KR101996662B1 - 글라스 에칭 조성물 및 방현 글라스 제조방법 - Google Patents

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Abstract

글라스 에칭 조성물은, 글라스를 에칭하기 위한 기본 에칭액; 및 녹말을 가수분해하여 얻은 시럽;을 포함한다. 상기 시럽은 글루코스, 말토스 및 덱스트린 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 기본 에칭액은 불산, 불화암모늄 및 물을 포함할 수 있다. 상기 글라스 에칭 조성물은 녹말 파우더, 화이바솔, 펙틴, 로커스트빈검, 젤라틴, 구아검, 잔탄검, 아라비아검, 셀룰로오스, PEO 및 PVA 중 적어도 하나를 추가적으로 포함할 수 있다. 방현 글라스 제조방법은, 제1 글라스 에칭액을 글라스에 스크린 프린팅하는 1차 에칭 단계를 포함하고, 상기 제1 글라스 에칭액은 글라스를 에칭하기 위한 기본 에칭액; 및 녹말을 가수분해하여 얻은 시럽;을 포함한다. 상기 글라스는 소다라임 글라스보다 화학적 내구성이 더 큰 글라스일 수 있다. 상기 1차 에칭 단계 후, 상기 글라스를 제2 글라스 에칭액으로 에칭하는 2차 에칭 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.

Description

글라스 에칭 조성물 및 방현 글라스 제조방법{COMPOSITION FOR ETCHING GLASS AND METHOD FOR FABRICATING ANTI-GLARE GLASS}
본 발명은 글라스 에칭 조성물 및 방현 글라스 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 에칭 회수를 최소화하면서도 글라스 표면에 우수한 방현 특성을 제공할 수 있는 글라스 에칭 조성물 및 방현 글라스 제조방법에 관한 것이다.
글라스의 표면에 방현 (Anti-Glare) 특성을 구현하는 방현 글라스 제조방법은 요철 구조를 형성하는 1차 단계, 요철 구조를 부드럽게 만드는 2차 단계를 포함한다. 종래 다양한 방현 글라스 제조방법들이 존재하는데, 이들 방법들의 2차 단계는 대부분 유사하고 (슬리밍 에칭), 1차 단계에 차이가 있어, 1차 단계에 따라 구분된다.
1차 단계의 종류에 따라 방현 글라스 제조방법은 bath-type 에칭 방식, spray-type 에칭 방식, 스크린 프린팅 에칭 방식, 샌드블라스트 방식, 워터젯 방식 등으로 구분 될 수 있다. 2차 슬리밍 에칭 단계를 진행해야 하는 이유는 방식은 다르더라도 1차 단계를 거친 요철 구조가 거칠기 때문이다. 거친 요철 구조는 방현 품질 균질성을 저하시키고, 강도를 저하시키는 등의 문제를 일으키므로 요철 구조를 둥그렇게 만드는 2차 슬리밍 에칭 단계가 필수적이다.
2차 슬리밍 단계는 널리 알려진 방법으로 불산, 황산, 염산 등을 혼합하여 사용하는데, 비용이 많이 들 뿐만 아니라, 환경 및 안전 이슈를 가지고 있다. 이에 비불산계 2차 에칭액 등이 개발되기도 하였으나 효율이 떨어지고 비용이 높은 문제가 있다. 1차 처리만으로 방현 특성을 구현하기 위해 많은 노력을 하였으나 지금까지 보고된 효과적인 방법은 없는 실정이다.
글라스 에칭 조성물은, 글라스를 에칭하기 위한 기본 에칭액; 및 녹말을 가수분해하여 얻은 시럽;을 포함한다. 상기 시럽은 글루코스, 말토스 및 덱스트린 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 기본 에칭액은 불산, 불화암모늄 및 물을 포함할 수 있다. 상기 글라스 에칭 조성물은 녹말 파우더, 화이바솔, 펙틴, 로커스트빈검, 젤라틴, 구아검, 잔탄검, 아라비아검, 셀룰로오스, PEO, PVA 중 적어도 하나를 추가적으로 포함할 수 있다.
방현 글라스 제조방법은, 제1 글라스 에칭액을 글라스에 스크린 프린팅하는 1차 에칭 단계를 포함하고, 상기 제1 글라스 에칭액은 글라스를 에칭하기 위한 기본 에칭액; 및 녹말을 가수분해하여 얻은 시럽;을 포함한다. 상기 글라스는 소다라임 글라스보다 화학적 내구성이 더 큰 글라스일 수 있다. 상기 1차 에칭 단계 후, 상기 글라스를 제2 글라스 에칭액으로 에칭하는 2차 에칭 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기한 구성에 따르면, 본 발명은 1차 처리만으로 거칠지 않은 요철구조를 형성하여 효과적으로 방현 특성을 구현할 수 있다. 이는 비용 절감 효과가 탁월하고, 안전 및 환경 측면에서 우수한 방법이라 할 수 있다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예의 글라스 에칭 조성물을 사용하되, 공정 조건을 달리하여 글라스들을 1차 에칭하고 뒤 이어 2차 에칭까지 실시한 뒤, 그 글라스들의 표면을 측정한 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지들을 보여준다.
도 3은 종래의 에칭액을 사용하여 글라스를 1차 에칭하고, 그 글라스 표면을 수직 상방에서 측정한 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지를 보여주고, 도 4는 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 글라스 표면을 수직 상방에서 측정한 SEM 이미지를 보여준다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예의 에칭 조성물을 사용하여 글라스를 1차 에칭하고, 그 글라스 표면을 수직 상방(도 5) 및 경사 방향(도 6)에서 측정한 SEM 이미지를 보여주고, 도 7 및 도 8은 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 후 글라스 표면을 수직 상방(도 7) 및 경사 방향(도 8)에서 측정한 SEM 이미지를 보여준다.
도 9는 본 발명의 일 실시예의 에칭 조성물을 사용하여 글라스를 1차 에칭하고 그 글라스 표면의 roughness를 측정한 결과를 보여주고, 도 10은 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 후 그 글라스 표면의 roughness를 측정한 결과를 보여준다.
도 11은 1차 에칭 글라스에 마킹을 한 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 사진이고, 도 12는 그 마킹을 지운 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 현미경 사진이고, 도 13은 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 후 글라스에 마킹을 하고 그 글라스 표면을 보여주는 사진이고, 도 14는 그 마킹을 지운 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 현미경 사진이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
본 발명에서는 글라스 표면에 방현 특성을 구현하기 위하여, 신규 에칭 조성물을 제공한다.
본 발명의 에칭 조성물은 불산을 포함하는 기본 에칭액에 녹말을 가수분해하여 얻어진 시럽(glucose, maltose, dextrin 중 하나 또는 이들 중 적어도 두 개의 혼합물)을 추가하여 제조한다. 본 발명의 에칭 조성물을 사용하여 글라스 표면에 조약돌 모양의 둥그스름한 요철 구조를 만들 수 있게 된다.
기본 에칭액은 공지의 성분으로 이루어질 수 있다. 예컨대, 불산(HF), 불화암모늄(NH4FHF) 및 물(H2O)을 포함할 수 있다. 또한, 기본 에칭액의 구성 성분들은 공지의 조성비로 함유될 수도 있고, 본 발명만의 조성비로 함유될 수도 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 8~24 중량%의 불산을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 3~15 중량%의 불화암모늄을 포함할 수 있다. 실시예에 따라서는, 에칭 속도를 조절하기 위하여, 황산, 질산 등이 첨가될 수 있다.
녹말을 가수분해하여 얻어진 시럽을 넣지 않고 에칭을 할 경우, 방현 효과를 내는 요철 구조가 잘 형성되지 않고 슬리밍 (전체적으로 에칭이 진행되는 현상)이 발생하거나, 거친 형상의 요철구조가 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 4~30 중량%의 상기 시럽을 포함할 수 있다. 한편, 에칭 조성물에 녹말 파우더(starch powder)를 함께 넣어주면 요철 구조가 더 효과적으로 형성된다.
