KR102012823B1 - 곡면형 액정표시장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및 상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

곡면형 액정표시장치의 제조방법{A method for fabricating curved liquid crystal display device}
실시 예는 곡면형 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다. 이러한 액정표시장치 중에서도, 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on)/오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.
도 1a 및 도 1b는 종래 액정표시장치를 도시한 도면이다.
도 1a를 참조하면, 종래 평판 액정표시장치는 박막 트랜지스터 기판과 컬러필터 기판이 합착되어 형성된 합착기판 상부와 하부에 편광판이 부착되어 완성된 패널(50)을 포함하고, 백라이트 유닛(60)과, 상기 백라이트 유닛(60)을 하부에서 지지하는 바텀커버(61)와, 상기 바텀커버와 결합되는 패널 가이드(62)를 포함한다. 또한, 상기 백라이트 유닛(60)과, 상기 백라이트 유닛(60) 상에 형성된 패널(50)을 측면에서 고정하는 탑커버(63)를 더 포함하여 구성된다.
이때, 도 1b를 참조하면, 상기 합착기판 상하부에 부착된 편광판이 환경 변화에 의해 수축 및 팽창하여 상기 패널(50)의 형태에 변형이 발생한다. 변형이 발생된 패널(50)과 백라이트 유닛(60) 또는 탑커버(63)의 간섭으로 패널(50) 내부의 액정층에 뒤틀림이 발생하여 광축이 틀어진다. 상기 패널(50)의 편광판과 액정층의 광축이 틀어짐으로 인해 블랙 상태에서 빛샘이 발생한다.
또한, 종래 액정표시장치는 일반적으로 평판형태로 형성되어 주 시청영역에서 중앙영역까지의 거리와 양측 영역까지의 거리가 서로 달라 거리감의 편차가 발생하는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해, 현재 액정표시장치의 구성에 일정한 곡률을 유지하는 곡면형 패널을 포함하는 액정표시장치가 제안되었다.
도 2는 종래 액정표시장치의 곡면형 패널을 도시한 도면이다.
도 2를 참조하면, 곡면형 패널(50)은 제1 기판(10) 및 제2 기판(20)이 액정층(40)을 사이에 두고, 실재(30)로 합착하여 패널을 형성하고, 벤딩 공정을 거쳐 완성된다. 상기 곡면형 패널(50)은 곡률반경(R)으로 정의되며, 곡률반경(R)이란 곡면이나 곡선의 각 점에 있어서 만곡의 정도를 표시하는 값으로 곡선의 한 점에서 그 곡선에 가장 가까운 원, 즉 접촉원의 반지름을 말한다.
상기 곡면형 패널(50)의 상기 제1 기판(10)은 박막 트랜지스터 기판이고, 상기 제2 기판(20)은 컬러필터 기판일 수 있으며, 벤딩 공정시 제1 기판(10)은 인장하는 방향으로 응력이 발생하며, 제2 기판(20)은 수축하는 방향으로 응력이 발생한다. 이때, 제1 기판(10) 및 제2 기판(20)은 서로 반대 방향으로 응력이 발생하여 이동하려 하나, 상기 기판의 외곽부는 실재(30)로 패널(50)이 고정되어 비틀림 응력이 발생한다. 이로 인해, 기판의 미스얼라인이 발생하며, 상기 제1 기판(10) 및 제2 기판(20) 의 러빙축이 틀어져 액정배열이 틀어지게 된다. 상기 액정배열이 틀어지며 빛샘이 발생하게 되고, 상기 빛샘은 특히 IPS 모드에서 더 문제가 된다. IPS 모드의 경우, 러빙시 액정층(40)이 수평방향으로 배향되고, 광축의 틀어짐에 매우 민감하다.
따라서, 곡면형 패널을 포함하는 액정표시장치를 형성할 때, 빛샘 현상을 개선할 필요가 있다.
실시 예는 곡면형 액정표시패널에서 빛샘을 방지하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.
실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및 상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함한다.
실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은 컬러필터 형성과정에서 R, B, G 순서로 컬러필터를 형성하여 경화공정을 통해 기판의 휨량을 크게하여 곡면형 액정표시패널의 빛 샘을 방지한다.
도 1은 종래 액정표시장치를 도시한 도면이다.
도 2는 종래 액정표시장치의 곡면형 패널을 도시한 도면이다.
도 3은 제1 실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 나타내기 위한 단면도이다.
도 4는 제1 실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 5는 경화공정에 의한 기판의 휨 현상을 도시한 도면이다.
도 6은 각각의 컬러필터에 따른 휨량을 나타내는 표이다.
도 7은 제2 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 8은 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 9는 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 상면도이다.
실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및 상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층 대신 오버코트 층을 형성할 수 있다.
상기 패시베이션 층의 두께는 10000Å 내지 20000Å일 수 있다.
상기 패시베이션 층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 공통 전극은 상기 데이터 라인과 대응되는 영역에 형성될 수 있다.
상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판에 컬럼 스페이서를 부착하는 단계; 및 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계를 더 포함하고, 상기 컬럼 스페이서는 상기 공통 전극과 접촉할 수 있다.
상기 제2 기판상에 투명 도전판을 형성하는 단계; 상기 투명 도전판 상에 UV레진을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 UV레진은 외곽영역에 투명 도전판을 노출시키며 형성될 수 있다.
상기 R, G, B 컬러필터 및 패시베이션 층 사이에 오버코트층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 패시베이션 층 및 상기 오버코트층은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성될 수 있다.
상기 R, G, B 컬러필터를 형성하는 과정은 경화공정을 포함할 수 있다.
도 3은 제1 실시 예에 따른 곡면형 액정표시장치의 제조방법을 나타내기 위한 단면도이고, 도 4는 제1 실시 예에 따른 곡면형 액정표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면 제1 실시 예에 따른 곡면형 액정표시장치의 제조방법은 기판(1) 상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인(3)을 형성한다.(S101)
상기 게이트 라인 및 데이터 라인(3)은 교차되어 형성된다. 상기 게이트 라인 및 데이터 라인(3)의 교차에 의해 화소 영역이 정의된다.
상기 박막 트랜지스터는 게이트 전극, 소스 전극, 드레인 전극 및 반도체 층(2)을 포함할 수 있다.
상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인으로부터 연장될 수 있다. 상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인과 일체로 형성될 수 있다.
상기 게이트 라인이 형성된 기판(1) 상에 게이트 절연막이 형성될 수 있다. 상기 게이트 절연막 상에는 상기 반도체 층(2)이 형성될 수 있다. 상기 반도체 층(2)은 채널 영역 및 상기 채널 영역 양측에 형성되는 소스 영역 및 드레인 영역을 포함할 수 있다.
상기 소스 영역상에는 소스 전극이 형성될 수 있다. 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인(3)으로부터 연장형성될 수 있다. 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인(3)과 일체로 형성될 수 있다.
상기 드레인 영역 상에는 드레인 전극이 형성될 수 있다.
상기 데이터 라인(3), 소스 전극 및 드레인 전극은 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 데이터 라인(3), 소스 전극 및 드레인 전극은 상기 반도체 층(2)과 동일한 마스크 공정에 의해 패터닝될 수 있다.
상기 데이터 라인(3)과 상기 반도체 층(2)이 동일한 마스크 공정에 의해 패터닝됨으로써, 상기 반도체 층(2)은 상기 데이터 라인(3) 하부에 형성될 수 있다.
상기 데이터 라인(3), 소스 전극 및 드레인 전극이 형성된 게이트 절연막 상에 층간 절연막(5)이 형성될 수 있다.
도 4a에는, 기판(1) 상에 형성된 반도체층(2), 데이터 라인(3) 및 층간 절연막(5)을 도시하였다. 인접하는 데이터 라인(3)에 의해 화소 영역의 폭이 결정된다.
상기 층간 절연막(5) 상에 컬러필터(11)를 형성할 수 있다.
상기 컬러필터(11)는 상기 층간 절연막(5) 전체에 R, G 또는 B 컬러레진을 도포하고, 상기 컬러필터(11)를 형성하고자 하는 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정, 경화공정(cure)을 통해 형성할 수 있다. 상기와 같은 공정을 컬러필터(11)의 색상 종류만큼 반복하여 상기 컬러필터(11)를 형성할 수 있다.
또는, 상기 컬러필터(11)를 형성하고자 하는 영역에 노광 및 현상을 통해 상기 컬러필터(11)를 형성할 수도 있다. 상기 컬러필터(11)를 형성하지 않은 영역의 컬러레진은 스트립 공정을 통해 제거할 수 있다.
상기 경화공정은 오븐에 의한 가열에 의해 상기 컬러레진을 경화시키는 공정이다.
도 5는 경화공정에 의한 기판의 휨 현상을 도시한 도면이다.
도 5a를 참조하면, 기판(1)의 층간 절연막(5) 상에 컬러필터(11)가 도포된다. 상기 컬러필터(11)가 형성된 기판(1)을 경화시키는 경우 도 5b와 같은 휨이 발생한다. 다시 말해, 상기 컬러필터(11)가 형성된 기판을 오븐을 통해 가열하는 경우 일정한 휨이 발생한다. 상기 휨의 정도를 휨량(h)으로 판단할 수 있다.
상기 휨량(h)은 경화 공정전의 컬러필터(11)의 상면과 경화 공정 후의 컬러필터(11)의 상면간의 거리로 정의될 수 있다.
도 6은 각각의 컬러필터에 따른 휨량을 나타내는 표이다.
도 6은 각각의 컬러필터에 1회의 경화공정을 행하였을 때의 각각의 컬러필터에 발생하는 휨량을 나타낸다.
1회의 경화공정을 수행한 R 컬러필터는 1.92mm의 휨량이 발생한다. 1회의 경화공정을 수행한 G 컬러필터는 1.27mm의 휨량이 발생한다. 1회의 경화공정을 수행한 B 컬러필터는 1.66mm의 휨량이 발생하는 것을 실험을 통해 측정하였다.
상기 1회의 경화 공정을 수행하는 경우 R 컬러필터의 휨량이 가장 크게 측정되었고, B 컬러필터, G 컬러필터 순으로 휨량 변화가 측정되었다. 상기 컬러필터의 휨을 이용하는 경우 액정표시패널 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 다른 기구물에 의한 곡면형성의 의존도를 줄일 수 있어, 상기 액정표시패널에 가해지는 압력을 줄일 수 있고, 이를 통해 빛샘을 개선할 수 있다.
다시 도 3 및 도 4를 설명한다.
도 4b를 참조하면 상기 인접하는 데이터 라인(3) 사이 영역에 R 컬러필터(12)를 형성할 수 있다. (S101)
상기 R 컬러필터(12)는 상기 층간 절연막(5) 상에 R 컬러레진을 도포하고, 상기 R 컬러필터(12)를 형성하고자 하는 화소 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정 및 경화공정을 통해 형성할 수 있다.
도 4c를 참조하면, 상기 R 컬러필터(12)가 형성된 화소 영역이 아닌 다른 화소 영역에 B 컬러필터(13)를 형성할 수 있다.(S103)
상기 B 컬러필터(13)는 상기 R 컬러필터(12)가 형성된 층간 절연막(5) 상에 B 컬러레진을 도포하고, 상기 B 컬러필터(13)를 형성하고자 하는 화소 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정 및 경화공정을 통해 형성할 수 있다.
도 4d를 참조하면, 상기 R 컬러필터(12) 및 B 컬러필터(13)가 형성되지 않은 화소 영역에 G 컬러필터(14)를 형성할 수 있다.(S104)
상기 G 컬러필터(14)는 상기 R 컬러필터(12) 및 B 컬러필터(13)가 형성된 층간 절연막(5) 상에 G 컬러레진을 도포하고, 상기 G 컬러필터(14)를 형성하고자 하는 화소 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정 및 경화 공정을 통해 형성할 수 있다.
상기 컬러필터는 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 순서로 형성될 수 있다.
상기 컬러필터를 상기와 같은 순서로 형성하여, 상기 R 컬러필터(12)에는 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)의 형성공정에 의한 세 번의 경화 공정이 수행된다. 상기 R 컬러필터(12)는 1회의 경화 공정에 의한 휨량이 가장 크므로, 상기 R 컬러필터(12)를 가장 먼저 형성하여 기판 자체의 휨량을 가장 크도록 할 수 있다.
상기 B 컬러필터(13)에는 B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)의 형성공정에 의한 두 번의 경화 공정이 수행된다. 상기 B 컬러필터(13)는 1회의 경화 공정에 의한 휨량이 R 컬러필터(12) 보다는 작고, G 컬러필터(14) 보다는 크므로, 2회의 경화 공정에 의한 기판의 휨량이 커지도록 할 수 있다.
상기 G 컬러필터(14)는 G 컬러필터(14)의 형성에 의한 한 번의 경화 공정이 수행된다. 상기 G 컬러필터(14)는 1회의 경화 공정에 의한 휨량이 가장 작으므로, 상기 기판의 휨량이 가장 커지는 조건이 될 수 있다.
상기 컬러필터를 상기와 같은 순서로 형성하여 컬러필터가 형성된 기판(1) 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 곡면을 구현하기 위한 다른 기구물 부착시 기구물에 의한 의존도를 줄일 수 있어, 액정표시패널에 가해지는 압력에 의한 빛샘을 개선할 수 있는 효과가 있다.
도 4e를 참조하면, 상기 컬러필터 상에 패시베이션 층(15)이 형성될 수 있다.(S105)
상기 패시베이션 층(15)은 상기 컬러필터를 보호하기 위한 층으로 SiNx, SiOx, BCB(Benzocyclobutene) 또는 포토아크릴(photo acryl)로 형성될 수 있다.
상기 패시베이션 층(15)에도 경화공정이 수행되므로, R, G, B 컬러필터(12, 13, 14) 각각에 1회의 경화 공정이 부가되고, 상기 패시베이션 층(15) 또한 경화 공정에 의해 휨이 발생하여, 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다.
상기 패시베이션 층(15) 대신 오버코트 층을 형성할 수도 있다. 상기 오버코트 층을 도포하여 상기 컬러필터의 상면의 굴곡을 평탄화하고, 상기 컬러필터를 보호할 수 있다.
상기 오버코트 층 또한, 경화공정을 통해 형성됨으로써 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다.
상기 패시베이션 층(15) 또는 오버코트 층은 10000Å 내지 20000Å 두께로 형성할 수 있다. 상기 패시베이션 층(15) 또는 오버코트 층의 두께가 10000Å 미만일 경우 경화공정에 의한 휨량이 작아져, 곡면 형성에 기여도가 떨어진다. 상기 패시베이션 층(15) 또는 오버코트 층의 두께가 20000Å 초과일 경우 상기 층간 절연막(5) 또는 컬러필터 상에 형성되는 화소 전극(미도시)과 공통 전극(19)의 이격에 의한 전계가 작아져서 액정의 변위에 많은 전력이 소모될 수 있다.
도 4f를 참조하면, 컬러필터가 형성된 제1 기판(10)과 제2 기판(20)을 합착한다.(S106)
상기 패시베이션 층(15) 상에는 공통 전극(19)이 형성될 수 있다. 상기 공통 전극(19)은 상기 데이터 라인(3)과 대응되는 영역에 형성될 수 있다. 상기 공통 전극(19)은 제2 기판(20) 상에 형성될 수도 있고, 상기 컬러필터상 또는 상기 층간 절연막(5) 상에도 형성될 수 있다.
상기 제2 기판(20)에는 컬럼 스페이서(21)가 형성될 수 있다. 상기 컬럼 스페이서(21)는 상기 제1 기판(10)과 제2 기판(20) 사이의 셀갭을 유지하는 역할을 할 수 있다. 상기 컬럼 스페이서(21)는 상기 공통 전극(19)과 대응되는 영역에 형성될 수 있다.
상기 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 합착을 수행하면, 상기 컬럼 스페이서(21)의 일 측은 상기 공통 전극(19)과 접촉할 수 있다.
상기 컬러필터를 박막 트랜지스터가 형성되는 제1 기판(10) 상에 형성하여 COT(color filter on transistor)구조를 구현할 수 있다.
상기 제1 기판(10)을 COT구조로 형성하여 곡면형 액정표시패널의 합착시 발생할 수 있는 합착시 미스 얼라인에 의한 컬러필터 불량을 줄일 수 있는 효과가 있다. 다시 말해, 곡면형 액정표시패널의 경우 컬러필터를 제2 기판(20) 상에 형성하는 경우 곡면에 의한 미스 얼라인에 의한 불량이 자주발생한다. 상기 COT 구조는 이러한 불량을 줄여 제조과정에서의 수율향상의 효과가 있다.
도 7은 제2 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
제2 실시 예에 따른 액정표시장치는 제1 실시 예에 따른 액정표시장치와 비교하여 컬러필터 상에 패시베이션 층과 오버코트 층이 형성되는 것 이외에는 동일하다. 따라서, 제2 실시 예를 설명함에 있어서, 상기 제1 실시 예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면번호를 부여하고 상세한 설명을 생략한다.
도 7을 참조하면 제2 실시 예에 따른 액정표시장치의 제1 기판(10)은 기판(1) 상에 반도체 층(2), 데이터 라인(3), 층간 절연막(5), R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)가 순차적으로 형성된다.
상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 상에 오버코트 층(17)이 형성될 수 있다. 상기 오버코트 층(17)은 상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 상면의 굴곡을 평탄화 하고 상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)를 보호할 수 있다.
상기 오버코트 층(17)은 경화 공정을 통해 형성됨으로써 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다. 상기 오버코트 층(17)은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성될 수 있다.
상기 오버코트 층(17) 상에 패시베이션 층(15)이 형성될 수 있다. 상기 패시베이션 층(15) 또한 경화 공정을 통해 형성되므로 상기 경화 공정에 의해 발생한 휨을 통해 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다. 상기 패시베이션 층(15)은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성될 수 있다.
제2 실시 예에 따른 액정표시장치는 상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 상에 상기 오버코트 층(17) 및 상기 패시베이션 층(15)을 적층하여, 2회의 경화 공정이 부가되므로 상기 제1 기판(10)에 휨량을 크게할 수 있다. 이로써 제1 기판(10) 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 곡면형을 구현하기 위한 다른 기구물 부착시 기구물에 의한 의존도를 줄일 수 있어, 액정표시패널에 가해지는 압력에 의한 빛샘을 개선할 수 있는 효과가 있다.
도 8은 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이고, 도 9는 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 상면도이다.
제3 실시 예에 따른 액정표시장치는 제1 실시 예에 따른 액정표시장치와 비교하여 제2 기판 상에 UV레진을 도포한 것 이외에는 동일하다. 따라서, 제3 실시 예를 설명함에 있어서, 상기 제1 실시 예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 번호를 부여하고 상세한 설명을 생략한다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 상기 제2 기판(20) 상에 투명 도전판(27)이 형성될 수 있다.
상기 투명 도전판(27)은 ITO, IZO 또는 ITZO로 형성될 수 있다.
상기 액정표시장치의 제조 공정 또는 사용과정에서 발생하는 정전기는 짧은 시간(수십 ns) 내에 많은 에너지를 상기 액정표시장치에 인가하기 때문에, 상기 액정표시장치의 내부에 구비되는 소자(특히, 상기 박막트랜지스터)는 치명적인 손상을 입게 된다. 상기 투명 도전판(27)은 상기 액정표시장치의 제조공정 또는 사용과정에서 발생할 수 있는 정전기를 외부로 방출하는 역할을 한다.
상기 투명 도전판(27) 상에는 UV레진(25)이 형성될 수 있다. 상기 UV레진(25)은 외곽영역에 상기 투명 도전판(27)을 노출하며 형성될 수 있다. 상기 UV레진(25)을 상기 투명 도전판(27)을 일부 노출하며 형성하여 상기 액정표시장치의 제조공정 또는 사용과정에서 발생할 수 있는 정전기를 기구물을 통해 외부로 방출할 수 있다.
상기 UV레진(25)은 자외선에 의해 경화되는 물질일 수 있다.
상기 UV레진(25)은 경화 공정을 통해 형성되므로 상기 제2 기판(20)에 일정한 휨을 야기할 수 있다. 이로써 제2 기판(20) 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 곡면형을 구현하기 위한 다른 기구물 부착시 기구물에 의한 의존도를 줄일 수 있어, 액정표시패널에 가해지는 압력에 의한 빛샘을 개선할 수 있는 효과가 있다.
1: 기판 2: 반도체 층
3: 데이터 라인 5: 층간 절연막
10: 제1 기판 12: R 컬러필터
13: B 컬러필터 14: G 컬러필터
15: 패시베이션 층 17: 오버코트 층
19: 공통전극 20: 제2 기판
21: 컬럼 스페이서 25: UV 레진
27: 투명 도전판

Claims (10)

  1. 제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계;
    상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계;
    상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계;
    상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계;
    상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및
    상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 R, G, B 컬러필터를 형성하는 과정 중 경화공정을 통해 상기 제1 기판에 곡률을 부여하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층 대신 오버코트 층을 형성하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 패시베이션 층의 두께는 10000Å 내지 20000Å인 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 패시베이션 층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 공통 전극은 상기 데이터 라인과 대응되는 영역에 형성되는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판에 컬럼 스페이서를 부착하는 단계; 및
    상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계를 더 포함하고,
    상기 컬럼 스페이서는 상기 공통 전극과 접촉하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2 기판상에 투명 도전판을 형성하는 단계; 및
    상기 투명 도전판 상에 UV레진을 형성하여 상기 제2 기판에 일정한 곡률을 부가하는 단계를 더 포함하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 UV레진은 외곽영역에 투명 도전판을 노출시키며 형성되는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 R, G, B 컬러필터 및 패시베이션 층 사이에 오버코트층을 형성하는 단계를 더 포함하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 패시베이션 층 및 상기 오버코트층은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성되는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.
  10. 삭제
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