KR102008509B1 - Display Glass Temperature Control System - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 LCD 제조공정에서 감광막 형성 이후 노광처리하기 전에 글라스의 온도를 노광처리에 최적인 온도로 유지시키는 디스플레이용 글라스 기판 온도 조절시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate temperature control system for a display, and more particularly, to a glass substrate temperature control system for a display for maintaining the temperature of the glass at an optimal temperature for the exposure process before the exposure process after forming the photoresist film in the LCD manufacturing process. It is about.
일반적으로 LCD 제조공정에서는 글라스(glass) 기판상에 TFT 패턴을 형성시키기 위한 포토리소그래피 공정이 포함된다.In general, the LCD manufacturing process includes a photolithography process for forming a TFT pattern on a glass substrate.
이러한 포토리소그래피 공정은 노광공정에서 미세 패턴을 형성하기 위해 정밀한 노광처리가 요구되고, 이를 위해서는 글라스 기판상에 형성된 감광막의 온도와 습도를 균일하게 유지시키는 것이 매우 중요하다.The photolithography process requires precise exposure processing to form a fine pattern in the exposure process, and for this purpose, it is very important to maintain a uniform temperature and humidity of the photoresist film formed on the glass substrate.
이때 글라스 기판의 온도와 습도가 일정하게 유지되지 못하면 감광막의 수축과 팽창에 의한 왜곡 현상이 발생하고, 이에 의해 노광처리 시 위치 정렬의 오차(불량)가 발생하여 수율이 크게 저하되는 문제가 있다.At this time, if the temperature and humidity of the glass substrate are not kept constant, distortion may occur due to shrinkage and expansion of the photoresist film, thereby causing an error (failure) of position alignment during exposure, thereby greatly reducing the yield.
따라서 최근에는 글라스 기판의 온도와 습도를 일정하게 유지시키기 위한 다양한 기술이 개발되어 사용되고 있다.Therefore, recently, various technologies have been developed and used to maintain a constant temperature and humidity of a glass substrate.
상기와 같은 목적의 종래 기술로는 등록특허공보 제0825967호의 인터페이스 유닛과 이를 이용한 기판 처리 장치 및 기판의 온도 조절 방법(이하 '특허문헌'이라 한다)이 개시되어 있다.As a prior art for the above purpose, there is disclosed an interface unit of Patent Publication No. 0825967, a substrate processing apparatus using the same, and a method for controlling a temperature of a substrate (hereinafter referred to as a 'patent document').
상기 특허문헌에 개시된 기판 처리 장치는, 평판 디스플레이 기판의 도포 공정이 진행되는 코터(Coater)부와, 노광 공정이 진행되는 노광부와, 그리고 상기 코터부와 상기 노광부 간에 기판을 이송하는 인터페이스부를 포함하는 인라인 타입의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 인터페이스부는, 상기 코터부로부터 기판을 전달받아 수용하는 버퍼부와; 상기 버퍼부에 수용된 기판상의 복수의 지점에서 측정된 온도의 편차에 따라 기판상의 영역별로 온도 조절용 공기의 공급 유량을 달리하여 기판의 온도를 조절하는 온도 조절 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate processing apparatus disclosed in the patent document includes a coater portion in which a coating process of a flat panel display substrate proceeds, an exposure portion in which an exposure process proceeds, and an interface portion for transferring a substrate between the coater portion and the exposure portion. An inline type substrate processing apparatus comprising: a buffer unit for receiving and receiving a substrate from the coater unit; And a temperature adjusting member for controlling the temperature of the substrate by varying the supply flow rate of the air for temperature control for each region on the substrate according to the deviation of the temperature measured at a plurality of points on the substrate accommodated in the buffer unit.
그러나 상기 특허문헌에 개시된 기판 처리 장치는 버퍼부에서 복수 개의 글라스 기판의 온도를 1차 조절하는 것으로, 이 경우 복수 개의 글라스 기판의 온도를 균일하게 유지시키기가 어렵고, 이 때문에 영역별로 온도 조절용 공기의 공급 유량 등을 달리하여 공급하여야 하므로 구조와 제어 방법이 복잡한 문제가 있다.However, the substrate processing apparatus disclosed in the patent document primarily controls the temperatures of the plurality of glass substrates in the buffer unit, and in this case, it is difficult to uniformly maintain the temperatures of the plurality of glass substrates. There is a complicated problem in structure and control method because it must be supplied with different feed flow rate.
또한, 버퍼부에서 1차 온도 조절된 글라스가 노광공정으로 이송될 때에는 버퍼부에 적재된 낱장의 글라스를 얼라이너부로 이송시킨 다음 위치 정렬하고, 얼라이너부에 이송된 글라스의 온도를 2차 조절한 다음 반송부를 통해 노광공정으로 이송하며, 이에 의해 2번에 걸쳐 글라스의 온도를 조절하게 되므로 많은 양의 열에너지를 사용하게 되는 문제가 있다.In addition, when the first temperature-controlled glass in the buffer unit is transferred to the exposure process, the sheet of glass loaded in the buffer unit is transferred to the aligner unit, and then aligned, and the temperature of the glass transferred to the aligner unit is secondarily adjusted. The transfer to the exposure process through the next conveying unit, thereby controlling the temperature of the glass twice, there is a problem that uses a large amount of thermal energy.
따라서 얼라이너부로 이송된 낱장의 글라스의 온도를 설정된 온도로 빠르고 효율적으로 맞출 수 있도록 구조가 개선된 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템의 개발이 요구된다.Therefore, the development of a glass substrate temperature control system for display with improved structure is required to quickly and efficiently match the temperature of the sheet of glass transferred to the aligner to the set temperature.
본 발명은 상기와 같은 종래의 디스플레이용 글라스 기판 온도조절장치가 가지는 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 온도조절부로 이송된 낱장의 글라스의 온도를 설정된 온도로 빠르고 효율적으로 맞출 수 있는 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the problems of the conventional glass substrate temperature control device as described above, the problem to be solved by the present invention is to quickly and efficiently set the temperature of the sheet of glass transferred to the temperature control unit It is to provide a glass substrate temperature control system for display that can be matched with.
상기의 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템은, 복수 개의 글라스 기판이 적재되어 보관되는 버퍼부; 상기 버퍼부에 보관된 상기 글라스 기판을 낱장으로 파지하여 이송시키는 반송로봇이 구비되는 반송부; 상기 반송부로부터 공급되는 상기 글라스 기판의 온도를 조절하는 온도조절부; 상기 반송부의 내부로 설정된 온도의 공기를 공급하여 온도를 조절하는 제1 온도조절장치; 및 상기 온도조절부의 내부로 설정된 온도의 공기를 공급하여 온도를 조절하는 제2 온도조절장치를 포함하고, 상기 온도조절부는, 내부에 수용 공간을 가지면서 상부에 공기유입구가 형성되고, 하부 일측에 공기배출구가 형성되는 소정 크기의 온도조절하우징; 상기 온도조절하우징의 내부에 설치되어 상기 반송부를 통해 공급되는 상기 글라스 기판을 지지하는 글라스 지지유닛; 및 상기 온도조절하우징의 외측 상부에 설치되면서 상기 공기유입구를 통해 균일하게 공기가 공급되도록 분배하는 공기공급장치를 포함하고, 상기 글라스 지지유닛은, 상기 공기유입구 쪽으로 근접되도록 상승되어 상기 공기공급장치를 통해 분배되어 토출되는 공기에 바로 노출되도록 구성되는 것을 특징으로 한다.Glass substrate temperature control system for a display according to the present invention for solving the above problems, the plurality of glass substrate is loaded and stored in the buffer unit; A conveying unit provided with a conveying robot for holding and conveying the glass substrate stored in the buffer unit in a sheet; A temperature controller for controlling a temperature of the glass substrate supplied from the carrier; A first temperature control device for controlling a temperature by supplying air having a temperature set into the conveying unit; And a second temperature controller for controlling the temperature by supplying air having a temperature set to the inside of the temperature controller, wherein the temperature controller has an accommodation space therein, and an air inlet is formed at an upper portion thereof. A temperature control housing of a predetermined size in which an air outlet is formed; A glass support unit installed in the temperature control housing to support the glass substrate supplied through the conveying unit; And an air supply device installed at an outer upper portion of the temperature control housing so as to uniformly supply air through the air inlet port, and the glass support unit is raised to approach the air inlet port so as to move toward the air inlet port. It is characterized in that it is configured to be directly exposed to the air discharged through the discharge.
그리고 본 발명은 상기 공기공급장치가 내부에 수용 공간이 형성되는 박스 모양의 공기공급하우징; 상기 공기공급하우징의 내부 일측에 수직으로 설치되어 내부로 공급되는 공기가 균일하게 분배되도록 하는 제1 공기분배판; 및 상기 공기공급하우징의 내부 바닥에 수평으로 설치되어 내부의 공기가 외부로 균일하게 분배되어 토출되도록 하는 제2 공기분배판을 포함하고, 상기 제1, 2 공기분배판에는, 소정 간격을 두고 복수 개의 토출공이 형성되되, 상기 토출공은 공기가 유입되는 쪽에 비해 상대적으로 공기가 토출되는 쪽의 지름이 크게 형성되는 것을 또 다른 특징으로 한다.And the present invention is the air supply device is a box-shaped air supply housing in which a receiving space is formed therein; A first air distribution plate installed vertically on one inner side of the air supply housing to uniformly distribute the air supplied into the air supply housing; And a second air distribution plate installed horizontally on an inner bottom of the air supply housing to uniformly distribute and discharge the air thereinto, and the plurality of first and second air distribution plates at predetermined intervals. Two discharge holes are formed, and the discharge holes are characterized in that the diameter of the air discharge side is larger than that of the air inflow side.
또한, 본 발명은 상기 글라스 지지유닛이 수평 방향으로 소정 길이를 가지도록 설치되는 지지대; 상기 지지대의 상면에 소정 간격을 두고 수직으로 설치되면서 상단에 볼이 구비되는 복수 개의 볼지지부; 상기 지지대의 전후좌우측에 각각 설치되어 상기 글라스 기판의 위치를 정렬하는 제1, 2 얼라인부; 및 상기 지지대의 저면에 위치되면서 상기 지지대를 승강시키는 승강장치를 포함하는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention is a support that is installed so that the glass support unit has a predetermined length in the horizontal direction; A plurality of ball supporting parts provided vertically at a predetermined interval on an upper surface of the support; First and second alignment parts disposed on front, rear, left and right sides of the support to align positions of the glass substrates; And is located on the bottom of the support is characterized in that it comprises a lifting device for elevating the support.
이에 더해 본 발명은 상기 글라스 지지유닛이 상기 지지대의 상면 중앙 쪽에 소정 크기를 가지도록 설치되는 회전지지대; 및 상기 회전지지대의 상면에 소정 간격을 두고 수직으로 설치되면서 상단에 볼이 구비되는 복수 개의 볼지지부를 더 포함하고, 상기 회전지지대가 소정 높이 상승된 다음 회전 동작되는 것에 의해 상기 글라스 지지유닛에 안착된 상기 글라스 기판이 회전되는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention, the glass support unit is installed to have a predetermined size on the center side of the upper surface of the support; And a plurality of ball support parts provided with a ball at an upper end while being vertically installed at a predetermined interval on an upper surface of the rotatable support. The rotatable support is mounted on the glass support unit by being rotated after a predetermined height. It is another feature that the glass substrate is rotated.
그리고 본 발명은 상기 온도조절하우징의 내측 상부에 상기 글라스 지지유닛이 상승되어 근접되는 상기 글라스 기판의 온도를 감지하는 복수 개의 비접촉식 온도감지센서가 설치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.In another aspect, the present invention is characterized in that a plurality of non-contact temperature sensor is installed on the inner upper portion of the temperature control housing to detect the temperature of the glass substrate in which the glass support unit is elevated.
본 발명에 따르면, 글라스 지지유닛을 통해 공기공급장치와 근접되도록 상승된 상태에서 내부로 공급되는 공기에 글라스 기판이 노출되므로 글라스 기판의 표면온도가 설정된 온도로 빠르게 맞춰질 수 있고, 공기공급장치를 통해 균일하게 분배된 공기가 글라스 기판 쪽으로 토출되므로 글라스 기판의 표면이 전체적으로 균일한 온도로 맞춰질 수 있다.According to the present invention, since the glass substrate is exposed to the air supplied to the inside while being raised to approach the air supply apparatus through the glass support unit, the surface temperature of the glass substrate can be quickly adjusted to the set temperature, and through the air supply apparatus. Since uniformly distributed air is discharged toward the glass substrate, the surface of the glass substrate can be adjusted to a uniform temperature as a whole.
그리고 글라스 지지유닛은 글라스 기판을 상하로 승강시킴과 동시에 소정 각도로 회전시킬 수 있고, 이에 더해 제1, 2 얼라인부를 통해 위치가 정렬될 수 있으므로 얼라인부를 따로 구비할 필요가 없는 장점이 있다.In addition, the glass support unit may rotate the glass substrate up and down and rotate at a predetermined angle, and in addition, since the position may be aligned through the first and second alignment units, the glass support unit does not need to have an alignment unit separately. .
도 1은 본 발명에 따른 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템의 예를 보인 도면,
도 2는 본 발명에 따른 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템의 예를 보인 구성도.
도 3은 본 발명에 따른 버퍼부의 예를 보인 도면.
도 4는 본 발명에 따른 반송부의 예를 보인 도면.
도 5는 본 발명에 따른 반송부에 구비되는 공기공급장치의 예를 보인 도면.
도 6은 본 발명에 따른 제1, 2 공기분배판의 예를 보인 도면.
도 7은 본 발명에 따른 온도조절부의 예를 보인 도면.
도 8은 본 발명에 따른 글라스 지지유닛의 예로 보인 평면도.
도 9는 본 발명에 따른 글라스 지지유닛이 승강 동작되는 예를 보인 도면.
도 10은 본 발명에 따른 글라스 지지유닛의 회전지지대를 통해 글라스가 회전되는 예를 보인 도면.
도 11은 본 발명에 따른 온도조절부에 구비되는 공기공급장치의 예를 보인 도면.
도 12는 본 발명에 따른 제1, 2 온도조절장치의 예를 보인 도면.1 is a view showing an example of a glass substrate temperature control system for a display according to the present invention;
Figure 2 is a block diagram showing an example of a glass substrate temperature control system for a display according to the present invention.
3 is a view showing an example of a buffer unit according to the present invention.
4 shows an example of a conveying unit according to the present invention;
5 is a view showing an example of the air supply unit provided in the conveying unit according to the present invention.
6 is a view showing an example of the first, second air distribution plate according to the present invention.
7 is a view showing an example of a temperature control unit according to the present invention.
8 is a plan view showing an example of the glass support unit according to the present invention.
9 is a view showing an example in which the glass support unit lifting operation according to the present invention.
10 is a view showing an example in which the glass is rotated through the rotation support of the glass support unit according to the present invention.
11 is a view showing an example of an air supply device provided in the temperature control unit according to the present invention.
12 is a view showing an example of the first and second temperature control apparatus according to the present invention.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 도시한 첨부도면에 따라 상세하게 설명한다.Hereinafter will be described in detail according to the accompanying drawings showing a preferred embodiment of the present invention.
본 발명은 온도조절부로 이송된 낱장의 글라스의 온도를 설정된 온도로 빠르고 효율적으로 맞출 수 있는 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템을 제공하고자 하는 것으로, 이러한 본 발명은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 버퍼부(100), 반송부(200), 온도조절부(300) 및 제1, 2 온도조절장치(400, 500)를 포함한다.The present invention is to provide a glass substrate temperature control system for a display that can quickly and efficiently match the temperature of the sheet of glass transferred to the temperature control unit to a set temperature, as the present invention is shown in Figures 1 and 2 It includes a
버퍼부(100)는 내부에 복수 개의 글라스 기판(1)이 적재되어 보관되기 위한 구성이다.The
이러한 버퍼부(100)는 도 3에 도시된 바와 같이 내부에 소정 크기의 수용 공간이 형성되는 박스 모양의 버퍼하우징(110)과, 상기 버퍼하우징(110)의 상부에 설치되어 내부로 외기를 공급하는 복수 개의 팬유닛(120)을 포함한다.As shown in FIG. 3, the
이때 버퍼하우징(110)의 상면에는 복수 개의 팬유닛(120)을 통해 25℃이하의 상온을 가지는 외기가 유입되기 위한 외기유입구(111)가 형성되고, 저면에는 내부의 공기가 외부로 배출되기 위한 외기배출구(112)가 형성된다.At this time, the upper surface of the
그리고 버퍼하우징(110)의 내부에는 글라스 기판(1)이 다단으로 적재되기 위해 소정 간격을 두고 복수 개의 적재 슬롯이 구비된다.In addition, a plurality of loading slots are provided in the
또한, 팬유닛(120)에는 상온의 외기가 버퍼하우징(110)의 내부로 공급될 때 공기 중에 포함된 이물질이 유입되지 않도록 필터(121)가 설치된다.In addition, the
이에 더해 버퍼하우징(110)의 일측에는 후술되는 반송부(200)의 반송로봇(220)에 의해 적재 슬롯에 적재된 글라스 기판(1)이 반송부(200)로 이송되기 위한 연결통로(도시되지 않음)가 형성된다.In addition, on one side of the
반송부(200)는 버퍼하우징(110)에 적재된 글라스 기판(1)을 후술되는 온도조절부(300) 및 노광처리부(도시하지 않음) 쪽으로 이송하기 위한 구성이다.The
이러한 반송부(200)는 도 4에 도시된 바와 같이 버퍼부(100)에 대응되는 소정 크기의 박스 모양으로 형성되어 내부에 수용공간이 형성되는 반송하우징(210)과, 상기 반송하우징(210)의 내부에 설치되어 글라스 기판(1)을 이송시키는 반송로봇(220)과, 상기 반송하우징(210)의 상부에 설치되어 후술되는 제1 온도조절장치(400)를 통해 온도가 조절된 공기를 내부로 공급하는 공기공급장치(230)를 포함한다.As shown in FIG. 4, the
여기서 반송하우징(210)의 상면에는 공기공급장치(230)를 통해 공기가 내부로 공급되도록 하는 공기유입구(211)가 형성되고, 저면에는 내부로 유입된 공기가 외부로 배출되도록 하는 공기배출구(212)가 형성된다.Here, the
그리고 공기공급장치(230)는 도 5에 도시된 바와 같이 사각 박스 모양을 가지면서 내부에 수용 공간이 형성되는 공기공급하우징(231)과, 상기 공기공급하우징(231)의 내부에 수직으로 설치되어 유입되는 공기를 1차로 분배시키는 제1 공기분배판(232)과, 상기 공기공급하우징(231)의 내부 바닥에 수평으로 설치되어 내부의 공기가 2차로 분배되어 반송하우징(210)의 내부로 토출되게 하는 제2 공기분배판(233)을 포함한다.In addition, the
이때 공기공급하우징(231)은 일측면에 제1 온도조절장치(400)로부터 공기가 공급되는 공기유입구(231A)가 형성되고, 저면에는 제2 공기분배판(233)을 통해 공기가 토출되도록 개방된 공기배출구(231B)가 형성되며, 타측면에는 인접하여 설치되는 또 다른 공기공급하우징(231)의 내부와 연통되도록 하는 연통구(231C)가 형성된다.At this time, the
그리고 제1, 2 공기분배판(232, 233)은 도 6에 도시된 바와 같이 소정 간격을 두고 복수 개의 토출공(H)이 형성되고, 이러한 토출공(H)은 공기가 유입되는 쪽에 비해 상대적으로 공기가 토출되는 쪽의 지름이 크게 형성(테이퍼)되며, 이러한 구조로 인해 제1 공기분배판(232)을 통과하는 공기가 복수 개의 공기공급하우징(231)의 내부로 균일하게 분배되어 공급된 다음, 제2 공기분배판(233)을 통해 반송하우징(210)의 내부로 균일하게 토출되게 된다.In addition, the first and second
또한, 제1 온도조절장치(400)를 통해 공급되는 공기의 온도를 감지하기 위해 공기유입구(231A)에는 복수 개의 온도감지센서(TS1)가 설치된다.In addition, a plurality of temperature detection sensors TS1 are installed at the
상기와 같은 온도감지센서(TS1)를 통해 공기공급장치(230) 내부로 공급되는 공기의 온도가 미리 설정된 온도(23℃) 범위인 경우에는 제1 온도조절장치(400)의 동작이 유지되고, 미리 설정된 온도보다 높거나 낮은 경우에는 제1 온도조절장치(400)에서 공급되는 공기의 온도를 조절하여 공급하게 되며, 이에 의해 제1 온도조절장치(400)에서 조절된 공기의 온도가 공기공급장치(230)로 공급되는 과정에서 열손실 등에 의해 미리 설정된 온도(목표 온도)와 온도차가 생기는 것이 방지되게 된다.When the temperature of the air supplied into the
온도조절부(300)는 반송부(200)로부터 공급되는 글라스 기판(1)의 온도를, 노광처리부로 공급되기에 전에, 설정된 온도에 맞추어 균일하면서도 빠르게 조절하기 위한 구성이다.The
이러한 온도조절부(300)는 도 7에 도시된 바와 같이 내부에 수용 공간을 가지면서 상부에 공기유입구(311)가 형성되고 하부 일측에 공기배출구(312)가 형성되는 소정 크기의 온도조절하우징(310)과, 상기 온도조절하우징(310)의 내부에 설치되어 상기 반송부(200)를 통해 공급되는 상기 글라스 기판(1)을 지지하는 글라스 지지유닛(320) 및 상기 온도조절하우징(310)의 외측 상부에 설치되면서 공기유입구(311)를 통해 균일하게 공기가 공급되도록 분배하는 공기공급장치(330)를 포함한다.The
그리고 글라스 지지유닛(320)은 도 8에 도시되 바와 같이 수평 방향으로 소정 길이를 가지도록 설치되는 지지대(321)와, 상기 지지대(321)의 상면에 소정 간격을 두고 수직으로 설치되면서 상단에 볼이 구비되는 복수 개의 볼지지부(322)와, 상기 지지대(321)의 전후좌우측에 각각 설치되어 글라스 기판(1)의 위치를 정렬하는 제1, 2 얼라인부(323, 324); 및 상기 지지대(321)의 저면에 위치되면서 지지대(321)를 승강시키는 승강장치(325)를 포함한다.And the
상기와 같은 구성에 의해 글라스 기판(1)은 복수 개의 볼지지부(322)를 통해 지지된 상태에서 제1, 2 얼라인부(323, 324)를 통해 x, y축으로 이송되어 위치가 정렬되므로 글라스 기판(1)의 위치가 정렬되는 과정에서 흠집 등이 발생하는 것이 방지되게 된다.As described above, the
또한, 승강장치(325)를 통해 도 9에 도시된 바와 같이 온도조절하우징(310)의 내측 상부 쪽으로 이동된 상태에서 공기공급장치(330)를 통해 내부로 공급되는 공기에 글라스 기판(1)이 곧바로 접촉되게 되고, 이에 의해 글라스 지지유닛(320)에 안착된 글라스 기판(1)의 전체 표면온도를 23℃의 오차범위 ±1℃ 이하로 빠르고 균일하게 조절되게 된다.In addition, as shown in FIG. 9 through the elevating
이렇게 글라스 지지유닛(320)이 상승된 상태에서 글라스 기판(1)의 표면온도를 검출하기 위해 온도조절하우징(310)의 내측 상부에는 소정 간격 이격되어 복수 개의 비접촉식 온도감지센서(TS3)가 설치되고, 이러한 비접촉식 온도감지센서(TS3)를 통해 근접 위치된 글라스 지지유닛(320)의 표면온도가 정확하게 감지될 수 있으며, 이와 동시에 글라스 기판(1)의 온도를 감지하기 위해 센서가 글라스 기판(1)의 표면에 접촉되어 흡집이 생기는 것이 근본적으로 방지된다.In order to detect the surface temperature of the
이에 더해 글라스 지지유닛(320)에는 도 10에 도시된 바와 같이 지지대(321)의 상면 중앙 쪽에 소정 크기를 가지도록 설치되는 회전지지대(326)와, 상기 회전지지대(326)의 상면에 소정 간격을 두고 수직으로 설치되면서 상단에 글라스 기판(1)의 회전 시 회전력에 의한 미끄러짐을 방지할 수 있도록 고무재질의 미끄럼 방지부재가 설치된 지지부재(327)가 구비된다.In addition, as shown in FIG. 10, the
이에 의해 노광처리부로 이송되기에 앞서 포토마스크와의 정렬을 위해 글라스 기판(1)의 회전 정렬이 필요한 경우 회전지지대(326)가 소정 높이 상승된 다음 회전 동작되는 것에 의해 글라스 기판(1)을 쉽게 회전 정렬하여 방향을 조절할 수 있게 된다.As a result, when the alignment of the
상기와 같은 글라스 지지유닛(320)의 구성에 의해 온도조절하우징(310)의 내부로 공급된 글라스 기판(1)의 표면온도가 전체적으로 조절된 다음, 제1, 2 얼라인부(323, 324) 및 회전지지대(326)를 통해 글라스 기판(1)의 위치가 정밀하게 정렬되고, 이 상태에서 노광처리부 쪽으로 이송되어 포토마스크와 정확하게 위치 정렬될 수 있게 된다.By the configuration of the
또한, 공기공급장치(330)는 도 11에 도시된 바와 같이 내부에 수용 공간이 형성되는 박스 모양의 공기공급하우징(331)과, 상기 공기공급하우징(331)의 내부 일측에 수직으로 설치되어 내부로 공급되는 공기가 균일하게 분배되도록 하는 제1 공기분배판(332) 및 상기 공기공급하우징(331)의 내부 바닥에 수평으로 설치되어 내부의 공기가 외부로 균일하게 분배되어 토출되도록 하는 제2 공기분배판(333)을 포함한다.In addition, the
그리고 공기공급하우징(331)은 반송부(200)의 공기공급장치(230)와 같이 일측면에 제2 온도조절장치(500)로부터 공기가 공급되는 공기유입구(331A)가 형성되고, 저면에는 제2 공기분배판(333)을 통해 공기가 토출되도록 개방된 공기배출구(331B)가 형성되며, 타측면에는 인접하여 설치되는 또 다른 공기공급하우징(331)의 내부와 연통되도록 하는 연통구(331C)가 형성된다.In addition, the
그리고 제1, 2 공기분배판(332, 333)은 도 6에 도시된 바와 같이 소정 간격을 두고 복수 개의 토출공(H)이 형성되고, 이러한 토출공(H)은 공기가 유입되는 쪽에 비해 상대적으로 공기가 토출되는 쪽의 지름이 크게 형성(테이퍼)되며, 이러한 구조로 인해 제1 공기분배판(332)을 통과하는 공기가 복수 개의 공기공급하우징(331)의 내부로 균일하게 분배되어 공급된 다음, 제2 공기분배판(333)을 통해 온도조절하우징(310)의 내부로 균일하게 토출되게 된다.The first and second air distribution plates 332 and 333 have a plurality of discharge holes H formed at predetermined intervals, as shown in FIG. The diameter of the air discharge side is formed to be large (tapered), and due to this structure, the air passing through the first air distribution plate 332 is uniformly distributed and supplied into the plurality of
또한, 제2 온도조절장치(500)를 통해 공급되는 공기의 온도를 감지하기 위해 공기유입구(331A)에는 복수 개의 온도감지센서(TS2)가 설치된다.In addition, a plurality of temperature detection sensors TS2 are installed at the
상기와 같은 온도감지센서(TS2)의 구성에 의해 제2 온도조절장치(500)에서 공기공급장치(330) 쪽으로 공급되는 공기의 온도가 감지되어 제2 온도조절장치(500)에서 공급되는 공기의 온도가 적절하게 조절되게 된다.The temperature of the air supplied from the second
제1, 2 온도조절장치(400, 500)는 반송부(200)와 온도조절부(300)의 내부로 미리 설정된 온도의 공기를 공급하는 구성이다.The 1st, 2nd
이러한 제1, 2 온도조절장치(400, 500)는 도 12에 도시된 바와 같이 소정 크기를 가지면서 내부에 수용공간이 형성되고 일측에 소정 크기의 유입구(411, 511)와 배출구(412, 512)가 형성되는 본체(410, 510)와, 상기 본체(410, 510)의 일측에 설치되어 내부로 유입되는 공기 중의 이물질을 제거하는 에어필터(420, 520)와, 상기 에어필터(420, 520)를 통과한 공기를 소정 온도로 냉각시켜 공기중에 포함된 수분을 제거하는 냉각부(430, 530)와, 상기 냉각부(430, 530)를 통해 소정 온도로 냉각 제습된 공기를 설정된 온도로 가열하는 가열부(440, 540)와, 상기 가열부(440, 540)를 통해 가열된 공기를 공기공급장치(230, 330) 쪽으로 공급하는 블로워(450, 550)를 포함한다.As shown in FIG. 12, the first and second
그리고 본체(410, 510)의 일측에는 가열부(440, 540)의 온도를 조절하기 위한 히터컨트롤러(460, 560)와, 냉각부(430, 530)로 냉매를 공급하기 위한 냉동사이클 구조의 냉각유닛(470, 570) 및 냉각부(43, 530)에서 응축된 응축수를 배출하기 위한 드레인펌프(480, 580)가 구비된다.And one side of the main body (410, 510), the heater controller (460, 560) for adjusting the temperature of the heating unit (440, 540) and the cooling of the refrigeration cycle structure for supplying the refrigerant to the cooling unit (430, 530) Drain pumps 480 and 580 are provided to discharge the condensed water condensed in the units 470 and 570 and the cooling units 43 and 530.
이때 제1 온도조절장치(400)는 유입구(411)를 통해 외기가 직접 유입된 다음 에어필터(420), 냉각부(430), 가열부(440) 및 블로워(450)를 통해 온도 조절된 공기가 반송부(200)의 공기공급장치(230) 쪽으로 공급되게 되고, 이렇게 반송부(200) 쪽으로 공급된 공기는 반송하우징(210)의 공기배출구(212)를 통해 외부로 자연 배출되게 된다.At this time, the
이에 반해 제2 온도조절장치(500)는 유입구(511)를 통해 온도조절부(300)의 온도조절하우징(310) 내부의 공기가 유입된 다음 에어필터(520), 냉각부(530), 가열부(540) 및 블로워(550)를 통해 온도 조절된 공기가 온도조절부(300)의 공기공급장치(330) 쪽으로 공급되게 되고, 이렇게 공기공급장치(330)를 통해 온도조절하우징(310)의 내부로 공급된 공기는 공기배출구(312)를 통해 제2 온도조절장치(500)의 유입구(511) 쪽으로 공급되면서 순환되게 된다.On the other hand, the
상기와 같은 제1 온도조절장치(400)를 통해 반송부(200)의 내부 온도가 설정된 온도로 균일하게 유지되게 되고, 이에 의해 반송부(200)에서 노광처리부 쪽으로 이송되기 전에 온도조절부(300)에서 조절된 글라스 기판(1)의 온도가 달라지는 것이 방지된다.The internal temperature of the conveying
그리고 제2 온도조절장치(500)를 통해 글라스 기판(1)의 온도가 빠르고 균일하게 조절될 수 있음과 동시에 온도가 조절된 공기가 순환되어 재공급되므로 공기의 온도를 조절하는 데에 투입되는 에너지가 크게 절약된다.In addition, the temperature of the
이상 설명한 바와 같이 본 발명은 글라스 지지유닛을 통해 공기공급장치와 근접되도록 상승된 상태에서 내부로 공급되는 공기에 글라스 기판이 노출되므로 글라스 기판의 표면온도가 설정된 온도로 빠르게 맞춰질 수 있고, 공기공급장치를 통해 균일하게 분배된 공기가 글라스 기판 쪽으로 토출되므로 글라스 기판의 표면이 전체적으로 균일한 온도로 쉽게 맞춰지게 된다.As described above, the present invention exposes the glass substrate to the air supplied to the inside while being raised to approach the air supply apparatus through the glass support unit, so that the surface temperature of the glass substrate can be quickly adjusted to the set temperature, and the air supply apparatus is provided. Since uniformly distributed air is discharged toward the glass substrate, the surface of the glass substrate is easily adjusted to a uniform temperature as a whole.
위에서는 설명의 편의를 위해 바람직한 실시예를 도시한 도면과 도면에 나타난 구성에 도면부호와 명칭을 부여하여 설명하였으나, 이는 본 발명에 따른 하나의 실시예로서 도면상에 나타난 형상과 부여된 명칭에 국한되어 그 권리범위가 해석되어서는 안 될 것이며, 발명의 설명으로부터 예측 가능한 다양한 형상으로의 변경과 동일한 작용을 하는 구성으로의 단순 치환은 통상의 기술자가 용이하게 실시하기 위해 변경 가능한 범위 내에 있음은 지극히 자명하다고 볼 것이다.In the above description, for the convenience of description, preferred embodiments have been described with reference to the drawings and the components shown in the drawings, but with reference to the figures and the designations shown in the drawings as one embodiment according to the present invention. It should not be construed that the scope of the right should be construed, and that the simple substitution of a configuration having the same function as the change to the various shapes predictable from the description of the invention is within the range that can be changed by those skilled in the art for easy implementation. It will be very self explanatory.
1: 글라스 기판 100: 버퍼부
110: 버퍼하우징 111: 외기유입구
112: 외기배출구 120: 팬유닛
121: 필터 200: 반송부
210: 반송하우징 211: 공기유입구
212: 공기배출구 220: 반송로봇
230: 공기공급장치 231: 공기공급하우징
231A: 공기유입구 231B: 공기배출구
231C: 연통구 232: 제1 공기분배판
233: 제2 공기분배판 300: 온도조절부
310: 온도조절하우징 311: 공기유입구
312: 공기배출구 320: 글라스 지지유닛
321: 지지대 322: 볼지지부
323: 제1 얼라인부 324: 제2 얼라인부
325: 승강장치 326: 회전지지대
327: 지지부재 330: 공기공급장치
331: 공기공급하우징 331A: 공기유입구
331B: 공기배출구 331C: 연통구
332: 제1 공기분배판 333: 제2 공기분배판
400: 제1 온도조절장치 410: 본체
411: 유입구 412: 배출구
420: 에어필터 430: 냉각부
440: 가열부 450: 블로워
460: 히터컨트롤러 470: 냉각유닛
480: 드레인펌프 500: 제2 온도조절장치
510: 본체 511: 유입구
512: 배출구 520: 에어필터
530: 냉각부 540: 가열부
550: 블로워 560: 히터컨트롤러
570: 냉각유닛 580: 드레인펌프
H: 토출공 TS1, TS2: 온도감지센서
TS3: 비접촉식 온도감지센서1: glass substrate 100: buffer portion
110: buffer housing 111: outside air inlet
112: outside air outlet 120: fan unit
121: filter 200: conveying unit
210: return housing 211: air inlet
212: air outlet 220: carrier robot
230: air supply device 231: air supply housing
231A:
231C: communication port 232: first air distribution board
233: second air distribution plate 300: temperature control unit
310: temperature control housing 311: air inlet
312: air outlet 320: glass support unit
321: support 322: ball support
323: first alignment unit 324: second alignment unit
325: lifting device 326: rotary support
327: support member 330: air supply device
331:
331B:
332: first air distribution plate 333: second air distribution plate
400: first temperature controller 410: main body
411: inlet 412: outlet
420: air filter 430: cooling unit
440: heating unit 450: blower
460: heater controller 470: cooling unit
480: drain pump 500: second temperature control device
510: main body 511: inlet
512: outlet 520: air filter
530: cooling unit 540: heating unit
550: blower 560: heater controller
570: cooling unit 580: drain pump
H: Outlet hole TS1, TS2: Temperature sensor
TS3: non-contact temperature sensor
Claims (5)
상기 버퍼부(100)에 보관된 상기 글라스 기판(1)을 낱장으로 파지하여 이송시키는 반송로봇(220)이 구비되는 반송부(200);
상기 반송부(200)로부터 공급되는 상기 글라스 기판(1)의 온도를 조절하는 온도조절부(300);
상기 반송부(200)의 내부로 설정된 온도의 공기를 공급하여 온도를 조절하는 제1 온도조절장치(400); 및
상기 온도조절부(300)의 내부로 설정된 온도의 공기를 공급하여 온도를 조절하는 제2 온도조절장치(500);
를 포함하고,
상기 온도조절부(300)는,
내부에 수용 공간을 가지면서 상부에 공기유입구(311)가 형성되고, 하부 일측에 공기배출구(312)가 형성되는 소정 크기의 온도조절하우징(310);
상기 온도조절하우징(310)의 내부에 설치되어 상기 반송부(200)를 통해 공급되는 상기 글라스 기판(1)을 지지하는 글라스 지지유닛(320); 및
상기 온도조절하우징(310)의 외측 상부에 설치되면서 상기 공기유입구(311)를 통해 균일하게 공기가 공급되도록 분배하는 공기공급장치(330);
를 포함하고,
상기 글라스 지지유닛(320)은,
상기 공기유입구(311) 쪽으로 근접되도록 상승되어 상기 공기공급장치(330)를 통해 분배되어 토출되는 공기에 바로 노출되도록 구성되며,
상기 글라스 지지유닛(320)은,
수평 방향으로 소정 길이를 가지도록 설치되는 지지대(321);
상기 지지대(321)의 상면에 소정 간격을 두고 수직으로 설치되면서 상단에 볼이 구비되는 복수 개의 볼지지부(322);
상기 지지대(321)의 전후좌우측에 각각 설치되어 상기 글라스 기판(1)의 위치를 정렬하는 제1, 2 얼라인부(324); 및
상기 지지대(321)의 저면에 위치되면서 상기 지지대(321)를 승강시키는 승강장치(325);
를 포함하고,
상기 글라스 지지유닛(320)은,
상기 지지대(321)의 상면 중앙 쪽에 소정 크기를 가지도록 설치되는 회전지지대(326); 및
상기 회전지지대(326)의 상면에 소정 간격을 두고 수직으로 설치되면서 상단에 상기 글라스 기판(1)의 회전 시 회전력에 의한 미끄러짐을 방지할 수 있도록 고무재질의 미끄럼 방지부재가 설치된 지지부재(327);
를 포함하고, 상기 회전지지대(326)가 소정 높이 상승된 다음 회전 동작되는 것에 의해 상기 글라스 지지유닛(320)에 안착된 상기 글라스 기판(1)이 회전되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템.
A buffer unit 100 in which a plurality of glass substrates 1 are stacked and stored;
A conveying unit (200) provided with a conveying robot (220) for holding and transporting the glass substrate (1) stored in the buffer unit (100) in a sheet;
A temperature controller 300 for controlling the temperature of the glass substrate 1 supplied from the carrier 200;
A first temperature controller 400 for controlling the temperature by supplying air at a temperature set inside the conveyer 200; And
A second temperature controller 500 for controlling the temperature by supplying air having a temperature set to the inside of the temperature controller 300;
Including,
The temperature control unit 300,
An air inlet 311 formed at an upper portion thereof with an accommodation space therein, and an air outlet 312 formed at a lower side thereof with a temperature control housing 310 having a predetermined size;
A glass support unit 320 installed in the temperature control housing 310 to support the glass substrate 1 supplied through the conveyer 200; And
An air supply device 330 installed at an outer upper portion of the temperature control housing 310 so as to distribute air uniformly through the air inlet 311;
Including,
The glass support unit 320,
Raised to be close to the air inlet 311 is configured to be directly exposed to the air that is distributed through the air supply 330 is discharged,
The glass support unit 320,
A support 321 installed to have a predetermined length in a horizontal direction;
A plurality of ball support portions 322 provided at an upper end thereof while being vertically installed at a predetermined interval on an upper surface of the support 321;
First and second alignment portions 324 installed at front, rear, right and left sides of the support 321 to align positions of the glass substrate 1; And
An elevating device 325 which is positioned on the bottom of the support 321 to elevate the support 321;
Including,
The glass support unit 320,
A rotary support 326 installed to have a predetermined size at the center of the upper surface of the support 321; And
Support member 327 is provided with a non-slip member of the rubber material to be installed vertically on the upper surface of the rotary support 326 at a predetermined interval to prevent the sliding due to the rotational force during the rotation of the glass substrate (1) ;
It includes, and the glass substrate temperature control for display, characterized in that the glass substrate 1 seated on the glass support unit 320 is rotated by the rotary support 326 is raised after a predetermined height is rotated system.
상기 공기공급장치(330)는,
내부에 수용 공간이 형성되는 박스 모양의 공기공급하우징(331);
상기 공기공급하우징(331)의 내부 일측에 수직으로 설치되어 내부로 공급되는 공기가 균일하게 분배되도록 하는 제1 공기분배판(332); 및
상기 공기공급하우징(331)의 내부 바닥에 수평으로 설치되어 내부의 공기가 외부로 균일하게 분배되어 토출되도록 하는 제2 공기분배판(333);
을 포함하고,
상기 제1, 2 공기분배판(332, 333)에는,
소정 간격을 두고 복수 개의 토출공(H)이 형성되되, 상기 토출공(H)은 공기가 유입되는 쪽에 비해 상대적으로 공기가 토출되는 쪽의 지름이 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템.
The method according to claim 1,
The air supply device 330,
A box-shaped air supply housing 331 having a receiving space formed therein;
A first air distribution plate 332 installed vertically on one side of the air supply housing 331 to uniformly distribute the air supplied into the air supply housing 331; And
A second air distribution plate 333 installed horizontally on an inner bottom of the air supply housing 331 to uniformly distribute and discharge the air therein;
Including,
In the first and second air distribution plates 332 and 333,
A plurality of discharge holes (H) are formed at predetermined intervals, wherein the discharge hole (H) is a glass substrate temperature for the display, characterized in that the diameter of the air discharge side is formed larger than the air flow side Conditioning system.
상기 온도조절하우징(310)의 내측 상부에는,
상기 글라스 지지유닛(320)이 상승되어 근접되는 상기 글라스 기판(1)의 온도를 감지하는 복수 개의 비접촉식 온도감지센서(TS3)가 설치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템.The method according to claim 2,
Inside the upper portion of the temperature control housing 310,
Glass substrate temperature control system for a display, characterized in that a plurality of non-contact temperature sensor (TS3) for detecting the temperature of the glass substrate (1) is raised to the glass support unit 320 is approached.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190070744A KR102008509B1 (en) | 2019-06-14 | 2019-06-14 | Display Glass Temperature Control System |
CN201910649814.0A CN112083587B (en) | 2019-06-14 | 2019-07-18 | Glass substrate temperature regulating system for display |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190070744A KR102008509B1 (en) | 2019-06-14 | 2019-06-14 | Display Glass Temperature Control System |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102008509B1 true KR102008509B1 (en) | 2019-08-07 |
Family
ID=67621553
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190070744A KR102008509B1 (en) | 2019-06-14 | 2019-06-14 | Display Glass Temperature Control System |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102008509B1 (en) |
CN (1) | CN112083587B (en) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112083587B (en) | 2023-09-08 |
CN112083587A (en) | 2020-12-15 |
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