KR102030511B1 - Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method - Google Patents

Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
KR102030511B1
KR102030511B1 KR1020180081851A KR20180081851A KR102030511B1 KR 102030511 B1 KR102030511 B1 KR 102030511B1 KR 1020180081851 A KR1020180081851 A KR 1020180081851A KR 20180081851 A KR20180081851 A KR 20180081851A KR 102030511 B1 KR102030511 B1 KR 102030511B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
probe
bump
metal powder
probe unit
film
Prior art date
Application number
KR1020180081851A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
장강호
이정훈
이재혁
Original Assignee
주식회사 이엘피
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 이엘피 filed Critical 주식회사 이엘피
Priority to KR1020180081851A priority Critical patent/KR102030511B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102030511B1 publication Critical patent/KR102030511B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06755Material aspects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere

Abstract

The present invention relates to a probe unit having a high elastic buffer bump and a method of manufacturing the same. A probe unit for use in inspecting a display panel, the probe unit comprises a probe part including a plurality of contact bumps provided to be in contact with an electrode on a display panel, a probe film part bonded to the upper surface of the probe part, and a probe detection part which applies an electrical signal to the probe on the upper surface of one end of the probe film part and detects an output signal accordingly. The contact bump is mixed with a conductive material and a flexible material formed of metal powder to form a flexible bump. The flexible bump protrudes from the upper surface of the other end of the probe film part in a state where the metal powder is exposed to the outside so as to be in contact with the electrode on the display panel. The scratch of a flexible substrate can be prevented by minimizing damage to a pad.

Description

완충 범프를 구비한 프로브 유닛 및 제조방법{Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method}Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method

본 발명은 완충 범프를 구비한 프로브 유닛 및 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유연기판 디스플레이 검사를 위한 전극 접촉 과정 중 전극 패드부에 스크래치를 발생시키게 되며 이 과정 중 발생되는 스크래치가 제품 불량을 야기하게 되는데, 이러한 스크래치에 의한 불량을 최소화하기 위한 것으로서, 전극에 시그널 인가를 위한 프로브유닛 접촉시 발생하는 스크래치를 없애기 위하여 프로브유닛이 유연기판 디스플레이 전극과 접촉되는 프로브유닛 접촉단에 유연성 완충형 범프를 형성하여 유연기판 디스플레이 패드를 접촉하는 동안 패드의 손상을 최소화해서 스크래치를 방지할 수 있도록 하는 고탄성 완충 범프를 구비한 프로브 유닛 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a probe unit having a buffer bump and a manufacturing method, and more particularly, to scratch the electrode pad portion during the electrode contact process for the flexible substrate display inspection and scratches generated during the process In order to minimize the defect caused by the scratch, the flexible buffer bump at the probe unit contact end contacting the probe unit with the flexible substrate display electrode in order to eliminate the scratches generated when the probe unit contacts the electrode for signal application. It relates to a probe unit having a high-elastic buffer bump to minimize the damage to the pad during contact with the flexible substrate display pad to prevent scratches and a method of manufacturing the same.

디스플레이 패널은 박막 트렌지스터를 형성하고 각 픽셀에 발광 소재를 증착하여 화소 정보를 표시하며 인가되는 전압의 변화를 통해 화상 정보를 표현하도록 구성한다. The display panel forms a thin film transistor, deposits a light emitting material on each pixel to display pixel information, and is configured to represent image information through a change in applied voltage.

이때, 디스플레이 검사용 프로브 유닛은 셀 공정을 거쳐 생산된 디스플레이 패널에 대한 검사를 수행하여, 제조 공정상 발생할 수 있는 결함의 유무를 확인하게 된다.In this case, the display inspection probe unit performs an inspection on the display panel produced through the cell process to check whether there is a defect that may occur in the manufacturing process.

상기 프로브 유닛은 디스플레이 패드를 접촉하여 전기적 신호를 주고받으면서 점등의 이상 유무를 확인 하기 위한 장치이다.The probe unit is a device for checking the abnormality of lighting while contacting the display pad to send and receive electrical signals.

도1은 종래 디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 전체 구성도이고, 도 2는 종래 프로브 유닛의 사시도이고, 도3은 종래의 프로브 필름의 구성도이다1 is an overall configuration diagram of a probe unit for inspecting a conventional display panel, FIG. 2 is a perspective view of a conventional probe unit, and FIG. 3 is a configuration diagram of a conventional probe film.

도1에 도시된 바와 같이, 프로브 유닛(10)이 디스플레이 패널(20)에 위치하여 각 셀들의 이상 유무를 검사하게 된다. 이때, 프로브 유닛(10)은 전기 신호를 디스플레이 패널(20)의 전극에 인가하고, 그에 따른 출력 신호를 전달받아 검사 시스템으로 전달하게 된다. As shown in FIG. 1, the probe unit 10 is positioned on the display panel 20 to check for abnormality of each cell. In this case, the probe unit 10 applies an electrical signal to the electrode of the display panel 20, receives the output signal according to the electrode, and transmits the output signal to the inspection system.

이러한 과정을 통해 제조 공정상 발생할 수 있는 디스플레이 패널(20)의 점결함, 선결함, 얼룩결함 등의 결함 유무를 검사할 수 있게 된다.Through this process, the display panel 20 can be inspected for defects such as point defects, predecessors, and spot defects that may occur in the manufacturing process.

도2에 도시된 바와 같이, 상술된 프로브 유닛(10)은 일반적으로 프로브 블록(12), PCB부(16), 및 헤드 블록(14)을 포함한다.As shown in FIG. 2, the above-described probe unit 10 generally includes a probe block 12, a PCB portion 16, and a head block 14.

프로브 블록(12)은 디스플레이 패널(20)의 전극에 탐침을 접촉시켜 전기 신호를 인가하고 그에 따른 출력 신호를 검출하여 검사 공정을 수행한다. 여기서, 프로브 블록(12)은 TCP(Taped Carrier Package) 블록(미도시)과 일체로 형성될 수 있으며, 이러한 TCP 블록은 PCB부(16)로부터 수신한 전기 신호를 프로브 블록(12)에 전달한다.The probe block 12 applies an electrical signal by contacting the probe to the electrode of the display panel 20, and detects an output signal according to the test process. Here, the probe block 12 may be integrally formed with a Taped Carrier Package (TCP) block (not shown), and the TCP block transmits an electrical signal received from the PCB unit 16 to the probe block 12. .

헤드 블록(14)은 프로브 블록(12)의 탐침이 적당한 물리적 압력으로 디스플레이 패널(20)의 전극과 접촉하도록 프로브 블록(12)을 상하로 이동시키거나 일정 위치에 고정시킨다.The head block 14 moves the probe block 12 up and down or fixes it at a predetermined position such that the probe of the probe block 12 contacts the electrode of the display panel 20 at a suitable physical pressure.

PCB부(16)는 디스플레이 패널(20)의 각 셀 검사를 위한 전기 신호를 생성하여 필름(18)을 매개로 프로브 블록(12)에 전달한다. The PCB unit 16 generates an electrical signal for inspecting each cell of the display panel 20 and transmits the electrical signal to the probe block 12 through the film 18.

종전 디스플레이 패널은 단단한 형태(Rigid type)로 패드의 스크래치가 불량 유발의 영향을 주지 않았으나, 유연성 디스플레이(Flexible display)로 변화되면서 접속패드의 스크래치 발생과 그로 인한 전극 단락 등 디스플레이 패널의 불량을 유발하는 요인이 된다. Conventional display panel is rigid type, so the pad scratch did not affect the defect, but it changed into flexible display, which caused the defect of the display panel such as scratching of the connection pad and short circuit of the electrode. It becomes a factor.

유연기판의 전극 패드에 발생한 스크래치는 모듈 조립 과정과 검사 과정 중 휘어지는 과정의 반복으로 인하여 패널의 불량을 유발하게 되기 때문에 검사 과정 중 발생할 수 있는 스크래치를 포함한 전극 패드의 손상을 최소화 하는 기술이 필요하다. Since scratches on the electrode pads of the flexible board cause panel defects due to repeated assembly and bending of the inspection process, a technique is needed to minimize damage to the electrode pads including scratches that may occur during the inspection process. .

종래의 프로브 유닛은 필름 위에 범프를 도금 형식으로 제작을 하였으며, 이런 도금 형식은 단단한 금속으로 진행되어 패드의 스크래치를 발생 시키며, 도3에 도시된 FPCB 필름(80)으로 된 유연성 재질의 컨택터 또한 접촉부(81)가 금속 도금된 부분으로 패드의 스크래치를 발생시킨다.Conventional probe unit is produced in the form of a bump on the film plated, this type of plating is made of a hard metal to generate a scratch of the pad, a flexible contactor made of FPCB film 80 shown in FIG. The contact portion 81 scratches the pad with the metal plated portion.

또한, 종래 프로브 유닛은 미세 피치 대응으로 반도체 포토 공정 및 도금 공정을 통해 금속 물질의 범프를 형성하는 것으로 패드의 스크래치는 지속적으로 발생되고, 스크래치 등의 손상 감소를 위한 기구적인 개선에 한계가 있다.In addition, the conventional probe unit forms bumps of a metal material through a semiconductor photo process and a plating process corresponding to a fine pitch, so that scratches of the pad are continuously generated and there is a limitation in mechanical improvement for reducing damage such as scratches.

종래 프로브 유닛은 디스플레이 패드 부분을 접촉하는 컨텍부분과 검사 지그를 연결하는 FPCB 부분으로 구분을 하여 앞부분의 컨택터 구조물을 구성하여 FPCB와 본딩을 하는 방법으로 검사를 하거나, FPCB의 형태를 그대로 사용하여 FPCB의 패드 부분을 컨택터로 사용하여 검사를 진행하였다.Conventional probe unit is divided into the contact portion contacting the display pad portion and the FPCB portion connecting the inspection jig to configure the contactor structure of the front portion to test by bonding with the FPCB, or use the form of the FPCB as it is The test was conducted using the pad portion of the FPCB as a contactor.

컨택터 구조물은 금속 물질을 도금 공정을 통해 범프 형성을 하여 디스플레이 패드에 컨택하면서 점등을 검사하였으며, FPCB의 경우는 FPCB의 패드 부분을 다른 영역 보다 높게 도금을 하여 도금 패드 부분이 디스플레이 패드에 접촉을 하여 점등을 검사하였다.The contactor structure was formed by bumping a metal material through a plating process to check the lighting while contacting the display pad. In the case of the FPCB, the pad portion of the FPCB is plated higher than other areas so that the plating pad portion contacts the display pad. Lighting was examined.

종래의 프로브 유닛은 금속 물질의 범프 형태로 지속적으로 휘는 부분이 발생하는 유연성 디스플레이의 패드에 접촉을 하므로 디스플레이 패드에 스크래치를 유발 하게 되는 문제점이 있을 뿐만 아니라 디스플레이 전체 제품의 불량 발생까지 초래할 수 있다.Conventional probe unit is in contact with the pad of the flexible display that is continuously bent in the form of bumps of the metal material not only has a problem that causes scratches on the display pad, but may also cause a failure of the entire display product.

국내등록특허 제10-1272882호Domestic Patent No. 10-1272882

본 발명은 전술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하고자 개발된 것으로서, 그의 목적은 유연성 FPCB 패드단에 몰드를 형성하고 니켈 등의 분말 금속 파우더가 혼합된 PDMS등의 고분자 완충형 물질을 도포하여 완충형 범프를 형성시키는 것으로, 포토레지스트 패터닝, 메탈 마스킹, PI등 필름부착후 레이저 드릴링, 레이저 가공된 PI등의 필름 부착등과 같은 방법으로 의한 몰드에 형성된 완충범프를 디스플레이 패드의 접촉시 패드의 손상을 최소화하여 스크래치 방지를 할 수 있도록 하는 완충 범프를 구비한 프로브 유닛 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention was developed to solve the conventional problems as described above, the object of which is to form a mold on the flexible FPCB pad end and apply a polymer buffer material such as PDMS mixed powder metal powder such as nickel buffer type By forming bumps, buffer bumps formed on the mold by photoresist patterning, metal masking, laser drilling after film attachment such as PI, and film attachment such as laser processed PI, etc. It is to provide a probe unit having a buffer bump and a method of manufacturing the same to minimize the scratch to prevent scratches.

본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛은, 디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛에 있어서, 상기 디스플레이 패널 상의 전극에 접촉 가능하도록 구비된 복수개의 컨택 범프를 포함하는 탐침부; 상기 탐침부의 상면에 접합된 프로브 필름부; 및 상기 프로브 필름부의 일단부 상면에는 상기 탐침부로 전기 신호를 인가하고 그에 따른 출력 신호를 검출하는 프로브 검출부를 포함하며, 상기 컨택 범프는 금속 분말로 형성된 도전성 물질과 유연성 물질로 혼합되어 유연성 범프로 형성되고, 상기 디스플레이 패널 상의 전극과 접촉될 수 있도록 상기 금속 분말이 혼합된 상태로 상기 유연성 범프는 상기 프로브 필름부의 타단부 상면에 형성된 것을 특징으로 하는 것이다.A probe unit having a buffer bump according to the present invention includes a probe unit for inspecting a display panel, the probe unit including a plurality of contact bumps provided to be in contact with an electrode on the display panel; A probe film part bonded to an upper surface of the probe part; And a probe detector configured to apply an electrical signal to the probe and detect an output signal according to one end of the probe film, wherein the contact bump is mixed with a conductive material formed of a metal powder and a flexible material to form a flexible bump. The flexible bumps are formed on the other end of the probe film part in a state where the metal powder is mixed so as to be in contact with the electrodes on the display panel.

또한, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛에 있어서, 상기 도전성 물질은 Ni, Ag, Au, Ni 분말에 AG 혹은 Au를 도금한 고전도성 분말인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the probe unit having a buffer bump according to the present invention, the conductive material is characterized in that the Ni, Ag, Au, Ni powder is a highly conductive powder plated with AG or Au.

또한, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛에 있어서, 상기 유연성 물질은 PDMS를 포함하는 완충형 고분자 물질인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the probe unit having a buffer bump according to the present invention, the flexible material is characterized in that the buffer type polymer material containing PDMS.

한편, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법은, 디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 상기 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 컨택 범프 형성 영역에 완충 범프 형성을 위한 감광물질을 코팅하고 노광과 현상을 거쳐 몰드를 형성하는 단계; 범프 형성 부분 내부로 금속 분말을 충진하는 단계; 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하는 단계; 및 그라인딩 공정을 수행하고 몰드를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.On the other hand, in the method for manufacturing a probe unit with a buffer bump according to the present invention, in the method for manufacturing a probe unit for inspecting a display panel, the buffer bump in the contact bump forming region on the upper surface of one end of the probe film portion of the probe unit Coating a photosensitive material for formation and forming a mold through exposure and development; Filling the metal powder into the bump forming portion; Filling the flexible material over the bumps filled with the metal powder to cure; And performing a grinding process and removing the mold.

한편, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법은, 디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 상기 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 완충 범프 형성을 위한 마스크를 형성하는 단계; 상기 마스크의 범프 형성 부분 내부로 금속 분말과 유연성 물질을 충진하여 경화하는 단계; 및 그라인딩 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.On the other hand, the method of manufacturing a probe unit having a buffer bump according to the present invention, in the method for manufacturing a probe unit for inspecting a display panel, a mask for forming a buffer bump on one end of the probe film portion of the probe unit Forming; Filling and curing the metal powder and the flexible material into the bump forming part of the mask; And it is characterized in that it comprises a step of performing a grinding process.

한편, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법은, 디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 상기 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 필름을 도포하여 필름층을 형성하는 단계; 상기 필름층에서 범프 형성 부분을 레이저 드릴링하여 필름층을 관통하는 단계; 필름층을 관통하여 형성된 범프 부분 내부로 금속 분말을 충진하는 단계; 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하는 단계; 및 그라인딩 공정을 수행하고 필름층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.On the other hand, in the method for manufacturing a probe unit with a buffer bump according to the present invention, in the method for manufacturing a probe unit for inspecting a display panel, the film layer is applied by applying a film to the upper surface of one end of the probe film portion of the probe unit Forming; Laser drilling a bump forming portion in the film layer and penetrating the film layer; Filling the metal powder into the bump portion formed through the film layer; Filling the flexible material over the bumps filled with the metal powder to cure; And performing a grinding process and removing the film layer.

또한, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 범프 형성 부분 내부로 금속 분말을 충진하는 단계와, 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하는 단계를 대신하여 금속 분말과 유연성 물질을 혼합한 후 그 혼합물을 범프 형성 부분 내부로 충진하는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method of manufacturing a probe unit with a buffer bump according to the present invention, the metal powder instead of the step of filling the metal powder into the bump forming portion, and the step of filling the flexible material over the bump filled with the metal powder After mixing the flexible material with the mixture is characterized in that the filling into the bump forming portion.

또한, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 상기 유연성 물질인 PDMS는 도전성물질과 경화용액에 의하여 경화되고, PDMS와 경화용액의 혼합 비율은 10 : 1 이상인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method of manufacturing a probe unit having a buffer bump according to the present invention, the flexible material PDMS is cured by a conductive material and a curing solution, the mixing ratio of the PDMS and the curing solution is characterized in that more than 10: 1. It is.

또한, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 상기 유연성 물질인 PDMS는 도전성물질과 경화용액에 의하여 경화되는 경우 경화 온도는 50℃에서 150℃까지 적용되는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method of manufacturing a probe unit having a buffer bump according to the present invention, when the flexible material PDMS is cured by a conductive material and a curing solution, the curing temperature is characterized in that applied to 50 ℃ to 150 ℃ will be.

또한, 본 발명에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서, 상기 유연성 물질 및 금속 분말을 충진하기 위해 형성된 몰드를 제거하지 않고 적용되는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, the method of manufacturing a probe unit having a buffer bump according to the present invention, characterized in that it is applied without removing the mold formed to fill the flexible material and metal powder.

본 발명에 의하면, 고탄성 완충 범프를 구비한 프로브유닛은 플렉시블 디스플레이 검사과정 중 프로브 유닛의 범프와 유연기판의 전극 패드가 접촉될 때 두 층간의 완충 역할을 하여 외력에 의한 변형을 최소화하고 유연기판에 발생하는 스크래치의 발생을 최소화함으로써 유연기판 불량 발생을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, a probe unit having a high elastic buffer bump serves as a buffer between two layers when the bump of the probe unit and the electrode pad of the flexible substrate are in contact with each other during the flexible display inspection process, thereby minimizing deformation due to external force and By minimizing the occurrence of scratches, there is an effect that can reduce the occurrence of defects on the flexible substrate.

도1은 종래 디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 전체 구성도이다.
도2는 종래 프로브 유닛의 사시도이고, 도3은 종래의 프로브 필름의 구성도이다.
도4a와 도4b는 본 발명에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 구성도이다.
도5a와 도5b는 본 발명에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 단면을 나타내는 모식도이다.
도6은 본 발명의 제1실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.
도7은 본 발명의 제2실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.
도8은 본 발명의 제3실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.
도9는 본 발명의 제4실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.
도10은 본 발명의 제5실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.
1 is an overall configuration diagram of a probe unit for inspecting a conventional display panel.
Figure 2 is a perspective view of a conventional probe unit, Figure 3 is a block diagram of a conventional probe film.
4A and 4B are schematic diagrams of a probe film having a buffer bump according to the present invention.
5A and 5B are schematic views showing a cross section of a probe film having a buffer bump according to the present invention.
Figure 6 shows the manufacturing process of the probe film with a buffer bump formed in accordance with a first embodiment of the present invention.
7 illustrates a process of manufacturing a probe film having a buffer bump according to a second embodiment of the present invention.
8 illustrates a process of manufacturing a probe film having a buffer bump according to a third embodiment of the present invention.
9 illustrates a process of manufacturing a probe film having a buffer bump according to a fourth embodiment of the present invention.
10 illustrates a process of manufacturing a probe film in which a buffer bump is formed according to a fifth embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 완충 범프를 구비한 프로브 유닛에 대하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a probe unit having a buffer bump according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도4a와 도4b는 본 발명에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 구성도이고, 도5a와 도5b는 본 발명에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 단면을 나타내는 모식도이다.4A and 4B are schematic diagrams of a probe film having a buffer bump according to the present invention, and FIGS. 5A and 5B are schematic views showing a cross section of a probe film having a buffer bump according to the present invention.

도4, 도5를 참조하면 디스플레이 패널 검사용 프로브 블록에 장착되는 프로브 필름(80)은 디스플레이 패널에 구비된 복수개의 전극에 접촉 가능하도록 구비된 컨택 범프(82)를 각각 포함하는 복수개의 탐침부(81)가 프로브 필름(80)에 마련된 형태로 상기 탐침부(81)의 상면에 프로브 필름(80)이 접합된다.4 and 5, the probe film 80 mounted on the probe block for inspecting the display panel includes a plurality of probe parts each including contact bumps 82 provided to be in contact with a plurality of electrodes of the display panel. Probe film 80 is bonded to the upper surface of the probe portion 81 in a form provided in the probe film 80 (81).

또한, 미세 피치 대응을 위해 형성된 컨택 범프는 탐침부와 위치가 일치하지 않으므로 별도의 메탈 라인을 형성하여 탐침부와 본딩 등의 결합을 하여 미세 피치에 대응한다.In addition, since the contact bumps formed to correspond to the fine pitch do not match the position with the probe, a separate metal line is formed to cope with the probe by bonding the probe to the fine pitch.

또한, 프로브 필름(80)의 일단부 상면에는 상기 탐침부로 전기 신호를 인가하고 그에 따른 출력 신호를 검출하는 프로브 검출부(83)가 도3에 도시된 바와 같이 포함하게 된다.In addition, a probe detector 83 for applying an electrical signal to the probe and detecting an output signal according to the probe is included on one end of the probe film 80 as illustrated in FIG. 3.

상기 컨택 범프(82)는 금속 분말(82a)로 형성된 도전성 물질과 유연성 물질(82b)로 혼합되어 유연성 범프로서 형성된다.The contact bumps 82 are mixed with the conductive material formed of the metal powder 82a and the flexible material 82b to form the flexible bumps.

그리고, 도5a에 도시된 바와 같이 상기 디스플레이 패널 상의 전극과 접촉될 수 있도록 상기 금속 분말(82a)이 외부로 노출된 상태로 상기 유연성 범프는 상기 프로브 필름부의 타단부 상면에 돌출 형성된다.As shown in FIG. 5A, the flexible bump protrudes from an upper surface of the other end of the probe film part while the metal powder 82a is exposed to the outside so as to be in contact with the electrode on the display panel.

한편, 도5b에 도시된 바와 같이 금속분말이 외부로 노출된 타입은 마모도 검증에서 견디지 못하는 경우에 대해서 몰드 벽 내부에 금속분말을 충진한 상태에서 몰드를 제거하지 않는 실시예도 역시 가능한 것이다.On the other hand, as shown in FIG. 5B, the type of the metal powder exposed to the outside may also be an embodiment in which the mold is not removed in the state in which the metal powder is filled in the mold wall for the case where the wearability verification cannot be tolerated.

상기 도전성 물질은 Ni, Ag 등으로 된 금속 분말이고, 상기 유연성 물질은 PDMS로 상기 금속 분말과 혼합되며, 이때 PDMS등의 유연 물질을 금속 분말 위에 도포하거나, PDMS와 Ni, Ag 분말을 혼합하여 같이 도포하는 것으로, PDMS와 Ni, Ag 분말을 결합하여 경화시키기 위하여 PDMS와 경화용액의 비율은 제품의 특정에 따라10:1에서부터 경화용액의 비율을 증가하여 진행한다.The conductive material is a metal powder made of Ni, Ag, etc., and the flexible material is mixed with the metal powder by PDMS. At this time, a flexible material such as PDMS is applied onto the metal powder, or PDMS and Ni, Ag powder are mixed together. By coating, in order to harden by combining PDMS and Ni, Ag powder, the ratio of the PDMS and the curing solution proceeds by increasing the ratio of the curing solution from 10: 1 according to the specificity of the product.

또한, 상기 도전성 물질은 Ni, Ag, Au, Ni 분말에 AG 혹은 Au를 도금한 고전도성 분말을 적용할 수 있으며, 다른 경우로서 도전성 물질은 Ni, Ag 금속 물질을 추가하여 Ni+Au, Ni+Ag, Ni + 금속 도금, 또는 비금속 + 금속 물질 도금 및 코팅을 적용하는 것도 가능하다.In addition, the conductive material may be Ni, Ag, Au, a high conductivity powder coated with AG or Au to the Ni powder, and in another case, the conductive material is Ni + Ag, Ni + by adding a metal material It is also possible to apply Ag, Ni + metal plating, or nonmetal + metal material plating and coating.

도6은 본 발명의 제1실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.Figure 6 shows the manufacturing process of the probe film with a buffer bump formed in accordance with a first embodiment of the present invention.

도6을 참조하면 먼저 FPCB 위에 테스트를 위한 컨택 범프를 형성하고 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 컨택 범프 형성 영역에 완충 범프 형성을 위한 몰드(84)를 형성한다.Referring to FIG. 6, first, a contact bump for a test is formed on an FPCB, and a mold 84 for buffer bump formation is formed in a contact bump forming area on an upper surface of one end of a probe film portion of a probe unit.

이때, 상기 몰드(84)는 감광성 물질 (PR, DFR, 감광성 PI)을 도포한 후 마스크(85)를 이용하여 감광성 물질을 노광 및 현상 공정을 수행하여 범프 형성 부분을 패터닝(patterning)한다.In this case, the mold 84 may apply the photosensitive materials PR, DFR, and photosensitive PI, and then pattern the bump forming portions by exposing and developing the photosensitive material using the mask 85.

이때, 상기 감광성 물질의 두께는 10㎛ ~ 50㎛로 제품의 피치 대응에 따라 선택하여 패터닝한다.At this time, the thickness of the photosensitive material is 10㎛ ~ 50㎛ select and pattern according to the pitch of the product.

다음으로, 범프 형성 부분 내부로 금속 분말을 충진하게 된다.Next, the metal powder is filled into the bump forming portion.

Ni, Ag 등의 금속분말은 유연성 물질인 PDMS 물질과 함께 도포될 수 있다.Metal powders such as Ni and Ag may be applied together with the PDMS material, which is a flexible material.

한편, 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진 할 수 있다 다음으로 도포된 PDMS와 Ni 금속 분말을 경화하는 단계를 진행한다.Meanwhile, the flexible material may be filled onto the bumps filled with the metal powder. Next, the step of curing the applied PDMS and Ni metal powder is performed.

그 다음, 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하는 단계를 진행한다.Next, the step of filling the flexible material over the bumps filled with the metal powder to cure.

상기 Ni, Ag 등의 금속분말을 패턴 내부에 충진한 후 유연성 물질로 PDMS 등의 물질을 금속분말 위로 도포한다.After filling the metal powder, such as Ni, Ag, into the pattern, a material such as PDMS is applied onto the metal powder as a flexible material.

이때, PDMS와 경화용액의 비율은 제품의 특징에 따라 10:1에서부터 경화용액의 비율을 증가하여 진행한다.At this time, the ratio of the PDMS and the curing solution proceeds by increasing the ratio of the curing solution from 10: 1 according to the characteristics of the product.

한편, PDMS 충진은 혼합 상태로 충진을 하거나, 미리 경화를 진행하여 점도를 조절하여 충진을 한다. Ni, Ag등의 물질의 충진은 Ni, Ag 먼저 패턴에 충진하고 PDMS을 도포하는 방식과 PDMS와 Ni, Ag을 혼합하여 같이 도포하는 방법으로 진행 가능하다. On the other hand, PDMS filling is filled in a mixed state, or by curing in advance to adjust the viscosity to fill. Filling of materials such as Ni and Ag can be carried out by filling Ni, Ag into a pattern first and then applying PDMS and mixing PDMS and Ni and Ag together.

Ni, Ag 등의 금속 분말이 충진된 범프 위에 PDMS 충진하고 그 후 경화를 진행하여야 한다. PDMS is filled on bumps filled with metal powders such as Ni and Ag, and then curing is performed.

경화의 경우는 자연 경화와 오븐이나 핫 플레이트를 이용하여 진행을 하여 사용 온도는 50도에서 150도까지 제품에 따라 진행한다.In case of hardening, natural hardening and oven or hot plate are used, and the working temperature is 50 to 150 degrees depending on the product.

마지막으로, 그라인딩 공정을 수행하고 포토레지스트를 제거하는 단계를 진행한다.Finally, the grinding process is performed and the photoresist is removed.

그라인딩 장비나 매뉴얼을 통해 범프의 평탄화 작업을 진행하고, 이후 패턴 물질을 제거하여 완충 범프를 형성한다.The bumps are planarized by grinding equipment or manual, and then the pattern material is removed to form the buffer bumps.

도7은 본 발명의 제2실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.7 illustrates a process of manufacturing a probe film having a buffer bump according to a second embodiment of the present invention.

도7을 참조하면 먼저 FPCB 위에 테스트를 위한 컨택 범프를 형성하고 컨택 범프위에 완충 범프 형성을 위한 패턴된 PI필름(86)을 정렬하여 부착한다. Referring to FIG. 7, first, contact bumps for testing are formed on the FPCB, and the patterned PI film 86 for buffer bump formation is aligned and attached to the contact bumps.

여기에서, 상기 PI 필름의 두께는 30um 또는 50um로 된 것을 사용한다.Here, the PI film has a thickness of 30um or 50um.

상기 마스크의 범프 형성 부분 내부로 금속 분말을 충진한다.Metal powder is filled into the bump forming part of the mask.

다음으로, 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하게 된다.Next, the flexible material is filled and cured on the bump filled with the metal powder.

금속분말 충진과 경화 과정에 대한 설명은 도6에서 기재된 내용과 동일하게 진행된다.Description of the metal powder filling and curing process is the same as described in FIG.

마지막으로 그라인딩 공정을 수행하고 마스크를 제거하게 되며, 그라인딩 작업에 의하여 패턴 높이까지 진행하여 평탄화 작업을 하게 되면 유연성을 갖는 완충형 범프가 완성된다.Finally, the grinding process is performed and the mask is removed. When the flattening operation is performed to the height of the pattern by the grinding operation, the buffer bump having flexibility is completed.

도8은 본 발명의 제3실시예에 따른 완충 범프가 형성된 프로브 필름의 제조 과정을 나타낸다.8 illustrates a process of manufacturing a probe film having a buffer bump according to a third embodiment of the present invention.

도8을 참조하면 먼저 FPCB 위에 테스트를 위한 컨택 범프를 형성하고 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 필름을 도포하여 필름층을 형성한다.Referring to FIG. 8, first, a contact bump for a test is formed on an FPCB, and a film layer is formed by coating a film on one end of the probe film of the probe unit.

상기 필름층에서 범프 형성 부분을 레이저 드릴링하여 필름층을 관통하게 된다.The bump forming portion in the film layer is laser drilled to penetrate the film layer.

이때, 두께가 30um 또는 50um의 드라이 필름 혹은 PI 등 폴리머 필름등을 도포하고 레이저를 이용하여 필름을 관통한다.At this time, a 30um or 50um dry film or a polymer film such as PI is applied and penetrated through the film using a laser.

다음으로, 필름층을 관통하여 형성된 범프 부분 내부로 금속 분말(82a)을 충진한다.Next, the metal powder 82a is filled into the bump portion formed through the film layer.

그후, 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하게 된다. The flexible material is then filled and cured over the bumps filled with the metal powder.

금속분말 충진과 경화 과정에 대한 설명은 도6에서 기재된 내용과 동일하게 진행된다.Description of the metal powder filling and curing process is the same as described in FIG.

마지막으로 그라인딩 공정을 수행하고 필름층을 제거하게 되며, 그라인딩 작업에 의하여 패턴 높이까지 진행하여 평탄화 작업을 하게 되면 유연성을 갖는 완충형 범프가 완성된다.Finally, the grinding process is performed and the film layer is removed, and the cushioning bump having flexibility is completed when the flattening operation is performed to the pattern height by the grinding operation.

도9를 참조하면 먼저 FPCB 위에 테스트를 위한 컨택 범프를 형성하고 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 스텐실 마스크(87)를 정렬한다.Referring to FIG. 9, first, a contact bump for a test is formed on an FPCB, and an stencil mask 87 is aligned on an upper surface of one end of a probe film portion of a probe unit.

상기 정렬된 스텐실 마스크(87) 위에 형성된 범프 부분 내부로 금속 분말을 충진한다. Metal powder is filled into the bump portion formed on the aligned stencil mask 87.

그후 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화한다. The flexible material is then filled and cured over a bump filled with metal powder.

금속 분말 충진과 경화 과정에 대한 설명은 도 6에서 기재된 내용과 동일하게 진행된다.The description of the metal powder filling and curing process is the same as described in FIG. 6.

마지막으로 스텐실 마스크를 분리하여 유연성을 갖는 완충형 범프가 완성 된다.Finally, the stencil mask is removed to create a flexible cushioned bump.

도 10을 참조하면 먼저 FPCB위에 테스트를 위한 컨택 범프를 형성하고 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 범프 패턴이 형성된 PI(86)등의 필름을 정렬하여 부착한다Referring to FIG. 10, first, a contact bump for a test is formed on an FPCB, and a film such as PI 86 having a bump pattern formed on an upper surface of one end of a probe film portion of a probe unit is aligned and attached.

이때 두께가 30um 또는 50um의 드라이 필름 혹은 PI등의 폴리머 필름등을 패턴 가공하여 부착한다.At this time, a 30um or 50um dry film or a polymer film such as PI is patterned and attached.

다음으로, 패턴 가공하여 형성된 범프 부분 내부로 금속 분말을 충진한다. Next, the metal powder is filled into the bump portion formed by pattern processing.

그 후 금속 분말이 충진된 범프 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하게 된다. The flexible material is then filled and cured over the bumps filled with the metal powder.

금속 분말 충진과 경화 과정에 대한 설명은 도6에서 기재된 내용과 동일하게 진행된다. The description of the metal powder filling and curing process is the same as described in FIG. 6.

마지막으로 그라인딩 공정을 수행하여 평탄화 작업을 하게 되면 필름 벽l이 지지하는 유연성을 갖는 완충형 범프가 완성된다.Finally, the grinding process is performed to planarize the film, thereby completing a cushioned bump having flexibility supported by the film wall.

이상에서 본 발명은 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described above by means of limited embodiments and drawings, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the technical spirit of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims. .

80 : 프로브 필름 81 : 탐침부
82 : 컨택범프 82a : 금속분말
82b : 유연성 물질 83 : 프로브 검출부
84 : 몰드 85 : 마스크
86 : PI 필름 87 : 스텐실 마스크
80: probe film 81: probe
82: contact bump 82a: metal powder
82b: flexible material 83: probe detection unit
84 mold 85 mask
86: PI film 87: stencil mask

Claims (10)

디스플레이 패널을 검사하기 위한 완충 범프를 구비한 프로브 유닛에 있어서,
상기 디스플레이 패널 상의 전극에 접촉 가능하도록 구비된 복수개의 컨택 범프를 포함하는 탐침부;
상기 탐침부의 상면에 접합된 프로브 필름부; 및
상기 프로브 필름부의 일단부 상면에는 상기 탐침부로 전기 신호를 인가하고 그에 따른 출력 신호를 검출하는 프로브 검출부를 포함하며,
상기 컨택 범프는 금속 분말로 형성된 도전성 물질과 유연성 물질을 경화용액과 함께 혼합하여 범프형성 몰드 홀 내부로 충진하고 경화시켜 수직기둥 모양으로 완충 범프로 형성되고, 상기 디스플레이 패널 상의 전극과 접촉될 수 있도록 상기 금속 분말이 외부로 노출된 상태 또는 금속 분말이 몰드 내부에 포함된 상태로 상기 완충 범프는 상기 프로브 필름부의 타단부 상면에 돌출 형성된 것을 특징으로 하는 완충 범프를 구비한 프로브 유닛.
A probe unit having a buffer bump for inspecting a display panel, the probe unit comprising:
A probe part including a plurality of contact bumps provided to be in contact with an electrode on the display panel;
A probe film part bonded to an upper surface of the probe part; And
An upper surface of one end of the probe film part including a probe detector configured to apply an electrical signal to the probe and detect an output signal accordingly;
The contact bumps are mixed with a conductive material and a flexible material formed of a metal powder together with a curing solution and filled into the bump forming mold hole and cured to form a buffer bump in a vertical column shape, and to be in contact with an electrode on the display panel. And the buffer bump is formed to protrude on the upper surface of the other end of the probe film in a state in which the metal powder is exposed to the outside or the metal powder is contained in the mold.
제 1 항에 있어서,
상기 도전성 물질은 Ni, Ag, Au, Ni 분말에 AG 혹은 Au를 도금한 고전도성 분말인 것을 특징으로 하는 완충 범프를 구비한 프로브 유닛.
The method of claim 1,
The conductive material is a probe unit having a buffer bump, characterized in that the Ni, Ag, Au, Ni powder is a highly conductive powder plated with AG or Au.
제 1 항에 있어서,
상기 유연성 물질은 PDMS를 포함하는 완충형 고분자 물질인 것을 특징으로 하는 완충 범프를 구비한 프로브 유닛.
The method of claim 1,
The flexible material is a probe unit having a buffer bump, characterized in that the buffer polymer material including PDMS.
디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서,
상기 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 컨택 범프 형성 영역에 완충 범프 형성을 위한 감광물질을 코팅하고 노광과 현상을 거쳐 몰드를 형성하는 단계;
범프 형성 몰드 홀 내부로 금속 분말을 충진하는 단계;
금속 분말이 충진된 범프 형성 몰드 홀 내부로 유연성 물질과 경화용액을 충진하여 혼합하여 충진한 후 경화하여 수직기둥 모양으로 완충 범프를 형성하는 단계; 및
그라인딩 공정을 수행하고 몰드를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 유닛의 제조 방법.
In the manufacturing method of the probe unit for inspecting the display panel,
Coating a photosensitive material for forming a buffer bump on a contact bump forming region on an upper surface of one end of the probe film of the probe unit, and forming a mold through exposure and development;
Filling the metal powder into the bump forming mold hole;
Filling and mixing the flexible material and the curing solution into the bump-forming mold hole filled with the metal powder, followed by curing to form a buffer bump in a vertical column shape; And
Performing a grinding process and removing the mold.
디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서,
FPCB 위에 컨택범프를 형성하기 위해 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 스텐실 마스크를 정렬하는 단계;
상기 정렬된 스텐실 마스크 위에 형성된 몰드 부분 내부로 금속 분말을 충진하는 단계;
금속 분말이 충진된 범프 형성 위로 유연성 물질을 충진하여 경화하는 단계; 및
스텐실 마스크를 분리하여 금속 분말과 유연성 물질이 경화하여 수직기둥 모양으로 된 완충 범프를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 유닛의 제조 방법.
In the manufacturing method of the probe unit for inspecting the display panel,
Aligning the stencil mask on an upper surface of one end of the probe film portion of the probe unit to form a contact bump on the FPCB;
Filling a metal powder into a mold portion formed on the aligned stencil mask;
Filling and curing the compliant material over forming the bumps filled with the metal powder; And
Separating the stencil mask to cure the metal powder and the flexible material to form a buffer bump having a vertical pillar shape.
디스플레이 패널을 검사하기 위한 프로브 유닛의 제조방법에 있어서,
상기 프로브 유닛의 프로브 필름부의 일단부 상면에 필름을 도포하여 필름층을 형성하는 단계;
상기 필름층에서 범프 형성 부분을 레이저 드릴링하여 필름층을 관통하는 단계;
필름층을 관통하여 형성된 범프 형성 몰드 홀 내부로 금속 분말을 충진하는 단계;
금속 분말이 충진된 범프 형성 몰드 홀 내부로 유연성 물질을 충진하여 혼합한 후 경화하여 수직기둥 모양으로 완충 범프를 형성하는 단계; 및
그라인딩 공정을 수행하고 필름층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 유닛의 제조 방법.
In the manufacturing method of the probe unit for inspecting the display panel,
Forming a film layer by applying a film to an upper surface of one end of the probe film part of the probe unit;
Laser drilling a bump forming portion in the film layer and penetrating the film layer;
Filling the metal powder into the bump forming mold hole formed through the film layer;
Filling and mixing the flexible material into the bump-forming mold hole filled with the metal powder, followed by curing to form a buffer bump in a vertical column shape; And
Performing a grinding process and removing the film layer.
제 4 항 내지 제 6 항 중의 어느 한 항에 있어서,
범프 형성 몰드 내부로 금속 분말을 충진하는 단계와, 금속 분말이 충진된 범프 형성 몰드 내부로 유연성 물질을 충진하는 단계를 대신하여 금속 분말과 유연성 물질을 혼합한 후 그 혼합물을 범프 형성 몰드 내부로 충진하는 것을 특징으로 하는 프로브 유닛의 제조 방법.
The method according to any one of claims 4 to 6,
Instead of filling the metal powder into the bump forming mold and filling the flexible material into the bump forming mold filled with the metal powder, the metal powder and the flexible material are mixed and then the mixture is filled into the bump forming mold. Method for producing a probe unit, characterized in that.
삭제delete 삭제delete 제 4 항 내지 제 6 항 중의 어느 한 항에 있어서
상기 유연성 물질 및 금속 분말을 충진하기 위해 형성된 몰드를 제거하지 않고 적용되는 것을 특징으로 하는 프로브 유닛의 제조 방법.
The method according to any one of claims 4 to 6
A method of manufacturing a probe unit, characterized in that it is applied without removing the mold formed to fill the flexible material and the metal powder.
KR1020180081851A 2018-07-13 2018-07-13 Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method KR102030511B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180081851A KR102030511B1 (en) 2018-07-13 2018-07-13 Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180081851A KR102030511B1 (en) 2018-07-13 2018-07-13 Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102030511B1 true KR102030511B1 (en) 2019-11-08

Family

ID=68542354

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180081851A KR102030511B1 (en) 2018-07-13 2018-07-13 Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102030511B1 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10115637A (en) * 1996-10-14 1998-05-06 Yamaichi Electron Co Ltd Flexible wiring board for contact with electronic component
JP2001237039A (en) * 2000-02-23 2001-08-31 Nec Corp Ic socket
JP2002148281A (en) * 2000-08-28 2002-05-22 Hoya Corp Contact part and its manufacturing method
KR100858027B1 (en) * 2007-11-30 2008-09-10 이재하 Probe assembly of probe card and manufacturing method thereof
JP2010107291A (en) * 2008-10-29 2010-05-13 Japan Electronic Materials Corp Probe manufacturing method
KR101272882B1 (en) 2012-12-21 2013-06-11 (주) 루켄테크놀러지스 Probe film used probe block and method for manufacturing there of
JP2015021773A (en) * 2013-07-17 2015-02-02 株式会社ディスコ Probe

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10115637A (en) * 1996-10-14 1998-05-06 Yamaichi Electron Co Ltd Flexible wiring board for contact with electronic component
JP2001237039A (en) * 2000-02-23 2001-08-31 Nec Corp Ic socket
JP2002148281A (en) * 2000-08-28 2002-05-22 Hoya Corp Contact part and its manufacturing method
KR100858027B1 (en) * 2007-11-30 2008-09-10 이재하 Probe assembly of probe card and manufacturing method thereof
JP2010107291A (en) * 2008-10-29 2010-05-13 Japan Electronic Materials Corp Probe manufacturing method
KR101272882B1 (en) 2012-12-21 2013-06-11 (주) 루켄테크놀러지스 Probe film used probe block and method for manufacturing there of
JP2015021773A (en) * 2013-07-17 2015-02-02 株式会社ディスコ Probe

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5384952A (en) Method of connecting an integrated circuit chip to a substrate
US7288437B2 (en) Conductive pattern producing method and its applications
TWI470234B (en) Probing test device and manufacturing method of space transformer used therein
KR100787160B1 (en) Inspection apparatus of testing a flat panel display and method of fabricating the same
TW201437642A (en) Manufacturing method of space converter for probe card
TW201426924A (en) Package structure and package method
KR101051136B1 (en) Space transducer, probe card including space transducer and method of manufacturing space transducer
JPH03290936A (en) Method of mounting semiconductor device
US20090015281A1 (en) Method of positioning an anisotropic conductive connector, method of positioning the anisotropic conductive connector and a circuit board for inspection, anisotropic conductive connector, and probe card
KR102030511B1 (en) Probe unit provided with buffer bump and manufacturing method
JP4609350B2 (en) Manufacturing method of electronic component mounting structure
KR20090131359A (en) Probe unit and method for manufacturng the same
KR100737384B1 (en) Testing apparatus of display panel for mobile and method using the same
KR20140019689A (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
JP3227777B2 (en) Circuit board connection method
JP2010118472A (en) Method of testing connecting conditions of electronic device
KR20190097761A (en) Testing apparatus of display panel for mobile and method using the same
CN112585748A (en) Method for manufacturing conductive member
TWI431282B (en) Probing device
TWM487434U (en) Testing motherboard for embedded elastic conductive elements and wafer testing interface assembly
KR102065873B1 (en) Contact sheet for electronic device inspection and method of forming lead with bump of the contact sheet
US20180359857A1 (en) Method and system for manufacturing a workpiece using a polymer layer
JPH09159694A (en) Lsi test probe
KR101670484B1 (en) Device, film and method for testing display panel
JP2010243229A (en) Probe card, and method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant