KR102031385B1

KR102031385B1 - 가스 전달 패널로부터 스크러버 배기를 감소시키는 시스템 및 장치

Info

Publication number: KR102031385B1
Application number: KR1020147001416A
Authority: KR
Inventors: 마크 타스카; 이크발 샤리프
Original assignee: 램 리써치 코포레이션
Priority date: 2011-06-17
Filing date: 2012-06-13
Publication date: 2019-10-11
Also published as: US9175808B2; CN103648668A; CN103648668B; WO2012174053A1; TW201314401A; KR20140043124A; US20120318362A1

Abstract

점화의 높은 잠재적 위험의 영역들에서 공기 속도를 증가시킴으로써, 가스 패널로부터 스크러버 배기를 감소시키고, 동작 비용을 감소시키고, 장비 비용과 전력 소모를 감소시키기 위한 방법 및 장치가 제공된다. 장치는 독립적인 확산 노즐을 갖는 튜빙을 통해 압축 건조 공기 (CDA) 의 공급을 포함한다. CDA 확산 노즐은 가스 패널 내부의 잠재적인 데드 존 (dead zone) 을 감소시키고, 추가적인 배기 난류를 제공하기 위해 다양한 주요 위치에 설치될 수 있다. 본 발명의 양태들은 전력 소모를 감소시킴으로써 환경을 보호하고 에너지를 절약하는데 도움이 된다. 또한 사람의 안전이 점화의 잠재적 위험을 최소화함으로써 향상될 것이다.

Description

가스 전달 패널로부터 스크러버 배기를 감소시키는 시스템 및 장치{SYSTEM AND METHOD FOR DECREASING SCRUBBER EXHAUST FROM GAS DELIVERY PANELS}

본 발명은 가스 전달 시스템의 분야와 관련되고, 보다 상세하게는, 가스 패널로부터 유출된 처리 가스의 스크러빙 (scrubbing) 과 관련된다.

통상적인 처리 시스템은 처리 챔버, 처리가스의 소스 및 소스로부터 처리 챔버로 처리 가스의 흐름을 제어하기 위한 가스 패널 (panel) 을 포함한다. 가스 패널의 일반적 용도 중 하나는 제작 장비 내에 있다. 가스 패널은 질량 흐름 제어기 (MFC; mass flow controller) 와 공기 구동 밸브와 함께 설치된다. MFC는 가스 패널 상에서 가스 또는 유체의 흐름을 측정하고 제어하는데 사용된다. 이는 통상적인 가스 패널에 대한 도 1의 도움으로 더 상세히 설명된다.

도 1은 통상적인 가스 패널에 대한 예시적인 배열을 도시한다.

도면에 도시된 바와 같이, 통상적인 가스 패널 (100) 은 복수의 MFC (102), 복수의 가스 밸브 (104) 및 배기 시스템 (106)을 포함한다.

MFC (102) 각각은 각각의 가스 공급 라인 (108) 을 통해 가스 소스로부터 가스 공급을 받는다. 가스 소스는 가스 또는 보다 일반적으로 설명하면, 유체를 제공할 수도 있다. 가스 공급 라인 각각은 상이한 각각의 가스 또는 각각의 MFC (102) 로 유체를 운반할 수도 있다. MFC (102) 각각은 받은 가스의 흐름을 제어하도록 설계되고 조정 (calibrated) 된다. 도 1의 예시적인 배열에서, 17개의 MFC들이 유입 밸브 (미도시) 를 통해 가스 소스로부터 17개의 상이한 가스 공급을 받도록 배열된다. 가스 패널 (100) 로 공급하는 상이한 가스들 중에, 일부는 처리 가스 또는 압축 건조 공기 (CDA; compressed dry air) 또는 특정한 구성에 의해 요구되는 비활성 가스일 수도 있다.

MFC (102) 각각은 가스 공급 라인 (110) 에 의해 도시되는 바와 같이 각각의 가스 밸브에 공급한다. 가스 밸브 (104) 각각은 온/오프 밸브 또는 제어가능한 밸브를 통해 가스의 흐름을 제어하기 위해 온/오프 밸브 또는 제어가능한 밸브일 수 있다. 가스 밸브 (104) 는 공급 라인 (112) 을 통해 처리 챔버 (미도시) 로 가스를 더 공급한다.

배기 시스템 (106) 은 배출구 (114) 를 통해 가스 패널 (100) 내의 임의의 트랩된 가스를 배출하는데 사용된다. 스크러버 배기는 원치 않는 가스들이 배기 스트림으로부터 제거되는 일 예시이다.

가스 공급 라인 (108) 을 통해 MFC (102) 로 가는 처리 가스의 일부는 유해, 예컨대 가연성 및/또는 독성이다. 예를 들어 처리 가스 라인 끊어짐 (break) 에서의 끊어짐의 결과와 같이, 가스 패널 (100) 내의 임의의 처리 가스가 유출되면, 유출된 처리 가스는 가스 패널 (100) 내에 모인다. 모인 처리 가스는 유해한 상황을 초래한다. 이는 도 2의 도움으로 더 설명된다.

도 2는 MFC와 가스 밸브 사이의 끊어진 가스 공급 라인을 도시한다.

도 2는 MFC (202) 로 공급되고 있는 처리 가스 (206) 를 도시한다. MFC (202) 와 가스 밸브 (204) 사이의 가스 공급 라인 (208) 이 끊어지고, 유출된 가스 (212) 를 야기한다. 일 예시에서, MFC (202) 와 가스 밸브 (204) 는 가스 패널 (100) 의 일부이다. 일 예시에서, 유출된 가스 (212) 는 가스 패널 (100) 내에 모이게 되며, 이는 제거되어야 한다. 유해한 상황을 야기할 수도 있는 가스 패널 (100) 내의 데드 스페이스 (dead space) 가 있을 수도 있다. 데드 스페이스는 가스의 움직임이 미미하거나 없는 예를 들어 공기 흐름이 없는, 가스 패널 (100) 내의 공간이다. 따라서 유출된 가스 (212) 는 이러한 데드 스페이스에 모일 수도 있다.

배기 시스템 (106) 은 가스 패널 (100) 에서 유출된 처리 가스를 어드레스하도록 가스 패널 (100) 내로부터 가스를 배출하는데 도움을 준다. 이는 도 3의 도움으로 더 설명된다.

도 3은 끊어진 처리 가스 라인 (208) 을 갖는 통상적인 가스 패널 (300) 을 도시한다.

통상적인 가스 패널 (300) 은 MFC (202) 와 가스 밸브 (204) 를 제외한 통상적인 가스 패널 (100) 의 모든 컴포넌트들을 포함한다. 도면에 도시된 바와 같이, MFC (202) 와 가스 밸브 (204) 사이의 가스 공급 라인 (208) 은 끊어져 있으며, 유출된 가스 (202) 를 발생시킨다. 유출된 가스 (212) 는 점선의 선들에 의해 나타나지는 것과 같이 가스 패널 (300) 내의 데드 존 (dead zone) 내에 트랩된다. 가스 패널 (300) 은 가스 패널 (300) 내부의 원치 않는 가스들의 존재를 나타내기 (indicate) 위한 메커니즘을 포함할 수도 있다. 유출된 가스 (212) 량은 가스 패널 (300) 내의 일부 포켓 (pocket) 에 농축되며, 이는 안전 요건에 따르는 최소의 허용가능한 양보다 많은 양일 수도 있다. 처리 가스 중 일부는 독성이고 가연성이므로, 유출된 가스 (121) 는 유해한 상황을 피하도록 제거되어야 한다.

통상적인 가스 패널 (300) 은 가스 패널 (300) 내로부터 가스를 배출하도록 배기 시스템 (106)을 사용한다. 다수의 경우에서, 배기 시스템 (106) 이 최대 용량으로 계속적으로 동작함에도 가스 패널 (300) 내부에 모인 유출된 가스를 제거하지 못할 수도 있다. 다시 말하면, 일부의 경우에서, 배기 시스템 (106) 에서, 배기 시스템 (106) 은 의도된 동작을 수행하는데 있어 효율적으로 작동하지 않거나, 다른 경우에서, 배기 시스템 (106) 은 의도된 동작을 수행하지 않는다.

가스 패널 (300) 내의 독성 가스량이 최소의 허용가능한 양보다 많은 경우, 통상의 시스템은 배출을 증가시키고, 유출된 가스를 처리하도록 스크러빙 (scrubber) 할 수도 있다. 그러나 이러한 통상적인 시스템은 가스 패널 (300) 로부터 유출된 처리 가스 (212) 를 스크러빙하는데 효율적이지 않다.

추가적으로, 가스 패널로부터의 스크러버 배기는 더 높은 제작비용과 전력 소모를 부가한다. 가스 패널이 사용되는 제작 장비의 대부분은, 동작 비용, 제작비용, 전력 소모 및 건설 금융비용을 낮추도록 지속적으로 요구되고 있다. 또한, 사람의 안전이 점화의 잠재적인 위험을 최소화됨으로써 향상될 것이다.

필요한 것은 가스 패널로부터 유출된 처리 가스를 스크러빙하는 효율적인 시스템 및 방법이다.

본 발명은 가스 패널로부터 유출된 처리 가스를 스크러빙하기 위한 효율적인 시스템 및 방법을 제공한다.

본 발명의 일 양태는 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버에 사용하기 위한 가스 패널을 제공한다. 가스 소스는 가스의 흐름을 제공할 수 있으며, 압축 공기 소스는 압축 공기의 흐름을 제공할 수 있다. 가스 패널은 제1 가스 공급 라인, 압축 공기 공급 라인, 질량 흐름 제어기, 밸브, 배기부, 노즐 및 하우징을 포함한다. 제1 가스 공급 라인은 가스 소스로부터 가스를 받도록 배열된다. 압축 공기 공급 라인은 압축 공기 소스로부터 압축 공기를 받도록 배열된다. 질량 흐름 제어기는 가스의 제어가능한 출력 흐름을 제공할 수 있으며 제1 가스 공급 라인을 통해 가스를 받을 수 있다. 밸브는 제1 상태와 제2 상태에 있을 수 있으며, 제1 상태인 경우 챔버로 가스의 흐름의 제1 양을 통과시키고, 제2 상태인 경우 챔버로 가스의 흐름의 제2 양을 통과시킬 수 있다. 배기부는 밸브가 제1 상태에 있는 경우 챔버로 통과되지 않은 가스의 흐름의 일부를 제거할 수 있다. 노즐은 압축 공기 공급 라인을 통해 압축 공기를 받을 수 있다. 제1 가스 공급 라인, 압축 공기 공급 라인, 질량 흐름 제어기, 밸브 및 노즐은 하우징 내에 위치된다. 노즐은 밸브가 제1 상태에 있는 경우 챔버로 통과되지 않은 가스의 흐름의 일부의 흐름을 제공하도록 하우징 내에서 압축 공기의 출력 흐름을 제공한다.

본 발명의 추가적인 이점들과 신규한 특징들은 이하의 설명에서 일부에서 개시되며, 일부는 이하가 검토될 때 당업자에게 자명해질 것이며, 또는 본 발명의 실시에 의해 습득될 수도 있다. 본 발명의 이점들은 첨부된 청구항들에 특정하게 가리켜진 방편들과 조합들의 수단들에 의해 인식되고 획득될 수도 있다.

명세서의 일부분을 형성하고 명세서에 포함된 첨부된 도면들은 본 발명의 예시적인 실시예를 도시하고, 본 명세서와 함께 본 발명의 원리를 설명하도록 한다.

도 1은 통상의 가스 패널의 예시적인 배열을 도시한다.
도 2는 MFC와 가스 밸브 사이의 끊어진 가스 공급 라인을 도시한다.
도 3은 끊어진 처리 가스 라인을 갖는 통상의 가스 패널을 도시한다.
도 4는 본 발명의 양태에 따른 가스 패널의 실시예를 도시한다.
도 5는 본 발명의 양태에 따른 가스 패널의 다른 실시예를 도시한다.

본 발명의 양태들은 가스가 트랩되는 데드 스페이스 내의 가스의 움직임을 촉진시키거나 생성하는 시스템 및 방법을 제공한다. 예시적인 실시예에서, 압축 건조 공기 (CDA) 의 스트림은 독립적인 확산 노즐을 갖는 공압식 하네스 (pneumatic harness)를 통해 가스 패널로 공급된다. 압축 공기의 스트림은 데드 스페이스 내의 가스의 움직임을 생성하며, 이는 다음으로 모여진 처리된 가스의 제거를 돕는다. 배기 시스템은 따라서 압축 공기 노즐에 의해 제공되는 "푸시" (push) 의 결과로 보다 효과적으로 작동할 수 있을 것이다. 이는 도 4의 도움으로 더 상세하게 설명된다.

도 4는 본 발명의 양태에 따른 가스 패널의 실시예를 도시한다.

가스 패널 (400) 은 압축 공기 (402) 와 확산 노즐 (404) 을 제외하고 통상의 가스 패널 (100) 의 모든 컴포넌트들을 포함한다. 도면에 도시된 바와 같이, 압축 공기 (402) 는 튜빙 (tubing) 을 통해 복수의 확산 노즐 (404) 로 공급된다. 설명의 목적을 위해, 압축 공기 (402) 가 가스 공급 라인 (108) 중 하나에서 이용가능하다. 다양한 주요 위치에 설치된 다중의 확산 노즐 (404) 은 여분의 통풍 난류를 제공하며, 가스 패널 (400) 내의 잠재적 데드 존을 감소시킨다.

도 4에 도시된 바와 같이, 확산 노즐 (404) 은 MFC 각각 사이에 위치되나, 확산 노즐 (404) 의 이 배열은 도시하기 위한 목적을 위한 것일 뿐이며 비-제한적인 예시이다. 확산 노즐 (404) 은 확산 노즐 (404) 이 가스 패널 (400) 내의 데드 존에 모인 유출된 가스의 움직임을 제공하는 한 가스 패널 (400) 내의 어디든지 위치될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 확산 노즐은 가스 패널의 예상 데드 존에 가까이 위치된다.

본 발명의 다른 실시예에서, 확산 노즐 (404) 을 통해 확산된 압축 공기 (402) 량은 가스 패널 (400) 내의 가스 패널 (400) 내에 모여진 처리 가스량에 기초하여 상이한 유속 및 압력 감소를 제공하도록 독립적으로 제어될 수 있다. 확산 노즐 (404) 은 가스 패널 (400) 내의 데드 존 주위의 가스 공급 라인 (108) 중 하나를 통해 공급된 압축 공기 (402) 를 블로 (blow) 한다. 확산 노즐 (404) 의 도움으로, 가스 패널 (400) 내에 모여진 가스는 데드 스페이스 밖으로 이동될 수 있으며, 따라서, 배기 시스템 (106) 이 모여진 가스를 제거하는데 있어서 보다 효율적으로 작동하도록 도움을 준다.

본 발명의 다른 실시예에서, 가스 패널 (400) 은 가스 패널 (400) 내에서 유출될 수도 있는 가스의 존재를 검출하기 위한 검출기를 가질 수도 있다. 또한, 가스 패널 (400) 은, 유출된 가스가 가스 패널 (400) 내의 검출기에 의해 검출되면, 압축 공기의 공급을 제어하기 위한 제어기를 포함할 수도 있다. 이는 도 5의 도움으로 더 상세하게 설명된다.

도 5는 본 발명의 일 양태에 따른 가스 패널의 다른 실시예를 도시한다.

가스 패널 (500) 은 검출기 (502), 제어기 (504) 및 밸브 (506) 를 제외하고 가스 패널 (400) 의 모든 컴포넌트들을 포함한다.

검출기 (502) 는 가스 패널 (500) 내에 모여진 유출된 가스가 있는 경우, 가스 패널 (500) 내의 가스의 존재를 검출하도록 동작가능하다. 검출기 (502) 는 제어기 (504) 와 가스 패널 (500) 내의 검출된 가스량을 제어 신호 (508) 로 통신한다.

제어기 (504) 는 검출기 (502) 에 의해 검출된 가스량에 기초하여 확산 노즐 (404) 에 의해 제공된 압축 공기 (402) 량을 제어하도록 동작가능하다. 검출기 (502) 에 의해 가스가 검출되지 않는 경우, 제어기 (504) 는 제어 신호 (510) 를 통해 제어 밸브 (506) 의 도움으로 확산 노즐 (404) 을 비활성화 시킬 수 있다. 또는, 검출기 (502) 가 가스 패널 (500) 내의 가스의 존재를 검출하는 경우, 이는 확산 노즐 (404) 에 의해 제공된 압축 공기 (402) 의 량이 검출기 (502) 에 의해 검출된 가스량에 기초하도록 확산 노즐 (404) 을 활성화하도록 제어기 (504) 에 지시 (indicate) 한다.

도 4 내지 5의 부호로 설명된 바와 같이, 처리 가스가 끊어진 가스 공급 라인에 의해 가스 패널 내에 모이는 경우, 가스의 존재는 가스 검출기에 의해 가스 패널 내에서 검출된다. 이 경우, 가스 검출기는, 높은 농도의 유출된 가스가 있는 다양한 위치에서 모여진 가스의 움직임을 제공하기 위해, CDA 제어기가 확산 노즐을 활성화하도록 명령한다.

본 발명의 양태들에 따르면, 확산 노즐 (404) 은 점화의 고 잠재 위험의 영역들에서 가스 패널 (500) 내의 공기 속도를 증가시킴으로써 배기 시스템 (106) 을 돕는다. 따라서 배기 시스템 (106) 에 의한 전력 소모는 감소되며, 이는 배기 시스템 (106) 이 최대 용량으로 동작될 필요가 없기 때문이다. 따라서 본 발명의 양태들은 환경을 보호하고 에너지를 절약하는데 도움을 준다. 또한, 사람의 안전이 점화의 잠재적 위험을 최소화시킴으로써 향상될 것이다.

공기 패턴 테스트를 위한 샘플링 위치는 일반적으로 낮은 공기 속도가 예측되는 영역이나 점화의 높은 잠재 위험의 영역 중에서 선택된다. 본 발명의 양태들에 따른 가스 패널에서의 확산 노즐의 배열을 위해, 10 slm (standard liters per minute) 의 CDA 방출 속도와 2.0 slm 보다 크지 않은 가연성의 처리 가스를 포함하는 시험에서, 배기율은 25% 감소하였다.

본 발명은 가스 패널 내의 모여진 가스의 움직임을 생성하도록 CDA의 사용을 설명하나, 본 발명은 압축 공기에만 제한되지 않고, 가스가 트랩된 데드 존에서 공기 속도를 증가시키기 위한 임의의 물질 또는 유체가 사용될 수 있다.

본 발명의 다양한 바람직한 실시예들의 전술된 설명은 도시와 설명의 목적을 위해 나타내어진다. 설명은 개시된 정확한 형태에 본 발명이 제한되거나 완전하도록 의도되지 않으며, 명백하게도 위의 교시에 따라 다수의 변형이나 조정이 가능하다. 예시적인 실시예들은 전술된 바와 같이 본 발명의 원리와 실시를 위한 적용을 가장 잘 설명하기 위해 선택되고 설명되었으며, 이는 고려된 특정한 용도에 적합한 다양한 조정들과 함께 그리고 다양한 실시예에서 본 발명을 가장 잘 이용하도록 당업자들을 활성화하기 위함이다. 본 발명의 범위는 본 명세서에 첨부된 청구항에 의해 정의되도록 의도된다.

Claims

가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버에 사용하기 위한 가스 패널로서, 상기 가스 소스는 가스의 흐름을 제공하도록 동작가능하고, 상기 압축 공기 소스는 압축 공기의 흐름을 제공하도록 동작가능하며, 상기 가스 패널은,
상기 가스 소스로부터 가스를 받도록 배열된 제1 가스 공급 라인;
상기 압축 공기 소스로부터 압축 공기를 받도록 배열된 압축 공기 공급 라인;
상기 제1 가스 공급 라인을 통해 상기 가스를 받고, 상기 가스의 제어가능한 출력 흐름을 제공하도록 동작가능한 질량 흐름 제어기;
제1 상태 및 제2 상태에 있도록 동작가능하며, 상기 제1 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 가스의 상기 흐름의 제1 양을 통과시키고, 상기 제2 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 가스의 흐름의 제2 양을 통과시키도록 동작가능한 밸브로서, 상기 밸브가 상기 제1 상태에 있는 경우 끊어진 라인이 상기 질량 흐름 제어기와 상기 밸브 사이에 존재하고, 상기 밸브가 상기 제2 상태에 있는 경우 상기 끊어진 라인이 상기 질량 흐름 제어기와 상기 밸브 사이에 존재하지 않는, 상기 밸브;
상기 밸브가 상기 끊어진 라인이 있는 상기 제1 상태에 있는 경우, 상기 챔버로 통과되지 않는 상기 가스의 상기 흐름의 일부를 제거하도록 동작가능한 배기부;
상기 압축 공기 공급 라인을 통해 상기 압축 공기를 받도록 동작가능한, 상기 질량 흐름 제어기와 상기 밸브 사이에 위치한 노즐; 및
하우징을 포함하고,
상기 제1 가스 공급 라인, 상기 압축 공기 공급 라인, 상기 질량 흐름 제어기, 상기 밸브 및 상기 노즐은 상기 하우징 내에 배치되고,
상기 노즐은, 상기 밸브가 상기 제1 상태인 경우 상기 챔버로 통과되지 않은 상기 가스의 상기 흐름의 상기 일부의 흐름을 제공하기 위해 상기 하우징 내의 상기 압축 공기의 출력 흐름을 제공하도록 동작가능한, 가스 패널.
제 1 항에 있어서,
상기 가스가 상기 하우징 내에 존재하는 경우 상기 하우징 내에서 상기 가스의 존재를 검출하도록 동작가능한 가스 검출기를 더 포함하는, 가스 패널.
제 2 항에 있어서,
상기 가스 검출기에 의해 검출된 가스량에 기초하여 상기 노즐에 의해 제공된 압축 공기량을 제어하도록 동작가능한 압축 공기 제어기를 더 포함하는, 가스 패널.
제 3 항에 있어서,
상기 가스 검출기가 상기 하우징에서 상기 가스의 존재를 검출하지 않는 경우, 상기 압축 공기 제어기는 압축 공기를 제공하는 것으로부터 상기 노즐을 비활성화하도록 동작가능한, 가스 패널.
제 4 항에 있어서,
상기 가스 검출기가 상기 하우징에서 상기 가스의 존재를 검출하는 경우, 상기 압축 공기 제어기는 압축 공기를 제공하기 위해 상기 노즐을 활성화하도록 동작가능한, 가스 패널.
제 3 항에 있어서,
상기 가스 검출기가 상기 하우징에서 상기 가스의 존재를 검출하는 경우, 상기 압축 공기 제어기는 압축 공기를 제공하기 위해 상기 노즐을 활성화하도록 동작가능한, 가스 패널.
제1 가스 소스, 제2 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버에 사용하기 위한 가스 패널로서, 상기 제1 가스 소스는 제1 가스의 제1 흐름을 제공하도록 동작가능하고, 상기 제2 가스 소스는 제2 가스의 제2 흐름을 제공하도록 동작가능하고, 상기 압축 공기 소스는 압축 공기의 흐름을 제공하도록 동작가능하고, 상기 가스 패널은,
상기 제1 가스 소스로부터 제1 가스를 받도록 배열된 제1 가스 공급 라인;
상기 제2 가스 소스로부터 제2 가스를 받도록 배열된 제2 가스 공급 라인;
상기 압축 공기 소스로부터 압축 공기를 받도록 배열된 압축 공기 공급 라인;
상기 제1 가스 공급 라인을 통해 상기 제1 가스를 받고, 상기 제1 가스의 제어가능한 출력 흐름을 제공하도록 동작가능한 제1 질량 흐름 제어기;
제2 질량 흐름 제어기로서, 상기 제2 질량 흐름 제어기는 상기 제2 질량 흐름 제어기와 상기 제1 질량 흐름 제어기 사이에 공간을 갖도록 배치되고, 상기 제2 질량 흐름 제어기는 상기 제2 가스 공급 라인을 통해 상기 제2 가스를 받고, 상기 제2 가스의 제어가능한 출력 흐름을 제공하도록 동작가능한, 상기 제2 질량 흐름 제어기;
제1 상태와 제2 상태에 있도록 동작가능하며, 상기 제1 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 제1 가스의 상기 흐름의 제1 양을 통과시키고, 상기 제2 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 제1 가스의 상기 흐름의 제2 양을 통과시키도록 동작가능한 제1 밸브로서, 상기 제1 밸브가 상기 제1 상태에 있는 경우 제1 끊어진 라인이 상기 제1 질량 흐름 제어기와 상기 제1 밸브 사이에 존재하고, 상기 제1 밸브가 상기 제2 상태에 있는 경우 상기 제1 끊어진 라인이 상기 제1 질량 흐름 제어기와 상기 제1 밸브 사이에 존재하지 않는, 상기 제1 밸브;
제3 상태와 제4 상태에 있도록 동작가능하며, 상기 제3 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 제2 가스의 상기 흐름의 제3 양을 통과시키고, 상기 제4 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 제2 가스의 상기 흐름의 제4 양을 통과시키도록 동작가능한 제2 밸브로서, 상기 제2 밸브가 상기 제3 상태에 있는 경우 제2 끊어진 라인이 상기 제2 질량 흐름 제어기와 상기 제2 밸브 사이에 존재하고, 상기 제2 밸브가 상기 제4 상태에 있는 경우 상기 제2 끊어진 라인이 상기 제2 질량 흐름 제어기와 상기 제2 밸브 사이에 존재하지 않는, 상기 제2 밸브;
상기 제1 밸브가 상기 제1 끊어진 라인이 있는 상기 제1 상태에 있는 경우 상기 챔버로 통과되지 않는 상기 제1 가스의 상기 흐름의 일부를 제거하고, 상기 제2 밸브가 상기 제2 끊어진 라인이 있는 상기 제3 상태에 있는 경우 상기 챔버로 통과되지 않은 상기 제2 가스의 상기 흐름의 일부를 제거하도록 동작가능한 배기부;
상기 압축 공기 공급 라인을 통해 상기 압축 공기를 받도록 동작가능한 노즐; 및
하우징을 포함하고,
상기 제1 가스 공급 라인, 상기 제2 가스 공급 라인, 상기 압축 공기 공급 라인, 상기 제1 질량 흐름 제어기, 상기 제2 질량 흐름 제어기, 상기 제1 밸브, 상기 제2 밸브, 및 상기 노즐은 상기 하우징 내에 배치되고,
상기 노즐은, 상기 제2 질량 흐름 제어기와 상기 제1 질량 흐름 제어기 사이의 그리고 상기 제1 질량 흐름 제어기와 상기 제1 밸브 사이의 그리고 상기 제2 질량 흐름 제어기와 상기 제2 밸브 사이의 공간에 배치되고, 상기 제1 밸브가 상기 제1 상태 또는 제3 상태에 있는 경우 상기 챔버로 통과되지 않은 상기 제1 가스 또는 제2 가스의 상기 흐름의 상기 일부의 흐름을 제공하도록 상기 하우징 내에서 상기 압축 공기의 출력 흐름을 제공하도록 동작가능한, 가스 패널.
가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법으로서, 상기 가스 소스는 가스의 흐름을 제공하도록 동작가능하고, 상기 압축 공기 소스는 압축 공기의 흐름을 제공하도록 동작가능하고, 상기 방법은,
제1 가스 공급 라인을 통해, 상기 가스 소스로부터 가스를 받는 단계;
압축 공기 공급 라인을 통해, 상기 압축 공기 소스로부터 압축 공기를 받는 단계;
질량 흐름 제어기를 통해, 상기 제1 가스 공급 라인으로부터 상기 가스를 받는 단계;
상기 질량 흐름 제어기를 통해, 상기 가스의 제어가능한 출력 흐름을 제공하는 단계;
제1 상태와 제2 상태에 있도록 동작가능한 밸브를 통해, 상기 제1 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 가스의 상기 흐름의 제1 양 또는 상기 제2 상태에 있는 경우 상기 챔버로 상기 가스의 상기 흐름의 제2 양을 통과시키는 단계로서, 상기 밸브가 상기 제1 상태에 있는 경우 끊어진 라인이 상기 질량 흐름 제어기와 상기 밸브 사이에 존재하고, 상기 밸브가 상기 제2 상태에 있는 경우 상기 끊어진 라인이 상기 질량 흐름 제어기와 상기 밸브 사이에 존재하지 않는, 상기 가스의 상기 흐름의 제1 양 또는 상기 가스의 상기 흐름의 제 2양을 통과시키는 단계;
배기부를 통해, 상기 밸브가 상기 끊어진 라인이 있는 상기 제1 상태에 있는 경우 상기 챔버로 통과되지 않는 상기 가스의 상기 흐름의 일부를 제거하는 단계;
노즐을 통해, 상기 압축 공기 공급 라인으로부터 상기 압축 공기를 받는 단계; 및
상기 노즐을 통해, 상기 밸브가 상기 제1 상태에 있는 경우 상기 챔버로 통과되지 않은 상기 가스의 상기 흐름의 상기 일부의 흐름을 제공하도록 상기 압축 공기의 출력 흐름을 제공하는 단계를 포함하는, 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법.
제 8 항에 있어서,
가스 검출기를 통해, 상기 가스의 존재를 검출하는 단계를 더 포함하는, 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법.
제 9 항에 있어서,
압축 공기 제어기를 통해, 상기 가스 검출기에 의해 검출되는 가스량에 기초하여 상기 노즐에 의해 제공되는 압축 공기량을 제어하는 단계를 더 포함하는, 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 압축 공기 제어기를 통해, 상기 가스 검출기가 상기 가스의 존재를 검출하지 않는 경우 압축 공기를 제공하는 것으로부터 상기 노즐을 비활성화하는 단계를 더 포함하는, 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법.
제 11 항에 있어서,
상기 압축 공기 제어기를 통해, 상기 가스 검출기가 상기 가스의 존재를 검출하는 경우 압축 공기를 제공하도록 상기 노즐을 활성화하는 단계를 더 포함하는, 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 압축 공기 제어기를 통해, 상기 가스 검출기가 상기 가스의 존재를 검출하는 경우 압축 공기를 제공하도록 상기 노즐을 활성화하는 단계를 더 포함하는, 가스 소스, 압축 공기 소스 및 챔버를 사용하는 방법.