KR102105765B1 - Drawing apparatus and drawing method - Google Patents

Drawing apparatus and drawing method Download PDF

Info

Publication number
KR102105765B1
KR102105765B1 KR1020180100452A KR20180100452A KR102105765B1 KR 102105765 B1 KR102105765 B1 KR 102105765B1 KR 1020180100452 A KR1020180100452 A KR 1020180100452A KR 20180100452 A KR20180100452 A KR 20180100452A KR 102105765 B1 KR102105765 B1 KR 102105765B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
time
band
data
divided
substrate
Prior art date
Application number
KR1020180100452A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190036465A (en
Inventor
히로시 고나카
야스유키 나가이
쓰요시 야마모토
사토루 야사카
Original Assignee
가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 filed Critical 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Publication of KR20190036465A publication Critical patent/KR20190036465A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102105765B1 publication Critical patent/KR102105765B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/705—Modelling or simulating from physical phenomena up to complete wafer processes or whole workflow in wafer productions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G03F7/70725—Stages control
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073—Alignment marks and their environment

Abstract

묘화 데이터 생성부는, 기판(9) 상의 하나의 띠영역(81)을 이동 방향으로 분할하여 얻어지는 복수의 분할 영역(811)에 대해서, 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터를, 전체 패턴 데이터로부터 순차적으로 생성하여 묘화 제어부에 전송한다. 묘화 제어부는, 스테이지의 이동 방향으로의 연속 이동과 병행하여 묘화 헤드를 제어하고, 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행한다. 띠영역에 대한 묘화에 필요로 하는 띠묘화 시간이, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터 최초의 분할 영역에 대한 묘화를 개시할 때까지의 지연 시간이, 최초의 분할 영역에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이다. 띠묘화 시간이 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우, 지연 시간이, 최후의 분할 영역에 대한 묘화 개시 시각이 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 시간이다. 이로 인해, 묘화 장치에 있어서의 스루풋을 향상할 수 있다.The drawing data generation unit sequentially applies a plurality of divided drawing data corresponding to a plurality of divided regions 811 obtained by dividing one band region 81 on the substrate 9 in the moving direction, sequentially from all pattern data. It is generated and transmitted to the drawing control unit. The drawing control unit controls the drawing head in parallel with the continuous movement in the moving direction of the stage, and draws a pattern for the band region. If the band writing time required for writing to the band region is longer than the time for preparing the band drawing data required for generating and transmitting a plurality of divided drawing data, the first divided region from the start of generation of the plurality of divided drawing data The delay time until the start of drawing for is the time required for generation and transmission of the segmentation drawing data corresponding to the first segmentation area. When the band writing time is equal to or less than the band writing data preparation time, the delay time is a time at which the writing start time for the last divided area becomes the completion time for generating and transmitting a plurality of divided drawing data. For this reason, the throughput in the drawing device can be improved.

Description

묘화 장치 및 묘화 방법{DRAWING APPARATUS AND DRAWING METHOD}Drawing device and drawing method {DRAWING APPARATUS AND DRAWING METHOD}

본 발명은, 묘화 장치 및 묘화 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a drawing device and a drawing method.

종래, 마스크를 이용하지 않고, 기판 상의 감광 재료에 패턴을 묘화하는 묘화 장치가 실용화되어 있다. 묘화 장치에서는, CAD/CAM를 이용하여 작성한 설계 데이터로부터, 묘화 데이터 생성용의 컴퓨터에 있어서 묘화 데이터가 생성되고, 당해 묘화 데이터가 장치 본체에 전송되어 당해 묘화 데이터에 의거하는 패턴의 묘화가 행해진다. 또, 처리 대상의 기판의 얼라이먼트 마크를 촬상하여 기판의 변형을 취득하고, 기판의 변형에 맞추어 패턴을 보정하면서 묘화 데이터를 생성하는 것도 행해진다.Conventionally, a drawing device for drawing a pattern on a photosensitive material on a substrate without using a mask has been put into practical use. In the drawing device, drawing data is generated in the computer for generating drawing data from design data created using CAD / CAM, and the drawing data is transmitted to the apparatus body, and drawing of a pattern based on the drawing data is performed. . Moreover, it is also performed by imaging the alignment mark of the substrate to be processed, acquiring deformation of the substrate, and generating drawing data while correcting the pattern in accordance with the deformation of the substrate.

묘화 장치의 일례에서는, 스테이지를 묘화 헤드에 대해서 이동 방향으로 연속적으로 이동함으로써, 이동 방향으로 연장되는 기판 상의 띠영역(스트라이프라고도 불린다.)에 대해서 패턴의 묘화가 행해진다. 이러한 묘화 장치에서는, 예를 들면, 스테이지의 이동 방향으로의 연속 이동과, 이동 방향에 수직인 폭 방향으로의 스테이지의 간헐 이동을 반복함으로써, 폭 방향으로 늘어서는 복수의 띠영역에 대해서 패턴의 묘화가 순차적으로 진행된다.In one example of the drawing device, by continuously moving the stage in the moving direction with respect to the drawing head, the pattern is drawn on the band region (also called stripe) on the substrate extending in the moving direction. In such a drawing device, for example, by repeating the continuous movement in the moving direction of the stage and the intermittent movement of the stage in the width direction perpendicular to the moving direction, the pattern is drawn for a plurality of band regions stretching in the width direction. Proceeds sequentially.

또한, 일본국 특허공개 2015-130029호 공보에서는, 인쇄 데이터 처리 장치가 개시되고 있고, 당해 장치에서는, RIP 처리 후의 1 시트당 예상 데이터 사이즈와, RIP 처리 후의 데이터를 기억시키는 RAM의 용량에 의거하여, 처리의 실행 단위인 태스크의 사이즈(1 태스크당 시트수)가 산출된다. 이로 인해, 출력기에 전송되는 데이터가 결핍하여 인쇄가 정지하는 것이 방지된다.Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2015-130029, a print data processing apparatus is disclosed, and based on the estimated data size per sheet after RIP processing and the amount of RAM for storing data after RIP processing, in the apparatus. , The size of the task (the number of sheets per task) that is the execution unit of processing is calculated. This prevents printing from being stopped due to lack of data transmitted to the writer.

그런데, 복수의 띠영역이 기판 상에 설정되는 묘화 장치에 있어서, 기판의 변형에 맞추어 패턴을 보정하면서 묘화 데이터를 생성하는 경우, 기판의 얼라이먼트 마크를 촬상하고, 또한, 촬상 화상에 의거하여 하나의 띠영역의 전체에 대한 묘화 데이터를 생성하여 장치 본체에 전송한 후에, 묘화 헤드에 의한 당해 띠영역에 대한 패턴의 묘화가 개시된다. 바꾸어 말하면, 띠영역의 전체에 대한 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이, 묘화 데이터의 생성 개시(촬상 화상의 취득 완료)부터, 묘화 헤드에 의한 패턴의 묘화를 개시할 때까지의 대기 시간이 된다. 묘화 장치에서는, 다수의 기판이 순차적으로 처리되기 때문에, 상기 대기 시간을 짧게 하여, 스루풋(단위시간당 처리 가능한 기판의 매수)을 향상하는 것이 요구되고 있다.By the way, in a drawing apparatus in which a plurality of band regions are set on a substrate, when drawing data is generated while correcting a pattern in accordance with the deformation of the substrate, the alignment mark of the substrate is captured, and based on the captured image, one After the drawing data for the entire band region is generated and transmitted to the apparatus body, drawing of the pattern for the band region by the writing head is started. In other words, the time required for the generation and transmission of the drawing data for the entire band area is from the start of generation of the drawing data (complete acquisition of the captured image) to the start of drawing of the pattern by the drawing head. It's time. In the drawing apparatus, since a plurality of substrates are sequentially processed, it is desired to shorten the waiting time and improve throughput (the number of substrates that can be processed per unit time).

본 발명은, 기판에 패턴을 묘화하는 묘화 장치를 위한 것이며, 묘화 장치에 있어서의 스루풋을 향상하는 것을 목적으로 하고 있다.This invention is for the drawing apparatus which draws a pattern on a board | substrate, and aims at improving the throughput in a drawing apparatus.

본 발명에 관련된 묘화 장치는, 기판을 유지하는 스테이지와, 상기 스테이지 상의 기판에 변조된 광을 조사하는 묘화 헤드와, 상기 스테이지를 상기 묘화 헤드에 대해서 상대적으로, 또한, 이동 방향으로 연속적으로 이동하는 이동 기구와, 상기 스테이지 상의 기판에 있어서의 묘화 가능 영역을, 상기 이동 방향에 수직인 폭 방향으로 분할함으로써, 각각이 상기 이동 방향으로 연장되는 복수의 띠영역이 설정되고, 상기 스테이지의 상기 이동 방향으로의 연속적인 상대 이동과 병행하여 상기 묘화 헤드를 제어함으로써, 하나의 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하는 묘화 제어부와, 상기 묘화 가능 영역에 묘화해야 할 전체 패턴을 나타내는 전체 패턴 데이터를 기억하는 전체 패턴 데이터 기억부와, 처리 대상의 기판을 상기 스테이지 상에 유지한 후에, 상기 처리 대상의 기판의 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 분할하여 얻어지는 복수의 분할 영역에 대해서, 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터를, 상기 전체 패턴 데이터로부터 순차적으로 생성하여 상기 묘화 제어부에 전송하는 묘화 데이터 생성부와, 상기 띠영역에 대한 묘화에 필요로 하는 띠묘화 시간과, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 상기 띠영역에 있어서의 최초의 분할 영역에 대한 묘화를 개시할 때까지의 지연 시간을 결정하는 지연 시간 결정부를 구비하고, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 최초의 분할 영역에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간 이상, 또한, 상기 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이며, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 띠영역에 있어서의 최후의 분할 영역에 대한 묘화 개시 시각이 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 시간 이상, 또한, 상기 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이다.The drawing apparatus according to the present invention includes a stage for holding a substrate, a drawing head for irradiating modulated light onto the substrate on the stage, and continuously moving the stage relative to the drawing head and continuously in the moving direction. By dividing the moving mechanism and the imageable area on the substrate on the stage in the width direction perpendicular to the moving direction, a plurality of band regions each extending in the moving direction is set, and the moving direction of the stage By controlling the drawing head in parallel with continuous relative movement to, a drawing control unit for drawing a pattern for one band region, and a whole storing all pattern data indicating the entire pattern to be drawn in the drawingable region After holding the pattern data storage section and the substrate to be processed on the stage, With respect to a plurality of divided regions obtained by dividing the band region of the substrate to be processed in the moving direction, a plurality of divided drawing data corresponding to each are sequentially generated from the entire pattern data and transmitted to the drawing control unit Based on the data generation unit, the band writing time required for drawing the band region, and the band drawing data preparation time required for generating and transmitting the plurality of divided drawing data, the A delay time determination unit is provided for determining a delay time from the start of generation to the start of drawing for the first divided area in the band region, and the band drawing time is longer than the band preparation data preparation time. In the above, the delay time generates and transmits segmentation drawing data corresponding to the first segmentation area. When the time required is longer than the time required for adding the predetermined additional time to the time, and the band writing time becomes equal to or less than the time for preparing the band drawing data, the delay time is in the band area. The drawing start time for the last divided region is equal to or greater than the time at which the plurality of divided drawing data are generated and transmitted, and is equal to or less than the time at which the predetermined additional time is added.

본 발명에 의하면, 묘화 장치에 있어서의 스루풋을 향상할 수 있다.According to the present invention, the throughput in the drawing device can be improved.

본 발명의 하나의 바람직한 형태에서는, 상기 복수의 분할 영역이, 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 등분할하여 얻어지고, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에, 상기 띠영역에 있어서의 상기 복수의 분할 영역의 개수를 n으로 하고, 상기 지연 시간이, 상기 띠묘화 시간에 ((n-1)/n)을 곱하여 얻은 값을, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간에서 뺌으로써 얻어지는 시간 이상, 또한, 상기 시간에 상기 추가 시간을 더한 시간 이하이다.In one preferred aspect of the present invention, when the plurality of divided regions are obtained by equally dividing the strip region in the moving direction, and when the strip drawing time becomes equal to or less than the strip drawing data preparation time, the strip region It is obtained by subtracting the number obtained by multiplying ((n-1) / n) from the band drawing time by the number of the plurality of divided regions in n, and the delay time obtained by multiplying the band writing time by ((n-1) / n) It is more than time, and it is less than the time which added the said additional time to the said time.

본 발명의 다른 바람직한 형태에서는, 묘화 장치가, 상기 스테이지 상의 기판에 형성된 얼라이먼트 마크를 촬상하여, 촬상 화상을 취득하는 촬상부를 더 구비하고, 상기 촬상부가, 상기 처리 대상의 기판의 상기 촬상 화상을 취득하고, 상기 묘화 데이터 생성부가, 상기 촬상 화상이 나타내는 상기 얼라이먼트 마크의 위치에 의거하여 패턴을 보정하면서 상기 복수의 분할 묘화 데이터를 생성한다.In another preferred aspect of the present invention, the drawing device further comprises an imaging unit that captures an alignment mark formed on a substrate on the stage to obtain a captured image, and the imaging unit acquires the captured image of the substrate to be processed. Then, the drawing data generation unit generates the plurality of divided drawing data while correcting a pattern based on the position of the alignment mark indicated by the captured image.

본 발명의 또 다른 바람직한 형태에서는, 묘화 장치가, 상기 묘화 헤드를 포함하는 복수의 묘화 헤드를 구비하고, 상기 복수의 묘화 헤드가 서로 다른 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하고, 상기 묘화 데이터 생성부가, 상기 복수의 묘화 헤드의 각각에 대해서 상기 복수의 분할 묘화 데이터를 생성하고, 상기 지연 시간 결정부가, 상기 복수의 묘화 헤드에 대한 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간 중, 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간을 이용하여 상기 지연 시간을 결정한다.In another preferred embodiment of the present invention, the drawing device includes a plurality of drawing heads including the drawing head, the plurality of drawing heads draw patterns for different band regions, and the drawing data generation unit , The plurality of segmented drawing data is generated for each of the plurality of drawing heads, and the delay time determining unit sets the longest striping data preparation time among the plurality of striping data preparation times for the plurality of drawing heads. To determine the delay time.

본 발명의 하나의 국면에서는, 상기 전체 패턴 데이터가 런 렝스 데이터이며, 상기 전체 패턴 데이터에 있어서 상기 띠영역을 나타내는 부분에 포함되는 변화점의 개수에 의거하여, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간이 취득된다.In one aspect of the present invention, the entire pattern data is run length data, and the band drawing data preparation time is obtained based on the number of change points included in the portion representing the band region in the entire pattern data. .

본 발명의 다른 국면에서는, 상기 처리 대상의 기판과 같은 패턴이 형성되는 다른 기판에 대한 처리에 있어서, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이 취득되고, 상기 시간이 상기 처리 대상의 기판에 대한 상기 띠묘화 데이터 준비 시간으로서 이용된다.In another aspect of the present invention, in processing for another substrate on which the same pattern as the substrate to be processed is formed, the time required for generation and transmission of the plurality of divided drawing data is acquired, and the time is the processing. It is used as the time for preparing the band writing data for the target substrate.

본 발명은, 묘화 장치에 있어서의 묘화 방법을 위한 것이기도 하다. 본 발명에 관련된 묘화 방법에서는, 상기 묘화 장치가, 기판을 유지하는 스테이지와, 상기 스테이지 상의 기판에 변조된 광을 조사하는 묘화 헤드와, 상기 스테이지를 상기 묘화 헤드에 대해서 상대적으로, 또한, 이동 방향으로 연속적으로 이동하는 이동 기구와, 상기 스테이지 상의 기판에 있어서의 묘화 가능 영역을, 상기 이동 방향에 수직인 폭 방향으로 분할함으로써, 각각이 상기 이동 방향으로 연장되는 복수의 띠영역이 설정되고, 상기 스테이지의 상기 이동 방향으로의 연속적인 상대 이동과 병행하여 상기 묘화 헤드를 제어함으로써, 하나의 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하는 묘화 제어부를 구비하고, 상기 묘화 방법이, a) 상기 묘화 가능 영역에 묘화해야 할 전체 패턴을 나타내는 전체 패턴 데이터를 준비하는 공정과, b) 처리 대상의 기판을 상기 스테이지 상에 유지하는 공정과, c) 상기 처리 대상의 기판의 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 분할하여 얻어지는 복수의 분할 영역에 대해서, 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터를, 상기 전체 패턴 데이터로부터 순차적으로 생성하여 상기 묘화 제어부에 전송하는 공정과, d) 상기 띠영역에 대한 묘화에 필요로 하는 띠묘화 시간과, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 상기 띠영역에 있어서의 최초의 분할 영역에 대한 묘화를 개시할 때까지의 지연 시간을 결정하는 공정과, e) 상기 복수의 분할 묘화 데이터에 의거하여, 상기 처리 대상의 기판의 상기 띠영역에 패턴을 묘화하는 공정을 구비하고, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 최초의 분할 영역에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간 이상, 또한, 상기 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이며, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 띠영역에 있어서의 최후의 분할 영역에 대한 묘화 개시 시각이 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 시간 이상, 또한, 상기 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이다.This invention is also for the drawing method in the drawing apparatus. In the drawing method according to the present invention, the drawing device is a stage for holding a substrate, a drawing head for irradiating modulated light onto the substrate on the stage, and a moving direction of the stage relative to the drawing head. By dividing the movable mechanism continuously moving and the imageable area on the substrate on the stage in the width direction perpendicular to the moving direction, a plurality of band regions each extending in the moving direction is set, and A drawing control unit is provided for drawing a pattern for one band region by controlling the drawing head in parallel with the continuous relative movement of the stage in the moving direction, and the drawing method comprises: a) in the drawingable region. A process of preparing full pattern data indicating the entire pattern to be drawn, and b) the substrate to be processed And a plurality of divided drawing data respectively corresponding to a plurality of divided regions obtained by dividing the band region of the substrate to be processed in the moving direction, and c) maintaining the on the stage. Steps sequentially generated from and transmitted to the drawing control unit, d) Striping time required for drawing for the band region, and Striping data preparation time required for generating and transmitting the plurality of divided drawing data A process of determining a delay time from the start of generation of the plurality of divided drawing data to the start of drawing for the first divided region in the band region, and e) the plurality of divided drawing data. On the basis of this, a step of drawing a pattern in the band region of the substrate to be treated is provided, and the band drawing time is the band drawing. When it is longer than the preparation time for the picture data, the delay time is equal to or more than the time required for generation and transmission of the segmentation drawing data corresponding to the first segmentation area, and also less than the time for adding the predetermined additional time to the time When the band writing time is equal to or less than the band writing data preparation time, the delay time is generated and transmitted to the writing start time for the last divided area in the band area. It is more than the time which becomes the completion time of, and it is less than the time which added the predetermined additional time to the said time.

상술의 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 행하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 분명해진다. The above-mentioned objects and other objects, features, aspects, and advantages will be apparent from the detailed description of the present invention made below with reference to the accompanying drawings.

도 1은, 묘화 시스템의 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 2는, 장치 본체를 나타내는 사시도이다.
도 3은, 기판 상의 복수의 띠영역을 나타내는 도면이다.
도 4는, 묘화 장치에 있어서의 기능 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 5는, 묘화 장치가 패턴을 묘화하는 처리의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 6은, 기판의 주면을 나타내는 도면이다.
도 7a는, 기판의 주면을 나타내는 도면이다.
도 7b는, 기판의 주면을 나타내는 도면이다.
도 8은, 지연 시간을 결정하는 처리의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 9a는 지연 시간의 의의를 설명하기 위한 도면이다.
도 9b는 지연 시간의 의의를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은, 비교예의 처리를 설명하기 위한 도면이다.
도 11은, 묘화 장치에 있어서의 다른 동작예를 설명하기 위한 도면이다.1 is a block diagram showing the configuration of a drawing system.
2 is a perspective view showing the apparatus body.
3 is a view showing a plurality of band regions on a substrate.
4 is a block diagram showing a functional configuration in the drawing device.
It is a figure which shows the flow of the process which the drawing apparatus draws a pattern.
6 is a view showing a main surface of the substrate.
It is a figure which shows the main surface of a board | substrate.
It is a figure which shows the main surface of a board | substrate.
8 is a diagram showing a flow of processing for determining a delay time.
9A is a diagram for explaining the significance of the delay time.
9B is a diagram for explaining the significance of the delay time.
10 is a view for explaining the processing of the comparative example.
11 is a view for explaining another example of operation in the drawing device.

도 1은, 본 발명의 하나의 실시의 형태에 관련된 묘화 시스템(100)의 구성을 나타내는 블럭도이다. 묘화 시스템(100)은, 프린트 기판 등의 기판 상의 감광 재료에 광을 조사하여, 당해 감광 재료에 배선 등의 패턴을 묘화하는 시스템이다. 1 is a block diagram showing the configuration of a drawing system 100 according to one embodiment of the present invention. The drawing system 100 is a system that irradiates light on a photosensitive material on a substrate such as a printed circuit board and draws patterns such as wiring on the photosensitive material.

묘화 시스템(100)은, 컴퓨터(101)와, 묘화 장치(1)를 구비한다. 컴퓨터(101)는, 기판에 묘화해야 할 전체 패턴을 나타내는 설계 데이터의 생성에 이용된다. 설계 데이터는, 예를 들면, 전체 패턴을 나타내는 벡터 데이터이다. 묘화 장치(1)는, 2개의 컴퓨터(21, 22)와, 장치 본체(10)를 구비한다. 컴퓨터(21)는, 장치 본체(10)의 전체 제어를 담당한다. 컴퓨터(22)는, 설계 데이터로부터 장치 본체(10)에서 이용되는 묘화 데이터를 생성한다. 컴퓨터(101), 컴퓨터(21), 컴퓨터(22) 및 장치 본체(10)는 서로 통신 가능하게 접속되어 있다.The drawing system 100 includes a computer 101 and a drawing device 1. The computer 101 is used to generate design data representing the entire pattern to be drawn on the substrate. The design data is, for example, vector data representing the entire pattern. The drawing device 1 includes two computers 21 and 22 and a device body 10. The computer 21 is in charge of the overall control of the apparatus body 10. The computer 22 generates drawing data used in the apparatus body 10 from the design data. The computer 101, the computer 21, the computer 22, and the device body 10 are connected to each other so that they can communicate with each other.

도 2는, 장치 본체(10)를 나타내는 사시도이다. 도 2에서는, 서로 직교하는 3개의 방향을 X방향, Y방향 및 Z방향으로 하여 화살표로 나타내고 있다(다른 도면에 있어서도 마찬가지이다). 도 2의 예에서는, X방향 및 Y방향은 수평 방향이며, Z방향은 연직 방향이다. 묘화 장치(1)의 설계에 따라서는, Z방향이 연직 방향에 대해서 경사한 방향, 또는, 수평 방향이어도 된다.2 is a perspective view showing the apparatus body 10. In Fig. 2, three directions orthogonal to each other are shown as arrows in the X direction, the Y direction, and the Z direction (as in other drawings). In the example of Fig. 2, the X direction and the Y direction are horizontal directions, and the Z direction is a vertical direction. Depending on the design of the drawing device 1, the Z direction may be a direction inclined with respect to the vertical direction, or a horizontal direction.

장치 본체(10)는, 복수의 묘화 헤드(3)와, 스테이지(41)와, 스테이지 승강기구(42)와, 스테이지 이동 기구(43)와, 촬상 유닛(5)을 구비한다. 스테이지(41)는, 묘화 헤드(3)의 하방((-Z)측)에서 기판(9)을 유지한다. 복수의 묘화 헤드(3)는, X방향(이하, 「폭 방향」이라고 한다.)으로 배열된다. 각 묘화 헤드(3)에서는, 광원으로부터 광변조부를 향해 레이저광이 출사되고, 광변조부에 의해 당해 광이 변조된다. 변조(공간 변조)된 광은, 스테이지(41) 상의 기판(9)에 있어서의 (＋Z) 방향을 향하는 주면(91)에 조사된다. 이하의 설명에서는, 복수의 미소 미러가 이차원으로 배열된 DMD(디지털 미러 디바이스)가, 각 묘화 헤드(3)의 광변조부로서 이용되는 것으로 한다. 광변조부는, 복수의 광변조 소자가 일차원으로 배열된 변조기 등이어도 된다.The apparatus main body 10 includes a plurality of drawing heads 3, a stage 41, a stage lifting mechanism 42, a stage moving mechanism 43, and an imaging unit 5. The stage 41 holds the substrate 9 under the drawing head 3 ((-Z) side). The plurality of drawing heads 3 are arranged in the X direction (hereinafter referred to as "width direction"). In each drawing head 3, laser light is emitted from the light source toward the light modulator, and the light is modulated by the light modulator. The modulated (spatial modulated) light is irradiated onto the main surface 91 facing the (+ Z) direction of the substrate 9 on the stage 41. In the following description, it is assumed that a DMD (digital mirror device) in which a plurality of micromirrors are arranged in two dimensions is used as the light modulator of each drawing head 3. The optical modulation unit may be a modulator or the like in which a plurality of optical modulation elements are arranged in one dimension.

스테이지 승강 기구(42)는, 스테이지(41)를 Z방향으로 이동한다. 스테이지 이동 기구(43)는, 스테이지(41)를, 스테이지 승강 기구(42)와 함께 Y방향(이하, 「이동 방향」이라고 한다.)으로 이동한다. 촬상 유닛(5)은, 복수의 묘화 헤드(3)의 (-Y)측에 배치된다. 촬상 유닛(5)은, 복수의 촬상부(51)를 갖는다. 복수의 촬상부(51)는, 폭 방향으로 간격을 띄워 배열된다. 각 촬상부(51)는, 스테이지(41) 상의 기판(9)을 촬상하여 촬상 화상의 데이터를 취득한다. 묘화 장치(1)에서는, 스테이지 승강 기구(42)가 생략되어도 되고, Z방향으로 평행한 축을 중심으로 하여 스테이지(41)를 회전하는 회전 기구가 설치되어도 된다.The stage lifting mechanism 42 moves the stage 41 in the Z direction. The stage movement mechanism 43 moves the stage 41 together with the stage lifting mechanism 42 in the Y-direction (hereinafter referred to as "movement direction"). The imaging unit 5 is disposed on the (-Y) side of the plurality of drawing heads 3. The imaging unit 5 has a plurality of imaging units 51. The plurality of imaging units 51 are arranged spaced apart in the width direction. Each imaging unit 51 captures the substrate 9 on the stage 41 to obtain data of the captured image. In the drawing device 1, the stage lifting mechanism 42 may be omitted, or a rotating mechanism that rotates the stage 41 around an axis parallel to the Z direction may be provided.

후술의 묘화 헤드(3)에 의한 패턴의 묘화에서는, 스테이지 이동 기구(43)가 스테이지(41)를 이동 방향으로 연속적으로 이동하고, 각 묘화 헤드(3)로부터의 광이 조사되는 기판(9) 상의 위치가, 기판(9)에 대해서 이동 방향으로 주사한다. 또, 스테이지(41)의 이동에 동기하여, 묘화 헤드(3)의 DMD가 제어된다. 이로 인해, 이동 방향으로 연장되는 기판(9)의 주면(91) 상의 띠영역에 대해서, 각 묘화 헤드(3)에 의한 패턴의 묘화가 행해진다.In drawing a pattern by the drawing head 3 described later, the stage movement mechanism 43 continuously moves the stage 41 in the moving direction, and the substrate 9 to which light from each drawing head 3 is irradiated The position of the image is scanned in the moving direction with respect to the substrate 9. Further, in synchronization with the movement of the stage 41, the DMD of the drawing head 3 is controlled. For this reason, for the band region on the main surface 91 of the substrate 9 extending in the moving direction, patterning by the respective drawing heads 3 is performed.

도 3은, 기판(9)의 주면(91) 상의 복수의 띠영역(81)을 나타내는 도면이다. 도 3에서는, 각 띠영역(81)을 Y방향으로 긴 굵은 선의 직사각형에 의해 나타내고 있고, 각 묘화 헤드(3)에 의해 광이 조사되는 영역(82)(이하, 「조사 영역(82)」이라고 한다.)도 추상적으로 나타내고 있다. 본 처리예에서는, 주면(91)의 거의 전체가, 묘화 장치(1)에 의한 패턴의 묘화가 가능한 묘화 가능 영역이며, 주면(91)의 전체에 감광 재료가 설치되어 있다. 또, 장치 본체(10)에서는, 복수의 묘화 헤드(3)가 폭 방향으로 조밀하게 늘어서 있고, 기판(9) 상의 복수의 조사 영역(82)도 폭 방향으로 연속해서 늘어선다. 따라서, 복수의 띠영역(81)도 폭 방향으로 연속해서 늘어선다. 복수의 띠영역(81)은, 기판(9)의 주면(91)의 전체, 즉, 묘화 가능 영역의 전체에 걸친다. 바꿔 말하면, 묘화 가능 영역을 폭 방향으로 분할함으로써, 각각이 이동 방향으로 연장되는 복수의 띠영역(81)이 설정되어 있다. 도 3의 예에서는, 스테이지(41)의 이동 방향으로의 1회의 연속 이동에 의해, 복수의 묘화 헤드(3)에 의해 복수의 띠영역(81)에 대해서 각각 패턴의 묘화가 행해지고, 묘화 가능 영역의 전체에 대한 패턴의 묘화가 완료된다(이른바, 원 패스 묘화가 행해진다).3 is a view showing a plurality of band regions 81 on the main surface 91 of the substrate 9. In Fig. 3, each band region 81 is represented by a rectangle of thick lines long in the Y direction, and regions 82 (hereinafter referred to as "irradiation regions 82") to which light is irradiated by each drawing head 3 ). In this processing example, almost all of the main surface 91 is a drawable area capable of drawing a pattern by the drawing device 1, and a photosensitive material is provided on the entirety of the main surface 91. Further, in the apparatus main body 10, a plurality of drawing heads 3 are densely lined up in the width direction, and a plurality of irradiation areas 82 on the substrate 9 are also continuously lined up in the width direction. Therefore, the plurality of band regions 81 are also continuously lined up in the width direction. The plurality of band regions 81 spans the entire main surface 91 of the substrate 9, that is, the entire drawing area. In other words, by dividing the drawing-able area in the width direction, a plurality of band areas 81 each extending in the moving direction is set. In the example of FIG. 3, a plurality of band regions 81 are respectively drawn with a pattern by a plurality of drawing heads 3 by a single continuous movement in the moving direction of the stage 41, and a region capable of drawing The drawing of the pattern for the whole of is completed (so-called drawing of one pass is performed).

도 4는, 묘화 장치(1)에 있어서의 기능 구성을 나타내는 블럭도이다. 묘화 장치(1)는, 전체 제어부(211)와, 묘화 데이터 생성부(221)와, 전체 패턴 데이터 기억부(222)와, 복수의 묘화 제어부(6)를 구비한다. 전체 제어부(211)는, 도 1의 컴퓨터(21)에 의해 실현된다. 전체 제어부(211)는, 지연 시간 결정부(212)와, 묘화 데이터 변환부(213)를 포함한다. 묘화 데이터 생성부(221) 및 전체 패턴 데이터 기억부(222)는 컴퓨터(22)에 의해 실현된다. 복수의 묘화 제어부(6)는 장치 본체(10)에 있어서 복수의 묘화 헤드(3)의 근방에 설치된다. 복수의 묘화 제어부(6)는 복수의 묘화 헤드(3)에 각각 통신 가능하게 접속된다. 각 묘화 제어부(6)는, 묘화 데이터 메모리(61)와, 변환 데이터 메모리(62)를 포함한다. 전체 제어부(211), 묘화 데이터 생성부(221), 전체 패턴 데이터 기억부(222), 및, 복수의 묘화 제어부(6)의 기능의 상세에 대하여는 후술한다. 도 4에서는, 스테이지 이동 기구(43) 및 촬상 유닛(5)도 블록으로 나타내고 있다.4 is a block diagram showing a functional configuration in the drawing device 1. The drawing device 1 includes an entire control unit 211, a rendering data generation unit 221, an entire pattern data storage unit 222, and a plurality of rendering control units 6. The entire control unit 211 is realized by the computer 21 in FIG. 1. The entire control unit 211 includes a delay time determination unit 212 and a rendering data conversion unit 213. The drawing data generation unit 221 and the entire pattern data storage unit 222 are realized by the computer 22. The plurality of drawing control parts 6 are provided in the apparatus body 10 in the vicinity of the plurality of drawing heads 3. The plurality of drawing control parts 6 are respectively connected to the plurality of drawing heads 3 so as to be communicatively communicated. Each drawing control unit 6 includes a drawing data memory 61 and a conversion data memory 62. Details of the functions of the entire control unit 211, the rendering data generation unit 221, the entire pattern data storage unit 222, and the plurality of rendering control units 6 will be described later. 4, the stage movement mechanism 43 and the imaging unit 5 are also shown in blocks.

도 5는, 묘화 장치(1)가 패턴을 묘화하는 처리의 흐름을 나타내는 도면이다. 묘화 장치(1)에서는, 우선, 기판(9)의 묘화 가능 영역에 묘화해야 할 전체 패턴을 나타내는 전체 패턴 데이터가 준비된다(단계 S11). 본 처리예에서는, 사전 준비로서, 당해 전체 패턴을 나타내는 설계 데이터가, 도 1의 컴퓨터(101)에 의해 생성되어 있다. 또, 묘화 데이터 생성부(221)에서는, 벡터 데이터인 설계 데이터가 래스터 데이터로 변환되고(래스터라이즈가 행해지고), 변환 후의 데이터가, 전체 패턴 데이터로서 전체 패턴 데이터 기억부(222)에 기억되어 있다. 이와 같이, 묘화 장치(1)에서는, 래스터 데이터인 전체 패턴 데이터가, 전체 패턴 데이터 기억부(222)에 미리 기억되어 준비되어 있다. 본 처리예에서는, 전체 패턴 데이터는, 런 렝스 압축된 런 렝스 데이터이다.5 is a diagram showing a flow of processing in which the drawing device 1 draws a pattern. In the drawing device 1, first, all the pattern data indicating the entire pattern to be drawn in the drawable area of the substrate 9 is prepared (step S11). In this processing example, as preliminary preparation, design data representing the entire pattern is generated by the computer 101 in FIG. 1. In addition, in the drawing data generation unit 221, design data that is vector data is converted into raster data (rasterization is performed), and the data after conversion is stored in the entire pattern data storage unit 222 as all pattern data. . In this way, in the drawing device 1, the entire pattern data, which is raster data, is stored in advance in the entire pattern data storage unit 222 and prepared. In this processing example, the entire pattern data is run length compressed run length data.

지연 시간 결정부(212)에서는 지연 시간이 결정된다(단계 S12). 지연 시간의 의미, 및, 지연 시간을 결정하는 처리의 상세에 대해서는 후술한다. 계속해서, 처리 대상의 기판(9)이, 도 2의 스테이지(41) 상에 올려져 유지된다(단계 S13). 기판(9)은, 스테이지(41)의 이동에 의해 촬상 유닛(5)의 하방으로 이동하고, 복수의 촬상부(51)에 의해 기판(9)의 (＋Z) 방향을 향하는 주면(91)이 촬상된다(단계 S14).In the delay time determination unit 212, a delay time is determined (step S12). The meaning of the delay time and details of the processing for determining the delay time will be described later. Subsequently, the substrate 9 to be processed is placed on the stage 41 of FIG. 2 and held (step S13). The substrate 9 moves downward of the imaging unit 5 by the movement of the stage 41, and the main surface 91 facing the (+ Z) direction of the substrate 9 by the plurality of imaging units 51 It is imaged (step S14).

도 6은, 기판(9)의 주면(91)을 나타내는 도면이다. 기판(9)의 주면(91) 상에는 복수의 얼라이먼트 마크(911)(실선으로 나타내는 얼라이먼트 마크(911) 참조)가 형성되어 있다. 얼라이먼트 마크(911)는 감광 재료를 통해 관찰 가능하고, 각 촬상부(51)에서는, 얼라이먼트 마크(911)를 촬상한 촬상 화상(의 데이터)이 취득된다. 도 6의 예에서는, 이동 방향(Y방향)에 있어서의 양단부의 각각에 복수의 얼라이먼트 마크(911)가 설치되어 있다. 따라서, 스테이지 이동 기구(43)가 기판(9)을 이동 방향으로 이동함으로써, 기판(9)의 양단부에 있어서의 복수의 얼라이먼트 마크(911)가 복수의 촬상부(51)에 의해 촬상된다. 본 처리예에서는, 기판(9)에 있어서 (＋Y)측의 단부에 설치된 얼라이먼트 마크(911)가 촬상된 후, 스테이지(41)가 (＋Y) 방향으로 이동하고, (-Y)측의 단부에 설치된 얼라이먼트 마크(911)가 촬상된다. 그 후, 기판(9)이, 복수의 묘화 헤드(3)로부터 (＋Y)측으로 약간 멀어진 위치(이하, 「대기 위치」라고 한다.)에 배치된다.6 is a view showing the main surface 91 of the substrate 9. On the main surface 91 of the substrate 9, a plurality of alignment marks 911 (see alignment marks 911 shown by solid lines) are formed. The alignment mark 911 can be observed through a photosensitive material, and in each imaging unit 51, a captured image (data of) imaging the alignment mark 911 is acquired. In the example of FIG. 6, a plurality of alignment marks 911 are provided at each of both ends in the movement direction (Y direction). Therefore, when the stage movement mechanism 43 moves the substrate 9 in the moving direction, the plurality of alignment marks 911 at both ends of the substrate 9 are imaged by the plurality of imaging units 51. In this processing example, after the alignment mark 911 provided at the (+ Y) -side end of the substrate 9 is imaged, the stage 41 moves in the (+ Y) direction, and at the (-Y) -side end The installed alignment mark 911 is imaged. Thereafter, the substrate 9 is disposed at a position slightly away from the plurality of drawing heads 3 on the (+ Y) side (hereinafter referred to as a "standby position").

복수의 촬상 화상은, 전체 제어부(211)에 입력된다. 전체 제어부(211)에서는, 복수의 촬상 화상으로부터, 스테이지(41) 상의 기판(9)에 있어서의 복수의 얼라이먼트 마크(911)의 위치(주면(91)의 소정의 위치를 기준으로 하는 위치)가 구해진다. 전체 제어부(211)에서는, 이상적인 기판(변형이 생기지 않은 기판(9))에 있어서의 복수의 얼라이먼트 마크(911)의 위치도 미리 기억되고 있고, 실제의 기판(9)에 있어서의 얼라이먼트 마크(911)의 위치와 비교된다. 이로 인해, 기판(9)의 변형을 나타내는 변형 정보가 취득된다. 기판(9)의 변형은, 당해 기판(9)에 대한 전 공정에 의해 기판(9)에 있어서 발생하는 신축이나 왜곡이다. 기판(9)의 변형을 나타내는 변형 정보는, 묘화 데이터 생성부(221)에 출력된다. 도 6에서는, 기판(9)에 있어서의 얼라이먼트 마크(911)를 이어 형성되는 사각형(B1)을 가는 실선으로 나타내고 있다. 또, 이상적인 기판에 있어서의 얼라이먼트 마크(911)를 2점 쇄선으로 나타내고, 이들 얼라이먼트 마크(911)를 이어 형성되는 사각형(B2)도 2점 쇄선으로 나타내고 있다.The plurality of captured images is input to the entire control unit 211. In the entire control unit 211, the positions of the plurality of alignment marks 911 on the substrate 9 on the stage 41 (positions based on a predetermined position of the main surface 91) from a plurality of captured images are Is saved. In the entire control unit 211, the positions of the plurality of alignment marks 911 on the ideal substrate (the substrate 9 without deformation) are also stored in advance, and the alignment marks 911 on the actual substrate 9 are also stored. ). For this reason, deformation information indicating deformation of the substrate 9 is obtained. The deformation of the substrate 9 is stretching or distortion occurring in the substrate 9 by all steps of the substrate 9. The deformation information indicating the deformation of the substrate 9 is output to the rendering data generation unit 221. In FIG. 6, the square B1 formed after the alignment mark 911 in the substrate 9 is shown by a thin solid line. In addition, the alignment mark 911 on the ideal substrate is indicated by a two-dot chain line, and the square B2 formed by connecting these alignment marks 911 is also indicated by a two-dot chain line.

계속해서, 묘화 데이터 생성부(221)에서는, 각 묘화 헤드(3)에 있어서 이용되는 복수의 분할 묘화 데이터의 생성이 행해진다(단계 S15). 여기서, 묘화 장치(1)에서는, 도 3에 나타내는 각 띠영역(81)을 이동 방향으로 등분할함으로써, 복수의 분할 영역(811)(블록으로 파악할 수도 있다.)이 설정되어 있다. 각 묘화 헤드(3)에 대한 복수의 분할 묘화 데이터는, 당해 묘화 헤드(3)에 의한 복수의 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화에 각각 이용되는 것이며, 변형 정보를 참조하여 전체 패턴 데이터로부터 생성된다. 복수의 분할 묘화 데이터의 생성에 있어서의 변형 정보의 참조에 대해서는 후술한다.Subsequently, in the drawing data generation unit 221, a plurality of divided drawing data used in each drawing head 3 is generated (step S15). Here, in the drawing device 1, a plurality of divided regions 811 (which can be understood as blocks) is set by equally dividing each band region 81 shown in FIG. 3 in the moving direction. The plurality of segmented drawing data for each of the drawing heads 3 are used for drawing patterns for the plurality of divided regions 811 by the drawing head 3, respectively. Is generated. Reference to the deformation information in generating a plurality of divided drawing data will be described later.

본 처리예에서는, 후술의 묘화 헤드(3)에 의한 패턴의 묘화에 있어서, 기판(9)이 (-Y) 방향으로 연속적으로 이동하고, 각 띠영역(81)에 있어서 가장 (-Y)측에 배치되는 분할 영역(811)에 대해서 최초로 패턴의 묘화가 행해지고, 가장 (＋Y)측에 배치되는 분할 영역(811)에 대해서 최후에 패턴의 묘화가 행해진다. 따라서, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성에서는, 가장 (-Y)측의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터가 최초로 생성되고, 가장 (＋Y)측의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터가 최후에 생성된다. 각 분할 묘화 데이터는, 래스터 데이터이며, 생성된 부분으로부터 순차적으로, 묘화 제어부(6)로 전송된다. 이상과 같이, 묘화 데이터 생성부(221)는 복수의 분할 영역(811)에 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터를, 이동 방향에 있어서의 분할 영역(811)의 순서에 따라서 전체 패턴 데이터로부터 순차적으로 생성하고, 묘화 제어부(6)에 전송한다. 분할 묘화 데이터는, 묘화 데이터 메모리(61)에 기억된다. 본 처리예에서는, 전체 패턴 데이터와 마찬가지로, 분할 묘화 데이터도 런 렝스 압축된 런 렝스 데이터이다.In this processing example, in the drawing of the pattern by the writing head 3 described later, the substrate 9 is continuously moved in the (-Y) direction, and the most (-Y) side in each band region 81 The pattern is first drawn on the divided region 811 arranged in, and the pattern is drawn last on the divided region 811 disposed on the most (+ Y) side. Therefore, in the generation of the plurality of divided drawing data, the divided drawing data corresponding to the most negative (-Y) -side divided region 811 is first generated, and the divided drawing corresponding to the most (+ Y) -side divided region 811 is generated. Data is generated last. Each divided drawing data is raster data, and is sequentially transmitted from the generated portion to the drawing control unit 6. As described above, the drawing data generation unit 221 sequentially processes a plurality of divided drawing data corresponding to the plurality of divided regions 811 from the entire pattern data in the order of the divided regions 811 in the moving direction. It is generated and transmitted to the drawing control unit 6. The divided drawing data is stored in the drawing data memory 61. In this processing example, like all pattern data, the segmentation drawing data is run length compressed run length data.

또, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성에서는, 변형 정보가 참조된다. 변형 정보는, 이상적인 기판(변형이 생기지 않은 기판(9))에 있어서의 얼라이먼트 마크(911)의 위치와, 실제의 기판(9)에 있어서의 얼라이먼트 마크(911)의 위치의 상위를 나타낸다. 또, 전체 패턴 데이터 기억부(222)에 기억되는 전체 패턴 데이터는, 이상적인 기판에 맞춘 전체 패턴을 나타낸다. 따라서, 묘화 데이터 생성부(221)에서는, 변형 정보를 참조함으로써, 기판(9)의 변형에 맞추어, 전체 패턴 데이터가 나타내는 전체 패턴을 변형(보정)하여, 복수의 분할 묘화 데이터가 생성된다.In addition, in generating a plurality of divided drawing data, deformation information is referred to. The deformation information indicates the difference between the position of the alignment mark 911 on the ideal substrate (the substrate 9 without deformation) and the position of the alignment mark 911 on the actual substrate 9. In addition, the entire pattern data stored in the entire pattern data storage unit 222 represents the entire pattern fitted to the ideal substrate. Therefore, in the rendering data generation unit 221, by referring to the deformation information, the entire pattern represented by the entire pattern data is modified (corrected) in accordance with the deformation of the substrate 9, and a plurality of divided rendering data are generated.

또한, 주면(91)의 네 모서리 근방에 얼라이먼트 마크(911)가 설치되는 도 6의 기판(9)은 일례에 지나지 않고, 도 7a에 나타내는 바와 같이, 주면(91)에 있어서 이동 방향 및 폭 방향의 중앙에도 얼라이먼트 마크(911)가 설치되어도 된다. 또, 도 7b에 나타내는 바와 같이, 주면(91)에 있어서 복수의 개편영역(910)이 설정되고, 개편영역(910)마다 변형 정보에 의거하는 패턴의 보정이 행해져도 된다. In addition, the substrate 9 of FIG. 6 in which the alignment mark 911 is provided near the four corners of the main surface 91 is only an example, and as shown in FIG. 7A, the movement direction and the width direction of the main surface 91 The alignment mark 911 may also be provided in the center of the. In addition, as shown in FIG. 7B, a plurality of reorganization areas 910 are set on the main surface 91, and a pattern based on deformation information may be corrected for each reorganization area 910.

실제로는, 전체 제어부(211)의 묘화 데이터 변환부(213)에서는, 각 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터가 묘화 데이터 메모리(61)에 송신되면 곧바로, 런 렝스 데이터인 분할 묘화 데이터가, 비압축의 래스터 데이터로 변환되고(비트 맵 데이터로 신장되고), 변환이 끝난 분할 묘화 데이터로서 변환 데이터 메모리(62)에 기억된다. 이때, 묘화 데이터 변환부(213)에서는, 화소의 값의 종횡 변환도 행해진다. 구체적으로는, 분할 묘화 데이터가, 이동 방향에 대응하는 방향으로 늘어선 화소의 값을 순서대로 나타내는데 반해, 변환이 끝난 분할 묘화 데이터는, 폭 방향에 대응하는 방향으로 늘어선 화소의 값을 순서대로 나타내는 것이 된다.In practice, in the drawing data conversion unit 213 of the entire control unit 211, the divided drawing data, which is run length data, is immediately transmitted when the divided drawing data corresponding to each divided region 811 is transmitted to the drawing data memory 61. , Converted to uncompressed raster data (extended to bitmap data), and stored in the converted data memory 62 as converted segmented drawing data. At this time, the rendering data conversion unit 213 also performs vertical and horizontal conversion of pixel values. Specifically, the divided drawing data sequentially shows values of pixels lined up in the direction corresponding to the moving direction, whereas the converted divided drawing data sequentially shows values of pixels lined up in the direction corresponding to the width direction. do.

한편, 전체 제어부(211)에서는, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터의 시간이 계측되고, 계측 시간이, 이미 기술한 지연 시간에 도달했는지의 여부가, 미소 시간마다 반복 확인된다. 계측 시간이 지연 시간에 도달하지 않은 경우에는(단계 S16), 장치 본체(10)에서는, 기판(9)이 대기 위치에 배치된 상태가 유지된다. 계측 시간이 지연 시간에 도달하면(단계 S16), 스테이지 이동 기구(43)가 제어되고, 스테이지(41)의 (-Y) 방향으로의 연속적인 이동이 개시된다. 그리고, 스테이지(41)의 연속 이동과 병행하여, 묘화 제어부(6)가 복수의 분할 묘화 데이터에 의거하여 묘화 헤드(3)의 DMD(31)를 제어함으로써, 띠영역(81)에 대해서 패턴의 묘화가 행해진다(단계 S17).On the other hand, in the entire control unit 211, the time from the start of generation of the plurality of divided drawing data is measured, and it is repeatedly checked every minute time whether or not the measurement time has reached the previously described delay time. When the measurement time has not reached the delay time (step S16), in the apparatus main body 10, the state where the substrate 9 is arranged in the standby position is maintained. When the measurement time reaches the delay time (step S16), the stage movement mechanism 43 is controlled, and continuous movement of the stage 41 in the (-Y) direction is started. Then, in parallel with the continuous movement of the stage 41, the drawing control section 6 controls the DMD 31 of the drawing head 3 based on the plurality of divided drawing data, thereby making the pattern of the band region 81 Drawing is performed (step S17).

띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화에 있어서, 각 묘화 헤드(3)가 최초의 분할 영역(811)에 패턴을 묘화할 때에는, 후술하는 바와 같이, 당해 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터가 이미 묘화 데이터 메모리(61)에 기억되어 있다. 실제로는, 분할 묘화 데이터로부터 변환이 끝난 분할 묘화 데이터도 생성되어, 변환 데이터 메모리(62)에 기억되어 있다. 따라서, 묘화 제어부(6)에서는, 변환이 끝난 분할 묘화 데이터를 이용하여, DMD(31)에 포함되는 복수의 미러의 자세를 고속으로 변환하고, 패턴을 적절히 묘화하는 것이 가능하다. 다른 각 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때에도, 당해 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 완료되어 있고, 당해 분할 영역(811)에 대해서 패턴의 묘화가 적절히 행해진다. 복수의 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화는, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송과 부분적으로 병행하여 행해진다. 각 묘화 헤드(3)로부터의 광이 조사되는 기판(9) 상의 위치가, 주면(91)의 (＋Y)측의 단부에 도달하면, 묘화 헤드(3)에 의한 패턴의 묘화가 완료된다.In drawing a pattern for the band region 81, when each drawing head 3 draws a pattern in the first divided region 811, as described later, divided drawing corresponding to the divided region 811 The data has already been stored in the rendering data memory 61. Actually, the converted segmented drawing data is also generated from the segmented drawing data and stored in the converted data memory 62. Therefore, in the drawing control unit 6, it is possible to convert the postures of the plurality of mirrors included in the DMD 31 at high speed using the converted segmented drawing data, and to draw a pattern appropriately. Even when drawing of a pattern for each other divided region 811 is started, generation and transmission of divided drawing data corresponding to the divided region 811 is completed, and drawing of the pattern with respect to the divided region 811 is performed. It is done properly. Drawing of the pattern for the plurality of divided regions 811 is performed in part in parallel with generation and transmission of the plurality of divided drawing data. When the position on the substrate 9 to which light from each drawing head 3 is irradiated reaches the end of the main surface 91 on the (+ Y) side, drawing of the pattern by the drawing head 3 is completed.

다음에, 단계 S12에 있어서, 지연 시간 결정부(212)가 지연 시간을 결정하는 처리에 대해 설명한다. 도 8은, 지연 시간 결정부(212)가 지연 시간을 결정하는 처리의 흐름을 나타내는 도면이다. 상술한 바와 같이, 지연 시간은, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 띠영역(81)에 있어서의 최초의 분할 영역(811)에 대한 묘화를 개시할 때까지의 시간이다.Next, in step S12, the processing for the delay time determination unit 212 to determine the delay time will be described. 8 is a diagram showing a flow of processing in which the delay time determination unit 212 determines the delay time. As described above, the delay time is the time from the start of generation of the plurality of divided drawing data to the start of drawing for the first divided region 811 in the band region 81.

지연 시간의 결정에서는, 우선, 도 5의 단계 S15에 있어서, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 한다고 추정되는 시간이, 띠묘화 데이터 준비 시간으로서 취득된다(단계 S121). 여기서, 각 띠영역(81)에 대한 복수의(모든) 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간은, 런 렝스 데이터인 전체 패턴 데이터에 있어서 당해 띠영역(81)을 나타내는 부분에 포함되는 변화점의 개수에 의존하는 것을 경험상 알고 있다. 지연 시간 결정부(212)에서는, 띠영역(81)의 변화점의 개수와, 당해 띠영역(81)에 대한 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간의 관계를 나타내는 테이블(함수 등이어도 된다.)이 미리 준비되어 있다. 그리고, 전체 패턴 데이터에 있어서 각 묘화 헤드(3)의 띠영역(81)을 나타내는 부분에 포함되는 변화점의 개수가 구해지고, 당해 변화점의 개수를 이용하여 상기 테이블을 참조함으로써, 당해 묘화 헤드(3)에 대해서 띠묘화 데이터 준비 시간이 취득된다. 이와 같이 하여, 복수의 묘화 헤드(3)에 대해서 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간이 취득된다.In the determination of the delay time, first, in step S15 of FIG. 5, a time estimated to be required for generation and transmission of a plurality of divided drawing data is acquired as the band drawing data preparation time (step S121). Here, the time required for the generation and transmission of a plurality of (all) divided drawing data for each band region 81 is included in the portion representing the band region 81 in all pattern data that is run length data. I know from experience that it depends on the number of change points. In the delay time determination unit 212, a table (function) showing the relationship between the number of change points in the band region 81 and the time required for generation and transmission of a plurality of divided drawing data for the band region 81 Etc. may be prepared). Then, in the entire pattern data, the number of change points included in the portion representing the band region 81 of each drawing head 3 is obtained, and by referring to the table using the number of change points, the drawing head is For (3), the time to prepare the band writing data is obtained. In this way, a plurality of band writing data preparation times are obtained for the plurality of drawing heads 3.

또, 단계 S17에 있어서, 띠영역(81)의 각 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화에 필요로 한다고 추정되는 시간이, 분할 영역 묘화 시간으로서 취득된다(단계 S122). 묘화 장치(1)에서는, 기판(9) 상의 감광 재료의 감광에 필요한 광량 및 조도가 미리 설정됨과 더불어, 묘화 헤드(3)에 있어서 기판(9) 상에 조사 가능한 최대 광량이 구해지고 있다. 또, 전체 제어부(211)에서는, 이들 값으로부터, 묘화 헤드(3)에 의한 패턴의 묘화시에 있어서의 스테이지(41)의 이동 방향으로의 이동 속도가 구해지고 있다. 따라서, 이동 방향에 있어서의 각 분할 영역(811)의 길이, 및, 스테이지(41)의 이동 방향으로의 이동 속도로부터, 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화에 필요로 한다고 추정되는 시간, 즉 분할 영역 묘화 시간이 구해진다. 또, 띠영역(81)에 포함되는 모든 분할 영역(811)에 대한 분할 영역 묘화 시간의 총합, 즉, 띠영역(81)의 전체에 대한 묘화에 필요로 한다고 추정되는 시간이, 띠묘화 시간으로서 구해진다. 복수의 묘화 헤드(3)에서는, 띠묘화 시간은 같다.In addition, in step S17, a time estimated to be necessary for drawing a pattern for each divided region 811 of the band region 81 is obtained as the divided region drawing time (step S122). In the drawing device 1, while the amount of light and illuminance required for the photosensitive material on the substrate 9 are set in advance, the maximum amount of light that can be irradiated on the substrate 9 in the drawing head 3 is obtained. Further, in the entire control unit 211, the moving speed in the moving direction of the stage 41 at the time of drawing the pattern by the drawing head 3 is obtained from these values. Therefore, it is estimated that the length of each divided region 811 in the moving direction and the moving speed of the stage 41 in the moving direction are necessary for drawing a pattern for the divided region 811, that is, The partition drawing time is obtained. In addition, the sum of the division region drawing times for all of the division regions 811 included in the strip region 81, that is, the time estimated to be required for the entire drawing of the strip region 81, is defined as the strip rendering time. Is saved. In the plurality of drawing heads 3, the band drawing time is the same.

도 9a 및 도 9b는, 지연 시간의 의의를 설명하기 위한 도면이며, 도 5의 패턴을 묘화하는 처리에 있어서 일부의 단계가 행해지는 기간을 나타내고 있다. 도 9a 및 도 9b에서는, 단계 S15에 있어서 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 행해지는 기간을, 같은 부호 S15를 붙이는 실선의 화살표로 나타내고, 당해 화살표(S15)의 길이를, 복수의 묘화 헤드(3)에 대한 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간 중 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간인 T로 하고 있다. 또, 단계 S17에 있어서 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화가 행해지는 기간을, 같은 부호 S17을 붙이는 실선의 복수의 화살표의 집합으로 나타내고 있다. 당해 복수의 화살표는, 당해 띠영역(81)의 복수의 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화가 행해지는 기간을 각각 나타내고, 각 화살표의 길이를 분할 영역 묘화 시간인 B로 하고 있다. 띠묘화 시간은, 띠영역(81)에 있어서의 복수의 분할 영역(811)의 개수를 n으로 하여, (n·B)가 된다. 도 9a 및 도 9b에서는, 단계 S14에 있어서의 촬상 유닛(5)에 의한 복수의 촬상 화상의 취득, 및, 기판(9)의 변형을 나타내는 변형 정보의 취득에 필요로 하는 기간도, 같은 부호 S14를 붙이는 실선의 화살표로 나타내고 있다.9A and 9B are views for explaining the significance of the delay time, and show a period during which some steps are performed in the process of drawing the pattern in FIG. 5. 9A and 9B, the period during which the generation and transmission of the plurality of divided drawing data is performed in step S15 is indicated by solid arrows with the same reference symbol S15, and the length of the arrow S15 is a plurality of drawing heads. It is set to T, which is the longest band writing data preparation time among the plurality of band writing data preparation times for (3). In addition, in step S17, the period during which the pattern is drawn for the band region 81 is indicated by a set of a plurality of solid arrows with the same reference numeral S17. The plurality of arrows indicate periods during which pattern drawing is performed for the plurality of divided regions 811 of the band region 81, respectively, and the length of each arrow is set to B, which is the division region drawing time. The band drawing time is (n · B) by setting the number of the plurality of divided regions 811 in the band region 81 to n. 9A and 9B, the period required for acquiring a plurality of captured images by the imaging unit 5 in step S14 and obtaining deformation information indicating deformation of the substrate 9 is the same reference numeral S14 It is indicated by a solid arrow to attach.

계속해서, 지연 시간 결정부(212)에서는, 복수의 묘화 헤드(3)에 대한 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간 중, 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간과, 띠묘화 시간이 비교된다. 도 9a에 나타내는 바와 같이, 띠묘화 시간이 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간보다 긴, 즉, (n·B＞T)인 경우에는(단계 S123), 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이, 지연 시간(W)으로서 결정된다(단계 S124). 본 처리예에서는, 띠영역(81)에 포함되는 복수의 분할 영역(811)에 있어서의 이동 방향의 길이가 일정하고, 복수의 분할 영역(811)에 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간도, 거의 일정하다고 생각된다. 따라서, 지연 시간(W)은, (T/n)에 의해 구해진다.Subsequently, the delay time determination unit 212 compares the longest band writing data preparation time and the band drawing time among the plurality of band writing data preparation times for the plurality of writing heads 3. As shown in Fig. 9A, when the band writing time is longer than the longest band writing data preparation time, that is, (n · B> T) (step S123), the partition drawing corresponding to the first partition area 811 The time required for data generation and transmission is determined as the delay time W (step S124). In this processing example, the length of the movement direction in the plurality of divided regions 811 included in the band region 81 is constant, and the generation of a plurality of divided drawing data corresponding to the plurality of divided regions 811, respectively, and The time required for transmission is also considered to be almost constant. Therefore, the delay time W is obtained by (T / n).

이미 서술한 바와 같이, 패턴을 묘화하는 처리에서는, 지연 시간(W)은, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터(단계 S14의 종료부터), 띠영역(81)에 있어서의 최초의 분할 영역(811)에 대한 묘화를 개시할 때까지의 시간으로서 취급된다. 따라서, 도 5의 단계 S16에 있어서, 상기 단계 S124에서 결정되는 지연 시간(W)을 이용함으로써, 단계 S17에서 최초의 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때에, 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 완료되어 있다. 이로 인해, 최초의 분할 영역(811)에 대해서, 패턴의 묘화가 적절히 행해진다. 또, 띠묘화 시간이 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길기 때문에, 분할 영역 묘화 시간이, 1개의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간보다 길다. 따라서, 최초의 분할 영역(811)을 제외한, 각 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때에도, 당해 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 완료되어 있고, 당해 분할 영역(811)에 대해서 패턴의 묘화가 적절히 행해진다.As already described, in the process of drawing a pattern, the delay time W is the first divided area in the band region 81 from the start of generation of the plurality of divided drawing data (from the end of step S14). 811). Therefore, in step S16 of FIG. 5, by using the delay time W determined in step S124, when the drawing of the pattern for the first divided area 811 is started in step S17, the first divided area ( Generation and transmission of the segmentation drawing data corresponding to 811) have been completed. For this reason, the patterning of the pattern is appropriately performed for the first divided region 811. Moreover, since the band writing time is longer than the longest band writing data preparation time, the partition writing time is longer than the time required for generating and transmitting the partition writing data corresponding to one partition 811. Therefore, even when drawing of a pattern for each divided region 811 except for the first divided region 811 is started, generation and transmission of divided drawing data corresponding to the divided region 811 are completed, and the The pattern is appropriately drawn on the divided region 811.

한편, 도 9b에 나타내는 바와 같이, 띠묘화 시간이 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는, 즉, (n·B≤T)인 경우에는(단계 S123), 상기와는 다른 지연 시간(W)이 구해진다. 구체적으로는, 우선, 띠묘화 시간에 ((n-1)/n)을 곱한 값(시간)이 구해진다. 바꿔 말하면, (n-1)개의 분할 영역(811)에 대한 묘화 시간의 합((n-1)·B)이 구해진다. 그리고, 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간에서, (n-1)개의 분할 영역(811)에 대한 묘화 시간의 합을 뺌으로써 얻어지는 시간, 즉, (T-(n-1)·B)가, 지연 시간(W)으로서 결정된다(단계 S125).On the other hand, as shown in Fig. 9B, when the band writing time is equal to or less than the longest band writing data preparation time, i.e., (n.B≤T) (step S123), the delay time W different from the above This is saved. Specifically, first, a value (time) obtained by multiplying the band writing time by ((n-1) / n) is obtained. In other words, the sum ((n-1) · B) of the drawing time for (n-1) divided regions 811 is obtained. Then, in the longest band writing data preparation time, the time obtained by subtracting the writing time for (n-1) divided regions 811, that is, (T- (n-1) · B) is delayed. It is determined as time W (step S125).

여기서, 띠묘화 시간이 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간 미만인, 즉, 분할 영역 묘화 시간이, 1개의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간보다 짧은 경우에, 도 9a의 예와 마찬가지로, 만일 지연 시간(W)을 (T/n)에 의해 구하면, 최초의 분할 영역(811)을 제외한, 각 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때에, 당해 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 미완료가 된다. 이 경우, 스테이지(41)의 연속 이동을 정지하여, 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송을 기다릴 필요가 생기고, 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화를 적절히 행할 수 없다. Here, when the band writing time is less than the longest band writing data preparation time, that is, the partition writing time is shorter than the time required for generating and transmitting the partition writing data corresponding to one partition 811, As in the example of Fig. 9A, if the delay time W is determined by (T / n), when starting to draw a pattern for each divided region 811, except for the first divided region 811, the corresponding Generation and transmission of segmentation drawing data corresponding to the segmentation area 811 are incomplete. In this case, it is necessary to stop the continuous movement of the stage 41 and wait for the generation and transmission of the divided drawing data, and it is not possible to appropriately draw a pattern for the band region 81.

실제로는, 도 5의 단계 S16에 있어서, 상기 단계 S125에서 결정되는 지연 시간(W)을 이용함으로써, 단계 S17에 있어서, 띠영역(81)에 있어서의 최후의 분할 영역(811)에 대한 묘화 개시 시각이, 복수의 (모든) 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 된다. 따라서, 최후의 분할 영역(811)에 대해서, 패턴의 묘화가 적절히 행해진다. 또, 분할 영역 묘화 시간이, 1개의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간 이하(B≤(T/n))이기 때문에, 최후의 분할 영역(811)을 제외한, 각 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때에도, 당해 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 완료되어 있다. 따라서, 띠영역(81)에 포함되는 모든 분할 영역(811)에 대한 패턴의 묘화가 스테이지(41)의 연속 이동을 정지하지 않고 적절히 행해진다. 또한, 복수의 기판(9)에 대해서 같은 전체 패턴이 묘화되는 경우에는, 당해 복수의 기판(9)에 대한 도 5의 처리에 있어서, 같은 지연 시간이 이용되어도 된다.Actually, in step S16 of Fig. 5, by using the delay time W determined in step S125, in step S17, drawing of the last divided region 811 in the band region 81 is started. The time is the completion time of generation and transmission of a plurality of (all) divided drawing data. Therefore, the pattern is appropriately drawn on the last divided region 811. In addition, since the segmentation area drawing time is less than or equal to the time required for generation and transmission of segmentation drawing data corresponding to one segmentation area 811 (B≤ (T / n)), the last segmentation area 811 Even when drawing of the pattern for each divided region 811 is started, generation and transmission of divided drawing data corresponding to the divided region 811 are completed. Therefore, drawing of the pattern for all the divided regions 811 included in the band region 81 is appropriately performed without stopping the continuous movement of the stage 41. Moreover, when the same whole pattern is drawn with respect to the some board | substrate 9, the same delay time may be used in the process of FIG. 5 about the said several board | substrate 9.

도 10은, 비교예의 처리를 설명하기 위한 도면이며, 기판(9)의 주면(91) 상의 복수의 띠영역(81)을 나타내고 있다. 비교예의 처리에서는, 각 띠영역(81)에 있어서 복수의 분할 영역(811)이 설정되지 않고, 도 5의 단계 S12에 있어서의 지연 시간의 결정도 행해지지 않는다. 따라서, 도 9a 및 도 9b에서 파선의 화살표로 나타내는 바와 같이, 단계 S15에 있어서 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 완료된 후(실제로는, 각 묘화 헤드(3)에 대한 띠영역(81) 전체의 묘화 데이터를 묘화 데이터 메모리(61)에 기억한 후), 단계 S17에 있어서 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화가 개시된다. 따라서, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때까지의 대기 시간이 길어진다.10 is a diagram for explaining the processing of the comparative example, and shows a plurality of band regions 81 on the main surface 91 of the substrate 9. In the processing of the comparative example, a plurality of divided regions 811 are not set in each band region 81, and the determination of the delay time in step S12 in Fig. 5 is also not made. Therefore, as shown by the broken-line arrows in FIGS. 9A and 9B, after the generation and transmission of the plurality of divided drawing data are completed in step S15 (actually, the entire band region 81 for each drawing head 3) After storing the drawing data of (in the drawing data memory 61), in step S17, drawing of the pattern for the band region 81 is started. Therefore, the waiting time from the start of generation of the plurality of divided drawing data to the start of drawing a pattern for the band region 81 becomes long.

이에 대해, 묘화 장치(1)에서는, 띠묘화 시간이 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우에, 지연 시간이, 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간으로서 결정된다. 또, 띠묘화 시간이 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에, 지연 시간이, 띠영역(81)에 있어서의 최후의 분할 영역(811)에 대한 묘화 개시 시각이 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 시간으로서 결정된다. 이로 인해, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때까지의 대기 시간을 짧게 하여, 묘화 장치(1)에 있어서의 스루풋을 향상할 수 있다.On the other hand, in the drawing device 1, when the band drawing time becomes longer than the band drawing data preparation time, the delay time is required for generation and transmission of the segmentation drawing data corresponding to the first division area 811. It is decided as time. In addition, when the band writing time is equal to or less than the band writing data preparation time, the delay time is the generation of the plurality of divided drawing data when the drawing start time for the last divided area 811 in the band region 81 is generated. It is determined as the time at which the transmission is completed. For this reason, the waiting time from the start of generation of a plurality of divided drawing data to the start of drawing a pattern for the band region 81 can be shortened, and the throughput in the drawing device 1 can be improved.

묘화 장치(1)에서는, 런 렝스 데이터인 전체 패턴 데이터에 있어서, 띠영역(81)을 나타내는 부분에 포함되는 변화점의 개수가 구해진다. 이로 인해, 상기 변화점의 개수에 의거하여 띠묘화 데이터 준비 시간을 용이하게 취득하는 것이 가능해진다. 또, 복수의 묘화 헤드(3)에 대한 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간 중, 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간을 이용하여 지연 시간이 결정됨으로써, 복수의 묘화 헤드(3)를 갖는 묘화 장치(1)에 있어서, 지연 시간을 적절히 결정할 수 있다. 또한, 기판(9) 상의 얼라이먼트 마크(911)의 위치에 의거하여 패턴을 보정하면서, 복수의 분할 묘화 데이터를 생성함으로써, 각 기판(9)의 변형에 맞추어 패턴을 적절히 묘화할 수 있다.In the drawing device 1, the number of change points included in the portion representing the band region 81 is obtained in all the pattern data that is run length data. For this reason, it becomes possible to easily acquire the time to prepare the band writing data based on the number of the above-mentioned change points. Moreover, among the plurality of band writing data preparation times for the plurality of drawing heads 3, the delay time is determined using the longest band writing data preparation time, so that the drawing device 1 having a plurality of drawing heads 3 In, the delay time can be appropriately determined. Further, by correcting the pattern based on the position of the alignment mark 911 on the substrate 9, by generating a plurality of divided drawing data, the pattern can be appropriately drawn in accordance with the deformation of each substrate 9.

다음에, 띠묘화 데이터 준비 시간을 취득하는 다른 처리예에 대해 설명한다. 당해 다른 처리예에 관련된 묘화 장치(1)에서는, 복수의 기판(9)에 대해서, 같은 전체 패턴 데이터를 이용하여 패턴이 묘화되는 것이 전제가 된다. 예를 들면, 최초의 기판(9)에 대한 도 5의 처리에서는, 지연 시간이 설정되지 않고(즉, 단계 S12가 스킵되고), 단계 S15에 있어서 모든 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송이 완료된 후, 단계 S17에 있어서 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화가 개시된다. 바꿔 말하면, 모든 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이 지연 시간으로서 취급된다. 또, 상기 단계 S15에서는, 전체 제어부(211)에 의해, 각 띠영역(81)에 대한 모든 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 한 시간이 계측되고, 띠묘화 데이터 준비 시간으로서 취득된다.Next, another example of processing for obtaining the band writing data preparation time will be described. In the drawing device 1 according to the other processing example, it is premised that a pattern is drawn on a plurality of substrates 9 using the same overall pattern data. For example, in the process of Fig. 5 for the first substrate 9, after the delay time is not set (i.e., step S12 is skipped), and in step S15, generation and transfer of all the segmentation drawing data is completed, In step S17, drawing of the pattern with respect to the band region 81 is started. In other words, the time required for generation and transmission of all the segmentation drawing data is treated as a delay time. In addition, in the above step S15, the time required for generation and transmission of all the segmented drawing data for each band region 81 is measured by the entire control unit 211, and is acquired as the band drawing data preparation time.

계속해서, 다음의 기판(9)(2번째의 기판(9))에 대한 도 5의 처리에서는, 단계 S12에 있어서, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간을 이용하여 지연 시간이 결정된다. 단계 S13~S17의 처리는 상기 처리예와 같다. 띠묘화 데이터 준비 시간이 계측되는 기판(9)은, 당해 띠묘화 데이터 준비 시간을 이용하여 지연 시간이 결정되는 기판(9)(현재의 처리 대상의 기판(9))보다 전에 처리되는 것이면, 최초로 처리되는 기판(9)으로는 한정되지 않는다.Subsequently, in the processing of FIG. 5 for the next substrate 9 (the second substrate 9), in step S12, the delay time is determined using the band writing data preparation time. The processing of steps S13 to S17 is the same as the above processing example. The substrate 9 on which the band writing data preparation time is measured is the first to be processed if it is processed before the substrate 9 (the current processing target substrate 9) whose delay time is determined using the band writing data preparation time. It is not limited to the substrate 9 to be processed.

이상과 같이, 상기 다른 처리예에서는, 처리 대상의 기판(9)과 같은 패턴이 형성되는 다른 기판(9)에 대한 처리에 있어서, 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이 취득되고, 당해 시간이 당해 처리 대상의 기판(9)에 대한 띠묘화 데이터 준비 시간으로서 이용된다. 이로 인해, 띠묘화 데이터 준비 시간을 용이하게 취득할 수 있다.As described above, in the other processing example, in processing for another substrate 9 on which the same pattern as the substrate 9 to be processed is formed, the time required for generating and transmitting a plurality of divided drawing data is acquired. The time is used as the time for preparing the band writing data for the substrate 9 to be processed. For this reason, it is possible to easily obtain the time to prepare the band writing data.

상기 묘화 장치(1)에서는 여러가지 변형이 가능하다.Various modifications are possible in the drawing device 1.

묘화 장치(1)에서는, 스테이지(41)의 이동 방향으로의 연속 이동과, 이동 방향에 수직인 폭 방향으로의 간헐 이동을 복수회 반복함으로써, 묘화 가능 영역의 전체에 대한 패턴의 묘화가 행해져도 된다(이른바 멀티 패스 묘화). 도 11에 나타내는 예에서는, 스테이지(41)의 이동 방향으로의 1회의 연속 이동(조사 영역(82)의 이동 방향으로의 주사)에 있어서, 복수의 묘화 헤드(3)에 의해 서로 다른 띠영역(81)에 대해서 패턴의 묘화가 행해진다. 당해 띠영역(81)은, 이동 방향으로 복수의 분할 영역(811)으로 분할되어 있고, 당해 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화에서는, 상기 처리예와 마찬가지로, 띠묘화 시간 및 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여 결정된 지연 시간이 이용된다.In the drawing device 1, even if the pattern is drawn over the entire drawingable area by repeating the continuous movement in the moving direction of the stage 41 and the intermittent movement in the width direction perpendicular to the moving direction multiple times. It becomes (so-called multi-path drawing). In the example shown in FIG. 11, in one continuous movement in the movement direction of the stage 41 (scanning in the movement direction of the irradiation area 82), the band regions (different from each other by the plurality of drawing heads 3) 81), a pattern is drawn. The strip region 81 is divided into a plurality of divided regions 811 in the moving direction, and in drawing a pattern for the strip region 81, similar to the above processing example, strip drawing time and strip drawing data are prepared. The delay time determined based on time is used.

당해 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화 후, 묘화 헤드(3)가 스테이지(41)에 대해서 폭 방향으로 상대적으로 이동하고, 계속해서, 스테이지(41)가 이동 방향으로 연속적으로 이동함으로써, 당해 띠영역(81)에 인접하는 다른 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화가 행해진다. 당해 다른 띠영역(81)도 이동 방향으로 복수의 분할 영역(811)으로 분할되어 있고, 당해 다른 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화에서는, 띠묘화 시간 및 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여 결정된 지연 시간이 이용된다. 이와 같이, 멀티 패스 묘화를 행하는 묘화 장치(1)에 있어서도, 적절한 지연 시간을 결정함으로써 스루풋을 향상할 수 있다.After drawing the pattern with respect to the band region 81, the drawing head 3 moves relative to the stage 41 in the width direction, and subsequently, the stage 41 continuously moves in the moving direction. The pattern is drawn for the other band regions 81 adjacent to the band regions 81. The other band region 81 is also divided into a plurality of divided regions 811 in the moving direction, and in drawing a pattern for the other band region 81, it is determined based on the band drawing time and the band drawing data preparation time. Delay time is used. In this way, also in the drawing device 1 for performing multi-pass drawing, the throughput can be improved by determining an appropriate delay time.

한편, 도 3을 참조하여 설명한 원 패스 묘화에서는, 1개의 띠영역(81)에 대한 묘화 데이터의 데이터량이, 멀티 패스 묘화에 있어서의 데이터량보다 커진다. 따라서, 만일, 띠영역(81)을 복수의 분할 영역(811)으로 분할하지 않는 경우, 묘화 데이터의 생성 및 전송에 장시간을 필요로 하고, 묘화 데이터의 생성 개시부터, 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때까지의 대기 시간이 길어진다. 이러한 관점에서는, 띠영역(81)을 복수의 분할 영역(811)으로 분할함과 더불어, 띠묘화 시간 및 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여 지연 시간을 결정하는 상기 방법은, 원 패스 묘화를 행하는 묘화 장치(1)에 특히 적합하다고 말할 수 있다.On the other hand, in the one-path drawing described with reference to Fig. 3, the data amount of the drawing data for one band region 81 is larger than the data amount in the multi-path drawing. Accordingly, if the strip region 81 is not divided into a plurality of divided regions 811, it takes a long time to generate and transmit drawing data, and from the start of generation of the drawing data, the strip region 81 is The waiting time before starting to draw a pattern becomes long. From this viewpoint, the above-described method of dividing the band region 81 into a plurality of divided regions 811 and determining the delay time based on the band writing time and the band writing data preparation time is achieved by performing one-pass drawing. It can be said that it is particularly suitable for the device 1.

묘화 장치(1)에서는, 띠영역(81)에 있어서, 이동 방향에 있어서의 복수의 분할 영역(811)의 길이가 서로 달라도 된다. 이 경우에서도, 도 8의 단계 S124에서는, 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간으로서 지연 시간이 결정된다. 또, 단계 S125에서는, 띠영역(81)에 있어서의 최후의 분할 영역(811)에 대한 묘화 개시 시각이, 복수의 (모든) 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 시간으로서 지연 시간이 결정된다. 이로 인해, 묘화 장치(1)에 있어서의 스루풋을 향상할 수 있다.In the drawing device 1, in the band region 81, the lengths of the plurality of divided regions 811 in the moving direction may be different from each other. Even in this case, in step S124 of Fig. 8, the delay time is determined as the time required for generation and transmission of the segmentation drawing data corresponding to the first segmentation area 811. Moreover, in step S125, the drawing start time for the last divided region 811 in the band region 81 is a time at which completion of generation and transmission of a plurality of (all) divided drawing data is delayed. Is decided. For this reason, the throughput in the drawing device 1 can be improved.

또, 상기 단계 S124, S125의 처리에 의해 취득되는 시간보다 약간 긴 시간이 지연 시간으로서 결정되어도 된다. 즉, 띠묘화 시간이 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우, 지연 시간은, 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간 이상, 또한, 당해 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하면 된다. 또, 띠묘화 시간이 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우, 지연 시간은, 띠영역(81)에 있어서의 최후의 분할 영역(811)에 대한 묘화 개시 시각이 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 시간 이상, 또한, 당해 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이면 된다. 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화를 개시할 때까지의 대기 시간을 짧게 한다는 관점에서는, 상기 추가 시간은, 예를 들면 1개의 분할 영역(811)에 대한 묘화에 필요로 하는 시간이며, 바람직하게는, 당해 시간의 절반이다.Moreover, a time slightly longer than the time acquired by the processing in steps S124 and S125 may be determined as the delay time. That is, when the band writing time is longer than the band writing data preparation time, the delay time is equal to or longer than the time required for the generation and transmission of the partition drawing data corresponding to the first partition area 811, and is also determined at the time. It is less than the time added to the additional time. When the band writing time is equal to or less than the band writing data preparation time, the delay time is the generation and transmission of a plurality of pieces of segmented drawing data in which the drawing start time for the last divided area 811 in the band region 81 is generated. It should just be more than the time which becomes the completion time of and the time which added the predetermined additional time to the said time. From the viewpoint of shortening the waiting time from the start of generation of the plurality of divided drawing data to the start of drawing the pattern for the band region 81, the additional time is, for example, to one divided region 811. It is the time required for drawing, preferably, half of the time.

띠영역(81)에 있어서의 복수의 분할 영역(811)의 개수는, 2 이상의 임의의 개수로 결정되어도 된다. 단, 상기 실시의 형태에 있어서의 전체 패턴 데이터는, 이동 방향에 대응하는 방향으로 늘어서는 화소의 값을 순서대로 나타내기 때문에, 분할 영역(811)의 개수가 과도하게 많아지면, 복수의 분할 묘화 데이터를 생성하는 처리가 번잡해진다. 이러한 관점에서는, 복수의 분할 영역(811)의 개수는, 예를 들면 20개 이하이며, 바람직하게는 10개 이하이다.The number of the plurality of divided regions 811 in the band region 81 may be determined by an arbitrary number of 2 or more. However, since the entire pattern data in the above-described embodiment sequentially displays the values of the pixels lined up in the direction corresponding to the moving direction, if the number of divided regions 811 is excessively large, a plurality of divided drawing The process of generating data becomes complicated. From this viewpoint, the number of the plurality of divided regions 811 is, for example, 20 or less, and preferably 10 or less.

벡터 데이터인 전체 패턴 데이터가, 전체 패턴 데이터 기억부(222)에 기억되어도 된다. 이 경우, 묘화 데이터 생성부(221)에서는, 기판(9)의 변형에 맞추어 패턴을 보정하면서 래스터라이즈를 행하여, 래스터 데이터인 복수의 분할 묘화 데이터가 생성된다. 패턴의 보정은, 얼라이먼트 마크(911) 이외를 이용하여 행해져도 된다. 예를 들면, 촬상부(51)에 의해, 기판(9)에 형성되어 있는 비어 홀 등이 촬상되고, 당해 비어 홀 등의 위치에 맞추어 패턴을 보정하면서, 복수의 분할 묘화 데이터가 생성되어도 된다.The whole pattern data, which is vector data, may be stored in the whole pattern data storage unit 222. In this case, the drawing data generation unit 221 performs rasterization while correcting the pattern in accordance with the deformation of the substrate 9, thereby generating a plurality of divided drawing data as raster data. The pattern may be corrected using other than the alignment mark 911. For example, via holes or the like formed in the substrate 9 are imaged by the imaging unit 51, and a plurality of divided drawing data may be generated while correcting the pattern in accordance with the position of the via holes or the like.

도 5의 단계 S16에 있어서, 계측 시간이 지연 시간에 도달한 것이 전체 제어부(211)에 의해 확인되었을 때에, 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료가 추가로 확인됨으로써, 단계 S17에 있어서의 띠영역(81)에 대한 패턴의 묘화가 개시되어도 된다. 예를 들면, 최초의 분할 영역(811)에 대응하는 분할 묘화 데이터의 최후에, 당해 분할 묘화 데이터의 최후인 것을 나타내는 코드를 삽입함으로써, 전체 제어부(211)에 있어서, 최초의 분할 영역(811)의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료가 용이하게 확인 가능해진다.In step S16 of FIG. 5, when it is confirmed by the entire control unit 211 that the measurement time has reached the delay time, the completion of generation and transmission of segmentation drawing data corresponding to the first segmentation area 811 is additionally completed. By confirming, drawing of the pattern with respect to the band region 81 in step S17 may be started. For example, by inserting a code indicating the end of the divided drawing data at the end of the divided drawing data corresponding to the first divided region 811, the first divided region 811 in the entire control unit 211 is inserted. The completion of the generation and transmission of the segmentation drawing data of can be easily confirmed.

상기 실시의 형태에서는, 묘화 데이터 생성부(221)가 1개의 컴퓨터(22)에 의해 실현되지만, 예를 들면, 복수의 묘화 제어부(6)에 각각 대응하는 복수의 컴퓨터가 설치되고, 당해 복수의 컴퓨터에 의해 당해 복수의 묘화 제어부(6)에 대한 묘화 데이터가 각각 생성되어도 된다. 이 경우, 당해 복수의 컴퓨터에 의해 묘화 데이터 생성부(221)가 실현되고 있다고 파악할 수 있다.In the above-described embodiment, although the drawing data generation unit 221 is realized by one computer 22, for example, a plurality of computers respectively corresponding to the plurality of drawing control units 6 are installed, and the plurality of The computer may generate drawing data for each of the plurality of drawing control parts 6. In this case, it can be grasped that the rendering data generation unit 221 is realized by the plurality of computers.

묘화 장치(1)에서는, 묘화 헤드(3)를 이동 방향으로 이동하는 이동 기구가 설치되어도 된다. 즉, 묘화 장치(1)에서는, 스테이지(41)를 묘화 헤드(3)에 대해서 상대적으로, 또한, 이동 방향으로 연속적으로 이동하는 이동 기구가 설치된다.In the drawing device 1, a moving mechanism that moves the drawing head 3 in the moving direction may be provided. That is, in the drawing device 1, a moving mechanism that moves the stage 41 relative to the drawing head 3 and continuously in the moving direction is provided.

패턴이 묘화되는 기판(9)은, 프린트 기판 이외에, 반도체 기판이나 유리 기판 등이어도 된다.The substrate 9 on which the pattern is drawn may be a semiconductor substrate or a glass substrate, in addition to the printed substrate.

상기 실시의 형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합해도 된다. The structures in the above-described embodiment and each modification example may be appropriately combined as long as they do not contradict each other.

발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 이미 기술한 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.Although the invention has been described in detail and described, the descriptions already described are illustrative and not restrictive. Therefore, it can be said that many modifications and aspects are possible without departing from the scope of the present invention.

1: 묘화 장치 3: 묘화 헤드
6: 묘화 제어부 9: 기판
41: 스테이지 43: 스테이지 이동 기구
51: 촬상부 81: 띠영역
212: 지연 시간 결정부 221: 묘화 데이터 생성부
222: 전체 패턴 데이터 기억부 811: 분할 영역
911: 얼라이먼트 마크 S11~S17, S121~S125: 단계1: Drawing device 3: Drawing head
6: Drawing control part 9: Substrate
41: stage 43: stage movement mechanism
51: imaging unit 81: band area
212: delay time determination unit 221: rendering data generation unit
222: whole pattern data storage section 811: divided area
911: Alignment marks S11 to S17, S121 to S125: Step

Claims (12)

기판에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서,
기판을 유지하는 스테이지와,
상기 스테이지 상의 기판에 변조된 광을 조사하는 묘화 헤드와,
상기 스테이지를 상기 묘화 헤드에 대해서 상대적으로, 또한, 이동 방향으로 연속적으로 이동하는 이동 기구와,
상기 스테이지 상의 기판에 있어서의 묘화 가능 영역을, 상기 이동 방향에 수직인 폭 방향으로 분할함으로써, 각각이 상기 이동 방향으로 연장되는 복수의 띠영역이 설정되고, 상기 스테이지의 상기 이동 방향으로의 연속적인 상대 이동과 병행하여 상기 묘화 헤드를 제어함으로써, 하나의 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하는 묘화 제어부와,
상기 묘화 가능 영역에 묘화해야 할 전체 패턴을 나타내는 전체 패턴 데이터를 기억하는 전체 패턴 데이터 기억부와,
처리 대상의 기판을 상기 스테이지 상에 유지한 후에, 상기 처리 대상의 기판의 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 분할하여 얻어지는 복수의 분할 영역에 대해서, 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터를, 상기 전체 패턴 데이터로부터 순차적으로 생성하여 상기 묘화 제어부에 전송하는 묘화 데이터 생성부와,
상기 띠영역에 대한 묘화에 필요로 하는 띠묘화 시간과, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 상기 띠영역에 있어서의 최초의 분할 영역에 대한 묘화를 개시할 때까지의 지연 시간을 결정하는 지연 시간 결정부를 구비하고,
상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 최초의 분할 영역에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 제1 시간 이상, 또한, 상기 제1 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이며, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 띠영역에 있어서의 최후의 분할 영역에 대한 묘화 개시 시각이 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 제2 시간 이상, 또한, 상기 제2 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하인, 묘화 장치.A drawing device for drawing a pattern on a substrate,
A stage for holding the substrate,
A drawing head for irradiating modulated light onto the substrate on the stage;
A moving mechanism for continuously moving the stage relative to the drawing head and continuously in a moving direction,
By dividing the drawable area on the substrate on the stage in the width direction perpendicular to the movement direction, a plurality of band regions each extending in the movement direction is set, and the stage is continuously continuous in the movement direction. A drawing control unit for drawing a pattern for one band region by controlling the drawing head in parallel with relative movement;
An entire pattern data storage unit for storing all pattern data indicating the entire pattern to be drawn in the above-mentioned imageable area;
After the substrate to be processed is held on the stage, the plurality of divided drawing data corresponding to the plurality of divided regions obtained by dividing the band region of the substrate to be processed in the movement direction, respectively, the entire pattern A rendering data generation unit that sequentially generates data and transmits the generated data to the rendering control unit;
From the start of generation of the plurality of divided drawing data, based on the drawing time required for drawing for the strip region and the preparation time for the strip drawing data required for generating and transmitting the plurality of divided drawing data, the And a delay time determination unit for determining a delay time until drawing of the first divided area in the band region starts.
When the band writing time is longer than the band writing data preparation time, the delay time is equal to or greater than the first time required for the generation and transmission of the partition drawing data corresponding to the first partition area. When it is less than the time which added a predetermined additional time to 1 hour, and the said band drawing time becomes shorter than the said band drawing data preparation time, the said delay time is the start time of drawing | writing to the last division area in the said band | region. A drawing device that is equal to or greater than a second time at which the plurality of pieces of segmented drawing data are generated and transmitted, and is less than or equal to the second time plus a predetermined additional time. 청구항 1에 있어서,
상기 복수의 분할 영역이, 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 등분할하여 얻어지고,
상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에 있어서의 상기 제2 시간이, 상기 띠영역에 있어서의 상기 복수의 분할 영역의 개수를 n으로 하고, 상기 띠묘화 시간에 ((n-1)/n)을 곱하여 얻은 값을, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간에서 뺌으로써 얻어지는 시간인, 묘화 장치.The method according to claim 1,
The plurality of divided regions are obtained by equally dividing the band region in the moving direction,
In the case where the band writing time is equal to or less than the band writing data preparation time, the number of the plurality of divided regions in the band region is n, and the band drawing time is ((n -1) / n) is a time obtained by subtracting the value obtained by multiplying the band drawing data preparation time, the writing device. 청구항 1에 있어서,
상기 스테이지 상의 기판에 형성된 얼라이먼트 마크를 촬상하여, 촬상 화상을 취득하는 촬상부를 더 구비하고,
상기 촬상부가, 상기 처리 대상의 기판의 상기 촬상 화상을 취득하고,
상기 묘화 데이터 생성부가, 상기 촬상 화상이 나타내는 상기 얼라이먼트 마크의 위치에 의거하여 패턴을 보정하면서 상기 복수의 분할 묘화 데이터를 생성하는, 묘화 장치.The method according to claim 1,
Further comprising an imaging unit for imaging an alignment mark formed on a substrate on the stage to obtain a captured image,
The imaging unit acquires the captured image of the substrate to be processed,
The drawing device, wherein the drawing data generation unit generates the plurality of divided drawing data while correcting a pattern based on the position of the alignment mark indicated by the captured image. 청구항 1에 있어서,
상기 묘화 헤드를 포함하는 복수의 묘화 헤드를 구비하고,
상기 복수의 묘화 헤드가 서로 다른 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하고,
상기 묘화 데이터 생성부가, 상기 복수의 묘화 헤드의 각각에 대해서 상기 복수의 분할 묘화 데이터를 생성하고,
상기 지연 시간 결정부가, 상기 복수의 묘화 헤드에 대한 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간 중, 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간을 이용하여 상기 지연 시간을 결정하는, 묘화 장치.The method according to claim 1,
And a plurality of drawing heads including the drawing heads,
The patterning is performed on the band regions in which the plurality of drawing heads are different,
The drawing data generation unit generates the plurality of divided drawing data for each of the plurality of drawing heads,
The delay time determining unit determines the delay time using the longest band writing data preparation time among the plurality of band writing data preparation times for the plurality of writing heads. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전체 패턴 데이터가 런 렝스 데이터이며,
상기 전체 패턴 데이터에 있어서 상기 띠영역을 나타내는 부분에 포함되는 변화점의 개수에 의거하여, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간이 취득되는, 묘화 장치.The method according to any one of claims 1 to 4,
The entire pattern data is run length data,
Based on the number of change points included in the portion representing the band region in the entire pattern data, the drawing device is prepared for the band drawing data preparation time. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 처리 대상의 기판과 같은 패턴이 형성되는 다른 기판에 대한 처리에 있어서, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이 취득되고, 상기 시간이 상기 처리 대상의 기판에 대한 상기 띠묘화 데이터 준비 시간으로서 이용되는, 묘화 장치.The method according to any one of claims 1 to 4,
In processing for another substrate on which the same pattern as the substrate to be processed is formed, time required for generation and transmission of the plurality of divided drawing data is acquired, and the time is the band for the substrate to be processed A rendering device used as a rendering data preparation time. 묘화 장치에 있어서의 묘화 방법으로서,
상기 묘화 장치가,
기판을 유지하는 스테이지와,
상기 스테이지 상의 기판에 변조된 광을 조사하는 묘화 헤드와,
상기 스테이지를 상기 묘화 헤드에 대해서 상대적으로, 또한, 이동 방향으로 연속적으로 이동하는 이동 기구와,
상기 스테이지 상의 기판에 있어서의 묘화 가능 영역을, 상기 이동 방향에 수직인 폭 방향으로 분할함으로써, 각각이 상기 이동 방향으로 연장되는 복수의 띠영역이 설정되고, 상기 스테이지의 상기 이동 방향으로의 연속적인 상대 이동과 병행하여 상기 묘화 헤드를 제어함으로써, 하나의 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하는 묘화 제어부를 구비하고,
상기 묘화 방법이,
a) 상기 묘화 가능 영역에 묘화해야 할 전체 패턴을 나타내는 전체 패턴 데이터를 준비하는 공정과,
b) 처리 대상의 기판을 상기 스테이지 상에 유지하는 공정과,
c) 상기 처리 대상의 기판의 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 분할하여 얻어지는 복수의 분할 영역에 대해서, 각각 대응하는 복수의 분할 묘화 데이터를, 상기 전체 패턴 데이터로부터 순차적으로 생성하여 상기 묘화 제어부에 전송하는 공정과,
d) 상기 띠영역에 대한 묘화에 필요로 하는 띠묘화 시간과, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 띠묘화 데이터 준비 시간에 의거하여, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 개시부터, 상기 띠영역에 있어서의 최초의 분할 영역에 대한 묘화를 개시할 때까지의 지연 시간을 결정하는 공정과,
e) 상기 복수의 분할 묘화 데이터에 의거하여, 상기 처리 대상의 기판의 상기 띠영역에 패턴을 묘화하는 공정을 구비하고,
상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간보다 길어지는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 최초의 분할 영역에 대응하는 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 제1 시간 이상, 또한, 상기 제1 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하이며, 상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에, 상기 지연 시간이, 상기 띠영역에 있어서의 최후의 분할 영역에 대한 묘화 개시 시각이 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송의 완료 시각이 되는 제2 시간 이상, 또한, 상기 제2 시간에 소정의 추가 시간을 더한 시간 이하인, 묘화 방법.As a drawing method in the drawing device,
The drawing device,
A stage for holding the substrate,
A drawing head for irradiating modulated light onto the substrate on the stage;
A moving mechanism for continuously moving the stage relative to the drawing head and continuously in a moving direction,
By dividing the drawable area on the substrate on the stage in the width direction perpendicular to the movement direction, a plurality of band regions each extending in the movement direction is set, and the stage is continuously continuous in the movement direction. A drawing control unit is provided for drawing a pattern for one band region by controlling the drawing head in parallel with relative movement.
The drawing method,
a) preparing the entire pattern data representing the entire pattern to be drawn in the imageable area, and
b) a step of holding the substrate to be treated on the stage,
c) For a plurality of divided regions obtained by dividing the band region of the substrate to be processed in the movement direction, a plurality of divided drawing data corresponding to each is sequentially generated from the entire pattern data and transmitted to the drawing control unit The process to do,
d) From the start of generation of the plurality of divided drawing data, based on the drawing time required for writing to the strip region and the preparation time of the stripping data required for generating and transmitting the plurality of divided drawing data. , A step of determining a delay time until drawing of the first divided region in the band region starts.
e) a step of drawing a pattern in the band region of the substrate to be processed based on the plurality of divided drawing data,
When the band writing time is longer than the band writing data preparation time, the delay time is equal to or greater than the first time required for generation and transmission of the partition drawing data corresponding to the first partition area, and the second When it is less than the time which added a predetermined additional time to 1 hour, and when the said band drawing time becomes less than the said band drawing data preparation time, the said delay time is the start time of drawing | writing to the last division area in the said band | region. A drawing method that is equal to or greater than a second time at which the plurality of pieces of segmented drawing data are generated and transmitted, and is less than or equal to the second time plus a predetermined additional time. 청구항 7에 있어서,
상기 복수의 분할 영역이, 상기 띠영역을 상기 이동 방향으로 등분할하여 얻어지고,
상기 띠묘화 시간이 상기 띠묘화 데이터 준비 시간 이하가 되는 경우에 있어서의 상기 제2 시간이, 상기 띠영역에 있어서의 상기 복수의 분할 영역의 개수를 n으로 하고, 상기 띠묘화 시간에 ((n-1)/n)을 곱하여 얻은 값을, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간에서 뺌으로써 얻어지는 시간인, 묘화 방법.The method according to claim 7,
The plurality of divided regions are obtained by equally dividing the band region in the moving direction,
In the case where the band writing time is equal to or less than the band writing data preparation time, the number of the plurality of divided regions in the band region is n, and the band drawing time is ((n -1) / n) is a time obtained by subtracting the value obtained by multiplying the band drawing data preparation time, wherein the drawing method. 청구항 7에 있어서,
상기 묘화 장치가, 상기 스테이지 상의 기판에 형성된 얼라이먼트 마크를 촬상하여, 촬상 화상을 취득하는 촬상부를 더 구비하고,
상기 묘화 방법이, 상기 b) 공정과 상기 c) 공정 사이에, 상기 촬상부에 의해 상기 처리 대상의 기판의 상기 촬상 화상을 취득하는 공정을 더 구비하고,
상기 c) 공정에 있어서, 상기 촬상 화상이 나타내는 상기 얼라이먼트 마크의 위치에 의거하여 패턴을 보정하면서 상기 복수의 분할 묘화 데이터가 생성되는, 묘화 방법.The method according to claim 7,
The imaging device further includes an imaging unit that captures an alignment mark formed on a substrate on the stage to obtain a captured image,
The drawing method further includes a step of acquiring the captured image of the substrate to be processed by the imaging unit between the steps b) and c),
In the step c), the plurality of divided drawing data are generated while correcting a pattern based on the position of the alignment mark indicated by the captured image. 청구항 7에 있어서,
상기 묘화 장치가, 상기 묘화 헤드를 포함하는 복수의 묘화 헤드를 구비하고,
상기 복수의 묘화 헤드가 서로 다른 띠영역에 대해서 패턴의 묘화를 행하고,
상기 c) 공정에 있어서, 상기 복수의 묘화 헤드의 각각에 대해 상기 복수의 분할 묘화 데이터가 생성되고,
상기 d) 공정에 있어서, 상기 복수의 묘화 헤드에 대한 복수의 띠묘화 데이터 준비 시간 중, 최장의 띠묘화 데이터 준비 시간을 이용하여 상기 지연 시간이 결정되는, 묘화 방법.The method according to claim 7,
The drawing device is provided with a plurality of drawing heads including the drawing head,
The patterning is performed on the band regions in which the plurality of drawing heads are different,
In the step c), the plurality of divided drawing data is generated for each of the plurality of drawing heads,
In the step d), the delay time is determined using the longest band writing data preparation time among the plurality of band writing data preparation times for the plurality of writing heads. 청구항 7 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전체 패턴 데이터가 런 렝스 데이터이며,
상기 전체 패턴 데이터에 있어서 상기 띠영역을 나타내는 부분에 포함되는 변화점의 개수에 의거하여, 상기 띠묘화 데이터 준비 시간이 취득되는, 묘화 방법.The method according to any one of claims 7 to 10,
The entire pattern data is run length data,
Based on the number of change points included in the portion representing the band region in the entire pattern data, the drawing method for obtaining the band drawing data preparation time is obtained. 청구항 7 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 처리 대상의 기판과 같은 패턴이 형성되는 다른 기판에 대한 처리에 있어서, 상기 복수의 분할 묘화 데이터의 생성 및 전송에 필요로 하는 시간이 취득되고, 상기 시간이 상기 처리 대상의 기판에 대한 상기 띠묘화 데이터 준비 시간으로서 이용되는, 묘화 방법.The method according to any one of claims 7 to 10,
In processing for another substrate on which the same pattern as the substrate to be processed is formed, time required for generation and transmission of the plurality of divided drawing data is acquired, and the time is the band for the substrate to be processed A rendering method used as a rendering data preparation time.
KR1020180100452A 2017-09-27 2018-08-27 Drawing apparatus and drawing method KR102105765B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2017-185965 2017-09-27
JP2017185965A JP6900284B2 (en) 2017-09-27 2017-09-27 Drawing device and drawing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190036465A KR20190036465A (en) 2019-04-04
KR102105765B1 true KR102105765B1 (en) 2020-04-28

Family

ID=65864661

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180100452A KR102105765B1 (en) 2017-09-27 2018-08-27 Drawing apparatus and drawing method

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6900284B2 (en)
KR (1) KR102105765B1 (en)
CN (1) CN109557770B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023032962A1 (en) * 2021-09-03 2023-03-09 サンエー技研株式会社 Direct-drawing device and method for controlling the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005166928A (en) 2003-12-02 2005-06-23 Hitachi High-Technologies Corp Electron beam lithography system
JP2005241834A (en) 2004-02-25 2005-09-08 Shinko Electric Ind Co Ltd Drawing device, drawing data generating device, drawing method, and drawing data generating method
JP2009071139A (en) 2007-09-14 2009-04-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Drawing equipment and drawing method
JP2010232035A (en) 2009-03-27 2010-10-14 Fujifilm Corp Method and apparatus for electron beam lithography, method of manufacturing mold, and method of manufacturing magnetic disk medium

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4307288B2 (en) * 2004-02-25 2009-08-05 キヤノン株式会社 Positioning device
JP2008147359A (en) * 2006-12-08 2008-06-26 Canon Inc Exposure device
US7847919B2 (en) * 2007-03-29 2010-12-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having feedthrough control system
US7994060B2 (en) * 2009-09-01 2011-08-09 International Business Machines Corporation Dual exposure track only pitch split process
US9360772B2 (en) * 2011-12-29 2016-06-07 Nikon Corporation Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method
US9589764B2 (en) * 2015-03-27 2017-03-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Electron beam lithography process with multiple columns
CN105467779A (en) * 2016-01-04 2016-04-06 京东方科技集团股份有限公司 Exposure machine and exposure method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005166928A (en) 2003-12-02 2005-06-23 Hitachi High-Technologies Corp Electron beam lithography system
JP2005241834A (en) 2004-02-25 2005-09-08 Shinko Electric Ind Co Ltd Drawing device, drawing data generating device, drawing method, and drawing data generating method
JP2009071139A (en) 2007-09-14 2009-04-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Drawing equipment and drawing method
JP2010232035A (en) 2009-03-27 2010-10-14 Fujifilm Corp Method and apparatus for electron beam lithography, method of manufacturing mold, and method of manufacturing magnetic disk medium

Also Published As

Publication number Publication date
CN109557770B (en) 2020-10-27
JP6900284B2 (en) 2021-07-07
KR20190036465A (en) 2019-04-04
CN109557770A (en) 2019-04-02
JP2019061089A (en) 2019-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4505270B2 (en) Image recording apparatus, image recording method, and program
US20080112609A1 (en) Position detecting method and device, patterning device, and subject to be detected
US8886350B2 (en) Displacement calculation method, drawing data correction method, substrate manufacturing method, and drawing apparatus
TW200817845A (en) Drawing device and drawing method
US7248333B2 (en) Apparatus with light-modulating unit for forming pattern
KR100742250B1 (en) Image recording device, image recording method, and memory medium having program memoried thereon
JP2000122303A (en) Plotting device
KR101480589B1 (en) Drawing Data Correction Apparatus and Drawing Apparatus
US20120050705A1 (en) Photolithography system
JP2010204421A (en) Drawing device, data processing device for drawing device, and method for generating drawing data for drawing device
KR102105765B1 (en) Drawing apparatus and drawing method
JP2006251160A (en) Drawing method and apparatus
CN113524927A (en) Method and system for duplex printing
JP2005157326A (en) Image recording apparatus and method
JP4020248B2 (en) Optical drawing apparatus and optical drawing method
JPH10282684A (en) Laser writing system
US8014585B2 (en) Image plotting data obtaining method and apparatus, and image plotting method and apparatus
JP3819985B2 (en) Laser drawing device
JP4919378B2 (en) Drawing point data acquisition method and apparatus, and drawing method and apparatus
JP2008203635A (en) Plotting method and plotting device
CN110249266B (en) Drawing device and drawing method
JP2007033764A (en) Pattern manufacturing system, exposure device, and exposure method
JP5336301B2 (en) Pattern drawing method, pattern drawing apparatus, and drawing data generation method
JP5357483B2 (en) Exposure apparatus and exposure method
JP4448075B2 (en) Drawing data acquisition method and apparatus, and drawing method and apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant