KR101993680B1 - Treatment System of The Wastewater Containing Silica - Google Patents

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KR101993680B1
KR101993680B1 KR1020180146838A KR20180146838A KR101993680B1 KR 101993680 B1 KR101993680 B1 KR 101993680B1 KR 1020180146838 A KR1020180146838 A KR 1020180146838A KR 20180146838 A KR20180146838 A KR 20180146838A KR 101993680 B1 KR101993680 B1 KR 101993680B1
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윤종호
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주식회사 두현이엔씨
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for treating silica-containing wastewater, which comprises: a first gravity precipitation tank (10) in which silica-containing wastewater is introduced to firstly precipitate and remove silica; a second gravity precipitation tank (20) installed at a rear end of the first gravity precipitation tank, and precipitating and removing residual silica contained in treated water; a membrane separation aerobic tank (30) installed at a rear end of the second gravity precipitation tank, and performing an aeration treatment on the introduced treated water to perform solid-liquid separation and nitrification of the treated water; a degassing tank (40) installed at a rear end of the aerobic tank to reduce dissolved oxygen contained in the introduced treated water; and a reactor (50) for receiving the treated water returned from the degassing tank and, and performing nitrification and denitrification on the treated water. According to the present invention, silica generated in a semiconductor, especially in a wafer process, is effectively treated, and nitrogen and phosphorus which are organic materials and nutritive salts contained in sewage can be simultaneously treated.

Description

실리카 함유 폐수의 처리장치{Treatment System of The Wastewater Containing Silica}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a treatment system for treating wastewater containing silica,

본 발명은 실리카 함유 폐수의 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 공정, 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 함유한 폐수를 효과적으로 처리하는 것은 물론, 이와 함께 각종 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 실리카 함유 폐수의 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for treating silica-containing wastewater, and more particularly, to an apparatus for treating silica-containing wastewater, and more particularly, to an apparatus for treating silica-containing wastewater, Containing waste water which can treat nitrogen and phosphorus at the same time.

산업시설에서 발생하는 폐수의 처리를 위해 다양한 공법과 설비들이 연구 및 현장에서 운용되고 있다. 반도체 제조공정에서 발생하는 폐수와 오수의 처리를 위한 종래 기술로는 특허 제0385706호가 참조될 수 있다.Various methods and facilities are being studied and operated in the field for the treatment of wastewater from industrial facilities. As a conventional technique for treating wastewater and wastewater generated in a semiconductor manufacturing process, Patent No. 0385706 can be referred to.

상기 특허 제0385706호는 다량의 폐수로부터 실리카를 제거하기 위한 방법 및 시스템을 개시하고 있다. 동 방법에 의하면, 실리카를 함유하는 폐수 스트림은 에피클로로히드인/디메틸아민 중합체와 같은 응집제로 처리되어, 5미크론 이상의 직경을 갖는 송이모양(cluster)으로 덩어리진 구형 입자가 생성된다. 이때, 처리된 폐수는 동 폐수로부터 실리카 오염물 입자를 물리적으로 분리하는 미량여과 막(microfiltration membrane)에 통과된다. 이에 0.5 미크론 내지 5 미크론의 공극 크기를 갖는 상업적으로 이용가능한 미량여과막이 사용될 수 있다. 미량여과막에 통과되는 처리된 폐수의 유속은 150 GFD(gallons per square foot of membrane per day) 내지 600 GFD 이며, 이를 유지하여 주기 위해서는 미량여과 막을 주기적으로 역류 세척하고 막이 배치된 여과 용기를 간헐적으로 배수시킴으로써 막의 표면으로부터 고체가 제거되도록 해야한다.No. 0385706 discloses a method and system for removing silica from a large amount of wastewater. According to the method, the wastewater stream containing silica is treated with a coagulant such as an epichlorohydrin / dimethylamine polymer to produce spherical particles agglomerated into clusters having a diameter of 5 microns or more. At this time, the treated wastewater is passed through a microfiltration membrane which physically separates the silica contaminant particles from the wastewater. A commercially available microfiltration membrane having a pore size of 0.5 to 5 microns may be used. The flow rate of the treated wastewater passing through the microfiltration membrane is 150 GFD (gallons per square foot of membrane per day) to 600 GFD. In order to maintain the microfiltration membrane, the microfiltration membrane is periodically backwashed and the filtration vessel in which the membrane is disposed is intermittently drained To remove solids from the surface of the membrane.

하지만, 일반적으로 반도체 제조공정에서 발생하는 폐수는 부유물질(SS)의 농도가 높고, 또한 처리과정에서의 막오염으로 인해 차압이 높아지는 현상이 발생하는 문제가 지적된다. 이러한 현상은 반도체 웨이퍼(Wafer) 공정에서 배출되는 실리카(SiO2)에 기인된다.However, it is pointed out that the wastewater generated in the semiconductor manufacturing process generally has a high concentration of suspended solids (SS), and the differential pressure increases due to film contamination during the treatment. This phenomenon is attributable to the silica (SiO 2 ) discharged from the semiconductor wafer process.

하지만, 기존의 실리카 함유 폐수는 상기와 같이 막오염 등의 문제로 인해 수시로 역세정 등의 방법을 이용해 청소 내지 교체를 해주어야 하는 등 실제 운용에 있어 많은 비용과 시간이 소요되는 등 어려움이 따른다. 더욱이 산업단지내 여러사업장에서 발생되는 폐수에는 실리카를 함유한 폐수뿐만 아니라, 각종 오수로부터 유기물질과 질소나 인과 같이 부영양화를 일으켜 수질환경을 오염시키는 물질이 포함되지만, 이들 오염물의 처리는 위와 같은 종래의 시설만으로는 해결할 수 없고 별도의 처리시설이 요구된다. 이 또한 추가적인 비용의 투입과 시간이 요구되는 일이다.However, existing silica-containing wastewater suffers from difficulties such as cleaning and / or replacement of the silica-containing wastewater by using a method such as backwashing frequently due to problems such as membrane contamination as described above. Furthermore, wastewater generated in various workplaces within the industrial complex includes not only wastewater containing silica but also organic substances from various wastewaters and substances which cause eutrophication such as nitrogen and phosphorus to pollute the water quality environment. However, It can not be solved by the facility alone, and separate treatment facilities are required. This also requires additional cost and time.

이에 반도체 공정, 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 함유한 폐수를 효과적으로 처리하는 것은 물론 동 폐수와 혼합되어지는 각종 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 기술의 개발이 절실히 요구되고 있다.Therefore, the development of a technology capable of simultaneously treating wastewater containing silica generated in a semiconductor process, especially a wafer process, as well as an organic substance contained in various wastewater mixed with the wastewater and nitrogen and phosphorus Is desperately required.

[선행기술문헌][Prior Art Literature]

[특허문헌][Patent Literature]

국내공개특허 제10-0385706호 (2003.05.16) Korean Patent Publication No. 10-0385706 (May 16, 2003)

이에 본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해소하기 위해 안출된 것으로써, 반도체 공정, 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 함유한 폐수를 효과적으로 처리하는 것은 물론, 이와 함께 각종 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 실리카 함유 폐수의 처리장치를 제공하는 것이 목적이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems and it is an object of the present invention to effectively treat wastewater containing silica generated in a semiconductor process, particularly a wafer process, Containing waste water which can treat nitrogen and phosphorus simultaneously at the same time.

상기한 바와 같은 본 발명의 기술적 과제는 다음과 같은 수단에 의해 달성되어진다.The technical problem of the present invention as described above is achieved by the following means.

(1) 실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조; 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조; 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조; 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조; 및 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조를 포함하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.(1) a first gravity settling tank into which silica-containing wastewater flows to remove silica by first precipitation; A second gravity settling tank provided at a downstream end of the first gravity settling tank for precipitating and removing the residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerosol provided downstream of the second gravitational sedimentation tank and performing a solid-liquid separation and nitrification of treated water by treating the introduced treated water; A degassing vessel provided downstream of the oxic tank for reducing dissolved oxygen contained in the introduced treatment water; And a reaction tank for introducing the treated water carried in the degassing tank and performing nitrification and denitrification contained in the treated water.

(2) 상기 (1)에 있어서,(2) In the above (1)

반응조는 탈기조를 거친 반류된 처리수를 유입받아, 간헐포기 방식을 이용하여 혐기, 호기, 혐기의 순으로 교대로 운영되는 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Wherein the reaction tank is operated alternately in the order of anaerobic, aerobic and anaerobic using the intermittent abandonment method by introducing the treated water which has undergone the degassing treatment.

(3) 상기 (1)에 있어서,(3) In the above (1)

실리카 함유 폐수의 처리장치는 한쌍으로 병렬적으로 설치되며, 이를 위해 폐수가 유입되는 최전단에는 분배조가 설치되고, 분배조는 외부에서 유입되는 원수(혹은 전처리를 거친 처리수)를 유입받아 이를 좌우 한쌍의 제1중력침전조에 분배하는 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.The apparatus for treating silica-containing wastewater is installed in parallel with a pair, and a distribution tank is installed at the foremost end to which the wastewater flows, and the distribution tank receives raw water (or pretreated treated water) To the first gravity settling tank of the first gravity settling tank.

(4) 상기 (3)에 있어서,(4) In the above (3)

한쌍의 반응조 중 하나는 탈기조로부터 혐기 상태로 처리수를 유입받는 시간으로 설정하고, 다른 하나는 유입된 처리수를 혐기, 호기, 혐기의 교대반응을 수행하도록 하여 반응조의 공정 사이클을 교대로 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.One of the pair of reaction tanks is set as a time for receiving the treated water from the degassing tank to the anaerobic state and the other is set to alternate the reaction cycle of the anaerobic tank, the aerobic tank and the anaerobic tank The waste water treatment system comprising:

(5) 상기 (3)에 있어서,(5) In the above (3)

탈기조의 후단에 스컴저류조를 두어, 최종 처리수의 방류이전에 스컴을 제거하도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.And a scum storage tank is provided at the downstream end of the degassing tank to remove the scum before discharge of the final treated water.

(6) 상기 (1)에 있어서,(6) In the above (1)

상기 반응조는 혐기, 호기 공정을 위한 제1반응실과, 후속하여 혐기 공정을 위한 제2반응실이 분리설치된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Wherein the reaction tank is provided with a first reaction chamber for anaerobic digestion process and a second reaction chamber for subsequent anaerobic digestion process.

(7) 상기 (6)에 있어서,(7) In the above (6)

상기 제1반응실과 제2반응실 사이에 연결관로를 두고, 상기 연결관로에는 열공급수단이 추가로 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Wherein a connection pipe is provided between the first reaction chamber and the second reaction chamber, and a heat supply means is additionally installed in the connection pipe.

(8) 상기 (6)에 있어서,(8) In the above (6)

상기 제2반응실의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프가 연결된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치. And a vacuum pump is connected to the outside of the second reaction chamber together with a closed structure for reducing the pressure of the vacuum.

(9) 상기 (8)에 있어서,(9) In the above (8)

상기 탈기조와 막분리 호기조의 연결관로에 열공급수단이 장착되어 처리수에 열을 공급하고, 탈기조의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프가 연결된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Characterized in that a heat supply means is installed in a connection line between the degassing vessel and the membrane separation aerobic tank to supply heat to the treated water and a vacuum pump is connected to the outside of the vessel with an airtight structure for decompressing the vacuum. .

(10) 상기 (9)에 있어서,(10) In the above (9)

제1중력침전조 및 제2중력침전조의 내부에 표면에 반구형의 돌기가 형성된 배플이 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Wherein the first gravity settling tank and the second gravity settling tank are equipped with a baffle having hemispherical projections formed on the surface thereof.

상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 장치는 반도체 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 효과적으로 처리하는 것은 물론 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.As described above, the apparatus according to the present invention is a very useful and effective invention that can treat silica generated in a semiconductor, especially a wafer process, as well as treat organic matter and nutrients such as nitrogen and phosphorus contained in wastewater at the same time .

도 1은 본 발명에 따른 실시카 함유 폐수의 처리장치를 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 중력침전조의 구성을 도시한 도면이며.
도 3은 본 발명에 따른 반응조의 바람직한 실시예를 보여주는 도면이다.
1 is a view showing an apparatus for treating wastewater containing a running car according to the present invention,
2 is a view showing a configuration of a gravity settling tank according to the present invention.
3 is a view showing a preferred embodiment of the reaction vessel according to the present invention.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 형태를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부된 도면과 함께 이하에 개시될 상세한 설명은 본 발명의 예시적인 실시형태를 설명하고자 하는 것이며, 본 발명이 실시될 수 있는 유일한 실시형태를 나타내고자 하는 것이 아니다. 이하의 상세한 설명은 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해서 구체적 세부사항을 포함한다. 그러나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 이러한 구체적 세부사항 없이도 실시될 수 있음을 안다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following detailed description, together with the accompanying drawings, is intended to illustrate exemplary embodiments of the invention and is not intended to represent the only embodiments in which the invention may be practiced. The following detailed description includes specific details in order to provide a thorough understanding of the present invention. However, those skilled in the art will appreciate that the present invention may be practiced without these specific details.

몇몇 경우, 본 발명의 개념이 모호해지는 것을 피하기 위하여 공지의 구조 및 장치는 생략되거나, 각 구조 및 장치의 핵심기능을 중심으로 한 블록도 형식으로 도시될 수 있다.In some instances, well-known structures and devices may be omitted or may be shown in block diagram form, centering on the core functionality of each structure and device, to avoid obscuring the concepts of the present invention.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함(comprising 또는 including)"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "…부"의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미한다. 또한, "일(a 또는 an)", "하나(one)", "그(the)" 및 유사 관련어는 본 발명을 기술하는 문맥에 있어서(특히, 이하의 청구항의 문맥에서) 본 명세서에 달리 지시되거나 문맥에 의해 분명하게 반박되지 않는 한, 단수 및 복수 모두를 포함하는 의미로 사용될 수 있다.Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising" or " including ", it is meant that the element does not exclude other elements, do. Further, the term "part" described in the specification means a unit for processing at least one function or operation. Also, the terms " a or ", "one "," the ", and the like are synonyms in the context of describing the invention (particularly in the context of the following claims) May be used in a sense including both singular and plural, unless the context clearly dictates otherwise.

본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. The following terms are defined in consideration of the functions in the embodiments of the present invention, which may vary depending on the intention of the user, the intention or the custom of the operator. Therefore, the definition should be based on the contents throughout this specification.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 실리카 함유 폐수의 처리장치를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 중력침전조의 구성을 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명에 따른 반응조의 바람직한 실시예를 보여주는 도면이다.FIG. 1 is a view showing an apparatus for treating silica-containing wastewater according to the present invention, FIG. 2 is a view showing the construction of a gravity sedimentation tank according to the present invention, and FIG. 3 is a view showing a preferred embodiment of a reaction tank according to the present invention FIG.

도면에서 도시한 바와 같이, 실리카 함유 폐수의 처리장치(100)는 실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조(10); 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조(20); 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조(30); 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조(40); 및 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조(50)를 포함한다.As shown in the drawing, an apparatus 100 for treating silica-containing wastewater includes a first gravity settling tank 10 through which silica-containing wastewater flows and removes silica by first precipitation; A second gravity settling tank (20) provided at the downstream end of the first gravity settling tank for precipitating and removing the residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerobic tank (30) installed at a downstream end of the second gravity sedimentation tank and performing aerated treatment of the treated water to perform solid-liquid separation and nitrification of the treated water; A degassing vessel (40) provided downstream of the oxic tank to reduce dissolved oxygen contained in the introduced treatment water; And a reaction tank (50) for introducing the treated water carried in the degassing tank and performing nitrification and denitrification contained in the treated water.

바람직하게는 상기 본 발명에 따른 실리카 함유 폐수의 처리장치(100)는 한쌍으로 병렬적으로 설치되어진다. 이를 위해 폐수가 유입되는 최전단에는 분배조(60)가 설치된다. 분배조(60)는 외부에서 유입되는 원수(혹은 전처리를 거친 처리수)를 유입받아 이를 좌우 한쌍의 제1중력침전조(10)에 분배한다. 상기 분배조(60)의 전단에는 전처리를 위해 가압부상조(미도시)가 설치되어 원수내 함유된 유지를 포함한 각종 부유물을 사전에 제거하여도 좋다.Preferably, the apparatus 100 for treating silica-containing wastewater according to the present invention is installed in a pair in parallel. To this end, a distribution tank (60) is installed at the foremost end where the wastewater flows. The distribution tank 60 receives raw water (or pretreated treated water) flowing from the outside and distributes it to a pair of left and right first gravity settling tanks 10. In the front end of the distribution tank 60, a pressurized floating tank (not shown) is provided for pretreatment to remove various suspended matters including the oil contained in the raw water in advance.

이때 분배는 각 장치의 처리용량 및 설비의 가동상태를 고려하여 이루어지도록 할 수 있으며, 이는 제어기(미도시)를 통해 자동으로 제어될 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 분배조(60)는 한 쪽의 설비가 교체 혹은 수리 등의 요인이 발생할 경우 다른 한쪽으로 원수를 유입시키도록 제어한다.At this time, the distribution can be performed in consideration of the processing capacity of each apparatus and the operation state of the facility, and it is preferable that the distribution can be automatically controlled through a controller (not shown). For example, the distribution tank 60 controls the supply of raw water to the other of the two facilities when one of the facilities causes replacement or repair.

상기 제1중력침전조(10)의 내부에는 배플(11)이 형성되어, 상기 배플에 의해 실리카를 포함한 입자들이 중력에 의해 침강하도록 유도한다. 이때, 제거되는 실리카는 대략 30~60% 정도이다.A baffle 11 is formed in the first gravity settling tank 10 so that particles including silica are precipitated by gravity by the baffle. At this time, the silica to be removed is about 30 to 60%.

바람직하게는 상기 배플의 표면에는 반구형의 돌기(미도시)가 일정간격을 두고 형성된다. 반구형의 돌기는 폐수내 부유물이 표면에 응집되는 것을 막아주어 케이크가 형성되는 것을 방지해 주어 실리카가 케이크에 흡착되는 것을 방지하고, 결과적으로 실리카의 회수 내지 제거효율을 높일 수 있다.Preferably, hemispherical projections (not shown) are formed on the surface of the baffle at regular intervals. The hemispherical protrusion prevents the suspended matter in the wastewater from being agglomerated on the surface to prevent the formation of a cake, thereby preventing the silica from being adsorbed on the cake, and as a result, the efficiency of recovery or removal of silica can be increased.

