KR101384375B1 - Method of manufacturing glass plate - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, 욕조(22) 내의 용융 주석(M) 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리(G)를 용융 주석(M) 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서, 유리판의 유리는 무알칼리 유리이고, 용융 유리(G)의 점도가 104 d㎩·s가 되는 용융 유리(G)의 온도가 1200 ℃ 이상이다. 욕조(22)의 각 보텀 벽돌(36)은 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이다. 저융점 원소는, 당해 저융점 원소의 산화물과 산화주석(SnO)의 2성분계에서의 공융점이, 대응하는 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 최고 온도보다 낮은 원소이다.According to this invention, in the manufacturing method of the glass plate which has the process of flowing and shape | molding molten glass G continuously supplied on molten tin M in the bathtub 22 on molten tin M, the glass of a glass plate Is an alkali free glass, and the temperature of the molten glass G by which the viscosity of molten glass G becomes 10 4 dPa * s is 1200 degreeC or more. In each bottom brick 36 of the bathtub 22, the total content of the low melting point elements is 20% by mass or less in terms of oxide. The low melting point element is an element whose eutectic point in the two-component system of the oxide and tin oxide (SnO) of the low melting point element is lower than the maximum temperature of the upper surface 36a of the corresponding bottom brick 36.

Figure R1020137012611
Figure R1020137012611

Description

유리판의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING GLASS PLATE}Manufacturing method of glass plate {METHOD OF MANUFACTURING GLASS PLATE}

본 발명은 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a glass plate.

유리판의 성형 방법으로서, 플로트법이 널리 사용되고 있다. 플로트법은, 욕조 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 용융 주석 상에서 유동시켜 띠판 형상으로 성형한다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).As a shaping | molding method of a glass plate, the float method is used widely. The float method flows the molten glass continuously supplied on the molten tin in a bathtub, and shape | molds it in strip shape (for example, refer patent document 1).

용융 주석 상의 분위기는, 용융 주석의 산화를 방지하기 위하여, 수소 가스를 포함하는 환원 분위기로 된다.The atmosphere on the molten tin becomes a reducing atmosphere containing hydrogen gas in order to prevent oxidation of the molten tin.

욕조는, 예를 들어 상방으로 개방된 상자 형상의 금속 케이스, 및 금속 케이스 내에 설치되는 보텀 벽돌 및 사이드 벽돌로 구성된다. 보텀 벽돌 및 사이드 벽돌로서는, 일반적으로 알루미나(Al2O3)-실리카(SiO2)계 벽돌이 사용되고 있다.The bathtub is composed of, for example, a box-shaped metal case open upward, and bottom bricks and side bricks installed in the metal case. As the brick bottom and side brick, typically alumina (Al 2 O 3) - is used a brick type silica (SiO 2).

일본 특허 공개 소50-3414호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-3414

욕조 내의 용융 주석은, 상방부터 가열되므로, 하방으로 향할수록 저온이 된다. 그로 인해, 용융 주석에 용존한 가스 성분(예를 들어 산소나 수소, 물 등)은 비교적 저온의 보텀 벽돌의 상면에서 과포화 석출되어, 기포를 형성한다. 또한, 보텀 벽돌 내를 투과한 가스가, 보텀 벽돌의 상면에서 기포를 형성한다.Since the molten tin in a bathtub is heated from above, it becomes low temperature as it goes below. Therefore, the gas component (for example, oxygen, hydrogen, water, etc.) dissolved in molten tin supersaturates and precipitates on the upper surface of a relatively low temperature bottom brick, and forms bubbles. Moreover, the gas which permeate | transmitted in the bottom brick forms a bubble in the upper surface of a bottom brick.

이들 기포는, 어느 정도의 크기로 성장하면, 보텀 벽돌 상면으로부터 이격되어, 용융 주석과 용융 유리의 계면까지 부상하여, 용융 유리의 하면에 오목 형상의 결함을 형성한다. 그 결과, 제품인 유리판의 용융 주석과의 접촉면(보텀면)에 오목 형상의 결함(FOBB(Fine Open Bottom Bubble))이 형성된다.When these bubbles grow to a certain size, they are spaced apart from the bottom brick upper surface, float to the interface between the molten tin and the molten glass, and form concave defects on the lower surface of the molten glass. As a result, a concave defect (FOBB (Fine Open Bottom Bubble)) is formed on the contact surface (bottom surface) with the molten tin of the glass plate which is the product.

종래, FOBB가 발생하는 장소가 분산되어 있었기 때문에, 유리판의 수율이 낮았다. 특히, 유리판의 유리가, 일반적인 소다 석회 유리에 비해, 높은 성형 온도의 무알칼리 유리인 경우에 현저한 것을 금회 본 발명자들은 발견하였다.Conventionally, since the place where FOBB generate | occur | produces was dispersed, the yield of the glass plate was low. In particular, the present inventors have found that the glass of the glass plate is remarkable when the glass of the glass plate is an alkali free glass having a high molding temperature as compared with general soda lime glass.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 수율이 양호한 무알칼리 유리의 유리판의 제조 방법의 제공을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said subject, and an object of this invention is to provide the manufacturing method of the glass plate of the alkali free glass with a favorable yield.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일 형태에 의한 유리판의 제조 방법은,In order to solve the said subject, the manufacturing method of the glass plate by one aspect of this invention,

욕조 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the glass plate which has a process of flowing and shape | molding the molten glass continuously supplied on the molten tin in a bathtub on the said molten tin,

상기 유리판의 유리는 무알칼리 유리이고, 상기 용융 유리의 점도가 104 d㎩·s가 되는 상기 용융 유리의 온도가 1200 ℃ 이상이며,The glass of the said glass plate is an alkali free glass, the temperature of the said molten glass whose viscosity of the said molten glass turns into 10 4 dPa * s is 1200 degreeC or more,

상기 욕조의 각 보텀 벽돌은, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이고,In each bottom brick of the bath, the content of the total of the low melting point elements is 20% by mass or less in terms of oxides,

상기 저융점 원소는, 상기 저융점 원소의 산화물과, 산화주석(SnO)의 2성분계에서의 공융점이, 대응하는 상기 보텀 벽돌의 상면의 최고 온도보다 낮은 원소이다.The low melting point element is an element whose eutectic point in the two-component system of the oxide of the low melting point element and tin oxide (SnO) is lower than the maximum temperature of the upper surface of the corresponding bottom brick.

본 발명에 따르면, 수율이 양호한 무알칼리 유리의 유리판의 제조 방법이 제공된다.According to this invention, the manufacturing method of the glass plate of the alkali free glass with a good yield is provided.

도 1은, 본 발명의 일 실시 형태에 의한 무알칼리 유리판의 성형 공정에서 사용되는 플로트 배스의 설명도이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시 형태에 의한 보텀 벽돌에 대한 용융 주석의 습윤성과, 보텀 벽돌 상에서 형성되는 기포의 형상의 관계를 도시하는 도면이다.
도 3은, 종래의 보텀 벽돌에 대한 용융 주석의 습윤성과, 보텀 벽돌 상에서 형성되는 기포의 형상의 관계를 도시하는 도면이다.
도 4는, 실시예 1에 의한 도가니의 절단면의 SEM 사진이다.
도 5는, 실시예 1에 있어서의 평가용 유리에 형성되는 결함의 수를 조사하는 시험의 설명도이다.
도 6은, 비교예 1에 의한 도가니의 절단면의 SEM 사진이다.
도 7은, 도 6의 일부를 확대한 SEM 사진이다.
도 8은, 도 7의 SEM 사진과 동일한 영역을 EDS로 원소 분석한 Sn 원소의 맵이다.
도 9는, 도 7의 SEM 사진과 동일한 영역을 EDS로 원소 분석한 Al 원소의 맵이다.
도 10은, 도 7의 SEM 사진과 동일한 영역을 EDS로 원소 분석한 Si 원소의 맵이다.
도 11은, 참고예 1에 의한 도가니의 절단면의 SEM 사진이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of the float bath used at the shaping | molding process of the alkali free glass plate by one Embodiment of this invention.
It is a figure which shows the relationship between the wettability of the molten tin with respect to a bottom brick by one Embodiment of this invention, and the shape of the bubble formed on a bottom brick.
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between wettability of molten tin with respect to a conventional bottom brick and the shape of bubbles formed on the bottom brick.
4 is a SEM photograph of a cut surface of the crucible according to Example 1. FIG.
FIG. 5: is explanatory drawing of the test which examines the number of the defect formed in the glass for evaluation in Example 1. FIG.
6 is a SEM photograph of a cut surface of the crucible according to Comparative Example 1. FIG.
FIG. 7 is an enlarged SEM photograph of part of FIG. 6.
8 is a map of Sn elements obtained by elemental analysis of the same region as the SEM photograph of FIG. 7 by EDS.
9 is a map of Al elements obtained by elemental analysis of the same region as the SEM photograph of FIG. 7 by EDS.
10 is a map of Si elements obtained by elemental analysis of the same region as the SEM photograph of FIG. 7 by EDS.
11 is a SEM photograph of a cut surface of the crucible according to Reference Example 1. FIG.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하의 도면에 있어서, 동일하거나 또는 대응하는 구성에는, 동일하거나 또는 대응하는 부호를 붙여, 설명을 생략한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in the following drawings, the same or corresponding code | symbol is attached | subjected to the same or corresponding structure, and description is abbreviate | omitted.

본 실시 형태에 의한 유리판의 제조 방법은, 예를 들어 용해 공정, 성형 공정, 서냉 공정 및 절단 공정을 갖는다.The manufacturing method of the glass plate which concerns on this embodiment has a melting process, a shaping | molding process, a slow cooling process, and a cutting process, for example.

용해 공정은, 복수 종류의 원료를 섞어서 제조한 유리 원료를 용해시켜, 용융 유리를 얻는다. 유리 원료는, 용해로 내에 투입된 후, 버너로부터 분사되는 화염의 복사열에 의해 용해되어, 용융 유리가 된다.A melting process melt | dissolves the glass raw material which mixed and manufactured several types of raw materials, and obtains a molten glass. After inject | pouring into a melting furnace, a glass raw material melt | dissolves by the radiant heat of the flame sprayed from a burner, and turns into molten glass.

성형 공정은, 용해 공정에서 얻어지는 용융 유리를 욕조 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급하고, 용융 주석 상에서 용융 유리를 유동시켜 성형하여, 판상 유리(소위 유리 리본)를 얻는다. 판상 유리는, 소정 방향으로 유동되면서 냉각되어, 용융 주석으로부터 인상된다.The shaping | molding process continuously supplies the molten glass obtained by a melting process on molten tin in a bathtub, flows a molten glass on molten tin, and shape | molds, and obtains a plate-shaped glass (so-called glass ribbon). The plate glass is cooled while flowing in a predetermined direction and is pulled out of the molten tin.

서냉 공정은, 성형 공정에서 얻어지는 판상 유리를 서냉로 내에서 서냉시킨다. 판상 유리는, 서냉로 내에서, 서냉로의 입구로부터 출구를 향하여, 롤 상을 수평하게 반송되면서 서냉된다.The slow cooling process cools the plate glass obtained by a shaping | molding process in a slow cooling furnace. The plate glass is slowly cooled while being conveyed horizontally in the slow cooling furnace from the inlet of the slow cooling furnace toward the outlet.

절단 공정은, 서냉 공정에서 서냉된 판상 유리를 절단기로 소정 치수로 절단한다. 절단 공정에 있어서, 판상 유리의 폭 방향 양쪽 테두리부(소위 귀부)가 절제된다. 판상 유리의 폭 방향 양쪽 테두리부는, 표면 장력 등의 영향으로 두터워지기 때문이다.The cutting process cuts the plate-shaped glass cooled by the slow cooling process to predetermined dimension with a cutter. In a cutting process, the width direction both edge part (so-called ear | edge part) of plate glass is excised. This is because both edge portions in the width direction of the plate glass become thick under the influence of surface tension and the like.

이와 같이 하여, 제품인 유리판이 얻어진다. 유리판의 유리는, 알칼리 금속 산화물(Na2O, K2O, Li2O 등)을 실질적으로 포함하지 않는 무알칼리 유리이다. 무알칼리 유리는, 예를 들어 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1 질량% 이하이어도 되며, 예를 들어 액정 디스플레이용 기판으로서 사용된다.In this way, the glass plate which is a product is obtained. Glass of the glass sheet is a alkali-free glass that is substantially free of alkali metal oxides (Na 2 O, K 2 O , Li 2 O , etc.). 0.1 mass% or less of the total amount of content of an alkali metal oxide may be sufficient as an alkali free glass, for example, and it is used as a board | substrate for liquid crystal displays.

무알칼리 유리는, 예를 들어 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 50 % 내지 73 %(바람직하게는 50 내지 66 %), Al2O3: 10.5 % 내지 24 %, B2O3: 0 % 내지 12 %, MgO: 0 % 내지 8 %, CaO: 0 % 내지 14.5 %, SrO: 0 % 내지 24 %, BaO: 0 % 내지 13.5 %, ZrO2: 0 % 내지 5 %를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 % 내지 29.5 %(바람직하게는 9 % 내지 29.5 %)이다.The alkali free glass is, for example, in terms of mass% based on an oxide basis, SiO 2 : 50% to 73% (preferably 50 to 66%), Al 2 O 3 : 10.5% to 24%, B 2 O 3 : 0% to 12%, MgO: 0% to 8%, CaO: 0% to 14.5%, SrO: 0% to 24%, BaO: 0% to 13.5%, ZrO 2 : 0% to 5%, and MgO + CaO + SrO + BaO: 8% to 29.5% (preferably 9% to 29.5%).

무알칼리 유리는, 높은 왜곡점과 높은 용해성을 양립시킬 경우, 바람직하게는 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 58 % 내지 66 %, Al2O3: 15 % 내지 22 %, B2O3: 5 % 내지 12 %, MgO: 0 % 내지 8 %, CaO: 0 % 내지 9 %, SrO: 3 % 내지 12.5 %, BaO: 0 % 내지 2 %를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 % 내지 18 %이다.The alkali-free glass, in the case to both high distortion point and a high solubility, as preferably shown in oxide-based mass%, SiO 2: 58% to 66%, Al 2 O 3: 15% to 22%, B 2 O 3 : 5%-12%, MgO: 0%-8%, CaO: 0%-9%, SrO: 3%-12.5%, BaO: 0%-2%, MgO + CaO + SrO + BaO : 9% to 18%.

무알칼리 유리는, 특히 높은 왜곡점을 얻고 싶을 경우, 바람직하게는 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 54 % 내지 73 %, Al2O3: 10.5 % 내지 22.5 %, B2O3: 0 % 내지 5.5 %, MgO: 0 % 내지 8 %, CaO: 0 % 내지 9 %, SrO: 0 % 내지 16 %, BaO: 0 % 내지 2.5 %, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 % 내지 26 %이다.The alkali-free glass, in particular, when it is desired to obtain a high strain point, is preferably expressed in terms of mass% on the basis of oxide, SiO 2 : 54% to 73%, Al 2 O 3 : 10.5% to 22.5%, B 2 O 3 : 0% to 5.5%, MgO: 0% to 8%, CaO: 0% to 9%, SrO: 0% to 16%, BaO: 0% to 2.5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 8% to 26% %to be.

무알칼리 유리의 경우, 용융 유리의 점도가 104 d㎩·s(포아즈)가 되는 용융 유리의 온도가 1200 ℃ 이상이다. 용융 유리의 점도가 104 d㎩·s 정도가 되는 장소는, 통상, 성형 공정에서 사용되는 플로트 배스(10)(도 1 참조)의 입구(12) 부근으로 설정된다. 플로트 배스(10)의 입구(12)에서 용융 주석(M) 상에 공급된 용융 유리는, 소정 방향으로 유동되면서 성형된다.In the case of an alkali free glass, the temperature of the molten glass in which the viscosity of a molten glass turns into 10 4 dPa * s (poise) is 1200 degreeC or more. The place where the viscosity of a molten glass becomes about 10 <4> dPa * s is normally set in the vicinity of the inlet 12 of the float bath 10 (refer FIG. 1) used at a shaping | molding process. The molten glass supplied on the molten tin M in the inlet 12 of the float bath 10 is shape | molded, flowing in a predetermined direction.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 유리판의 성형 공정에서 사용되는 플로트 배스의 설명도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of the float bath used at the shaping | molding process of the glass plate by one Embodiment of this invention.

플로트 배스(10)(이하, 간단히 「배스(10)」라고 함)는 욕조(22) 내의 용융 주석(M) 상에 연속적으로 공급된 용융 유리(G)를, 용융 주석(M) 상에서 유동시켜 성형한다. 용융 유리(G)는, 배스(10)의 입구(12) 부근에서 용융 주석(M) 상에 공급된 후, 소정 방향으로 유동되면서 냉각되어, 배스(10)의 출구(14) 부근에서 용융 주석(M)으로부터 인상된다.The float bath 10 (hereinafter, simply referred to as the "bath 10") causes the molten glass G continuously supplied on the molten tin M in the bath 22 to flow on the molten tin M. Mold. The molten glass G is supplied on the molten tin M near the inlet 12 of the bath 10, and then cooled while flowing in a predetermined direction, and molten tin near the outlet 14 of the bath 10. It is raised from (M).

배스(10)는 용융 주석(M)을 수용하는 욕조(22), 욕조(22)의 외주 상부 테두리를 따라 설치되는 측벽(24) 및 측벽(24)에 연결되어, 욕조(22)의 상방을 덮는 천장(26) 등으로 구성된다. 천장(26)에는, 욕조(22)와 천장(26) 사이에 형성되는 공간(28)에 환원성 가스를 공급하는 가스 공급로(30)가 설치되어 있다. 또한, 가스 공급로(30)에는, 가열원으로서의 히터(32)가 삽입 관통되어 있다.The bath 10 is connected to the tub 22 accommodating the molten tin M, the side walls 24 and the side walls 24 installed along the outer circumferential upper edge of the tub 22, and upwards of the tub 22. And a ceiling 26 to cover. The ceiling 26 is provided with a gas supply path 30 for supplying a reducing gas to the space 28 formed between the tub 22 and the ceiling 26. Moreover, the heater 32 as a heating source penetrates through the gas supply path 30.

가스 공급로(30)는 용융 주석(M)의 산화를 방지하기 위하여, 배스(10) 내의 공간(28)에 환원성 가스를 공급한다. 환원성 가스는, 예를 들어 수소 가스를 1 내지 15 체적%, 질소 가스를 85 내지 99 체적% 포함하고 있다. 배스(10) 내의 공간(28)은 측벽(24)을 구성하는 벽돌끼리의 간극 등으로부터 대기가 혼입되는 것을 방지하기 위하여, 대기압보다도 높은 기압으로 설정되어 있다.The gas supply passage 30 supplies a reducing gas to the space 28 in the bath 10 in order to prevent oxidation of the molten tin M. The reducing gas contains, for example, 1 to 15 vol% of hydrogen gas and 85 to 99 vol% of nitrogen gas. The space 28 in the bath 10 is set to an air pressure higher than atmospheric pressure in order to prevent air from entering into the gap between bricks constituting the side wall 24.

히터(32)는 배스(10) 내의 온도 분포를 조절하기 위하여, 예를 들어 용융 유리(G)의 유동 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)으로 간격을 두어 복수 설치된다. 히터(32)의 출력은, 배스(10)의 입구(12)로부터 출구(14)를 향할수록 용융 유리(G)의 온도가 낮아지도록 제어된다. 또한, 히터(32)의 출력은, 용융 유리(G)의 두께가 폭 방향(Y 방향)으로 균일해지도록 제어된다.In order to adjust the temperature distribution in the bath 10, the heater 32 is provided in multiple numbers at intervals, for example in the flow direction (X direction) and the width direction (Y direction) of molten glass G. The output of the heater 32 is controlled such that the temperature of the molten glass G is lowered toward the outlet 14 from the inlet 12 of the bath 10. In addition, the output of the heater 32 is controlled so that the thickness of the molten glass G may become uniform in the width direction (Y direction).

욕조(22)는 상방으로 개방된 상자 형상의 금속 케이스(34), 및 금속 케이스(34) 내에 설치되는 보텀 벽돌(36) 및 사이드 벽돌(38)로 구성된다. 금속 케이스(34)는 욕조(22) 내에 측방이나 하방으로부터 대기가 혼입되는 것을 방지한다. 복수의 보텀 벽돌(36)은 열팽창에 의해 서로 접촉하지 않을 정도의 근소한 간격을 두고 2차원적으로 배열되어 있다. 복수의 보텀 벽돌(36)은 환상으로 배열되는 복수의 사이드 벽돌(38)로 둘러싸여 있다.The bathtub 22 is comprised of the box-shaped metal case 34 opened upward, and the bottom brick 36 and the side brick 38 installed in the metal case 34. As shown in FIG. The metal case 34 prevents the atmosphere from entering the tub 22 from the side or the bottom. The plurality of bottom bricks 36 are two-dimensionally arranged at a slight interval such that they do not come into contact with each other by thermal expansion. The plurality of bottom bricks 36 are surrounded by a plurality of side bricks 38 arranged in an annular fashion.

욕조(22) 내의 용융 주석(M)은, 히터(32)에 의해 상방부터 가열되므로, 하방으로 향할수록 저온이 된다. 그로 인해, 용융 주석(M)에 용존한 가스 성분(예를 들어 산소나 수소, 물 등)은 비교적 저온의 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)에서 과포화 석출되어, 기포(B)를 형성한다. 또한, 보텀 벽돌(36) 내를 투과한 가스(예를 들어 수소 등)는 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)에서 기포(B)를 형성한다.Since molten tin M in the bathtub 22 is heated from above by the heater 32, it becomes low temperature as it goes below. Therefore, gas components (for example, oxygen, hydrogen, water, etc.) dissolved in the molten tin M are supersaturated and precipitated on the upper surface 36a of the relatively low temperature bottom brick 36 to form bubbles B. . Moreover, the gas (for example, hydrogen etc.) which permeate | transmitted in the bottom brick 36 forms the bubble B in the upper surface 36a of the bottom brick 36. FIG.

이들 기포(B)는, 어느 정도의 크기로 성장하면, 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)으로부터 이격되어, 용융 주석(M)과 용융 유리(G)의 계면까지 부상하여, 용융 유리(G)의 하면에 오목 형상의 결함을 형성한다. 그 결과, 제품인 유리판의 용융 주석(M)과의 접촉면(보텀면)에 오목 형상의 결함(FOBB)이 형성된다.When these bubbles B grow to a certain size, they are spaced apart from the upper surface 36a of the bottom brick 36, float to the interface between the molten tin M and the molten glass G, and the molten glass G A concave defect is formed on the lower surface of the As a result, the concave defect FOBB is formed in the contact surface (bottom surface) with the molten tin M of the glass plate which is the product.

본 발명자들은, 단위 시간당 발생하는 기포(B)의 총 질량이 동일한 경우, 1개 1개의 기포(B)의 크기가 커질수록, 기포(B)의 수가 줄어드는 것에 착안하였다. 기포(B)가 보텀 벽돌(36) 상에서 크게 성장하기 위해서는, 보텀 벽돌(36)에 대한 용융 주석(M)의 습윤성을 낮게 하는 것이 중요하다.The present inventors have focused on decreasing the number of bubbles B as the size of one bubble B increases, when the total mass of bubbles B generated per unit time is the same. In order for the bubble B to grow large on the bottom brick 36, it is important to lower the wettability of the molten tin M to the bottom brick 36.

도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 의한 보텀 벽돌에 대한 용융 주석의 습윤성과, 보텀 벽돌 상에서 형성되는 기포의 형상의 관계를 도시하는 도면이다. 도 3은 종래의 보텀 벽돌에 대한 용융 주석의 습윤성과, 보텀 벽돌 상에서 형성되는 기포의 형상의 관계를 도시하는 도면이다. 도 2의 본 실시 형태의 보텀 벽돌에 대한 용융 주석의 습윤성은, 도 3의 종래의 보텀 벽돌에 대한 용융 주석의 습윤성보다도 낮다. 「습윤성이 낮다」란 보텀 벽돌에 대하여 용융 주석이 젖기 어려운 것을 의미하고, 「습윤성이 높다」란 보텀 벽돌에 대하여 용융 주석이 젖기 쉬운 것을 의미한다. 설명의 편의상, 습윤성이 높을 때의 기포의 형상을 먼저 설명한다.It is a figure which shows the relationship between the wettability of the molten tin with respect to a bottom brick by one embodiment of this invention, and the shape of the bubble formed on a bottom brick. 3 is a diagram showing a relationship between wettability of molten tin with respect to a conventional bottom brick and the shape of bubbles formed on the bottom brick. The wettability of the molten tin with respect to the bottom brick of this embodiment of FIG. 2 is lower than the wettability of the molten tin with respect to the conventional bottom brick of FIG. "Low wettability" means that molten tin is hard to get wet with a bottom brick, and "high wettability" means that molten tin is easy to get wet with a bottom brick. For convenience of description, the shape of the bubble at the time of high wettability is demonstrated first.

종래, 도 3에 도시한 바와 같이, 습윤성이 높으므로, 보텀 벽돌(6)에 대한 용융 주석(M)의 접촉각(θ100)이 작고, 보텀 벽돌(6)과 기포(B100)의 접촉 면적이 작다. 그로 인해, 보텀 벽돌(6)과 기포(B100) 사이에 용융 주석(M)이 인입하고자 하므로, 기포(B100)는 크게 성장하기 전에 보텀 벽돌(6)로부터 이격되기 쉬우며, 작은 기포(B100)가 다수 형성된다.Conventionally, as shown in FIG. 3, since wettability is high, the contact angle (theta) 100 of the molten tin M with respect to the bottom brick 6 is small, and the contact area of the bottom brick 6 and the bubble B100 is small. . Therefore, since the molten tin (M) is to be drawn in between the bottom brick (6) and the bubble (B100), the bubble (B100) is easily separated from the bottom brick (6) before large growth, and small bubbles (B100) Many are formed.

일반적으로, 산화물에 대한 용융 금속의 습윤성은 낮으므로, 유리판의 생산 개시 시에는 보텀 벽돌(6)에 대한 용융 주석(M)의 습윤성은 낮다. 그러나, 시간의 경과에 수반하여, 용융 주석(M)에 불순물로서 약간 포함되는 산화주석과 보텀 벽돌(6)이 반응하여, 반응층(변질층)이 보텀 벽돌(6)의 표면에 형성되기 때문에, 습윤성이 높아진다고 생각된다.In general, the wettability of the molten metal to the oxide is low, and therefore, the wettability of the molten tin M to the bottom brick 6 at the start of production of the glass plate is low. However, with the passage of time, the tin oxide slightly contained as an impurity in the molten tin M and the bottom brick 6 react to form a reaction layer (denatured layer) on the surface of the bottom brick 6. It is thought that wettability increases.

이에 비해, 본 실시 형태에서는, 용융 주석(M)과 보텀 벽돌(36)의 반응을 억제하기 위하여, 각 보텀 벽돌(36)로서, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하의 벽돌을 사용한다. 「저융점 원소」는, 당해 저융점 원소의 산화물과, 산화주석(SnO)의 2성분계에서의 공융점이, 대응하는 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 최고 온도보다 낮은 원소이다. 공융점보다 온도가 높아지면, 액상이 발생하므로, 저융점 원소의 산화물과, 산화주석의 반응이 급격하게 진행된다. 산화주석은 용융 주석(M)에 불순물로서 미량 포함되어 있으며, 용융 주석(M) 중의 산화주석이 보텀 벽돌(36) 중의 저융점 원소의 농도가 높은 부분과 선택적으로 반응한다. 용융 주석(M) 중에 포함되는 산화주석은, 생산상의 이유로 측벽(24)을 대기 개방할 때 배스(10) 내에 인입된 공기나, 측벽(24)을 구성하는 벽돌끼리의 간극으로부터 배스(10) 내에 혼입된 공기에 용융 주석(M)이 노출됨으로써 형성된다.On the other hand, in this embodiment, in order to suppress reaction of molten tin M and the bottom brick 36, as each bottom brick 36, content of the sum total of a low melting-point element is 20 mass% or less in oxide conversion. Use brick. The "low melting point element" is an element whose eutectic point in the bicomponent system of the oxide of the said low melting point element and tin oxide (SnO) is lower than the maximum temperature of the upper surface 36a of the corresponding bottom brick 36. As shown in FIG. If the temperature is higher than the eutectic point, a liquid phase is generated, so that the reaction between the oxide of the low melting point element and the tin oxide proceeds rapidly. Tin oxide is contained in molten tin M as a trace amount as an impurity, and tin oxide in molten tin M selectively reacts with a portion having a high concentration of low melting point element in the bottom brick 36. The tin oxide contained in the molten tin M is contained in the bath 10 from air introduced into the bath 10 when the side wall 24 is opened to the atmosphere for production reasons, or from a gap between bricks constituting the side wall 24. It is formed by exposing molten tin (M) to the entrained air.

여기서, 「저융점 원소의 합계의 함유량」은, 저융점 원소의 수가 1개인 경우, 1개의 저융점 원소의 함유량이고, 저융점 원소의 수가 복수인 경우, 복수의 저융점 원소의 합계의 함유량이다.Here, "the content of the sum total of a low melting point element" is content of one low melting point element when the number of low melting point elements is one, and is a content of the sum total of several low melting point elements when there are a plurality of low melting point elements. .

보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 최고 온도는 보텀 벽돌(36)마다 다르므로(하류측일수록 낮음), 저융점 원소의 종류는 보텀 벽돌(36)마다 상이해도 된다. 배스(10)의 출구(14) 부근에서는, 보텀 벽돌(36a)의 상면(36a)의 최고 온도가 낮으므로, 보텀 벽돌(36)에 저융점 원소가 존재하지 않아도 된다.Since the maximum temperature of the upper surface 36a of the bottom brick 36 differs for every bottom brick 36 (it is lower on a downstream side), the kind of low melting point element may differ for every bottom brick 36. As shown in FIG. In the vicinity of the outlet 14 of the bath 10, since the maximum temperature of the upper surface 36a of the bottom brick 36a is low, the low melting point element does not need to exist in the bottom brick 36.

저융점 원소로서는, 예를 들어 규소(Si) 등을 들 수 있다. 규소의 산화물(SiO2)과, 산화주석의 공융점은, 850 ℃ 정도이며, 대부분의 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 최고 온도보다 낮다.As a low melting point element, silicon (Si) etc. are mentioned, for example. The eutectic point of silicon oxide (SiO 2 ) and tin oxide is about 850 ° C., which is lower than the maximum temperature of the upper surface 36a of most bottom bricks 36.

본 실시 형태에서는, 각 보텀 벽돌(36)에 있어서, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하(바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하)이므로, 각 보텀 벽돌(36)과 용융 주석(M)이 거의 반응하지 않는다. 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이면 저융점 원소의 대부분은 보텀 벽돌(36) 중의 기타 원소와 산화물을 구성하고 있고, 당해 산화물의 융점은 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 최고 온도보다 높기 때문이다. 각 보텀 벽돌(36)과 용융 주석(M)이 거의 반응하지 않으므로, 유리판의 생산 개시로부터 시간이 경과했을 때도, 각 보텀 벽돌(36)에 대한 용융 주석(M)의 습윤성이 낮다.In this embodiment, in each bottom brick 36, since content of the sum total of a low melting-point element is 20 mass% or less (preferably 15 mass% or less, More preferably, 10 mass% or less) in oxide conversion, each The bottom brick 36 and the molten tin M hardly react. When the total content of the low melting point element is 20% by mass or less in terms of oxide, most of the low melting point element constitutes an oxide with other elements in the bottom brick 36, and the melting point of the oxide is determined by the top surface of the bottom brick 36 ( This is because it is higher than the maximum temperature of 36a). Since each bottom brick 36 and molten tin M hardly react, even when time passes from the start of production of a glass plate, the wettability of molten tin M with respect to each bottom brick 36 is low.

또한, 본 실시 형태에서는 각 보텀 벽돌(36)에 있어서 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이지만, 모든 보텀 벽돌(36)에 있어서 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하가 아니어도 된다. 보텀 벽돌의 상면의 최고 온도가, 용융 유리(G)의 점도가 104 d㎩·s가 되는 용융 유리(G)의 온도 이하이고 또한 저융점 원소의 산화물과 산화주석의 2성분계에서의 공융점을 초과하는 온도인, 적어도 1개의 보텀 벽돌은, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이면 되고, 0 질량%를 초과해도 된다.In addition, in this embodiment, although the content of the sum total of the low melting point elements in each bottom brick 36 is 20 mass% or less in oxide conversion, the content of the sum total of the low melting element in all the bottom bricks 36 is oxide conversion. It may not be 20 mass% or less. The maximum temperature of the upper surface of the bottom brick is below the temperature of the molten glass G such that the viscosity of the molten glass G becomes 10 4 dPa · s, and the eutectic melting point in the two-component system of the oxide and tin oxide of the low melting point element The content of the sum total of the low melting point elements should just be 20 mass% or less in conversion of oxide, and the at least 1 bottom brick which is temperature exceeding may exceed 0 mass%.

각 보텀 벽돌(36)에 대한 용융 주석(M)의 습윤성이 낮으므로, 도 2에 도시한 바와 같이, 보텀 벽돌(36)에 대한 용융 주석(M)의 접촉각(θ)이 크고, 보텀 벽돌(36)과 기포(B)의 접촉 면적이 크다. 그로 인해, 보텀 벽돌(6)과 기포(B) 사이에 용융 주석(M)이 인입하기 어렵고, 기포(B)는 크게 성장할 때까지 보텀 벽돌(36)로부터 이격되지 않는다.Since the wettability of the molten tin M with respect to each bottom brick 36 is low, as shown in FIG. 2, the contact angle (theta) of molten tin M with respect to the bottom brick 36 is large, and a bottom brick ( 36) and the contact area of the bubble B is large. Therefore, molten tin M is hard to pull in between the bottom brick 6 and the bubble B, and the bubble B is not spaced apart from the bottom brick 36 until it grows large.

이와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 1개 1개의 기포(B)의 크기가 커지므로, 단위 시간당 발생하는 기포(B)의 총 질량이 동일한 경우, 단위 시간당 발생하는 기포(B)의 수가 줄어든다. 그 결과, 유리판의 보텀면에 형성되는 FOBB의 수가 줄어들어, 유리판의 수율이 올라간다. 이 효과는, 하기의 (1) 내지 (2)의 이유로, 유리판의 유리가 무알칼리 유리인 경우에 현저하게 얻어진다.As described above, according to the present embodiment, since the size of each bubble B is increased, when the total mass of bubbles B generated per unit time is the same, the number of bubbles B generated per unit time is reduced. As a result, the number of FOBBs formed on the bottom surface of the glass plate decreases, and the yield of the glass plate increases. This effect is remarkably obtained when the glass of a glass plate is an alkali free glass for the following (1)-(2) reasons.

(1) 무알칼리 유리는, 일반적인 소다 석회 유리에 비하여, 용융 유리(G)의 성형 온도가 높으며, 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 온도가 높다. 그로 인해, 보텀 벽돌(36)의 화학 조성이 동일한 경우, 보텀 벽돌(36)과 용융 주석(M)의 반응이 진행되기 쉽다.(1) Compared with general soda-lime glass, the alkali free glass has the high shaping | molding temperature of molten glass G, and the temperature of the upper surface 36a of the bottom brick 36 is high. Therefore, when the chemical composition of the bottom brick 36 is the same, reaction of the bottom brick 36 and molten tin M will advance easily.

(2) 무알칼리 유리는, 소다 석회 유리와 상이하여, 알칼리 금속 원소(예를 들어 Na, K)를 실질적으로 포함하지 않기 때문에, 보텀 벽돌(36)의 네펠린((Na,K)AlSiO4)화가 거의 일어나지 않는다. 네펠린화는, 보텀 벽돌(36) 상에 치밀한 유리층을 형성하여, 보텀 벽돌(36)의 내부로부터 상면(36a)에의 가스의 투과를 억제한다. 무알칼리 유리에서는, 네펠린화가 거의 일어나지 않으므로, 단위 시간당 발생하는 기포(B)의 총 질량이 많아진다.(2) Since alkali-free glass is different from soda-lime glass and does not substantially contain an alkali metal element (for example, Na and K), the nephelin ((Na, K) AlSiO 4 of the bottom brick 36 is included. Almost no tug-of-war occurs. Nephlinization forms a dense glass layer on the bottom brick 36, and suppresses the permeation of gas from the inside of the bottom brick 36 to the upper surface 36a. In alkali free glass, since nephelinization hardly occurs, the total mass of the bubble B which generate | occur | produces per unit time increases.

또한, 본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 각 보텀 벽돌(36)과 용융 주석(M)이 거의 반응하지 않으므로, 보텀 벽돌(36)의 상면(36a)의 변질이 억제되고, 변질된 입자의 탈리가 억제된다. 탈리된 입자는 용융 주석(M)과 용융 유리(G)의 계면까지 부상함으로써 용융 유리(G)의 결점이 되므로, 입자의 탈리를 억제함으로써, 유리판의 품질을 향상시킬 수 있다.In addition, in this embodiment, since each bottom brick 36 and molten tin M hardly react as mentioned above, deterioration of the upper surface 36a of the bottom brick 36 is suppressed, and the Desorption is suppressed. Since the desorbed particles rise to the interface between the molten tin M and the molten glass G to become a defect of the molten glass G, the quality of the glass plate can be improved by suppressing the detachment of the particles.

보텀 벽돌(36)로서는, 예를 들어 알루미나(Al2O3)-칼시아(CaO)계 벽돌, 또는 알루미나(Al2O3)-지르코니아(ZrO2)계 벽돌 등의 점도질 소성 벽돌이 사용된다. 점도질 소성 벽돌에서는, 소결 보조제로서 SiO2 등이 사용되고 있어, SiO2 농도가 높은 부분이 있다.A bottom brick 36 as, for example, alumina (Al 2 O 3) - calcia (CaO) based brick, or alumina (Al 2 O 3) - zirconia (ZrO 2) based viscosity be fired bricks are used, such as a brick do. In viscous calcined bricks, SiO 2 or the like is used as a sintering aid, and there is a portion having a high SiO 2 concentration.

알루미나-칼시아계 벽돌은, 예를 들어 산화물 기준의 질량% 표시로, Al2O3: 40 % 내지 85 %, CaO: 10 % 내지 40 %, SiO2: 0.5 % 내지 20 % 함유한다. SiO2 함유량은, 바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7 질량% 이하, 특히 바람직하게는 3 질량% 이하, 또한 특히 바람직하게는 1 질량% 이하이다.The alumina-calcia-based brick contains, for example, Al 2 O 3 : 40% to 85%, CaO: 10% to 40%, and SiO 2 : 0.5% to 20% in terms of mass% on an oxide basis. SiO 2 content is preferably from 15 to% by mass or less, more preferably, more preferably 10% by mass is 7% or less, particularly preferably 3 mass% or less, and particularly preferably at most 1% by weight .

알루미나-지르코니아계 벽돌은, 예를 들어 산화물 기준의 질량% 표시로, Al2O3: 40 % 내지 55 %, ZrO2: 30 % 내지 45 %, SiO2: 0.5 % 내지 20 % 함유한다. SiO2 함유량은, 바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7 질량% 이하, 특히 바람직하게는 3 질량% 이하, 또한 특히 바람직하게는 1 질량% 이하이다.The alumina-zirconia-based brick contains, for example, an Al 2 O 3 : 40% to 55%, a ZrO 2 : 30% to 45%, and an SiO 2 : 0.5% to 20% in terms of mass% on an oxide basis. SiO 2 The content is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, still more preferably 7% by mass or less, particularly preferably 3% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.

사이드 벽돌(38)은 보텀 벽돌(36)과 마찬가지로, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이어도 되고, 20 질량%를 초과해도 된다. 성형 시에 용융 유리(G)는 사이드 벽돌(38)보다 내측에 있어, 사이드 벽돌(38)의 내벽면에서 형성되는 기포는 FOBB의 원인이 되지 않는다.Similar to the bottom brick 36, the side brick 38 may have a content of a total of the low melting point elements in terms of oxide of 20% by mass or less, or may exceed 20% by mass. The molten glass G is inside the side brick 38 at the time of shaping | molding, and the bubble formed in the inner wall surface of the side brick 38 does not cause FOBB.

또한, 상기 실시 형태의 유리판은, 액정 디스플레이의 기판으로서 사용할 수 있지만, 용도는 다종다양해도 좋다. 예를 들어, 유리판은, 유기 EL 디스플레이의 기판, 터치 패널의 커버 유리로서 사용되어도 된다.In addition, although the glass plate of the said embodiment can be used as a board | substrate of a liquid crystal display, a use may be various. For example, a glass plate may be used as a substrate of an organic EL display and a cover glass of a touch panel.

[실시예][Example]

이하에, 실시예 등에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

[실시예 1][Example 1]

우선, 벽돌을 가공하여 도가니를 준비하고, 준비한 도가니 내에 금속 주석을 넣고, 전기로 내에 설치하여, 전기로 내의 분위기를 치환한 후, 1000 ℃에서 60분간, 금속 주석을 용융시켜, 용융 주석과 도가니의 반응성을 조사하였다.First, bricks are processed to prepare a crucible, metal tin is placed in the prepared crucible, placed in an electric furnace, and the atmosphere in the electric furnace is replaced, and then the metal tin is melted at 1000 ° C. for 60 minutes to melt molten crucible The reactivity of was investigated.

벽돌로서는, 알루미나(Al2O3)-칼시아(CaO)계 벽돌인 벽돌 A를 준비하였다. 벽돌 A는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 5.7 %, Al2O3: 66.0 %, CaO: 26.0 %, MgO: 1.5 %, Na2O: 0.3 %, Fe2O3: 0.1 %를 함유하고 있고, 그 외의 성분은 각각 0.1% 미만이다. 벽돌 A의 화학 조성은, 형광 X선 분석 장치(리가쿠 덴키 고교 가부시키가이샤 제조, ZSX100e)에 의해 측정하였다.As the brick, alumina (Al 2 O 3) - were prepared calcia (CaO) based masonry brick A. The brick A is expressed in terms of mass% based on the oxide, and SiO 2 : 5.7%, Al 2 O 3 : 66.0%, CaO: 26.0%, MgO: 1.5%, Na 2 O: 0.3%, Fe 2 O 3 : 0.1% And other components are less than 0.1%, respectively. The chemical composition of the brick A was measured by the fluorescent X-ray analyzer (Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd., ZSX100e).

도가니는, 바닥이 있는 원통 형상(내경 6 ㎜, 안쪽 치수 높이 6 ㎜, 저벽의 두께 3 ㎜, 측벽의 두께 2 ㎜)으로 가공하였다.The crucible was processed into a bottomed cylindrical shape (inner diameter 6 mm, inner dimension height 6 mm, bottom wall thickness 3 mm, side wall thickness 2 mm).

금속 주석으로는, 순도가 99.95 질량%인 것(간토 가가쿠 가부시키가이샤 제조, 특급)을 사용하였다. 금속 주석은, 용융 주석의 두께가 5 ㎜가 되도록 칭량하여, 도가니 내에 넣었다.As the metal tin, one having a purity of 99.95 mass% (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., Limited Express) was used. The metal tin was weighed so that the thickness of the molten tin was 5 mm and placed in the crucible.

전기로 내의 분위기는, 진공 펌프로 전기로 내를 1 ㎪으로 진공화한 후, 가스 공급관을 통하여 전기로 내에 가스를 공급하여 치환하였다. 가스로서는, 산소 농도가 1000 체적ppm인 질소 가스를 사용하였다. 질소 가스를 사용한 것은, 질소 가스는 산소 가스와의 반응성이 낮아, 산소 농도에 영향을 미치지 않기 때문이다.The atmosphere in the electric furnace was evacuated to 1 kPa by vacuum pump, and then gas was supplied into the electric furnace through the gas supply pipe to be replaced. As the gas, nitrogen gas having an oxygen concentration of 1000 vol ppm was used. Nitrogen gas is used because nitrogen gas has low reactivity with oxygen gas and does not affect the oxygen concentration.

용융 주석과 도가니의 반응성은, 실온까지 냉각한 도가니를 수지로 고화시킨 후에 절단하고, 절단면을 SEM(Scanning Electron Microscope, 가부시키가이샤 키엔스 제조, VE-9800)으로 관찰하여 조사하였다.The reactivity of the molten tin with the crucible was cut after solidifying the crucible cooled to room temperature with a resin, and the cut surface was observed by observing with a SEM (Scanning Electron Microscope, manufactured by Keyence, Inc., VE-9800).

도 4는 실시예 1에 의한 도가니의 절단면의 SEM 사진을 도시한다. 도 4로부터 명백해진 바와 같이, 도가니(41)의 내저면에는, 용융 주석(44)과의 반응층이 관찰되지 않았다. 또한, 도가니(41)와 용융 주석(44) 사이에 부분적으로 간극(45)이 형성되어 있어, 도가니(41)에 대한 용융 주석(44)의 습윤성이 낮은 것을 알 수 있다.4 shows an SEM photograph of the cut surface of the crucible according to Example 1. FIG. As apparent from FIG. 4, no reaction layer with the molten tin 44 was observed on the inner bottom surface of the crucible 41. In addition, it is understood that the gap 45 is partially formed between the crucible 41 and the molten tin 44, so that the wettability of the molten tin 44 with respect to the crucible 41 is low.

도 5는 실시예 1에 있어서의 평가용 유리에 형성되는 결함의 수를 조사하는 시험을 도시한다. 이 시험에서는, 벽돌 A를 가공한 도가니(51)를 준비하여, 준비한 도가니(51) 내에 금속 주석을 넣고, 카본 지그(52)에 평가용 유리(53)를 얹었다. 계속해서, 글로브 박스의 전기로 내에 도가니(51)를 설치하여, 전기로 내의 분위기를 치환한 후, 전기로 내의 온도를 올리고, 평가용 유리(53)를 자중으로 열변형시켜 용융 주석(54) 상에 얹었다. 계속해서, 전기로 내의 온도를 1100 ℃에서 10분간 유지한 후, 전기로 내의 온도를 800 ℃로 내려, 고화시킨 평가용 유리(53)를 수동으로 용융 주석(54)으로부터 인상하였다. 계속해서, 전기로 내에서 평가용 유리(53)를 서냉시켜, 평가용 유리(53)의 용융 주석(54)과 접촉한 부분에 형성된 FOBB의 수를 조사하였다.FIG. 5 shows a test for examining the number of defects formed in the glass for evaluation in Example 1. FIG. In this test, the crucible 51 which processed the brick A was prepared, the metal tin was put into the prepared crucible 51, and the glass 53 for evaluation was put on the carbon jig 52. Subsequently, after installing the crucible 51 in the electric furnace of a glove box, replacing the atmosphere in an electric furnace, the temperature in an electric furnace is raised, the glass 53 for evaluation is thermally deformed, and the molten tin 54 is carried out. On top. Subsequently, after maintaining the temperature in an electric furnace at 1100 degreeC for 10 minutes, the temperature in the electric furnace was lowered to 800 degreeC, and the solidified glass 53 for evaluation was pulled out from the molten tin 54 manually. Then, the glass 53 for evaluation was slow-cooled in the electric furnace, and the number of FOBBs formed in the part which contacted the molten tin 54 of the glass 53 for evaluation was investigated.

도가니(51)는 바닥이 있는 원통 형상(내경 60 ㎜, 안쪽 치수 높이 40 ㎜, 저벽의 두께 10 ㎜, 측벽의 두께 10 ㎜)으로 가공하였다.The crucible 51 was processed into a bottomed cylindrical shape (inner diameter 60 mm, inner dimension height 40 mm, bottom wall thickness 10 mm, side wall thickness 10 mm).

금속 주석으로는, 순도가 99.95 질량%인 것(간토 가가쿠 가부시키가이샤 제조, 특급)을 사용하였다. 금속 주석은, 용융 주석의 두께가 20 ㎜가 되도록 칭량하여, 도가니 내에 넣었다.As the metal tin, one having a purity of 99.95 mass% (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., Limited Express) was used. The metal tin was weighed so that the thickness of the molten tin was 20 mm and placed in the crucible.

평가용 유리(53)로서는, 무알칼리 유리판(세로 40 ㎜, 가로 40 ㎜, 두께 0.7 mm)을 준비하였다. 이 무알칼리 유리판은, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 60.0 %, Al2O3: 17.0 %, B2O3: 8.0 %, MgO: 3.0 %, CaO: 4.5 %, SrO: 7.5 %를 함유하고 있었다. 유리판의 화학 조성은, 형광 X선 분석 장치(리가쿠 덴키 고교 가부시키가이샤 제조, ZSX100e)에 의해 측정하였다.As the glass 53 for evaluation, an alkali free glass plate (40 mm length, 40 mm width, 0.7 mm thickness) was prepared. As a non-alkali glass plate, the display of the oxide-based mass%, SiO 2: 60.0%, Al 2 O 3: 17.0%, B 2 O 3: 8.0%, MgO: 3.0%, CaO: 4.5%, SrO: 7.5% It contained. The chemical composition of the glass plate was measured by the fluorescence X-ray analyzer (The Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd. make, ZSX100e).

전기로 내의 분위기는, 진공 펌프로 전기로 내를 1 ㎪로 진공화한 후, 가스 공급관을 통하여 전기로 내에 가스를 공급하여 치환하였다. 가스로서는, 수소 농도가 10 체적%인 질소 가스를 사용하였다.The atmosphere in the electric furnace was evacuated to 1 kPa by vacuum pump, and then gas was supplied into the electric furnace through the gas supply pipe to be replaced. As the gas, nitrogen gas having a hydrogen concentration of 10% by volume was used.

평가용 유리(53)에 형성된 결함(FOBB)의 수는, 평가용 유리(53)를 실온까지 냉각시킨 후, 평가용 유리(53)의 용융 주석(54)과 접촉한 부분(5 mm×5 mm)을 광학 현미경으로 관찰하여 조사하였다. 큰 결함(직경 300 ㎛ 초과)의 수는 0개이며, 작은 결함(직경 10 내지 300 ㎛)의 수는 2개였다. 또한, 작은 결함의 수와 큰 결함의 수의 총 수는, 후술하는 비교예 1의 경우에 비하여 10 % 이하였다.The number of defects FOBB formed on the glass 53 for evaluation is the part (5 mm x 5) which contacted with the molten tin 54 of the glass 53 for evaluation after cooling the glass 53 for evaluation to room temperature. mm) was examined by observing with an optical microscope. The number of large defects (greater than 300 micrometers in diameter) was 0, and the number of small defects (10-300 micrometers in diameter) was two. In addition, the total number of the number of small defects and the number of big defects was 10% or less compared with the case of the comparative example 1 mentioned later.

결함의 수가 적은 이유는, 도가니(51)의 재료인 벽돌 A는 저융점 원소인 Si의 함유량이 적기 때문이라고 추정된다. Si의 함유량이 적기 때문에, 도 4에 도시한 바와 같이 도가니(41)와 용융 주석(44)이 거의 반응하지 않아, 도가니(41)에 대한 용융 주석(44)의 습윤성이 낮다. 습윤성이 낮으므로, 도 3에 도시한 바와 같이 도가니의 내저면 상에서 형성되는 기포가 부상하기 어려워, 기포가 유지된 채 크게 성장하고, 그 결과, 작은 결함의 수가 적다.The reason why the number of defects is small is that the brick A which is the material of the crucible 51 has a small content of Si which is a low melting point element. Since the content of Si is small, as shown in FIG. 4, the crucible 41 and the molten tin 44 hardly react, and the wettability of the molten tin 44 with respect to the crucible 41 is low. Since the wettability is low, bubbles formed on the inner bottom of the crucible, as shown in FIG. 3, are less likely to float, grow large with bubbles maintained, and as a result, the number of small defects is small.

[실시예 2][Example 2]

실시예 2에서는, 알루미나(Al2O3)-칼시아(CaO)계 벽돌인 벽돌 B를 준비하고, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평가용 유리에 형성되는 결함의 수를 조사하였다. 벽돌 B는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 5.8 %, Al2O3: 82.4 %, CaO: 10.2 %, MgO: 1.2 %, Na2O: 0.2 %, Fe2O3: 0.2 %, 그 외의 성분은 각각 0.1 % 미만이다.In the second embodiment, alumina (Al 2 O 3) - calcia (CaO) based in the same manner as in the preparation of a brick masonry B, and Example 1, was examined the number of defects formed on the glass for evaluation. Brick B is expressed in terms of mass% based on oxide, SiO 2 : 5.8%, Al 2 O 3 : 82.4%, CaO: 10.2%, MgO: 1.2%, Na 2 O: 0.2%, Fe 2 O 3 : 0.2% And other components are less than 0.1%, respectively.

큰 결함(직경 300 ㎛ 초과)의 수는 0개이며, 작은 결함(직경 10 내지 300 ㎛)의 수는 10개 이하이다.The number of large defects (greater than 300 micrometers in diameter) is zero, and the number of small defects (10-300 micrometers in diameter) is ten or less.

[실시예 3][Example 3]

실시예 3에서는, 알루미나(Al2O3)-지르코니아(ZrO2)계 벽돌인 벽돌 C를 준비한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평가용 유리에 형성되는 결함의 수를 조사하였다. 벽돌 C는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 13.5 %, ZrO2: 33.0 %, Al2O3: 52.0 %, Na2O: 1.3 %를 함유하고 있고, 그 외의 성분은 각각 0.1 % 미만이다.In the third embodiment, alumina (Al 2 O 3) - zirconia (ZrO 2) based in the brick masonry C in the same manner as in Example 1 except that the prepared was examined for the number of defects formed on the glass for evaluation. Brick C contains SiO 2 : 13.5%, ZrO 2 : 33.0%, Al 2 O 3 : 52.0%, Na 2 O: 1.3% in terms of mass% of the oxide basis, and 0.1% of the other components, respectively. Is less than.

큰 결함(직경 300 ㎛ 초과)의 수는 0개이며, 작은 결함(직경 10 내지 300 ㎛)의 수는 15개이다.The number of large defects (greater than 300 micrometers in diameter) is zero, and the number of small defects (10 to 300 micrometers in diameter) is 15.

[비교예 1][Comparative Example 1]

비교예 1에서는, 알루미나(Al2O3)-실리카(SiO2)계 벽돌인 벽돌 D를 준비한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 벽돌과 용융 주석의 반응성을 조사하였다. 벽돌 D는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 58.0 %, Al2O3: 37.0 %, CaO: 0.4 %, MgO: 0.1 %, P2O5: 0.4 %, Na2O: 0.1 %, K2O: 0.9 %, Fe2O3: 1.2 %, TiO2: 0.9 %, ZrO2: 0.1 %를 함유하고 있고, 그 외의 성분은 각각 0.1 % 미만이다.In Comparative Example 1, except that brick D, which is an alumina (Al 2 O 3 ) -silica (SiO 2 ) -based brick, was prepared, the reactivity of the brick and molten tin was examined in the same manner as in Example 1. Brick D is a mass% display based on oxide, and SiO 2 : 58.0%, Al 2 O 3 : 37.0%, CaO: 0.4%, MgO: 0.1%, P 2 O 5 : 0.4%, Na 2 O: 0.1% , K 2 O: 0.9%, Fe 2 O 3 : 1.2%, TiO 2 : 0.9%, ZrO 2 : 0.1%, and the other components are less than 0.1%, respectively.

도 6은 비교예 1에 의한 도가니의 절단면의 SEM 사진을 도시한다. 도 7은 도 6의 일부를 확대한 SEM 사진을 도시한다. 도 6 및 도 7로부터 명백해진 바와 같이, 도가니(61)의 내저부에 용융 주석(64)과의 반응층(66)이 관찰되었다. 또한, 도가니(61)와 용융 주석(64)이 밀착되어 있어, 도가니(61)에 대한 용융 주석(64)의 습윤성이 높음을 알 수 있다.6 shows an SEM photograph of the cut surface of the crucible according to Comparative Example 1. FIG. FIG. 7 shows an enlarged SEM photograph of a portion of FIG. 6. As apparent from FIGS. 6 and 7, the reaction layer 66 with the molten tin 64 was observed at the inner bottom of the crucible 61. Moreover, since the crucible 61 and the molten tin 64 are in close contact, it turns out that the wettability of the molten tin 64 with respect to the crucible 61 is high.

도 8은 도 7의 SEM 사진과 동일한 영역을 EDS로 원소 분석한 Sn 원소의 맵, 도 9는 도 7의 SEM 사진과 동일한 영역을 EDS로 원소 분석한 Al 원소의 맵, 도 10은 도 7의 SEM 사진과 동일한 영역을 EDS로 원소 분석한 Si 원소의 맵을 도시한다. 도 8 내지 도 10에 있어서, 휘도가 높은 부분일수록, 원소 농도가 높은 것을 나타낸다. EDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometry)로서는, 상기 SEM에 부속된 것을 사용하였다.8 is a map of Sn elements obtained by elemental analysis of the same region as the SEM image of FIG. 7 by EDS, FIG. 9 is a map of Al elements elementally analyzed by the same region as the SEM image of FIG. 7, and FIG. 10 is shown in FIG. The map of the Si element which elementally analyzed the same area | region as an SEM photograph by EDS is shown. 8 to 10, the higher the portion, the higher the element concentration. As EDS (Energy Dispersive X-ray Spectrometry), the one attached to the SEM was used.

도 8 내지 도 10로부터 명백해진 바와 같이, 도가니(61)의 내저부 중, Al이 적고, Si가 많은 부분(67)에서 Sn이 증가하고 있음을 알 수 있다. 이는, 용융 주석(64)이 도가니(61) 중의 Si 농도가 높은 부분과 선택적으로 반응하고 있음을 나타내고 있다.As is apparent from Figs. 8 to 10, it can be seen that Sn is increased in the portion 67 having less Al and more Si in the inner bottom portion of the crucible 61. This indicates that the molten tin 64 selectively reacts with the portion of the high Si concentration in the crucible 61.

또한, 비교예 1에서는, 벽돌로서 상기 벽돌 D를 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평가용 유리에 형성되는 결함의 수를 조사하였다. 그 결과, 큰 결함(직경 300 ㎛ 초과)의 수는 0개이며, 작은 결함(직경 10 내지 300 ㎛)의 수는 60개였다.In addition, in the comparative example 1, except having used the said brick D as a brick, it carried out similarly to Example 1, and investigated the number of the defect formed in the glass for evaluation. As a result, the number of large defects (greater than 300 micrometers in diameter) was 0, and the number of small defects (diameter of 10-300 micrometers) was 60.

결함의 수가 많은 이유는, 도가니의 재료인 벽돌 D는 저융점 원소인 Si의 함유량이 많기 때문이라고 추정된다. Si의 함유량이 많기 때문에, 도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이 도가니(61)에 용융 주석(64)과의 반응층(66)이 형성되어, 도가니(61)에 대한 용융 주석(64)의 습윤성이 높다. 습윤성이 높으므로, 도 2에 도시한 바와 같이 도가니의 내저면 상에서 형성되는 기포가 작은 상태에서 부상하고, 그 결과, 작은 결함의 수가 많다.The reason for the large number of defects is that the brick D, which is a material of the crucible, has a large content of Si, which is a low melting point element. Since the Si content is large, as shown in FIGS. 6 and 7, the reaction layer 66 with the molten tin 64 is formed in the crucible 61 to form the molten tin 64 with respect to the crucible 61. Wetability is high. Since wettability is high, as shown in FIG. 2, the bubble formed on the inner bottom surface of a crucible floats in the small state, As a result, the number of small defects is large.

[비교예 2][Comparative Example 2]

비교예 2에서는, 알루미나(Al2O3)-실리카(SiO2)계 벽돌인 벽돌 E를 준비하고, 비교예 1과 마찬가지로 하여 평가용 유리에 형성되는 결함의 수를 조사하였다. 벽돌 E는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 58.0 %, Al2O3: 37.0 %, CaO: 0.2 %, MgO: 0.3 %, Na2O: 0.8 %, K2O: 0.9 %, Fe2O3: 1.1 %, TiO2: 1.6 %, 그 외의 성분은 각각 0.1 % 미만이다.In Comparative Example 2, brick E, which is an alumina (Al 2 O 3 ) -silica (SiO 2 ) -based brick, was prepared, and the number of defects formed in the glass for evaluation was examined in the same manner as in Comparative Example 1. Brick E is in terms of mass% based on the oxide, SiO 2 : 58.0%, Al 2 O 3 : 37.0%, CaO: 0.2%, MgO: 0.3%, Na 2 O: 0.8%, K 2 O: 0.9%, Fe 2 O 3 : 1.1%, TiO 2 : 1.6%, and other components are less than 0.1%, respectively.

그 결과, 큰 결함(직경 300 ㎛ 초과)의 수는 0개이며, 작은 결함(직경 10 내지 300 ㎛)의 수는 70개였다.As a result, the number of large defects (greater than 300 micrometers in diameter) was 0, and the number of small defects (diameter of 10-300 micrometers) was 70.

[참고예 1][Referential Example 1]

참고예 1에서는, 진공화한 후의 전기로 내에 공급하는 가스로서, 10 체적%의 수소 가스 및 90 체적%의 질소 가스를 포함하여 이루어지는 환원성 가스를 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여 벽돌 D와 용융 주석의 반응성을 조사하였다.In the reference example 1, it was carried out similarly to the comparative example 1 except having used the reducing gas which consists of 10 volume% hydrogen gas and 90 volume% nitrogen gas as gas supplied into the electric furnace after vacuuming. The reactivity of the molten tin was investigated.

도 11에 참고예 1에 의한 도가니의 절단면의 SEM 사진을 도시한다. 도 11로부터 명백해진 바와 같이, 도가니(71)에 용융 주석(74)과의 반응층이 보여지지 않았다. 또한, 도가니(71)와 용융 주석(74) 사이에 부분적으로 간극(75)이 형성되어 있어, 도가니(71)에 대한 용융 주석(74)의 습윤성이 낮은 것을 알 수 있다.The SEM photograph of the cut surface of the crucible by the reference example 1 is shown in FIG. As is apparent from FIG. 11, no reaction layer with molten tin 74 was seen in the crucible 71. In addition, it is understood that a gap 75 is partially formed between the crucible 71 and the molten tin 74, so that the wettability of the molten tin 74 with respect to the crucible 71 is low.

참고예 1의 결과와, 비교예 1의 결과로부터, 용융 주석(74) 상의 분위기 중에 포함되는 미량의 산소 가스가, 벽돌과 용융 주석의 습윤성에 영향을 미치는 것을 알 수 있다. 산소 가스가 용융 주석 중에 용해되고, 용융 주석 중의 SnO 성분이 도가니(71)의 SiO2 성분과 반응하여, 반응층이 형성되면, 습윤성이 높아진다.From the result of the reference example 1 and the result of the comparative example 1, it turns out that the trace amount oxygen gas contained in the atmosphere on the molten tin 74 affects the wettability of brick and molten tin. When the oxygen gas is dissolved in the molten tin and the SnO component in the molten tin reacts with the SiO 2 component of the crucible 71 to form a reaction layer, the wettability is increased.

실시예 1 내지 3, 비교예 1, 2의 평가의 결과를 표 1에 나타내었다. 표 1에서 벽돌의 조성은, SiO2, Al2O3, CaO, MgO 및 ZrO2만 나타낸다.Table 1 shows the results of the evaluation of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. In Table 1, the composition of the brick shows only SiO 2 , Al 2 O 3 , CaO, MgO, and ZrO 2 .

Figure 112013043202166-pct00001
Figure 112013043202166-pct00001

이상, 유리판의 제조 방법을 실시 형태 및 실시예 등으로 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태 및 실시예 등에 한정되지 않는다. 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 요지의 범위 내에서, 다양한 변형, 개량이 가능하다.As mentioned above, although the manufacturing method of a glass plate was demonstrated by embodiment, an Example, etc., this invention is not limited to the said embodiment, Example, etc. Various modifications and improvements are possible within the scope of the present invention described in the claims.

본 출원은, 2012년 3월 27일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허 출원 제 2012-072495호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이며, 일본 특허 출원 제 2012-072495호의 전체 내용을 본 국제 출원에 원용한다.This application claims the priority based on Japanese Patent Application No. 2012-072495 for which it applied to Japan Patent Office on March 27, 2012, and uses the whole content of Japanese Patent Application No. 2012-072495 for this international application. .

10: 플로트 배스
12: 플로트 배스의 입구
14: 플로트 배스의 출구
22: 욕조
24: 측벽
26: 천장
28: 공간
30: 가스 공급로
32: 히터
34: 금속 케이스
36: 보텀 벽돌
38: 사이드 벽돌
M: 용융 주석
G: 용융 유리
10: Float bath
12: Entrance of float bath
14: Exit of float bath
22: Bathtub
24: sidewall
26: ceiling
28: Space
30: gas supply furnace
32: heater
34: metal case
36: bottom brick
38: side brick
M: molten tin
G: molten glass

Claims (7)

욕조 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
상기 유리판의 유리는 무알칼리 유리이고, 상기 용융 유리의 점도가 104 d㎩·s가 되는 상기 용융 유리의 온도가 1200 ℃ 이상이며,
상기 욕조의 각 보텀 벽돌은, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이고,
상기 저융점 원소는, 상기 저융점 원소의 산화물과 산화주석(SnO)의 2성분계에서의 공융점이, 대응하는 상기 보텀 벽돌의 상면의 최고 온도보다 낮은 원소이고,
상기 보텀 벽돌은, 알루미나(Al2O3)-칼시아(CaO)계 벽돌, 또는 알루미나(Al2O3)-지르코니아(ZrO2)계 벽돌인 유리판의 제조 방법.
In the manufacturing method of the glass plate which has a process of flowing and shape | molding the molten glass continuously supplied on the molten tin in a bathtub on the said molten tin,
The glass of the said glass plate is an alkali free glass, the temperature of the said molten glass whose viscosity of the said molten glass turns into 10 4 dPa * s is 1200 degreeC or more,
In each bottom brick of the bath, the content of the total of the low melting point elements is 20% by mass or less in terms of oxides,
The low melting point element is an element whose eutectic point in the two-component system of the oxide and tin oxide (SnO) of the low melting point element is lower than the maximum temperature of the upper surface of the corresponding bottom brick,
The bottom brick is an alumina (Al 2 O 3 ) -Calcia (CaO) -based brick or alumina (Al 2 O 3 ) -zirconia (ZrO 2 ) -based brick production method.
욕조 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
상기 유리판의 유리는 무알칼리 유리이고, 상기 용융 유리의 점도가 104 d㎩·s가 되는 상기 용융 유리의 온도가 1200 ℃ 이상이며,
상기 욕조는 보텀 벽돌을 포함하고,
보텀 벽돌의 상면의 최고 온도가, 상기 용융 유리의 점도가 104 d㎩·s가 되는 상기 용융 유리의 온도 이하이고 또한 저융점 원소의 산화물과 산화주석(SnO)의 2성분계에서의 공융점을 초과하는 온도인, 적어도 1개의 보텀 벽돌은, 저융점 원소의 합계의 함유량이 산화물 환산으로 20 질량% 이하이며,
상기 저융점 원소는, 상기 저융점 원소의 산화물과 산화주석(SnO)의 2성분계에서의 공융점이, 대응하는 상기 보텀 벽돌의 상면의 최고 온도보다 낮은 원소이고,
상기 보텀 벽돌은, 알루미나(Al2O3)-칼시아(CaO)계 벽돌, 또는 알루미나(Al2O3)-지르코니아(ZrO2)계 벽돌인 유리판의 제조 방법.
In the manufacturing method of the glass plate which has a process of flowing and shape | molding the molten glass continuously supplied on the molten tin in a bathtub on the said molten tin,
The glass of the said glass plate is an alkali free glass, the temperature of the said molten glass whose viscosity of the said molten glass turns into 10 4 dPa * s is 1200 degreeC or more,
The bathtub comprises a bottom brick,
The maximum temperature of the upper surface of the bottom brick is equal to or lower than the temperature of the molten glass such that the viscosity of the molten glass becomes 10 4 dPa · s, and the eutectic point in the two-component system of the oxide and tin oxide (SnO) of the low melting point element is determined. The content of the sum total of the low melting point element is 20 mass% or less in oxide conversion, in the at least 1 bottom brick which is exceeding temperature,
The low melting point element is an element whose eutectic point in the two-component system of the oxide and tin oxide (SnO) of the low melting point element is lower than the maximum temperature of the upper surface of the corresponding bottom brick,
The bottom brick is an alumina (Al 2 O 3 ) -Calcia (CaO) -based brick or alumina (Al 2 O 3 ) -zirconia (ZrO 2 ) -based brick production method.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 저융점 원소는 규소(Si)인 유리판의 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The low melting point element is silicon (Si) manufacturing method of a glass plate.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 50 % 내지 73 %, Al2O3: 10.5 % 내지 24 %, B2O3: 0 % 내지 12 %, MgO: 0 % 내지 8 %, CaO: 0 % 내지 14.5 %, SrO: 0 % 내지 24 %, BaO: 0 % 내지 13.5 %, ZrO2: 0 % 내지 5 %를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 % 내지 29.5 %인 유리판의 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The alkali-free glass is in oxide-based, in mass% shown, SiO 2: 50% to 73%, Al 2 O 3: 10.5% to 24%, B 2 O 3: 0% to 12%, MgO: 0% to 8%, CaO: 0% to 14.5%, SrO: 0% to 24%, BaO: 0% to 13.5%, ZrO 2 : 0% to 5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 8% to The manufacturing method of the glass plate which is 29.5%.
제4항에 있어서,
상기 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 58% 내지 66 %, Al2O3: 15 % 내지 22 %, B2O3: 5 % 내지 12 %, MgO: 0 % 내지 8 %, CaO: 0 % 내지 9 %, SrO: 3 % 내지 12.5 %, BaO: 0 % 내지 2 %를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 % 내지 18 %인 유리판의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The alkali-free glass is in oxide-based, in mass% shown, SiO 2: 58% to 66%, Al 2 O 3: 15% to 22%, B 2 O 3: 5% to 12%, MgO: 0% to 8%, CaO: 0% to 9%, SrO: 3% to 12.5%, BaO: 0% to 2%, MgO + CaO + SrO + BaO: 9% to 18%.
제4항에 있어서,
상기 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량% 표시로, SiO2: 54 % 내지 73 %, Al2O3: 10.5 % 내지 22.5 %, B2O3: 0 % 내지 5.5 %, MgO: 0 % 내지 8 %, CaO: 0 % 내지 9 %, SrO: 0 % 내지 16 %, BaO: 0 % 내지 2.5 %, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 % 내지 26 %인 유리판의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The alkali-free glass is in oxide-based, in mass% shown, SiO 2: 54% to 73%, Al 2 O 3: 10.5% to 22.5%, B 2 O 3: 0% to 5.5%, MgO: 0% to 8%, CaO: 0% to 9%, SrO: 0% to 16%, BaO: 0% to 2.5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 8% to 26%.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015224150A (en) * 2014-05-27 2015-12-14 旭硝子株式会社 Method for producing alkali-free glass
JP2016098160A (en) * 2014-11-25 2016-05-30 旭硝子株式会社 Float glass manufacturing apparatus and float glass manufacturing method
DE102017124625A1 (en) 2016-12-22 2018-06-28 Schott Ag Thin glass substrate, method and apparatus for its manufacture

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07109129A (en) * 1993-10-12 1995-04-25 Yootai:Kk Fire brick for lining float bath
JP2005314186A (en) 2004-04-30 2005-11-10 Ohcera Co Ltd Refractory for float bath and float bath
KR20060102332A (en) * 2003-12-26 2006-09-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 No alkali glass, method for production thereof and liquid crystalline display panel
KR20100085900A (en) * 2007-10-25 2010-07-29 아사히 가라스 가부시키가이샤 Method for production of non-alkali glass

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4304765A1 (en) * 1993-02-17 1994-08-18 Didier Werke Ag Fireproof or refractory stone as a tin bath floor stone
JP3988209B2 (en) * 1996-06-03 2007-10-10 旭硝子株式会社 Alkali-free glass and liquid crystal display panel
JP4789058B2 (en) * 2004-06-23 2011-10-05 日本電気硝子株式会社 Alkali-free glass substrate
JP5446030B2 (en) * 2007-12-19 2014-03-19 日本電気硝子株式会社 Glass substrate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07109129A (en) * 1993-10-12 1995-04-25 Yootai:Kk Fire brick for lining float bath
KR20060102332A (en) * 2003-12-26 2006-09-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 No alkali glass, method for production thereof and liquid crystalline display panel
JP2005314186A (en) 2004-04-30 2005-11-10 Ohcera Co Ltd Refractory for float bath and float bath
KR20100085900A (en) * 2007-10-25 2010-07-29 아사히 가라스 가부시키가이샤 Method for production of non-alkali glass

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