KR20180071079A - 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치 - Google Patents

프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20180071079A
KR20180071079A KR1020160173866A KR20160173866A KR20180071079A KR 20180071079 A KR20180071079 A KR 20180071079A KR 1020160173866 A KR1020160173866 A KR 1020160173866A KR 20160173866 A KR20160173866 A KR 20160173866A KR 20180071079 A KR20180071079 A KR 20180071079A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
priming
unit
roller
block
chemical liquid
Prior art date
Application number
KR1020160173866A
Other languages
English (en)
Inventor
조강일
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020160173866A priority Critical patent/KR20180071079A/ko
Priority to CN201720106086.5U priority patent/CN206613643U/zh
Publication of KR20180071079A publication Critical patent/KR20180071079A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7096Arrangement, mounting, housing, environment, cleaning or maintenance of apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

본 발명은 중량을 경량화하고 처짐을 방지하여 직진도와 진원도를 향상시킨 프라이밍 롤러를 구비한 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
이를 구현하기 위한 본 발명의 프라이밍 유닛은, 약액 노즐로부터 약액이 예비토출되는 프라이밍 롤러를 구비한 프라이밍 유닛에 있어서, 상기 프라이밍 롤러는, 롤러부와, 상기 롤러부의 양측에 결합되는 축부로 이루어지되, 상기 롤러부와 상기 축부는 별도로 제작되어 상호 결합된 것을 특징으로 한다.

Description

프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치{Priming unit and Maintenance apparatus for chemical nozzle having the same}
본 발명은 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 약액의 예비토출과, 약액 노즐의 세정 및 퍼지 기능을 구비한 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 디바이스 또는 평판 디스플레이(FPD; flat panel display)의 제조공정에서는 피처리기판 상에 특정 기능을 수행하는 박막, 예를 들면, 산화 박막, 금속 박막, 반도체 박막 등이 원하는 형상으로 패터닝되도록 광원과 반응하는 감광액을 상기 박막상에 도포하는 코팅 공정이 수행된다.
이와 같이 피처리기판의 박막에 소정의 회로패턴이 구현되도록 감광액을 도포하여 감광막을 코팅하고, 회로패턴에 대응하여 상기 감광막을 노광하며, 노광된 부위 또는 노광되지 않은 부위를 현상처리하여 제거하는 일련의 과정을 사진공정 또는 포토리소그래피(Photolithography)공정이라 한다.
특히, 상기 사진공정에서는 감광막이 소정 두께로 균일하게 생성되어야 제조공정 중 불량이 발생되지 않는다. 예를 들어, 감광막이 기준치보다 두껍게 생성될 경우 박막 중 원하는 부분이 식각되지 않을 수 있고, 감광막이 기준치보다 얇게 생성될 경우 박막이 원하는 식각량보다 더 많이 식각될 수 있다.
따라서 피처리기판에 균일한 두께의 감광막을 생성하려면, 우선 피처리기판에 감광액(이하,‘약액’이라 칭함)을 균일한 두께로 도포하는 것이 중요하다.
한편, 디스플레이 기판의 크기가 대형화되면서 약액 코팅 방식으로 슬릿 노즐(Slit Nozzle)을 이용하는 슬릿 코팅 방식이 널리 사용되고 있다.
슬릿 코팅 방식은 피처리기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 노즐을 기판을 따라 이송시키면서 약액을 분사하여 도포하는 방식이다.
상기 슬릿 노즐을 이용한 슬릿 코팅 장치에는 피처리기판 상에 약액을 도포하기에 앞서 슬릿 노즐의 토출단에 약액의 비드(bead)가 균일한 농도와 유량으로 맺히도록 약액을 예비토출하는 프라이밍 유닛이 구비된다.
이러한 프라이밍 유닛과 관련된 선행기술은 등록특허 제10-0840528호, 등록특허 제10-1206776호, 등록특허 제10-0781771호 등에 개시되어 있다.
종래의 프라이밍 유닛은 다음과 같은 문제점이 있다.
종래의 프라이밍 유닛에 구비되는 프라이밍 롤러는, 원통형 롤러부와, 그 양측에 결합되는 축부로 이루어져 있는데, 상기 롤러부와 축부가 용접에 의해 일체형 구조로 제작된 후에 롤러부의 롤러 가공을 진행하도록 구성되어 있어, 축부의 가공 정도에 의해 롤러의 가공 정도가 상당한 영향을 받게 됨으로써 롤러부의 직진도(원통도)와 진원도의 오차범위를 정밀하게 관리하며 가공하기 어려운 문제점이 있다.
또한 종래의 프라이밍 유닛은 예비토출되어 프라이밍 롤러의 외측면에 묻은 약액의 세정을 위한 수단으로서 세정조 내에 버블젯, 에어 나이프 등의 세정 및 건조수단을 구비함에 따라 흄(fume)이 과다하게 발생하여 프라이밍 롤러의 세정효율이 저하되는 문제점이 있다.
또한 종래의 프라이밍 유닛은 프라이밍 롤러를 회전시키기 위한 구동 및 동력전달수단으로, 모터의 회전축과 프라이밍 롤러의 축부에 각각 풀리가 결합되고, 각 풀리 간에는 타이밍 벨트에 의해 동력이 전달되도록 구성함에 따라 구동 시 벨트의 갈림에 의해 이물이 발생하는 문제점이 있다.
또한 종래의 프라이밍 유닛은 프라이밍 롤러를 수평상태가 되도록 레벨을 조정함에 있어서, 프라이밍 유닛 전체를 대상으로 레벨 조정 작업을 수행하는 구조로 이루어져 있어 프라이밍 롤러의 레벨 조정 작업이 쉽지 않은 문제가 있다.
또한 종래의 프라이밍 유닛은 약액의 예비토출 및 프라이밍 롤러에 잔류하는 약액과 세정액의 잔류물을 분리 제거하는 용도로 한정되어 있고, 슬릿 노즐의 세정 및 퍼지 작업은 별도로 마련된 장치에 의해 수행되도록 구성되어 있어, 약액의 예비토출과 슬릿 노즐의 세정 및 퍼지 작업이 공간적으로 분리된 위치에서 개별적으로 수행되므로 장치의 유지관리가 불편한 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 중량을 경량화하고 처짐을 방지하여 직진도와 진원도를 향상시킨 프라이밍 롤러를 구비한 프라이밍 유닛을 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은, 약액의 예비토출과 약액 노즐의 세정 및 퍼지 작업을 근접한 영역에서 신속하게 연속적으로 수행함과 아울러 장치의 구조를 간소화 한 약액 노즐 관리 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 프라이밍 유닛은, 약액 노즐로부터 약액이 예비토출되는 프라이밍 롤러를 구비한 프라이밍 유닛에 있어서, 상기 프라이밍 롤러는, 롤러부와, 상기 롤러부의 양측에 결합되는 축부로 이루어지되, 상기 롤러부와 상기 축부는 별도로 제작되어 상호 결합된 것을 특징으로 한다.
상기 롤러부는 내부가 중공형으로 구성될 수 있다.
내부에 세정액이 수용되고, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 하부가 상기 세정액 내에 침지되도록 구비되는 세정조를 더 포함하고, 상기 롤러부는 세정액 상에서 부력에 의해 부유된 상태로 지지됨으로써 상기 프라이밍 롤러의 처짐이 방지될 수 있다.
상기 세정조의 하부는 상기 프라이밍 롤러의 외주면 일부를 감싸는 절곡형 구조로 이루어질 수 있다.
상기 세정조에 수용된 세정액의 수위를 감지하기 위한 수위감지부를 더 포함하되, 상기 수위감지부는 상하로 이격되어 구비되는 고수위센서와 저수위센서로 구성될 수 있다.
상기 프라이밍 롤러의 외주면에 끝단이 접촉된 상태로 구비되어, 상기 프라이밍 롤러의 외주면에 잔류하는 약액과 세정액의 잔류물을 긁어내는 방식으로 분리 제거하는 스퀴즈를 더 포함할 수 있다.
상기 스퀴즈는 내화학성 실리콘 또는 고무 재질로 이루어질 수 있다.
상기 프라이밍 롤러가 회전되도록 동력을 제공하는 구동부를 더 포함하되, 상기 구동부는, 모터와, 상기 모터의 회전축과 상기 프라이밍 롤러의 축부가 양측에 결합되어 상기 모터의 회전력을 상기 프라이밍 롤러에 전달하는 커플링으로 구성될 수 있다.
상기 프라이밍 롤러의 축부를 회전 가능하도록 지지하는 지지부와, 상기 지지부를 지지하며 상기 프라이밍 롤러를 수평상태로 조정하기 위한 레벨조정부를 더 포함할 수 있다.
상기 레벨조정부는, 상기 지지부가 안착되고 승강 이동 가능하도록 구비되는 제1블록과, 상기 제1블록이 안착되고 수평방향으로 왕복 이동 가능하도록 구비되는 제2블록을 포함하되, 상기 제1블록과 상기 제2블록의 접촉면은, 수평면을 기준으로 일측으로 경사진 경사면으로 이루어질 수 있다.
상기 제2블록의 수평방향 이동량을 조정하는 조정수단을 더 포함할 수 있다.
상기 조정수단은 제자리에서 양방향으로 회전 가능하도록 구비되며 상기 제2블록에 나사결합되는 볼트로 구성될 수 있다.
상기 제1블록의 양측에 구비되어 상기 제1블록을 수직 방향으로 이동되도록 지지하기 위한 한 쌍의 지지블록을 더 포함할 수 있다.
상기 지지블록에는 상기 제1블록이 수직방향으로 승강되도록 상기 제1블록의 양측단이 수용되는 가이드홀이 형성될 수 있다.
본 발명의 약액 노즐 관리 장치는, 전술한 프라이밍 유닛과, 상기 프라이밍 유닛의 일측에 구비되어 초음파 진동에 의해 상기 약액 노즐을 세정하는 초음파 세정 유닛, 및 상기 프라이밍 유닛의 타측에 구비되어 상기 약액 노즐로부터 배출된 약액을 수거하는 퍼지 유닛을 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 프라이밍 유닛에 의하면, 프라이밍 롤러의 롤러부와 그 양측에 결합되는 축부를 별도로 제작하여 상호 결합되도록 구성함으로써 롤러부와 축부의 가공오차를 보정할 수 있어 프라이밍 롤러의 직진도와 진원도를 향상시켜 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한 프라이밍 롤러의 롤러부를 중공형으로 구성하고 세정조의 세정액 상에서 부력에 의해 부유된 상태가 되도록 구성함으로써, 프라이밍 롤러의 중량을 경량화하고 처짐 현상을 방지할 수 있다.
또한 세정조의 하부를 절곡형 구조로 구성함으로써, 세정조 내에 수용되는 세정액의 사용량을 절감할 수 있다.
또한 세정조 내의 수위를 감지하기 위한 수위감지부를 구비함으로써 세정조 내에 수용되는 세정액의 용량을 설정된 용량으로 유지되도록 관리할 수 있다.
또한 프라이밍 롤러의 외주면에 잔류하는 약액과 세정액의 잔류물을 긁어내는 방식으로 분리시켜 제거하는 스퀴즈를 구비함으로써, 프라이밍 롤러의 오염을 방지하고 프라이밍 롤러 표면을 건조된 상태로 유지할 수 있어 약액의 예비토출 동작 시 약액 노즐의 노즐 립이 이물에 의해 오염되는 것을 방지하고 약액 노즐의 노즐 립에 맺히는 약액의 비드량을 균일하게 유지할 수 있다.
또한 스퀴즈에 의해 프라이밍 롤러를 세정 및 건조시킬 경우에는, 종래 버블젯을 이용한 세정 및 에어 나이프를 이용한 건조 방식과 비교할 때 세정액과 건조 공기로부터 발생하는 흄에 의해 초래될 수 있는 오염 요인을 원천적으로 제거할 수 있다.
또한 프라이밍 롤러의 회전을 위한 구동부를 구성함에 있어서, 모터의 회전축과 프라이밍 롤러의 축부를 커플링에 의해 직접 연결되도록 구성함으로써, 종래 타이밍 벨트를 이용한 동력전달구조와 비교하여 이물의 발생을 대폭 줄일 수 있다.
또한 종래에는 프라이밍 롤러의 레벨 조정 시 프라이밍 유닛 전체의 레벨을 조정하였으나, 본 발명에서는 레벨조정의 대상이 프라이밍 롤러와 이를 지지하는 지지부만으로 한정되므로 프라이밍 롤러의 레벨조정 작업을 보다 간편하게 수행할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 약액 노즐 관리 장치에 의하면, 프라이밍 유닛에 초음파 세정 유닛 및 퍼지 유닛을 일체형 구조로 구비함으로써, 약액의 예비토출과 약액 노즐의 세정 및 퍼지 작업을 신속하게 수행함과 아울러 약액 노즐 관리 장치를 컴팩트하게 구현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 약액 노즐 관리 장치의 설치 상태도,
도 2는 본 발명의 약액 노즐 관리 장치의 단면도,
도 3은 프라이밍 롤러의 (a) 사시도와, (b) 단면도,
도 4는 세정조의 절곡형 구조를 보여주는 사시도,
도 5는 스퀴즈의 작용을 설명하기 위한 도면,
도 6은 프라이밍 유닛의 구동부의 구조를 보여주는 단면도,
도 7은 프라이밍 롤러의 레벨조정부의 구성 및 동작 상태도.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1을 참조하면, 본 발명이 적용되는 슬릿 코터(1)는, 베이스(20) 상에 스테이지(30)가 구비되고, 스테이지(30) 상에는 코팅 대상 기판(G)이 로딩된다. 약액 노즐(40)은 도 1에서 화살 표시된 바와 같이 스테이지(30)의 일측에서 타측을 향하여 겐트리장치(50)를 따라 이동하면서 기판(G)의 표면에 슬릿 코팅 방식으로 약액을 도포하도록 구성되어 있다.
상기 겐트리장치(50)는 스테이지(30)의 양측(도 1을 기준으로 지면 방향의 전방과 후방)에 구비되어 약액 노즐(40)의 양측부를 지지하며 이동 가능하게 설치되고, 겐트리장치(50)는 약액 노즐(40)을 승강 구동하는 실린더(60)를 포함한다.
상기 약액 노즐 관리 장치(10)는 약액 노즐(40)의 이송 구간 내에서 스테이지(30)의 일측에 위치하도록 구비될 수 있다.
도 1과 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 약액 노즐 관리 장치(10)는, 슬릿 코터(1)에 구비되는 약액 노즐(40)의 예비토출과 세정 및 퍼지 동작을 수행하기 위한 구성으로서, 프라이밍 유닛(100)과 초음파 세정 유닛(200) 및 퍼지 유닛(300)을 포함한다. 상기 프라이밍 유닛(100)과 초음파 세정 유닛(200) 및 퍼지 유닛(300)은, 약액 노즐(40)의 유지 관리를 위한 구성 유닛이다.
상기 프라이밍 유닛(100)은 기판(G)의 표면에 약액을 도포하는 공정을 수행하기에 앞서 약액 노즐(40)의 노즐 립(41)(도 5 참조)에 맺히는 약액의 비드(Bead)량을 균일하게 유지하도록 약액을 예비토출하는 기능을 한다.
상기 초음파 세정 유닛(200)은 약액 노즐(40)을 초음파 진동을 이용하여 세정하기 위한 기능을 하고, 상기 퍼지 유닛(300)은 약액 노즐(40) 내부의 약액 오염을 방지하기 위한 세정 및 기포를 벤트하기 위한 약액 퍼지 기능을 한다.
상기 프라이밍 유닛(100)에서의 약액 예비토출은 기판 코팅 전에 매번 수행되고, 상기 초음파 세정 유닛(200)과 퍼지 유닛(300)에서 약액 노즐(40)의 세정 및 퍼지 동작은 일정한 주기 또는 필요 시에 수행될 수 있다.
상기와 같이 본 발명에 따른 약액 노즐 관리 장치(10)는, 프라이밍 유닛(100)과 초음파 세정 유닛(200) 및 퍼지 유닛(300)을 일체형으로 근접한 위치에 구비함으로써, 약액의 예비토출과 약액 노즐(40)의 세정 및 퍼지 동작을 신속하게 수행할 수 있으며, 약액 노즐(40)의 유지 관리를 위한 장치의 설치 공간을 줄여 컴팩트하게 구현할 수 있다.
이하, 도 2 내지 도 7을 참조하여, 본 발명의 프라이밍 유닛(100)의 구성 및 작용을 설명한다.
도 2와 도 3을 참조하면, 프라이밍 유닛(100)은 약액 노즐(40)로부터 약액이 예비토출되는 프라이밍 롤러(110)를 구비한다. 상기 프라이밍 롤러(110)는, 원통 형상의 롤러부(111)와, 상기 롤러부(111)의 양측에 결합되는 축부(112,113)로 이루어지고, 상기 롤러부(111)와 축부(112,113)는 각각 별도로 제작되어 상호 결합된다. 상기 롤러부(111)와 축부(112,113) 간의 결합은 용접에 의할 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니며, 별도의 체결수단을 매개로 하여 결합될 수도 있다.
전술한 바와 같이 종래기술에서는 프라이밍 롤러의 롤러부에 축부를 용접한 후에 롤러 가공을 진행하여 프라이밍 롤러를 제작하였으나, 이 경우 축부의 가공 정도에 의해 롤러 가공 정도가 상당한 영향을 받아 롤러부의 직진도(원통도)와 진원도를 정밀하게 관리할 수 없는 문제점이 있었다.
이에 반하여, 본 발명에서와 같이 롤러부(111) 자체만을 독립적으로 롤러 가공하는 경우에는 롤러부(111)의 양측면 중심을 고정시킨 상태에서 가공이 수행되므로 롤러부(111)의 가공 오차를 줄여 정밀한 가공이 가능해지는 효과가 있다.
또한 이와 같이 프라이밍 롤러(110)의 롤러부(111)와 축부(112,113)를 분리형으로 제작할 경우에는, 롤러부(111)와 축부(112,113)의 조립 시 조립 정도에 따라 롤러부(111)의 처짐 등 오차가 발생할 수 있으나, 반대로 가공 오차를 보정할 수 있는 이점이 있다. 또한 상기 롤러부(111)와 축부(112,113)를 분리형으로 제작하는 경우에는 가공 작업이 간편하고, 롤러부(111)의 가공 오차를 줄일 수 있어 약액 예비토출 동작 시 약액 노즐(40)의 노즐 립(41)에서의 약액 비드량을 균일하게 유지할 수 있는 효과가 있다.
도 2와 도 3 및 도 6을 참조하면, 상기 프라이밍 롤러(110)의 롤러부(111)는 내부에 비어 있는 공간인 중공부(111a)가 형성된 중공형 구조로 이루어져 있다.
한편, 상기 프라이밍 롤러(110)의 하측에는 세정조(120)가 구비된다.
상기 세정조(120)의 내부에는 세정액(W)이 수용되고, 프라이밍 롤러(110)의 외주면 하부는 상기 세정액(W) 내에 침지되도록 위치한다. 상기 세정액(W)은 프라이밍 롤러(110)의 외측면에 예비토출되어 묻어있는 약액을 세정하기 위한 것이다.
상기 롤러부(111)가 중공형 구조로 이루어짐으로써 프라이밍 롤러(110)의 중량을 경량화하여 원가를 절감할 수 있고, 상기 롤러부(111)는 세정액(W) 상에서 부력에 의해 부유된 상태로 지지되므로 프라이밍 롤러(110)의 처짐현상을 효과적으로 방지하여 허용 오차 범위 내의 직진도를 유지할 수 있게 된다. 따라서, 프라이밍 롤러(110)의 처짐을 보정하기 위한 추가적인 가공 공정을 생략할 수 있다.
도 2와 도 4를 참조하면, 상기 세정조(120)의 하부는 프라이밍 롤러(110)의 외주면 일부를 감싸는 절곡형 구조(121)로 이루어져 있다. 이와 같은 구성에 의하면, 세정조(120) 내에 수용되는 세정액(W)의 사용량을 절감할 수 있다.
즉, 원통 형상으로 이루어진 프라이밍 롤러(110)의 롤러부(111)의 하부 일부를 일정 간격으로 이격되어 감싸는 절곡형 구조(121)로 구성함으로써, 롤러부(111)가 세정액(W) 내에 침지된 상태에서 회전되어 세정이 이루어질 수 있는 세정조(120)의 부피를 필요 최소한으로 마련함으로써 세정액(W)의 사용량을 절감할 수 있다.
한편, 도 2를 참조하면, 상기 프라이밍 유닛(100)의 일측에는 세정조(120)에 수용된 세정액(W)의 수위를 감지하기 위한 수위감지부(140)가 구비된다.
상기 수위감지부(140)는 상하로 이격된 위치에 구비된 고수위센서(141)와 저수위센서(142)로 구성된다. 상기 수위감지부(140)에서 감지된 수위정보를 기준으로 세정조(120) 내에 수용된 세정액(W)의 용량이 설정된 용량으로 유지되도록 관리할 수 있다.
도 2와 도 5를 참조하면, 상기 프라이밍 유닛(100)은 스퀴즈(130)를 더 포함할 수 있다. 상기 스퀴즈(130)는 프라이밍 롤러(110)의 외주면에 끝단이 접촉된 상태로 구비되어, 상기 프라이밍 롤러(110)의 외주면에 잔류하는 약액(C)과 세정액(W)의 잔류물(R)을 긁어내는 방식으로 분리 제거함으로써, 프라이밍 롤러(110)의 오염을 방지하고 건조된 상태를 유지할 수 있어 약액(C)의 예비토출 동작 시 약액 노즐(40)의 노즐 립(41)이 이물에 의해 오염되는 것을 방지하고 약액(C)의 비드량을 균일하게 유지할 수 있다.
또한 이와 같은 스퀴즈(130)를 이용하여 프라이밍 롤러(110)를 세정 및 건조시킬 경우에는, 종래 버블젯을 이용한 세정 및 에어 나이프를 이용한 건조 방식과 비교할 때 세정액과 건조 공기로부터 발생하는 흄(fume)에 의해 초래될 수 있는 프라이밍 롤러(110)와 약액 노즐(40)의 오염 요인을 원천적으로 제거할 수 있다.
상기 스퀴즈(130)는 내화학성 실리콘 또는 고무 재질로 구성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 프라이밍 유닛(100)은 프라이밍 롤러(110)가 회전되도록 동력을 제공하는 구동부(150)를 더 포함한다.
상기 구동부(150)는, 모터(151)와, 상기 모터(151)의 회전축(151a)과 상기 프라이밍 롤러(110)의 축부(112)가 양측에 결합되어 모터(151)의 회전력을 프라이밍 롤러(110)에 전달하는 커플링(152;152a,152b)을 포함하여 구성된다.
이와 같이 프라이밍 롤러(110)의 회전을 위한 구동부(150)를 구성함에 있어서, 모터(151)의 회전축(151a)과 프라이밍 롤러(110)의 축부(112)를 커플링(152;152a,152b)에 의해 직접 연결되도록 구성함으로써, 종래 타이밍 벨트를 이용한 동력전달구조에서 벨트의 갈림에 의해 이물이 발생되는 구조와 비교하여 이물 발생량을 대폭 감소시킬 수 있다.
도 7을 참조하면, 상기 프라이밍 유닛(100)은 프라이밍 롤러(110)를 수평상태로 조정하기 위한 레벨조정부(170)를 더 포함한다.
상기 프라이밍 롤러(110)의 축부(112)는 지지부(160)에 의해 회전 가능하도록 지지되고, 상기 레벨조정부(170)는 지지부(160)의 하측에 구비된다. 상기 지지부(160)는 프라이밍 롤러(110)의 축부(112)를 회전 가능하게 지지하는 복수의 베어링을 포함하여 구성될 수 있다.
상기 레벨조정부(170)는, 상기 지지부(160)가 안착되고 승강 이동 가능하도록 구비되는 제1블록(171)과, 상기 제1블록(171)이 안착되고 수평방향으로 왕복 이동 가능하도록 구비되는 제2블록(172)을 포함하되, 상기 제1블록(171)과 상기 제2블록(172)의 접촉면(171a,172a)은, 수평면을 기준으로 일측으로 경사진 경사면으로 이루어져 있다.
또한 상기 제2블록(172)의 수평방향 이동량을 조정하는 조정수단(173)을 더 포함할 수 있다. 일실시예로, 상기 조정수단(173)은 제자리에서 양방향으로 회전 가능하도록 구비되며 상기 제2블록(172)에 나사결합되는 볼트로 구성될 수 있다.
또한 상기 제1블록(171)의 양측에는 상기 제1블록(171)을 수직 방향으로 이동되도록 지지하기 위한 한 쌍의 지지블록(174)이 구비되고, 상기 지지블록(174)에는 상기 제1블록(171)이 수직방향으로 승강되도록 제1블록(171)의 양측단(171b)이 수용되는 가이드홀(174a)이 형성될 수 있다.
따라서, 상기 조정수단(173)의 정/역 방향 회전에 연동하여 제2블록(172)은 수평 상태에서 좌측 또는 우측으로 이동될 수 있고, 상기 제2블록(172)의 이동에 의해 제1블록(171)은 상하 방향으로 이동하게 되며, 이에 따라 제1블록(171) 상에 지지된 지지부(160)와 축부(112)의 높낮이를 조정함으로써 프라이밍 롤러(110)의 레벨을 수평 상태가 되도록 조정할 수 있다.
종래에는 프라이밍 롤러의 레벨 조정 시 프라이밍 유닛 전체의 레벨을 조정하였으나, 본 발명에서는 레벨조정의 대상이 프라이밍 롤러(110)와 이를 지지하는 지지부(160)만으로 한정되므로, 프라이밍 롤러(110)의 레벨조정 작업을 보다 간편하게 수행할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구되는 본 발명의 기술적 사상에 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 자명한 변형실시가 가능하며, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.
1 : 슬릿 코터 10 : 약액 노즐 관리 장치
20 : 베이스 30 : 스테이지
40 : 약액 노즐 41 : 노즐 립
50 : 겐트리 장치 60 : 실린더
100 : 프라이밍 유닛 110 : 프라이밍 롤러
111 : 롤러부 111a : 중공부
112,113 : 축부 120 : 세정조
121 : 절곡형 구조 130 : 스퀴즈
140 : 수위감지부 141 : 고수위센서
142 : 저수위센서 150 : 구동부
151 : 모터 151a : 회전축
152 : 커플링 160 : 지지부
170 : 레벨조정부 171 : 제1블록
172 : 제2블록 171a,172b : 경사면
171b : 제1블록의 양측단 173 : 조정수단
174 : 지지블록 174a : 가이드홀
200 : 초음파 세정 유닛 300 : 퍼지 유닛
C : 약액 G : 기판
R : 잔류물 W : 세정액

Claims (15)

  1. 약액 노즐로부터 약액이 예비토출되는 프라이밍 롤러를 구비한 프라이밍 유닛에 있어서,
    상기 프라이밍 롤러는, 롤러부와, 상기 롤러부의 양측에 결합되는 축부로 이루어지되, 상기 롤러부와 상기 축부는 별도로 제작되어 상호 결합된 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 롤러부는 내부가 중공형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    내부에 세정액이 수용되고, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 하부가 상기 세정액 내에 침지되도록 구비되는 세정조를 더 포함하고,
    상기 롤러부는 세정액 상에서 부력에 의해 부유된 상태로 지지됨으로써 상기 프라이밍 롤러의 처짐이 방지되는 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 세정조의 하부는 상기 프라이밍 롤러의 외주면 일부를 감싸는 절곡형 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 세정조에 수용된 세정액의 수위를 감지하기 위한 수위감지부를 더 포함하되, 상기 수위감지부는 상하로 이격되어 구비되는 고수위센서와 저수위센서로 이루어진 것을 특징으로 하는 는 프라이밍 유닛.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 프라이밍 롤러의 외주면에 끝단이 접촉된 상태로 구비되어, 상기 프라이밍 롤러의 외주면에 잔류하는 약액과 세정액의 잔류물을 긁어내는 방식으로 분리 제거하는 스퀴즈를 더 포함하는 프라이밍 유닛.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 스퀴즈는 내화학성 실리콘 또는 고무 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 프라이밍 롤러가 회전되도록 동력을 제공하는 구동부를 더 포함하되,
    상기 구동부는, 모터와, 상기 모터의 회전축과 상기 프라이밍 롤러의 축부가 양측에 결합되어 상기 모터의 회전력을 상기 프라이밍 롤러에 전달하는 커플링으로 이루어진 프라이밍 유닛.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 프라이밍 롤러의 축부를 회전 가능하도록 지지하는 지지부와,
    상기 지지부를 지지하며 상기 프라이밍 롤러를 수평상태로 조정하기 위한 레벨조정부를 더 포함하는 프라이밍 유닛.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 레벨조정부는, 상기 지지부가 안착되고 승강 이동 가능하도록 구비되는 제1블록과, 상기 제1블록이 안착되고 수평방향으로 왕복 이동 가능하도록 구비되는 제2블록을 포함하되,
    상기 제1블록과 상기 제2블록의 접촉면은, 수평면을 기준으로 일측으로 경사진 경사면으로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제2블록의 수평방향 이동량을 조정하는 조정수단을 더 포함하는 프라이밍 유닛.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 조정수단은 제자리에서 양방향으로 회전 가능하도록 구비되며 상기 제2블록에 나사결합되는 볼트로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1블록의 양측에 구비되어 상기 제1블록을 수직 방향으로 이동되도록 지지하기 위한 한 쌍의 지지블록을 더 포함하는 프라이밍 유닛.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 지지블록에는 상기 제1블록이 수직방향으로 승강되도록 상기 제1블록의 양측단이 수용되는 가이드홀이 형성된 것을 특징으로 하는 프라이밍 유닛.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 프라이밍 유닛;
    상기 프라이밍 유닛의 일측에 구비되어 초음파 진동에 의해 상기 약액 노즐을 세정하는 초음파 세정 유닛; 및
    상기 프라이밍 유닛의 타측에 구비되어 상기 약액 노즐로부터 배출된 약액을 수거하는 퍼지 유닛;을 포함하는 약액 노즐 관리 장치.
KR1020160173866A 2016-12-19 2016-12-19 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치 KR20180071079A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160173866A KR20180071079A (ko) 2016-12-19 2016-12-19 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치
CN201720106086.5U CN206613643U (zh) 2016-12-19 2017-01-26 预涂单元及包括此的药液喷嘴管理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160173866A KR20180071079A (ko) 2016-12-19 2016-12-19 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180071079A true KR20180071079A (ko) 2018-06-27

Family

ID=60230358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160173866A KR20180071079A (ko) 2016-12-19 2016-12-19 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR20180071079A (ko)
CN (1) CN206613643U (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11759813B2 (en) 2020-10-06 2023-09-19 Semes Co., Ltd Apparatus for supplying chemical liquid

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108212616A (zh) * 2018-01-18 2018-06-29 武汉华星光电技术有限公司 预涂布装置及方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11759813B2 (en) 2020-10-06 2023-09-19 Semes Co., Ltd Apparatus for supplying chemical liquid

Also Published As

Publication number Publication date
CN206613643U (zh) 2017-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4982527B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
US6616760B2 (en) Film forming unit
US7914843B2 (en) Slit coater having pre-applying unit and coating method using the same
KR100700237B1 (ko) 기판 코팅용 시스템 및 방법
US7819594B2 (en) Development processing device
KR20180071079A (ko) 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 노즐 관리 장치
JP3616725B2 (ja) 基板の処理方法及び処理装置
KR101656351B1 (ko) 슬릿코터
KR101960272B1 (ko) 처리액 도포 장치 및 방법
KR102405151B1 (ko) 접액 노즐의 세정 방법 및 세정 장치
KR20120064038A (ko) 현상 장치, 이를 구비하는 현상 도포 시스템 및 현상 방법
JP4030973B2 (ja) 現像処理装置
JP3765411B2 (ja) 現像処理方法及びその装置
JP2001176781A (ja) 膜形成装置
JP4014035B2 (ja) 液処理装置
KR101300361B1 (ko) 회전 롤의 오염 제거 기구
KR100207945B1 (ko) 기판의 액제거장치
JP4141805B2 (ja) 枚葉塗工方法
KR20130091576A (ko) 기판처리장치
JP2981709B2 (ja) 処理方法及び処理装置
KR102268651B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR102134437B1 (ko) 기판처리방법 및 장치
KR20230083499A (ko) 홈 포트와 이를 이용한 기판 처리 장치 및 홈 포트 세정방법
KR20240062047A (ko) 세정 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR101080329B1 (ko) 비접촉식 예비 토출면 세정 유닛 및 세정 방법, 및 이를 구비한 예비 토출 장치 및 코팅 장치

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal