KR102080003B1 - Method for producing glass plate, and glass plate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면의 품질이 양호한 유리판의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서, 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 용융 유리는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.This invention provides the manufacturing method of the glass plate with the favorable quality of the main surface which contacted the reducing atmosphere in the bath. The present invention provides a method for producing a glass plate having a step of flowing molten glass continuously supplied on molten tin in a float bath by forming it on the molten tin, wherein the molten glass immediately before being supplied into the float bath is formed of Au, which is an impurity. The total content of Cu and Ag is 0.5 mass ppm or less, and the manufacturing method of the glass plate characterized by the above-mentioned.

Figure R1020157001174
Figure R1020157001174

Description

유리판의 제조 방법 및 유리판 {METHOD FOR PRODUCING GLASS PLATE, AND GLASS PLATE}Method for manufacturing glass plate and glass plate {METHOD FOR PRODUCING GLASS PLATE, AND GLASS PLATE}

본 발명은 유리판의 제조 방법 및 유리판에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a glass plate and a glass plate.

유리판의 성형 방법으로서 플로트법이 널리 이용되고 있다. 플로트법은 플로트 배스(이하, 간단히 「배스」라고도 함) 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 용융 주석 상에서 유동시켜 띠판 형상으로 성형한다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 배스 내의 분위기는, 용융 주석의 산화를 방지하기 위하여 수소 가스를 포함하는 환원 분위기로 된다. 수소 가스는, 외부로부터 혼입되는 산소 가스와 반응함으로써 용융 주석의 산화를 방지한다.The float method is widely used as a shaping | molding method of a glass plate. In the float method, molten glass continuously supplied on molten tin in a float bath (hereinafter also referred to simply as "bath") is flowed on molten tin to be molded into a strip shape (see Patent Document 1, for example). The atmosphere in the bath becomes a reducing atmosphere containing hydrogen gas in order to prevent oxidation of molten tin. Hydrogen gas reacts with oxygen gas mixed from the outside to prevent oxidation of molten tin.

일본 특허 공개 제2010-053032호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2010-053032

배스 내에서 용융 유리를 성형할 때, 환원 분위기 중의 입자가 응집하여 용융 유리의 상면에 낙하되고, 부착되어 결점이 되는 경우가 있었다.When shaping the molten glass in the bath, the particles in the reducing atmosphere agglomerated and fell on the upper surface of the molten glass, which sometimes adhered and became a defect.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면의 품질이 양호한 유리판의 제조 방법 및 유리판의 제공을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said subject, and an object of this invention is to provide the manufacturing method and glass plate of the favorable glass plate of the quality of the main surface which contacted the reducing atmosphere in the bath.

상기 목적을 해결하기 위하여, 본 발명의 형태 (1)에 따른 유리판의 제조 방법은,In order to solve the said objective, the manufacturing method of the glass plate which concerns on the form (1) of this invention,

플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the glass plate which has a process of flowing and shape | molding the molten glass continuously supplied on the molten tin in a float bath on the said molten tin,

상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.The molten glass immediately before being supplied into the float bath is characterized in that the total content of Au, Cu, and Ag as impurities is 0.5 mass ppm or less.

또한, 본 발명의 형태 (2)에 따른 유리판의 제조 방법은,In addition, the manufacturing method of the glass plate which concerns on the form (2) of this invention,

플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the glass plate which has a process of flowing and shape | molding the molten glass continuously supplied on the molten tin in a float bath on the said molten tin,

상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.The molten glass immediately before being supplied into the float bath has a total content of F, Cl, Br, and I as impurities, which is 200 mass ppm or less.

또한, 본 발명의 형태 (3)에 따른 유리판은,In addition, the glass plate concerning the aspect (3) of this invention,

플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,A glass plate which is formed by flowing molten glass continuously supplied on molten tin in a float bath on the molten tin,

불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.The total content of Au, Cu and Ag as impurities is characterized by being 0.5 mass ppm or less.

또한, 본 발명의 형태 (4)에 따른 유리판은,In addition, the glass plate concerning the aspect (4) of this invention,

플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,A glass plate which is formed by flowing molten glass continuously supplied on molten tin in a float bath on the molten tin,

불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.It is characterized by the total content of impurities F, Cl, Br and I being 200 mass ppm or less.

본 발명에 따르면, 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면의 품질이 양호한 유리판의 제조 방법 및 유리판이 제공된다.According to this invention, the manufacturing method and glass plate of the glass plate with favorable quality of the main surface which contacted the reducing atmosphere in the bath are provided.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유리판의 제조 장치의 설명도 (1)이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유리판의 제조 장치의 설명도 (2)이다.
1: is explanatory drawing (1) of the manufacturing apparatus of the glass plate which concerns on one Embodiment of this invention.
It is explanatory drawing (2) of the manufacturing apparatus of the glass plate which concerns on one Embodiment of this invention.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하의 도면에 있어서, 동일하거나 또는 대응하는 구성에는, 동일하거나 또는 대응하는 부호를 붙여 설명을 생략한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated with reference to drawings. In addition, in the following drawings, the same or corresponding structure is attached | subjected with the same or corresponding code | symbol, and description is abbreviate | omitted.

본 실시 형태에 따른 유리판의 제조 방법은, 예를 들어 용해 공정, 성형 공정, 서냉 공정 및 절단 공정을 가지며, 필요에 따라 연마 공정을 더 갖는다. 연마 공정은 유리판의 용도에 따라 행해진다.The manufacturing method of the glass plate which concerns on this embodiment has a melting process, a shaping | molding process, a slow cooling process, and a cutting process, for example, and also has a grinding | polishing process as needed. Polishing process is performed according to the use of a glass plate.

용해 공정은, 복수 종류의 원료를 섞어 제조한 유리 원료를 용해하여 용융 유리를 얻는다. 유리 원료는 용해로 내에 투입된 후, 버너로부터 분사되는 화염의 복사열에 의해 용해되어 용융 유리가 된다.A melting process melt | dissolves the glass raw material which mixed and manufactured several types of raw materials, and obtains a molten glass. After inject | pouring a glass raw material into a melting furnace, it melts by the radiant heat of the flame sprayed from a burner, and becomes molten glass.

성형 공정은, 용해 공정에서 얻어지는 용융 유리를 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급하고, 용융 주석 상에서 용융 유리를 유동시켜 성형하여 판 형상 유리(소위 유리 리본)를 얻는다. 이 성형 방법은 플로트법이라고 불린다. 배스 내의 분위기는, 용융 주석의 산화를 방지하기 위하여 수소 가스를 포함하는 환원 분위기로 된다. 판 형상 유리는 소정 방향으로 유동하면서 냉각되어, 배스의 출구 부근에서 용융 주석으로부터 끌어올려진다.The shaping | molding process continuously supplies the molten glass obtained by a melting process on the molten tin in a bath, flows a molten glass on molten tin, and shapes it, and obtains a plate-shaped glass (so-called glass ribbon). This molding method is called a float method. The atmosphere in the bath becomes a reducing atmosphere containing hydrogen gas in order to prevent oxidation of molten tin. The plate-like glass is cooled while flowing in a predetermined direction, and is pulled out of the molten tin near the outlet of the bath.

서냉 공정은, 성형 공정에서 얻어지는 판 형상 유리를 서냉로 내에서 서냉한다. 판 형상 유리는, 서냉로의 입구로부터 출구를 향하여 롤 위를 수평으로 반송되면서 서냉된다. 서냉로 입구의 내측 근방에서 판 형상 유리의 표면에 아황산(SO2) 가스 등이 분사되어, 판 형상 유리의 표층에 흠집 방지막이 형성된다. 서냉로의 출구는 대기에 개방되어 있으므로, 서냉로 내의 분위기는 대기 분위기이다.The slow cooling process slows down the plate glass obtained by a shaping | molding process in a slow cooling furnace. The plate glass is slowly cooled while being conveyed horizontally from the inlet of the slow cooling furnace toward the outlet. Sulfurous acid (SO 2 ) gas or the like is injected onto the surface of the plate-like glass near the inner side of the inlet of the slow cooling furnace to form a scratch prevention film on the surface layer of the plate-shaped glass. Since the exit of the slow cooling furnace is open to the atmosphere, the atmosphere in the slow cooling furnace is an atmospheric atmosphere.

절단 공정은, 서냉 공정에서 서냉된 판 형상 유리를 절단기로 소정 치수로 절단한다. 절단 공정에 있어서, 판 형상 유리의 폭 방향 양쪽 테두리부(소위 귀부)가 절제된다. 판 형상 유리의 폭 방향 양쪽 테두리부는, 표면 장력 등의 영향으로 두꺼워지기 때문이다.The cutting process cuts the plate glass cooled by the slow cooling process to predetermined dimension with a cutter. In a cutting process, the width direction both edge part (so-called ear | edge part) of plate-shaped glass is excised. This is because both edge portions in the width direction of the plate-shaped glass become thick under the influence of surface tension and the like.

연마 공정은, 절단 공정에서 얻어지는 유리판의 주면을 연마한다. 연마 공정에서는, 유리판의 용도에 따라 배스 내에서 용융 주석과 접촉한 주면(이하, 「보텀면」이라고 함)이 연마된다. 보텀면과 반대측의 주면이며, 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면(이하, 「톱면」이라고 함)은 연마되지 않는다.The polishing step polishes the main surface of the glass plate obtained in the cutting step. In the grinding | polishing process, the main surface (henceforth "bottom surface") which contacted molten tin in the bath according to the use of a glass plate is polished. It is a main surface opposite to a bottom surface, and the main surface (henceforth "top surface") which contacted the reducing atmosphere in the bath is not polished.

이와 같이 하여 제품인 유리판이 얻어진다. 유리판은, 예를 들어 차량용 창 유리, 건축물용 창 유리, 디스플레이용 기판, 디스플레이용 커버 유리, 또는 포토마스크용 기판으로서 사용된다. 「디스플레이」는 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)를 포함한다. 디스플레이용 기판의 두께로서는 1mm 이하가 예시된다. 또한, 태블릿 단말기 등의 플렉시블 액정 패널에 사용되는 유리판의 두께는 0.3mm 이하인 것이 바람직하다.In this way, the glass plate which is a product is obtained. The glass plate is used, for example, as a window glass for a vehicle, a window glass for a building, a substrate for a display, a cover glass for a display, or a substrate for a photomask. "Display" includes flat panel displays (FPD) such as liquid crystal displays (LCDs), plasma displays (PDPs), organic EL displays, and the like. As thickness of the display substrate, 1 mm or less is illustrated. Moreover, it is preferable that the thickness of the glass plate used for flexible liquid crystal panels, such as a tablet terminal, is 0.3 mm or less.

유리판의 유리 종류는 유리판의 용도에 따라 선택된다. 예를 들어, LCD용 유리 기판의 경우, 무알칼리 유리가 사용된다. 또한, 차량용 창 유리, 건축물용 창 유리 및 PDP용 유리 기판의 경우, 소다석회 유리가 사용된다. 디스플레이용 커버 유리의 경우, 화학 강화 가능한 소다석회 유리가 주로 사용된다. 포토마스크용 기판의 경우, 열팽창 계수가 낮은 석영 유리가 주로 사용된다.The kind of glass of a glass plate is selected according to the use of a glass plate. For example, in the case of the glass substrate for LCD, an alkali free glass is used. In addition, in the case of the vehicle window glass, the building window glass, and the glass substrate for PDP, soda-lime glass is used. In the case of cover glass for displays, chemically strengthenable soda lime glass is mainly used. In the case of a photomask substrate, quartz glass with a low thermal expansion coefficient is mainly used.

무알칼리 유리는, 예를 들어 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 50 내지 66%, Al2O3: 10.5 내지 24%, B2O3: 0 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 14.5%, SrO: 0 내지 24%, BaO: 0 내지 13.5%, ZrO2: 0 내지 5%, SnO: 0 내지 3%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 29.5%이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1% 이하이어도 된다.The alkali free glass is, for example, in terms of mass% based on an oxide basis, SiO 2 : 50 to 66%, Al 2 O 3 : 10.5 to 24%, B 2 O 3 : 0 to 12%, MgO: 0 to 8% , CaO: 0 to 14.5%, SrO: 0 to 24%, BaO: 0 to 13.5%, ZrO 2 : 0 to 5%, SnO: 0 to 3%, MgO + CaO + SrO + BaO: 9 to It is 29.5%, and the total amount of content of an alkali metal oxide may be 0.1% or less.

무알칼리 유리는, 바람직하게는 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 58 내지 66%, Al2O3: 15 내지 22%, B2O3: 5 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 9%, SrO: 3 내지 12.5%, BaO: 0 내지 2%, SnO: 0 내지 1%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 18%이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1% 이하이다.A non-alkali glass is preferably displayed in oxide-based mass%, SiO 2: 58 to 66%, Al 2 O 3: 15 to 22%, B 2 O 3: 5 to 12%, MgO: 0 to 8% , CaO: 0 to 9%, SrO: 3 to 12.5%, BaO: 0 to 2%, SnO: 0 to 1%, MgO + CaO + SrO + BaO: 9 to 18%, the alkali metal oxide The total amount of the content is 0.1% or less.

소다석회 유리는, 예를 들어 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 65 내지 75%, Al2O3: 0 내지 3%, CaO: 5 내지 15%, MgO: 0 내지 15%, Na2O: 10 내지 20%, K2O: 0 내지 3%, Li2O: 0 내지 5%, Fe2O3: 0 내지 3%, TiO2: 0 내지 5%, CeO2: 0 내지 3%, BaO: 0 내지 5%, SrO: 0 내지 5%, B2O3: 0 내지 5%, ZnO: 0 내지 5%, ZrO2: 0 내지 5%, SnO2: 0 내지 3%, SO3: 0 내지 0.5%를 함유한다.Soda-lime glass, for example in weight percentages of the oxide basis, SiO 2: 65 to 75%, Al 2 O 3: 0 to 3%, CaO: 5 to 15%, MgO: 0 to 15%, Na 2 O: 10 to 20%, K 2 O: 0 to 3%, Li 2 O: 0 to 5%, Fe 2 O 3 : 0 to 3%, TiO 2 : 0 to 5%, CeO 2 : 0 to 3% , BaO: 0 to 5%, SrO: 0 to 5%, B 2 O 3 : 0 to 5%, ZnO: 0 to 5%, ZrO 2 : 0 to 5%, SnO 2 : 0 to 3%, SO 3 : 0 to 0.5% is contained.

이어서, 도 1 및 도 2에 기초하여, 상기 유리판의 성형 공정의 상세에 대하여 설명한다.Next, based on FIG. 1 and FIG. 2, the detail of the shaping | molding process of the said glass plate is demonstrated.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유리판의 제조 장치의 설명도이다. 도 1은 배스의 평면 단면도이고, 도 2는 배스의 측면 단면도이다.1 and 2 are explanatory diagrams of an apparatus for manufacturing a glass plate according to an embodiment of the present invention. 1 is a plan sectional view of the bath, and FIG. 2 is a side sectional view of the bath.

성형 공정에서는, 배스(10) 내의 용융 주석(20) 상에서 용융 유리(30)를 유동시키면서 냉각하여 띠판 형상으로 성형한다. 용융 주석(20)의 산화를 방지하기 위하여, 배스(10) 내의 상부 공간은 수소 가스를 포함하는 환원 분위기(40)로 채워져 있다. 외기의 침입을 방지하기 위하여, 배스(10) 내의 상부 공간은 대기압보다도 높은 정압으로 유지되어 있다. 배스(10)에는 스파우트 립(50), 히터(60), 급기로(70) 및 배기로(80) 등이 설치되어 있다.In the molding step, the molten glass 30 is cooled while flowing on the molten tin 20 in the bath 10 to be molded into a strip shape. In order to prevent oxidation of the molten tin 20, the upper space in the bath 10 is filled with a reducing atmosphere 40 containing hydrogen gas. In order to prevent intrusion of outside air, the upper space in the bath 10 is maintained at a static pressure higher than atmospheric pressure. The bath 10 is provided with a spout lip 50, a heater 60, an air supply path 70, an exhaust path 80, and the like.

스파우트 립(50)은 용융 유리(30)를 배스(10) 내에 공급하는 공급로이며, 배스(10)의 입구(12)에 설치된다. 스파우트 립(50)은 용융 유리(30)를 제작하는 용해로에 접속되어 있다.The spout lip 50 is a supply path for supplying the molten glass 30 into the bath 10, and is provided at the inlet 12 of the bath 10. The spout lip 50 is connected to a melting furnace for producing the molten glass 30.

히터(60)는 배스(10) 내를 가열하는 것이며, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같이 배스(10)의 천장으로부터 매달려져 있다. 히터(60)는, 예를 들어 용융 유리(30)의 유동 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되며, 매트릭스 형상으로 배치되어 있다. X 방향 및 Y 방향은 서로 직교하는 수평 방향이다.The heater 60 heats the inside of the bath 10, and is suspended from the ceiling of the bath 10, for example, as shown in FIG. The heater 60 is provided in multiple numbers at intervals, for example in the flow direction (X direction) and the width direction (Y direction) of the molten glass 30, and is arrange | positioned in matrix form. The X direction and the Y direction are horizontal directions perpendicular to each other.

히터(60)의 출력은, 배스(10)의 입구(12)로부터 출구(14)를 향할수록 용융 유리(30)의 온도가 낮아지도록 제어된다. 또한, 히터(60)의 출력은 용융 유리(30)의 두께가 폭 방향(Y 방향)으로 균일해지도록 제어된다.The output of the heater 60 is controlled such that the temperature of the molten glass 30 is lowered from the inlet 12 of the bath 10 toward the outlet 14. In addition, the output of the heater 60 is controlled so that the thickness of the molten glass 30 may become uniform in the width direction (Y direction).

급기로(70)는 배스(10) 내에 환원성 가스를 급기하는 통로이며, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같이 배스(10)의 천장에 설치된다. 급기로(70)는 소정 방향(X 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되어 있다.The air supply passage 70 is a passage for supplying a reducing gas into the bath 10, and is installed on the ceiling of the bath 10, for example, as shown in FIG. 2. The air supply 70 is provided in plural at intervals in a predetermined direction (X direction).

환원성 가스는 수소 가스와 질소 가스의 혼합 가스이어도 된다. 환원성 가스 중에서 차지하는 수소 가스의 비율은, 예를 들어 0.1 내지 15체적%이다.The reducing gas may be a mixed gas of hydrogen gas and nitrogen gas. The proportion of hydrogen gas in the reducing gas is, for example, 0.1 to 15% by volume.

배기로(80)는 환원 분위기(40)를 배기하는 통로이며, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같이 배스(10)의 측벽에 설치된다. 배기로(80)는 소정 방향(X 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되어 있다.The exhaust path 80 is a passage through which the reducing atmosphere 40 is exhausted, and is provided on the side wall of the bath 10, for example, as shown in FIG. 2. A plurality of exhaust passages 80 are provided at intervals in a predetermined direction (X direction).

도 2에 도시한 바와 같이, 용융 유리(30)를 띠판 형상으로 성형한 판 형상 유리(소위 유리 리본)는, 배스(10)의 출구(14) 부근에서 용융 주석(20)으로부터 끌어올려진다. 그 후, 판 형상 유리는 서냉 공정, 절단 공정 등을 거쳐 제품인 유리판으로 된다.As shown in FIG. 2, the plate-shaped glass (so-called glass ribbon) which shape | molded the molten glass 30 to strip shape is pulled up from the molten tin 20 in the vicinity of the exit 14 of the bath 10. As shown in FIG. Thereafter, the plate-shaped glass is a glass plate which is a product through a slow cooling process, a cutting process, and the like.

그런데, 배스(10) 내의 환원 분위기(40)는, 급기로(70)로부터 공급되는 환원성 가스 외에도, 용융 주석(20)이나 용융 유리(30)로부터 휘산된 성분을 포함하고 있다. 용융 주석(20)이나 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산된 성분(단체, 화합물을 포함함) 중 증기압이 낮은 성분은, 원래 휘산되기 어렵고 소량이기 때문에 문제가 되지 않는다. 한편, 증기압이 높은 성분은, 가스로서 배스(10)의 외부로 배출되기 때문에 통상은 문제가 되지 않는다. 그러나, 증기압이 낮은 성분은, 특정한 화합물(예를 들어 할로겐화물)이 되면 증기압이 높아져 휘산 가능하게 되지만, 일단 휘산된 후, 환원 분위기(40) 중의 수소 가스에 의해 바로 환원되어, 그 결과, 분위기 중에서 원래의 증기압이 낮은 성분으로 복귀되는 경우가 있다. 그러면, 증기압이 낮은 성분은 가스로서 존재하기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 되어, 용융 유리(30) 상에 낙하하여 결점이 되는 경우가 있다. 단체로서 증기압이 낮고, 할로겐화물이 되기 쉬운 원소로서는, 예를 들어 Au, Cu, Ag 등의 제11족 원소를 들 수 있다. 제11족 원소는 알칼리 금속 원소와 동일한 가전자의 구성을 가지며, 1가의 이온이 되기 쉽고, 할로겐화물이 되기 쉬우므로, 할로겐화물로서 용융 주석(20)이나 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산되기 쉽다. 또한, Au, Cu, Ag는 1가의 이온이 되면, 용융 주석(20)이나 용융 유리(30) 중에서 확산되기 쉽고, 환원 분위기(40)와의 계면까지 이동하기 쉬우므로, 환원 분위기(40) 중에 휘산되기 쉽다. 환원 분위기(40) 중의 할로겐화 금, 할로겐화 구리, 할로겐화 은이 수소 가스에 의해 환원되면, 원래의 증기압이 낮은 Au, Cu, Ag가 발생한다. 그리고, Au, Cu, Ag는 단체로서는 가스로서 존재하기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 된다. 이 응집물은 Au, Cu 및 Ag 중 적어도 하나의 원소를 포함하며, Au, Cu 및 Ag 이외의 원소를 더 포함하여도 된다.By the way, the reducing atmosphere 40 in the bath 10 contains the component volatilized from the molten tin 20 and the molten glass 30 in addition to the reducing gas supplied from the air supply 70. Among the components (including single particles and compounds) volatilized from the molten tin 20 and the molten glass 30 into the reducing atmosphere 40, the components having low vapor pressure are difficult to volatilize originally and are not a problem because they are small. On the other hand, a component having a high vapor pressure is usually not a problem because it is discharged to the outside of the bath 10 as a gas. However, the component having a low vapor pressure becomes vaporizable when the specific compound (for example, halide) becomes high, but volatilizes once, and once volatilized, it is immediately reduced by hydrogen gas in the reducing atmosphere 40. As a result, the atmosphere In some cases, the original vapor pressure may be returned to a low component. Then, since the component with low vapor pressure hardly exists as a gas, it may become an aggregate in the reducing atmosphere 40, and may fall on the molten glass 30, and may become a fault. As an element, the element of Group 11, such as Au, Cu, Ag, is mentioned as an element which is low in vapor pressure and tends to be a halide. Since the Group 11 element has the same constitution of the home appliance as the alkali metal element, easily becomes monovalent ions, and easily becomes a halide, the reducing atmosphere 40 is reduced from the molten tin 20 or the molten glass 30 as a halide. It is easy to volatilize. In addition, when Au, Cu, and Ag become monovalent ions, they are easily diffused in the molten tin 20 and the molten glass 30, and are easily moved to the interface with the reducing atmosphere 40, and therefore, volatilized in the reducing atmosphere 40. Easy to be When gold halides, copper halides, and silver halides in the reducing atmosphere 40 are reduced by hydrogen gas, Au, Cu, and Ag having low original vapor pressures are generated. Since Au, Cu, and Ag are hardly present as gases as a single substance, they form aggregates in the reducing atmosphere 40. This aggregate contains at least one element of Au, Cu, and Ag, and may further contain elements other than Au, Cu, and Ag.

본 실시 형태에서는, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30)는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag(이하, 총칭하여 「Au 등」이라고 함)의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이다. Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이면, 용융 유리(30) 중에 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산하여 응집물이 되는 성분이 적다. 그로 인해, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 용융 유리(30)의 상면에 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다. 보다 바람직한 범위는 0.3질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 0.1질량ppm 이하이다. In this embodiment, in the molten glass 30 immediately before supplying in the bath 10, the total content of Au, Cu, and Ag (henceforth generically called "Au etc.") as an impurity is 0.5 mass ppm or less. When total content, such as Au, is 0.5 mass ppm or less, there are few components in the molten glass 30 which volatilizes from the molten glass 30 to the reducing atmosphere 40, and becomes an aggregate. Therefore, it becomes difficult for aggregate to grow in the reducing atmosphere 40, and it becomes difficult for an aggregate to fall to the upper surface of the molten glass 30. FIG. Therefore, the quality of the top surface of a glass plate becomes favorable. The more preferable range is 0.3 mass ppm or less, and still more preferable range is 0.1 mass ppm or less.

배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 Au 등의 총 함유량은, 용해로에 투입하는 유리 원료 중의 Au 등의 총 함유량보다도 약간 적다. Au 등은 용해 공정에 있어서 서서히 유리로부터 외부로 휘산되기 때문이다.The total content of Au and the like in the molten glass 30 immediately before feeding into the bath 10 is slightly smaller than the total content of Au and the like in the glass raw material to be introduced into the melting furnace. This is because Au and the like are gradually volatilized from the glass to the outside in the dissolution step.

따라서, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하가 되도록 유리 원료 중의 Au 등의 총 함유량은 1.0질량ppm 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 범위는 0.5질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 0.3질량ppm 이하이다.Therefore, it is preferable that the total content of Au etc. in glass raw material is 1.0 mass ppm or less so that the total content of Au etc. in the molten glass 30 immediately before supplying into the bath 10 will be 0.5 mass ppm or less. The more preferable range is 0.5 mass ppm or less, and still more preferable range is 0.3 mass ppm or less.

또한, 본 실시 형태에서는, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30)는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I(이하, 총칭하여 「F 등」이라고 함)의 총 함유량이 200질량ppm 이하이다. F 등은 단체로서는 유리의 성형 온도보다도 비점이 낮아 Au 등의 휘산을 촉진한다.In addition, in this embodiment, in the molten glass 30 immediately before supplying in the bath 10, the total content of F, Cl, Br, and I (henceforth collectively called "F") as an impurity is 200 mass. ppm or less. F and the like have a boiling point lower than the forming temperature of the glass, and promote volatilization of Au and the like.

배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이면, 용융 유리(30) 중의 Au 등이 환원 분위기(40) 중에 휘산되기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다. 보다 바람직한 범위는 100질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 50질량ppm 이하이다.When the total content of F and the like in the molten glass 30 immediately before being supplied into the bath 10 is 200 mass ppm or less, Au and the like in the molten glass 30 are hardly volatilized in the reducing atmosphere 40. It is difficult for the aggregate to grow in 40), and the aggregate becomes difficult to fall. Therefore, the quality of the top surface of a glass plate becomes favorable. The more preferable range is 100 mass ppm or less, and still more preferable range is 50 mass ppm or less.

