KR102098576B1 - Surface treated aluminum material, method for producing same, and resin-coated surface treated aluminum material - Google Patents

Surface treated aluminum material, method for producing same, and resin-coated surface treated aluminum material Download PDF

Info

Publication number
KR102098576B1
KR102098576B1 KR1020147025380A KR20147025380A KR102098576B1 KR 102098576 B1 KR102098576 B1 KR 102098576B1 KR 1020147025380 A KR1020147025380 A KR 1020147025380A KR 20147025380 A KR20147025380 A KR 20147025380A KR 102098576 B1 KR102098576 B1 KR 102098576B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
aluminum material
oxide film
aluminum
aluminum oxide
resin
Prior art date
Application number
KR1020147025380A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20140123589A (en
Inventor
신이치 하세가와
요이치 고지마
Original Assignee
가부시키가이샤 유에이씨제이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 유에이씨제이 filed Critical 가부시키가이샤 유에이씨제이
Publication of KR20140123589A publication Critical patent/KR20140123589A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102098576B1 publication Critical patent/KR102098576B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/024Anodisation under pulsed or modulated current or potential
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/06Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

[과제] 알루미늄재 전체 면에 걸쳐서 접착성 및 밀착성이 우수한 표면처리 알루미늄재 및 그 제조방법을 제공한다.
[해결수단] 적어도 한쪽 표면에 산화 피막이 형성된 알루미늄재로서, 상기 산화 피막은 표면측에 형성된 두께 20~500㎚의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 소지 측에 형성된 두께 3~30㎚의 배리어형 알루미늄 산화 피막층으로 이루어지고, 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층에는 지름 5~30㎚의 작은 구멍이 형성되어 있으며, 상기 알루미늄재 표면 전체에서의 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층과의 합계 두께의 변동폭이, 상기 합계 두께의 산술 평균치의 ±50% 이내인 것을 특징으로 하는 표면처리 알루미늄재 및 그 제조방법.
[Problem] A surface-treated aluminum material having excellent adhesion and adhesion over the entire surface of an aluminum material and a method of manufacturing the same are provided.
[Solutions] As an aluminum material having an oxide film formed on at least one surface, the oxide film is a porous aluminum oxide film layer having a thickness of 20 to 500 nm formed on the surface side and a barrier aluminum oxide film layer having a thickness of 3 to 30 nm formed on the substrate side. Made, a small hole with a diameter of 5 to 30 nm is formed in the porous aluminum oxide layer, and the variation width of the total thickness of the porous aluminum oxide layer and the barrier aluminum oxide layer on the entire surface of the aluminum material is the total. A surface-treated aluminum material characterized in that it is within ± 50% of the arithmetic mean of the thickness, and a method for manufacturing the same.

Description

표면처리 알루미늄재 및 그 제조방법과 수지 피복 표면처리 알루미늄재{SURFACE TREATED ALUMINUM MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND RESIN-COATED SURFACE TREATED ALUMINUM MATERIAL}SURFACE TREATED ALUMINUM MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND RESIN-COATED SURFACE TREATED ALUMINUM MATERIAL}

본 발명은, 표면처리를 실시한 알루미늄재 및 그 제조방법과 수지 피복 표면처리 알루미늄재에 관한 것이며, 상세하게는, 표면에 알루미늄 산화 피막을 가지는 접착성 및 밀착성이 우수한 표면처리 알루미늄재와 이것을 안정하게 제조하는 방법 및 표면처리 알루미늄재를 이용한 수지 피복 표면처리 알루미늄재에 관한 것이다.The present invention relates to an aluminum material subjected to surface treatment, a method for manufacturing the same, and a resin-coated surface-treated aluminum material. Specifically, the surface-treated aluminum material having an aluminum oxide film on the surface and excellent adhesion and stability thereof It relates to a method of manufacturing and a resin-coated surface-treated aluminum material using a surface-treated aluminum material.

순알루미늄재 또는 알루미늄 합금재(이하, 「알루미늄재」라고 기재한다)는, 경량으로 적당한 기계적 특성을 가지고, 또, 미감, 성형 가공성, 내식성 등이 우수한 특징을 가지고 있기 때문에, 각종 용기류, 구조재, 기계 부품 등에 널리 사용되고 있다. 이들 알루미늄재는, 그대로 이용되기도 하는 한편, 각종 표면처리를 실시함으로써, 내식성, 내마모성, 수지 밀착성, 친수성, 발수성, 항균성, 의장성, 적외방사성, 고반사성 등의 기능을 부가 및 향상시켜 사용되는 것도 많다.Pure aluminum materials or aluminum alloy materials (hereinafter referred to as "aluminum materials") are lightweight, have suitable mechanical properties, and have excellent characteristics such as aesthetics, moldability, corrosion resistance, and the like. It is widely used in machine parts and so on. While these aluminum materials are used as they are, they are often used by adding and improving functions such as corrosion resistance, abrasion resistance, resin adhesion, hydrophilicity, water repellency, antibacterial properties, design properties, infrared radiation properties, and high reflection properties by performing various surface treatments. .

예를 들면, 내식성 및 내마모성을 향상시키는 표면처리법으로서, 양극 산화 처리(이른바 알루마이트(Alumite) 처리)가 널리 이용되고 있다. 구체적으로는, 비특허문헌 1, 2에 기재되어 있는 바와 같이, 알루미늄재를 산성의 전해액에 침지하여 직류 전류에 의해 전해 처리를 행함으로써, 알루미늄재 표면에 두께 수~수십 ㎛의 양극 산화 피막을 형성시키는 것으로, 용도에 따라 여러 가지의 처리방법이 제안되어 있다.For example, an anodizing treatment (so-called alumite treatment) is widely used as a surface treatment method for improving corrosion resistance and abrasion resistance. Specifically, as described in Non-Patent Documents 1 and 2, the aluminum material is immersed in an acidic electrolytic solution and subjected to electrolytic treatment with a direct current to form an anodized film having a thickness of several tens to several tens of µm on the surface of the aluminum material. As the formation, various treatment methods have been proposed depending on the application.

또, 특히 수지 밀착성을 향상시키는 표면처리법으로서, 특허문헌 1과 같은 알칼리 교류 전해법이 제안되어 있다. 즉, 욕(浴) 온도 40~90℃의 알칼리성 용액을 이용하여, 전류 밀도 4~50A/d㎡에서 전기량이 80C/d㎡를 초과하는 시간, 교류 전해 처리를 행하는 것이다. 이것에 의해, 막 두께 500~5000 옴스트롬의 산화 피막이 형성된 캔 덮개용 알루미늄 합금 도장용 판을 얻는다고 하고 있다.Moreover, the alkali alternating current electrolysis method like patent document 1 is proposed as the surface treatment method which improves resin adhesiveness especially. That is, by using an alkaline solution having a bath temperature of 40 to 90 ° C, an alternating current electrolytic treatment is performed at a current density of 4 to 50 A / dm2 for a time when the amount of electricity exceeds 80 C / dm2. By this, it is said that an aluminum alloy coating plate for a can lid having an oxide film having a thickness of 500 to 5000 angstroms is obtained.

그렇지만, 특허문헌 1의 기술을 이용하고, 동일한 전해 조건으로 처리를 행한 경우라도, 전해 처리의 타이밍에 따라서는 밀착성이 지극히 낮은 것으로 되는 경우가 있었다. 구체적으로는, 알루미늄재 표면의 일부가 색조의 변화를 나타내고(다갈색 또는 백탁색이 많다), 해당 부분의 밀착성이 지극히 낮아진다고 하는 것이었다.However, even when the technique of Patent Document 1 was used and the treatment was performed under the same electrolytic conditions, there were cases where the adhesion was extremely low depending on the timing of the electrolytic treatment. Specifically, it was said that a part of the surface of the aluminum material exhibited a change in color tone (many of dark brown or cloudy white), and the adhesion of the part was extremely low.

일본 공개특허공보 평성 3-229895호Japanese Patent Application Publication No. Hei 3-229895

알루미늄 핸드북 제 7판, 179~190페이지, 2007년, 일반 사단법인 일본 알루미늄 협회Aluminum Handbook, 7th edition, pages 179-190, 2007, Japan Aluminum Association 일본공업규격 JIS H8601, 「알루미늄 및 알루미늄 합금의 양극 산화 피막」(1999)Japanese Industrial Standard JIS H8601, 「Anodized film of aluminum and aluminum alloy」 (1999)

본 발명은, 알루미늄재의 전체 면에 걸쳐서 접착성 및 밀착성이 우수한 표면처리 알루미늄재 및 이러한 표면처리 알루미늄재의 안정된 제조방법과, 표면처리 알루미늄재를 이용한 수지 피복 표면처리 알루미늄재의 제공을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a surface-treated aluminum material excellent in adhesiveness and adhesion over the entire surface of the aluminum material, a stable method for manufacturing such a surface-treated aluminum material, and a resin-coated surface-treated aluminum material using the surface-treated aluminum material.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 검토를 거듭한 결과, 접착성이나 밀착성의 저하는, 알루미늄재 표면 전체에 있어서의 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층과의 합계 두께의 변동폭을 적정화하는 것, 알루미늄재 표면 전체에 있어서의 산화 피막의 형성 불균일이 원인인 것, 또, 그것을 방지하기 위해서는, 알칼리 교류 전해 처리에 이용하는 전해 처리액에 함유되는 용존 알루미늄 농도를 제어하는 것이 유효한 것을 찾아냈다.As a result of repeated examinations to solve the above problems, the present inventors have optimized the fluctuation range of the total thickness of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier aluminum oxide coating layer on the entire surface of the aluminum material. It was found that it was effective to control the concentration of dissolved aluminum contained in the electrolytic treatment liquid used in the alkaline alternating current electrolytic treatment in order to prevent the occurrence of unevenness in the formation of the oxide film on the entire surface of the aluminum material. .

즉, 본 발명은, 제 1의 측면에서, 적어도 한쪽 표면에 산화 피막이 형성된 알루미늄재로서, 상기 산화 피막은 표면측에 형성된 두께 20~500㎚의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 소지(素地) 측에 형성된 두께 3~30㎚의 배리어형 알루미늄 산화 피막층으로 이루어지고, 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층에는 지름 5~30㎚의 작은 구멍이 형성되어 있으며, 상기 알루미늄재 표면 전체에 있어서의 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층과의 합계 두께의 변동폭이, 상기 합계 두께의 산술 평균치의 ±50% 이내인 것을 특징으로 하는 표면처리 알루미늄재로 했다.That is, in the first aspect, the present invention is an aluminum material having an oxide film formed on at least one surface, wherein the oxide film has a thickness of 20 to 500 nm formed on the surface side and a thickness of the porous aluminum oxide film layer and the substrate side. It is made of a barrier aluminum oxide film layer of 3 to 30 nm, and a small hole having a diameter of 5 to 30 nm is formed in the porous aluminum oxide film layer, and the porous aluminum oxide film layer and the barrier aluminum on the entire surface of the aluminum material The surface-treated aluminum material was characterized in that the fluctuation width of the total thickness with the oxide film layer was within ± 50% of the arithmetic mean value of the total thickness.

본 발명은, 제 1의 측면에서, 또한, 상기 표면처리 알루미늄재를 산화 피막측이 볼록하게 되도록 5R로 180도 굽혔을 때에, 알루미늄 소지의 노출률이 5% 이하인 것으로 했다.In the first aspect of the present invention, when the surface-treated aluminum material was bent 180 degrees with 5R so that the oxide film side was convex, it was assumed that the aluminum substrate had an exposure rate of 5% or less.

또, 본 발명의 제 2의 측면은, 제 1의 측면에서의 표면처리 알루미늄재의 제조방법으로서, 표면처리되는 알루미늄재의 전극과, 대(對)전극을 이용하고, pH9~13으로 액체의 온도 35~80℃이며, 또, 용존 알루미늄 농도가 5ppm 이상 1000ppm 이하인 알칼리성 수용액을 전해 용액으로 하고, 주파수 20~100Hz, 전류 밀도 4~50A/d㎡ 및 전해 시간 5~60초 사이의 조건으로 교류 전해 처리함으로써, 대전극에 대향하는 상기 알루미늄재 표면에 산화 피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 표면처리 알루미늄재의 제조방법으로 했다.In addition, the second aspect of the present invention is a method of manufacturing a surface-treated aluminum material in the first aspect, using an electrode of a surface-treated aluminum material and a counter electrode, and the temperature of the liquid at pH 9-13. Alkaline aqueous solution having a dissolved aluminum concentration of 5ppm or more and 1000ppm or less as an electrolytic solution at 80 ° C, and an alternating current electrolytic treatment under conditions of a frequency of 20 to 100Hz, a current density of 4 to 50A / d㎡ and an electrolysis time of 5 to 60 seconds By doing so, an oxide film was formed on the surface of the aluminum material facing the counter electrode to produce a surface-treated aluminum material manufacturing method.

본 발명은, 제 2의 측면에서, 대전극을 흑연 전극으로 하는 것으로 했다. In the second aspect of the present invention, it is assumed that the counter electrode is a graphite electrode.

또한 본 발명은, 제 2의 측면에서, 상기 표면처리되는 알루미늄재의 전극과, 대전극이 모두 평판 형상인 것으로 했다.Further, in the second aspect of the present invention, it is assumed that both the electrode and the counter electrode of the aluminum material to be surface-treated are flat.

또한, 본 발명은 청구항 6에 있어서, 청구항 1 또는 2에 기재된 표면처리 알루미늄재의 산화 피막의 표면에 수지층을 피복한 것을 특징으로 하는 수지 피복 표면처리 알루미늄재로 했다.Moreover, in this invention, the resin-coated surface-treated aluminum material of Claim 6 characterized by coating the surface of the oxide film of the surface-treated aluminum material of Claim 1 or 2 with a resin layer.

본 발명에 의해, 알루미늄재의 표면에 수지 등에 대해 고접착성이며 고밀착성의 산화 피막이 균일하게 형성되기 때문에, 알루미늄재 전체 면에 걸쳐서 접착성 및 밀착성이 우수한 표면처리 알루미늄재를 안정되게 얻을 수 있다.According to the present invention, since an oxide film having high adhesion and high adhesion to a resin or the like is uniformly formed on the surface of the aluminum material, it is possible to stably obtain a surface-treated aluminum material having excellent adhesion and adhesion over the entire surface of the aluminum material.

구체적으로는, 알루미늄재 표면의 산화 피막을 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층과의 2층 구조로 한다. 그리고, 알루미늄재의 표면측에 형성된 20~500㎚의 두께를 가지고, 또, 지름 5~30㎚의 작은 구멍을 가지는 다공성 알루미늄 산화 피막층에 의하여, 그 자신의 응집 파괴를 억제하면서 그 표면적을 증대시킴으로써 밀착성을 향상시킨다. 또, 알루미늄의 소지 측에 형성된 3~30㎚의 두께를 가지는 배리어형 알루미늄 산화 피막층에 의하여, 그 자신의 응집 파괴를 억제하면서 알루미늄 소지와 다공성 알루미늄 산화 피막층을 결합하여 접착성 및 밀착성을 향상시킨다. 또한, 알루미늄재 표면 전체에서의 산화 피막의 합계 두께의 변동폭을, 이 합계 두께의 산술 평균치의 ±50% 이내로 함으로써, 알루미늄재 표면의 전체에 걸쳐서, 접합해야 할 수지층 등과의 우수한 접착성 및 밀착성이 발휘된다.Specifically, the oxide film on the surface of the aluminum material has a two-layer structure between a porous aluminum oxide film layer and a barrier aluminum oxide film layer. And, by the porous aluminum oxide film layer having a thickness of 20 to 500 nm formed on the surface side of the aluminum material and having a small hole with a diameter of 5 to 30 nm, adhesion is achieved by increasing its surface area while suppressing its own cohesive failure. Improves. In addition, the barrier-type aluminum oxide film layer having a thickness of 3 to 30 nm formed on the substrate side of aluminum combines the aluminum substrate and the porous aluminum oxide film layer while suppressing its own cohesive failure, thereby improving adhesion and adhesion. In addition, by setting the fluctuation range of the total thickness of the oxide film on the entire surface of the aluminum material to within ± 50% of the arithmetic average value of the total thickness, excellent adhesion and adhesion to the resin layer, etc. to be bonded over the entire surface of the aluminum material. This is exerted.

이와 같이 하여 얻어지는 알루미늄재는 그 우수한 접착성에 의해, 기존 기술에 기초하는 각종 접착제를 상기 수지층에 이용한 경우에 지극히 큰 접착 강도를 얻을 수 있다. 또, 그 우수한 밀착성에 의해, 예를 들면 기존 기술에 기초하는 각종 도료, 구체적으로는 수성도료, 용제성 도료, 분체 도료, 전착 도료 등을 상기 수지층으로서 도장할 때의 하지(下地) 처리로서 이용한 경우에 지극히 큰 도막 밀착 강도가 얻어진다.The aluminum material obtained in this way can obtain extremely high adhesive strength when various adhesives based on the existing technology are used for the resin layer due to its excellent adhesiveness. Moreover, due to its excellent adhesion, various paints based on the existing technology, specifically water-based paints, solvent-borne paints, powder paints, electrodeposition paints, etc., are used as the base treatment when coating as the resin layer. In this case, an extremely large coating film adhesion strength is obtained.

구체적으로는, 본 발명의 표면처리 알루미늄재의 산화 피막의 표면에 열가소성 수지나 열경화성 수지 등의 수지층을 구비하여 이루어지는 접합체로서의 수지 피복 표면처리 알루미늄재로 함으로써, 종래보다 늘어나서 알루미늄재로서의 여러 가지 용도로 이용할 수 있다. 예를 들면, 근래 들어 알루미늄판이 가지는 높은 열전도성에 주목한 프린트 배선 기판으로서의 용도를 들 수 있다. 즉, 근래의 전기·전자기기의 소형화, 경량화에 수반하여, 프린트 배선 기판에는 종래 이상의 다층화, 고집적화 및 고밀도화가 요구되게 되어 있다. 그리고, 종래의 절연체를 이용한 기판에서는, 고밀도로 실장된 전자 부품으로부터 발하는 열을 다 방산하지 못하여 회로의 불안정화를 초래하고 있다. 이에 대해, 열전도성이 우수한 알루미늄판을 기판으로서 채용함으로써, 기판 자신에 의한 전자 부품의 냉각이 가능하게 되고, 회로 전체의 성능을 향상시킬 수 있다.Specifically, by using a resin-coated surface-treated aluminum material as a joined body comprising a resin layer such as a thermoplastic resin or a thermosetting resin on the surface of the oxide film of the surface-treated aluminum material of the present invention, it has been extended than in the past and used for various purposes as an aluminum material. Can be used. For example, recently, the use as a printed wiring board which paid attention to the high thermal conductivity which an aluminum plate has is mentioned. That is, with the recent miniaturization and weight reduction of electrical and electronic devices, the printed wiring board has been required to have multiple layers, higher integration, and higher density than conventional ones. In addition, in a substrate using a conventional insulator, heat generated from electronic components mounted at high density cannot be dissipated, resulting in destabilization of the circuit. On the other hand, by employing an aluminum plate excellent in thermal conductivity as a substrate, cooling of electronic components by the substrate itself can be achieved, and the performance of the entire circuit can be improved.

이러한 프린트 배선 기판은, 알루미늄판에 구리 박 등의 금속박을 붙여 제조된다. 그때, 접착제로서 에폭시계 수지나 폴리이미드계 수지 등이 이용된다. 그래서, 본 발명의 표면처리 알루미늄재의 산화 피막의 표면에 상기 접착제로서의 수지층을 피복한 수지 피복 표면처리 알루미늄재를 이용함으로써, 상기 특정 구조의 산화 피막의 개재에 의하여, 표면처리 알루미늄재와 수지층과 밀착성을 특단으로 향상시키면서, 수지층에 의하여 알루미늄재와 금속박을 접착하는 것이 가능하다.Such a printed wiring board is manufactured by attaching a metal foil such as copper foil to an aluminum plate. At this time, an epoxy resin, a polyimide resin, or the like is used as the adhesive. Then, by using the resin-coated surface-treated aluminum material which coated the resin layer as the adhesive on the surface of the oxide film of the surface-treated aluminum material of the present invention, the surface-treated aluminum material and the resin layer were interposed by the interposition of the oxide film of the specific structure. It is possible to bond the aluminum material and the metal foil by the resin layer, while improving the adhesion with the superfine.

또, 본 발명에 따른 제조방법에서는, 교류 전해 처리 조건을 적절히 설정함으로써, 상기 표면처리 알루미늄재를 안정하게 제조할 수 있다.Further, in the manufacturing method according to the present invention, the surface-treated aluminum material can be stably manufactured by appropriately setting the AC electrolytic treatment conditions.

도 1은, 본 발명에 따른 표면처리 알루미늄재의 모식도이다.1 is a schematic view of a surface-treated aluminum material according to the present invention.

이하에, 본 발명의 상세를 차례로 설명한다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 본 발명에 따른 표면처리 알루미늄재(1)는, 한쪽 표면에 산화 피막(2)이 형성되어 있고, 이 산화 피막(2)은 표면측에 형성된 다공성 알루미늄 산화 피막층(3)과 소지(5) 측에 형성된 배리어형 알루미늄 산화 피막층(4)으로 이루어진다. 그리고, 다공성 알루미늄 산화 피막층(3)에는 작은 구멍(31)이 형성되어 있다.Hereinafter, the details of the present invention will be described in order. 1, in the surface-treated aluminum material 1 according to the present invention, an oxide film 2 is formed on one surface, and the oxide film 2 is a porous aluminum oxide film layer 3 formed on the surface side. ) And the barrier-type aluminum oxide film layer 4 formed on the substrate 5 side. Then, a small hole 31 is formed in the porous aluminum oxide coating layer 3.

A. A. 알루미늄재Aluminum material

본 발명에 이용되는 알루미늄재로서는, 순알루미늄 또는 알루미늄 합금이 이용된다. 알루미늄 합금의 성분에는 특히 제한이 없고, JIS에 규정되는 합금을 비롯한 각종 합금을 사용할 수 있다. 형상으로서는 특히 제한되는 것은 아니지만, 안정되어 처리 피막을 형성할 수 있기 때문에 평판 형상의 것이 적합하게 이용된다. 용도에 따라, 판 두께를 적당히 선택할 수 있지만, 경량화와 성형성의 관점에서 0.05~2.0㎜가 바람직하고, 0.1~1.0㎜가 더 바람직하다.As the aluminum material used in the present invention, pure aluminum or an aluminum alloy is used. There are no particular restrictions on the components of the aluminum alloy, and various alloys including alloys specified in JIS can be used. The shape is not particularly limited, but since it is stable and can form a treatment film, a flat plate shape is suitably used. Although the plate thickness can be appropriately selected depending on the application, 0.05 to 2.0 mm is preferred, and 0.1 to 1.0 mm is more preferable from the viewpoint of weight reduction and formability.

B. 산화 피막 B. Oxide film

본 발명에 이용되는 알루미늄재의 표면에는, 표면측에 형성된 다공성 알루미늄 산화 피막층과 소지 측에 형성된 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 설치되어 있다. 즉, 알루미늄재 표면에는, 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 2층에 의하여 구성되는 산화 피막이 형성되어 있다. 다공성 알루미늄 산화 피막층이 강력한 접착성이나 밀착성을 발휘하는 한편, 배리어형 알루미늄 산화 피막층에 의하여, 알루미늄 산화 피막층 전체와 알루미늄 소지를 강고하게 결합한다.On the surface of the aluminum material used in the present invention, a porous aluminum oxide coating layer formed on the surface side and a barrier aluminum oxide coating layer formed on the substrate side are provided. That is, an oxide film composed of two layers of a porous aluminum oxide film layer and a barrier aluminum oxide film layer is formed on the surface of the aluminum material. While the porous aluminum oxide layer exerts strong adhesion and adhesion, the entire aluminum oxide layer and the aluminum substrate are firmly bonded by the barrier aluminum oxide layer.

B-1. 다공성 알루미늄 산화 피막층 B-1. Porous aluminum oxide layer

다공성 알루미늄 산화 피막층의 두께는, 20~500㎚이다. 20㎚ 미만에서는 두께가 충분하지 않기 때문에, 후술하는 작은 구멍 구조의 형성이 불충분하게 되기 쉬워 접착력이나 밀착력이 저하된다. 한편, 500㎚를 초과하면, 다공성 알루미늄 산화 피막층 자체가 응집 파괴되기 쉬워져 접착력이나 밀착력이 저하된다.The thickness of the porous aluminum oxide coating layer is 20 to 500 nm. When the thickness is less than 20 nm, the thickness is not sufficient, so that formation of a small hole structure described later tends to be insufficient, and adhesion and adhesion decrease. On the other hand, when it exceeds 500 nm, the porous aluminum oxide coating layer itself tends to be cohesively destroyed, resulting in a decrease in adhesion and adhesion.

도 1에 나타내는 바와 같이, 다공성 알루미늄 산화 피막층(3)은, 그 표면으로부터 깊이 방향을 향하는 작은 구멍(31)을 구비한다. 작은 구멍의 지름은 5~30㎚이며, 바람직하게는 10~20㎚이다. 이 작은 구멍은, 수지층이나 접착제 등과 알루미늄 산화 피막과의 접촉 면적을 증대시키고, 그 접착력이나 밀착력을 증대시키는 효과를 발휘하는 것이다. 작은 구멍의 지름이 5㎚ 미만이면, 접촉 면적이 부족하기 때문에 충분한 접착력이나 밀착력을 얻을 수 없다. 한편, 작은 구멍의 지름이 30㎚를 초과하면, 다공성 알루미늄 산화 피막층 전체가 약해져 응집 파괴를 일으켜 접착력이나 밀착력이 저하된다.As shown in Fig. 1, the porous aluminum oxide coating layer 3 has small holes 31 facing the depth direction from its surface. The diameter of the small hole is 5 to 30 nm, and preferably 10 to 20 nm. This small hole exerts an effect of increasing the contact area with the aluminum oxide film, such as a resin layer or an adhesive, and increasing the adhesive force and adhesion. If the diameter of the small hole is less than 5 nm, sufficient contact strength or adhesion cannot be obtained because the contact area is insufficient. On the other hand, when the diameter of the small hole exceeds 30 nm, the entire porous aluminum oxide coating layer weakens, causing cohesive failure, and the adhesion and adhesion are reduced.

다공성 알루미늄 산화 피막층의 표면적에 대한 작은 구멍의 전체 구멍 면적의 비에 대해서는, 특히 제한되는 것은 아니다. 다공성 알루미늄 산화 피막층의 외관상의 표면적(표면의 미소한 요철 등을 고려하지 않고, 길이와 폭의 곱셈으로 표시되는 면적)에 대한 작은 구멍의 전체 구멍면적의 비로서, 25~75%가 바람직하다. 25% 미만에서는, 접촉 면적이 부족하여 충분한 접착력이나 밀착력을 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편, 75%를 초과하면, 다공성 알루미늄 산화 피막층 전체가 약해져 응집 파괴를 일으켜 접착력이나 밀착력이 저하하는 경우가 있다.The ratio of the total pore area of the small hole to the surface area of the porous aluminum oxide coating layer is not particularly limited. The ratio of the total pore area of the small hole to the apparent surface area of the porous aluminum oxide film layer (area expressed by multiplication of length and width without taking into account minute irregularities of the surface, etc.) is preferably 25 to 75%. If it is less than 25%, the contact area may be insufficient, and sufficient adhesion or adhesion may not be obtained. On the other hand, when it exceeds 75%, the entire porous aluminum oxide coating layer becomes weak, causing cohesive failure, and the adhesive strength or adhesive strength may decrease.

B-2. 배리어형 알루미늄 산화 피막층 B-2. Barrier type aluminum oxide film layer

배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께는, 3~30㎚이다. 3㎚ 미만에서는, 개재층으로서 다공성 알루미늄 산화 피막층과 알루미늄 소지와의 결합에 충분한 결합력을 부여할 수 없고, 특히, 고온·다습 등의 가혹 환경에서의 결합력이 불충분하게 된다. 한편, 30㎚를 초과하면, 그 치밀성 때문에 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 응집 파괴되기 쉬워져, 오히려 접착력이나 밀착력이 저하된다.The thickness of the barrier aluminum oxide film layer is 3 to 30 nm. When the thickness is less than 3 nm, sufficient bonding strength cannot be imparted to the bonding between the porous aluminum oxide coating layer and the aluminum substrate as an intervening layer, and in particular, the bonding strength in harsh environments such as high temperature and high humidity is insufficient. On the other hand, when it exceeds 30 nm, the barrier-type aluminum oxide coating layer tends to be cohesively destroyed due to its compactness, and the adhesion and adhesion are lowered.

B-3. 산화 피막의 전체 두께의 변동폭 B-3. The fluctuation range of the entire thickness of the oxide

산화 피막 전체의 두께, 즉, B-1에 기재된 다공성 알루미늄 산화 피막층과 B-2에 기재된 배리어형 알루미늄 산화 피막층과의 두께의 합계는, 알루미늄재의 어떠한 장소에서 측정해도, 그 변동폭이 ±50% 이내가 아니면 안 되고, 바람직하게는 ±20% 이내이다. 즉, 알루미늄재 표면에서의 임의의 복수 개소(10개소 이상이 바람직하고, 이들 각 개소에 있어서도 10점 이상의 측정점으로 하는 것이 바람직하다)에서 측정한 산화 피막 전체 두께의 평균을 T(㎚)로 한 경우, 이들 복수 측정 개소의 모두에 있어서의 산화 피막 전체 두께가 (0.5×T)~(1.5×T)의 범위에 있을 필요가 있다. (0.5×T) 미만의 개소가 존재하면, 그 개소의 산화 피막이 그 주위보다 얇아진다. 그렇다면, 이 얇은 개소에서는, 접착해야 할 접착제나 밀착해야 할 수지층 등과 산화 피막과의 사이에 빈틈이 생기기 쉬워져, 충분한 접촉 면적을 확보할 수 없어 접착력이나 밀착력이 저하된다.The total thickness of the oxide film, that is, the sum of the thickness of the porous aluminum oxide film layer described in B-1 and the barrier aluminum oxide film layer described in B-2, is within ± 50% of the fluctuation range even when measured at any place in the aluminum material. Must be, preferably within ± 20%. That is, the average thickness of the entire thickness of the oxide film measured at arbitrary plural places on the surface of the aluminum material (preferably at least 10 points, and preferably at least 10 points at each of these points) is set to T (nm). In the case, it is necessary that the total thickness of the oxide film in all of these multiple measurement points is in the range of (0.5 x T) to (1.5 x T). When a location less than (0.5 x T) exists, the oxide film at that location becomes thinner than the surroundings. If so, in this thin portion, a gap is easily generated between the adhesive to be adhered, the resin layer to be adhered, and the oxide film, and a sufficient contact area cannot be secured, resulting in a decrease in adhesion or adhesion.

한편, (1.5×T)를 초과하는 개소가 존재하면, 그 개소의 산화 피막이 주위의 주위보다 두꺼워진다. 그렇다면, 이 두꺼운 개소에서는, 밀착해야 할 수지층 등에서의 응력이 집중하고, 산화 피막에서의 응집 파괴를 유발하여 접착력이나 밀착력이 저하된다.On the other hand, if a location exceeding (1.5 x T) exists, the oxide film at that location becomes thicker than the surroundings. If so, in this thick location, stress in the resin layer or the like to be in close contact is concentrated, causing cohesive failure in the oxide film, and the adhesion and adhesion are reduced.

한편, 상기와 같은 산화 피막의 전체 두께가 얇은 개소나 두꺼운 개소에서는, 주위와 비교하여 광학적 특성이 다르기 때문에, 다갈색이나 백탁색이라고 하는 색조의 변화로서 육안으로 보는 것이 가능한 경우가 있다.On the other hand, since the optical properties of the above-mentioned oxide film are thinner or thicker than those in the surroundings, the optical properties are different, and it may be possible to visually observe it as a change in color tone, such as dark brown or white turquoise.

B-4. 유연성 B-4. flexibility

본 발명에 따른 표면처리 알루미늄재가 프린트 배선 기판 등에 이용되는 경우에는, 구부려진 상태로 사용되는 경우가 있다. 일반적으로, 알루미늄재가 구부려진 상태에서는, 표면의 산화 피막에 크랙이 발생되기 쉽다. 본 발명에 따른 표면처리 알루미늄재의 산화 피막은 상기 특정 구조를 구비함으로써, 산화 피막이 응집 파괴되기 어려워 유연성이 우수하다. 그 때문에, 표면처리 알루미늄재가 구부려진 상태로 사용되어도, 산화 피막의 크랙 발생이 억제된다.When the surface-treated aluminum material according to the present invention is used for a printed wiring board or the like, it may be used in a curved state. Generally, when the aluminum material is bent, cracks are likely to occur in the oxide film on the surface. The oxide film of the surface-treated aluminum material according to the present invention has the above-mentioned specific structure, so that the oxide film is hardly agglomerated and destroyed, and is excellent in flexibility. Therefore, even if the surface-treated aluminum material is used in a bent state, crack generation of the oxide film is suppressed.

이러한 유연성은, 예를 들면 표면처리 알루미늄재를 산화 피막측이 볼록하게 되도록 5R로 180도 굽혔을 때에 있어서, 산화 피막층의 크랙 발생에 기초하는 알루미늄 소지의 노출률로서 평가할 수 있다. 구체적으로는, 굽힘 부분에 있어서 크랙 발생의 총 길이를 L로 하고, 그것을 휨 전체 길이 T로 나눔으로써, (L/T)×100(%)을 크랙 발생에 기초하는 알루미늄 소지의 노출률로 하는 것이다. 이 경우에 있어서, 산화 피막층의 밀착성에 지장이 생기지 않게 하기 위해서는, 크랙 발생에 기초하는 노출률을 5% 이하로 하는 것이 바람직하고, 2% 이하로 하는 것이 더 바람직하다.Such flexibility can be evaluated, for example, as an exposure rate of an aluminum substrate based on crack generation in the oxide film layer when the surface-treated aluminum material is bent 180 degrees at 5R so that the oxide film side is convex. Specifically, by setting the total length of crack generation in the bent portion to L and dividing it by the total length of bending T, (L / T) x 100 (%) is the exposure rate of the aluminum substrate based on crack generation. will be. In this case, in order not to interfere with the adhesion of the oxide film layer, the exposure rate based on crack generation is preferably 5% or less, and more preferably 2% or less.

C.제조방법C. Manufacturing method

이상과 같은 조건을 만족한 산화 피막을 표면에 구비한 표면처리 알루미늄재를 제조하기 위한 하나의 방법으로서, 표면처리되는 알루미늄재의 전극과, 대전극으로서 후술의 재질의 전극을 이용하고, pH9~13으로 액체의 온도 35~80℃이며, 또, 용존 알루미늄 농도가 5ppm 이상 1000ppm 이하의 알칼리성 수용액을 전해 용액으로 하고, 주파수 20~100Hz, 전류 밀도 4~50A/d㎡ 및 전해 시간 5~60초 사이의 조건으로 교류 전해 처리함으로써, 대전극에 대향하는 상기 알루미늄재 표면에 산화 피막을 형성하는 방법을 들 수 있다.As one method for manufacturing a surface-treated aluminum material having an oxide film satisfying the above conditions on the surface, an electrode of a surface-treated aluminum material and an electrode of the following material are used as a counter electrode, and pH 9 to 13 The temperature of the liquid is 35 ~ 80 ℃, and an alkaline aqueous solution having a dissolved aluminum concentration of 5ppm or more and 1000ppm or less is used as an electrolytic solution, with a frequency of 20 ~ 100Hz, a current density of 4 ~ 50A / d㎡ and an electrolysis time of 5 ~ 60 seconds. A method of forming an oxide film on the surface of the aluminum material facing the counter electrode by performing an alternating current electrolytic treatment under the conditions of is mentioned.

교류 전해 처리 공정에 있어서, 전해 용액으로서 이용되는 알칼리 수용액은, 인산나트륨, 인산수소칼륨, 피로인산나트륨, 피로인산칼륨 및 메타인산나트륨 등의 인산염이나;수산화나트륨 및 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물이나;탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염이나;수산화암모늄;혹은, 이들 혼합물의 수용액을 이용할 수 있다. 후술하는 바와 같이 전해 용액의 pH를 특정의 범위로 유지할 필요가 있기 때문에, 버퍼 효과를 기대할 수 있는 인산염계 물질을 함유하는 알칼리 수용액을 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 알칼리 성분의 농도는, 전해 용액의 pH가 원하는 값이 되도록 조정되지만, 통상, 1×10-4~1몰/리터이다. 한편, 이들의 알칼리성 수용액에는, 오염 성분에 대한 제거 능력의 향상을 위해서 계면활성제를 첨가해도 좋다.In the alternating current electrolytic treatment step, the aqueous alkali solution used as the electrolytic solution includes phosphates such as sodium phosphate, potassium hydrogen phosphate, sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate and sodium metaphosphate; and alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. ; Carbonates such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium carbonate; ammonium hydroxide; or an aqueous solution of these mixtures can be used. Since it is necessary to maintain the pH of the electrolytic solution in a specific range as described later, it is preferable to use an alkaline aqueous solution containing a phosphate-based material that can expect a buffer effect. The concentration of the alkali component is adjusted so that the pH of the electrolytic solution becomes a desired value, but is usually 1 × 10 -4 to 1 mol / liter. On the other hand, surfactants may be added to these alkaline aqueous solutions in order to improve the ability to remove contaminants.

전해 용액의 pH는 9~13으로 할 필요가 있고, 9.5~12로 하는 것이 바람직하다. pH가 9 미만의 경우에는, 전해 용액의 알칼리 에칭력이 부족하기 때문에 다공성 알루미늄 산화 피막층의 다공질 구조가 불완전하게 된다. 한편, pH가 13을 초과하면, 알칼리 에칭력이 과잉으로 되기 때문에 다공성 알루미늄 산화 피막층이 성장하기 어려워지며, 또한 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 형성도 저해된다.The pH of the electrolytic solution needs to be 9 to 13, and preferably 9.5 to 12. When the pH is less than 9, the porous structure of the porous aluminum oxide coating layer is incomplete because the alkali etching power of the electrolytic solution is insufficient. On the other hand, when the pH exceeds 13, the alkali etching power becomes excessive, so that the porous aluminum oxide coating layer becomes difficult to grow, and the formation of the barrier aluminum oxide coating layer is also inhibited.

전해 용액 온도는 35~80℃으로 할 필요가 있고, 40~70℃로 하는 것이 바람직하다. 전해 용액 온도가 35℃ 미만에서는, 알칼리 에칭력이 부족하기 때문에 다공성 알루미늄 산화 피막층의 다공질 구조가 불완전하게 된다. 한편, 80℃를 초과하면 알칼리 에칭력이 과잉으로 되기 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층 모두 성장이 저해된다.The electrolytic solution temperature needs to be 35 to 80 ° C, and preferably 40 to 70 ° C. When the temperature of the electrolytic solution is less than 35 ° C, the porous etching structure of the porous aluminum oxide coating layer is incomplete because the alkali etching power is insufficient. On the other hand, when the temperature exceeds 80 ° C, the alkali etching power becomes excessive, and thus, growth of both the porous aluminum oxide coating layer and the barrier aluminum oxide coating layer is inhibited.

전해 용액에 함유되는 용존 알루미늄 농도는, 5ppm 이상 1000ppm 이하로 할 필요가 있다. 용존 알루미늄 농도가 5ppm 미만의 경우는, 전해 반응 초기에서의 산화 피막의 형성 반응이 급격하게 발생하기 때문에, 처리 공정의 불균일(알루미늄재 표면의 오염 상태나 알루미늄재의 부착 상태 등)의 영향을 받기 쉽다. 그 결과, 국부적으로 두꺼운 산화 피막이 형성되게 된다. 한편, 용존 알루미늄 농도가 1000ppm를 초과하는 경우는, 전해 용액의 점도가 증대하여 전해 공정에서 알루미늄재 표면 부근의 균일한 대류가 방해되는 것과 동시에, 용존 알루미늄이 피막 형성을 억제하는 방향으로 작용한다. 그 결과, 국부적으로 얇은 산화 피막이 형성되게 된다. 용존 알루미늄의 농도가 상기 범위로부터 벗어나면, 알루미늄재 표면 전체에서의 산화 피막의 합계 두께의 변동폭을, 이 합계 두께의 산술 평균치의 ±50% 이내로 하는 것이 곤란하게 된다. 그 결과, 얻어지는 산화 피막의 접착력·밀착력의 저하나, 수지층과의 접합시에 있어서의 양호한 유연성이 얻어지지 않는 경우가 있다.The dissolved aluminum concentration contained in the electrolytic solution needs to be 5 ppm or more and 1000 ppm or less. When the dissolved aluminum concentration is less than 5 ppm, the formation reaction of the oxide film at the initial stage of the electrolytic reaction occurs rapidly, and thus it is susceptible to unevenness in the treatment process (such as contamination of the aluminum material surface or adhesion of the aluminum material). . As a result, a locally thick oxide film is formed. On the other hand, when the concentration of dissolved aluminum exceeds 1000 ppm, the viscosity of the electrolytic solution increases, and uniform convection in the vicinity of the surface of the aluminum material is prevented in the electrolytic process, and at the same time, the dissolved aluminum acts in a direction to suppress film formation. As a result, a locally thin oxide film is formed. When the concentration of dissolved aluminum is outside the above range, it is difficult to make the variation width of the total thickness of the oxide film on the entire surface of the aluminum material within ± 50% of the arithmetic mean value of the total thickness. As a result, there is a case where a decrease in the adhesion and adhesion of the resulting oxide film or good flexibility in bonding with the resin layer may not be obtained.

알칼리 교류 전해에 있어서는, 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층을 포함한 산화 피막 전체의 두께는, 전기량, 즉 전류 밀도와 전해 시간의 곱에 의하여 제어되고, 기본적으로 전기량이 많을수록 산화막 전체의 두께가 증가한다. 이러한 관점에서, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 교류 전해 조건은 이하와 같이 한다.In alkaline alternating electrolysis, the thickness of the entire oxide film including the porous aluminum oxide film layer and the barrier-type aluminum oxide film layer is controlled by the electric quantity, that is, the product of the current density and the electrolysis time. Basically, the more the amount of electricity, the greater the thickness of the entire oxide film. Increases. From this viewpoint, the alternating current electrolytic conditions of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer are as follows.

이용하는 주파수는 20~100Hz이다. 20Hz 미만에서는, 전기 분해로서는 직류적 요소가 높아지는 결과, 다공성 알루미늄 산화 피막층의 다공질 구조의 형성이 진행되지 않고, 치밀 구조로 되어 버린다. 한편, 100Hz를 초과하면, 양극과 음극의 반전이 너무 빠르기 때문에, 산화 피막 전체의 형성이 극단적으로 늦어져, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층 모두, 소정의 두께를 얻으려면 지극히 장시간을 필요로 하게 된다.The frequency used is 20 to 100 Hz. Below 20 Hz, as a result of the increase in the direct current element for electrolysis, formation of the porous structure of the porous aluminum oxide coating layer does not proceed, resulting in a dense structure. On the other hand, when it exceeds 100 Hz, since the inversion of the anode and the cathode is too fast, the formation of the entire oxide film is extremely slow, and both the porous aluminum oxide film layer and the barrier aluminum oxide film layer require extremely long time to obtain a predetermined thickness. It is done.

전류 밀도는 4~50A/d㎡로 할 필요가 있다. 전류 밀도가 4A/d㎡ 미만에서는, 배리어형 알루미늄 산화 피막층만이 우선적으로 형성되기 때문에 다공성 알루미늄 산화 피막층을 얻을 수 없다. 한편, 50A/d㎡를 초과하면, 전류가 과대하게 되기 때문에 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께 제어가 곤란하게 되어 처리 불균일이 일어나기 쉽다.The current density needs to be 4 to 50 A / d㎡. If the current density is less than 4A / dm 2, a porous aluminum oxide coating layer cannot be obtained because only the barrier aluminum oxide coating layer is preferentially formed. On the other hand, when it exceeds 50A / dm2, the current becomes excessive, and thus it is difficult to control the thickness of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer, and treatment unevenness tends to occur.

전해 시간은 5~60초로 할 필요가 있다. 5초 미만의 처리 시간으로는, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 형성이 너무 급격하기 때문에, 어떤 산화 피막층도 충분히 형성되지 않고, 부정형의 알루미늄 산화물로 구성되는 산화 피막으로 되기 때문이다. 한편, 60초를 초과하면, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 너무 두꺼워지거나 재용해할 우려가 있을 뿐만 아니라, 생산성도 저하한다.The delivery time needs to be 5 to 60 seconds. This is because the formation of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer is too rapid at a treatment time of less than 5 seconds, because any oxide coating layer is not sufficiently formed and becomes an oxide coating composed of amorphous aluminum oxide. On the other hand, when it exceeds 60 seconds, the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer become too thick or re-dissolved, and productivity decreases.

교류 전해 처리에 사용하는 한 쌍의 전극 중 한쪽 전극은, 전해 처리에 의하여 표면처리되어야 할 알루미늄재이다. 다른 쪽의 대전극으로서는, 예를 들면, 흑연, 알루미늄, 티탄 전극 등의 공지의 전극을 이용할 수 있지만, 본 발명에 있어서는, 전해 용액의 알칼리 성분이나 온도에 대하여 열화 하지 않고, 도전성이 우수하며, 또한, 그 자신이 전기 화학적 반응을 일으키지 않는 재질의 것을 사용할 필요가 있다. 이러한 점에서, 대전극으로서는 흑연 전극이 적합하게 이용된다. 이것은, 흑연 전극이 화학적으로 안정하고, 또, 염가로 입수가 용이한 것에 더하여, 흑연 전극에 존재하는 많은 기공의 작용에 의해 교류 전해 공정에 있어서 전기력선이 적당히 확산하기 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 모두 보다 균일하게 되기 쉽기 때문이다.One of the pair of electrodes used for the alternating current electrolytic treatment is an aluminum material to be surface-treated by electrolytic treatment. As the other counter electrode, a known electrode such as graphite, aluminum, or titanium electrode can be used, but in the present invention, it is excellent in conductivity without deterioration with respect to the alkali component and temperature of the electrolytic solution, In addition, it is necessary to use a material that does not cause an electrochemical reaction itself. In this regard, a graphite electrode is suitably used as the counter electrode. In addition to the fact that the graphite electrode is chemically stable and readily available at low cost, since the electric force line diffuses properly in the alternating current electrolytic process by the action of many pores present in the graphite electrode, the porous aluminum oxide coating layer and barrier This is because all of the aluminum oxide film layers tend to be more uniform.

