KR102116928B1 - Blackened surface-treated copper foil, method for manufacturing blackened surface-treated copper foil, copper-clad laminate and flexible printed circuit board - Google Patents

Blackened surface-treated copper foil, method for manufacturing blackened surface-treated copper foil, copper-clad laminate and flexible printed circuit board Download PDF

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Abstract

단자 접속 가공에 있어서의 CCD 시인성 및 플렉시블 프린트 배선판의 AOI의 검사 정밀도를 향상시키는 것이 가능한 흑색화 표면을 구비하고, 플렉시블 프린트 배선판 제조에 적합한 적당한 조도를 구비하고, 또한 양호한 에칭 특성을 구비하는 프린트 배선판용 구리박의 제공을 목적으로 한다. 이 목적을 달성하기 위해, 조면화 처리면을 구비하는 표면 처리 구리박에 있어서, 당해 조면화 처리면은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하, L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30 이하인 색조를 구비하는 흑색 조면화면인 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박 등을 채용한다.A printed wiring board having a blackened surface capable of improving CCD visibility in terminal connection processing and AOI inspection accuracy of the flexible printed wiring board, having a suitable roughness suitable for manufacturing a flexible printed wiring board, and having good etching properties. It aims at provision of copper foil for dragons. To achieve this object, in the surface-treated copper foil provided with a roughened surface, the roughened surface has a maximum height difference (Wmax) of curvature of 1.2 µm or less, and a lightness L of the L * a * b * colorimetric system. * A blackened surface-treated copper foil or the like for manufacturing a flexible printed wiring board, which is characterized in that it is a black roughened surface having a color tone of 30 or less, is employed.

Description

흑색화 표면 처리 구리박, 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법, 구리 클래드 적층판 및 플렉시블 프린트 배선판 {BLACKENED SURFACE-TREATED COPPER FOIL, METHOD FOR MANUFACTURING BLACKENED SURFACE-TREATED COPPER FOIL, COPPER-CLAD LAMINATE AND FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD}Blackened surface-treated copper foil, manufacturing method of blackened surface-treated copper foil, copper clad laminates and flexible printed wiring boards BOARD}

본건 출원은, 흑색화 표면 처리 구리박, 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법, 흑색화 표면 처리 구리박을 사용하여 얻어지는 구리 클래드 적층판 및 플렉시블 프린트 배선판에 관한 것이다. 특히, 구리박의 표면에 흑색화하는 미세한 조면화 처리를 행한 표면 처리 구리박에 관한 것이다.The present application relates to a blackened surface-treated copper foil, a method for producing a blackened surface-treated copper foil, a copper clad laminate obtained using a blackened surface-treated copper foil, and a flexible printed wiring board. In particular, the present invention relates to a surface-treated copper foil subjected to a fine roughening treatment to blacken the surface of the copper foil.

종래부터, 프린트 배선판의 자동 외관 검사기로서, AOI(Automatic Optical Inspecter)가 자동 검사에 널리 사용되어 왔다. AOI는, 프린트 배선판의 배면으로부터 광을 투광하여, 당해 프린트 배선판을 투과하는 광을 포착하고, 회로 패턴을 판독함으로써, 사양을 일탈한, 패턴 빠짐, 패턴 가늘어짐, 핀 홀, 흠집, 쇼트, 패턴 굵어짐, 구리 잔류, 돌기, 오염 등의 회로 결함을 발견하는 장치이다.Conventionally, as an automatic appearance inspector of a printed wiring board, AOI (Automatic Optical Inspecter) has been widely used for automatic inspection. AOI transmits light from the rear surface of the printed wiring board, captures light passing through the printed wiring board, and reads the circuit pattern to deviate from the specification, resulting in pattern loss, pattern thinning, pinholes, scratches, shorts, and patterns It is a device that detects circuit defects such as thickening, copper residue, protrusions, and contamination.

또한, 최근에는, 액정 디스플레이 모듈과 플렉시블 프린트 배선판을 이방성 도전막(ACF)으로 접속할 때에, 액정 디스플레이 모듈의 접속 단자와 플렉시블 프린트 배선판의 접속 단자를, 플렉시블 프린트 배선판의 회로 배면으로부터 CCD 카메라를 사용하여 위치 정렬하는 것이 행해지고 있다. 그로 인해, 회로 배면과 수지 필름 사이에, 색조로서 명료한 콘트라스트가 존재하는 것이 바람직하다. 따라서, 일반적으로는, 회로 형성에 사용하는 구리박의 수지 필름과의 접착면이, 양호한 흑색인 것이 요구된다. 한편, 플렉시블 프린트 배선판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름에는, 양호한 시인성이 요구된다. 이 시인성(이하, 단순히 「CCD 시인성」이라 칭함)은, 플렉시블 프린트 배선판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름의 혼탁도(Haze)에 의존한다.In addition, recently, when connecting the liquid crystal display module and the flexible printed wiring board with an anisotropic conductive film (ACF), the connection terminal of the liquid crystal display module and the connection terminal of the flexible printed wiring board are used with a CCD camera from the circuit back of the flexible printed wiring board. Alignment is being done. Therefore, it is preferable that a clear contrast exists as a color tone between the circuit back surface and the resin film. Therefore, in general, it is required that the adhesive surface of the copper foil used for circuit formation with the resin film is good black. On the other hand, good visibility is required for the resin film exposed by etching removal of the copper foil of the flexible printed wiring board. This visibility (hereinafter simply referred to as "CCD visibility") depends on the haze of the resin film exposed by etching removal of the copper foil of the flexible printed wiring board.

따라서, 상술한 용도에 있어서, 플렉시블 프린트 배선판의 CCD 시인성 및 AOI의 검사 정밀도를 향상시키기 위해서는, 「플렉시블 프린트 배선판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름이 광 투과성이 우수한 것」, 「회로 배면의 색조와 수지 필름의 색조의 차가 명료한 것」 등의 특성이 요구된다. 즉, 전자는, 구리 클래드 적층판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름의 혼탁도(Haze)의 값이 낮다고 하는 특성을 요구하는 것으로, 구리박의 접착면이 수지 필름 표면에 남기는 요철 형상에 좌우되는 특성이다. 그리고, 후자는, 구리박의 수지 필름과의 접착면이 구비하는 색조에 좌우되는 특성이다. 이들 요구 특성을 만족시키는 구리박으로서, 이하의 특허문헌 1, 특허문헌 2에 개시된 표면 처리 구리박을 들 수 있다.Therefore, in the above-mentioned use, in order to improve the CCD visibility of the flexible printed wiring board and the inspection accuracy of the AOI, "the resin film exposed by etching and removing the copper foil of the flexible printed wiring board is excellent in light transmittance" and "circuit back The difference between the color tone of and the color tone of the resin film is clear. That is, the former requires the property that the value of haze of the exposed resin film is low by etching and removing the copper foil of the copper clad laminate, and the uneven shape where the adhesive surface of the copper foil remains on the resin film surface. It is a characteristic that depends. In addition, the latter is a characteristic dependent on the color tone provided by the adhesive surface of the copper foil with the resin film. As a copper foil which satisfies these required characteristics, the surface-treated copper foil disclosed in the following patent documents 1 and 2 is mentioned.

특허문헌 1에는, 플렉시블 구리 클래드 적층판의 구리층 형성에 사용하는 구리박으로서, 파인 피치 회로 형성이 가능하고, 가열 후의 접착 강도가 양호한 표면 처리 구리박의 제공을 목적으로 한 것이며, 「폴리이미드 수지층의 표면에 구리층을 형성하기 위한 구리박에 있어서, 당해 구리박은 폴리이미드 수지층과의 접착면에, 코발트층 또는 코발트층과 니켈-아연 합금층이 적층된 상태 중 어느 하나의 표면 처리층을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 구리 클래드 적층판 제조용의 표면 처리 구리박을 채용하는」 것이 개시되고, 무조면화의 표면 처리 구리박을 대상으로 하고 있다. 이 특허문헌 1의 명세서의 단락 0034에는 「또한, 당해 표면 처리 구리박의 폴리이미드 수지 기재와의 접착면은, 광택도[Gs(60°)]가 70 이상인 것이 바람직하다. 양호한 파인 피치 회로 형성능 및 광학식 자동 검사(AOI 검사) 시에 요구되는 양호한 광 투과성을 확보하기 위해서이다. 예를 들어, ···(도중 생략)···. 본건 발명에서는, 광택도[Gs(60°)]가 70 이상이라고 하고 있지만, 광택도가 70 미만인 경우에는, 양호한 파인 피치 회로 형성능이 얻어지지 않고, 광학식 자동 검사 장치(AOI 장치)에 의한 검사 시에 요구되는 양호한 광 투과성의 확보도 곤란해진다.」고 하는 기재가 있다.Patent Literature 1 aims to provide a surface-treated copper foil capable of forming a fine pitch circuit and having good adhesive strength after heating as a copper foil used for forming a copper layer of a flexible copper clad laminate. In the copper foil for forming a copper layer on the surface of the base layer, the copper foil is a surface treatment layer in any one of a state in which a cobalt layer or a cobalt layer and a nickel-zinc alloy layer are laminated on an adhesive surface with a polyimide resin layer. It is disclosed that the use of a surface-treated copper foil for the production of a flexible copper clad laminate is provided, and is targeted at a non-roughened surface-treated copper foil. Paragraph 0034 of the specification of this patent document 1 says, "In addition, it is preferable that the glossiness [Gs (60 °)] is 70 or more on the adhesive surface of the said surface-treated copper foil with a polyimide resin base material. This is to ensure good fine pitch circuit forming ability and good light transmittance required for optical automatic inspection (AOI inspection). For example, ... (omitted in the middle) ... In the present invention, although the glossiness [Gs (60 °)] is said to be 70 or more, when the glossiness is less than 70, good fine pitch circuit forming ability is not obtained, and upon inspection by an optical automatic inspection device (AOI device) It is also difficult to secure the good light transmittance required for this. ”

또한, 특허문헌 2에 개시되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 블랙 마스크 형성에 사용하는 구리박을 사용하는 것도 생각된다. 이러한 용도의 구리박은, 구리박의 접착면의 색조가 가능한 한 흑색에 가까운 것을 사용하기 때문이다. 이 특허문헌 2에는, 플라즈마 디스플레이 패널의 전자파 차폐에 사용하는 도전성 메쉬의 제조에 사용하는 구리박이 개시되어 있고, 특허문헌 2에 개시된 흑색화 표면 처리 구리박의 표면은, 블랙 마스크 형성의 요구에 부응하는 니켈계 흑색화 처리면 또는 코발트계 흑색화 처리면이다. 이 특허문헌 2에 개시된 구리박을 사용하여 플렉시블 프린트 배선판을 제조하면, 플렉시블 프린트 배선판의 구리박을 제거하여 노출된 수지 필름의 혼탁도(Haze)가 낮고, 광 투과성이 우수하고, 플렉시블 프린트 배선판의 AOI에 있어서 요구되는 색조의 차도 충분히 만족시킬 수 있다고 생각된다.It is also conceivable to use copper foil used for forming a black mask of the plasma display panel disclosed in Patent Document 2. This is because the copper foil for this purpose uses a color as close to black as possible to the color tone of the adhesive surface of the copper foil. In this patent document 2, the copper foil used for manufacture of the conductive mesh used for electromagnetic wave shielding of a plasma display panel is disclosed, and the surface of the blackened surface-treated copper foil disclosed in patent document 2 meets the request of black mask formation. It is a nickel-based blackening-treated surface or a cobalt-based blackening-treated surface. When a flexible printed wiring board is manufactured using the copper foil disclosed in this patent document 2, the copper foil of the flexible printed wiring board is removed, the haze of the exposed resin film is low, the light transmittance is excellent, and the flexible printed wiring board It is thought that the difference in color tone required for AOI can be satisfied satisfactorily.

일본 특허 출원 공개 제2008-132757호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2008-132757 W02007/007870호 공보W02007 / 007870 Publication

그러나, 특허문헌 1에 개시된 플렉시블 구리 클래드 적층판 제조용의 표면 처리 구리박은, 무조면화의 표면 처리 구리박이므로, 플렉시블 프린트 배선판의 수지 필름의 표면을 거칠게 하지 않는 평탄성을 구비하지만, 이 표면 처리 구리박의 접착면이 과잉으로 평탄하면, 표면 처리 구리박과 수지 필름의 접착 시에, 그 접착 계면에 주름이나 기포가 발생하기 쉬워진다. 따라서, 플렉시블 구리 클래드 적층판에 사용하는 표면 처리 구리박에는, 당해 주름이나 기포가 발생하기 어려운 적당한 조도를 구비하고, 또한 평탄한 접착면을 구비하는 것이 요구되고 있다.However, since the surface-treated copper foil for manufacturing a flexible copper clad laminated sheet disclosed in Patent Document 1 is an uncoated surface-treated copper foil, it has a flatness that does not roughen the surface of the resin film of the flexible printed wiring board, but this surface-treated copper foil When the adhesive surface is excessively flat, wrinkles and bubbles are likely to be generated at the adhesive interface when the surface-treated copper foil is bonded to the resin film. Therefore, it is required that the surface-treated copper foil used for a flexible copper clad laminate has a suitable roughness that is less likely to cause wrinkles and bubbles, and a flat adhesive surface.

또한, 특허문헌 2에 개시된 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색화 표면을, 플렉시블 구리 클래드 적층판의 제조에 사용해도, 상술한 바와 마찬가지로, 표면 처리 구리박과 수지 필름의 접착 시에, 접착 계면에 주름이나 기포가 발생하기 쉬워진다. 또한, 특허문헌 2에 개시된 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색화 표면은, 니켈계 흑색화 처리면 또는 코발트계 흑색화 처리면이며, 구리 에칭액에 의한 에칭이 곤란해지는 경향이 있다. 따라서, 회로 형성 시에는, 구리 에칭액에 의한 오버 에칭의 시간이 길어지므로, 구리 부분의 에칭이 과잉으로 되고, 에칭 팩터가 우수한 파인 피치 회로의 형성이 곤란해진다. 또한, 충분한 오버 에칭의 시간을 설정하였다고 생각해도, 회로간에 니켈 또는 코발트가 잔류하고, 마이그레이션의 발생 확률이 높아지고, 제품의 신뢰성이 저하되므로 바람직하지 않다.Further, even if the blackened surface of the blackened surface-treated copper foil disclosed in Patent Literature 2 is used in the production of a flexible copper clad laminate, as described above, when bonding the surface-treated copper foil and the resin film, wrinkles are formed on the adhesive interface. Or bubbles are likely to occur. In addition, the blackening surface of the blackening surface-treated copper foil disclosed in Patent Literature 2 is a nickel-based blackening treatment surface or a cobalt-based blackening treatment surface, and etching with a copper etching solution tends to be difficult. Therefore, at the time of circuit formation, the time for overetching with a copper etching solution becomes long, so that the etching of the copper portion becomes excessive, and it is difficult to form a fine pitch circuit with an excellent etching factor. Further, even if it is considered that a sufficient over-etching time has been set, it is not preferable because nickel or cobalt remains between circuits, the probability of migration increases, and the reliability of the product decreases.

이들 내용으로부터, 본건 출원은, 특허문헌 2에 개시되어 있는 구리박과 동등한 CCD 시인성 및 AOI의 검출 정밀도를 향상시키는 것이 가능한 흑색화 표면을 구비하고, 플렉시블 프린트 배선판 제조에 적합한 적당한 조도를 구비하고, 또한 양호한 에칭 특성을 구비하는 프린트 배선판용 구리박의 제공을 목적으로 한다.From these contents, this application is equipped with the blackening surface which can improve CCD visibility and AOI detection precision equivalent to the copper foil disclosed in patent document 2, and has the appropriate roughness suitable for manufacture of a flexible printed wiring board, Another object is to provide a copper foil for a printed wiring board having good etching properties.

따라서, 본건 발명자들은, 이하의 흑색화 표면 처리 구리박을 플렉시블 프린트 배선판 제조에 사용함으로써 상술한 과제를 해결하는 것에 상도하였다.Therefore, the inventors of the present invention contemplated solving the above-mentioned problems by using the following blackened surface-treated copper foil for manufacturing flexible printed wiring boards.

흑색화 표면 처리 구리박 : 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박은, 흑색 조면화면을 구비하는 표면 처리 구리박에 있어서, 당해 흑색 조면화면은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하이며, 또한 L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30 이하인 색조를 구비하는 것을 특징으로 한다.Blackened surface-treated copper foil: The blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application is a surface-treated copper foil provided with a black roughened surface, wherein the black roughened surface has a maximum height difference (Wmax) of curvature. It is characterized in that it has a color tone of less than or equal to 1.2 µm and a brightness L * of L * a * b * color system of 30 or less.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 상기 흑색 조면화면은, 입경 10㎚∼250㎚의 구리 입자를 부착시켜 조면화한 것인 것이 바람직하다.It is preferable that the black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application is roughened by adhering copper particles having a particle diameter of 10 nm to 250 nm.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 상기 흑색 조면화면은, 3㎛×3㎛의 영역에 있어서, 400개∼2500개의 구리 입자가 부착되어 있는 것이 바람직하다.It is preferable that 400 to 2500 copper particles are attached to the black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application in a region of 3 µm × 3 µm.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 상기 흑색 조면화면은, 평균 조도 Ra가 0.5㎛ 이하인 것이 바람직하다.The black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application preferably has an average roughness Ra of 0.5 µm or less.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 상기 흑색 조면화면은, 동마찰 계수가 0.50 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that the said black roughening surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of a flexible printed wiring board which concerns on this application has a copper friction coefficient of 0.50 or more.

흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법 : 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법은, 상술한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조이며, 구리박의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하인 표면에, 구리 농도가 10g/L∼20g/L, 프리 황산 농도가 15g/L∼100g/L, 9-페닐아크리딘 농도가 100㎎/L∼200㎎/L, 염소 농도가 20㎎/L∼100㎎/L인 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용하여 미세 구리 입자를 부착시켜 흑색 조면화를 행하는 것을 특징으로 한다.Manufacturing method of blackened surface-treated copper foil: The manufacturing method of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of a flexible printed wiring board which concerns on this application is the manufacture of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of the flexible printed wiring board mentioned above, and On the surface where the maximum height difference (Wmax) of the bend is 1.2 µm or less, the copper concentration is 10 g / L to 20 g / L, the free sulfuric acid concentration is 15 g / L to 100 g / L, and the 9-phenylacridine concentration is 100 mg / L to It is characterized by performing black roughening by attaching fine copper particles using a copper electrolytic solution for black roughening having a concentration of 200 mg / L and a chlorine concentration of 20 mg / L to 100 mg / L.

플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법에 있어서, 용액 온도 20℃∼40℃의 흑색 조면화용 구리 전해 용액 중에서, 구리박을 음극으로 분극하고, 전류 밀도 30A/dm2∼100A/dm2으로 전해함으로써, 구리박 표면에의 미세 구리 입자의 부착 형성을 행하는 것이 바람직하다.In the method for producing a blackened surface-treated copper foil for flexible printed wiring board manufacturing, in a black electrolytic solution for black roughening at a solution temperature of 20 ° C to 40 ° C, the copper foil is polarized as a cathode, and the current density is 30A / dm 2 to 100A / It is preferable to form fine copper particles on the surface of the copper foil by electrolysis by dm 2 .

구리 클래드 적층판 : 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 구리 클래드 적층판은, 상술한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박을 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 한다.Copper clad laminated board: The copper clad laminated board for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application is characterized by being obtained by using the blackened surface-treated copper foil for manufacturing the flexible printed wiring board described above.

플렉시블 프린트 배선판 : 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판은, 상술한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 구리 클래드 적층판을 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 한다.Flexible printed wiring board: The flexible printed wiring board according to the present application is characterized in that it is obtained by using a copper clad laminate for manufacturing the flexible printed wiring board described above.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박은, CCD 시인성 및 AOI의 검사 정밀도가 우수한 흑색화 표면을 구비한다. 또한, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박은, 미세한 조면화 입자가 구리로 형성되어 있으므로, 양호한 에칭 특성을 구비하고 있다. 따라서, 회로 형성 시의 에칭에 있어서의 오버 에칭의 시간을 단축화하는 것이 가능하고, 극히 양호한 에칭 팩터를 구비하는 파인 피치 회로의 형성을 가능하게 한다.The blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application has a blackened surface excellent in CCD visibility and AOI inspection accuracy. In addition, the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application has good etching properties because fine roughened particles are formed of copper. Therefore, it is possible to shorten the time of over-etching in the etching at the time of circuit formation, and it is possible to form a fine pitch circuit having an extremely good etching factor.

도 1은 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 조면화 형태를 관찰한 주사형 전자 현미경 관찰상이다(실시예 1).
도 2는 종래의 표면 처리 구리박의 조면화 처리면을 관찰한 주사형 전자 현미경 관찰상이다(비교예 1).
도 3은 종래의 표면 처리 구리박의 조면화 처리면을 관찰한 주사형 전자 현미경 관찰상이다(비교예 2).
도 4는 종래의 표면 처리 구리박의 조면화 처리면을 관찰한 주사형 전자 현미경 관찰상이다(비교예 3).
1 is a scanning electron microscope observation image of a roughened form of a blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application (Example 1).
2 is a scanning electron microscope observation image observing the roughened surface of a conventional surface-treated copper foil (Comparative Example 1).
Fig. 3 is a scanning electron microscope observation image observing the roughened surface of a conventional surface-treated copper foil (Comparative Example 2).
Fig. 4 is a scanning electron microscope observation image observing the roughened surface of a conventional surface-treated copper foil (Comparative Example 3).

이하, 본건 출원에 관한 「흑색화 표면 처리 구리박」, 「흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법」, 「구리 클래드 적층판」, 「플렉시블 프린트 배선판」의 각 형태에 관해 설명한다.Hereinafter, each form of "blackening surface-treated copper foil", "the manufacturing method of blackening surface-treated copper foil", "copper clad laminated board", and "flexible printed wiring board" concerning this application is demonstrated.

흑색화 표면 처리 구리박 : 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하이며, 또한 L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30 이하인 색조의 흑색 조면화면을 구비하는 것을 특징으로 한다.Blackened surface-treated copper foil: The blackened surface-treated copper foil for manufacturing flexible printed wiring boards according to the present application has a maximum height difference (Wmax) of curvature of 1.2 µm or less, and a lightness L * of L * a * b * colorimetric system is 30. It is characterized by comprising a black rough surface of the following color tone.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하인 것이 하나의 특징이다. 이 「굴곡의 최대 고저차(Wmax)」라 함은, 3차원 표면 구조 해석 현미경을 사용하여 얻어지는 시료 표면의 요철에 관한 정보로부터, 굴곡에 관한 파형 데이터를 필터링하여 추출한 파형 데이터에 있어서의 고저차의 최댓값(파형의 최대 피크 높이와 최대 밸리 깊이의 합)을 말한다. 이 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛를 초과하는 흑색 조면화면을 구비하는 표면 처리 구리박을 사용하여 플렉시블 프린트 배선판을 제조한 경우, 플렉시블 프린트 배선판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름의 혼탁도(Haze)가 높아지고, CCD 시인성 및 AOI의 검사 정밀도가 저하된다. 그리고, 이 혼탁도(Haze)를 안정적으로 낮은 값으로 하기 위해서는, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)를 1.0㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.One feature of the black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application is that the maximum height difference (Wmax) of bending is 1.2 µm or less. The term "maximum height difference of bending (Wmax)" is the maximum value of the high difference in waveform data extracted by filtering waveform data related to bending from information on irregularities of a sample surface obtained using a three-dimensional surface structure analysis microscope. (The sum of the maximum peak height of the waveform and the maximum valley depth). When a flexible printed wiring board is manufactured using a surface-treated copper foil having a black rough surface having a maximum roughness difference (Wmax) of greater than 1.2 µm, the copper foil of the flexible printed wiring board is removed by etching. The turbidity (Haze) increases, and the CCD visibility and AOI inspection accuracy decrease. And, in order to make this turbidity (Haze) a stable low value, it is more preferable to set the maximum height difference (Wmax) of bending to 1.0 µm or less.

그리고, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박은, 당해 흑색 조면화면이, JIS Z8729에 정하는 L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30 이하인 색조를 구비하는 것도 특징이다. L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30을 초과하면, 조면화 입자의 입경이 커지고, 플렉시블 프린트 배선판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름의 혼탁도(Haze)가 높아진다. 또한, L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30을 초과하면, 이 흑색화 표면 처리 구리박을 사용하여 형성한 회로 배면의 색조와, 수지 필름과의 색조의 콘트라스트가 저하되므로, CCD 시인성이 저하되고, AOI의 검사 정밀도도 저하되는 경향으로 된다. 그리고, L*a*b* 표색계의 명도 L*이 20 이하이면, 당해 수지 필름의 혼탁도(Haze)가 안정적으로 저하된다. 또한, L*a*b* 표색계의 명도 L*이 15 이하이면, 당해 수지 필름의 혼탁도(Haze)와 함께, 회로 배면의 색조와 수지 필름과의 색조의 콘트라스트도 명료화되어 CCD 시인성이 더욱 향상된다.In addition, the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application is also characterized in that the black roughened surface has a color tone having a brightness L * of 30 or less in the L * a * b * color system defined in JIS Z8729. When the lightness L * of the L * a * b * colorimetric system exceeds 30, the particle size of the roughened particles becomes large, and the copper foil of the flexible printed wiring board is etched away, so that the haze of the exposed resin film is increased. Further, when the lightness L * of the L * a * b * colorimetric system exceeds 30, the contrast of the color tone of the circuit back surface formed using this blackened surface-treated copper foil and the color of the resin film is lowered, and thus the CCD visibility. This decreases, and the inspection accuracy of AOI also tends to decrease. And when the brightness L * of the L * a * b * color system is 20 or less, the haze of the said resin film stably falls. In addition, when the lightness L * of the L * a * b * colorimetric system is 15 or less, the contrast of the color tone on the circuit back side and the color tone with the resin film is clarified together with the haze of the resin film, further improving the CCD visibility. do.

본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면은, 입경 10㎚∼250㎚의 구리 입자를 부착시킨 것인 것이 바람직하다. 여기서, 당해 구리 입자의 입경의 하한값을 10㎚로 하고 있다. 그러나, 10㎚ 미만의 입경의 조면화 입자를 적극적으로 배제하는 의미는 아니지만, 조면화 입자가 지나치게 미세해지면, 수지 필름에 대한 앵커 효과가 저하될 가능성이 있다. 한편, 당해 조면화 입자의 입경이 250㎚를 초과하면, 표면 처리 구리박을 사용하여 제조한 구리 클래드 적층판의 구리박을 에칭 제거하여 노출된 수지 필름부의 혼탁도(Haze)가 높아지고, CCD 시인성 및 AOI의 검사 정밀도도 저하되므로 바람직하지 않다. 또한, 구리 입자의 형상에는, 특별한 한정은 없지만, 구리 입자가 대략 구상인 것이 바람직하다. 구리 입자가 대략 구상이면 분말 낙하를 방지할 수 있기 때문이다.It is preferable that the black roughening surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of a flexible printed wiring board which concerns on this application adheres copper particles with a particle diameter of 10 nm to 250 nm. Here, the lower limit of the particle diameter of the copper particles is set to 10 nm. However, although it is not meant to actively exclude the roughened particles having a particle diameter of less than 10 nm, if the roughened particles become too fine, there is a possibility that the anchor effect on the resin film is lowered. On the other hand, when the particle diameter of the roughened particles exceeds 250 nm, the copper foil of the copper clad laminate prepared by using the surface-treated copper foil is etched away to increase the haze of the exposed resin film portion, CCD visibility and The inspection accuracy of AOI also decreases, which is not preferable. The shape of the copper particles is not particularly limited, but it is preferable that the copper particles are substantially spherical. This is because if the copper particles are approximately spherical, powder fall can be prevented.

또한, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면은, 3㎛×3㎛의 영역에 있어서, 400개∼2500개의 구리 입자가 부착되어 있는 것이 바람직하다. 이 소정의 영역 내에 있어서의 구리 입자의 부착 개수가 400개 미만인 경우에는, 상술한 L*a*b* 표색계의 명도 L*을 30 이하로 하는 것이 곤란해져 바람직하지 않다. 한편, 소정의 영역 내에 있어서의 구리 입자의 부착 개수가 2500개를 초과하는 경우에는, 부착된 구리 입자의 탈락이 일어나기 쉬워지고, 또한 상술한 혼탁도(Haze)의 값이 높아지는 경향이 있고, CCD 시인성 및 AOI의 검사 정밀도가 저하되므로 바람직하지 않다.In addition, it is preferable that 400 to 2500 copper particles are attached to the black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application in a region of 3 µm × 3 µm. When the number of adhesion of copper particles in this predetermined area is less than 400, it is difficult to make the brightness L * of the L * a * b * color system mentioned above 30 or less, which is undesirable. On the other hand, when the number of adhesion of the copper particles in a predetermined area exceeds 2500, the adhesion of the attached copper particles tends to occur, and the above-mentioned turbidity value (Haze) tends to increase. It is not preferable because visibility and AOI inspection accuracy are lowered.

이상에서 설명해 온 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면을 구성하는 구리 입자는, 구리와 불가피 불순물로 이루어지고, 에칭을 저해하는 합금 성분 등을 포함하지 않는 것이 바람직하다. 구리 입자가 구리박을 구성하는 구리 성분과 동등한 조성이면, 구리 에칭액에서의 에칭 속도가 구리박과 구리 입자에서 동등하므로, 에칭에 의한 회로 형성 조건의 공정 설계가 용이해진다.The copper particles constituting the black rough surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application described above are made of copper and unavoidable impurities, and do not contain an alloy component or the like that inhibits etching. desirable. If the copper particles have a composition equivalent to the copper component constituting the copper foil, the etching rate in the copper etching solution is equivalent to that of the copper foil and the copper particles, so that the process design of circuit formation conditions by etching becomes easy.

그리고, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면은, 촉침식 표면 조도계를 사용하여 측정하였을 때의 평균 조도 Ra가 0.5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박은, 평균 조도에 관해서도, 극히 낮은 값을 구비하고 있다. 이 평균 조도 Ra가 0.5㎛를 초과하면, 회로 형성하는 에칭 공정에 있어서, 배선간의 수지 필름 내에 진입한 조면화 입자가 에칭 잔류로서 잔류하지 않도록 설정하는 오버 에칭의 시간이 길어지므로, 배선의 사이드 월을 필요 이상으로 용해하게 되고, 양호한 에칭 팩터를 구비하는 파인 피치 회로의 형성이 곤란해지므로 바람직하지 않다. 또한, 당해 평균 조도 Ra가 0.3㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 양호한 에칭 팩터를 구비하는 파인 피치 회로의 형성과, 동시에 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면과 수지 필름의 적층 계면에 대한 용액의 침식을 방지하여 내약품 성능을 향상시킬 수 있기 때문이다.The black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application preferably has an average roughness Ra of 0.5 µm or less when measured using a stylus surface roughness meter. The blackened surface-treated copper foil according to the present application has extremely low values for the average roughness. When this average roughness Ra exceeds 0.5 µm, in the etching step of forming the circuit, the time for overetching to set the roughened particles entering the resin film between the wirings so as not to remain as an etching residue is prolonged, so that the sidewall of the wiring is It is not preferable because it dissolves more than necessary and it becomes difficult to form a fine pitch circuit having a good etching factor. Moreover, it is more preferable that the said average roughness Ra is 0.3 micrometers or less. This is because the chemical resistance performance can be improved by preventing the formation of a fine pitch circuit having a good etching factor, and at the same time, erosion of the solution to the lamination surface of the surface-treated copper foil and the resin film lamination interface.

또한, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면은, 동마찰 계수가 0.50 이상인 것이 바람직하다. 이 동마찰 계수가 0.50 미만인 경우에는, 롤 라미네이트법으로 수지 필름과 흑색화 표면 처리 구리박을 적층할 때에, 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면이 지나치게 평활하여, 흑색화 표면 처리 구리박과 수지 필름의 접착 계면에서 미끄러짐이 발생하고, 주름이 발생하기 쉬워지므로 양호한 적층을 하기 어려워진다. 또한, 이 동마찰 계수가 0.50 미만인 경우에는, 흑색화 표면 처리 구리박과 수지 필름의 접착 계면에 기포가 발생하기 쉬워지는 경향도 있다.Moreover, it is preferable that the black roughening surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of a flexible printed wiring board which concerns on this application has a copper friction coefficient of 0.50 or more. When the dynamic friction coefficient is less than 0.50, when the resin film and the blackened surface-treated copper foil are laminated by a roll lamination method, the black surface of the blackened surface-treated copper foil is too smooth, and the blackened surface-treated copper foil is Slippage occurs at the adhesive interface of the resin film, and wrinkles are likely to occur, making it difficult to perform good lamination. Moreover, when this dynamic friction coefficient is less than 0.50, air bubbles tend to tend to be generated at the adhesion interface between the blackened surface-treated copper foil and the resin film.

또한, 이상에서 설명해 온 흑색화 표면 처리 구리박은, 두께에 관해서는, 특별한 한정은 없다. 또한, 통상의 구리박의 표면에 흑색 조면화를 행한 것에 한하지 않고, 캐리어박이 부착된 구리박의 구리박 표면의 흑색 조면화를 행한 것도 포함하는 개념인 것을 명기해 둔다.The blackened surface-treated copper foil described above is not particularly limited in terms of thickness. In addition, it is specified that the concept includes not only black surface roughening on the surface of a normal copper foil, but also black surface roughening of the copper foil surface of the copper foil with a carrier foil.

흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법 : 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법은, 상술한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조이며, 구리박의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하인 표면에, 미세 구리 입자를 부착시켜 흑색 조면화를 행한다. 이 수지 필름에 대한 접착면의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛를 초과하면, 흑색 조면화 후에 있어서, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하로 되기 어렵다. 그리고, 이 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법에 있어서의 공정의 편차 등을 고려하고, 흑색 조면화 후의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)를 안정적으로 1.2㎛ 이하로 하기 위해서는, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)를 0.8㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.Manufacturing method of blackened surface-treated copper foil: The manufacturing method of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of a flexible printed wiring board which concerns on this application is the manufacture of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of the flexible printed wiring board mentioned above, and Fine copper particles are adhered to a surface having a maximum height difference (Wmax) of bending of 1.2 µm or less to perform black roughening. If the maximum height difference (Wmax) of the curvature of the adhesive surface to this resin film exceeds 1.2 µm, after black roughening, the maximum height difference (Wmax) of the curvature is less likely to be 1.2 µm or less. Then, in consideration of variations in processes in the manufacturing method of the blackened surface-treated copper foil, and the like, in order to stably set the maximum height difference (Wmax) of bending after black roughening to 1.2 µm or less, the maximum height difference of bending (Wmax) ) Is more preferably 0.8 µm or less.

이상에서 설명한 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법에서 사용하는 흑색 조면화 전의 구리박으로서, 전해 구리박 및 압연 구리박의 쌍방의 사용이 가능하다. 또한, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛를 초과하는 구리박이라도, 이러한 구리박 표면에 대해, 에칭 처리나, 구리 도금 처리 등을 행함으로써, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)를 1.2㎛ 이하로 해도 된다. 그리고, 여기에서 말하는 구리박은, 수지 필름에 대한 접착면의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하라고 하는 조건을 만족시키는 한, 무조면화의 구리박이어도 되고, 예비적 조면화를 실시한 것이어도 된다. 또한, 구리박의 두께에 관해서도, 특별한 한정은 없다.As the copper foil before the black roughening used in the method for producing a blackened surface-treated copper foil described above, both the electrolytic copper foil and the rolled copper foil can be used. Further, even if the maximum height difference (Wmax) of the bending exceeds 1.2 µm, the maximum height difference (Wmax) of the bending is 1.2 µm or less by performing etching treatment, copper plating, or the like on the surface of the copper foil. You may do it. In addition, as long as the copper foil referred to herein satisfies the condition that the maximum height difference (Wmax) of the curvature of the adhesive surface to the resin film is 1.2 µm or less, it may be an uncoated copper foil or preliminarily roughened. do. The thickness of the copper foil is not particularly limited.

당해 구리박의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하인 표면에, 미세 구리 입자를 부착시켜 흑색 조면화를 행하는 데 있어서, 이하의 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 구리 농도가 10g/L∼20g/L, 프리 황산 농도가 15g/L∼100g/L, 9-페닐아크리딘 농도가 100㎎/L∼200㎎/L, 염소 농도가 20㎎/L∼100㎎/L인 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용한다. 이 흑색 조면화용 구리 전해 용액은, 구리 농도가 10g/L∼20g/L, 프리 황산 농도가 15g/L∼100g/L인 황산 산성 구리 전해액을 기본 용액으로서 사용한다. 여기서, 당해 구리 농도가 10g/L 미만인 경우에는, 구리 입자의 전착 속도가 느려져, 공업적으로 요구되는 생산성을 만족시키지 않으므로 바람직하지 않다. 한편, 당해 구리 농도가 20g/L을 초과하면, 후술하는 전류 밀도와의 관계에서, 평활 도금 조건에 근접하고, 흑색 조면화가 곤란해지므로 바람직하지 않다. 그리고, 프리 황산 농도는, 이 구리 농도와의 관계에서, 이 농도 범위를 일탈하면, 전해 시의 통전 특성이 변화하여, 양호한 흑색 조면화가 곤란해지므로 바람직하지 않다.In performing black roughening by attaching fine copper particles to a surface having a maximum height difference (Wmax) of curvature of the copper foil of 1.2 µm or less, it is preferable to use the following copper electrolytic solution for black roughening. That is, the copper concentration is 10 g / L to 20 g / L, the free sulfuric acid concentration is 15 g / L to 100 g / L, the 9-phenylacridine concentration is 100 mg / L to 200 mg / L, and the chlorine concentration is 20 mg / L. A copper electrolytic solution for black roughening of ∼100 mg / L is used. The copper electrolytic solution for black roughening uses a sulfuric acid acidic copper electrolytic solution having a copper concentration of 10 g / L to 20 g / L and a free sulfuric acid concentration of 15 g / L to 100 g / L as a basic solution. Here, when the copper concentration is less than 10 g / L, the electrodeposition rate of the copper particles is slow, which is not preferable because it does not satisfy the industrially required productivity. On the other hand, when the copper concentration exceeds 20 g / L, it is not preferable because it approaches the smooth plating condition and becomes difficult to roughen in black in relation to the current density described later. In addition, the free sulfuric acid concentration is not preferable because, in relation to the copper concentration, when the concentration range is deviated, the conduction characteristics during electrolysis change, making it difficult to achieve good black roughening.

그리고, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법에서 사용하는 흑색 조면화용 구리 전해 용액의 경우, 9-페닐아크리딘 농도를 100㎎/L∼200㎎/L의 범위에서 함유하는 것이 바람직하다. 이 9-페닐아크리딘은, 구리박의 표면에 부착 형성하는 구리 입자의 입경을 미세화하고, 입자 형상의 구상화를 촉진하는 첨가제로서 기능한다. 흑색 조면화용 구리 전해 용액 중의 9-페닐아크리딘 농도가 100㎎/L 미만인 경우에는, 구리 입자의 입경의 미세화 효과가 얻어지기 어렵고, 입자 형상의 구상화의 촉진 효과도 낮아지므로 바람직하지 않다. 한편, 흑색 조면화용 구리 전해 용액 중의 9-페닐아크리딘 농도가 200㎎/L을 초과하는 것으로 해도, 구리 입자의 입경의 미세화 효과 및 입자 형상의 구상화의 촉진 효과도 동시에 포화되어 첨가량에 비례한 효과가 얻어지지 않고, 단순한 자원의 낭비로 되므로 바람직하지 않다.And in the case of the black electrolytic solution for roughening used in the manufacturing method of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application, the 9-phenylacridine concentration is 100 mg / L to 200 mg / L. It is preferable to contain in the range. This 9-phenylacridine functions as an additive that refines the particle diameter of the copper particles that adhere and form on the surface of the copper foil, and promotes spheroidization of the particle shape. When the concentration of 9-phenylacridine in the copper electrolytic solution for black roughening is less than 100 mg / L, the effect of miniaturizing the particle size of the copper particles is difficult to obtain, and the effect of promoting the spheroidization of the particle shape is also not preferable. On the other hand, even if the concentration of 9-phenylacridine in the black electrolytic solution for roughening exceeds 200 mg / L, the effect of minimizing the particle size of the copper particles and promoting the spheroidization of the particle shape are simultaneously saturated and proportional to the amount added. It is not preferable because an effect is not obtained and a simple waste of resources is obtained.

또한, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법에서 사용하는 흑색 조면화용 구리 전해 용액의 염소 농도는, 20㎎/L∼100㎎/L의 범위에서 함유하는 것이 바람직하다. 당해 흑색 조면화용 구리 전해 용액의 염소 농도가 20㎎/L 미만인 경우에는, 구리 입자를 형성하기 위한 버닝 도금 상태로 하는 것이 곤란해지고, 양호한 형상의 조면화 입자가 얻어지지 않게 되므로 바람직하지 않다. 한편, 당해 흑색 조면화용 구리 전해 용액의 염소 농도가 100㎎/L을 초과하는 경우에는, 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면의 색조에 편차가 발생하기 쉬워지는 동시에, 입자 형상의 구상화가 양호하게 행해지지 않게 되므로 바람직하지 않다.Moreover, it is preferable to contain the chlorine concentration of the copper electrolytic solution for black roughening used in the manufacturing method of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of flexible printed wiring board which concerns on this application in the range of 20 mg / L-100 mg / L. Do. When the chlorine concentration of the black roughening copper electrolytic solution is less than 20 mg / L, it is difficult to obtain a burning plating state for forming copper particles, and it is not preferable because roughly shaped roughened particles are not obtained. On the other hand, when the chlorine concentration of the copper roughening solution for black roughening exceeds 100 mg / L, the color tone of the black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil tends to occur, and the spheroidization of the particle shape is good. It is not preferable because it is not performed.

이상에서 설명해 온 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용하여, 구리박 표면에 흑색 조면화를 행하는 경우, 용액 온도 20℃∼40℃의 구리 전해액 중에서, 구리박을 음극으로 분극하고, 전류 밀도 30A/dm2∼100A/dm2으로 전해하는 것이 바람직하다. 여기서, 용액 온도는, 20℃∼40℃의 범위인 것이 바람직하다. 이 용액 온도가 20℃ 미만으로 되면, 형성하는 조면화 입자의 형상에 편차가 발생하기 쉬워지므로 바람직하지 않다. 한편, 이 용액 온도가 40℃를 초과하면, 흑색 조면화용 구리 전해 용액의 용액 성상의 변화가 일어나기 쉽고, 안정된 버닝 도금을 할 수 없게 되는 경향이 있으므로 바람직하지 않다.When black roughening is performed on the surface of a copper foil using the black electrolytic solution for roughening described above, the copper foil is polarized as a cathode in a copper electrolytic solution having a solution temperature of 20 ° C to 40 ° C, and the current density is 30A / dm 2, it is desirable to be delivered in ~100A / dm 2. Here, the solution temperature is preferably in the range of 20 ° C to 40 ° C. When the solution temperature is less than 20 ° C, variations in the shape of the roughened particles to be formed tend to occur, which is not preferable. On the other hand, if this solution temperature exceeds 40 ° C, it is not preferable because the solution properties of the copper electrolytic solution for black roughening tend to occur, and stable burning plating tends to be impossible.

그리고, 구리 전해액 중에서, 구리박을 음극으로 분극하여 흑색 조면화를 행할 때의 전류 밀도는, 30A/dm2∼100A/dm2의 범위인 것이 바람직하다. 이 전류 밀도가, 30A/dm2 미만인 경우에는, 충분한 흑색 조면화를 할 수 없고, 흑색 조면화면의 명도 L*을 30 이하로 하는 것이 곤란해지므로 바람직하지 않다. 한편, 전류 밀도가 100A/dm2를 초과하면, 미세한 구리 입자의 석출 속도가 과잉으로 되고, 형성되는 구리 입자 형상이, 양호한 구상체로 되지 않게 되므로 바람직하지 않다.In addition, it is preferable that the current density at the time of performing black roughening by polarizing a copper foil as a negative electrode in a copper electrolytic solution is in the range of 30 A / dm 2 to 100 A / dm 2 . When this current density is less than 30 A / dm 2 , it is not preferable because sufficient black roughening cannot be achieved and it becomes difficult to set the brightness L * of the black roughened screen to 30 or less. On the other hand, when the current density exceeds 100 A / dm 2 , it is not preferable because the precipitation rate of fine copper particles becomes excessive, and the shape of the formed copper particles does not become a good spherical body.

구리 클래드 적층판 : 본건 출원에 관한 구리 클래드 적층판은, 상술한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박과 수지 필름을 적층하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 플렉시블 구리 클래드 적층판이다. 이때의 수지 필름으로서, 폴리이미드 수지 필름, PET 필름, 아라미드 수지 필름 등의 사용이 가능하지만, 플렉시블 프린트 배선판의 수지 필름으로서 사용할 수 있는 한, 특별한 한정은 없다. 또한, 플렉시블 구리 클래드 적층판의 제조는, 통상의 적층 방식, 연속 라미네이트 방식, 캐스팅 방식 등을 채용하고, 흑색화 표면 처리 구리박의 표면에 수지층을 형성할 수 있다. 여기에서 말하는 캐스팅 방식이라 함은, 본건 발명에 관한 흑색화 표면 처리 구리박의 표면에, 폴리아미드산 등의 가열에 의해 폴리이미드 수지화하는 수지 조성막을 형성하고, 가열하여 축합 반응을 일으키게 하여, 흑색화 표면 처리 구리박의 표면에 폴리이미드 수지 필름층을 직접 형성하는 방법을 말한다.Copper clad laminated board: The copper clad laminated board according to the present application is a flexible copper clad laminated board characterized by being obtained by laminating a blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board and a resin film. As the resin film at this time, a polyimide resin film, a PET film, an aramid resin film, or the like can be used, but as long as it can be used as a resin film for a flexible printed wiring board, there is no particular limitation. In addition, for the production of the flexible copper clad laminate, a conventional lamination method, a continuous lamination method, a casting method, or the like can be adopted, and a resin layer can be formed on the surface of the blackened surface-treated copper foil. The casting method referred to herein refers to the surface of the blackened surface-treated copper foil according to the present invention, by forming a resin composition film to polyimide resin by heating, such as polyamic acid, and heating to cause a condensation reaction. This refers to a method of directly forming a polyimide resin film layer on the surface of a blackened surface-treated copper foil.

플렉시블 프린트 배선판 : 이 플렉시블 프린트 배선판은, 상술한 구리 클래드 적층판의 상태로부터, 본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박을 에칭 가공하면, 당해 흑색화 표면 처리 구리박의 용해된 부분에 노출되는 수지 필름의 혼탁도(Haze)를 대폭으로 저하시킬 수 있다. 이 혼탁도(Haze)의 값은, 수지 필름의 종류에 따라서도 다르다. 그러나, 구리 클래드 적층판에 사용하는 수지 필름이 동일한 한, 본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박을 사용함으로써, 종래의 표면 처리 구리박을 사용한 경우에 비해, 극히 낮은 혼탁도(Haze)를 얻는 것이 가능해지고, CCD 시인성 및 AOI에 대한 적합성이 비약적으로 높아진다.Flexible printed wiring board: This flexible printed wiring board is a resin film exposed to the melted portion of the blackened surface-treated copper foil when the blackened surface-treated copper foil according to the present application is etched from the above-described state of the copper clad laminate. Haze can be significantly reduced. The value of this turbidity (Haze) also varies depending on the type of the resin film. However, as long as the resin film used for the copper clad laminate is the same, by using the blackened surface-treated copper foil according to the present application, it is possible to obtain extremely low haze (Haze) compared to the case of using the conventional surface-treated copper foil. It becomes possible, and the CCD visibility and suitability for AOI are dramatically improved.

실시예 1Example 1

실시예 1에서는, 두께 12㎛의 전해 구리박을 제조하고, 흑색 조면화와, 방청 처리와, 실란 커플링제 처리를 행하여 흑색화 표면 처리 구리박을 제작하고, 후술하는 비교예와의 대비를 행하였다.In Example 1, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm was prepared, black roughening, rust prevention treatment, and silane coupling agent treatment were performed to prepare a blackened surface-treated copper foil, and comparison was made with a comparative example described later. Did.

전해 구리박의 제조 : 구리 전해액에, 이하에 나타내는 조성의 황산 산성 황산 구리 용액을 사용하고, 음극에 표면 조도가 Ra=0.20㎛인 티탄제의 회전 전극을 사용하고, 양극에는 DSA를 사용하여, 용액 온도 45℃, 전류 밀도 55A/dm2으로 전해하고, 두께 12㎛의 전해 구리박을 얻었다. 이 전해 구리박의 석출면의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 0.8㎛였다.Preparation of electrolytic copper foil: A copper sulfate solution using an acidic copper sulfate solution having the composition shown below is used as a cathode, a titanium-made rotating electrode having a surface roughness Ra = 0.20 µm is used as a cathode, and DSA is used as an anode. Electrolysis was performed at a solution temperature of 45 ° C and a current density of 55 A / dm 2 to obtain an electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm. The maximum height difference (Wmax) of the curvature of the precipitation surface of this electrolytic copper foil was 0.8 µm.

구리 농도 : 80g/LCopper concentration: 80g / L

프리 황산 농도 : 140g/LFree sulfuric acid concentration: 140g / L

비스(3-술포프로필)디술피드 농도 : 30㎎/LBis (3-sulfopropyl) disulfide concentration: 30mg / L

디알릴디메틸암모늄클로라이드 중합체 농도 : 50㎎/LDiallyldimethylammonium chloride polymer concentration: 50mg / L

염소 농도 : 40㎎/LChlorine concentration: 40mg / L

흑색 조면화 : 상술한 전해 구리박이 구비하는 전극면 및 석출면 중, 석출면측에 대해, 이하에 나타내는 조성의 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용하고, 용액 온도 30℃, 전류 밀도 50A/dm2의 조건에서 전해하여, 흑색 조면화를 행하였다.Black roughening: Of the electrode surface and the precipitation surface provided by the above-mentioned electrolytic copper foil, for the precipitation surface side, a copper electrolytic solution for black roughening having the composition shown below was used, and the solution temperature was 30 ° C and the current density was 50 A / dm 2 . Electrolysis was performed under conditions, and black roughening was performed.

구리 농도 : 13g/LCopper concentration: 13g / L

프리 황산 농도 : 55g/LFree sulfuric acid concentration: 55g / L

9-페닐아크리딘 농도 : 140㎎/L9-phenylacridine concentration: 140mg / L

염소 농도 : 35㎎/LChlorine concentration: 35mg / L

방청 처리 : 상술한 흑색 조면화가 종료되면, 당해 흑색 조면화 후의 전해 구리박의 양면에 방청 처리를 행하였다. 여기에서는 이하에 설명하는 조건의 무기 방청을 채용하였다. 피로인산욕을 사용하고, 피로인산칼륨 농도 80g/L, 아연 농도 0.2g/L, 니켈 농도 2g/L, 액온 40℃, 전류 밀도 0.5A/dm2으로 아연-니켈 합금 방청 처리를 행하였다.Anti-rust treatment: When the above-mentioned black roughening was completed, anti-rust treatment was performed on both surfaces of the electrolytic copper foil after the black roughening. Here, the inorganic rust preventive of the conditions described below was employed. A pyrophosphoric acid bath was used, and zinc-nickel alloy anti-corrosive treatment was performed with potassium pyrophosphate concentration 80 g / L, zinc concentration 0.2 g / L, nickel concentration 2 g / L, liquid temperature 40 ° C., current density 0.5 A / dm 2 .

그리고, 방청 처리로서, 아연-니켈 합금 방청 처리 상에, 또한 크로메이트층을 형성하였다. 이때의 크로메이트 처리 조건은, 크롬산 농도가 1g/L, pH11, 용액 온도 25℃, 전류 밀도 1A/dm2으로 행하였다.Then, as the rust prevention treatment, a chromate layer was further formed on the zinc-nickel alloy rust treatment. The chromate treatment conditions at this time were performed with a chromic acid concentration of 1 g / L, pH 11, a solution temperature of 25 ° C, and a current density of 1 A / dm 2 .

실란 커플링제 처리 : 이상의 방청 처리가 완료되면 수세 후, 즉시 실란 커플링제 처리를 행하고, 흑색 조면화면의 방청 처리층 상에 실란 커플링제의 흡착을 행하였다. 이때의 용액은, 순수를 용매로 하여, 3-아미노프로필트리메톡시실란 농도를 3g/L로 한 것을 사용하였다. 그리고, 이 용액을 샤워링에 의해, 흑색 조면화면에 분사하여 흡착 처리하였다. 실란 커플링제의 흡착이 종료되면, 최종적으로 전열기에 의해 수분을 기산시켜, 12㎛ 두께의 흑색화 표면 처리 구리박을 얻었다.Silane coupling agent treatment: When the above rust prevention treatment is completed, after washing with water, the silane coupling agent treatment is immediately performed, and the silane coupling agent is adsorbed onto the antirust treatment layer on the black rough surface. As the solution at this time, pure water was used as a solvent, and a 3-aminopropyl trimethoxysilane concentration of 3 g / L was used. Then, this solution was sprayed onto a black rough surface by showering, and adsorbed. When the adsorption of the silane coupling agent was completed, moisture was finally calculated by the electric heater to obtain a blackened surface-treated copper foil having a thickness of 12 µm.

이상과 같이 하여 얻어진 본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박의 주사형 전자 현미경 관찰상을 도 1에 나타낸다. 또한, 평가한 여러 특성에 관해서는, 비교예와의 대비가 용이해지도록 표 1에 나타낸다.The scanning electron microscope observation image of the blackened surface-treated copper foil which concerns on this application obtained as mentioned above is shown in FIG. In addition, about the evaluated various characteristics, it shows in Table 1 so that contrast with a comparative example becomes easy.

실시예 2Example 2

실시예 2에서는, 두께 12㎛의 전해 구리박을 제조하고, 실시예 1과 마찬가지의 흑색 조면화와, 방청 처리와, 실란 커플링제 처리를 행하여 흑색화 표면 처리 구리박을 제작하였다.In Example 2, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm was produced, and black roughening, antirust treatment, and silane coupling agent treatment similar to that of Example 1 were performed to produce a blackened surface-treated copper foil.

전해 구리박의 제조 : 구리 전해액으로서, 실시예 1의 비스(3-술포프로필)디술피드 농도를 20㎎/L로 한 황산 산성 황산 구리 용액을 사용하고, 실시예 1과 마찬가지의 조건에서, 두께 12㎛의 전해 구리박을 얻었다. 이 전해 구리박의 석출면의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛였다.Preparation of electrolytic copper foil: As a copper electrolytic solution, a sulfuric acid acidic copper sulfate solution having a bis (3-sulfopropyl) disulfide concentration of 20 mg / L in Example 1 was used, and under the same conditions as in Example 1, thickness An electrolytic copper foil of 12 µm was obtained. The maximum height difference (Wmax) of the curvature of the precipitation surface of this electrolytic copper foil was 1.2 µm.

상술한 전해 구리박을 사용하고, 실시예 1과 마찬가지의 흑색 조면화, 방청 처리, 실란 커플링제 처리를 행하여, 실시예 2의 흑색화 표면 처리 구리박을 얻었다. 평가한 여러 특성에 관해서는, 비교예와의 대비가 용이해지도록 표 1에 나타낸다.Using the above-mentioned electrolytic copper foil, black roughening, antirust treatment, and silane coupling agent treatment similar to that of Example 1 were performed to obtain the blackened surface-treated copper foil of Example 2. Table 1 shows various properties evaluated in order to facilitate comparison with a comparative example.

실시예 3Example 3

실시예 3에서는, 실시예 1과 동일한 전해 구리박을 사용하고, 흑색 조면화와, 방청 처리와, 실란 커플링제 처리를 행하여 흑색화 표면 처리 구리박을 제작하였다. 이하에 있어서는, 실시예 1과 다른 흑색 조면화에 관해서만 설명한다.In Example 3, using the same electrolytic copper foil as in Example 1, black roughening, antirust treatment, and silane coupling agent treatment were performed to prepare a blackened surface-treated copper foil. In the following, only black roughening different from Example 1 will be described.

흑색 조면화 : 상술한 전해 구리박이 구비하는 전극면 및 석출면 중, 석출면측에 대해, 예비적 조면화 처리를 실시하였다. 이때의 예비적 조면화 처리는, 이하의 2단계의 프로세스로 행하였다.Black roughening: Preliminary roughening treatment was performed on the precipitation surface side among the electrode surfaces and the precipitation surfaces of the electrolytic copper foil described above. The preliminary roughening process at this time was performed by the following two-step process.

예비적 조면화 처리의 1단계는, 구리 농도가 18g/l, 프리 황산 농도가 70g/l인 조면화 처리용 구리 전해 용액을 사용하여, 용액 온도 25℃, 전류 밀도 4A/dm2으로, 4초간 전해하고, 수세하였다. 그리고, 2단계는, 구리 농도가 65g/l, 프리 황산 농도가 60g/l인 구리 전해 용액을 사용하여, 용액 온도 45℃, 전류 밀도 5A/dm2으로, 5초간 전해하고, 수세하여, 예비적 조면화 처리를 행하였다. 이 단계의 전해 구리박의 석출면은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 0.9㎛였다. 따라서, 예비적 조면화 처리 전의 당해 석출면은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 0.8㎛이며, 당해 굴곡이 크게 변동하지 않고, 적정한 범위의 굴곡인 것을 이해할 수 있다.In the first step of the preliminary roughening treatment, a copper electrolytic solution for roughening treatment having a copper concentration of 18 g / l and a free sulfuric acid concentration of 70 g / l was used, at a solution temperature of 25 ° C and a current density of 4 A / dm 2 , 4 Electrolyzed for a second and washed with water. Then, in the second step, using a copper electrolytic solution having a copper concentration of 65 g / l and a free sulfuric acid concentration of 60 g / l, electrolysis was performed at a solution temperature of 45 ° C and a current density of 5 A / dm 2 for 5 seconds, followed by washing with water and preliminary washing. Red roughening treatment was performed. The maximum elevation difference (Wmax) of the curvature of the precipitation surface of the electrolytic copper foil at this stage was 0.9 µm. Therefore, it is understood that the maximum height difference (Wmax) of the curvature of the precipitated surface before the preliminary roughening treatment is 0.8 µm, and the curvature is not significantly changed, and is an appropriate range of curvature.

그리고, 예비적 조면화 처리를 실시한 당해 석출면에, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 흑색 조면화, 방청 처리, 실란 커플링제 처리를 행하여, 실시예 3의 흑색화 표면 처리 구리박을 얻었다. 평가한 여러 특성에 관해서는, 비교예와의 대비가 용이해지도록 표 1에 나타낸다.Then, black roughening, antirust treatment, and silane coupling agent treatment were performed on the precipitated surface subjected to the preliminary roughening treatment in the same manner as in Example 1 to obtain the blackened surface-treated copper foil of Example 3. Table 1 shows various properties evaluated in order to facilitate comparison with a comparative example.

비교예Comparative example

[비교예 1][Comparative Example 1]

비교예 1은, 실시예 1에서 사용한 전해 구리박의 석출면에, 실시예 1과 다른 방법으로 조면화 처리를 행하였다. 따라서, 실시예 1과 조면화 처리만이 다르므로, 이하에 있어서 조면화 처리에 관해서만 상세하게 설명한다.In Comparative Example 1, a roughening treatment was performed on the precipitation surface of the electrolytic copper foil used in Example 1 in a manner different from that in Example 1. Therefore, since only the roughening process differs from Example 1, only the roughening process will be described in detail below.

조면화 처리 : 비교예 1은, 상기 전해 구리박의 석출면에 대해, 이하의 2단계의 프로세스로 조면화 처리를 행하였다. 조면화 처리의 1단계는, 구리 농도가 8g/l, 프리 황산 농도가 50g/l, 9-페닐아크리딘 농도가 150㎎/l, 염소 농도가 50㎎/l인 조면화 처리용 구리 전해 용액을 사용하여, 용액 온도 30℃, 전류 밀도 19A/dm2으로 전해하고, 수세하였다. 그리고, 2단계는, 구리 농도가 65g/l, 프리 황산 농도가 90g/l인 구리 전해 용액을 사용하여, 용액 온도 48℃, 전류 밀도 15A/dm2으로 전해하고, 수세하고, 조면화 처리를 행하였다.Roughening treatment: In Comparative Example 1, roughening treatment was performed on the precipitated surface of the electrolytic copper foil in the following two-step process. The first step of the roughening treatment is copper electrolysis for roughening treatment with a copper concentration of 8 g / l, a free sulfuric acid concentration of 50 g / l, a 9-phenylacridine concentration of 150 mg / l, and a chlorine concentration of 50 mg / l. Using the solution, electrolysis was performed at a solution temperature of 30 ° C and a current density of 19 A / dm 2 , followed by washing with water. Then, in the second step, using a copper electrolytic solution having a copper concentration of 65 g / l and a free sulfuric acid concentration of 90 g / l, electrolysis was performed at a solution temperature of 48 ° C and a current density of 15 A / dm 2 , followed by washing with water and roughening treatment. Was done.

상술한 조면화 처리가 종료되면, 실시예 1과 마찬가지의 방청 처리, 실란 커플링제 처리를 행하여, 비교예 1의 표면 처리 구리박을 얻었다. 이 비교예 1의 표면 처리 구리박의 주사형 전자 현미경 관찰상을 도 2에 나타낸다. 또한, 평가한 여러 특성에 관해서는, 실시예와의 대비가 용이해지도록 표 1에 나타낸다.When the above-mentioned roughening treatment was completed, the rust prevention treatment similar to Example 1 and the silane coupling agent treatment were performed to obtain the surface-treated copper foil of Comparative Example 1. The scanning electron microscope observation image of the surface-treated copper foil of this comparative example 1 is shown in FIG. In addition, about the evaluated various characteristics, it shows in Table 1 so that contrast with an Example may become easy.

[비교예 2][Comparative Example 2]

비교예 2는, 실시예 1과 동일한 전해 구리박을 사용하고, 실시예 1과 마찬가지의 석출면에, 실시예 1과 다른 방법으로 조면화 처리를 행하였다. 따라서, 실시예 1과 조면화 처리만이 다르므로, 이하에 있어서 조면화 처리에 관해서만 상세하게 설명한다.In Comparative Example 2, the same electrolytic copper foil as in Example 1 was used, and a roughening treatment was performed on the precipitated surface similar to Example 1 in a manner different from that in Example 1. Therefore, since only the roughening process differs from Example 1, only the roughening process will be described in detail below.

조면화 처리 : 비교예 2는, 상기 전해 구리박의 석출면에 대해, 이하의 방법으로 조면화 처리를 행하였다. 조면화 처리의 1단계는, 구리 농도가 18g/l, 프리 황산 농도가 70g/l인 조면화 처리용 구리 전해 용액을 사용하여, 용액 온도 25℃, 전류 밀도 10A/dm2, 통전 시간 10초로 전해하고, 수세하였다. 그리고, 2단계는, 구리 농도가 65g/l, 프리 황산 농도가 60g/l인 구리 전해 용액을 사용하여, 액온 45℃, 전류 밀도 15A/dm2으로, 20초간 전해하여 조면화 처리를 행하였다.Roughening treatment: In Comparative Example 2, roughening treatment was performed on the precipitated surface of the electrolytic copper foil by the following method. In the first step of the roughening treatment, using a copper electrolytic solution for roughening treatment having a copper concentration of 18 g / l and a free sulfuric acid concentration of 70 g / l, the solution temperature was 25 ° C, current density 10 A / dm 2 , and energization time 10 seconds. Electrolyzed and washed with water. Then, in the second step, a copper electrolytic solution having a copper concentration of 65 g / l and a free sulfuric acid concentration of 60 g / l was used for electrolysis at a liquid temperature of 45 ° C and a current density of 15 A / dm 2 for 20 seconds to perform a roughening treatment. .

상술한 조면화 처리가 종료되면, 실시예와 마찬가지의 방청 처리, 실란 커플링제 처리를 행하여, 비교예 2의 표면 처리 구리박을 얻었다. 이 비교예 2의 표면 처리 구리박의 주사형 전자 현미경 관찰상을 도 3에 나타낸다. 또한, 평가한 여러 특성에 관해서는, 실시예와의 대비가 용이해지도록 표 1에 나타낸다.When the above-mentioned roughening treatment was completed, the rust prevention treatment and silane coupling agent treatment similar to those of the example were performed to obtain the surface-treated copper foil of Comparative Example 2. The scanning electron microscope observation image of the surface-treated copper foil of this comparative example 2 is shown in FIG. In addition, about the evaluated various characteristics, it shows in Table 1 so that contrast with an Example may become easy.

[비교예 3][Comparative Example 3]

비교예 3은, 실시예 1과 동일한 전해 구리박을 사용하고, 실시예 1에서 사용한 석출면의 반대면인 전극면에, 실시예 1과 마찬가지의 조면화 처리, 방청 처리, 실란 커플링제 처리를 행하였다. 따라서, 실시예 1과 조면화 처리한 면이 다를 뿐이므로, 중복된 상세한 설명은 생략한다. 이 비교예 3에 관한 표면 처리 구리박의 주사형 전자 현미경 관찰상을 도 4에 나타낸다. 또한, 평가한 여러 특성에 관해서는, 실시예와의 대비가 용이해지도록 표 1에 나타낸다.Comparative Example 3 used the same electrolytic copper foil as in Example 1, and applied the same roughening treatment, rust prevention treatment, and silane coupling agent treatment as in Example 1 to the electrode surface which is the opposite side of the precipitation surface used in Example 1. Was done. Therefore, since the surface of Example 1 and the roughened surface are different, the detailed description of the overlapping is omitted. The scanning electron microscope observation image of the surface-treated copper foil which concerns on this comparative example 3 is shown in FIG. In addition, about the evaluated various characteristics, it shows in Table 1 so that contrast with an Example may become easy.

Figure 112016111460622-pat00001
Figure 112016111460622-pat00001

[평가 방법][Assessment Methods]

굴곡의 최대 고저차(Wmax) : 측정 기기로서 zygo New View 5032(Zygo사제)를 사용하고, 해석 소프트에 Metro Pro Ver.8.0.2를 사용하여, 저주파 필터를 11㎛의 조건을 채용하여, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)를 측정하였다. 이때, 표면 처리 구리박의 피측정면을 시료대에 밀착시켜 고정하고, 시료편의 한 변이 1㎝인 범위 내 중에서 108㎛×144㎛의 시야를 6점 선택하여 측정하고, 6개소의 측정점으로부터 얻어진 굴곡의 최대 고저차(Wmax)의 평균값을 대표값으로서 채용하였다.Maximum height difference (Wmax) of bending: zygo New View 5032 (manufactured by Zygo) is used as a measuring instrument, Metro Pro Ver.8.0.2 is used for the analysis software, and a low-frequency filter is adopted for the conditions of 11 µm, and The maximum height difference (Wmax) was measured. At this time, the surface to be measured of the surface-treated copper foil was adhered to the sample table and fixed, and the field of view of 108 µm × 144 µm was selected from six points within a range of 1 cm on one side of the sample piece and measured. The average value of the maximum height difference (Wmax) of the bending was adopted as a representative value.

명도 L* : 니혼 덴쇼꾸 고교(日本電色工業) 가부시끼가이샤제의 형식 SE2000을 사용하여, JIS Z8729에 준거하여 측정하였다.Brightness L *: Measured according to JIS Z8729 using Nihon Denshoku Kogyo Co., Ltd. type SE2000.

평균 조도(Ra) : 고사까 겡뀨쇼(小坂硏究所)제의 촉침식 표면 조도계 SE3500(촉침 곡률 반경:2㎛)을 사용하고, JIS B0601에 준거하여 측정하였다.Average roughness (Ra): Measurement was made in accordance with JIS B0601 using a stylus-type surface roughness meter SE3500 (probe radius of curvature: 2 µm) manufactured by Kosaka Kyosho.

구리 입자의 부착 개수 : 실시예에 관한 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면 및 비교예에 관한 표면 처리 구리박의 조면화면에 대해, 기울기 45° 방향에서 관찰한 전계 방사 타입의 주사형 전자 현미경 관찰상(배율:20000배)에 있어서의 3㎛×3㎛의 영역에 있어서 관찰할 수 있는 구리 입자의 부착 개수를 육안으로 카운트하였다.The number of adhesion of copper particles: a scanning electron microscope of an electric field emission type observed in the direction of inclination of 45 ° with respect to the black roughening surface of the blackened surface treatment copper foil according to the example and the surface roughened screen of the copper foil according to the comparative example The number of adhesion of the copper particles that can be observed in the region of 3 µm × 3 µm in the observation image (magnification: 20,000 times) was visually counted.

동마찰 계수 : 신또 가가꾸(新東科學) 가부시끼가이샤제의 트라이보기어 표면성 측정기 TYPE 14를 사용하여 측정하였다. 측정용 스테이지에 두께 50㎛의 폴리이미드 수지 필름[우베 고산(宇部興産) 가부시끼가이샤제 유피렉스]을 고정하고, 이 폴리이미드 수지 필름과 표면 처리 구리박의 조면화면이 대향하도록, 표면 처리 구리박을 마찰자에 고정한다. 그리고, 수직 하중 100g, 이동 속도 100㎜/min, 이동 거리 10㎜의 조건에서, 측정 시간과 마찰 저항력을 출력하고, 측정값이 안정화되는 2초∼6초의 사이에 측정한 마찰력의 평균값으로부터 동마찰 계수를 산출하였다.Dynamic friction coefficient: It was measured using a Tribore surface measuring instrument TYPE 14 manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd. A 50-µm-thick polyimide resin film (Yuprex manufactured by Ube Kosan Co., Ltd.) was fixed to the measurement stage, and the surface-treated copper was placed so that the rough surfaces of the polyimide resin film and the surface-treated copper foil faced each other. The foil is fixed to the friction element. Then, under the conditions of a vertical load of 100 g, a moving speed of 100 mm / min, and a moving distance of 10 mm, the measurement time and the frictional resistance are output, and dynamic friction is obtained from the average value of the frictional force measured between 2 and 6 seconds during which the measured value stabilizes. Coefficients were calculated.

혼탁도(Haze) : 표면 처리 구리박과 PET 필름을 열압착하여 구리 클래드 적층판을 제작하였다. 그 후, 당해 표면 처리 구리박을 에칭 제거하고, 남은 PET 필름을, 헤이즈 미터 NDH5000(니혼 덴쇼꾸 고교 가부시끼가이샤제)을 사용하여, JIS-K7136(2000)에 준하여, 23℃에서의 필름의 혼탁도(Haze:단위%)를 3개소 측정하고, 그 평균값을 구하였다.Haze: A copper clad laminate was produced by thermally compressing a surface-treated copper foil and a PET film. Subsequently, the surface-treated copper foil was etched off, and the remaining PET film was prepared using a haze meter NDH5000 (manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.), according to JIS-K7136 (2000) to obtain a film at 23 ° C. Turbidity (Haze: unit%) was measured in three places, and the average value was obtained.

[실시예와 비교예의 대비][Comparison of Examples and Comparative Examples]

우선, 도면을 참조하면서, 실시예와 비교예의 「굴곡의 최대 고저차(Wmax)」에 관해 대비한다. 비교예의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)의 값은, 실시예의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)에 비해 높고, 이들 비교예의 혼탁도(Haze)의 값도 실시예에 비해 높고, 투명도가 결여되는 것을 이해할 수 있다.First, with reference to the drawings, the "maximum height difference (Wmax) of curvature" of Examples and Comparative Examples is prepared. It can be understood that the value of the maximum height difference (Wmax) of the bending of the comparative example is higher than the maximum height difference (Wmax) of the bending of the example, and the value of haze of these comparative examples is also higher than the example, and lacks transparency. have.

그러나, 비교예 2의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)는, 실시예 2의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)에 비해, 큰 차이는 없는 것처럼 생각된다. 그러나, 혼탁도(Haze)의 값을 보면, 실시예 2는 12인 것에 반해, 비교예 2는 84이며, 실시예 2의 경우의 수지 필름의 투명도가 비약적으로 높은 것을 알 수 있다. 따라서, 실시예 1에 관한 흑색 조면화의 상태를 나타내는 도 1과, 비교예 2에 관한 조면화 처리의 상태를 나타내는 도 3을 대비하면, 완전히 다른 표면 형상을 하고 있는 것을 이해할 수 있다. 이것으로부터, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)의 값만이 낮더라도, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 의도하는 조면화 처리 표면이 얻어지고 있지 않은 것을 이해할 수 있다.However, the maximum height difference (Wmax) of the bending of Comparative Example 2 is considered to be no significant difference compared to the maximum height difference (Wmax) of the bending of Example 2. However, looking at the value of turbidity (Haze), Example 2 is 12, whereas Comparative Example 2 is 84, it can be seen that the transparency of the resin film in Example 2 is significantly higher. Thus, it can be understood that the contrast between FIG. 1 showing the state of the black roughening according to Example 1 and FIG. 3 showing the state of the roughening treatment according to Comparative Example 2 has a completely different surface shape. From this, it can be understood that even if only the value of the maximum height difference (Wmax) of the bending is low, the intended roughening treatment surface of the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application has not been obtained.

따라서, 조면화 처리면의 L*a*b* 표색계의 명도 L*에 관해, 실시예와 비교예를 대비해 본다. 표 1의 실시예의 명도 L*의 값은, 실시예 1, 실시예 2, 실시예 3 모두, 「명도 L*이 30 이하」인 색조를 구비하고 있다. 이에 반해, 비교예 1 및 비교예 2의 조면화면은, 명도 L*이 30을 초과하고 있다. 그로 인해, 비교예 1 및 비교예 2의 혼탁도(Haze)의 값이 크게 되어 있다고 이해할 수 있다. 한편, 비교예 3의 조면화면은, 실시예 3의 흑색 조면화면보다도 어두운 색조이며, 종래의 구리박 중에도, 비교예 3과 같이 「명도 L*이 30 이하」인 색조를 구비하는 것이 있는 것을 알 수 있다. 그러나, 이때 실시예 3의 혼탁도(Haze)의 값이 8인 것에 반해, 비교예 3의 혼탁도(Haze)의 값은 50으로 매우 높고, 투명도가 결여되는 것으로 되어 있다. 따라서, L*a*b* 표색계의 명도 L*의 값만이 양호한 흑색을 나타내도, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박에 바람직한 흑색 조면화면이 얻어지고 있지 않은 경우가 있는 것을 이해할 수 있다.Therefore, with respect to the lightness L * of the L * a * b * colorimetric system of the roughened surface, examples and comparative examples are prepared. The values of the lightness L * of the examples in Table 1 all include color tones of "lightness L * of 30 or less" in all of Example 1, Example 2, and Example 3. On the other hand, the roughness screens of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 have a brightness L * of more than 30. Therefore, it can be understood that the values of haze of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 were large. On the other hand, the rough surface of Comparative Example 3 is darker than the black rough surface of Example 3, and it is understood that some of the conventional copper foils have a color tone of "brightness L * of 30 or less" as in Comparative Example 3. Can be. However, at this time, the turbidity value (Haze) of Example 3 was 8, whereas the turbidity value (Haze) of Comparative Example 3 was very high (50) and lacked transparency. Therefore, even if only the value of the lightness L * of the L * a * b * colorimetric system shows good black, there may be cases where a black roughened surface suitable for the blackened surface-treated copper foil for flexible printed wiring board manufacturing according to the present application may not be obtained. Can understand.

그리고, 도 1과 도 2∼도 4의 대비로부터, 구리 입자의 부착 상태를 보면, 비교예에 비해, 실시예의 구리 입자는 미세하며, 또한 균일하게 많은 구리 입자가 부착되어 있는 것을 이해할 수 있다. 표 1로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 실시예와, 비교예 1 및 비교예 2에서는 구리 입자의 부착 개수가 명백하게 다르다. 이것으로부터, 비교예 1 및 비교예 2에 비해, 실시예에 있어서의 흑색 조면화면은, 미세한 구리 입자가 많이 부착됨으로써, 양호한 흑색의 색조를 구비하고, 또한 굴곡 및 요철이 없는 평탄한 표면으로 되어 있는 것을 이해할 수 있다. 한편, 비교예 3의 구리 입자의 부착 개수는 471개이며, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 바람직한 400개∼2500개의 구리 입자가 부착되어 있다고 하는 조건을 만족시키고 있다. 그러나, 상술한 바와 마찬가지로, 비교예 3의 혼탁도(Haze)의 값은 50으로 매우 높고, 투명도가 결여되는 것으로 되어 있다. 따라서, 단순히 부착된 구리 입자의 개수가 적정하여도, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박과 동등한 흑색 조면화면이 얻어지고 있지 않은 것을 이해할 수 있다.In addition, from the contrast of FIGS. 1 and 2 to 4, when the adhesion state of the copper particles is observed, it can be understood that the copper particles of the examples are fine and many copper particles are uniformly attached, compared to the comparative example. As can be understood from Table 1, in Examples and Comparative Examples 1 and 2, the number of adhesion of the copper particles was clearly different. From this, compared to Comparative Example 1 and Comparative Example 2, the black roughened surface of the example has a fine black particle, and thus has a good black color tone, and has a flat surface free from bends and irregularities. Can understand. On the other hand, the number of adhesion of the copper particles in Comparative Example 3 is 471, and the condition that 400 to 2500 copper particles preferred for the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application is attached is satisfied. . However, as described above, the value of haze in Comparative Example 3 is very high, which is 50, and the transparency is lacking. Therefore, it can be understood that even if the number of copper particles simply attached is appropriate, a black roughened surface equivalent to the blackened surface-treated copper foil for manufacturing the flexible printed wiring board according to the present application has not been obtained.

이상의 내용으로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박이 구비하는 흑색 조면화면은, 적어도, 「굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하」라고 하는 조건과, 「L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30 이하인 색조를 구비한다」고 하는 조건을 겸비할 필요가 있고, 이 조건을 만족시키고 있으면 플렉시블 프린트 배선판의 CCD 시인성 및 AOI의 검사 정밀도가 현저하게 향상되는 것을 이해할 수 있다. 그리고, 또한 이 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박이 구비하는 흑색 조면화면은, 400개∼2500개의 구리 입자가 부착되어 있다고 하는 조건을 겸비하는 것이, 본건 출원에서 말하는 「혼탁도(Haze)」의 값을 개선하는 것에 유용하다고 할 수 있다.As can be understood from the above, the black roughened screen provided with the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application has at least a condition that "the maximum height difference (Wmax) of bending is 1.2 µm or less". , It is necessary to have the condition that "the brightness of the L * a * b * colorimeter has a hue of 30 or less", and if this condition is satisfied, the CCD visibility of the flexible printed wiring board and the inspection accuracy of AOI are remarkable. I can understand that it is improved. In addition, the black roughened surface provided by the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application has conditions that 400 to 2500 copper particles are adhered to. It can be said that it is useful for improving the value of “Haze”.

또한, 실시예와 비교예의 동마찰 계수의 값에 착안하면, 실시예와 비교예에 큰 차이는 없고, 동마찰 계수가 0.50 이상인 것을 이해할 수 있다. 이것으로부터, 본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박의 흑색 조면화면이, 종래의 표면 처리 구리박에 비해, 미세한 요철을 구비하고 있어도, 롤 라미네이트법으로 수지 필름과 흑색화 표면 처리 구리박을 적층할 때에, 흑색화 표면 처리 구리박과 수지 필름의 접착 계면에서 미끄러짐이 발생하지 않는다. 또한, 당해 접착 계면에 주름이나 기포도 발생하는 일도 없고, 양호한 적층을 할 수 있는 것으로 판단할 수 있다.In addition, when paying attention to the values of the dynamic friction coefficients of Examples and Comparative Examples, it is understood that there is no significant difference between the Examples and Comparative Examples, and the dynamic friction coefficient is 0.50 or more. From this, the black roughened surface of the blackened surface-treated copper foil according to the present application is laminated with a resin film and a blackened surface-treated copper foil by a roll lamination method, even if it has fine irregularities compared to the conventional surface-treated copper foil. When it does, slipping does not generate | occur | produce in the adhesive interface of a blackening surface-treated copper foil and a resin film. Further, no wrinkles or bubbles are generated at the adhesive interface, and it can be judged that good lamination can be performed.

상술한 실시예 및 비교예의 제조 조건을 대비하는 것으로부터 명백해진 바와 같이, 본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박은, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하인 구리박을 사용하여, 그 표면에, 9-페닐아크리딘을 함유하는 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용한 흑색 조면화를 행함으로써 효율적으로 생산 가능한 것을 이해할 수 있다.As apparent from the preparation of the manufacturing conditions of the above-mentioned Examples and Comparative Examples, the blackened surface-treated copper foil according to the present application uses copper foil having a maximum height difference (Wmax) of bending of 1.2 µm or less on its surface. , It can be understood that it is possible to produce efficiently by performing black roughening using a copper electrolytic solution for black roughening containing 9-phenylacridine.

본건 출원에 관한 흑색화 표면 처리 구리박은, 플렉시블 프린트 배선판의 제조에 적합한 표면 처리 구리박이다. 이 흑색화 표면 처리 구리박은, CCD 시인성 및 AOI의 검출 정밀도를 향상시킬 수 있는 흑색화 표면을 구비하므로, 액정 디스플레이 모듈의 접속 단자와 플렉시블 프린트 배선판의 접속 단자의 위치 정렬이 용이해지고, 또한 형성한 회로의 검사 정밀도가 향상되고, 불량품의 유출을 효율적으로 방지할 수 있다. 또한, 본건 출원에 관한 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박은, 미세한 흑색 조면화 입자가 구리로 형성되어 있으므로, 양호한 에칭 특성을 구비하고, 회로 형성 시의 에칭에 있어서의 오버 에칭의 시간을 단축화하는 것이 가능해져, 러닝 코스트의 삭감이 용이해지므로 바람직하다.The blackened surface treatment copper foil which concerns on this application is a surface treatment copper foil suitable for manufacture of a flexible printed wiring board. This blackened surface-treated copper foil has a blackened surface that can improve CCD visibility and AOI detection accuracy, so that the alignment of the connection terminals of the liquid crystal display module and the connection terminals of the flexible printed wiring board is easy, and also formed. The inspection accuracy of the circuit is improved, and leakage of defective products can be effectively prevented. Further, the blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to the present application has fine black roughened particles formed of copper, and thus has good etching properties, and reduces the time of over-etching in etching during circuit formation. It is preferable because it can be shortened, and it is easy to reduce the running cost.

Claims (8)

수지 필름에 적층하기 위한 조면화 처리면을 구비하는 표면 처리 구리박에 있어서,
당해 조면화 처리면은, 입경 10㎚∼250㎚의 조면화 입자가 부착된 조면화 처리면으로서, 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하이며, 또한 L*a*b* 표색계의 명도 L*이 30 이하인 색조를 구비하는 흑색 조면화면인 것을 특징으로 하는, 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박.
In the surface-treated copper foil provided with a roughened surface for laminating on a resin film,
The roughened surface is a roughened surface with roughened particles having a particle diameter of 10 nm to 250 nm, the maximum height difference (Wmax) of curvature being 1.2 µm or less, and the brightness L of the L * a * b * colorimetric system. A blackened surface-treated copper foil for manufacturing flexible printed wiring boards, characterized in that * is a black roughened surface having a color tone of 30 or less.
제1항에 있어서, 상기 조면화 입자는 구리 입자인, 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박.The blackened surface-treated copper foil according to claim 1, wherein the roughened particles are copper particles. 제2항에 있어서, 상기 흑색 조면화면은, 3㎛×3㎛의 영역에 있어서, 400개∼2500개의 구리 입자가 부착되어 있는, 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박.The blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to claim 2, wherein 400 to 2500 copper particles are attached to the black rough surface in a region of 3 µm × 3 µm. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 흑색 조면화면은, 평균 조도 Ra가 0.5㎛ 이하인, 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박.The blackened surface-treated copper foil for manufacturing a flexible printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the black roughened surface has an average roughness Ra of 0.5 µm or less. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법이며,
구리박의 굴곡의 최대 고저차(Wmax)가 1.2㎛ 이하인 표면에, 구리 농도가 10g/L∼20g/L, 프리 황산 농도가 15g/L∼100g/L, 9-페닐아크리딘 농도가 100㎎/L∼200㎎/L, 염소 농도가 20㎎/L∼100㎎/L인 흑색 조면화용 구리 전해 용액을 사용하여 미세 구리 입자를 부착시켜 흑색 조면화를 행하는 것을 특징으로 하는, 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법.
It is the manufacturing method of the blackened surface-treated copper foil for manufacture of the flexible printed wiring board in any one of Claims 1-3,
On the surface where the maximum height difference (Wmax) of the bending of the copper foil is 1.2 µm or less, the concentration of copper is 10 g / L to 20 g / L, the concentration of free sulfuric acid is 15 g / L to 100 g / L, and the concentration of 9-phenylacridine is 100 mg. For the production of flexible printed wiring boards, characterized in that fine copper particles are attached and black roughened using a copper electrolytic solution for black roughening having a concentration of / L to 200 mg / L and a chlorine concentration of 20 mg / L to 100 mg / L. A method for producing a blackened surface-treated copper foil.
제5항에 있어서, 용액 온도 20℃∼40℃의 흑색 조면화용 구리 전해 용액 중에서, 구리박을 음극으로 분극하고, 전류 밀도 30A/dm2∼100A/dm2으로 전해함으로써, 구리박 표면에의 구리 입자의 부착 형성을 행하는 것인, 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박의 제조 방법.The copper foil for black roughening at a solution temperature of 20 ° C to 40 ° C according to claim 5, wherein the copper foil is polarized with a negative electrode and electrolytically applied at a current density of 30A / dm 2 to 100A / dm 2 to the copper foil surface. A method for producing a blackened surface-treated copper foil for producing a flexible printed wiring board, wherein the adhesion formation of copper particles is performed. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 플렉시블 프린트 배선판 제조용의 흑색화 표면 처리 구리박을 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는, 구리 클래드 적층판.The copper clad laminated board obtained by using the blackened surface-treated copper foil for manufacture of the flexible printed wiring board in any one of Claims 1-3. 제7항에 기재된 구리 클래드 적층판을 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는, 플렉시블 프린트 배선판.A flexible printed wiring board, which is obtained by using the copper clad laminate according to claim 7.
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