KR102042707B1 - 노즐 세척 장치 및 이를 구비하는 도포 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는, 토출액을 토출하는 노즐을 세척하는 장치에 관한 것으로서, 회전축을 구비하는 베이스 프레임, 상기 베이스 프레임 상에 배치되며, 상기 노즐의 토출구를 세척하는 제1 면을 구비하는 하나 이상의 제1 플레이트 및 상기 베이스 프레임 상에 배치되며, 상기 제1 플레이트에 인접하게 배치되며 상기 노즐로부터 적어도 1회 이상 토출액을 받는 제2 면을 구비하는 하나 이상의 제2 플레이트를 구비하는 노즐 세척 장치를 제공한다.

Description

노즐 세척 장치 및 이를 구비하는 도포 시스템{Nozzle cleaning apparatus and dispensing system comprising the same}
본 발명의 실시예는 노즐 세척 장치 및 이를 구비하는 도포 시스템에 관한 것이다.
최근 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 컴퓨터, 대형 TV와 같은 각종 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평면 디스플레이 장치에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평면 디스플레이 장치는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재 액정표시장치(LCD)가 가장 널리 사용되고 있으나, 최근에는 기술력의 발달로 인해 다양한 장치의 활용이 더욱 증가되고 있는 추세이다.
이러한 평면 디스플레이 장치를 포함하는 디스플레이 분야 또는 반도체 분야에서는 합성 수지 용액뿐만 아니라 은 페이스트(silver paste)나 솔더 페이스트(solder paste)를 기판에 도포하는 여러가지 공정을 진행한다. 이러한 공정은 토출구가 형성된 노즐을 통해 은 페이스트(silver paste)나 솔더 페이스트(solder paste)의 토출액을 기판에 도포하는 단계를 수회 수행한 후, 도포 품질을 향상시키기 위하여 노즐을 대기하면서 세척하는 단계를 포함한다. 그러나, 세척 공정 편차로 인하여 세척을 진행한 노즐로부터 토출되는 초기 토출량이 상이하여 초기 도포 공정에서 도포 품질이 저하되는 문제점이 발생한다.
본 발명의 실시예는 세척 후에도 정량 토출이 가능하게 하는 노즐 세척 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예는, 토출액을 토출하는 노즐을 세척하는 장치에 관한 것으로서, 회전축을 구비하는 베이스 프레임, 상기 베이스 프레임 상에 배치되며, 상기 노즐의 토출구를 세척하는 제1 면을 구비하는 하나 이상의 제1 플레이트 및 상기 베이스 프레임 상에 배치되며, 상기 제1 플레이트에 인접하게 배치되며 상기 노즐로부터 적어도 1회 이상 토출액을 받는 제2 면을 구비하는 하나 이상의 제2 플레이트를 구비하는 노즐 세척 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트는 상기 회전축을 기준으로 원주방향을 따라 교번적으로 상기 베이스 프레임 상에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트는 상기 회전축과 평행한 방향으로 길이가 연장될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 플레이트의 제1 면은 다공성 재질로 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 플레이트의 제2 면은 금속재질로 형성된 평탄면으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 회전축으로부터 연장되는 연장선 상에 배치되고, 상기 베이스 프레임의 일측에 구비되어 베이스 프레임을 회전시키는 회전부재를 더 구비할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 연장선 상에 배치되되, 상기 베이스 프레임의 타측에 구비되는 고정부재를 더 구비할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 베이스 프레임은 상기 회전부재 및 상기 고정부재에 대하여 교체가능하도록 결합될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 베이스 프레임은 결합홈을 더 구비하고, 상기 고정부재에는 상기 결합홈에 대응되는 돌기를 더 구비할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 회전부재 및 상기 고정부재 중 적어도 하나를 지지하는 지지프레임을 더 구비할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 지지프레임이 적어도 일방향으로 이동가능하도록 상기 지지프레임 일측에 배치되는 가이드 레일을 더 구비할 수 있다.
본 발명의 일 실시예는, 일단부에 형성된 토출구를 통해 토출액을 대상체로 토출하는 노즐과, 상기 노즐의 위치를 이동시키는 노즐이동수단을 구비하는 도포 장치 및 회전축을 구비하는 베이스 프레임과, 상기 베이스 프레임 상에 배치되며 상기 노즐의 토출구를 세척하는 제1 면을 구비하는 하나 이상의 제1 플레이트와, 상기 베이스 프레임 상에 상기 제1 플레이트와 인접하게 배치되며 상기 노즐의 토출구로부터 일정 거리 이격되어 상기 노즐로부터 적어도 1회 이상 토출액을 받는 제2 면을 구비하는 하나 이상의 제2 플레이트로 이루어진 노즐 세척 장치를 구비하는 도포 시스템을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트는 상기 회전축을 기준으로 상기 베이스 프레임 상에 교번적으로 배치되는, 노즐 세척 장치를 구비할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예들에 따른 노즐 세척 장치 및 이를 구비한 도포 시스템은 노즐을 세척한 후 일정량의 토출액을 덤프샷으로 배출시킬 수 있어 세척 후 초기 토출량의 공정 편차를 최소화할 수 있다. 이를 통해, 노즐 세척 장치 및 이를 구비한 도포 시스템은 도포 공정 불량을 최소화할 수 있다.
또한, 노즐 세척 장치는 베이스 프레임 상에 제1 플레이트와 제2 플레이트를 함께 구비함으로써, 세척 공정을 위한 장비와 덤프샷 배출 공정을 위한 장비를 따로 구비하는 것에 비해 장비의 공간 효율을 극대화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세척 장치를 구비한 도포 시스템을 개략적으로 도시한 개념도이다.
도 2는 도 1의 세척부재를 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 세척부재가 교체가능한 구성임을 설명하기 위한 도면이다.
도 4a는 도 1의 세척부재를 이용하여 노즐을 세척하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4b는 도 1의 세척부재를 이용하여 노즐의 정량 토출을 유지하기 위한 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 1의 세척부재의 다른 실시형태를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세척부재를 설명하기 위한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 이하의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 실시예들은 다양한 변환을 가할 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 실시예들의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 내용들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 실시예들은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하의 실시예에서 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서 유닛, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 유닛, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
이하의 실시예에서 연결하다 또는 결합하다 등의 용어는 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 반드시 두 부재의 직접적 및/또는 고정적 연결 또는 결합을 의미하는 것은 아니며, 두 부재 사이에 다른 부재가 개재된 것을 배제하는 것이 아니다.
명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 이하의 실시예는 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세척 장치를 구비한 도포 시스템(1)을 개략적으로 도시한 개념도이고, 도 2는 도 1의 세척부재(110)를 도시한 도면이고, 도 3은 도 1의 세척부재(110)가 교체가능한 구성임을 설명하기 위한 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 시스템(1)은 도포 장치(20) 및 노즐 세척 장치(10)를 구비할 수 있다.
도포 장치(20)는 노즐(200) 및 노즐 이동 수단(210)을 포함한다.
여기서, 노즐(200)은 일단부에 형성된 토출구(201, 도 4a 참고)를 통해 토출액(T)을 대상체(M)로 토출하는 기능을 수행한다. 노즐(200)은 도시하지 않았지만 시린지(syringe)로부터 토출액을 공급받고, 펌프와 같은 수단으로부터 제공되는 토출 압력에 의해 토출액을 토출하게 된다.
노즐 이동 수단(210)은 대상체(M)의 도포 위치에 사전에 설정된 형상 또는 패턴으로 토출액을 도포하기 위하여, 노즐(200)의 위치를 이동시킬 수 있다. 또한, 노즐 이동 수단(210)은 도포 공정이 완료된 노즐(200)을 세척하기 위하여 노즐 세척 장치(10)로 노즐(200)을 이동시키는 기능도 수행할 수 있다.
한편, 노즐 세척 장치(10)는 세척부재(110), 회전부재(120) 및 고정부재(130)를 포함할 수 있다.
세척부재(110)는 대상체(M)에 토출액을 도포하는 공정을 수행한 후 이동한 노즐(200)을 세척하며, 세척된 노즐이 대상체(M)에 다시 토출하기 전에 정량 토출(dump shot)을 수행하는 기능을 구비하고 있다.
일반적으로 노즐(200)을 이용하여 토출액을 도포하는 경우, 토출액의 점성으로 인해 노즐(200)의 일단부에는 토출액의 일부가 잔존하게 된다. 세척 공정은 상기한 잔존 토출액을 제거하기 위한 것으로서, 세척 공정 없이 도포 공정만 진행하는 경우, 노즐(200)의 일단부에 잔존하는 토출액이 증가하여 가공 불량을 야기할 수 있다. 따라서, 1회의 도포 공정을 진행한 후 바로 노즐(200)을 세척하거나, 가공 불량을 야기시키지 않는 사전에 설정된 횟수의 도포 공정 진행 후 노즐(200)을 세척하는 세척 공정이 필요하다.
이러한 세척 공정은 토출구(201)가 형성된 노즐(200)의 일단부를 세척하는 것에 의해 잔존 토출액을 제거하게 된다. 이때, 세척 공정의 공정 편차로 인하여, 잔존 토출액이 다 제거되지 않는 경우도 있고, 잔존 토출액뿐만 아니라 토출구(201)에 인접하게 위치하는 토출액까지 과도하게 제거되는 경우도 발생하게 된다. 이로 인하여 노즐(200)에서 처음 토출하는 토출액의 양에도 편차가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세척 장치(10)는 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 제1 플레이트(113)를 이용하여 노즐(200)을 세척한 후, 실제 도포 공정 전에 제2 플레이트(115) 상에 예비로 토출액을 덤프샷(dump shot)으로 배출시킴으로써, 세척 후 초기 도포 시에도 정량 토출이 가능하게 하는 것을 특징으로 한다.
구체적으로 세척부재(110)는 베이스 프레임(111), 제1 플레이트(113) 및 제2 플레이트(115)를 구비할 수 있다.
베이스 프레임(111)은 중심을 지나는 회전축(Ax1)을 구비하며, 회전축(Ax1)에 대하여 정방향 또는 역방향으로 회전할 수 있다.
일 실시예로서, 베이스 프레임(111)은 회전축(Ax1)을 둘러싸는 외주면을 갖는 원통형상으로 이루어질 수 있다. 베이스 프레임(111)은 회전축(Ax1)이 연장되는 방향(y축)으로 긴 원통일 수 있다. 다만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 제한되지 않으며, 원통이 아닌 다각면체로 이루어질 수 있음은 물론이다.
제1 플레이트(113)는 베이스 프레임(111) 상에 배치되며, 노즐(200)의 토출구(201)를 세척하는 제1 면(A1)을 구비할 수 있다. 세척 부재(110)는 제1 플레이트(113)를 하나 이상 포함할 수 있으며, 예를 들면, 도면에 도시된 바와 같이, 4개의 제1 플레이트(113)를 포함할 수 있다.
제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)은 노즐(200), 구체적으로 노즐(200)의 일단부가 접촉되는 면일 수 있다. 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)은 노즐(200)의 일단부에 잔존하는 토출액을 효과적으로 제거하기 위하여 다공성(porous) 재질로 이루어질 수 있다. 일 실시예로서, 제1 플레이트(113)는 적어도 제1 면(A1)이 스펀지(sponge) 재질로 이루어질 수 있다. 이때, 제1 플레이트(113)는 스펀지 재질의 제1 부재 및 제1 부재를 베이스 프레임(111) 상에 지지되도록 고정시키는 제2 부재를 포함할 수 있다. 제2 부재는 스펀지 재질의 제1 부재를 안정적으로 고정시키기 위해, 금속 재질로 이루어질 수 있다.
제2 플레이트(115)는 베이스 프레임(111) 상에 배치되며, 제1 플레이트(113)에 인접하게 배치되어 노즐(200)로부터 적어도 1회 이상 토출액을 받는 제2 면(A2)을 구비할 수 있다. 제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)은 노즐(200)의 토출구(201)로부터 일정 거리 이격될 수 있다. 세척부재(110)는 제2 플레이트(115)를 하나 이상 포함할 수 있으며, 예를 들면, 도면에 도시된 바와 같이, 4개의 제2 플레이트(115)를 포함할 수 있다. 도면에서는 제2 플레이트(115)의 개수가 제1 플레이트(113)의 개수와 동일한 것으로 도시하였으나, 제1 플레이트(113)의 개수와 제2 플레이트(115)의 개수는 서로 상이할 수 있다.
제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)은 노즐(200)로부터 일정 거리 이격되며, 노즐(200)로부터 토출되는 토출액이 접촉할 수 있다. 제2 플레이트(115)는 제2 면(A2)이 평탄면이 되는 금속 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 제2 플레이트(115)는 알루미늄(Aluminum) 재질로 이루어질 수 있다.
노즐(200)로부터 덤프샷(dump shot)을 통해 배출되는 토출액은 평탄한 제2 면(A2)에 대하여 표면장력이 발생하게 되며, 이러한 표면 장력으로 인하여 덤프샷으로 배출된 토출액의 일부는 제2 면(A2)에 남게 되고 나머지는 노즐(200)의 토출구(201)의 주변에 남게 된다. 이때, 토출액에 대한 표면장력에 따라 노즐(200)의 토출구(201) 주변에 남는 토출액의 양이 달라질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세척 장치(10)를 구비한 도포 시스템(1)은 덤프샷 공정을 수행할 때 노즐(200)과 제2 면(A2) 사이의 거리를 일정하게 유지함으로써, 토출액의 제2 면(A2)에 대한 표면 장력이 일정하게 적용될 수 있다. 이러한 덤프샷 공정을 통해 노즐(200)의 토출구(201) 주변에는 일정량의 토출액이 남게 되어 초기 도포 공정에서도 토출액의 정량 토출이 가능해진다. 한편, 노즐(200)은 상기한 제2 면(A2)에 대하여 적어도 1회 이상 덤프샷을 배출할 수 있다.
제1 플레이트(113) 및 제2 플레이트(115)는 회전축(Ax1)을 기준으로 원주방향을 따라 베이스 프레임(111) 상에 교번적으로 배치될 수 있다. 일 실시예로서, 베이스 프레임(111)이 회전축(Ax1)을 둘러싸는 외주면을 구비하는 원통으로 이루어지는 경우, 제1 플레이트(113)와 제2 플레이트(115)는 외주면을 따라 교번적으로 배치될 수 있다. 이를 통해, 베이스 프레임(111)이 회전하는 경우, 노즐(200)의 하부에 제1 플레이트(113)와 제2 플레이트(115)가 반복적으로 위치할 수 있게 된다.
한편, 회전부재(120)는 회전축(Ax1)으로부터 연장되는 연장선 상에 배치되고 베이스 프레임(111)과 연결되어, 베이스 프레임(111)을 회전시킬 수 있다. 회전부재(120)는 회전동력을 발생시키는 회전모터를 상기 베이스 프레임(111)에 연결하여 베이스 프레임(111)을 회전시킬 수 있다. 이때, 회전모터는 베이스 프레임(111)과 직접적으로 연결될 수 있으나, 회전모터로부터 발생되는 회전력을 베이스 프레임(111)으로 전달하는 하나 이상의 기어(gear)를 포함하는 기어 어셈블리를 이용하여 연결될 수도 있다.
고정부재(130)는 회전축(Ax1)으로부터 연장되는 연장선 상에 배치되되, 베이스 프레임(111)을 사이에 개재하여 회전부재(120)와 대향되게 배치될 수 있다. 다시 말해, 회전부재(120)는 베이스 프레임(111)의 일측에 배치되고, 고정부재(130)는 베이스 프레임(111)의 일측에 대향되는 타측에 배치되어, 베이스 프레임(111)을 회전가능하게 고정시킬 수 있다.
이때, 도 3을 참조하면, 베이스 프레임(111)은 회전부재(120) 및 고정부재(130)에 대하여 교체가능하도록 형성될 수 있다. 일 실시예로서, 베이스 프레임(111)은 회전부재(120)와 결합되는 일측 및 고정부재(130)와 결합되는 타측에 결합홈(P1)을 구비하고, 회전부재(120) 및 고정부재(130)에 이에 대응되는 돌기(135)를 구비할 수 있다. 이를 통해, 노즐 세척 장치(10)는 세척부재(110)를 회전부재(120) 및 고정부재(130)로부터 교체가능하게 결합할 수 있다. 즉, 세척부재(110)는 소모품으로써 하나 이상의 제1 플레이트(113) 및 제2 플레이트(115)의 모든 면을 사용하고 난 후 다른 세척부재(110)로 교체할 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세척 장치(10)는 지지프레임(150), 가이드레일(160) 및 구동수단(170)을 더 구비할 수 있다.
지지프레임(150)은 세척부재(110), 회전부재(120) 및 고정부재(130)를 고정지지한 상태에서 가이드 레일(160)을 따라 이동할 수 있다. 가이드레일(160)은 도포 시스템(1) 내에서 노즐(200)의 위치에 대응하여 세척부재(110)가 이동할 수 있도록 지지 프레임(150)을 안내하는 기능을 수행한다. 구동수단(170)은 지지프레임(150)과 연결되어 지지프레임(150)에 구동력을 제공할 수 있다.
도 4a는 도 1의 세척부재(110)를 이용하여 노즐(200)을 세척하는 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 4b는 도 1의 세척부재(110)를 이용하여 노즐(200)의 정량 토출을 유지하기 위한 방법(dump shot 공정)을 설명하기 위한 도면이다.
도 4a를 참조하면, 노즐 세척 장치(10)는 세척부재(110)를 회전시켜 노즐(200) 하부에 제1 플레이트(113)가 위치하도록 한다. 1회 또는 사전에 설정된 횟수의 도포 공정을 완료한 노즐(200)은 제1 플레이트(113)와 접촉하는 것에 의해 토출구(201) 주변에 잔존하는 잔존토출액(T1)을 제거할 수 있다. 이때, 노즐(200)은 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)의 길이 방향인 제1 방향(y방향)에 대하여 수직한 제2 방향(x방향)으로 이동할 수 있다. 다시 말해, 노즐 세척 장치(10)는 노즐(200)이 제1 플레이트(113)에서 이동하는 것에 의해 제1 면(A1) 상에서 노즐(200)의 접촉 경로를 증가시켜 세척 효율을 향상시킬 수 있다.
일 실시예로서, 도포 시스템(1)은 노즐(200)을 제1 방향(y방향) 및 제2 방향(x방향)으로 이동시키면서, 제1 면(A1) 상에서 'ㄷ'자의 경로로 세척할 수 있다. 도포 시스템(1)은 지면에 대한 수직방향인 제3 방향(z방향)으로 노즐(200)을 이동시켜 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)에 대한 접촉 정도를 제어할 수 있다. 다른 실시예로서, 도포 시스템(1)은 노즐(200)을 제2 방향(x방향)으로 왕복 이동시키면서, 노즐 세척 장치(10)의 지지프레임(150)을 제1 방향(y방향)으로 이동시키는 것에 의해, 노즐(200)의 'ㄷ'자 경로를 형성할 수도 있다. 도포 시스템(1)은 노즐(200)을 제1 면(A1) 상에서 'ㄷ'자 경로로 이동시키는 것에 의해 제1 면(A1)의 전면(全面)을 효율적으로 세척에 사용할 수 있다. 도포 시스템(1)은 하나의 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)을 모두 사용하는 경우, 세척부재(110)를 회전시켜 다른 제1 플레이트(113)로 교체할 수 있다.
도 4b를 참조하면, 노즐 세척 장치(10)는 세척부재(110)를 회전시켜 노즐(200) 하부에 제2 플레이트(115)가 위치하도록 한다. 이때, 노즐(200)은 제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)로부터 일정 거리 이격되어, 토출액(T)의 덤프샷(T2)을 배출할 수 있다. 도포 시스템(1)은 제1 플레이트(113)와 접촉하였던 노즐(200)을 제3 방향(z방향)으로 이동시켜 제2 면(A2)과 일정 거리 이격되게 할 수 있다. 노즐(200)은 이격된 상태에서 덤프샷(T2)을 적어도 1회 이상 제2 플레이트(115)로 배출할 수 있다. 도포시스템(1)은 제1 플레이트(113) 상에서와 마찬가지로, 제2 플레이트(115) 상에서 노즐(200)을 이동시켜 제2 면(A2)의 사용효율을 증가시킬 수 있다.
도 5는 도 1의 세척부재(110)의 다른 실시형태를 설명하기 위한 도면이다.
도 5를 참조하면, 다른 실시형태의 세척부재(110)는 제1 플레이트(113)와 제2 플레이트(115)의 높이가 다를 수 있다. 구체적으로, 베이스 프레임(111)의 회전축(Ax1)이 관통하는 중심(O)으로부터 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)까지의 거리(d1)는 중심(O)으로부터 제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)까지의 거리(d2)보다 길 수 있다. 전술한 바와 같이, 제1 플레이트(113)는 노즐(200)의 세척을 위하여 노즐(200)과 접촉해야하고, 제2 플레이트(115)는 덤프샷(T2) 토출을 위해 일정거리(S1) 이격되어야 한다. 본 발명의 다른 실시형태에 따른 노즐 세척 장치(10)는 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)의 위치와 제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)의 위치를 다르게 함으로써, 노즐(200)을 제3 방향(z방향)에 대하여 고정된 상태에서 세척 공정과 덤프샷 배출 공정을 수행할 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세척부재(110')를 설명하기 위한 도면이다.
도 6을 참조하면, 세척부재(110')는 베이스 프레임(111), 제1 플레이트(113) 및 제2 플레이트(115)를 구비할 수 있다.
베이스 프레임(111)은 중심을 지나는 회전축(Ax1)을 구비하며, 회전부재(120)를 이용하여 회전축(Ax1)에 대하여 회전할 수 있다.
일 실시예로서, 베이스 프레임(111)은 회전축(Ax1)에 대하여 수직한 수직면을 구비하는 디스크(disk) 형상으로 이루어질 수 있다. 베이스 프레임(111)은 원형의 디스크로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않으며, 다각형의 판상으로 이루어질 수도 있다.
제1 플레이트(113)는 베이스 프레임(111) 상에 배치되며, 노즐(200)의 토출구(201)를 세척하는 제1 면(A1)을 구비할 수 있다. 세척 부재(110')는 제1 플레이트(113)를 하나 이상 포함할 수 있으며, 예를 들면, 도면에 도시된 바와 같이, 4개의 제1 플레이트(113)를 포함할 수 있다.
제2 플레이트(115)는 베이스 프레임(111) 상에 배치되며, 노즐(200)의 토출구(201)로부터 일정 거리 이격된 제2 면(A2)을 구비할 수 있다. 세척부재(110')는 제2 플레이트(115)를 하나 이상 포함할 수 있으며, 예를 들면, 도면에 도시된 바와 같이, 4개의 제2 플레이트(115)를 포함할 수 있다.
제1 플레이트(113) 및 제2 플레이트(115)는 원형의 수직면 상에 교번적으로 배치될 수 있다. 도 1의 세척부재(110)는 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)과 제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)이 베이스 프레임(111)의 외주면 상에서 서로 다른 방향으로 배치되는 것과 달리, 도 6의 세척부재(110')는 제1 플레이트(113)의 제1 면(A1)과 제2 플레이트(115)의 제2 면(A2)이 동일 평면 상에 배치될 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 세척 장치 및 이를 구비한 도포 시스템은 노즐을 세척부재(110,110') 상에서 세척한 후 일정량의 토출액을 대상체(M)에 초기 토출하기 전에 세척부재(110,110') 상에서 덤프샷으로 배출시킬 수 있어 세척 및 덤프샷 후 대상체(M) 상에서의 초기 토출량의 공정 편차를 최소화할 수 있다. 이를 통해, 노즐 세척 장치 및 이를 구비한 도포 시스템은 도포 공정 불량을 최소화할 수 있다. 또한, 노즐 세척 장치는 베이스 프레임 상에 제1 플레이트와 제2 플레이트를 함께 구비함으로써, 세척 공정을 위한 장비와 덤프샷 배출 공정을 위한 장비를 따로 구비하는 것에 비해 장비의 공간 효율을 극대화할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
1: 도포 시스템
10: 노즐 세척 장치
20: 도포 장치
110: 세척부재
111: 베이스 프레임
113: 제1 플레이트
115: 제2 플레이트
120: 회전부재
130: 고정부재

Claims (13)

  1. 토출액을 토출하는 노즐을 세척하는 장치에 관한 것으로서,
    회전축을 구비하는 베이스 프레임;
    상기 베이스 프레임 상에 배치되며, 상기 노즐의 토출구를 세척하는 제1 면을 구비하는 하나 이상의 제1 플레이트; 및
    상기 베이스 프레임 상에 배치되며, 상기 제1 플레이트에 인접하게 배치되며 상기 노즐로부터 적어도 1회 이상 토출액을 받는 제2 면을 구비하는 하나 이상의 제2 플레이트;를 구비하고,
    상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트는 상기 회전축을 기준으로 원주방향을 따라 교번적으로 상기 베이스 프레임의 외주면 상에 배치되며,
    상기 노즐의 토출구는 상기 베이스 프레임의 회전에 따라 상기 제1 플레이트 의 상기 제1 면 또는 상기 제2 플레이트의 상기 제2 면과 마주보게 되는, 노즐 세척 장치.
  2. 삭제
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트는 상기 회전축과 평행한 방향으로 길이가 연장되는, 노즐 세척 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 플레이트의 제1 면은 다공성 재질로 이루어지는, 노즐 세척 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 플레이트의 제2 면은 금속재질로 형성된 평탄면으로 이루어지는, 노즐 세척 장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 회전축으로부터 연장되는 연장선 상에 배치되고, 상기 베이스 프레임의 일측에 구비되어 베이스 프레임을 회전시키는 회전부재;를 더 구비하는, 노즐 세척 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 연장선 상에 배치되되, 상기 베이스 프레임의 타측에 구비되는 고정부재;를 더 구비하는, 노즐 세척 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 베이스 프레임은 상기 회전부재 및 상기 고정부재에 대하여 교체가능하도록 결합되는, 노즐 세척 장치.
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 베이스 프레임은 결합홈을 더 구비하고,
    상기 고정부재에는 상기 결합홈에 대응되는 돌기를 더 구비하는, 노즐 세척 장치.
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 회전부재 및 상기 고정부재 중 적어도 하나를 지지하는 지지프레임;을 더 구비하는 노즐 세척 장치.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 지지프레임이 적어도 일방향으로 이동가능하도록 상기 지지프레임 일측에 배치되는 가이드 레일;을 더 구비하는, 노즐 세척 장치.
  12. 일단부에 형성된 토출구를 통해 토출액을 대상체로 토출하는 노즐과, 상기 노즐의 위치를 이동시키는 노즐이동수단을 구비하는 도포 장치; 및
    회전축을 구비하는 베이스 프레임과, 상기 베이스 프레임 상에 배치되며 상기 노즐의 토출구를 세척하는 제1 면을 구비하는 하나 이상의 제1 플레이트와, 상기 베이스 프레임 상에 상기 제1 플레이트와 인접하게 배치되며 상기 노즐의 토출구로부터 일정 거리 이격되어 상기 노즐로부터 적어도 1회 이상 토출액을 받는 제2 면을 구비하는 하나 이상의 제2 플레이트로 이루어진 노즐 세척 장치;를 구비하고,
    상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트는 상기 회전축을 기준으로 원주방향을 따라 교번적으로 상기 베이스 프레임의 외주면 상에 배치되며,
    상기 노즐의 토출구는 상기 베이스 프레임의 회전에 따라 상기 제1 플레이트 의 상기 제1 면 또는 상기 제2 플레이트의 상기 제2 면과 마주보는 도포 시스템.

  13. 삭제
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