제1중력침전조(10)를 거친 처리수는 제2중력침전조(20)로 유입된다. 제2중력침전조(20)는 내부에 배플(21)이 처리수의 진행방향과 수직하게 상부에 장착된다. 따라서, 이동 중인 처리수 내 함유된 잔류하는 실리카 입자들이 대부분 상기 배플(21)에 막혀 중력에 의해 침전되어 제거될 수 있다.The treated water passing through the first gravity settling tank 10 flows into the second gravity settling tank 20. In the second gravity settling tank 20, the baffle 21 is mounted in the upper portion perpendicular to the traveling direction of the treated water. Therefore, most of the remaining silica particles contained in the moving process water are clogged with the baffle 21 and can be settled and removed by gravity.

상기 제2중력침전조(20)를 거친 처리수는 실리카 입자가 거의 제거된 상태이다. 따라서, 본 발명에 의하면 후단에 설치된 막분리 호기조(30)에 설치된 분리막을 오염시키는 일을 방지할 수 있게 된다.The treated water passed through the second gravity settling tank 20 is in a state where silica particles are almost removed. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent contamination of the separation membrane provided in the membrane separation aeration tank 30 provided at the rear end.

막분리 호기조(30)는 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하고, 이와 함께 인의 섭취가 일어난다. 내부에 침지되는 분리막(31)은 바람직하게는 중공사 정밀여과막이 이용되며, 물, 공기, 약품의 역세정 과정이 필요없이 포기공기만을 이용하여 세정할 수 있어 6개월 이상 막을 운영하는 것이 가능하다.The membrane separation aerobic tank 30 performs solid-liquid separation and nitrification of treated water, and together with the intake of phosphorus. The separating membrane 31 immersed in the interior is preferably a hollow microfiltration membrane and can be cleaned using only the aeration air without requiring a backwashing process of water, air, and chemicals, so that the membrane can be operated for six months or more .

또한, 본 발명에서는 상기와 같이 질산화 및 인제거를 위해 기존의 침전조, 여과조 및 소독조를 대신하여 흡입여과방식의 중공사 정밀여과막이 이용되므로 7,000~13,000mg/L 정도의 MLSS 농도에서 공정의 운영이 가능하게 되어 인제거에 약품의 별도 투입이 필요없고, 동절기에도 안정된 질산화가 가능하다.In the present invention, since hollow filtration type hollow filtration membrane is used instead of conventional sedimentation tank, filtration tank and disinfection tank for nitrification and phosphorus removal as described above, operation of the process is performed at MLSS concentration of about 7,000 to 13,000 mg / L It is possible to add nitrification stabilizer nitrification even in winter.

탈기조(40)는 전단의 막분리 호기조(30)를 거친 처리수내 함유된 용존산소를 저감한다. 탈기조(40)는 별도의 압축공기가 투입되지 않고, 교반을 통해 간단하게 수행될 수 있다. 막분리 호기조(30)를 거쳐 나온 처리수는 다량의 용존산소를 포함하게 되므로, 탈기조(40)에서는 이러한 용존산소를 소비하여 처리수내 존재하는 유기물을 산화시켜 제거하고, 이를 통해 처리수내 용존산소는 저감되어진다.The degassing vessel 40 reduces the dissolved oxygen contained in the treated water passing through the membrane separation aerobic tank 30 at the previous stage. The degassing vessel 40 can be simply performed without agitation of the compressed air. Since the treated water discharged through the membrane separation aeration tank 30 contains a large amount of dissolved oxygen, the dissolved gas is consumed in the degassing tank 40 to oxidize and remove the organic substances present in the treated water, Is reduced.

상기와 같이 탈기조(40)에 의한 용존산소의 저감을 통해 후단의 반응조(50)에서 수행되는 혐기 분위기가 제공되어진다. 바람직하게는 탈기조(40)를 거친 처리수내 용존산소는 0.2mg/L 이하로 한다.The anaerobic atmosphere performed in the reaction tank 50 at the downstream stage is provided through reduction of dissolved oxygen by the degassing vessel 40 as described above. Preferably, the dissolved oxygen in the treated water passing through the degassing tank 40 is 0.2 mg / L or less.

탈기조(40)에서 나온 처리수는 반응조(50)로 반송된다.The treated water from the degassing tank 40 is returned to the reaction tank 50.

반응조(50)는 탈기조(40)를 거친 반류된 처리수를 유입받아, 바람직하게는 간헐포기 방식을 이용하여 혐기, 호기, 혐기 공정의 순으로 교대로 운영된다. 따라서, 탈기조(40)를 거친 처리수는 먼저 혐기 공정으로 운영되고, 이 기간에는 처리수의 탈질 및 인의 방출이 유도된다. 후속하여 처리수는 호기 공정으로 이어지며 이 과정을 통해 잔류 질소에 대한 질산화 과정이 수행된다. 그리고 나서 질산화 과정을 통해 생성된 질산성질소는 후속하는 혐기공정에 의해 다시 혐기분위기에서 탈질 및 인제거 공정을 거치게 된다. 상기 일련의 공정은 하나의 반응실에서 순차적으로 간헐포기하는 단순한 방법에 의해 수행되어질 수 있다.The reaction tank 50 receives refluxed treated water through the degassing tank 40, and is operated alternately in the order of anaerobic, aerobic and anaerobic processes, preferably using an intermittent aeration method. Therefore, the treated water passing through the degassing tank 40 is first operated in the anaerobic process, in which denitrification of the treated water and release of phosphorus are induced. Subsequently, the treated water leads to an exhalation process, in which a nitrification process for residual nitrogen is carried out. Then, the nitrate nitrogen produced through the nitrification process is subjected to the denitrification and the denitrification process in the anaerobic atmosphere by the subsequent anaerobic process. The series of steps may be performed by a simple method of intermittently releasing the liquid in one reaction chamber sequentially.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 반응조(50)는 바람직하게는 마지막 단계의 혐기분위기를 효율적으로 조성하기 위해 혐기, 호기 공정을 위한 제1반응실(51)과, 마지막 혐기 공정을 위한 제2반응실(52)을 분리설치할 수 있다. 이 경우 바람직하게는 상기 제1반응실(51)과 제2반응실(52) 사이에 연결관로(53)를 두고, 상기 연결관로에는 열공급수단(54)이 추가로 장착될 수 있다. 상기 열공급수단은 연결관로의 일부를 감싸는 형태의 온열자켓 내지는 보일러로부터 공급되는 고온의 유체로부터 열교환방식을 통해 열을 공급받는 열교환기일 수 있다. 또한, 상기 제2반응실(52)의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프(미도시)가 연결될 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the reaction tank 50 preferably includes a first reaction chamber 51 for anaerobic and aerobic processes to efficiently form the anaerobic atmosphere at the last stage, and a second reaction chamber 51 for anaerobic and aerobic processes, The reaction chamber 52 can be separated and installed. In this case, a connection pipe 53 may be provided between the first reaction chamber 51 and the second reaction chamber 52, and a heat supply means 54 may be additionally installed in the connection pipe. The heat supply unit may be a heat jacket for covering a part of the connection pipe, or a heat exchanger for receiving heat from a high temperature fluid supplied from a boiler through a heat exchange system. In addition, a vacuum pump (not shown) may be connected to the outside of the second reaction chamber 52 together with a hermetic structure for vacuum depressurization.

이와 같은 구성에 의하면, 상기 제1반응실(51)에는 혐기와 호기반응이 연속하여 일어나야 하므로, 제1반응실 내부 하부에 산기수단이 요구되며, 혐기반응 이후에 포기처리를 통해 호기반응을 진행시킬 수 있다. 호기반응이 진행된 처리수는 용존산소를 포함하며, 이는 제2반응실(52)로 유입되기 이전에 열공급수단에 의해 가열되고(바람직하게는 처리수의 수온이 30~40℃에 이를 수 있도록 승온), 가열된 처리수는 제2반응실(52)에 유입되어 온도 상승에 따른 산소 용해도가 저감되고 뿐만 아니라, 진공펌프를 작동시켜 상부에 감압상태를 유지하면 산소 용해도가 더욱 저감되므로, 처리수내 용존산소를 짧은 시간에 대부분 제거할 수 있다. 이러한 과정에 의해 제2반응실(52)은 짧은 시간에 혐기분위기로 조성될 수 있다.According to this configuration, since the anaerobic reaction and the exhalation reaction must be continuously performed in the first reaction chamber 51, aeration means is required in the lower part of the first reaction chamber, and the aerobic reaction is carried out through the aerobic treatment after the anaerobic reaction . The treated water subjected to the exhalation reaction contains dissolved oxygen, which is heated by the heat supply means before being introduced into the second reaction chamber 52 (preferably, the water temperature of the treated water is raised to 30 to 40 DEG C, ), The heated treated water flows into the second reaction chamber 52 to reduce the solubility of oxygen in accordance with temperature rise. In addition, since the solubility of oxygen is further reduced by operating the vacuum pump and maintaining the reduced pressure in the upper part, Most of dissolved oxygen can be removed in a short time. By this process, the second reaction chamber 52 can be formed into an anaerobic atmosphere in a short time.

상기와 같이 열공급수단(54)이나 진공펌프와 같은 구성의 동작은 제어기(미도시)에 의해 제어될 수 있다. As described above, the operation of the configuration such as the heat supply unit 54 or the vacuum pump can be controlled by a controller (not shown).

이러한 일련의 반응을 통해 처리수내 존재하는 질소 및 인 화합물은 대부분 제거가 가능하다. 상기 반응조(50)을 통한 처리과정은 통상 60분으로 운영될 수 있다.Through this series of reactions, most of the nitrogen and phosphorus compounds present in the treatment water can be removed. The treatment process through the reaction tank 50 may be operated normally for 60 minutes.

본 발명에서는 바람직하게는 상기 반응조(50)는 혐기, 호기, 혐기 공정의 일련의 반응을 개시하기 전에 탈기조(40)로부터 처리수가 유입되는 시간(대략 60분으로 설정) 동안 혐기분위기로 유지한다.In the present invention, preferably, the reaction tank 50 is maintained in the anaerobic atmosphere for a period of time (about 60 minutes) during which the treated water is introduced from the degassing tank 40 before starting a series of reactions in the anaerobic, aerobic and anaerobic processes .

본 발명의 바람직한 실시예로써, 한쌍의 반응조(50) 중 하나는 탈기조(40)로부터 혐기 상태로 처리수를 유입받는 시간으로 설정하고, 다른 하나는 유입된 처리수를 혐기, 호기, 혐기공정의 일련의 반응을 수행하도록 하여 반응조의 공정 사이클을 교대로 수행할 수 있도록 한다.In a preferred embodiment of the present invention, one of the pair of reaction tanks 50 is set as a time for the treated water to flow in the anaerobic state from the degassing tank 40, and the other is set as an anaerobic, So that the process cycle of the reactor can be alternately performed.

본 발명에서는 상기와 같이 간헐포기 방식을 이용하여 포기하므로 자체 슬러지 반송효과가 있어 유지비를 절감하는 것이 가능하다.In the present invention, since the sludge is abandoned by using the intermittent abandonment method as described above, the self sludge transporting effect can be obtained, and the maintenance cost can be reduced.

상기와 같이 반응조(50)를 거친 처리수는 다시 막분리 호기조(30)로 유입시켜, 처리수내 잔류할 수 있는 유기물을 산화시켜 제거하면서, 완벽한 질산화 및 인의 제거가 이루어진다. 막분리 호기조(30)를 거친 처리수는 탈기조(40)로 유입되어 용존산소를 저감시키고, 처리수의 일부는 다시 반송라인을 거쳐 반응조(50)로 반송되고, 나머지는 스컴저류조(70)을 거쳐 스컴을 제거한 후, 방류처리된다.As described above, the treated water flowing through the reaction tank 50 flows into the membrane separation aeration tank 30 again, thereby completely removing nitrification and phosphorus while oxidizing and removing organic substances remaining in the treated water. The treated water having passed through the membrane separation and aeration tank 30 flows into the degassing tank 40 to reduce dissolved oxygen and a part of the treated water is returned to the reaction tank 50 through the return line and the rest is returned to the scum storage tank 70, The scum is removed and then discharged.

바람직하게는 상기 탈기조(40)와 막분리 호기조(30)의 연결관로(미도시)에 반응조에서와 마찬가지로 온열자켓 내지 열교환기 등의 열공급수단을 두고, 탈기조(40)의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프(55)가 연결된다. 이를 통해 탈기조에서의 짧은 체류시간 동안 용존산소를 거의 완벽하게 저감할 수 있어 처리효율을 향상시킬 수 있다. A heat supply means such as a heating jacket or a heat exchanger may be installed in a connection pipe (not shown) between the degassing vessel 40 and the membrane separation aerosol vessel 30, And a vacuum pump 55 is connected to the outside. Through this, the dissolved oxygen can be almost completely reduced during the short residence time in the degassing tank, thereby improving the treatment efficiency.

이하 본 발명의 내용을 실시예를 참조하여 보다 상세하게 설명하고자 한다. 다만 하기 예시된 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위해 제시되는 것일 뿐 이에 의해 본 발명의 권리범위가 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.

[실시예 1] [Example 1]

본 발명의 장치를 이용하여 실리카를 다량 함유한 것으로 알려진 아산디지털 산업단지에서 발생하는 폐수를 대상으로 실험을 실시한 결과 일평균 TMS 측정값은 하기 표 1과 같다. 다만, 2018.04.10.일과 2018.04.11.일은 기존 처리공법(MBR 공법)에 의해 수행하였으며, 2018.04.12.일부터 공법을 변경하여 도 1에 도시한 본 발명에 따른 처리장치를 이용하여 테스트를 수행하였다.The daily average TMS measurement values of the wastewater generated in the Asan Digital Industrial Complex, which is known to contain a large amount of silica using the apparatus of the present invention, are shown in Table 1 below. However, the work was performed by the existing treatment method (MBR method) on October 10, 2018 and April 11, 2018, and the test method was changed from April 12, 2018 to the test method using the treatment apparatus according to the present invention shown in FIG. Respectively.

측정일Measurement date CODCOD T-NT-N T-PT-P pHpH SSSS 비교예Comparative Example 2018.04.022018.04.02 7.27.2 1.571.57 0.0490.049 7.757.75 41.241.2 2018.04.112018.04.11 8.38.3 1.421.42 0.0490.049 7.827.82 27.727.7 실시예Example 2018.04.122018.04.12 9.79.7 1.271.27 0.0490.049 7.937.93 5.45.4 2018.04.212014.04.21 6.86.8 1.261.26 0.0310.031 7.847.84 0.50.5

상기와 같이, 기존의 MBR 공법만으로는 실리카를 포함한 부유물(SS)을 효과적으로 제거하지 못하는 것을 확인할 수 있는 반면, 본 발명에 따른 개선된 공법에 의하면 실리카가 완벽하게 제거되는 것을 확인할 수 있다.As described above, it can be confirmed that the conventional MBR method can not effectively remove suspended solids (SS) including silica. On the other hand, according to the improved method according to the present invention, it can be confirmed that silica is completely removed.

10: 제1중력침전조
20: 제2중력침전조
30: 막분리 호기조
40: 탈기조
50: 반응조
60: 분배조
70: 스컴저류조
10: First gravity settling tank
20: Second gravity settling tank
30: membrane separation aeration tank
40:
50: Reactor
60: Distribution tank
70: Scum reservoir

Claims (10)

실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조; 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조; 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조; 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조; 및 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조를 포함하는 실리카 함유 폐수의 처리장치에 있어서,
제1중력침전조, 제2중력침전조, 막분리 호기조, 탈기조, 및 반응조는 대칭이 되도록 좌우 한쌍으로 병렬적으로 설치되며, 이를 위해 폐수가 유입되는 최전단에는 분배조가 설치되고, 분배조는 외부에서 유입되는 원수 혹은 전처리를 거친 처리수를 유입받아 이를 좌우 한쌍의 제1중력침전조에 분배하며,
반응조 중 하나는 탈기조로부터 혐기 상태로 처리수를 유입받는 시간으로 설정하고, 다른 하나는 유입된 처리수를 혐기, 호기, 혐기의 교대반응을 수행하도록 하여 반응조의 공정 사이클을 교대로 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
A first gravity settling tank for introducing silica-containing wastewater to remove silica by primary precipitation; A second gravity settling tank provided at a downstream end of the first gravity settling tank for precipitating and removing the residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerosol provided downstream of the second gravitational sedimentation tank and performing a solid-liquid separation and nitrification of treated water by treating the introduced treated water; A degassing vessel provided downstream of the oxic tank for reducing dissolved oxygen contained in the introduced treatment water; And a reaction tank for introducing the treated water carried in the degassing tank and performing nitrification and denitrification contained in the treated water, the apparatus comprising:
The first gravity settling tank, the second gravity settling tank, the membrane separation aerobic tank, the degassing tank, and the reaction tank are installed in parallel with each other to be symmetrical. To this end, a distribution tank is installed at the foremost end to which the wastewater flows, The raw water or the pretreated treated water is introduced and distributed to a pair of left and right first gravity settling basins,
One of the reaction vessels is set as a time for receiving the treated water from the degassing vessel to the anaerobic state and the other is set to alternate the reaction cycle of the reaction tank by performing the alternating reaction of the anaerobic, Wherein the silica-containing wastewater is treated with the silica-containing wastewater.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,
탈기조의 후단에 스컴저류조를 두어, 최종 처리수의 방류이전에 스컴을 제거하도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
The method according to claim 1,
And a scum storage tank is provided at the downstream end of the degassing tank to remove the scum before discharge of the final treated water.
제 1항에 있어서,
상기 반응조는 혐기, 호기 공정을 위한 제1반응실과, 후속하여 혐기 공정을 위한 제2반응실이 분리설치된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
The method according to claim 1,
Wherein the reaction tank is provided with a first reaction chamber for anaerobic digestion process and a second reaction chamber for subsequent anaerobic digestion process.
제 6항에 있어서,
상기 제1반응실과 제2반응실 사이에 연결관로를 두고, 상기 연결관로에는 열공급수단이 추가로 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
The method according to claim 6,
Wherein a connection pipe is provided between the first reaction chamber and the second reaction chamber, and a heat supply means is additionally installed in the connection pipe.
제 6항에 있어서,
상기 제2반응실의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프가 연결된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
The method according to claim 6,
And a vacuum pump is connected to the outside of the second reaction chamber together with a closed structure for reducing the pressure of the vacuum.
제 8항에 있어서,
상기 탈기조와 막분리 호기조의 연결관로에 열공급수단이 장착되어 처리수에 열을 공급하고, 탈기조의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프가 연결된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
9. The method of claim 8,
Characterized in that a heat supply means is installed in a connection line between the degassing vessel and the membrane separation aerobic tank to supply heat to the treated water and a vacuum pump is connected to the outside of the vessel with an airtight structure for decompressing the vacuum. .
제 9항에 있어서,
제1중력침전조 및 제2중력침전조의 내부에 표면에 반구형의 돌기가 형성된 배플이 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the first gravity settling tank and the second gravity settling tank are equipped with a baffle having hemispherical projections formed on the surface thereof.
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