실시예에 따라서는, 본 발명의 에칭 조성물은 밀도 보정제 및/또는 점도 보정제를 추가적으로 포함할 수 있다.
에칭 조성물의 밀도를 높이면 에칭 조성물과 글라스의 밀착력이 개선되어 방현 효과가 증가한다. 녹말 파우더는 불산과 반응하지 않고 에칭 조성물 내에서 균질하게 분산되어 에칭 조성물의 밀도를 효과적으로 증가시킨다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 15~45 중량%의 녹말 파우더를 포함할 수 있다.
또한 화이바솔과 녹말 파우더를 함께 넣어주면 에칭 조성물의 점도가 향상 되어 균질한 에칭 조성물의 도포에 유리하다. 점도를 추가적으로 향상시키기 위해 펙틴, 로커스트빈검, 젤라틴, 구아검, 잔탄검, 아라비아검, 셀룰로오스, PEO, PVA 등을 첨가할 수 있다. 이 밖에, 기존의 증점제 중에서 불산과 반응하지 않고 수성 에칭액 내에서 잘 분산되는 물질들은 점도 보정제로 사용될 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5~20 중량%의 화이바솔을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5 중량% 이하의 아라비아검을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5 중량% 이하의 PVA를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5 중량% 이하의 펙틴을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5 중량% 이하의 구아검을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5 중량% 이하의 잔탄검을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 에칭 조성물은 5 중량% 이하의 PEO를 포함할 수 있다. 표 1 ~ 6은 본 발명의 일 실시예들에 따른 에칭 조성물들의 조성을 보여준다. (수치는 중량%를 나타낸다)
HF NH4FHF 아라비아검 PVA 화이바솔 Starch powder Starch 가수분해 syrup H2O
16.5% 10.6% 1.2% 3.4% 16.2% 30.4% 8.1% 13.6%
HF NH4FHF Pectin 구아검 화이바솔 Starch powder Starch 가수분해 syrup H2O
18.5% 11.9 % 1.8 % 1.3 % 18.1 % 24.3 % 9.1% 15.0 %
HF NH4FHF 잔탄검 PEO 화이바솔 Starch powder Starch 가수분해 syrup H2O
16.0% 10.9 % 0.8 % 4.0 % 19.5 % 23.3 % 7.5% 18.0 %
HF NH4FHF 잔탄검 로커스트빈검 화이바솔 Starch powder Starch 가수분해 syrup H2O
17.2% 11.4 % 1.8 % 2.0 % 18.0 % 25.3 % 10.1% 14.2 %
HF NH4FHF PVA PEO 화이바솔 Starch powder Starch 가수분해 syrup H2O
16.5% 11.2 % 0.8 % 4.0 % 16.0 % 25.8 % 10.6% 15.1 %
HF NH4FHF Pectin PEO 화이바솔 Starch powder Starch 가수분해 syrup H2O
18.0% 11.6 % 1.0 % 3.2 % 16.8 % 25.2 % 9.2% 15.0 %
마이크로 크기의 조약돌 모양이 글라스 표면에 배열되어 있을 경우, 이 글라스는 방현 특성을 지니게 된다. 종래, 매끄러운 요철 구조를 얻기 위해서는 글라스 표면의 요철 구조를 형성하는 1차 에칭 단계, 이를 매끄럽게 만드는 2차 에칭 단계를 필요로 하였다. 따라서, 2 단계 에칭을 진행하기 위해서 전체 공정시간이 길어지고 공정비용 또한 상승하는 단점이 있었다.
그러나, 본 발명에서는 1차 에칭만으로 매끄러운 요철 구조를 얻을 수 있는 방법을 제시하였다. 본 발명의 일 실시예의 1차 에칭 단계에서는, 스크린 프린팅 방식으로 에칭을 할 수 있고, 이를 통하여 다양한 용도로 활용이 가능한 마이크로 요철 구조를 글라스 표면에 형성한다.
본 발명의 에칭 조성물 및 에칭 방법은 기존의 sodalime glass보다는, 이보다 화학적 내구성이 더 높은 글라스에 더 우수한 에칭 효과를 나타낼 수 있다. 본 발명의 에칭 조성물 및 에칭 방법은 무알칼리 글라스의 에칭에 효과적일 수 있다. 예컨대, 본 발명의 에칭 조성물 및 에칭 방법은 CORNING®사의 Eagle XG®/Willow® 글라스에 더 우수한 에칭 효과를 나타낼 수 있다. Sodalime glass를 이러한 스크린 프린팅 방식으로 방현 에칭하는 경우는 종래에도 있었으나, 이보다 더 높은 화학적 내구성을 갖는 글라스는 그 높은 화학적 내구성으로 인하여, 스크린 프린팅 방식의 방현 에칭이 어려울 수 있다.
이와 관련하여, 본 발명의 일 실시예의 에칭 조성물의 불산 농도는 8 중량% 이상으로 할 수 있다. 불산 농도가 3~8 중량% 의 경우에는 에칭 시간을 3분~10분 정도로 유지해야 에칭이 이루어 지는데, 에칭 시간이 3분을 경과할 경우 글라스 표면에 스크린 프린팅법으로 얇게 도포한 에칭 조성물이 마르게 되어 효과적으로 에칭이 이루어 지지 않는다. 불산 농도 3~8% 의 에칭 조성물을 두께 1~10mm 이상 바를 경우에는 3분이 경과해도 에칭 조성물이 마르는 현상이 줄어들어 방현 에칭이 이루어 지지만, 이렇게 두껍게 에칭 조성물을 바르는 것을 정상적인 스크린 프린팅 기법이라고 볼 수 없다. 결국 불산 농도를 8~32 중량%로 유지하고, 스크린 프린팅 기법으로 두께 500 마이크로 이하로 도포를 한 후, 3분 이하의 에칭 시간을 통해 방현 에칭을 진행하는 것이 이상적이다. 1차 에칭의 공정시간은 10초~180초 일 수 있다.
1차 에칭 조성물의 조성 조절과 1차 에칭 공정 조건의 조절을 통해 다양한 크기의 요철 구조를 얻을 수 있고, 이를 통해 방현 특성의 조절이 가능하다. 단위 요철의 크기 (단위 요철의 외접원의 직경, 글라스 표면과 평행한 방향을 따라 측정)는 2마이크로~50마이크로 사이로 조절이 가능하다. 단위 요철의 높이 (글라스 표면과 수직인 방향을 따라 측정)는 0.5마이크로~5마이크로 사이로 조절이 가능하다. 단위 요철의 크기는 녹말 파우더의 크기 및 분율, 녹말 가수분해 시럽의 분율 등 에칭 조성물의 조성의 영향을 주로 받는다. 단위 요철의 높이는 에칭 시간, 에칭 온도, 스크린 프린팅을 통해 도포한 에칭 조성물의 양 등 공정 조건의 영향을 주로 받는다. 에칭 조성물의 조성과 에칭 공정 조건의 조절을 통해 단위 요철의 크기 및 높이의 조절이 가능하다.
또한, 본 발명의 실시예에서는, 보조적으로 2차 에칭 단계를 거칠 수 있다. 2차 에칭 단계에서는 종래의 공지의 2차 에칭이 수행될 수 있다. 여기서 공지의 2차 에칭은 슬리밍 에칭일 수 있다.
표 7은 동일한 에칭 조성물로 그룹별로 에칭 시간을 달리하여 글라스에 대하여 1차 에칭을 하고, 뒤 이어 2차 에칭까지 실시한 후, 방현 특성을 측정한 결과를 보여준다.
Gloss Ra Haze
Group A 20~24 0.310~0.350 22~26
Group B 34~36 0.270~0.300 14~18
Group C 40~44 0.240~0.260 10~14
본 발명의 에칭 방법은 공정 조건 (예컨대, 공정 시간)을 조절하여 5~80%의 다양한 haze 수준을 구현할 수 있다.
도 1은 상기 표 7의 그룹 A의 글라스의 표면의 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지를, 도 2는 상기 표 7의 그룹 B의 글라스의 표면의 SEM 이미지를 보여준다.
1차 에칭 후, 브러쉬를 사용하여 글라스 표면에 마찰을 주어, 요철들 중 높이가 높은 요철들을 마모시키는 과정을 추가로 수행할 수 있다.
도 3은 종래의 에칭액을 사용하여 글라스를 1차 에칭하고, 그 글라스 표면을 수직 상방에서 측정한 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지를 보여주고, 도 4는 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 글라스 표면을 수직 상방에서 측정한 SEM 이미지를 보여준다. 도 3 및 도 4의 각 도면의 좌측은 저배율 이미지이고, 우측은 고배율 이미지이다.
소다라임 글라스를 에칭하였다. 도 3에 나타난 바와 같이, 스크린 프린팅 방식으로 종래의 에칭액을 사용하여 1차 에칭을 진행한 경우 요철 구조 형성이 진행되나, 전체적으로 글라스 표면이 거칠고 불규칙하여 그대로 사용할 수 없었다. 따라서, 도 4에 나타난 바와 같이, 2차 에칭까지 진행한 후에야 표면이 매끄러운 요철 구조가 형성되었다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예의 에칭 조성물을 사용하여 글라스를 1차 에칭하고, 그 글라스 표면을 수직 상방(도 5) 및 경사 방향(도 6: 글라스의 상면과 측면이 함께 측정됨)에서 측정한 SEM 이미지를 보여주고, 도 7 및 도 8은 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 후 글라스 표면을 수직 상방(도 7) 및 경사 방향(도 8: 글라스의 상면과 측면이 함께 측정됨)에서 측정한 SEM 이미지를 보여준다. 도 5 및 도 7의 각 도면의 좌측은 저배율 이미지이고, 우측은 고배율 이미지이다.
CORNING®사의 Eagle XG®/Willow® 글라스를 사용하였고, 1차 에칭은 본 발명의 에칭 조성물을 사용하여 스크린 프린팅 방식으로 진행하였다. (이는 도 9 내지 도 14의 도면에서도 동일함) 본 발명의 에칭 조성물을 사용하여 글라스를 1차 에칭만을 진행한 경우에도, 매끄럽고 규칙적인 요철 구조를 얻을 수 있었다. (Ra = 0.353~0.396)(도 5 및 도 6) 또한, 1차 에칭과 2차 에칭을 순차적으로 진행 했을 경우, 기존과 동일한 매끄러운 요철 구조를 얻을 수 있었다. (Ra = 0.270~0.300) (도 7 및 도 8)
본 발명의 에칭 조성물을 사용하여 1차 에칭하여 얻을 수 있는 거칠기(Ra)는, 0.150~2.500㎛이고, 바람직하게는 0.200~1.000㎛이다. 상기 1차 에칭에 이어 2차 에칭까지 실시하여 얻을 수 있는 거칠기(Ra)는 0.100~1.500㎛이고, 바람직하게는 0.150~0.800㎛일 수 있다.
도 9는 본 발명의 일 실시예의 에칭 조성물을 사용하여 글라스를 1차 에칭하고 그 글라스 표면의 roughness를 측정한 결과를 보여주고, 도 10은 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 후 그 글라스 표면의 roughness를 측정한 결과를 보여준다.
접촉식 표면조도 측정기 SURFCOM 130을 사용하여 측정하였다. 횡축의 단위는 mm이고, 종축의 단위는 ㎛이다.
본 발명의 방현 글라스는 다양한 용도로 사용될 수 있다. 예컨대, 본 발명자는 본 발명의 일 실시예의 방현 글라스의 마커보드 용으로의 적합성을 테스트하여 보았다.
표 8은 방현 글라스의 광특성을 분석한 결과를 보여준다.
Gloss Ra(㎛) Haze(%)
1차 에칭 후 17.9 0.353~0.396 65.28
1차 에칭 -> 마킹 -> 마킹의 erasing 후 23.3 변화 없음
(0.353~0.396)
45.46
1차 에칭 -> 2차 에칭 후 34~36 0.270~0.300 14~18
1차 에칭 -> 2차 에칭 -> 마킹 -> 마킹의 erasing 후 23.7~27.2 변화 없음
(0.270~0.300)
23~27
도 11은 1차 에칭 글라스에 마킹을 한 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 사진이고, 도 12는 그 마킹을 지운 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 현미경 사진이고, 도 13은 상기 1차 에칭에 이어, 2차 에칭까지 수행한 후 글라스에 마킹을 한 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 사진이고, 도 14는 그 마킹을 지운 뒤 그 글라스 표면을 보여주는 현미경 사진이다.

Claims (20)

  1. 글라스를 에칭하기 위한 기본 에칭액;
    녹말을 가수분해하여 얻은 시럽; 및
    녹말 파우더;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 시럽은 글루코스, 말토스 및 덱스트린 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 기본 에칭액은 불산을 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 기본 에칭액은 불화암모늄 및 물을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 글라스 에칭 조성물 대비, 상기 불산은 8~24 중량%가 포함되고, 상기 불화암모늄은 3~15 중량%가 포함되는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  6. 제3 항에 있어서,
    상기 기본 에칭액은 황산 및 질산 중 적어도 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  7. 제1 항에 있어서,
    밀도 보정제 및 점도 보정제 중 적어도 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  8. 제1 항에 있어서,
    화이바솔, 펙틴, 로커스트빈검, 젤라틴, 구아검, 잔탄검, 아라비아검, 셀룰로오스, PEO 및 PVA 중 적어도 하나를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 에칭 조성물.
  9. 제1 글라스 에칭액을 글라스에 스크린 프린팅하는 1차 에칭 단계를 포함하고,
    상기 제1 글라스 에칭액은
    글라스를 에칭하기 위한 기본 에칭액;
    녹말을 가수분해하여 얻은 시럽; 및
    녹말 파우더;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 글라스는 소다라임 글라스보다 화학적 내구성이 더 큰 글라스인 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  11. 제9 항에 있어서,
    상기 글라스는 무알칼리 글라스인 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  12. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계는 10초 ~ 180초 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  13. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계에서 상기 제1 글라스 에칭액은 500㎛ 이하로 상기 글라스에 도포되는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  14. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계에 의하여 상기 글라스의 표면에는 요철 구조가 형성되고, 상기 요철 구조의 단위 요철은 상기 글라스의 표면과 평행한 방향을 따라 측정된 크기가 2~50㎛ 인 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  15. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계에 의하여 상기 글라스의 표면에는 요철 구조가 형성되고, 상기 요철 구조의 단위 요철은 상기 글라스의 표면과 법선 방향을 따라 측정된 높이가 0.5~5㎛ 인 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  16. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계에 의하여 상기 글라스는 0.150~2.500의 거칠기(Ra)를 갖는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  17. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계에 의하여 상기 글라스는 5~80% 헤이즈를 갖는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  18. 제9 항에 있어서,
    상기 1차 에칭 단계 후,
    상기 글라스를 제2 글라스 에칭액으로 에칭하는 2차 에칭 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 2차 에칭 단계에 의하여 상기 글라스는 0.100~1.500의 거칠기(Ra)를 갖는 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
  20. 제9 항에 있어서,
    상기 글라스는 마커 보드용 글라스인 것을 특징으로 하는 방현 글라스 제조방법.
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