으로 저장된다. 유사하게, 트레이닝 루틴 동안, 주파수 레벨 Fs2, Fs3, Fp1, Fp2 및 Fp3, 그리고 전력 레벨 Ps2, Ps3, Pp1, Pp2 및 Pp3이 생성된다. 주파수 레벨 Fs2가 AFT (141) 내에 저장되고, 주파수 레벨 Fs3가 AFT (142) 내에 저장되고, 주파수 레벨 Fp1이 AFT (130) 내에 저장되고, 주파수 레벨 Fp2가 AFT (132) 내에 저장되고, 주파수 레벨 Fp3가 AFT (134) 내에 저장되고, 전력 레벨 Ps2가 전력 제어부 (152) 내에 저장되고, 전력 레벨 Ps3가 전력 제어부 (154) 내에 저장되고, 전력 레벨 Pp1이 전력 제어부 (144) 내에 저장되고, 전력 레벨 Pp2가 전력 제어부 (146) 내에 저장되고, 그리고 전력 레벨 Pp3가 전력 제어부 (148) 내에 저장된다.

펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에, 전력 제어부 (144) 는 전력 레벨 Pp1을 전력 공급부 (160) 로 공급하고, 전력 제어부 (150) 는 전력 레벨 Ps1을 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 상태 S1 동안, AFT (130) 는 주파수 레벨 Fp1을 전력 공급부 (160) 로 공급하며, AFT (138) 는 주파수 레벨 Fs1을 전력 공급부 (162) 로 공급한다.

더욱이, 일 실시예에서, 펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에, 전력 제어부 (146) 는 전력 레벨 Pp2를 전력 공급부 (160) 로 공급하지 아니하며, 전력 제어부 (148) 는 전력 레벨 Pp3를 전력 공급부 (160) 로 공급하지 아니한다. 또한, 이러한 실시예에서, AFT (132) 는 Fp2의 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 로 공급하지 아니하며, AFT (134) 는 Fp3의 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 로 공급하지 아니한다. 또한, 펄스 신호 (102) 의 상태가 S1일 때에, 전력 제어부 (152) 는 전력 레벨 Ps2를 전력 공급부 (162) 로 공급하지 아니하며, 전력 제어부 (154) 는 전력 레벨 Ps3를 전력 공급부 (162) 로 공급하지 아니한다. 더욱이, AFT (141) 는 Fs2의 전력 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니하며, AFT (142) 는 Fs3의 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니한다. 다양한 실시예에서, 전력 레벨의 비-공급은 제로 전력 레벨의 공급을 포함한다.

일부 실시예에서, 일 상태 동안, 전력 공급부 (162) 로의 그 상태에 대한 전력 레벨의 공급과 동시에, 그 상태에 대한 전력 레벨이 전력 공급부 (160) 로 공급된다. 예를 들어, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (162) 로의 전력 레벨 Ps1의 공급과 동시에, 전력 레벨 Pp1이 전력 공급부 (160) 에 공급된다. 더 설명하면, 상태 S1에서, 전력 레벨 Ps1이 전력 공급부 (162) 에 공급되는 동안과 같은 펄스 신호 (102) 의 클록 에지 동안, 전력 레벨 Pp1이 전력 공급부 (160) 에 공급된다.

유사하게, 다양한 실시예에서, 일 상태 동안, 전력 공급부 (162) 로의 그 상태에 대한 주파수 레벨의 공급과 동시에, 그 상태에 대한 주파수 레벨이 전력 공급부 (160) 에 공급된다. 예를 들어, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨 Fs1의 공급과 동시에 주파수 레벨 Fp1이 전력 공급부 (160) 로 공급된다. 더 설명하면, 상태 S1에서, 전력 레벨 Fs1이 전력 공급부 (162) 에 공급되는 동안과 같은 펄스 신호 (102) 의 클록 에지 동안, 전력 레벨 Fp1이 전력 공급부 (160) 에 공급된다.

일부 실시예에서, 일 상태 동안, 전력 공급부 (162) 로의 그 상태에 대한 주파수 레벨 및 그 상태에 대한 전력 레벨의 공급과 동시에, 그 상태에 대한 전력 레벨 및 그 상태에 대한 주파수 레벨이 전력 공급부 (160) 로 공급된다. 예를 들어, 상태 S3 동안, 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨 Fs3 및 전력 레벨 Ps3의 공급과 동시에 주파수 레벨 Fp3 및 전력 레벨 Pp3이 전력 공급부 (160) 로 공급된다. 더 설명하면, 상태 S1에서, 전력 공급부 (162) 로 주파수 레벨 Fs3 및 전력 레벨 Ps3가 공급되는 동안과 같은 펄스 신호의 클록 에지 동안, 주파수 레벨 Fp3 및 전력 레벨 Pp3이 전력 공급부 (160) 로 공급된다.

여러 실시예에서, 일 상태 동안, 전력 레벨이 x MHz RF 생성기의 전력 제어부에 의해 x MHz RF 생성기의 전력 공급부 (160) 로 공급되며, 이와 거의 동시에, 전력 레벨이 y MHz RF 생성기의 전력 제어부에 의해 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 로 공급된다. 예를 들어, 상태 S1 동안, Pp1의 전력 레벨이 전력 공급부 (160) 로 공급되며, 이와 거의 동시에, 전력 레벨 Ps1이 전력 공급부 (162) 로 공급된다. 더 설명하면, 상태 S1에서, 펄스 신호 (102) 의 클록 에지의 발생 이전에 또는 그 이후에 Pp1의 전력 레벨이 일 초의 몇 분의 일 내에, 예를 들어 마이크로세컨드, 밀리세컨드, 나노세컨드 등 내에 전력 공급부 (160) 로 공급된다. 이러한 예에서, 클록 에지의 발생 동안 전력 레벨 Ps1이 전력 공급부 (162) 로 공급된다.

유사하게, 일부 실시예에서, 일 상태 동안, 주파수 레벨이 x MHz RF 생성기의 AFT에 의해 x MHz RF 생성기의 전력 공급부 (160) 로 공급되며, 이와 거의 동시에, 주파수 레벨이 y MHz RF 생성기의 AFT에 의해 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 로 공급된다. 예를 들어, 상태 S2 동안, Fp2의 주파수 레벨이 전력 공급부 (160) 로 공급되고, 이와 거의 동시에, 주파수 레벨 Fs2가 전력 공급부 (162) 로 공급된다. 더 설명하면, 상태 S2에서, 펄스 신호 (102) 의 클록 에지의 발생 이전에 또는 그 이후에 Fp2의 주파수 레벨이 일 초의 몇 분의 일 내에 전력 공급부 (160) 로 공급된다. 이러한 예에서, 클록 에지의 발생 동안 전력 레벨 Fs2가 전력 공급부 (162) 로 공급된다.

유사하게, 다양한 실시예들에서, 일 상태 동안, x MHz RF 생성기의 전력 공급부 (160) 에 전력 레벨이 x MHz RF 생성기의 전력 제어부에 의해 공급되고 주파수 레벨이 x MHz RF 생성기의 튜너에 의해 공급되며, 이와 거의 동시에, y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 전력 레벨이 y MHz RF 생성기의 전력 제어부에 의해 공급되고 주파수 레벨이 y MHz RF 생성기의 튜너에 의해 공급된다. 예를 들어, 상태 S3 동안, Fp3의 주파수 레벨 및 Pp3의 전력 레벨이 전력 공급부 (160) 에 공급되고, 이와 거의 동시에, 주파수 레벨 Fs3 및 전력 레벨 Ps3가 전력 공급부 (162) 에 공급된다. 더 설명하면, 상태 S3에서, 펄스 신호 (102) 의 클록 에지의 발생 이전에 또는 그 이후에 주파수 레벨 Fp3 및 전력 레벨 Pp3이 일 초의 몇 분의 일 내에 전력 공급부 (160) 에 공급된다. 이러한 예에서, 클록 에지의 발생 동안 전력 레벨 Ps3 및 주파수 레벨 Fs3이 전력 공급부 (162) 에 공급된다.

전력 공급부 (160) 는 상태 S1 동안 Fp1의 주파수 레벨 및 전력 레벨 Pp1을 수신한다. 레벨 Fp1 및 Pp1을 수신할 때에, 전력 공급부 (160) 는 주파수 레벨 Fp1에서 RF 전력을 생성하고, RF 전력은 Pp1의 전력 레벨을 가진다. 더욱이, 전력 공급부 (162) 는 상태 S1 동안 주파수 레벨 Fs1 및 전력 레벨 Ps1을 수신한다. 레벨 Fs1 및 Ps1을 수신할 때에, y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 는 주파수 레벨 Fs1 및 전력 레벨 Ps1을 가지는 RF 신호를 생성한다.

더욱이, 일 실시예에서, 펄스 신호 (102) 의 상태가 S2일 때에, 전력 제어부 (144) 는 전력 레벨 Pp1을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니하며, 전력 제어부 (148) 는 전력 레벨 Pp3을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니한다. 또한, 이러한 실시예에서, AFT (130) 는 Fp1의 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니하며, AFT (134) 는 Fp3의 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니한다. 또한, 펄스 신호 (102) 의 상태가 S2일 때에, 전력 제어부 (150) 는 전력 레벨 Ps1을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니하며, 전력 제어부 (154) 는 전력 레벨 Ps3를 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니한다. 더욱이, 펄스 신호 (102) 의 상태 S2 동안, AFT (138) 는 Fs1의 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니하며, AFT (142) 는 Fs3의 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니한다.

더욱이, 전력 공급부 (160) 는 상태 S2 동안 Fp2의 주파수 레벨 및 Pp2의 전력 레벨을 수신한다. 레벨 Fp2 및 Pp2을 수신할 때에, 전력 공급부 (160) 는 주파수 레벨 Fp2에서 RF 전력을 생성하고, RF 전력은 Pp2의 전력 레벨을 가진다. 더욱이, 상태 S2 동안 전력 공급부 (162) 는 주파수 레벨 Fs2 및 전력 레벨 Ps2을 수신한다. 레벨 Fs2 및 Ps2을 수신할 때에, y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 는 주파수 레벨 Fs2 및 전력 레벨 Ps2를 가지는 RF 신호를 생성한다.

또한, 일 실시예에서, 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3일 때에, 전력 제어부 (144) 는 전력 레벨 Pp1을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니하며, 전력 제어부 (146) 는 전력 레벨 Pp2를 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니한다. 또한, 이러한 실시예에서, AFT (130) 는 Fp1의 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니하며, AFT (132) 는 Fp2의 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급하지 아니한다. 또한, 펄스 신호 (102) 의 상태가 S3일 때에, 전력 제어부 (150) 는 전력 레벨 Ps1을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니하며, 전력 제어부 (152) 는 전력 레벨 Ps2를 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니한다. 더욱이, AFT (138) 는 Fs1의 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니하며, AFT (141) 는 Fs2의 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급하지 아니한다.

더욱이, 전력 공급부 (160) 는 상태 S3 동안 Fp3의 주파수 레벨 및 전력 레벨 Pp3를 수신한다. 레벨 Fp3 및 Pp3을 수신할 때에, 전력 공급부 (160) 는 주파수 레벨 Fp3 및 RF 전력 레벨 Pp3를 가지는 RF 신호를 생성한다. 더욱이, 상태 S3 동안 전력 공급부 (162) 는 주파수 레벨 Fs3 및 전력 레벨 Ps3을 수신한다. 레벨 Fs3 및 Ps3을 수신할 때에, y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 는 주파수 레벨 Fs3 및 전력 레벨 Ps3를 가지는 RF 신호를 생성한다.

일 실시예에서, 일 상태 동안, 남은 상태 도중 전력 공급부 (160) 로의 전력 레벨의 비-공급이 이루어지며, 동시에 남은 상태 도중 전력 공급부 (162) 로의 전력 레벨의 비-공급이 이루어진다. 예를 들어, 상태 S1에서, 전력 제어부 (152) 에 의한 전력 공급부 (162) 로의 전력 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, 전력 제어부 (146) 에 의한 전력 공급부 (160) 로의 전력 레벨의 공급이 없다. 다른 예로서, 상태 S2에서, 전력 제어부 (150 및 154) 에 의한 전력 공급부 (162) 로의 전력 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, 전력 제어부 (144 및 148) 에 의한 전력 공급부 (160) 로의 전력 레벨의 공급이 없다. 또 다른 예로서, 상태 S3에서, 전력 제어부 (150 및 152) 에 의한 전력 공급부 (162) 로의 전력 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, 전력 제어부 (144 및 146) 에 의한 전력 공급부 (160) 로의 전력 레벨의 공급이 없다.

일부 실시예에서, 일 상태 동안, 남은 상태 도중 전력 공급부 (160) 로의 주파수 레벨의 비-공급이 이루어지며, 동시에 남은 상태 도중 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨의 비-공급이 이루어진다. 예를 들어, 상태 S1에서, AFT (141) 에 의한 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, AFT (132) 에 의한 전력 공급부 (160) 로의 주파수 레벨의 공급이 없다. 다른 예로서, 상태 S2에서, AFT (138 및 142) 에 의한 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, AFT (130 및 134) 에 의한 전력 공급부 (160) 로의 주파수 레벨의 공급이 없다. 또 다른 예로서, 상태 S3에서, AFT (138 및 141) 에 의한 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, AFT (130 및 132) 에 의한 전력 공급부 (160) 로의 주파수 레벨의 공급이 없다.

여러 실시예에서, 일 상태 동안, 남은 상태 도중 전력 공급부 (160) 로의 주파수 및 전력 레벨의 비-공급이 이루어지며, 동시에 남은 상태 도중 전력 공급부 (162) 로의 주파수 및 전력 레벨의 비-공급이 이루어진다. 예를 들어, 상태 S1에서, 전력 공급부 (162) 로의 AFT (141) 에 의한 주파수 레벨의 공급 및 전력 공급부 (152) 에 의한 전력 레벨의 공급이 없는 기간과 동일한 펄스 신호 (102) 의 에지 동안, 전력 공급부 (160) 로의 AFT (132) 에 의한 주파수 레벨의 공급 및 전력 제어부 (146) 에 의한 전력 레벨의 공급이 없다.

여러 실시예에서, 일 상태 동안, 남은 상태 도중 전력 공급부 (160) 로의 전력 레벨의 비-공급이 이루어지며, 이와 거의 동시에 남은 상태 도중 전력 공급부 (162) 로의 전력 레벨의 비-공급이 이루어진다. 다양한 실시예에서, 일 상태에서, 남은 상태 도중 전력 공급부 (160) 로의 주파수 레벨의 비-공급이 이루어지며, 이와 거의 동시에 남은 상태 도중 전력 공급부 (162) 로의 주파수 레벨의 비-공급이 이루어진다. 여러 실시예에서, 일 상태에서, 남은 상태 도중 전력 공급부 (160) 로의 주파수 및 전력 레벨의 비-공급이 이루어지며, 이와 거의 동시에 남은 상태 도중 전력 공급부 (162) 로의 주파수 및 전력 레벨의 비-공급이 이루어진다.

일부 실시예에서, 전력 공급부, 예를 들어 RF 전력 공급부 등은 증폭기 (amplifier) 에 커플링되는 구동부를 포함한다. 구동부는 RF 신호를 생성한다. 증폭기는 RF 신호를 증폭시키며, RF 케이블, 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 RF 신호의 순방향 (forward) 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 예를 들어, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (160) 의 증폭기는 RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 레벨 Pp1과 비례하는, 예를 들어 이와 동일한, 이의 정수 배 등인 전력 레벨 및 주파수 레벨 Fp1를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 이러한 예에서, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (162) 의 증폭기는 RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 레벨 Ps1과 비례하는 전력 레벨 및 주파수 레벨 Fs1를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다.

다른 예로서, 상태 S2 동안, 전력 공급부 (160) 의 증폭기는 RF 케이블 (180), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 레벨 Pp2과 비례하는, 예를 들어 이와 동일한, 이의 정수 배 등인 전력 레벨 및 주파수 레벨 Fp2를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 이러한 예에서, 상태 S2 동안, 전력 공급부 (162) 의 증폭기는 RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 레벨 Ps2에 비례하는 전력 레벨 및 주파수 레벨 Fs2를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 또 다른 예로서, 상태 S3 동안, 전력 공급부 (160) 의 증폭기가 RF 케이블 (180), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 레벨 Pp3와 비례하는, 예를 들어 이와 동일한, 이의 정수 배 등인 전력 레벨 및 주파수 레벨 Fp3을 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 이러한 예에서, 상태 S3 동안, 전력 공급부 (162) 의 증폭기는 RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 레벨 Ps3에 비례하는 전력 레벨 및 주파수 레벨 Fs3를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다.

일 실시예에서, 각 상태 S1, S2, 및 S3 동안, x MHz RF 생성기의 센서 (210) 는 RF 케이블 (180) 상의, 플라즈마 챔버 (104) 의 플라즈마로부터 반사된 RF 전력인 반사 전력 (reflected power) 을 감지한다. 더욱이, 각 상태 S1, S2 및 S3 동안, 순방향 전력이 x MHz RF 생성기로부터 RF 케이블 (180) 을 통해 플라즈마 챔버 (104) 로 송신될 때에, 센서 (210) 는 RF 케이블 (180) 상의 순방향 전력을 감지한다. 유사하게, 각 상태 S1, S2, 및 S3 동안, y MHz RF 생성기의 센서 (212) 는 플라즈마 챔버 (104) 의 플라즈마로부터의 반사 전력을 감지한다. 센서 (212) 에 의해 감지된 반사 전력은 플라즈마 챔버 (104) 의 플라즈마로부터 RF 케이블 (182) 상에 반사된다. 더욱이, 각 상태 S1, S2 및 S3 동안, 순방향 전력이 y MHz RF 생성기로부터 RC 케이블 (182) 을 통해 플라즈마 챔버 (104) 로 송신될 때에, 센서 (212) 는 RF 케이블 (182) 상의 순방향 전력을 감지한다.

x MHz RF 생성기의 아날로그-투-디지털 변환기 (ADC; 221) 는 센서 (210) 에 의해 감지된 순방향 전력 신호 및 반사 전력 신호를 아날로그 형태에서 디지털 형태로 변환시키고, y MHz RF 생성기의 ADC (223) 는 센서 (212) 에 의해 감지된 순방향 전력 신호 및 반사 전력 신호를 아날로그에서 디지털 형태로 변환시킨다. 각 상태 S1, S2, 및 S3 동안, DSP (140) 는 반사 전력 신호의 디지털 값, 예를 들어 크기, 페이즈 (phase) 또는 이들의 조합 등과 센서 (210) 에 의해 감지된 순방향 전력 신호를 수신하고, DSP (153) 는 센서 (212) 에 의해 감지되는 순방향 전력 신호의 디지털 값과 반사 전력 신호의 디지털 값을 수신한다.

일부 실시예에서, 전력 신호의 디지털 값은 전력 신호의 전압, 신호의 전류, 또는 전압 및 전류의 조합이다. 다양한 실시예에서, 신호의 디지털 값은 신호의 크기 및 신호의 페이즈를 포함한다.

상태 S1, S2, 및 S3 중 하나 또는 모두 동안, DSP (140) 는 RF 케이블 (180) 상의 순방향 및 반사 전력 신호의 디지털 값으로부터 파라미터 값, 예를 들어 디지털 반사 전력 신호와 디지털 순방향 전력 신호의 비율, 또는 전압 정상파 비율 (VSWR), 또는 감마 (gamma) 값, 또는 임피던스의 변화 등을 계산한다. 일부 실시예에서, 1의 감마 값은 소스와 부하의 임피던스 사이의 높은 정도의 미스매칭을 가리키며, 0의 감마 값은 소스와 부하의 임퍼던스 사이의 낮은 정도의 미스매칭을 가리킨다. 유사하게. DSP (153) 은 RF 케이블 (182) 상의 순방향 및 반사 전력 신호의 디지털 값으로부터 파라미터 값을 계산한다. 다양한 실시예에서, VSWR이 RC-1 및 RC+1의 비율과 동일하게끔 계산되는데, 여기서 RC는 반사 계수이다.

일부 실시예에서, RF 생성기의 센서는 RF 생성기와 임피던스 매칭 회로 (106) 사이에서 RF 케이블을 통해 전달되는 복합 전류 및 복합 전압을 측정하는 전압 및 전류 프로브이다. 예를 들어, 센서 (210) 는 x MHz RF 생성기와 임피던스 매칭 회로 (106) 사이에서 RF 케이블 (180) 을 통해 전달되는 복합 전압 및 복합 전류를 측정하는 전압 및 전류 프로브이다. 다른 예로서, 센서 (212) 는 y MHz RF 생성기와 임피던스 매칭 회로 (106) 사이에서 RF 케이블 (182) 을 통해 전달되는 복합 전압 및 복합 전류를 측정하는 전압 및 전류 프로브이다. 이러한 실시예에서, 센서에 의해 측정되는 파라미터 값은 플라즈마의 임피던스 또는 플라즈마의 임피던스의 변화를 포함한다. 플라즈마의 임피던스는 센서에 의해 복합 전류에 대한 복합 전압의 비율로서 결정된다. 임피던스의 변화는 기간 동안 플라즈마의 두 개의 임피던스 사이의 차로서 결정된다. 일부 실시예에서, 파라미터 값은 AFT, 전력 제어부 또는 RF 생성기의 DSP에 의해 결정된다.

일 상태 동안의 파라미터 값은, 그 상태와 연관된 RF 생성기 내에서, RF 생성기의 DSP로부터 AFT에 송신된다. 예를 들어, 상태 S1 동안 획득되는 파라미터 값은 DSP (140) 로부터 AFT (130) 로 송신되며, 상태 S1 동안 획득되는 파라미터 값은 DSP (153) 로부터 AFT (138) 로 송신된다. 또 다른 예로서, 상태 S2 동안 획득되는 파라미터 값은 DSP (140) 로부터 AFT (132) 로 송신되며, 상태 S2 동안 획득되는 파라미터 값은 DSP (153) 로부터 AFT (141) 로 송신된다. 또 다른 예로서, 상태 S3 동안 획득되는 파라미터 값은 DSP (140) 로부터 AFT (134) 로 송신되며, 상태 S3 동안 획득되는 파라미터 값은 DSP (153) 로부터 AFT (142) 로 송신된다.

일 상태 동안, RF 생성기의 AFT는, RF 생성기의, 그 상태 동안의, DSP로부터 파라미터 값을 수신하며, AFT는 수신된 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨을 결정한다. 예를 들어, 상태 S1 동안, AFT (130) 는 상태 S1 동안의 DSP (140) 로부터 수신된 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨을 결정하며, AFT (138) 는 DSP (153) 로부터 수신된, 상태 S1 동안의 파라미터 값에 기초하여 주파수 레벨을 결정한다. 또 다른 예로서, 상태 S2 동안, AFT (132) 는 상태 S2 동안의 DSP (140) 로부터 수신된 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨을 결정하며, AFT (141) 는 DSP (153) 로부터 수신된, 상태 S2 동안의 파라미터 값에 기초하여 주파수 레벨을 결정한다. 또 다른 예로서, 상태 S2 동안, AFT (134) 는 상태 S3 동안의 DSP (140) 로부터 수신된 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨을 결정하며, AFT (142) 는 DSP (153) 로부터 수신된, 상태 S3 동안의 파라미터 값에 기초하여 주파수 레벨을 결정한다.

파라미터 값과 주파수 레벨 사이의 연관, 대응, 맵핑, 링크 (link) 등이 미리 결정되고 AFT 내에 저장됨을 유념해야 한다. 유사하게, 일부 실시예에서. 파라미터 값과 전력 레벨 사이의 연관이 미리 결정되고 전력 제어부 내에 저장된다.

더욱이, 일 상태 동안, RF 생성기의 AFT는 그 상태 동안 파라미터 값으로부터 생성되는 주파수 레벨에 기초하여 주파수 레벨을 조정하며, RF 생성기의 전력 공급부에 조정된 주파수 레벨을 공급한다. 예를 들어, 상태 S1 동안, AFT (130) 는 DSP (140) 에 의해 생성되는 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨에 기초하여 상태 S1 동안 주파수 레벨을 조정하며, 조정된 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급한다. 더욱이, 이러한 예에서, 상태 S1 동안, AFT (138) 는 DSP (153) 에 의해 생성되는 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨에 기초하여 상태 S1 동안 주파수 레벨 Fs1을 조정하며, 조정된 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 또 다른 예로서, 상태 S2 동안, AFT (132) 는 DSP (140) 에 의해 생성되는 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨에 기초하여 상태 S2 동안 주파수 레벨 Fp2를 조정하며, 조정된 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급한다. 더욱이, 상태 S2 동안, AFT (141) 는 DSP (153) 에 의해 생성되는 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨에 기초하여 상태 S2 동안 주파수 레벨 Fs2를 조정하며, 조정된 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 또 다른 예로서, 상태 S3 동안, AFT (134) 는 DSP (140) 에 의해 생성되는 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨에 기초하여 상태 S3 동안 주파수 레벨 Fp3을 조정하며, 조정된 주파수 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급한다. 더욱이, 이러한 예에서, 상태 S3 동안, AFT (142) 는 DSP (153) 에 의해 생성되는 파라미터 값과 관련된 주파수 레벨에 기초하여 상태 S3 동안 주파수 레벨 Fs3을 조정하며, 조정된 주파수 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급한다.

더욱이, 일 상태 동안, RF 생성기의 전력 제어부는 RF 생성기의 DSP로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정한다. 예를 들어, 상태 S1 동안, 전력 제어부 (144) 는 DSP (140) 로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정하며, 전력 제어부 (150) 는 DSP (153) 로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정한다. 또 다른 예로서, 상태 S2 동안, 전력 제어부 (149) 는 DSP (140) 로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정하며, 전력 제어부 (152) 는 DSP (153) 로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정한다. 또 다른 예로서, 상태 S3 동안, 전력 제어부 (148) 는 DSP (140) 로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정하며, 전력 제어부 (154) 는 DSP (153) 로부터 수신되는 파라미터 값에 기초하여 전력 레벨을 결정한다.

더욱이, 일 상태 동안, RF 생성기의 전력 제어부는 파라미터 값에 기초하여 생성되는 전력 레벨에 기초하여 RF 생성기의 전력 공급부의 전력 레벨을 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부에 공급한다. 예를 들어, 상태 S1 동안, 전력 제어부 (144) 는 상태 S1 동안의 파라미터 값으로부터 생성되는 전력 레벨에 기초하여 전력 레벨 Pp1을 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급한다. 이러한 예에서, 상태 S1 동안, 전력 제어부 (150) 는 상태 S1 동안의 파라미터 값으로부터 생성되는 전력 레벨에 기초하여 전력 레벨 Ps1을 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 또 다른 예로서, 상태 S2 동안, 전력 제어부 (146) 는 상태 S2 동안의 파라미터 값으로부터 생성되는 전력 레벨에 기초하여 전력 레벨 Pp2를 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급한다. 이러한 예에서, 상태 S2 동안, 전력 제어부 (152) 는 상태 S2 동안의 파라미터 값으로부터 생성되는 전력 레벨에 기초하여 Ps2의 전력 레벨을 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 또 다른 예로서, 상태 S3 동안, 전력 제어부 (148) 는 상태 S3 동안의 파라미터 값으로부터 생성되는 전력 레벨에 기초하여 Pp3의 전력 레벨을 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부 (160) 에 공급한다. 이러한 예에서, 상태 S3 동안, 전력 제어부 (154) 는 상태 S3 동안의 파라미터 값으로부터 생성되는 전력 레벨에 기초하여 Pp3의 전력 레벨을 조정하며, 조정된 전력 레벨을 전력 공급부 (162) 에 공급한다.

일 상태 동안, RF 생성기의 전력 공급부는 RF 생성기의 AFT로부터 수신된 그 상태에 대한 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 RF 생성기의 전력 제어부로부터 수신된 그 상태에 대한 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 RF 신호를 생성하고, RF 케이블, 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 예를 들어, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (160) 는 AFT (130) 로부터 수신된 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 전력 제어부 (144) 로부터 수신된 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 신호를 생성하고, RF 케이블 (180), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 유사하게, 이러한 예에서, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (162) 는 AFT (138) 로부터 수신된 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 전력 제어부 (150) 로부터 수신된 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 신호를 생성하고, RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다.

다른 예로서, 상태 S1 동안, 전력 공급부 (160) 는 AFT (131) 로부터 수신된 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 전력 제어부 (146) 로부터 수신된 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 신호를 생성하고, RF 케이블 (180), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 유사하게, 이러한 예에서, 상태 S2 동안, 전력 공급부 (162) 는 AFT (141) 로부터 수신된 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 전력 제어부 (152) 로부터 수신된 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 신호를 생성하고, RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다.

또 다른 예로서, 상태 S3 동안, 전력 공급부 (160) 는 AFT (134) 로부터 수신된 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 전력 제어부 (148) 로부터 수신된 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 신호를 생성하고, RF 케이블 (180), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다. 유사하게, 이러한 예에서, 상태 S3 동안, 전력 공급부 (162) 는 AFT (142) 로부터 수신된 조정된 주파수 레벨을 가지는 그리고 전력 제어부 (154) 로부터 수신된 조정된 전력 레벨을 가지는 전력 신호를 생성하고, RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 전력 신호를 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다.

일 실시예에서, 단일의 제어부가 전력 제어부 (144) 및 AFT (130) 대신에 이용되며, 단일의 제어부가 전력 제어부 (146) 및 AFT (132) 대신에 이용되며, 그리고 단일의 제어부가 전력 제어부 (148) 및 AFT (134) 대신에 이용된다. 일부 실시예에서, 단일의 제어부가 전력 제어부 (150) 및 AFT (138) 대신에 이용되며, 단일의 제어부가 전력 제어부 (152) 및 AFT (141) 대신에 이용되며, 단일의 제어부가 전력 제어부 (154) 및 AFT (142) 대신에 이용된다.

일부 실시예에서, 시스템 (100) 에서 z MHz RF 생성기가 x 및 y MHz RF 생성기에 부가하여 이용된다. x MHz RF 생성기가 2 MHz RF 생성기이고 y MHz RF 생성기가 27 MHz RF 생성기일 때에, z MHz RF 생성기는 60 MHz RF 생성기일 수 있다. z MHz RF 생성기는 x 또는 y MHz RF 생성기의 구조와 유사한 구조를 가지며, x 또는 y MHz RF 생성기 외부의 시스템 (100) 의 부품과 함께 x 또는 y MHz RF 생성기의 연결구조와 유사한 연결구조를 가진다. 예를 들어, z MHz RF 생성기는 세 개의 전력 제어부, 세 개의 AFT, DSP, ADC, 센서 및 전력 공급부를 포함한다. 다른 예로서, z MHz RF 생성기의 DSP는 펄스 신호 (102) 를 수신하기 위해 툴 UI (151) 와 커플링된다. 다른 예로서, z MHz RF 생성기의 전력 공급부는 RF 케이블 (미도시됨), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 플라즈마 챔버 (104) 의 하부 전극 (120) 에 커플링된다.

본 명세서에서 설명되는 실시예들은 세 개의 상태를 이용하여 설명된다는 점에 유의해야 한다. 일부 실시예에서, 세 개보다 많은 상태가 이용될 수 있다.

도 2는 상태 S1, S2 및 S3을 설명하는 그래프 (190) 의 일 실시예이다. 그래프 (190) 는 시간 t 대 전력을 도시한다. 각 상태 S1, S2 및 S3은 로직 레벨과 관련되어 있다. 예를 들어, 상태 S1은 높은 로직 레벨을 가지며, 상태 S2는 중간 로직 레벨을 가지고, 상태 S3는 낮은 로직 레벨을 가진다. 높은 로직 레벨 'c'는, 낮은 로직 레벨 'a'보다 더 높은 전력 레벨을 가지는, 중간 로직 레벨 'b'보다 더 높은 전력 레벨을 가진다. 일 예로서, 상태 S1은 낮은, 중간 또는 높은 로직 레벨을 가진다. 일 예로서, 상태 S2는 낮은, 중간 또는 높은 로직 레벨을 가진다. 일 예로서, 상태 S3은 낮은, 중간 또는 높은 로직 레벨을 가진다. 일부 실시예에서, 상태 S1, S2, 및 S3은 스텝 함수 (step function) 를 나타낸다.

각 상태 S1, S2 또는 S3는 동일한 시간 범위 동안 지속된다. 예를 들어, 상태 S1의 발생에 관한 시간 범위 T1은 상태 S2의 발생에 관한 시간 범위 T2 또는 상태 S3의 발생에 관한 시간 범위 T3와 동일하다. 일부 실시예에서, 일 상태는 남은 상태들 중 하나 이상과 비교하여 동일하지 않은 시간 동안 지속된다. 예를 들어, 상태 S1은, 상태 S3와 다른 시간 범위 동안 지속되는, 상태 S2와 다른 시간 범위 동안 지속된다. 이러한 예에서, 상태 S3의 시간 범위는 상태 S1의 시간 범위와는 다르거나, 또는 이와 동일할 수 있다. 또 다른 예로서, 상태 S1은, 상태 S3보다 더 짧은 시간 범위 동안 지속되는, 상태 S2보다 더 긴 시간 범위 동안 지속된다.

도 3은 상이한 상태들에 대한 상이한 시간 범위를 도시하는 그래프 (201) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 그래프 (201) 는 시간 대 전력을 도시하고 있다. 상태 S1 및 S2는 동일한 시간 범위 동안 일어나며, 상태 S3는 상태 S2 또는 S3에 대한 시간 범위와는 다른 시간 범위 동안 일어난다. 예를 들어, 상태 S1 은 시간 범위 t1 동안 일어나며, 상태 S2는 시간 범위 t2 동안 일어나고, 상태 S3는 시간 범위 t3 동안 일어난다. 시간 범위 t3는 시간 범위 t1 또는 t2보다 더 길다.

일부 실시예에서, 상태 S1, S2, 및 S3 중 임의의 두 개가 동일한 시간 범위 동안 일어나며, 남은 상태는 다른 시간 범위 동안 일어난다. 예를 들어, 상태 S1은 상태 S3의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 일어나며, 그 발생에 관한 시간 범위는 상태 S2의 시간 범위와는 다르다. 다른 예로서, 상태 S2는 상태 S3의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 일어나며, 그 발생에 관한 시간 범위는 상태 S1의 시간 범위와는 다르다.

도 4는 생산 동안, 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 AFT (220, 222 또는 224) 중 하나를 선택하기 위한 시스템 (210) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 시스템 (210) 은 선택 로직 (226), AFT (220, 222 및 224), 디지털 클록 소스 (228), 플라즈마 챔버 (104), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 전력 공급부 (232) 를 포함한다.

선택 로직 (226), AFT (220, 222 및 224), 및 전력 공급부 (232) 는 x MHz RF 생성기 또는 y MHz RF 생성기 내부에서 구현된다. AFT (220, 222 및 224) 가 x MHz RF 생성기 내부에서 구현될 때에, AFT (220) 는 AFT (130) 의 일 예이고, AFT (222) 는 AFT (132) 의 일 예이며, AFT (224) 는 AFT (134) 의 일 예이고, 전력 공급부 (232) 는 전력 공급부 (160; 도 1) 의 일 예이다. 유사하게, AFT (220, 222 및 224) 가 y MHz RF 생성기 내부에서 구현될 때에, AFT (220) 는 AFT (138) 의 일 예이고, AFT (222) 는 AFT (141) 의 일 예이고, AFT (224) 는 AFT (142) 의 일 예이고, 전력 공급부 (232) 는 전력 공급부 (162; 도 1) 의 일 예이다.

선택 로직 (226) 의 예들은 멀티플렉서 (multiplexer) 를 포함한다. 선택 로직 (226) 이 멀티플렉서를 포함할 때에, 펄스 신호 (102) 는 멀티플렉서의 선택 인풋에서 수신된다.

다양한 실시예에서, 선택 로직 (226) 은 프로세서를 포함한다. 일 실시예에서, 선택 로직 (226) 은 DSP (140) 또는 DSP (153) 내부에서 구현된다.

디지털 클록 소스 (228) 는 디지털 클록 소스 (228) 에 의해 생성되는 디지털 클록 신호와 동기화하여 전력 공급부 (228) 를 동작시키는데 이용된다. 일부 실시예에서, 디지털 클록 신호는 펄스 신호 (102) 와 동기화된다. 예를 들어, 디지털 클록 신호는 펄스 신호 (102) 의 페이즈와 동일한 페이즈를 가진다. 또 다른 예로서, 디지털 클록 신호의 페이즈는 펄스 신호 (102) 의 페이즈의 미리 결정된 페이즈 범위 내에 있다. 미리 결정된 페이즈 범위에 관한 어플리케이션을 설명하자면, 클록 소스 (228) 의 디지털 클록 신호의 리딩 에지 (leading edge) 는 펄스 신호 (102) 의 리딩 에지 앞의 또는 그 뒤의 일 초의 몇 분의 일이다.

일 실시예에서, 클록 소스 (228) 로부터의 디지털 클록 신호 대신에, 펄스 신호 (102) 가 전력 공급부 (232) 에 공급된다.

펄스 신호 (102) 가 상태 S1에 있을 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (220) 를 선택한다. 유사하게, 펄스 신호 (102) 가 상태 S2에 있을 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (222) 를 선택하며, 펄스 신호 (102) 가 상태 S3에 있을 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (224) 를 선택한다. AFT (220) 가 선택될 때에, AFT (220) 는 주파수 레벨 Fp1을 전력 공급부 (232) 에 공급한다. 유사하게, AFT (222) 가 선택될 때에, AFT (222) 는 주파수 레벨 Fp2을 전력 공급부 (232) 에 공급하며, AFT (224) 가 선택될 때에, AFT (224) 는 주파수 레벨 Fp3을 전력 공급부 (232) 에 공급한다.

AFT (220, 222 및 224) 가 y MHz RF 생성기 내부에 위치되는 실시예에서, AFT (220) 가 선택될 때에, AFT (220) 는 주파수 레벨 Fs1를 전력 공급부 (232) 에 공급한다. 유사하게, 이러한 예들에서, AFT (222) 가 선택될 때에, AFT (222) 는 주파수 레벨 Fs2를 전력 공급부 (232) 에 공급하며, AFT (224) 가 선택될 때에, AFT (224) 는 주파수 레벨 Fs3를 전력 공급부 (232) 에 공급한다.

일부 실시예에서, 선택 로직 (226) 은 AFT (220, 222 및 224) 대신에 전력 제어부들 사이에서 선택한다. 예를 들어, 선택 로직 (226) 은 x MHz RF 생성기 (도 1) 의 전력 제어부 (144, 146, 및 148) 와 커플링된다. 이러한 예에서, 선택 로직 (226) 은 펄스 신호 (102) 가 상태 S1에 있을 때에 전력 제어부 (144) 를 선택하며, 펄스 신호 (102) 가 상태 S2에 있을 때에 전력 제어부 (146) 를 선택하고, 펄스 신호 (102) 가 상태 S3에 있을 때에 전력 제어부 (148) 를 선택한다. 또 다른 예로서, 선택 로직 (226) 은 y MHz RF 생성기 (도 1) 의 전력 제어부 (150, 152 및 154) 와 커플링된다. 이러한 예에서, 선택 로직 (226) 은 펄스 신호 (102) 가 상태 S1에 있을 때에 전력 제어부 (150) 를 선택하며, 펄스 신호 (102) 가 상태 S2에 있을 때에 전력 제어부 (152) 를 선택하고, 펄스 신호 (102) 가 상태 S3에 있을 때에 전력 제어부 (154) 를 선택한다.

다양한 실시예에서, x MHz RF 생성기의 전력 제어부 (144) 가 상태 S1 동안 선택될 때에, 전력 제어부 (144) 는 전력 레벨 Pp1을 전력 공급부 (232) 에 공급하며, x MHz RF 생성기의 전력 제어부 (146) 가 상태 S2 동안 선택될 때에, 전력 제어부 (146) 는 전력 레벨 Pp2를 전력 공급부 (232) 에 공급한다. 더욱이, x MHz RF 생성기의 전력 제어부 (148) 가 상태 S3 동안 선택될 때에, 전력 제어부 (148) 는 전력 레벨 Pp3을 전력 공급부 (232) 에 공급한다.

유사하게, 일부 실시예에서, y MHz RF 생성기의 전력 제어부 (150) 가 상태 S1 동안 선택될 때에, 전력 제어부 (150) 는 전력 레벨 Ps1을 전력 공급부 (232) 에 공급하며, y MHz RF 생성기의 전력 제어부 (152) 가 상태 S2 동안 선택될 때에, 전력 제어부 (152) 는 전력 레벨 Ps2를 전력 공급부 (232) 에 공급한다. 더욱이, y MHz RF 생성기의 전력 제어부 (154) 가 상태 S3 동안 선택될 때에, 전력 제어부 (154) 는 전력 레벨 Ps3를 전력 공급부 (232) 에 공급한다.

다수의 실시예에서, 선택 로직 (226) 은 z MHz RF 생성기 내부에서 구현되며, 본 명세서에서 설명되는 방식과 유사하게 기능한다. 예를 들어, 선택 로직 (226) 은 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 z MHz RF 생성기의 전력 제어부들 사이에서 선택하며, 또는 z MHz RF 생성기의 AFT 사이에서 선택한다.

도 5는 생산 동안, 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마의 임피던스의 변화 및 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 y MHz RF 생성기에 의해 생성되는 RF 신호의 주파수 및/또는 전력을 제어하기 위한 시스템 (200) 의 일 실시예에 관한 도면이다. y MHz RF 생성기의 DSP (153) 는 툴 UI (151) 로부터 펄스 신호 (102) 를 수신한다.

상태 S3으로부터 상태 S1으로의 펄스 신호 (102) 가 전이할 때에, x MHz RF 생성기가 전력 레벨 Pp1을 가지는 그리고 주파수 레벨 Fp1을 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급할 때에, 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마의 임피던스가 변화한다. 상태 S3으로부터 상태 S1으로의 펄스 신호 (102) 의 전이의 결과로서 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마 임피던스가 변화할 때에, 센서 (212) 는 RF 케이블 (182) 를 통해 전송될 복합 전압 및 복합 전류를 측정한다. 센서 (212) 는 복합 전압 및 복합 전류의 측정치를, 아날로그 포맷에서 디지털 포맷으로 측정치를 변환시키는, ADC 변환기 (222) 에 공급한다. 복합 전압 및 복합 전류의 측정치의 디지털 값은 DSP (153) 에 공급된다.

일 실시예에서, DSP (153) 는 펄스 신호 (102) 의 수신이 결여된다는 점을 또한 유념해야 한다. 오히려, 이러한 실시예에서, DSP (153) 는 펄스 신호 (102) 와 동기화되지 않을 수 있는 또 다른 디지털 펄스 신호를 수신한다. 일 실시예에서, DSP (153) 에 의해 수신되는 다른 디지털 펄스 신호는 펄스 신호 (102) 와 동기화된다.

펄스 신호 (102) 의 상태 S1 동안, 예를 들어 펄스 신호 (102) 의 상태 S3에서부터 상태 S1으로의 상태 전이 바로 이후 등에, DSP (153) 는 상태 S1 동안 측정되는 복합 전압 및 전류로부터 제 1 파라미터 값, 예를 들어 디지털 반사 전력 신호 및 디지털 순방향 전력 신호의 비의 제곱근 (square root), 감마 값, 전압 정상파 비율 (VSWR), 임피던스의 변화 등을 계산한다.

DSP (153) 는 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치와 동일한지 또는 제 1 임계치보다 더 큰지를 결정한다. DSP (153) 가 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치와 동일한지 또는 제 1 임계치보다 더 큰지를 결정할 때에, DSP (153) 는 AFT (138) 에 그리고 전력 제어부 (150) 에 동일한 것을 표시한다. AFT (138) 는 제 1 임계치와 적어도 동일한 제 1 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨 Fs1을 결정하고, 주파수 레벨 Fs1을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 더욱이, 전력 제어부 (150) 는 제 1 임계치와 적어도 동일한 제 1 파라미터 값에 대응하는 전력 레벨 Ps1을 결정하고, 전력 레벨 Ps1을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 예를 들어, AFT (138) 는 메모리 디바이스 내에, 그 값이 적어도 제 1 임계치와 동일한, 제 1 파라미터 값을 주파수 레벨 Fs1에 관해 매핑하는 테이블을 저장하며, 전력 제어부 (150) 는 메모리 디바이스 내에 전력 레벨 Ps1과 그 값이 적어도 제 1 임계치와 동일한, 제 1 파라미터 값 사이의 맵핑을 저장한다.

반면에, DSP (153) 가 제 1 임계치보다 제 1 파라미터 값이 더 적다고 결정할 때에, DSP (153) 는 AFT (142) 에 그리고 전력 제어부 (154) 에 동일한 것을 표시한다. AFT (142) 는 제 1 임계치보다 더 적은 제 1 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨 Fs3을 결정하며, 주파수 레벨 Fs3을 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 더욱이, 전력 제어부 (154) 는 제 1 임계치보다 더 적은 제 1 파라미터 값에 대응하는 전력 레벨 Ps3을 결정하며, 전력 레벨 Ps3을 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 예를 들어, AFT (142) 는 메모리 디바이스 내에, 그 값이 제 1 임계치보다 작은, 제 1 파라미터 값을 주파수 레벨 Fs3에 관해 매핑하는 테이블을 저장하며, 전력 제어부 (154) 는 메모리 디바이스 내에 전력 레벨 Ps3과 그 값이 적어도 제 1 임계치보다 작은, 제 1 파라미터 값 사이의 맵핑을 저장한다.

주파수 레벨, 예를 들어 주파수 레벨 Fs1, Fs3 등, 및 전력 레벨, 예를 들어 Ps1, Ps3 등을 수신할 때에, 전력 공급부 (162) 그 주파수 레벨 및 그 전력 레벨을 가지는 RF 신호를 생성하고, RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (184) 을 통해 플라즈마 챔버 (104) 로 RF 신호를 공급한다. 예를 들어, 전력 공급부 (162) 의 증폭기는 전력 레벨 Ps1에 비례하는, 예를 들어 이와 동일한, 이의 정수 배 등인 전력 레벨을 가지는 그리고 주파수 레벨 Fs1를 가지는 순방향 전력을 RF 케이블 (182), 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 전송 라인 (104) 을 통해 플라즈마 챔버 (104) 로 공급한다.

상태 S1에서부터 상태 S2로 펄스 신호 (102) 가 전이할 때에, x MHz RF 생성기가 전력 레벨 Pp2를 가지는 그리고 주파수 레벨 Fp2를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급할 때에, 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마의 임피던스가 변화한다. 상태 S1에서부터 상태 S2로의 펄스 신호 (102) 의 전이의 결과로서 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마 임피던스가 변화할 때에, 센서 (212) 는 RF 케이블 (182) 를 통해 전송될 복합 전압 및 복합 전류를 측정한다. 센서 (212) 는 복합 전압 및 복합 전류의 측정치를, 아날로그 포맷에서 디지털 포맷으로 측정치를 변환시키는, ADC 변환기 (222) 에 공급한다. 복합 전압 및 복합 전류의 측정치의 디지털 값은 DSP (153) 에 공급된다.

더욱이, 펄스 신호 (102) 의 상태 S2 동안, 예를 들어 펄스 신호 (102) 의 상태 S1에서부터 상태 S2로의 상태 전이 바로 이후 등에, DSP (153) 는 상태 S2 동안 측정되는 복합 전압 및 전류로부터 제 2 파라미터 값, 예를 들어 디지털 반사 전력 신호 및 디지털 순방향 전력 신호의 비의 제곱근, 감마 값, 전압 정상파 비율 (VSWR), 임피던스의 변화 등을 계산한다.

DSP (153) 는 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치보다 더 큰지를 결정한다. DSP (153) 가 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치와 동일한지 또는 제 2 임계치보다 더 큰지를 결정할 때에, DSP (153) 는 AFT (141) 에 그리고 전력 제어부 (152) 에 동일한 것을 표시한다. AFT (141) 는 제 2 임계치와 적어도 동일한 제 2 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨 Fs2를 결정하고, 주파수 레벨 Fs2를 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 더욱이, 전력 제어부 (152) 는 제 2 임계치와 적어도 동일한 제 2 파라미터 값에 대응하는 전력 레벨 Ps2를 결정하고, 전력 레벨 Ps2를 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 예를 들어, AFT (141) 는 메모리 디바이스 내에, 그 값이 적어도 제 2 임계치와 동일한, 제 2 파라미터 값을 주파수 레벨 Fs2에 관해 매핑하는 테이블을 저장하며, 전력 제어부 (152) 는 메모리 디바이스 내에 전력 레벨 Ps2와 그 값이 적어도 제 2 임계치와 동일한, 제 2 파라미터 값 사이의 맵핑을 저장한다.

반면에, DSP (153) 가 제 2 임계치보다 제 2 파라미터 값이 더 적다고 결정할 때에, DSP (153) 는 AFT (138) 에 그리고 전력 제어부 (150) 에 동일한 것을 표시한다. AFT (138) 는 제 2 임계치보다 더 적은 제 2 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨 Fs1을 결정하며, 주파수 레벨 Fs1을 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 더욱이, 전력 제어부 (150) 는 제 2 임계치보다 더 적은 제 2 파라미터 값에 대응하는 전력 레벨 Ps1를 결정하며, 전력 레벨 Ps1를 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 예를 들어, AFT (138) 는 메모리 디바이스 내에, 그 값이 제 2 임계치보다 작은, 제 2 파라미터 값을 주파수 레벨 Fs1에 관해 매핑하는 테이블을 저장하며, 전력 제어부 (150) 는 메모리 디바이스 내에 전력 레벨 Ps1과 그 값이 적어도 제 2 임계치보다 작은, 제 2 파라미터 값 사이의 맵핑을 저장한다.

상태 S2에서부터 상태 S3로 펄스 신호 (102) 가 전이할 때에, x MHz RF 생성기가 전력 레벨 Pp3를 가지는 그리고 주파수 레벨 Fp3를 가지는 순방향 전력을 플라즈마 챔버 (104) 로 공급할 때에, 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마의 임피던스가 변화한다. 상태 S2에서부터 상태 S3로의 펄스 신호 (102) 의 전이의 결과로서 플라즈마 챔버 (104) 내부의 플라즈마 임피던스가 변화할 때에, 센서 (212) 는 RF 케이블 (182) 를 통해 전송될 복합 전압 및 복합 전류를 측정한다. 센서 (212) 는 복합 전압 및 복합 전류의 측정치를, 아날로그 포맷에서 디지털 포맷으로 측정치를 변환시키는, ADC 변환기 (222) 에 공급한다. 복합 전압 및 복합 전류의 측정치의 디지털 값은 DSP (153) 에 공급된다.

더욱이, 펄스 신호 (102) 의 상태 S3 동안, 예를 들어 펄스 신호 (102) 의 상태 S2에서부터 상태 S3로의 상태 전이 바로 이후 등에, DSP (153) 는 상태 S3 동안 측정되는 복합 전압 및 전류로부터 제 3 파라미터 값, 예를 들어 디지털 반사 전력 신호 및 디지털 순방향 전력 신호의 비의 제곱근, 감마 값, 전압 정상파 비율 (VSWR), 임피던스의 변화 등을 계산한다.

DSP (153) 는 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치보다 더 큰지를 결정한다. DSP (153) 가 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치와 동일한지 또는 제 3 임계치보다 더 큰지를 결정할 때에, DSP (153) 는 AFT (142) 에 그리고 전력 제어부 (154) 에 동일한 것을 표시한다. AFT (142) 는 제 3 임계치와 적어도 동일한 제 3 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨 Fs3을 결정하고, 주파수 레벨 Fs3을 전력 공급부 (162) 에 공급한다. 더욱이, 전력 제어부 (154) 는 제 3 임계치보다 더 적은 제 3 파라미터 값에 대응하는 전력 레벨 Ps3를 결정하며, 전력 레벨 Ps3를 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 예를 들어, AFT (142) 는 메모리 디바이스 내에, 그 값이 제 3 임계치와 적어도 동일한, 제 3 파라미터 값을 주파수 레벨 Fs3에 관해 매핑하는 테이블을 저장하며, 전력 제어부 (154) 는 메모리 디바이스 내에 전력 레벨 Ps3과 그 값이 제 3 임계치와 적어도 동일한, 제 3 파라미터 값 사이의 맵핑을 저장한다.

반면에, DSP (153) 가 제 3 임계치보다 제 3 파라미터 값이 더 적다고 결정할 때에, DSP (153) 는 AFT (141) 에 그리고 전력 제어부 (152) 에 동일한 것을 표시한다. AFT (141) 는 제 3 임계치보다 더 적은 제 3 파라미터 값에 대응하는 주파수 레벨 Fs2을 결정하며, 주파수 레벨 Fs2을 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 더욱이, 전력 제어부 (152) 는 제 3 임계치보다 더 적은 제 3 파라미터 값에 대응하는 전력 레벨 Ps2를 결정하며, 전력 레벨 Ps2를 전력 공급부 (162) 로 공급한다. 예를 들어, AFT (141) 는 메모리 디바이스 내에, 그 값이 제 3 임계치보다 작은, 제 3 파라미터 값을 주파수 레벨 Fs2에 관해 매핑하는 테이블을 저장하며, 전력 제어부 (152) 는 메모리 디바이스 내에 전력 레벨 Ps2과 그 값이 적어도 제 3 임계치보다 작은, 제 3 파라미터 값 사이의 맵핑을 저장한다.

전력 공급부 (162) 에 의해 공급되는 RF 전력을 변화시키기 위한 파라미터 값은 이용은 플라즈마 안정성을 야기한다. 또한, 플라즈마 안정성은 복합 전압 및 전류의 실시간 측정치에 기초한다. 이러한 실시간 측정치는 플라즈마를 안정화하는데 정확성을 공급한다.

x 및 y MHz RF 생성기를 이용하는데 부가하여 z MHz RF 생성기가 이용되는 실시예에서, z MHz RF 생성기는 툴 UI (151) 에 커플링되고, 펄스 신호 (102) 는 툴 UI (151) 에서 z MHz RF 생성기로 송신된다. z MHz RF 생성기는 y MHz RF 생성기와 유사한 방식으로 기능한다. 예를 들어, 펄스 신호 (102) 의 일 상태 동안, 파라미터 값이 임계치를 초과하는지가 결정된다. 파라미터 값의 결정에 기초하여, 제 1 레벨 또는 제 2 레벨의 전력 및 제 1 레벨 또는 제 2 레벨의 주파수가 z MHz RF 생성기의 전력 공급부에 공급된다.

일 실시예에서, 제 1 임계치, 제 2 임계치 및 제 3 임계치가 트레이닝 루틴, 예를 들어 런닝 (learning) 프로세스 동안 생성된다. 트레이닝 루틴 동안, x MHz RF 생성기가 제 1 전력 레벨에서 제 2 전력 레벨로 그의 RF 전력 신호를 변화시킬 때에, 플라즈마 챔버 (104) 내부의 하나 이상의 부분들, 예를 들어 플라즈마와 z MHz RF 생성기 사이에 임피던스 미스매칭이 있다. 펄스 신호의 일 상태가 S3에서 S1으로 변화할 때에, x MHz RF 생성기는 그의 RF 전력 신호의 레벨을 제 1 전력 레벨에서 제 2 전력 레벨로 변화시킨다. 이러한 경우에, x MHz RF 생성기가 그의 전력 레벨 Pp1에서 전력 공급을 시작할 때에, y MHz RF 생성기는 튜닝된 그의 주파수 및 전력을 가진다. 임피던스 미스매칭을 감소시키기 위해, y MHz RF 생성기는 전력 레벨에 대한 그리고 주파수 레벨에 대한 튜닝, 예를 들어 컨버징을 시작한다. 기준 편차 또는 다른 기술에 기초하여 컨버전스가 DSP (153) 에 의해 결정될 수 있다. 주파수 레벨로 그리고 전력 레벨로 컨버징하기 위해 y MHz RF 생성기에게 더 많은 시간을 허용하도록, x MHz RF 생성기는 평소 기간보다 더 연장된 기간 동안 제 2 전력 레벨로 유지된다. 평소 기간은 임피던스 미스매칭이 감소되지 않는, 예를 들어 제거되지 않는 시간의 양이다.

y MHz RF 생성기가 전력 레벨 및 주파수 레벨로 컨버징할 때에, 컨버징된 전력 레벨이 전력 제어부 (150) 내에 전력 레벨 Ps1로서 저장되며, 컨버징된 주파수 레벨이 AFT (138) 내에 주파수 레벨 Fs1로서 저장된다. 제 1 임계치는 트레이닝 루틴 동안 전력 레벨 Ps1로부터 생성되며, 제 1 임계치는 주파수 레벨 Fs1에 대응한다. 예를 들어, 센서 (212) 는 트레이닝 루틴 동안 복합 전압 및 복합 전류를 측정한다. y MHz RF 생성기의 주파수가 Fs1일 때에, 센서 (212) 는 트레이닝 루틴 동안 복합 전압 및 복합 전류를 측정한다. DSP (153) 는 복합 전압 및 복합 전류를 수신하고, 트레이닝 루틴 동안 측정되는 복합 전압 및 복합 전류로부터 제 1 임계치를 생성한다.

유사하게, 트레이닝 루틴 동안, 제 2 및 제 3 임계치가 DSP (153) 에 의해 결정된다.

도 6은 RF 생성기에 의해 공급되는 RF 신호의 주파수 레벨 또는 전력 레벨을 결정하기 위해 임계치와 임피던스의 변화를 비교하여 도시하는 테이블 (250) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 펄스 신호가 상태 S1에서 상태 S2로 변화할 때에, 플라즈마의 임피던스의 변화 Δz12가 'm'으로 표시되는 제 2 임계치보다 더 큰지 여부가 결정된다. 임피던스 Δz12의 변화가 제 2 임계치 m과 적어도 동일하다고 결정할 때에, 전력 레벨 Ps2 또는 주파수 레벨 Fs2가 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급된다. 반면에, 임피던스의 변화 Δz12가 제 2 임계치 m보다 더 적다고 결정할 때에, 전력 레벨 Ps1 또는 주파수 레벨 Fs1가 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급된다.

유사하게, 펄스 신호가 상태 S2에서 상태 S3로 변화할 때에, 플라즈마의 임피던스의 변화 Δz23이 'n'으로 표시되는 제 3 임계치보다 더 큰지 여부가 결정된다. 임피던스 Δz23의 변화가 제 3 임계치 n보다 더 크다고 결정할 때에, 전력 레벨 Ps3 또는 주파수 레벨 Fs3가 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급된다. 반면에, 임피던스의 변화 Δz23이 제 3 임계치 n보다 더 적다고 결정할 때에, 전력 레벨 Ps2 또는 주파수 레벨 Fs2가 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급된다.

더욱이, 펄스 신호가 상태 S3에서 상태 S1으로 변화할 때에, 플라즈마의 임피던스의 변화 Δz31이 'o'으로 표시되는 제 1 임계치보다 더 큰지 여부가 결정된다. 임피던스 Δz31의 변화가 제 3 임계치 o보다 더 크다고 결정할 때에, 전력 레벨 Ps1 또는 주파수 레벨 Fs1가 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급된다. 반면에, 임피던스의 변화 Δz31이 제 1 임계치 o보다 더 적다고 결정할 때에, 전력 레벨 Ps3 또는 주파수 레벨 Fs3가 y MHz RF 생성기의 전력 공급부 (162) 에 공급된다.

일부 실시예에서, 임피던스의 변화 대신에, 또 다른 파라미터 값, 예를 들어, 감마, VSWR 등이 전력 공급부 (162) 에 공급하기 위한 전력 레벨 및/또는 주파수 레벨을 결정하는데 이용될 수 있다.

도 7은 생산 동안, 파라미터 값이 임계치를 초과하는지 여부에 기초하여 그리고 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 AFT (220, 222 또는 224) 를 선택하기 위한 시스템 (260) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 펄스 신호 (102) 가 상태 S1에 있고, 상태 S1 동안 측정되는 파라미터 값이 제 1 임계치와 적어도 동일할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (220) 를 선택한다. 반면에, 펄스 신호 (102) 가 상태 S1에 있고, 상태 S1 동안 측정되는 파라미터 값이 제 1 임계치보다 작을 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (224) 를 선택한다.

선택 로직 (226) 이 멀티플렉서를 포함할 때에, 펄스 신호 (102) 의 상태 동안의 파라미터 값이 임계치와 적어도 동일하거나 임계치보다 작다는 것을 나타내는 신호가 DSP (270) 로부터 멀티플렉서의 선택 인풋에 수신된다.

DSP (270) 는 DSP (153; 도 1) 의 일 예이다. 상태 S1 동안 센서 (272) 로부터 수신되는 복합 전류 및 복합 전압에 기초하여, DSP (270) 는 제 1 파라미터 값을 결정한다. DSP (270) 는 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치와 적어도 동일하다고 결정하고, 그 결정을 나타내는 신호를 선택 로직 (226) 에 공급한다. 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치와 적어도 동일하다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (220) 를 선택한다. 반면에, DSP (270) 는 펄스 신호 (102) 의 상태 S1 동안 결정되는 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치보다 더 작다고 결정하고, 그 결정을 나타내는 신호를 선택 로직 (226) 에 공급한다. 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치보다 작다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (224) 를 선택한다. 센서 (272) 는 y MHz RF 생성기의 센서 (212; 도 1) 의 예이다.

더욱이, 상태 S2 동안 센서 (272) 로부터 수신되는 복합 전류 및 복합 전압에 기초하여, DSP (270) 는 제 2 파라미터 값을 결정한다. DSP (270) 는 또한 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치와 적어도 동일하다고 결정하고, 그 결정을 나타내는 신호를 선택 로직 (226) 에 공급한다. 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치와 적어도 동일하다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (222) 를 선택한다. 반면에, DSP (270) 는 펄스 신호 (102) 의 상태 S2 동안 결정되는 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치보다 더 작다고 결정하고, 그 결정을 나타내는 신호를 선택 로직 (226) 에 공급한다. 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치보다 작다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (220) 를 선택한다.

더욱이, 상태 S3 동안 센서 (272) 로부터 수신되는 복합 전류 및 복합 전압에 기초하여, DSP (270) 는 제 3 파라미터 값을 결정한다. DSP (270) 는 또한 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치와 적어도 동일하다고 결정하고, 그 결정을 나타내는 신호를 선택 로직 (226) 에 공급한다. 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치와 적어도 동일하다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (224) 를 선택한다. 반면에, DSP (270) 는 펄스 신호 (102) 의 상태 S3 동안 결정되는 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치보다 더 작다고 결정하고, 그 결정을 나타내는 신호를 선택 로직 (226) 에 공급한다. 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치보다 작다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에, 선택 로직 (226) 은 AFT (222) 를 선택한다.

일부 실시예에서, 선택 로직 (226) 은 AFT (220, 222 및 224) 대신에 전력 제어부들 사이에서 선택한다. 예를 들어, 선택 로직 (226) 은 y MHz RF 생성기 (도 1) 의 전력 제어부 (150, 152 및 154) 에 커플링된다. 이러한 예에서, 선택 로직 (226) 은, 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치와 적어도 동일하다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에 전력 제어부 (150) 를 선택하고, 제 1 파라미터 값이 제 1 임계치보다 작다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에 전력 제어부 (154) 를 선택한다. 또 다른 예로서, 선택 로직 (226) 은, 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치와 적어도 동일하다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에 전력 제어부 (152) 를 선택하고, 제 2 파라미터 값이 제 2 임계치보다 작다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에 전력 제어부 (150) 를 선택한다. 또 다른 예로서, 선택 로직 (226) 은, 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치와 적어도 동일하다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에 전력 제어부 (154) 를 선택하고, 제 3 파라미터 값이 제 3 임계치보다 작다는 결정을 나타내는 신호를 수신할 때에 전력 제어부 (152) 를 선택한다.

다수의 실시예에서, 선택 로직 (226) 은 z MHz RF 생성기 내에서 구현되고, 본 명세서에 설명되는 바와 유사한 방식으로 기능한다. 예를 들어, 선택 로직 (226) 은 펄스 신호 (102) 의 상태에 기초하여 그리고 파라미터 값이 임계치를 초과하는지 여부에 기초하여 z MHz RF 생성기의 AFT들 사이에서, 또는 z MHz RF 생성기의 전력 제어부들 사이에서 선택한다.

도 8a는 그래프 (302, 304, 306 및 308) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (302, 304, 306 및 308) 는 킬로와트 (kilowatt; kW) 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (302) 에 나타난 바와 같이, 2 MHz 전력 공급부에 의해 공급되는 전력 신호인, 2 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a4의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 제로의 전력 값을 가진다. 또한, 60 MHz 전력 공급부에 의해 공급되는 전력 신호인, 60 MHz 전력 신호는 상태 S1 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S2 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a4의 전력 값을 가진다. a4의 전력 값은, a2의 전력 값보다 더 큰, a3의 전력 값보다 더 크다. a2의 전력 값은, 제로보다 더 큰, a1의 전력 값보다 더 크다.

그래프 (304) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 전력 신호는 상태 S3 동안 전력 값 a0을 가진다. a0의 전력 값은 a1의 전력 값보다 작다. 더욱이, 그래프 (306) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a3의 전력 값을 가진다. 그래프 (308) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a0의 전력 값을 가진다.

도 8b는 그래프 (310, 312, 314 및 316) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (310, 312, 314 및 316) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (310) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a1의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a2의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a2의 전력 값을 가진다

그래프 (312) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a1의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a2의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a1의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (314) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a1의 전력 값을 가진다. 그래프 (316) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a2의 전력 값을 가진다

도 9a는 그래프 (320, 322, 324 및 326) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (320, 322, 324 및 326) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (320) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a1의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a2의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a3의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (320) 에서, 2 MHz 전력 신호는 상태 S1 동안 a4의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a4의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a0의 전력 값을 가진다. a0의 전력 값은 a1의 전력 값보다 작으며, 제로보다 더 크다.

더욱이, 그래프 (322) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a3의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a1의 전력 값을 가진다. 그래프 (324) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a3의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (326) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a3의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a2의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a1의 전력 값을 가진다.

도 9b는 그래프 (328, 330, 332 및 334) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (328, 330, 332 및 334) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (328) 에 나타난 바와 같이, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a3의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a3의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (330) 에서, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a3의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a2의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (330) 에서, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a1의 전력 값을 가진다. 또한, 그래프 (334) 에서, 60 MHz 신호는 상태 S1 동안 a2의 전력 값을 가지고, 상태 S2 동안 a1의 전력 값을 가지며, 상태 S3 동안 a2의 전력 값을 가진다.

도 10a는 그래프 (336, 338, 340 및 342) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (336, 338, 340 및 342) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (330) 에서, 27 MHz 전력 공급부에 의해 공급되는 전력 신호인, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. a31의 전력 값은 a3의 전력 값보다 더 크고, a4의 전력 값보다는 작다. 그래프 (336) 의 나머지는 그래프 (302; 도 8a) 와 유사하다.

각 그래프 (338, 340 및 342) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (338) 의 나머지는 그래프 (304; 도 8a) 와 유사하며, 그래프 (340) 의 나머지는 그래프 (306; 도 8a) 와 유사하고, 그래프 (342) 의 나머지는 그래프 (308; 도 8a) 와 유사하다.

일부 실시예에서, 전력 값 a31은 제로와 a4의 전력 값 사이에 있다.

도 10b는 그래프 (344, 346, 348 및 350) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (344, 346, 348 및 350) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (344) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 공급부에 의해 공급되는 전력 신호인, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (344) 의 나머지는 그래프 (310; 도 8b) 와 유사하다.

각 그래프 (346, 348 및 350) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (346) 의 나머지는 그래프 (312; 도 8b) 와 유사하며, 그래프 (348) 의 나머지는 그래프 (314; 도 8b) 와 유사하고, 그래프 (350) 의 나머지는 그래프 (316; 도 8b) 와 유사하다.

도 11a는 그래프 (352, 354, 356 및 358) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (352, 354, 356 및 358) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (352) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 공급부에 의해 공급되는 전력 신호인, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (352) 의 나머지는 그래프 (320; 도 9a) 와 유사하다.

각 그래프 (354, 356 및 358) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 더욱이, 그래프 (354) 의 나머지는 그래프 (322; 도 9a) 와 유사하며, 그래프 (356) 의 나머지는 그래프 (324; 도 9a) 와 유사하고, 그래프 (358) 의 나머지는 그래프 (326; 도 9a) 와 유사하다.

도 11b는 그래프 (360, 362, 364 및 366) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (360, 362, 364 및 366) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (360, 362, 364 및 366) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (360) 의 나머지는 그래프 (328; 도 9b) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (362) 의 나머지는 그래프 (330; 도 9b) 와 유사하며, 그래프 (364) 의 나머지는 그래프 (332; 도 9b) 와 유사하고, 그래프 (366) 의 나머지는 그래프 (326; 도 9b) 와 유사하다.

도 12a는 그래프 (368, 370, 372 및 374) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (368, 370, 372 및 374) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (368, 370, 372 및 374) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1, S2 및 S3 동안 a32의 전력 값을 가진다. 그래프 (368) 의 나머지는 그래프 (302; 도 8a) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (370) 의 나머지는 그래프 (304; 도 8a) 와 유사하며, 그래프 (372) 의 나머지는 그래프 (306; 도 8a) 와 유사하고, 그래프 (374) 의 나머지는 그래프 (308; 도 8a) 와 유사하다.

도 12b는 그래프 (376, 378, 380 및 382) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (376, 378, 380 및 382) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (376, 378, 380 및 382) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a31의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a32의 전력 값을 가진다. a32의 전력 값은 전력 값 a31보다 더 크다. 그래프 (376) 의 나머지는 그래프 (310; 도 8b) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (378) 의 나머지는 그래프 (312; 도 8b) 와 유사하며, 그래프 (380) 의 나머지는 그래프 (314; 도 8b) 와 유사하고, 그래프 (382) 의 나머지는 그래프 (316; 도 8b) 와 유사하다.

도 13a는 그래프 (384, 386, 388 및 390) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (384, 386, 388 및 390) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (384) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a31의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a32의 전력 값을 가진다. 그래프 (384) 의 나머지는 그래프 (320; 도 9a) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (386) 의 나머지는 그래프 (322; 도 9a) 와 유사하며, 그래프 (388) 의 나머지는 그래프 (324; 도 9a) 와 유사하고, 그래프 (390) 의 나머지는 그래프 (326; 도 9a) 와 유사하다.

도 13b는 그래프 (392, 394, 396 및 398) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (392, 394, 396 및 398) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (392, 394, 396 및 398) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a31의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a32의 전력 값을 가진다. 그래프 (392) 의 나머지는 그래프 (328; 도 9b) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (394) 의 나머지는 그래프 (330; 도 9b) 와 유사하며, 그래프 (396) 의 나머지는 그래프 (332; 도 9b) 와 유사하고, 그래프 (398) 의 나머지는 그래프 (334; 도 9b) 와 유사하다.

도 14a는 그래프 (402, 404, 406 및 408) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (402, 404, 406 및 408) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (402, 404, 406 및 408) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a32의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (402) 의 나머지는 그래프 (302; 도 8a) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (404) 의 나머지는 그래프 (304; 도 8a) 와 유사하며, 그래프 (406) 의 나머지는 그래프 (306; 도 8a) 와 유사하고, 그래프 (408) 의 나머지는 그래프 (308; 도 8a) 와 유사하다.

도 14b는 그래프 (410, 412, 414 및 416) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (410, 412, 414 및 416) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (410, 412, 414 및 416) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a32의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (410) 의 나머지는 그래프 (310; 도 8b) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (412) 의 나머지는 그래프 (312; 도 8b) 와 유사하며, 그래프 (414) 의 나머지는 그래프 (314; 도 8b) 와 유사하고, 그래프 (416) 의 나머지는 그래프 (316; 도 8b) 와 유사하다.

도 15a는 그래프 (418, 420, 422 및 424) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (418, 420, 422 및 424) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 그래프 (418) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a32의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (410) 의 나머지는 그래프 (320; 도 9a) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (420) 의 나머지는 그래프 (322; 도 9a) 와 유사하며, 그래프 (422) 의 나머지는 그래프 (324; 도 9a) 와 유사하고, 그래프 (424) 의 나머지는 그래프 (326; 도 9a) 와 유사하다.

도 15b는 그래프 (426, 428, 430 및 432) 의 일 실시예에 관한 도면이다. 각 그래프 (426, 428, 430 및 432) 는 kW 단위의 전력 값을 시간 t의 함수로서 도시한다. 각 그래프 (426, 428, 430 및 432) 에 나타난 바와 같이, 27 MHz 전력 신호는 상태 S1 및 S2 동안 a32의 전력 값을 가지고, 상태 S3 동안 a31의 전력 값을 가진다. 그래프 (426) 의 나머지는 그래프 (328; 도 9b) 와 유사하다. 더욱이, 그래프 (428) 의 나머지는 그래프 (330; 도 9b) 와 유사하며, 그래프 (430) 의 나머지는 그래프 (332; 도 9b) 와 유사하고, 그래프 (432) 의 나머지는 그래프 (334; 도 9b) 와 유사하다.

앞서 설명된 실시예들이 평행 플레이트 플라즈마 챔버에 관하여 설명되었다고 하더라도, 일 실시예에서, 앞서 설명된 실시예들이 다른 형태의 플라즈마 챔버, 예를 들어, 유도성 커플링 플라즈마 (ICP) 반응기를 포함하는 플라즈마 챔버, 전자-사이클로트론 공명 (ECR) 반응기를 포함하는 플라즈마 챔버 등에 적용될 수 있다는 점을 유념해야 한다. 예를 들어, 전력 공급부 (160 및 162) 는 ICP 플라즈마 챔버 내부의 인덕터에 커플링된다.

앞서 설명된 실시예들이 2 MHz RF 신호 및/또는 60 MHz RF 신호 및/또는 27 MHz RF 신호를 하부 전극 (120) 및 접지된 상부 전극 (122) 에 공급하는 것과 관련된다고 하더라도, 여러 실시예에서, 하부 전극 (120) 이 접지되는 동안 2 MHz, 60 MHz, 및 27 MHz 신호가 상부 전극 (122) 에 공급될 수 있다는 점을 유념해야 한다.

일 실시예에서, AFT 및/또는 RF 생성기의 전력 제어부에 의해 수행되는 동작들이 RF 생성기의 DSP에 의해 수행된다. 예를 들어, AFT (130, 132 및 134) 에 의해 수행되는 바와 같은, 본 명세서에 설명된 동작들은 DSP (140; 도 1) 에 의해 수행된다. 다른 예로서, AFT (138), AFT (141), AFT (142), 전력 제어부 (150), 전력 제어부 (152) 및 전력 제어부 (154) 에 의해 수행되는 바와 같은, 본 명세서에 설명된 동작들이 DSP (153; 도 1) 에 의해 수행된다.

본 명세서에 설명된 실시예들은, 소형 (hand-held) 디바이스, 마이크로프로세서 시스템, 마이크로프로세서-기반의 또는 프로그램 가능한 컴퓨터 전자장치, 마이크로컴퓨터, 메인프레임 컴퓨터 등을 포함하는 다양한 컴퓨터 시스템 구성과 함께 실행될 수 있다. 실시예들은 또한 업무들이 네트워크를 통해 연결된 원격 프로세싱 디바이스에 의해 수행되는, 분산 컴퓨팅 환경에서 실행될 수 있다.

위의 실시예들을 고려할 때에, 실시예들이 컴퓨터 시스템에 저장된 데이터를 수반하는 다양한 컴퓨터-구현 동작들을 채용할 수 있다는 점을 이해해야 한다. 이러한 동작들은 물리적 양의 물리적 조작을 필요로 하는 것들이다. 실시예들의 일부를 형성하는 본 명세서에 설명된 동작들 중 임의의 것은 유용한 기계 동작이다. 실시예들은 또한 이러한 동작들을 수행하는 디바이스 또는 장치와 관련된다. 장치는 특정 목적의 컴퓨터를 위해 특정하게 구성될 수 있다. 특정 목적의 컴퓨터로서 정의될 때에, 컴퓨터는 여전히 특정 목적을 위한 동작을 수행할 수 있으면서, 또한 특정 목적의 일부가 아닌 프로그램 수행 또는 루틴, 다른 프로세싱을 수행할 수 있다. 대안적으로, 동작들은 선택적으로 활성화되는 범용 컴퓨터에 의해 프로세싱될 수 있고, 또는 컴퓨터 메모리, 캐쉬에 저장되는 또는 네트워크 상에서 획득되는 하나 이상의 컴퓨터 프로그램에 의해 구성될 수 있다. 데이터가 네트워크 상에서 획득될 때에, 데이터는 네트워크 상의 다른 컴퓨터, 예를 들어 컴퓨팅 리소스 (resource) 의 클라우드 (cloud) 에 의해 프로세싱될 수 있다.

하나 이상의 실시예들은 또한 비-일시적인 컴퓨터 판독가능한 매체 상의 컴퓨터 판독가능한 코드로서 제작될 수 있다. 컴퓨터 판독가능한 매체는 이후에 컴퓨터 시스템에 의해 판독될 수 있는 데이터를 저장할 수 있는, 임의의 데이터 저장 디바이스, 예를 들어 메모리 디바이스 등이다. 컴퓨터 판독가능한 매체의 예들은 하드 드라이브, 네트워크 부착 저장장치 (NAS), ROM, RAM, 컴팩트 디스크-롬 (CD-ROMs), 기록가능한-CD (CD-Rs), 다시쓰기가능한-CD (CD-RWs), 자기 테이프 및 광학 그릭 비-광학 데이터 저장 디바이스를 포함한다. 컴퓨터-판독가능한 매체는 컴퓨터-판독가능한 코드가 분산 방식으로 저장되고 수행되도록 네트워크-커플링된 컴퓨터 시스템 상에서 분산되는 컴퓨터-판독가능한 유형 매체를 포함할 수 있다.

방법 동작들이 특정 목적으로 설명되었다고 하더라도, 오버레이 동작들의 프로세싱이 원하는 방법으로 수행되는 이상, 하우스키핑 (housekeeping) 동작들이 동작들 사이에서 수행될 수 있고, 또는 그들이 약간 다른 시간에 일어나도록 조정될 수 있으며, 또는 프로세싱과 관련된 다양한 간격으로 프로세싱 동작들의 발생이 허용되는 시스템에서 분산될 수 있다는 점을 이해해야 한다.

본 명세서에 설명된 다양한 실시예에서 설명되는 목적 범위를 벗어나는 일 없이, 임의의 실시예들로부터의 하나 이상의 특징들은 임의의 다른 실시예들의 하나 이상의 특징과 결합될 수 있다.

전술한 실시예들이 명확한 이해의 목적으로 다소 상세하게 설명되었다고 하더라도, 첨부된 특허청구범위의 목적 범위 내에서 특정 변화 및 수정이 수행될 수 있다는 점은 명백하다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 예시적인 것으로 그리고 제한이 없는 것으로 고려되어야 하며, 실시예들은 본 명세서에 주어진 상세한 설명으로 제한되지 아니하고, 첨부된 특허청구범위의 등가물 및 목적 범위 내에서 변형될 수 있다.

Claims (46)

1. 플라즈마 프로세싱 시스템으로서,
   세 개의 일차 전력 제어부를 포함하는 일차 (primary) 생성기로서, 상기 세 개의 일차 전력 제어부 각각은 미리 정의된 전력 세팅 (setting) 을 가지도록 구성되는, 상기 일차 생성기;
   세 개의 이차 전력 제어부를 포함하는 이차 (secondary) 생성기로서, 상기 세 개의 이차 전력 제어부 각각은 미리 정의된 전력 세팅을 가지도록 구성되는, 상기 이차 생성기; 및
   상기 일차 생성기 및 상기 이차 생성기 각각에 인풋 (input) 으로서 접속되는 제어 회로를 포함하고,
   상기 제어 회로는 펄스 신호를 생성하도록 구성되고, 상기 펄스 신호는 복수의 사이클을 위해 동작 동안 반복되는 사이클을 정의하는 세 개의 상태를 포함하도록 정의되고, 상기 세 개의 상태 각각은 상기 세 개의 일차 전력 제어부 중 첫 번째, 또는 두 번째, 또는 세 번째를 선택하면서, 또한 상기 세 개의 이차 전력 제어부 중 첫 번째, 또는 두 번째, 또는 세 번째를 선택하도록 정의되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 일차 생성기는 세 개의 일차 자동 주파수 튜너 (AFT) 를 포함하고, 상기 세 개의 일차 AFT 각각은 미리 정의된 주파수 세팅을 가지도록 구성되고, 상기 이차 생성기는 세 개의 이차 AFT를 포함하고, 상기 세 개의 이차 AFT 각각은 미리 정의된 주파수 세팅을 가지도록 구성되고, 상기 세 개의 상태 각각은 상기 세 개의 일차 AFT 중 첫 번째, 또는 두 번째, 또는 세 번째를 선택하면서, 또한 상기 세 개의 이차 AFT 중 첫 번째, 또는 두 번째, 또는 세 번째를 선택하도록 정의되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 일차 생성기는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기를 포함하고, 상기 이차 생성기는 이차 RF 생성기를 포함하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 세 개의 일차 전력 제어부는 상기 일차 생성기의 프로세서의 일부이고, 상기 세 개의 이차 전력 제어부는 상기 이차 생성기의 프로세서의 일부인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 펄스 신호는 디지털 펄스 신호인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 동작은 일차 RF 생성기 및 이차 RF 생성기의 동작을 포함하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
7. 다수의 상태를 이용한 동작을 위해 구성되는 플라즈마 시스템으로서,
   펄스 신호를 수신하는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기로서, 상기 펄스 신호는 세 개 이상의 상태를 가지고, 상기 세 개 이상의 상태는 제 1 상태, 제 2 상태 및 제 3 상태를 포함하고, 상기 제 1 상태는 제 1 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 2 상태는 제 2 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 3 상태는 제 3 로직 레벨에 대응하고, 상기 일차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하는, 상기 일차 RF 생성기,
   상기 펄스 신호를 수신하는 이차 RF 생성기로서, 상기 이차 RF 생성기는 상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 커플링하는, 상기 이차 RF 생성기를 포함하고,
   상기 일차 RF 생성기 및 상기 이차 RF 생성기 각각은 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태인지, 또는 상기 제 2 상태인지, 또는 상기 제 3 상태인지 결정하도록 구성되고,
   상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 (quantitative) 레벨을 가지는 일차 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성되고,
   상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨을 가지는 이차 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성되고,
   상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 상기 일차 RF 신호를 공급하는 것을 계속하도록 구성되고,
   상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 이차 RF 신호를 제 2 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
   상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 일차 RF 신호를 제 2 일차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
   상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 이차 RF 신호를 제 3 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 플라즈마 시스템.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 제 1 상태 및 상기 제 2 상태는 상기 일차 RF 생성기의 동일한 전력 레벨과 관련된, 플라즈마 시스템.
9. 제 7 항에 있어서,
   상기 제 2 상태 및 상기 제 3 상태는 상기 일차 RF 생성기의 상이한 전력 레벨과 관련된, 플라즈마 시스템.
10. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위 (time period) 와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 시스템.
11. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일하지 않은 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 시스템.
12. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 상태는 상기 제 3 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 시스템.
13. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 상태는 상기 제 3 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일하지 않은 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 시스템.
14. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨, 상기 제 1 이차 정량 레벨, 상기 제 2 이차 정량 레벨 및 상기 제 3 이차 정량 레벨은 전력 레벨인, 플라즈마 시스템.
15. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨, 상기 제 1 이차 정량 레벨, 상기 제 2 이차 정량 레벨 및 상기 제 3 이차 정량 레벨은 주파수 레벨인, 플라즈마 시스템.
16. 다수의 상태에 기초하여 동작하도록 구성된 플라즈마 시스템으로서,
    펄스 신호를 수신하는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기로서, 상기 펄스 신호는 세 개 이상의 상태를 가지며, 상기 세 개 이상의 상태는 제 1 상태, 제 2 상태 및 제 3 상태를 포함하고, 상기 제 1 상태는 제 1 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 2 상태는 제 2 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 3 상태는 제 3 로직 레벨에 대응하고, 상기 일차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하는, 상기 일차 RF 생성기,
    상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 커플링하는 이차 RF 생성기를 포함하고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태, 또는 상기 제 2 상태, 또는 상기 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 일차 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 공급하여 플라즈마를 스트라이크 (strike) 하도록 구성되고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 상기 일차 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 공급하는 것을 계속하도록 구성되고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 일차 RF 신호를 제 2 일차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 1 임계치를 초과하는지 여부를 결정하고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 1 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨을 가지는 이차 RF 신호를 공급하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 1 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 제 2 이차 정량 레벨을 가지는 상기 이차 RF 신호를 공급하도록 구성되는, 플라즈마 시스템.
17. 제 16 항에 있어서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에서 상기 제 1 상태로 전이하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 제 3 상태에서 상기 제 1 상태로의 전이가 발생할 때에, 상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 1 임계치를 초과하는지 여부를 결정하도록 구성되는, 플라즈마 시스템.
18. 제 17 항에 있어서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에서 상기 제 2 상태로 전이하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 제 1 상태에서 상기 제 2 상태로의 전이가 발생할 때에, 상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 2 임계치를 초과하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 2 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 상기 제 2 이차 정량 레벨을 가지는 상기 이차 RF 신호를 공급하는 것을 계속하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 2 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 상기 이차 RF 신호를 제 3 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 플라즈마 시스템.
19. 제 18 항에 있어서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에서 상기 제 3 상태로 전이하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 제 2 상태에서 상기 제 3 상태로의 전이가 발생할 때에, 상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 3 임계치를 초과하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 3 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 상기 제 3 이차 정량 레벨을 가지는 상기 이차 RF 신호를 공급하는 것을 계속하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 3 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 상기 이차 RF 신호를 상기 제 1 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 플라즈마 시스템.
20. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨 및 상기 제 2 일차 정량 레벨은 전력 레벨인, 플라즈마 시스템.
21. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨 및 상기 제 2 일차 정량 레벨은 주파수 레벨인, 플라즈마 시스템.
22. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 시스템.
23. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일하지 않은 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 시스템.
24. 제 16 항에 있어서,
    상기 플라즈마와 관련된 파라미터는, 상기 플라즈마의 임피던스의 변화, 또는 상기 플라즈마와 관련된 감마 (gamma) 값, 또는 상기 플라즈마와 관련된 전압 정상파 비율, 또는 이들의 조합을 포함하는, 플라즈마 시스템.
25. 플라즈마 방법으로서,
    일차 프로세서에 의해, 펄스 신호를 수신하는 단계,
    이차 프로세서에 의해, 상기 펄스 신호를 수신하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해, 상기 펄스 신호가 제 1 상태, 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 단계로서, 상기 제 1 상태는 제 1 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 2 상태는 제 2 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 3 상태는 제 3 로직 레벨에 대응하는, 상기 결정하는 단계,
    상기 이차 프로세서에 의해, 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태, 또는 상기 제 2 상태, 또는 상기 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨의 제 1 무선 주파수 (RF) 신호를 일차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 이차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨의 제 2 RF 신호를 이차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 일차 정량 레벨의 제 1 RF 신호를 상기 일차 전력 공급부에 공급하는 것을 계속하는 단계,
    상기 이차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 이차 정량 레벨의 상기 제 2 RF 신호를 상기 이차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 일차 정량 레벨의 상기 제 1 RF 신호를 상기 일차 전력 공급부에 공급하는 단계, 및
    상기 이차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 3 이차 정량 레벨의 상기 제 2 RF 신호를 상기 이차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함하는, 플라즈마 방법.
26. 제 25 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 방법.
27. 다수의 상태를 이용한 동작을 위해 구성되는 플라즈마 프로세싱 시스템으로서,
    펄스 신호를 수신하는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기로서, 상기 펄스 신호는 세 개 이상의 상태를 가지고, 상기 세 개 이상의 상태는 제 1 상태, 제 2 상태 및 제 3 상태를 포함하고, 상기 일차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하는, 상기 일차 RF 생성기,
    상기 펄스 신호를 수신하는 이차 RF 생성기로서, 상기 이차 RF 생성기는 상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 커플링하는, 상기 이차 RF 생성기를 포함하고,
    상기 일차 RF 생성기 및 상기 이차 RF 생성기 각각은 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태인지, 또는 상기 제 2 상태인지, 또는 상기 제 3 상태인지 결정하도록 구성되고, 상기 제 1 상태는 제 1 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 2 상태는 제 2 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 3 상태는 제 3 로직 레벨에 대응하며,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 제 1 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨을 가지는 제 2 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성되고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 RF 신호를 제 2 일차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 2 RF 신호를 제 2 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 RF 신호를 제 3 일차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 2 RF 신호를 제 3 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
28. 제 27 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위 (time period) 와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
29. 제 27 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일하지 않은 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
30. 제 27 항에 있어서,
    상기 제 2 상태는 상기 제 3 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
31. 제 27 항에 있어서,
    상기 제 2 상태는 상기 제 3 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일하지 않은 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
32. 제 27 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨, 상기 제 3 일차 정량 레벨, 상기 제 1 이차 정량 레벨, 상기 제 2 이차 정량 레벨 및 상기 제 3 이차 정량 레벨은 전력 레벨인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
33. 제 27 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨, 상기 제 3 일차 정량 레벨, 상기 제 1 이차 정량 레벨, 상기 제 2 이차 정량 레벨 및 상기 제 3 이차 정량 레벨은 주파수 레벨인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
34. 다수의 상태에 기초하여 동작하도록 구성된 플라즈마 프로세싱 시스템으로서,
    펄스 신호를 수신하는 일차 무선 주파수 (RF) 생성기로서,
    상기 펄스 신호는 세 개 이상의 상태를 가지며, 상기 세 개 이상의 상태는 제 1 상태, 제 2 상태 및 제 3 상태를 포함하고, 상기 제 1 상태는 제 1 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 2 상태는 제 2 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 3 상태는 제 3 로직 레벨에 대응하고,
    상기 일차 RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버에 커플링하고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태, 또는 상기 제 2 상태, 또는 상기 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨을 가지는 제 1 RF 신호를 상기 임피던스 매칭 회로에 공급하도록 구성되고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 RF 신호를 제 2 일차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되고,
    상기 일차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 상기 제 1 RF 신호를 제 3 일차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 상기 일차 RF 생성기, 및
    상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 커플링하는 이차 RF 생성기로서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 1 임계치를 초과하는지 여부를 결정하고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 1 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨을 가지는 제 2 RF 신호를 공급하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 1 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 상기 제 2 RF 신호를 제 2 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 상기 이차 RF 생성기를 포함하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
35. 제 34 항에 있어서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에서 상기 제 1 상태로 전이하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 제 3 상태에서 상기 제 1 상태로의 전이가 발생할 때에, 상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 1 임계치를 초과하는지 여부를 결정하도록 구성되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
36. 제 34 항에 있어서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에서 상기 제 2 상태로 전이하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 제 1 상태에서 상기 제 2 상태로의 전이가 발생할 때에, 상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 2 임계치를 초과하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 2 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 상기 제 2 이차 정량 레벨을 가지는 상기 제 2 RF 신호를 공급하는 것을 계속하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 2 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 상기 제 2 RF 신호를 제 3 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
37. 제 36 항에 있어서,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에서 상기 제 3 상태로 전이하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 제 2 상태에서 상기 제 3 상태로의 전이가 발생할 때에, 상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 제 3 임계치를 초과하는지 여부를 결정하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 3 임계치를 초과하지 않는다는 결정에 응답하여 상기 제 3 이차 정량 레벨을 가지는 상기 제 2 RF 신호를 공급하는 것을 계속하도록 구성되고,
    상기 이차 RF 생성기는 상기 플라즈마와 관련된 파라미터가 상기 제 3 임계치를 초과한다는 결정에 응답하여 상기 제 2 RF 신호를 상기 제 1 이차 정량 레벨을 가지게 변경하도록 구성되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
38. 제 34 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨 및 상기 제 3 일차 정량 레벨 각각은 전력 레벨인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
39. 제 34 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨 및 상기 제 3 일차 정량 레벨 각각은 주파수 레벨인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
40. 제 34 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
41. 제 34 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일하지 않은 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
42. 제 34 항에 있어서,
    상기 플라즈마와 관련된 파라미터는, 상기 플라즈마의 임피던스의 변화, 또는 상기 플라즈마와 관련된 감마 (gamma) 값, 또는 상기 플라즈마와 관련된 전압 정상파 비율, 또는 이들의 조합을 포함하는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
43. 플라즈마 프로세싱 방법으로서,
    일차 프로세서에 의해, 펄스 신호를 수신하는 단계,
    이차 프로세서에 의해, 상기 펄스 신호를 수신하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해, 상기 펄스 신호가 제 1 상태, 또는 제 2 상태, 또는 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 단계로서, 상기 제 1 상태는 제 1 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 2 상태는 제 2 로직 레벨에 대응하고, 상기 제 3 상태는 제 3 로직 레벨에 대응하는, 상기 결정하는 단계,
    상기 이차 프로세서에 의해, 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태. 또는 상기 제 2 상태, 또는 상기 제 3 상태에 있는지 여부를 결정하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 일차 정량 레벨의 제 1 무선 주파수 (RF) 신호를 일차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 이차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 1 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 1 이차 정량 레벨의 제 2 RF 신호를 이차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 일차 정량 레벨의 제 1 RF 신호를 상기 일차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 이차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 2 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 2 이차 정량 레벨의 상기 제 2 RF 신호를 상기 이차 전력 공급부에 공급하는 단계,
    상기 일차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 3 일차 정량 레벨의 상기 제 1 RF 신호를 상기 일차 전력 공급부에 공급하는 단계, 및
    상기 이차 프로세서에 의해 수행되는, 상기 펄스 신호가 상기 제 3 상태에 있다는 결정에 응답하여 제 3 이차 정량 레벨의 상기 제 2 RF 신호를 상기 이차 전력 공급부에 공급하는 단계를 포함하는, 플라즈마 프로세싱 방법.
44. 제 43 항에 있어서,
    상기 제 1 상태는 상기 제 2 상태의 발생에 관한 시간 범위와 동일한 시간 범위 동안 발생하는, 플라즈마 프로세싱 방법.
45. 제 43 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨 및 상기 제 3 일차 정량 레벨 각각은 전력 레벨인, 플라즈마 프로세싱 방법
46. 제 43 항에 있어서,
    상기 제 1 일차 정량 레벨, 상기 제 2 일차 정량 레벨 및 상기 제 3 일차 정량 레벨 각각은 주파수 레벨인, 플라즈마 프로세싱 방법.

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