배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 F 등의 총 함유량은, 용해로에 투입하는 유리 원료 중의 F 등의 총 함유량보다도 약간 적다. F 등은 용해 공정에 있어서 서서히 유리로부터 외부로 휘산되기 때문이다.The total content of F and the like in the molten glass 30 immediately before feeding into the bath 10 is slightly smaller than the total content of F and the like in the glass raw material to be introduced into the melting furnace. This is because F and the like are gradually volatilized from the glass to the outside in the dissolution step.

따라서, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하가 되도록 유리 원료 중의 F 등의 총 함유량은 500질량ppm 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 범위는 300질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 200질량ppm 이하이다.Therefore, it is preferable that the total content of F etc. in glass raw material is 500 mass ppm or less so that the total content of F etc. in the molten glass 30 immediately before supplying into the bath 10 will be 200 mass ppm or less. The more preferable range is 300 mass ppm or less, and still more preferable range is 200 mass ppm or less.

배스(10) 내의 용융 주석(20)은, 톱면의 고품질화로 인해 불순물인 Au 등의 총 함유량이 10질량ppm 이하이며, F 등의 총 함유량이 100질량ppm 이하이어도 된다. 배스(10) 내의 용융 주석(20)의 원료로서는, 예를 들어 주석이 사용된다.The molten tin 20 in the bath 10 may have a total content of Au, such as impurities, of 10 mass ppm or less, and a total content of F, such as 100 mass ppm or less, due to high quality of the top surface. As a raw material of the molten tin 20 in the bath 10, tin is used, for example.

이어서, 상기 제조 방법으로 얻어지는 유리판에 대하여 설명한다.Next, the glass plate obtained by the said manufacturing method is demonstrated.

유리판은 Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이다. Au 등은 성형 공정 및 서냉 공정에 있어서 유리로부터 외부로 휘산되지만, 휘산량은 전체량에 비하여 얼마되지 않는다. 유리판의 유리 조성과, 성형 공정에서의 용융 유리(30)의 유리 조성은 대략 동일하다. 유리판 중의 Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이면, 성형 공정에서의 용융 유리(30) 중의 Au 등의 총 함유량이 적고, 용융 유리(30) 중에 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산되어 응집물의 핵이 되는 성분이 적다. 그로 인해, 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 용융 유리(30)의 상면에 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다.The glass plate is 0.5 mass ppm or less in total content, such as Au. Au and the like are volatilized from the glass to the outside in the forming step and the slow cooling step, but the amount of volatilization is very small compared to the total amount. The glass composition of the glass plate and the glass composition of the molten glass 30 in a shaping | molding process are substantially the same. When the total content of Au and the like in the glass plate is 0.5 mass ppm or less, the total content of Au and the like in the molten glass 30 in the forming step is small, and the molten glass 30 is reduced from the molten glass 30 to the reducing atmosphere 40. There is little component which volatilizes and becomes nucleus of aggregate. Therefore, it becomes difficult for an aggregate to grow, and it becomes difficult for an aggregate to fall to the upper surface of the molten glass 30. FIG. Therefore, the quality of the top surface of a glass plate becomes favorable.

또한, 유리판은 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이다. F 등은 성형 공정 및 서냉 공정에 있어서 유리로부터 외부로 휘산되지만, 휘산량은 전체량에 비하여 얼마되지 않는다. 유리판의 유리 조성과, 성형 공정에서의 용융 유리(30)의 유리 조성은 대략 동일하다. 유리판 중의 F 등의 함유량이 200질량ppm 이하이면, 성형 공정에서의 용융 유리(30) 중의 F 등의 함유량이 적고, 용융 유리(30) 중의 Au 등이 환원 분위기(40)로 휘산되기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다.In addition, as for a glass plate, the total content, such as F, is 200 mass ppm or less. F and the like are volatilized from the glass to the outside in the forming step and the slow cooling step, but the amount of volatilization is not much compared with the total amount. The glass composition of the glass plate and the glass composition of the molten glass 30 in a shaping | molding process are substantially the same. When content of F etc. in a glass plate is 200 mass ppm or less, since content of F etc. in the molten glass 30 in a shaping | molding process is small, it is difficult for Au etc. in the molten glass 30 to volatilize to the reducing atmosphere 40, In the reducing atmosphere 40, the aggregate is difficult to grow, and the aggregate is difficult to fall. Therefore, the quality of the top surface of a glass plate becomes favorable.

이상, 본 발명의 일 실시 형태에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 제한되지 않는다. 본 발명의 범위를 일탈하지 않고, 상기 실시 형태에 다양한 변형 및 치환을 가할 수 있다.As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment. Various modifications and substitutions can be made to the above embodiments without departing from the scope of the invention.

예를 들어, 상기 실시 형태의 용융 유리(30)는, 배스(10) 내에 공급하기 직전에 있어서, (1) Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하, 또한 (2) F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이지만, (1) 또는 (2)만을 만족하여도 된다. 톱면의 부착물은, Au 등의 불순물과 F 등의 불순물의 양쪽이 지나치게 많은 경우에 발생하기 때문이다. 배스(10) 내의 용융 주석(20)의 불순물에 대해서도 마찬가지이다.For example, in the molten glass 30 of the said embodiment, just before supplying in the bath 10, (1) total content, such as Au, is 0.5 mass ppm or less, and (2) F, etc. Although it is 200 mass ppm or less, you may satisfy | fill only (1) or (2). This is because the deposit on the top surface occurs when both impurities such as Au and impurities such as F are too large. The same applies to impurities in the molten tin 20 in the bath 10.

또한, 상기 실시 형태의 유리판은, (1) Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하, 또한 (2) F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이지만, (1) 또는 (2)만을 만족하여도 된다.Moreover, although the total content of (1) Au etc. is 0.5 mass ppm or less, and the total content, such as (2) F, is 200 mass ppm or less, the glass plate of the said embodiment may satisfy only (1) or (2). do.

<실시예><Example>

이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention concretely, this invention is not limited by these examples.

[예 1]Example 1

예 1에서는, 도 1 및 도 2에 도시하는 방법으로 무알칼리 유리를 포함하는 유리판을 제조하였다. 배스 내의 용융 주석의 원료로서는 주석을 사용하였다. 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 59.5%, Al2O3: 17%, B2O3: 8%, MgO: 3.3%, CaO: 4%, SrO: 7.6%, BaO: 0.1%, ZrO2: 0.1%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 15%이며, 잔량부가 불가피적 불순물이고, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1% 이하이었다.In Example 1, the glass plate containing an alkali free glass was manufactured by the method shown in FIG. 1 and FIG. Tin was used as a raw material of molten tin in the bath. A non-alkali glass, the display of the oxide-based mass%, SiO 2: 59.5%, Al 2 O 3: 17%, B 2 O 3: 8%, MgO: 3.3%, CaO: 4%, SrO: 7.6%, BaO: 0.1%, ZrO 2: 0.1%, containing, and MgO + CaO + SrO + BaO to 15%, and a balance being inevitable impurities, was 0.1% or less of the amount of the sum of the content of alkali metal oxides.

유리 원료, 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리 및 유리판에 각각 포함되는 각 원소(Au 등, F 등을 포함함)의 함유량(질량%)은, 습식 분석에 의해 측정하였다. 습식 분석에서는 유리 원료 등의 샘플을 산에 용해시켜 분석을 행하였다. 또한, 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리의 샘플은, 배스의 입구 근방의 용융 유리를 충분히 냉각한 철제의 국자로 퍼낸 후, 급냉하여 제작하였다.The content (mass%) of each element (including Au, F, etc.) contained in the glass raw material, the molten glass just before feeding in a bath, and a glass plate was measured by the wet analysis. In the wet analysis, samples such as glass raw materials were dissolved in an acid and analyzed. In addition, the sample of the molten glass immediately before supplying in a bath was quenched and produced, after pouring the molten glass near the inlet of a bath with the iron ladle sufficiently cooled.

유리판의 톱면의 부착물의 평균 밀도(개/m2)는, 톱면이 1.0m×1.0m인 유리판을 육안으로 40매 관찰하여 측정하였다.The average density (piece / m <2> ) of the deposit | attachment of the top surface of a glass plate observed 40 glass plates with 1.0 m * 1.0m of top surfaces, and measured them.

Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the measurement results of the total content of Au and the like, the total content of F and the like and the average density of the deposits.

[예 2 내지 예 6][Examples 2 to 6]

예 2 내지 예 6에서는, 유리 원료에 미량의 CuO, Ag2S를 등몰량 첨가한 것 이외에는, 예 1과 마찬가지로 하여 유리판을 제조하였다. 예 1 내지 예 4가 실시예이고, 예 5 내지 예 6이 비교예이다.In Examples 2 to 6, a glass plate was produced in the same manner as in Example 1 except that a small amount of equimolar amounts of CuO and Ag 2 S were added to the glass raw material. Examples 1 to 4 are Examples, and Examples 5 to 6 are Comparative Examples.

Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도는, 예 1과 마찬가지로 하여 측정하였다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다.The total content of Au and the like, the total content of F and the like and the average density of the deposit were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the measurement results.

Figure 112015004633039-pct00001
Figure 112015004633039-pct00001

표 1로부터 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리나 유리판에 있어서, Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이면 부착물의 결점이 유의미하게 적은 것을 알 수 있다.From Table 1, it can be seen that in the molten glass or glass plate immediately before feeding into the bath, if the total content of Au or the like is 0.5 mass ppm or less, there are significantly fewer defects in the deposit.

[예 7]Example 7

예 7에서는, 유리 원료를 바꾼 것 이외에는, 예 1과 마찬가지로 하여 무알칼리 유리를 포함하는 유리판을 제조하였다. 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 59.5%, Al2O3: 17%, B2O3: 8%, MgO: 3.3%, CaO: 4%, SrO: 7.6%, BaO: 0.1%, ZrO2: 0.1%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 15%이며, 잔량부가 불가피적 불순물이고, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1% 이하이었다.In Example 7, the glass plate containing an alkali free glass was produced like Example 1 except having changed the glass raw material. A non-alkali glass, the display of the oxide-based mass%, SiO 2: 59.5%, Al 2 O 3: 17%, B 2 O 3: 8%, MgO: 3.3%, CaO: 4%, SrO: 7.6%, BaO: 0.1%, ZrO 2: 0.1%, containing, and MgO + CaO + SrO + BaO to 15%, and a balance being inevitable impurities, was 0.1% or less of the amount of the sum of the content of alkali metal oxides.

Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도는, 예 1과 마찬가지로 하여 측정하였다. 측정 결과를 표 2에 나타낸다.The total content of Au and the like, the total content of F and the like and the average density of the deposit were measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the measurement results.

[예 8 내지 예 12][Examples 8 to 12]

예 8 내지 예 12에서는, 유리 원료에 미량의 CaF2를 첨가한 것 이외에는, 예 7과 마찬가지로 하여 유리판을 제조하였다. 예 7 내지 예 10이 실시예이고, 예 11 내지 예 12가 비교예이다.Example 8 to example 12 were prepared in the same manner as the glass plate except for the addition of trace amounts of CaF 2, Example 7, a glass raw material. Examples 7 to 10 are Examples, and Examples 11 to 12 are Comparative Examples.

Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도는, 예 1과 마찬가지로 하여 측정하였다. 측정 결과를 표 2에 나타낸다.The total content of Au and the like, the total content of F and the like and the average density of the deposit were measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the measurement results.

Figure 112015004633039-pct00002
Figure 112015004633039-pct00002

표 2로부터 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리나 유리판에 있어서, F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이면 부착물의 결점이 유의미하게 적은 것을 알 수 있다.From the molten glass and glass plate just before supplying in a bath from Table 2, it turns out that the defect of a deposit is significantly small when total content, such as F, is 200 mass ppm or less.

표 1 및 표 2로부터 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리나 유리판에 있어서, Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이며, 또한 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이면 부착물의 결점이 충분히 적어지는 것을 알 수 있다.From the molten glass or glass plate immediately before supplying in a bath from Table 1 and Table 2, if the total content of Au etc. is 0.5 mass ppm or less, and if the total content of F etc. is 200 mass ppm or less, the defect of a deposit will become small enough. Able to know.

본 출원은 2012년 7월 17일에 출원된 일본 특허 출원 제2012-159048호에 기초하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.This application is based on the JP Patent application 2012-159048 of an application on July 17, 2012, The content is taken in here as a reference.

10: 배스
12: 배스의 입구
14: 배스의 출구
20: 용융 주석
30: 용융 유리
40: 환원 분위기
50: 스파우트 립
60: 히터
70: 급기로
80: 배기로
10: bass
12: Entrance to Bath
14: exit of bath
20: molten tin
30: molten glass
40: reducing atmosphere
50: Spout Lip
60: heater
70: with air supply
80: exhaust furnace

Claims (11)

플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
상기 유리판은, 무알칼리 유리이고,
상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.05질량ppm 이상, 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
In the manufacturing method of the glass plate which has a process of flowing and shape | molding the molten glass continuously supplied on the molten tin in a float bath on the said molten tin,
The glass plate is an alkali free glass,
The molten glass immediately before being supplied into the float bath has a total content of Au, Cu, and Ag as impurity of 0.05 mass ppm or more and 0.5 mass ppm or less.
제1항에 있어서, 상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인, 유리판의 제조 방법.The said molten glass immediately before being supplied to the said float bath is a manufacturing method of the glass plate of Claim 1 whose total content of F, Cl, Br, and I which are impurities is 200 mass ppm or less. 제2항에 있어서,
상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 20질량ppm 이상인, 유리판의 제조 방법.
The method of claim 2,
The said molten glass immediately before being supplied into the said float bath is a manufacturing method of the glass plate whose total content of F, Cl, Br, and I which are impurities is 20 mass ppm or more.
플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,
상기 유리판은, 무알칼리 유리이고,
불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.05질량ppm 이상, 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판.
A glass plate which is formed by flowing molten glass continuously supplied on molten tin in a float bath on the molten tin,
The glass plate is an alkali free glass,
A total glass content of Au, Cu and Ag as impurities is 0.05 mass ppm or more and 0.5 mass ppm or less.
제4항에 있어서, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인, 유리판.The glass plate of Claim 4 whose total content of F, Cl, Br, and I which are impurities is 200 mass ppm or less. 제5항에 있어서,
불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 20질량ppm 이상인, 유리판.
The method of claim 5,
The glass plate whose total content of impurities F, Cl, Br, and I is 20 mass ppm or more.
삭제delete 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은 디스플레이용 유리 기판인, 유리판.The glass plate according to any one of claims 4 to 6, wherein the glass plate is a glass substrate for a display. 제8항에 있어서, 상기 유리판의 두께가 1mm 이하인, 유리판.The glass plate of Claim 8 whose thickness of the said glass plate is 1 mm or less. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 50 내지 66%, Al2O3: 10.5 내지 24%, B2O3: 0 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 14.5%, SrO: 0 내지 24%, BaO: 0 내지 13.5%, ZrO2: 0 내지 5%, SnO: 0 내지 3%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 29.5%이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1% 이하인 무알칼리 유리인, 유리판.The method of claim 4 according to any one of claim 6, wherein the glass sheet, the oxide basis in% by mass shown, SiO 2: 50 to 66%, Al 2 O 3: 10.5 to 24%, B 2 O 3: 0 To 12%, MgO: 0 to 8%, CaO: 0 to 14.5%, SrO: 0 to 24%, BaO: 0 to 13.5%, ZrO 2 : 0 to 5%, SnO: 0 to 3%, MgO + CaO + SrO + BaO: It is 9-29.5%, The glass plate which is an alkali free glass whose content of alkali metal oxide is 0.1% or less. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 58 내지 66%, Al2O3: 15 내지 22%, B2O3: 5 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 9%, SrO: 3 내지 12.5%, BaO: 0 내지 2%, SnO: 0 내지 1%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 18%이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1% 이하인 무알칼리 유리인, 유리판.Article according to any one of the preceding claims, with the glass plate, the display of the oxide-based mass%, SiO 2: 58 to 66%, Al 2 O 3: 15 to 22%, B 2 O 3: 5 To 12%, MgO: 0 to 8%, CaO: 0 to 9%, SrO: 3 to 12.5%, BaO: 0 to 2%, SnO: 0 to 1%, MgO + CaO + SrO + BaO: It is 9 to 18%, and the glass plate which is an alkali free glass whose total amount of content of an alkali metal oxide is 0.1% or less.
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