본 발명에 있어서는, 전해 처리되어야 할 알루미늄재 및 대전극에는 모두 평판 형상의 것을 이용하고, 대향하는 알루미늄재와 대극의 면끼리의 세로와 가로의 치수를 거의 동일하게 하며, 양전극을 정지 상태로 전해 조작을 행하는 것이 바람직하다. 이 경우, 대전극에 대향하는 알루미늄재 표면에 산화 피막이 형성된다. 여기서, 대전극에 대향하고 있지 않는 다른 쪽의 표면에도 산화 피막을 형성하려면, 한쪽 표면에 산화 피막을 형성하여 교류 전해 처리를 일단 종료하고, 그 다음에, 다른 표면을 대전극에 대향하도록 배치하여 마찬가지로 교류 전해 처리를 행하면 좋다.In the present invention, a flat plate is used for both the aluminum material and the counter electrode to be electrolytically treated, and the vertical and horizontal dimensions of the surfaces of the opposite aluminum material and the counter electrode are substantially the same, and both electrodes are electrostatically stopped. It is preferable to perform the operation. In this case, an oxide film is formed on the surface of the aluminum material facing the counter electrode. Here, in order to form an oxide film on the other surface not facing the counter electrode, an oxide film is formed on one surface to end the alternating current electrolytic treatment, and then, the other surface is disposed to face the counter electrode. Similarly, an alternating current electrolytic treatment may be performed.

또, 알루미늄재의 형상이 판재 이외의 막대 형상이나 각재(角材)의 경우에 있어서도, 전해 공정에서 대전극에 대향하지 않았던 표면을 대전극에 대향하도록 다시 배치하여 전해 공정을 반복함으로써, 원하는 표면에 산화 피막을 형성할 수 있다.In addition, even when the shape of the aluminum material is a rod shape or a rectangular material other than a plate material, the surface that was not opposed to the counter electrode in the electrolytic process is repositioned so as to face the counter electrode, and the electrolytic process is repeated to oxidize the desired surface. A film can be formed.

본 발명에 있어서의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 구조 관찰과 두께의 측정에는, 투과형 전자현미경(TEM)에 의한 단면 관찰이 적합하게 이용된다. 구체적으로는, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께 및 다공성 알루미늄 산화 피막층의 작은 구멍의 지름은, 울트라 마이크로톰에 의해 박편 시료를 제작하고, TEM 관찰함으로써 측정할 수 있다.In the structure observation and thickness measurement of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier aluminum oxide coating layer in the present invention, cross-sectional observation by a transmission electron microscope (TEM) is suitably used. Specifically, the thickness of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier aluminum oxide coating layer and the diameter of the small pores in the porous aluminum oxide coating layer can be measured by preparing a thin sample with an ultra microtome and TEM observation.

D. 수지 피복 표면처리 D. Resin coating surface treatment 알루미늄재Aluminum material

본 발명의 표면처리 알루미늄재의 처리면에 수지층을 더 피복하고 수지 피복 표면처리 알루미늄재로 함으로써, 더 많은 용도로 사용할 수 있다. 여기서, 수지층으로서는, 열경화성 수지와 열가소성 수지의 어느 것도 좋고, 본 발명에서 규정하는 특정 구조의 산화 피막과 더불어, 여러 가지 효과를 부여할 수 있다. 통상, 알루미늄재와 수지층과의 접합체는, 알루미늄재에 비해 수지의 열팽창률이 크기 때문에, 알루미늄재와 수지층의 계면에서 박리하여, 크랙, 찢어짐 등의 손상이 발생되기 쉽다. 그렇지만, 본 발명에 따른 수지 피복 표면처리 알루미늄재는, 표면처리 알루미늄재의 산화 피막이 얇고, 또, 특정 구조를 가짐으로써, 유연성이 우수하며, 수지층의 팽창에 추종하기 쉬워, 알루미늄재와 수지층의 계면에서의 상기 손상이 발생하기 어려운 특징을 구비한다.By further coating a resin layer on the treated surface of the surface-treated aluminum material of the present invention and making it a resin-coated surface-treated aluminum material, it can be used for more applications. Here, as the resin layer, either a thermosetting resin or a thermoplastic resin may be used, and various effects can be imparted in addition to the oxide film having a specific structure specified in the present invention. Usually, the bonding material between the aluminum material and the resin layer has a larger thermal expansion coefficient of the resin than the aluminum material, so that it is easily peeled off at the interface between the aluminum material and the resin layer, and damages such as cracks and tears are likely to occur. However, the resin-coated surface-treated aluminum material according to the present invention has a thin oxide film of the surface-treated aluminum material and has a specific structure, so it is excellent in flexibility and easy to follow the expansion of the resin layer, and the interface between the aluminum material and the resin layer It is equipped with features that the damage is unlikely to occur.

상기와 같은 손상 발생은, 예를 들면 수지 피복 표면처리 알루미늄재를 수지층이 볼록하게 되도록 5R로 180도 구부렸을 때에 발생하는 박리 부분 등에 전해 수용액을 존재시킴으로써, 전기 저항의 크기에 따라서 평가할 수 있다. 박리 부분 등의 손상이 클수록, 전해 수용액 때문에 전기 저항이 작아진다.The occurrence of such damage can be evaluated according to the size of the electric resistance by, for example, the presence of an electrolytic aqueous solution in a peeling portion generated when the resin-coated surface-treated aluminum material is bent 180 degrees with 5R to make the resin layer convex. . The greater the damage to the peeling portion, the smaller the electrical resistance is due to the electrolytic aqueous solution.

수지층으로서 열가소성 수지를 이용한 수지 피복 표면처리 알루미늄재는, 경량, 고강성의 복합재료로서 적합하게 이용할 수 있다. 수지층의 형성 방법으로서는, 가열한 열가소성 수지를 유동 상태로 하고, 이것을 다공성 알루미늄 산화 피막층에 접촉·침투시켜, 열가소성 수지층을 냉각 고화한다. 이것을 대신하여, 표면처리 알루미늄재에 열가소성 수지 필름을 적층해도 좋다. 열가소성 수지로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 폴리염화비닐;폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르; 폴리아미드;폴리페닐렌술파이드; 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르케톤 등의 방향족 폴리에테르케톤; 폴리스티렌; 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌 등의 불소 수지; 폴리메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지; ABS 수지; 폴리카보네이트; 열가소성 폴리이미드 등을 이용할 수 있다. 이러한 열가소성 수지를 피복한 수지 피복 표면처리 알루미늄재는, 경량, 고강성이 요청되는 각종 이동체, 구체적으로는 항공·우주분야, 자동차, 선박, 철도 차량 등의 구성 부재의 용도로 이용할 수 있다.The resin-coated surface-treated aluminum material using a thermoplastic resin as the resin layer can be suitably used as a lightweight and highly rigid composite material. As a method for forming the resin layer, the heated thermoplastic resin is brought into a fluid state, and the thermoplastic resin layer is cooled and solidified by contacting and penetrating the porous aluminum oxide coating layer. Alternatively, a thermoplastic resin film may be laminated on the surface-treated aluminum material. Examples of the thermoplastic resin include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; Polyvinyl chloride; polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; Polyamide; polyphenylene sulfide; Aromatic polyether ketones such as polyether ether ketone and polyether ketone; polystyrene; Fluorine resins such as polytetrafluoroethylene and polychlorotrifluoroethylene; Acrylic resins such as methyl polymethacrylate; ABS resin; polycarbonate; Thermoplastic polyimide or the like can be used. The resin-coated surface-treated aluminum material coated with such a thermoplastic resin can be used for various moving bodies that require light weight and high rigidity, specifically, as components for aerospace and space, automobiles, ships, and railroad vehicles.

수지층으로서 열경화성 수지를 이용한 수지 피복 표면처리 알루미늄재는, 프린트 배선 기판 용도로서 적합하게 이용할 수 있다. 수지층의 형성 방법으로서는, 열경화성 수지를 유동 상태로 하고, 이것을 다공성 알루미늄 산화 피막층에 접촉·침투시키며, 그 후에 열경화성 수지를 가열 경화한다. 열경화성 수지로서는, 페놀 수지; 비스페놀 A형 및 노볼락형 등의 에폭시 수지; 멜라민 수지; 요소 수지; 불포화 폴리에스테르수지; 알키드 수지; 폴리우레탄; 열경화성 폴리이미드 등을 이용할 수 있다.The resin-coated surface-treated aluminum material using a thermosetting resin as the resin layer can be suitably used as a printed wiring board application. As a method for forming the resin layer, the thermosetting resin is brought into a fluid state, it is brought into contact with and penetrated into the porous aluminum oxide coating layer, and then the thermosetting resin is cured by heating. As a thermosetting resin, Phenol resin; Epoxy resins such as bisphenol A type and novolac type; Melamine resin; Urea resin; Unsaturated polyester resins; Alkyd resin; Polyurethane; Thermosetting polyimide or the like can be used.

한편, 상기 열가소성 수지와 열경화성 수지는 각각, 단일 수지로 이용해도 좋고, 2종 이상을 혼합한 폴리머 앨로이로서 이용해도 좋다. 또, 상기 열가소성 수지와 열경화성 수지에 각각 각종 필러를 첨가함으로써, 수지의 강도나 열팽창률 등의 물성을 개선할 수 있다. 이러한 필러로서는, 유리 섬유, 탄소 섬유, 아라미드 섬유 등의 각종 섬유; 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 실리카, 탈크, 유리 등의 무기물질; 점토 등의 공지 물질을 이용할 수 있다.Meanwhile, the thermoplastic resin and the thermosetting resin may be used as a single resin or as a polymer alloy in which two or more kinds are mixed. In addition, by adding various fillers to the thermoplastic resin and the thermosetting resin, physical properties such as the strength and thermal expansion coefficient of the resin can be improved. Examples of such fillers include various fibers such as glass fibers, carbon fibers, and aramid fibers; Inorganic substances such as calcium carbonate, magnesium carbonate, silica, talc, and glass; Known substances such as clay can be used.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 기초하여, 본 발명의 적합한 실시형태를 구체적으로 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described based on Examples and Comparative Examples.

실시예 1~15 및 비교예 1~13Examples 1-15 and Comparative Examples 1-13

알루미늄재로서, 세로 200㎜×가로 400㎜×판 두께 1.0㎜의 JIS5052-H34 합금판을 사용했다. 이 알루미늄 합금판을 한쪽 전극에 이용하고, 대전극에는 세로 300㎜×가로 500㎜×판 두께 2.0㎜의 평판 형상을 가지는 흑연판 또는 티탄판을 이용했다. 알루미늄 합금판의 한쪽 면을 대전극에 대면시키고, 이 대면한 한쪽 면 표층에, 표면측의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 소지측의 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 형성되도록, 양전극을 배치했다. 피로인산나트륨을 주성분으로 하는 알칼리 수용액을, 전해 용액으로서 이용했다. 전해 용액의 알칼리 성분 농도는, 0.5몰/리터로 함과 함께, 염산 및 수산화나트륨 수용액(모두 농도 0.1 몰/리터)에 의하여 pH의 조정을 행하였다. 표 1에 나타내는 전해 조건으로, 교류 전해 처리를 실시하여 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층을 형성했다. 한편, 비교예 13에서는, 알칼리 교류 전해 처리를 대신하여, 종래 기술에 기초한 황산 알루마이트 처리(두께 2.5㎛, 시일 처리 있음)를 실시했다.As the aluminum material, a JIS5052-H34 alloy plate having a length of 200 mm × width of 400 mm × plate thickness of 1.0 mm was used. This aluminum alloy plate was used for one electrode, and a graphite plate or a titanium plate having a flat plate shape of 300 mm long x 500 mm wide x 2.0 mm thick was used as the counter electrode. One side of the aluminum alloy plate was faced to the counter electrode, and the positive electrode was disposed on one surface of the facing surface such that a porous aluminum oxide film layer on the surface side and a barrier aluminum oxide film layer on the substrate side were formed. An alkaline aqueous solution containing sodium pyrophosphate as a main component was used as an electrolytic solution. The alkali component concentration of the electrolytic solution was adjusted to 0.5 mol / liter, and pH was adjusted with hydrochloric acid and an aqueous sodium hydroxide solution (all concentrations of 0.1 mol / liter). Under the electrolytic conditions shown in Table 1, AC electrolytic treatment was performed to form a porous aluminum oxide coating layer and a barrier aluminum oxide coating layer. On the other hand, in Comparative Example 13, an anodized sulfuric acid treatment (thickness of 2.5 µm, sealing treatment) based on the prior art was performed in place of the alkaline alternating current electrolytic treatment.

[표 1][Table 1]

Figure 112014086049253-pct00001
Figure 112014086049253-pct00001

이상과 같이 하여 제작한 공시재에 대해, TEM에 의해 단면 관찰을 실시했다. 구체적으로는, 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께 및 다공성 알루미늄 산화 피막층의 작은 구멍의 지름을 측정하기 위해서, 울트라 마이크로톰을 이용하여 공시재로부터 단면 관찰용 박편 시료를 제작했다. 그 다음에, 이 박편 시료에 있어서 관찰 시야(1㎛×1㎛) 중의 임의의 10점을 선택하여 TEM 단면 관찰에 의해, 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께 및 다공성 알루미늄 산화 피막층의 작은 구멍의 지름을 각 점에서 측정했다(제 1 측정). 이들 두께와 지름에 대해서는, 10점의 측정치의 산술 평균치를 표 2의 제 1 측정에 나타낸다.About the test material produced as mentioned above, sectional observation was performed by TEM. Specifically, in order to measure the thickness of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer and the diameter of the small pores in the porous aluminum oxide coating layer, a thin sample for cross-section observation was prepared from the test material using an ultra microtome. Then, in this lamella sample, 10 points in the observation field (1 µm × 1 µm) were selected and observed by TEM cross-section to determine the thickness of the porous aluminum oxide film layer and the barrier aluminum oxide film layer and the porous aluminum oxide film layer. The diameter of the small hole was measured at each point (first measurement). About these thickness and diameter, the arithmetic mean value of the measurement value of 10 points is shown in the 1st measurement of Table 2.

[표 2][Table 2]

Figure 112014086049253-pct00002
Figure 112014086049253-pct00002

그 다음에, 공시재 전체의 표면에 있어서의 다공성 알루미늄 산화 피막과 배리어형 알루미늄 산화 피막의 합계 두께의 변동을 조사하기 위해서 제 2 측정을 행하였다. 이 제 2 측정에서는, 제 1 측정에 제공된 공시재로부터, 제 1 측정에서 제작한 박편 시료와는 별개로, 또, 마찬가지로 하여, 울트라 마이크로톰에 의해 박편 시료를 9개 더 제작했다. 그리고, 이들 9개의 박편 시료의 각각에 대해서도 제 1 측정과 마찬가지로, 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께를 10점 측정했다. 그리고, 전부 10개의 상기 박편 시료에 있어서의 모든 100점의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께의 측정 결과로부터, 각 점에서의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께를 덧셈하여 합계 두께를 구하고 각 점에서의 산화 피막 두께로 했다. 이와 같이 하여 구한 100점의 산화 피막 두께에 있어서의 최대치, 최소치 및 산술 평균치를 표 2의 제 2 측정에 나타냈다. 또한, 이들 100점의 산화 피막 두께의 변동폭이 산술 평균치의 ±50% 이내에 있는지 아닌지에 대해서도 조사했다. 구체적으로는, 산술 평균치를 T(㎚)로 한 경우에, 최대치 및 최소치를 포함한 모든 합계 두께가 (0.5×T)~(1.5×T)의 범위에 있는 경우를 합격(○)으로 하고, 범위에 없는 경우를 불합격(×)으로 하며, 표 2의 제 2 측정에 나타냈다.Next, a second measurement was performed to investigate variations in the total thickness of the porous aluminum oxide film and the barrier aluminum oxide film on the entire surface of the test material. In this second measurement, nine additional thin-film samples were prepared from the test piece provided in the first measurement separately from the thin-film sample produced in the first measurement and in the same manner, using an ultra microtome. And the thickness of the porous aluminum oxide film layer and the barrier aluminum oxide film layer was measured 10 points about each of these nine thin-film samples similarly to 1st measurement. Then, the thicknesses of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier aluminum oxide coating layer at each point were added from the measurement results of the thicknesses of all 100 porous aluminum oxide coating layers and barrier aluminum oxide coating layers in all 10 of the above-described flaky samples. Then, the total thickness was determined and used as the oxide film thickness at each point. The maximum value, minimum value, and arithmetic mean value in the oxide film thickness of 100 points thus obtained are shown in the second measurement in Table 2. In addition, it was also investigated whether or not the fluctuation range of the thickness of the oxide film at these 100 points was within ± 50% of the arithmetic average value. Specifically, when the arithmetic mean value is T (nm), the case where all the total thicknesses including the maximum value and the minimum value are in the range of (0.5 x T) to (1.5 x T) is set to pass (○), and the range The case not shown is set as the rejection (×) and is shown in the second measurement in Table 2.

상기 공시재에 대해, 이하의 방법으로 접착제를 이용한 접착성, 도막에 대한 밀착성 및 굽힘 시험에 의한 유연성을 평가했다. 또한, 수지 피복 표면처리 알루미늄재의 평가도 행하였다.About the test material, adhesiveness using an adhesive, adhesion to a coating film, and flexibility by a bending test were evaluated by the following methods. Moreover, evaluation of the resin-coated surface-treated aluminum material was also performed.

〔접착성 평가〕〔Adhesiveness evaluation〕

상기 공시재로부터 길이 50㎜, 25㎜ 폭으로 절단한 것을 2매 준비했다. 이들 2매의 공시재끼리를 폭 방향을 따라서 폭 10㎜로써 산화 피막 형성면끼리를 겹쳐 맞추고, 시판의 2액형 에폭시 접착제(주제=변성 에폭시 수지, 경화제=변성 폴리이미드, 중량 혼합비=주제 100/경화제 100)에 의하여 겹쳐 맞춘 부분을 접착하여, 전단 시험편을 제작했다. 2매의 공시재의 길이 방향의 단부를 인장 시험기에 의해 100㎜/분의 속도로 길이 방향을 따라서 반대 방향으로 끌어당기고, 그 하중(전단 응력으로 환산)과 박리 상태에 의하여 접착성을 하기의 기준으로 평가했다. 한편, 전단 시험편은 같은 공시재로부터 10벌의 시험편을 제작하고, 각각에 대하여 평가했다.Two sheets of 50 mm in length and 25 mm in width were prepared from the test piece. Commercially available two-component epoxy adhesives (Topic = Modified Epoxy Resin, Curing Agent = Modified Polyimide, Weight Mixing Ratio = Topic 100 / The overlapped part was adhered by the curing agent 100) to prepare a shear test piece. Standards of the following for pulling the ends of the two specimens in the longitudinal direction in the opposite direction along the longitudinal direction at a rate of 100 mm / min by means of a tensile tester, and adhering by the load (in terms of shear stress) and peeling state It was evaluated as. On the other hand, ten test pieces were prepared from the same test piece for the shear test piece, and evaluated for each.

○:전단 응력이 20 N/m㎡ 이상이며, 또, 접착제층 자신이 응집 파괴된 상태○: Shear stress is 20 N / m 2 or more, and the adhesive layer itself is cohesively broken.

△:전단 응력이 20 N/m㎡ 이상이지만, 접착제층과 공시재가 계면박리된 상태△: Shear stress is 20 N / m㎡ or more, but the adhesive layer and the test material are intersected.

×:전단 응력이 20 N/m㎡ 미만이며, 또, 접착제층과 공시재가 계면박리된 상태 ×: Shear stress is less than 20 N / m 2, and the adhesive layer and the test material are intersected.

결과를 표 3에 나타낸다. 하기 표에는, 10벌의 시험편 중 상기 ○, △, ×의 조별 개수를 각각 나타내지만, 모두가 ○의 경우를 합격, 그 이외를 불합격으로 판정했다.Table 3 shows the results. In the following table, the number of groups of ○, Δ, and X among the 10 test pieces is shown, respectively, but all cases of ○ passed and were judged as failed.

[표 3][Table 3]

Figure 112014086049253-pct00003
Figure 112014086049253-pct00003

〔밀착성 평가〕〔Adhesion evaluation〕

상기 공시재의 산화 피막측의 표면에 다이니혼도료(大日本塗料)(주)제 「V프론#2000」를 도포하고 이것을 건조하여(160℃, 20분), 30㎛의 두께의 수지 도막을 형성한 밀착성 시험편을 제작했다. JIS-K5600-5-6에 준거한 방법으로, 이 밀착성 시험편의 수지 도막에 커터 나이프를 이용하여 1㎜ 모서리의 바둑판 눈 모양으로 잘랐다. 그 다음에, 시험편에 125℃로 30분의 레토르트 침지 처리를 실시한 후에, 즉시 처리액으로부터 꺼내어 수분을 닦아냈다. 이 시험편에 대하여, 투명 감압 부착 테이프에 의한 박리 시험을 실시했다. 도막 잔존율에 의하여 밀착성을 하기의 기준으로 평가했다. 한편, 밀착성 시험편은 같은 공시재로부터 10개의 시험편을 제작하고, 각각에 대하여 평가했다.The surface of the above-mentioned test material was coated with "V-Front 2000" manufactured by Dainihon Coating Co., Ltd. and dried (160 ° C, 20 minutes) to form a resin film having a thickness of 30 µm. An adhesion test piece was produced. By a method conforming to JIS-K5600-5-6, the resin coating film of this adhesion test piece was cut into a checkerboard eye shape at a corner of 1 mm using a cutter knife. Then, after subjecting the test piece to retort immersion treatment at 125 ° C for 30 minutes, it was immediately taken out from the treatment liquid and wiped off moisture. The test piece was subjected to a peel test with a transparent pressure-sensitive adhesive tape. The adhesiveness was evaluated based on the following criteria by the coating film residual ratio. On the other hand, ten test pieces were prepared from the same test material, and the adhesion test pieces were evaluated for each.

○:도막 잔존율이 100%의 것○: 100% of film residual ratio

△:도막 잔존율이 75% 이상 100% 미만의 것△: Coating film residual rate of 75% or more and less than 100%

×:도막 잔존율이 75% 미만의 것 ×: Things with less than 75% coating film remaining

결과를 표 3에 나타낸다. 상기 표에는, 10개의 시험편 중 상기 ○, △, ×의 개수를 각각 나타내지만, 모두가 ○의 경우를 합격, 그 이외를 불합격으로 판정했다.Table 3 shows the results. Although the number of said ○, (triangle | delta) and x among 10 test pieces is shown in the said table | piece, all the cases of ○ passed and the other was judged as failing.

〔유연성 평가〕〔Flexibility evaluation〕

상기 공시재로부터 길이 50㎜, 25㎜ 폭으로 절단한 것을 준비했다. 산화 피막 형성면이 볼록하게 되도록, 금형을 이용하여 5R로 180도 구부렸다. 그 다음에, 굽힘부를 시험액(20% 황산구리 수용액)에 5분간 침지한 후에 꺼내 수세하여, 실온에서 건조했다. 굽힘부의 산화 피막에 크랙이 발생한 경우는, 크랙의 알루미늄 소지면에 구리가 부착된다. 그래서, 루페 또는 버어니어 캘리퍼스를 이용하여 굽힘 부분의 전체 길이를 따라서 구리 부착 개소를 육안으로 관찰함으로써 크랙 발생 부위를 특정했다. 구체적으로는, 굽힘 부분에서 구리의 부착이 관찰된 총 길이를 L(㎜)로 하고, 그것을 굽힘 전체 길이(25㎜)로 나눔으로써, (L/25)×100(%)를 크랙 발생에 기초하는 알루미늄 소지의 노출률로 했다. 유연성 시험편은 같은 공시재로부터 10개의 시험편을 제작하고, 각각에 대하여 평가하여 알루미늄 소지의 각 노출률을 구했다.What was cut to 50 mm in length and 25 mm in width was prepared from the test material. It was bent 180 degrees at 5R using a mold so that the oxide film formation surface was convex. Then, the bent portion was immersed in a test solution (20% aqueous copper sulfate solution) for 5 minutes, then taken out, washed with water, and dried at room temperature. When a crack occurs in the oxide film of the bent portion, copper adheres to the aluminum base of the crack. Thus, the crack-producing site was identified by visually observing the copper attachment point along the entire length of the bent portion using a loupe or Vernier caliper. Specifically, (L / 25) × 100 (%) is based on crack generation by making the total length of copper adhesion observed in the bent portion L (mm) and dividing it by the total bending length (25 mm). It was set as the exposure rate of the aluminum base. Ten test pieces were prepared from the same test piece for the flexibility test pieces, and evaluated for each to obtain the respective exposure rates of the aluminum substrate.

결과를 표 3에 나타낸다. 표의 노출률은, 10개의 시험편의 평균 노출률을 나타낸다. 여기서, 노출률이 5% 이하를 합격으로 하고, 이것을 초과하는 것을 불합격으로 판정했다.Table 3 shows the results. The exposure rate in the table shows the average exposure rate of 10 test pieces. Here, the exposure rate was set to 5% or less as a pass, and it was judged as failing to exceed this.

〔수지 피복 표면처리 알루미늄재의 평가〕〔Evaluation of resin coated surface-treated aluminum materials〕

상기 공시재의 산화 피막측의 표면에 DIC(주)제 「9K-564S」(수성 아크릴 수지 도료)를 도포하여 이것을 건조하고(250℃, 1분), 2㎛의 두께의 수지 도막(수지층)을 형성하여, 수지 피복 표면처리 알루미늄재를 제작했다. 이것을 길이 100㎜, 폭 30㎜로 절단함과 함께, 수지층 측이 볼록하게 되도록, 금형을 이용하여 5R로 180도 구부려, 시험편을 제작했다. 시험편의 굽힘 정점부를, 1% 염화나트륨 수용액을 함유시킨 폭 20㎜의 스펀지에 접촉시킴과 함께, 시험편 측을 플러스로 하고 스펀지 측을 마이너스로 하여 6.0V의 직류 전압을 4초간 인가하고, 전압 인가 중의 최대 전류치를 측정했다. 공시재와 수지층의 계면에서 박리 등의 손상이 발생하지 않는 경우에는, 시험편이 절연체로 되기 때문에 전류가 흐르지 않는다. 한편, 손상 부분이 존재하는 경우에는, 거기에 존재하는 염화나트륨 수용액에 의해 전류가 흐른다. 그리고, 손상 부분이 클수록, 거기에 존재하는 염화나트륨 수용액이 다량으로 되어 전기 저항이 저감하여 최대 전류치가 커진다. 최대 전류치가 5mA 미만의 경우에는, 박리 등의 손상이 없거나 또는 작아 합격으로 했다. 한편, 5mA 이상의 경우에는, 박리 등의 손상이 커 불합격으로 했다. 결과를 표 3에 나타낸다.The surface of the above-mentioned test material was coated with "9K-564S" (aqueous acrylic resin coating) manufactured by DIC Co., Ltd. to dry it (250 ° C, 1 minute), and a resin coating film having a thickness of 2 μm (resin layer) To form a resin-coated surface-treated aluminum material. While cutting this to a length of 100 mm and a width of 30 mm, a test piece was prepared by bending 180 degrees with a 5R using a mold so that the resin layer side was convex. The bending peak of the test piece was brought into contact with a sponge having a width of 20 mm containing an aqueous 1% sodium chloride solution, and the test piece side was positive and the sponge side was negative, and a DC voltage of 6.0 V was applied for 4 seconds. The maximum current value was measured. In the case where damage such as peeling does not occur at the interface between the test material and the resin layer, no current flows because the test piece becomes an insulator. On the other hand, when a damaged portion is present, an electric current flows through the sodium chloride aqueous solution present therein. In addition, the larger the damaged portion, the greater the amount of sodium chloride solution present therein, and the lower the electrical resistance, the greater the maximum current value. When the maximum current value was less than 5 mA, no damage, such as peeling, was present or was small, and thus was passed. On the other hand, in the case of 5 mA or more, damage such as peeling was large, so that it was rejected. Table 3 shows the results.

실시예 1~15에서는 모두, 산화 피막이 본원 규정을 만족하기 때문에, 표면처리 알루미늄재의 접착성 평가, 밀착성 평가 및 유연성 평가와 수지 피복 표면처리 알루미늄재의 평가가 합격 판정이었다. 이것에 대해서 비교예 1~13에서는, 하기의 이유에 의해 불합격 판정이었다.In all of Examples 1-15, since the oxide film satisfies the provisions of the present application, the adhesion evaluation, adhesion evaluation, and flexibility evaluation of the surface-treated aluminum material and evaluation of the resin-coated surface-treated aluminum material were passed. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 13, the failure was judged for the following reasons.

비교예 1에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 용액의 pH가 너무 낮았기 때문에, 알칼리 에칭력이 부족했다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층의 작은 구멍 지름이 부족하고, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 1, since the pH of the electrolytic solution in the alternating current electrolytic treatment was too low, the alkali etching power was insufficient. Therefore, the pore diameter of the porous aluminum oxide coating layer was insufficient, and adhesion, adhesion, and flexibility were unsuccessful.

비교예 2에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 용액의 pH가 너무 높았기 때문에, 알칼리 에칭력이 과잉으로 되었다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께가 부족하고, 또 다공성 알루미늄 피막의 작은 구멍 지름이 과대하게 되어, 산화 피막 합계 두께의 변동폭, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 2, since the pH of the electrolytic solution in the alternating current electrolytic treatment was too high, the alkali etching power was excessive. Therefore, the thickness of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer is insufficient, and the pore diameter of the porous aluminum coating becomes excessive, and thus the fluctuation width, adhesiveness, adhesion and flexibility of the total thickness of the oxide coating are disqualified.

비교예 3에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 용액의 온도가 너무 낮았기 때문에, 알칼리 에칭력이 부족했다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층의 다공질 구조가 불완전하게 되어 작은 구멍 지름이 부족하여, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 3, since the temperature of the electrolytic solution in the AC electrolytic treatment was too low, the alkali etching power was insufficient. Therefore, the porous structure of the porous aluminum oxide coating layer was incomplete, and the pore size was insufficient, resulting in poor adhesion, adhesion, and flexibility.

비교예 4에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 용액의 온도가 너무 높았기 때문에, 알칼리 에칭력이 과잉으로 되었다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께가 부족하고, 산화 피막 합계 두께의 변동폭, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 4, since the temperature of the electrolytic solution in the AC electrolytic treatment was too high, the alkali etching power was excessive. Therefore, the thickness of the porous aluminum coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer was insufficient, and the fluctuation width, adhesiveness, adhesion and flexibility of the total thickness of the oxide coating failed.

비교예 5에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 용액이 완전하게 새로운 욕(浴)이며, 용존 알루미늄이 존재하지 않았기 때문에, 전해 반응 초기에서의 산화 피막의 형성 반응이 급격하게 일어났다. 그 때문에, 부분적으로 산화 피막이 두껍게 형성된 장소가 생겨, 산화 피막 합계 두께의 변동폭, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 5, since the electrolytic solution in the alternating current electrolytic treatment was a completely new bath, and no dissolved aluminum was present, the formation reaction of the oxide film in the initial stage of the electrolytic reaction occurred rapidly. Therefore, a place where the oxide film was partially formed was formed, and the fluctuation width, adhesiveness, adhesiveness, and flexibility of the total thickness of the oxide film failed.

비교예 6에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 용액의 용존 알루미늄 농도가 너무 높았기 때문에, 국부적으로 얇은 산화 피막이 형성되었다. 그 때문에, 산화 피막 합계 두께의 변동폭, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 6, because the dissolved aluminum concentration of the electrolytic solution in the AC electrolytic treatment was too high, a locally thin oxide film was formed. Therefore, the fluctuation width, adhesiveness, adhesiveness and flexibility of the total thickness of the oxide film failed.

비교예 7에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 주파수가 너무 낮았기 때문에, 전기적 상태가 직류 전해에 가까워졌다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층의 형성이 진행되지 않아, 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께가 과대하게 되었다. 그 때문에, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 7, since the frequency in the AC electrolytic treatment was too low, the electrical state became closer to DC electrolysis. Therefore, formation of the porous aluminum oxide coating layer did not proceed, and the thickness of the barrier aluminum oxide coating layer was excessive. Therefore, adhesiveness, adhesiveness, and flexibility were unsuccessful.

비교예 8에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 주파수가 너무 높았기 때문에, 양극과 음극의 반전이 너무 빨랐다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층의 형성이 극단적으로 늦어져 그 두께가 부족하여, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 8, since the frequency in the AC electrolytic treatment was too high, the inversion of the positive electrode and the negative electrode was too fast. Therefore, the formation of the porous aluminum oxide coating layer was extremely delayed, and the thickness was insufficient, resulting in failure of adhesion, adhesion, and flexibility.

비교예 9에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전류 밀도가 너무 낮았기 때문에, 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 우선적으로 형성되었다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층의 두께가 부족하여, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 9, since the current density in the AC electrolytic treatment was too low, a barrier aluminum oxide film layer was preferentially formed. Therefore, the thickness of the porous aluminum oxide coating layer was insufficient, and adhesiveness, adhesion, and flexibility were unsuccessful.

비교예 10에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전류 밀도가 너무 높았기 때문에, 전해 처리에 있어서 전해 용액 중에 스파크가 발생하는 등, 제어가 불안정하게 되었다. 그 때문에, 산화막 전체가 과잉으로 형성되고, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께가 과대하게 되는 한편으로, 산화 피막 합계 두께가 극단적으로 적은 부분도 발생했다. 그 결과, 산화 피막 합계 두께의 변동폭, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 10, since the current density in the AC electrolytic treatment was too high, the control became unstable, such as sparks generated in the electrolytic solution in the electrolytic treatment. Therefore, the entire oxide film is formed excessively, and the thickness of the porous aluminum oxide film layer and the barrier-type aluminum oxide film layer is excessive, while a part in which the total thickness of the oxide film is extremely small has also occurred. As a result, the fluctuation width, adhesiveness, adhesiveness and flexibility of the total thickness of the oxide film failed.

비교예 11에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 처리 시간이 너무 짧았기 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 충분히 형성되지 않았다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층의 두께가 부족하여, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 11, because the electrolytic treatment time in the AC electrolytic treatment was too short, the porous aluminum oxide coating layer and the barrier aluminum oxide coating layer were not sufficiently formed. Therefore, the thickness of the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer was insufficient, and adhesion, adhesion, and flexibility were unsuccessful.

비교예 12에서는, 교류 전해 처리에 있어서의 전해 처리 시간이 너무 길었기 때문에, 산화막 전체가 과잉으로 형성되었다. 그 때문에, 다공성 알루미늄 산화 피막층 및 배리어형 알루미늄 산화 피막층이 너무 두꺼워져서 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 12, since the electrolytic treatment time in the AC electrolytic treatment was too long, the entire oxide film was excessively formed. Therefore, the porous aluminum oxide coating layer and the barrier-type aluminum oxide coating layer became too thick, and the adhesiveness, adhesiveness, and flexibility were unsuccessful.

비교예 13에서는, 종래 기술에 기초하는 황산 알루마이트 처리이며, 본 발명에서 규정하는 산화 피막 구조를 가지지 않기 때문에, 접착성, 밀착성 및 유연성이 불합격이었다.In Comparative Example 13, it was an anodized sulfuric acid treatment based on the prior art and did not have the oxide film structure specified in the present invention, so adhesion, adhesion, and flexibility were not acceptable.

비교예 1~13에서는 모두, 산화 피막이 본 발명의 특징을 가지지 않기 때문에, 수지 피복 표면처리 알루미늄재의 굽힘 손상이 커, 피복 평가가 불합격이었다.In all of Comparative Examples 1 to 13, since the oxide film did not have the features of the present invention, the bending damage of the resin-coated surface-treated aluminum material was large, and the coating evaluation was unsuccessful.

산업상의 이용 가능성Industrial availability

본 발명에 의하면, 알루미늄재 전체 면에 걸쳐서 접착성 및 밀착성이 우수한 표면처리 알루미늄재 및 이것을 이용한 수지 피복 표면처리 알루미늄재를 얻을 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the surface-treated aluminum material excellent in adhesiveness and adhesiveness over the whole surface of an aluminum material, and the resin-coated surface-treated aluminum material using this can be obtained.

1. 표면처리 알루미늄재
2. 산화 피막
3. 다공성 알루미늄 산화 피막층
31. 작은 구멍
4. 배리어형 알루미늄 산화 피막층
5. 소지
1. Surface treatment aluminum material
2. Oxide film
3. Porous aluminum oxide coating layer
31. Eyelet
4. Barrier type aluminum oxide coating layer
5. Possession

Claims (6)

표면에 산화 피막이 형성된 알루미늄재로서, 상기 산화 피막은 표면측에 형성된 두께 20~500㎚의 다공성 알루미늄 산화 피막층과 소지(素地) 측에 형성된 두께 3~30㎚의 배리어형 알루미늄 산화 피막층으로 이루어지고, 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층에는 지름 5~30㎚의 작은 구멍이 형성되어 있으며, 상기 알루미늄재 표면 전체에서의 상기 다공성 알루미늄 산화 피막층과 배리어형 알루미늄 산화 피막층과의 합계 두께의 변동폭이, 상기 합계 두께의 산술 평균치의 ±50% 이내인 것을 특징으로 하는 표면처리 알루미늄재.As an aluminum material having an oxide film formed on the surface, the oxide film is formed of a porous aluminum oxide film layer having a thickness of 20 to 500 nm formed on the surface side and a barrier aluminum oxide coating layer having a thickness of 3 to 30 nm formed on the substrate side, A small hole with a diameter of 5 to 30 nm is formed in the porous aluminum oxide film layer, and the variation width of the total thickness of the porous aluminum oxide film layer and the barrier aluminum oxide film layer on the entire surface of the aluminum material is arithmetic of the total thickness. Surface-treated aluminum material characterized in that it is within ± 50% of the average value. 제 1 항에 있어서,
상기 표면처리 알루미늄재를 산화 피막측이 볼록하게 되도록 5R로 180도 굽혔을 때에, 알루미늄 소지의 노출률이 5% 이하인 표면처리 알루미늄재.
According to claim 1,
When the surface-treated aluminum material is bent 180 degrees with 5R so that the oxide film side is convex, the surface-treated aluminum material having an aluminum substrate with an exposure rate of 5% or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 표면처리 알루미늄재의 제조방법으로서, 표면처리되는 알루미늄재의 전극과, 대(對)전극을 이용하고, pH9~13으로 액체의 온도 35~80℃이며, 또, 용존 알루미늄 농도가 5ppm 이상 1000ppm 이하인 알칼리성 수용액을 전해 용액으로 하고, 주파수 20~100Hz, 전류 밀도 4~50A/d㎡ 및 전해 시간 5~60초 사이의 조건으로 교류 전해 처리함으로써, 대전극에 대향하는 상기 알루미늄재 표면에 산화 피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 표면처리 알루미늄재의 제조방법.A method for manufacturing the surface-treated aluminum material according to claim 1 or 2, wherein the electrode of the surface-treated aluminum material and a counter electrode are used, and the pH of the liquid is 35 to 80 ° C at a pH of 9 to 13, and dissolved. By using an alkaline aqueous solution having an aluminum concentration of 5ppm or more and 1000ppm or less as an electrolytic solution, and performing alternating current electrolysis under conditions of a frequency of 20 to 100Hz, a current density of 4 to 50A / dm2, and an electrolysis time of 5 to 60 seconds, it is opposed to A method of manufacturing a surface-treated aluminum material, characterized in that an oxide film is formed on the surface of the aluminum material. 제 3 항에 있어서,
상기 대전극을 흑연 전극으로 하는 표면처리 알루미늄재의 제조방법.
The method of claim 3,
Method for manufacturing a surface-treated aluminum material using the counter electrode as a graphite electrode.
제 3 항에 있어서,
상기 표면처리되는 알루미늄재의 전극과, 대전극이 모두 평판 형상인 표면처리 알루미늄재의 제조방법.
The method of claim 3,
A method of manufacturing a surface-treated aluminum material in which both the electrode of the surface-treated aluminum material and the counter electrode are flat.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 표면처리 알루미늄재의 산화 피막의 표면에 수지층을 피복한 것을 특징으로 하는 수지 피복 표면처리 알루미늄재.A resin-coated surface-treated aluminum material, characterized in that a resin layer is coated on the surface of the oxide film of the surface-treated aluminum material according to claim 1 or 2.
KR1020147025380A 2012-02-12 2013-02-08 Surface treated aluminum material, method for producing same, and resin-coated surface treated aluminum material KR102098576B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012027882 2012-02-12
JPJP-P-2012-027882 2012-02-12
PCT/JP2013/053062 WO2013118870A1 (en) 2012-02-12 2013-02-08 Surface treated aluminum material, method for producing same, and resin-coated surface treated aluminum material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140123589A KR20140123589A (en) 2014-10-22
KR102098576B1 true KR102098576B1 (en) 2020-04-08

Family

ID=48947625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147025380A KR102098576B1 (en) 2012-02-12 2013-02-08 Surface treated aluminum material, method for producing same, and resin-coated surface treated aluminum material

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP6001573B2 (en)
KR (1) KR102098576B1 (en)
CN (1) CN104114752B (en)
MY (1) MY164612A (en)
TW (1) TWI596237B (en)
WO (1) WO2013118870A1 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106460221B (en) * 2014-07-18 2021-05-11 株式会社Uacj Surface-treated aluminum material, method for producing same, and surface-treated aluminum material/resin layer assembly
JP6274146B2 (en) * 2015-04-17 2018-02-07 トヨタ自動車株式会社 Heat shield film forming method and heat shield film structure
JP6829961B2 (en) 2015-08-13 2021-02-17 株式会社Uacj Surface-treated aluminum material with excellent resin adhesion and its manufacturing method, and surface-treated aluminum material / resin joint
JP7093607B2 (en) 2017-02-22 2022-06-30 株式会社Uacj Surface-treated aluminum material and its manufacturing method, and surface-treated aluminum material / joined member made of surface-treated aluminum material and a member to be joined such as resin, and a method for manufacturing the same.
US11230785B2 (en) 2017-02-22 2022-01-25 Uacj Corporation Surface-treated aluminum material and method for manufacturing same; and bonded body of surface-treated aluminum material and bonding member comprising said surface-treated aluminum material, and bonding member such as resin, and method for manufacturing said bonded body
CN107275079A (en) * 2017-07-07 2017-10-20 新疆西部宏远电子有限公司 A kind of processing method of solid-state capacitor electrode foil
CN108705820A (en) * 2018-06-12 2018-10-26 福建优净星环境科技有限公司 A kind of antibacterial aluminium foil composite material and its manufacturing method
CN113061269A (en) * 2021-03-04 2021-07-02 南京精工新材料有限公司 Colorless transparent polyimide film, preparation method thereof and polyimide hardened film

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005264290A (en) * 2004-03-22 2005-09-29 Minoru Mitani Method for forming anodization film on surface of aluminum or aluminum alloy
JP2011021260A (en) * 2009-07-17 2011-02-03 Furukawa-Sky Aluminum Corp Aluminum substrate and method of manufacturing the same

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0832966B2 (en) * 1990-02-01 1996-03-29 スカイアルミニウム株式会社 Aluminum alloy coating plate for can lid and manufacturing method thereof
JP2579234B2 (en) * 1990-04-25 1997-02-05 スカイアルミニウム株式会社 Aluminum fin material for heat exchanger and method for producing the same
JP2001213066A (en) * 2000-02-04 2001-08-07 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacturing method for lithographic printing plate support, lithographic printing plate support, and lithographic printing plate
JP2002096573A (en) * 2000-09-21 2002-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd Support for lithographic printing plate and original plate of lithographic printing plate
JP2003342790A (en) * 2002-05-27 2003-12-03 Mitsubishi Alum Co Ltd Surface treated aluminum material and thermoplastic resin-coated aluminum material
JP4455192B2 (en) * 2004-07-07 2010-04-21 三菱アルミニウム株式会社 Thermoplastic resin coated aluminum plate
JP5145092B2 (en) * 2008-03-24 2013-02-13 古河スカイ株式会社 Aluminum material for printed wiring board and method for producing the same
JP5275701B2 (en) * 2008-06-20 2013-08-28 古河スカイ株式会社 Aluminum material for printed wiring board and method for producing the same
JP5180748B2 (en) * 2008-09-09 2013-04-10 三菱アルミニウム株式会社 Heat shield sheet
CN101724880B (en) * 2008-10-24 2012-06-20 比亚迪股份有限公司 Electrolyte, anodization method and anodized silicon-aluminum alloy
CN101654799B (en) * 2009-09-15 2012-03-28 江苏工业学院 Method for preparing highly ordered porous anodic alumina films in superhigh speed

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005264290A (en) * 2004-03-22 2005-09-29 Minoru Mitani Method for forming anodization film on surface of aluminum or aluminum alloy
JP2011021260A (en) * 2009-07-17 2011-02-03 Furukawa-Sky Aluminum Corp Aluminum substrate and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
TWI596237B (en) 2017-08-21
CN104114752A (en) 2014-10-22
MY164612A (en) 2018-01-30
JPWO2013118870A1 (en) 2015-05-11
KR20140123589A (en) 2014-10-22
JP6001573B2 (en) 2016-10-05
TW201348517A (en) 2013-12-01
WO2013118870A1 (en) 2013-08-15
CN104114752B (en) 2016-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102098576B1 (en) Surface treated aluminum material, method for producing same, and resin-coated surface treated aluminum material
JP5275701B2 (en) Aluminum material for printed wiring board and method for producing the same
KR101574475B1 (en) Surface-treated copper foil, and copper-clad laminate obtained using surface-treated copper foil
KR101846141B1 (en) Manufacturing method of copper clad laminate
JP6722452B2 (en) Surface-treated copper foil, copper-clad laminate obtained by using the surface-treated copper foil, and printed wiring board
JP2011021260A (en) Aluminum substrate and method of manufacturing the same
JP2012039126A (en) Peel strength enhancement of copper laminate
JP5145092B2 (en) Aluminum material for printed wiring board and method for producing the same
WO2015015768A1 (en) Treated surface aluminum material and manufacturing method therefor
JP2019026924A (en) Surface treated aluminum alloy material and manufacturing method thereof
JP7026547B2 (en) Surface-treated aluminum alloy material and its manufacturing method
WO2017026461A1 (en) Surface-treated aluminum material having excellent resin adhesion, method for manufacturing same, and surface-treated aluminum material/resin joined body
US11560641B2 (en) Surface-treated aluminum material having excellent adhesiveness to resins, method for manufacturing the same, and surface-treated aluminum material-resin bonded body
US11230785B2 (en) Surface-treated aluminum material and method for manufacturing same; and bonded body of surface-treated aluminum material and bonding member comprising said surface-treated aluminum material, and bonding member such as resin, and method for manufacturing said bonded body
WO2022004519A1 (en) Surface-treated aluminum material and method for producing same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant