KR102250903B1 - Treatment System of The Wastewater Containing Silica Capable of removing nitrogen and Phosphorus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조(10); 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조(20); 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조(30); 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조(40); 및 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조(50)를 포함한다.
상기와 같은 본 발명에 의하면, 반도체 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 효과적으로 처리하는 것은 물론 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있다.
The present invention is a first gravity sedimentation tank (10) for the silica-containing wastewater is introduced to remove the primary precipitation of silica; A second gravity settling tank 20 installed at a rear end of the first gravity settling tank to precipitate and remove residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerobic tank 30 installed at the rear end of the second gravity settling tank and performing solid-liquid separation and nitrification of the treated water by aeration treatment of the introduced treated water; A degassing tank 40 installed at the rear end of the aerobic tank to reduce dissolved oxygen contained in the treated water; And a reaction tank 50 that receives the treated water returned from the degassing tank and performs nitrification and denitrification contained in the treated water.
According to the present invention as described above, it is possible not only to effectively treat silica generated in semiconductors, especially wafer processes, but also to treat organic substances contained in sewage and nutrients such as nitrogen and phosphorus at the same time.

Figure 112019050491317-pat00001
Figure 112019050491317-pat00001

Description

질소와 인의 동시처리가 가능한 실리카 함유 폐수의 처리장치{Treatment System of The Wastewater Containing Silica Capable of removing nitrogen and Phosphorus}Silica Capable of Removing Nitrogen and Phosphorus {Treatment System of The Wastewater Containing Silica Capable of Removing Nitrogen and Phosphorus}

본 발명은 실리카 함유 폐수의 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 공정, 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 함유한 폐수를 효과적으로 처리하는 것은 물론, 이와 함께 각종 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 실리카 함유 폐수의 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for treating wastewater containing silica, and more particularly, to effectively treat wastewater containing silica generated in a semiconductor process, particularly a wafer process, as well as organic substances and nutrients contained in various wastewater. It relates to an apparatus for treating wastewater containing silica capable of simultaneously treating phosphorus nitrogen and phosphorus.

산업시설에서 발생하는 폐수의 처리를 위해 다양한 공법과 설비들이 연구 및 현장에서 운용되고 있다. 반도체 제조공정에서 발생하는 폐수와 오수의 처리를 위한 종래 기술로는 특허 제0385706호가 참조될 수 있다.Various construction methods and facilities are being researched and operated in the field for the treatment of wastewater generated in industrial facilities. As a conventional technique for the treatment of wastewater and sewage generated in a semiconductor manufacturing process, reference may be made to Patent No. 0385706.

상기 특허 제0385706호는 다량의 폐수로부터 실리카를 제거하기 위한 방법 및 시스템을 개시하고 있다. 동 방법에 의하면, 실리카를 함유하는 폐수 스트림은 에피클로로히드인/디메틸아민 중합체와 같은 응집제로 처리되어, 5미크론 이상의 직경을 갖는 송이모양(cluster)으로 덩어리진 구형 입자가 생성된다. 이때, 처리된 폐수는 동 폐수로부터 실리카 오염물 입자를 물리적으로 분리하는 미량여과 막(microfiltration membrane)에 통과된다. 이에 0.5 미크론 내지 5 미크론의 공극 크기를 갖는 상업적으로 이용가능한 미량여과막이 사용될 수 있다. 미량여과막에 통과되는 처리된 폐수의 유속은 150 GFD(gallons per square foot of membrane per day) 내지 600 GFD 이며, 이를 유지하여 주기 위해서는 미량여과 막을 주기적으로 역류 세척하고 막이 배치된 여과 용기를 간헐적으로 배수시킴으로써 막의 표면으로부터 고체가 제거되도록 해야한다.Patent No. 0385706 discloses a method and system for removing silica from a large amount of wastewater. According to the method, the wastewater stream containing silica is treated with a flocculant such as epichlorohydrin/dimethylamine polymer, resulting in clustered spherical particles having a diameter of 5 microns or more. At this time, the treated wastewater is passed through a microfiltration membrane that physically separates the silica contaminant particles from the wastewater. For this, commercially available microfiltration membranes having a pore size of 0.5 microns to 5 microns can be used. The flow rate of the treated wastewater passing through the microfiltration membrane is 150 GFD (gallons per square foot of membrane per day) to 600 GFD, and to maintain this, the microfiltration membrane is periodically backwashed and the filtration vessel with the membrane is intermittently drained. This should ensure that solids are removed from the surface of the membrane.

하지만, 일반적으로 반도체 제조공정에서 발생하는 폐수는 부유물질(SS)의 농도가 높고, 또한 처리과정에서의 막오염으로 인해 차압이 높아지는 현상이 발생하는 문제가 지적된다. 이러한 현상은 반도체 웨이퍼(Wafer) 공정에서 배출되는 실리카(SiO2)에 기인된다.However, it is pointed out that in general, wastewater generated in a semiconductor manufacturing process has a high concentration of suspended solids (SS), and a phenomenon in which the differential pressure increases due to membrane contamination during the treatment process. This phenomenon is caused by silica (SiO 2 ) discharged from the semiconductor wafer (Wafer) process.

하지만, 기존의 실리카 함유 폐수는 상기와 같이 막오염 등의 문제로 인해 수시로 역세정 등의 방법을 이용해 청소 내지 교체를 해주어야 하는 등 실제 운용에 있어 많은 비용과 시간이 소요되는 등 어려움이 따른다. 더욱이 산업단지내 여러사업장에서 발생되는 폐수에는 실리카를 함유한 폐수뿐만 아니라, 각종 오수로부터 유기물질과 질소나 인과 같이 부영양화를 일으켜 수질환경을 오염시키는 물질이 포함되지만, 이들 오염물의 처리는 위와 같은 종래의 시설만으로는 해결할 수 없고 별도의 처리시설이 요구된다. 이 또한 추가적인 비용의 투입과 시간이 요구되는 일이다.However, the existing silica-containing wastewater has difficulties such as taking a lot of cost and time in actual operation, such as having to be cleaned or replaced from time to time using a method such as backwashing due to problems such as membrane contamination as described above. Moreover, wastewater generated from various business sites in industrial complexes includes not only wastewater containing silica, but also organic substances from various sewage and substances that cause eutrophication such as nitrogen and phosphorus to pollute the water quality environment. It cannot be solved by the facility alone, and a separate treatment facility is required. This also requires additional cost and time.

이에 반도체 공정, 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 함유한 폐수를 효과적으로 처리하는 것은 물론 동 폐수와 혼합되어지는 각종 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 기술의 개발이 절실히 요구되고 있다.Therefore, development of technology that can effectively treat wastewater containing silica generated in semiconductor processes, especially wafer processes, as well as simultaneously treat organic substances and nutrients nitrogen and phosphorus contained in various wastewater mixed with copper wastewater. This is in desperate need.

[선행기술문헌][Prior technical literature]

[특허문헌][Patent Literature]

국내공개특허 제10-0385706호 (2003.05.16) Korean Patent Publication No. 10-0385706 (2003.05.16)

이에 본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해소하기 위해 안출된 것으로써, 반도체 공정, 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 함유한 폐수를 효과적으로 처리하는 것은 물론, 이와 함께 각종 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 실리카 함유 폐수의 처리장치를 제공하는 것이 목적이다.Accordingly, the present invention has been devised to solve the above problems, and effectively treats wastewater containing silica generated in semiconductor processes, especially wafer processes, as well as organic substances and nutrients contained in various wastewaters. It is an object to provide an apparatus for treating wastewater containing silica capable of simultaneously treating phosphorus nitrogen and phosphorus.

상기한 바와 같은 본 발명의 기술적 과제는 다음과 같은 수단에 의해 달성되어진다.The technical problem of the present invention as described above is achieved by the following means.

(1) 실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조; 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조; 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조; 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조; 및 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조를 포함하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.(1) a first gravity sedimentation tank in which silica-containing wastewater is introduced and the silica is first precipitated and removed; A second gravity settling tank installed at a rear end of the first gravity settling tank to precipitate and remove residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerobic tank installed at the rear end of the second gravity sedimentation tank and performing solid-liquid separation and nitrification of the treated water by aeration treatment of the introduced treated water; A degassing tank installed at the rear end of the aerobic tank to reduce dissolved oxygen contained in the treated water; And a reaction tank that receives the treated water returned from the degassing tank and performs nitrification and denitrification contained in the treated water.

(2) 상기 (1)에 있어서,(2) In the above (1),

반응조는 탈기조를 거친 반류된 처리수를 유입받아, 간헐포기 방식을 이용하여 혐기, 호기, 혐기의 순으로 교대로 운영되는 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.The reaction tank is a treatment apparatus for silica-containing wastewater, characterized in that the reaction tank receives the inflow of the treated water returned through the degassing tank and is operated alternately in the order of anaerobic, aerobic, and anaerobic using an intermittent aeration method.

(3) 상기 (1)에 있어서,(3) In the above (1),

실리카 함유 폐수의 처리장치는 한쌍으로 병렬적으로 설치되며, 이를 위해 폐수가 유입되는 최전단에는 분배조가 설치되고, 분배조는 외부에서 유입되는 원수(혹은 전처리를 거친 처리수)를 유입받아 이를 좌우 한쌍의 제1중력침전조에 분배하는 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Silica-containing wastewater treatment devices are installed in parallel in a pair, and for this purpose, a distribution tank is installed at the front end of the wastewater inflow, and the distribution tank receives raw water (or treated water that has undergone pretreatment) from the outside and a pair of left and right sides thereof. Silica-containing wastewater treatment apparatus, characterized in that distributed to the first gravity settling tank of.

(4) 상기 (3)에 있어서,(4) In the above (3),

한쌍의 반응조 중 하나는 탈기조로부터 혐기 상태로 처리수를 유입받는 시간으로 설정하고, 다른 하나는 유입된 처리수를 혐기, 호기, 혐기의 교대반응을 수행하도록 하여 반응조의 공정 사이클을 교대로 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.One of the pair of reaction tanks is set as the time to receive the treated water in an anaerobic state from the degassing tank, and the other is to perform an alternating reaction of anaerobic, aerobic, and anaerobic treatment water to alternate the process cycle of the reaction tank. Silica-containing wastewater treatment apparatus, characterized in that configured to be able to.

(5) 상기 (3)에 있어서,(5) In the above (3),

탈기조의 후단에 스컴저류조를 두어, 최종 처리수의 방류이전에 스컴을 제거하도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.A device for treating wastewater containing silica, characterized in that a scum storage tank is provided at a rear end of the degassing tank to remove scum prior to discharge of the final treated water.

(6) 상기 (1)에 있어서,(6) In the above (1),

상기 반응조는 혐기, 호기 공정을 위한 제1반응실과, 후속하여 혐기 공정을 위한 제2반응실이 분리설치된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.The reactor is a silica-containing wastewater treatment apparatus, characterized in that the first reaction chamber for anaerobic and aerobic processes and a second reaction chamber for subsequent anaerobic processes are separately installed.

(7) 상기 (6)에 있어서,(7) In the above (6),

상기 제1반응실과 제2반응실 사이에 연결관로를 두고, 상기 연결관로에는 열공급수단이 추가로 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.An apparatus for treating wastewater containing silica, characterized in that a connection pipe is provided between the first reaction chamber and the second reaction chamber, and a heat supply means is additionally mounted on the connection pipe.

(8) 상기 (6)에 있어서,(8) In the above (6),

상기 제2반응실의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프가 연결된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치. An apparatus for treating wastewater containing silica, characterized in that a vacuum pump is connected to the outside with a sealed structure for vacuum depressurization at an upper portion of the second reaction chamber.

(9) 상기 (8)에 있어서,(9) In the above (8),

상기 탈기조와 막분리 호기조의 연결관로에 열공급수단이 장착되어 처리수에 열을 공급하고, 탈기조의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프가 연결된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.Silica-containing wastewater, characterized in that a heat supply means is installed in the connection pipe between the degassing tank and the membrane separation aerobic tank to supply heat to the treated water, and a vacuum pump is connected to the outside with a sealed structure for vacuum depressurization at the top of the degassing tank. Processing device.

(10) 상기 (9)에 있어서,(10) In (9) above,

제1중력침전조 및 제2중력침전조의 내부에 표면에 반구형의 돌기가 형성된 배플이 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.An apparatus for treating wastewater containing silica, characterized in that a baffle having a hemispherical protrusion formed on its surface is mounted inside the first gravity settling tank and the second gravity settling tank.

상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 장치는 반도체 특히 웨이퍼 공정에서 발생되는 실리카를 효과적으로 처리하는 것은 물론 오수 중에 함유된 유기물질과 영양염류인 질소와 인을 동시에 처리할 수 있는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.As described above, the device according to the present invention is a very useful and effective invention that can effectively treat silica generated in semiconductors, especially wafer processes, as well as organic substances contained in sewage and nutrients such as nitrogen and phosphorus. .

도 1은 본 발명에 따른 실시카 함유 폐수의 처리장치를 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 중력침전조의 구성을 도시한 도면이며.
도 3은 본 발명에 따른 반응조의 바람직한 실시예를 보여주는 도면이다.
1 is a view showing an apparatus for treating wastewater containing a kirka according to the present invention,
Figure 2 is a view showing the configuration of the gravity settling tank according to the present invention.
3 is a view showing a preferred embodiment of the reaction tank according to the present invention.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 형태를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부된 도면과 함께 이하에 개시될 상세한 설명은 본 발명의 예시적인 실시형태를 설명하고자 하는 것이며, 본 발명이 실시될 수 있는 유일한 실시형태를 나타내고자 하는 것이 아니다. 이하의 상세한 설명은 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해서 구체적 세부사항을 포함한다. 그러나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 이러한 구체적 세부사항 없이도 실시될 수 있음을 안다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The detailed description to be disclosed below together with the accompanying drawings is intended to describe exemplary embodiments of the present invention, and is not intended to represent the only embodiments in which the present invention may be practiced. The following detailed description includes specific details to provide a thorough understanding of the present invention. However, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains knows that the present invention may be practiced without these specific details.

몇몇 경우, 본 발명의 개념이 모호해지는 것을 피하기 위하여 공지의 구조 및 장치는 생략되거나, 각 구조 및 장치의 핵심기능을 중심으로 한 블록도 형식으로 도시될 수 있다.In some cases, in order to avoid obscuring the concept of the present invention, well-known structures and devices may be omitted, or may be illustrated in a block diagram form centering on core functions of each structure and device.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함(comprising 또는 including)"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "…부"의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미한다. 또한, "일(a 또는 an)", "하나(one)", "그(the)" 및 유사 관련어는 본 발명을 기술하는 문맥에 있어서(특히, 이하의 청구항의 문맥에서) 본 명세서에 달리 지시되거나 문맥에 의해 분명하게 반박되지 않는 한, 단수 및 복수 모두를 포함하는 의미로 사용될 수 있다.Throughout the specification, when a part is said to "comprising or including" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary. do. In addition, the term "... unit" described in the specification means a unit that processes at least one function or operation. In addition, "a or an", "one", "the" and similar related words are different from the present specification in the context of describing the present invention (especially in the context of the following claims). Unless indicated or clearly contradicted by context, it may be used in the sense of including both the singular and the plural.

본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In describing the embodiments of the present invention, if it is determined that a detailed description of a known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof will be omitted. In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in an embodiment of the present invention, which may vary according to the intention or custom of users or operators. Therefore, the definition should be made based on the contents throughout the present specification.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 실리카 함유 폐수의 처리장치를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 중력침전조의 구성을 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명에 따른 반응조의 바람직한 실시예를 보여주는 도면이다.FIG. 1 is a view showing an apparatus for treating wastewater containing silica according to the present invention, FIG. 2 is a view showing the configuration of a gravity settling tank according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing a preferred embodiment of a reaction tank according to the present invention. It is a drawing.

도면에서 도시한 바와 같이, 실리카 함유 폐수의 처리장치(100)는 실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조(10); 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조(20); 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조(30); 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조(40); 및 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조(50)를 포함한다.As shown in the drawing, the silica-containing wastewater treatment apparatus 100 includes: a first gravity settling tank 10 for primary precipitation and removal of silica by introducing the silica-containing wastewater; A second gravity settling tank 20 installed at a rear end of the first gravity settling tank and for sedimenting and removing residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerobic tank 30 installed at the rear end of the second gravity settling tank and performing solid-liquid separation and nitrification of the treated water by aeration treatment of the introduced treated water; A degassing tank 40 installed at the rear end of the aerobic tank to reduce dissolved oxygen contained in the treated water; And a reaction tank 50 that receives the treated water returned from the degassing tank and performs nitrification and denitrification contained in the treated water.

바람직하게는 상기 본 발명에 따른 실리카 함유 폐수의 처리장치(100)는 한쌍으로 병렬적으로 설치되어진다. 이를 위해 폐수가 유입되는 최전단에는 분배조(60)가 설치된다. 분배조(60)는 외부에서 유입되는 원수(혹은 전처리를 거친 처리수)를 유입받아 이를 좌우 한쌍의 제1중력침전조(10)에 분배한다. 상기 분배조(60)의 전단에는 전처리를 위해 가압부상조(미도시)가 설치되어 원수내 함유된 유지를 포함한 각종 부유물을 사전에 제거하여도 좋다.Preferably, the silica-containing wastewater treatment apparatus 100 according to the present invention is installed in parallel in a pair. For this purpose, a distribution tank 60 is installed at the foremost end of which wastewater is introduced. The distribution tank 60 receives raw water (or treated water that has undergone pretreatment) introduced from the outside and distributes it to a pair of left and right first gravity settling tanks 10. A pressure flotation tank (not shown) may be installed at the front end of the distribution tank 60 for pretreatment to remove various floating matters including fats and oils contained in the raw water in advance.

이때 분배는 각 장치의 처리용량 및 설비의 가동상태를 고려하여 이루어지도록 할 수 있으며, 이는 제어기(미도시)를 통해 자동으로 제어될 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 분배조(60)는 한 쪽의 설비가 교체 혹은 수리 등의 요인이 발생할 경우 다른 한쪽으로 원수를 유입시키도록 제어한다.At this time, the distribution may be made in consideration of the processing capacity of each device and the operating state of the facility, and it is preferable to be automatically controlled through a controller (not shown). For example, the distribution tank 60 controls to inflow raw water to the other when a factor such as replacement or repair occurs in one facility.

상기 제1중력침전조(10)의 내부에는 배플(11)이 형성되어, 상기 배플에 의해 실리카를 포함한 입자들이 중력에 의해 침강하도록 유도한다. 이때, 제거되는 실리카는 대략 30~60% 정도이다.A baffle 11 is formed inside the first gravity settling tank 10 to induce particles including silica to settle by gravity. At this time, the amount of silica to be removed is about 30 to 60%.

바람직하게는 상기 배플의 표면에는 반구형의 돌기(미도시)가 일정간격을 두고 형성된다. 반구형의 돌기는 폐수내 부유물이 표면에 응집되는 것을 막아주어 케이크가 형성되는 것을 방지해 주어 실리카가 케이크에 흡착되는 것을 방지하고, 결과적으로 실리카의 회수 내지 제거효율을 높일 수 있다.Preferably, hemispherical projections (not shown) are formed on the surface of the baffle at regular intervals. The hemispherical protrusion prevents the formation of a cake by preventing the formation of a cake by preventing the floating matter in the wastewater from agglomeration, and as a result, it is possible to increase the recovery or removal efficiency of silica.

제1중력침전조(10)를 거친 처리수는 제2중력침전조(20)로 유입된다. 제2중력침전조(20)는 내부에 배플(21)이 처리수의 진행방향과 수직하게 상부에 장착된다. 따라서, 이동 중인 처리수 내 함유된 잔류하는 실리카 입자들이 대부분 상기 배플(21)에 막혀 중력에 의해 침전되어 제거될 수 있다.The treated water that has passed through the first gravity settling tank 10 flows into the second gravity settling tank 20. In the second gravity settling tank 20, the baffle 21 is mounted on the inside so as to be perpendicular to the traveling direction of the treated water. Accordingly, most of the remaining silica particles contained in the treated water being moved can be blocked by the baffle 21 and precipitated by gravity and removed.

상기 제2중력침전조(20)를 거친 처리수는 실리카 입자가 거의 제거된 상태이다. 따라서, 본 발명에 의하면 후단에 설치된 막분리 호기조(30)에 설치된 분리막을 오염시키는 일을 방지할 수 있게 된다.The treated water that has passed through the second gravity settling tank 20 is in a state in which silica particles are almost removed. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent contamination of the separation membrane installed in the membrane separation aerobic tank 30 installed at the rear end.

막분리 호기조(30)는 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하고, 이와 함께 인의 섭취가 일어난다. 내부에 침지되는 분리막(31)은 바람직하게는 중공사 정밀여과막이 이용되며, 물, 공기, 약품의 역세정 과정이 필요없이 포기공기만을 이용하여 세정할 수 있어 6개월 이상 막을 운영하는 것이 가능하다.The membrane separation aerobic tank 30 performs solid-liquid separation and nitrification of the treated water, and phosphorus intake occurs along with it. The separation membrane 31 immersed inside is preferably a hollow fiber precision filtration membrane, and can be cleaned using only aeration air without the need for a backwashing process of water, air, and chemicals, so it is possible to operate the membrane for more than 6 months. .

또한, 본 발명에서는 상기와 같이 질산화 및 인제거를 위해 기존의 침전조, 여과조 및 소독조를 대신하여 흡입여과방식의 중공사 정밀여과막이 이용되므로 7,000~13,000mg/L 정도의 MLSS 농도에서 공정의 운영이 가능하게 되어 인제거에 약품의 별도 투입이 필요없고, 동절기에도 안정된 질산화가 가능하다.In addition, in the present invention, since the suction filtration hollow fiber microfiltration membrane is used in place of the existing sedimentation tank, filtration tank, and disinfection tank for nitrification and phosphorus removal as described above, operation of the process is performed at an MLSS concentration of about 7,000 to 13,000 mg/L. As it is possible, there is no need for separate injection of chemicals to remove phosphorus, and stable nitrification is possible even in winter.

탈기조(40)는 전단의 막분리 호기조(30)를 거친 처리수내 함유된 용존산소를 저감한다. 탈기조(40)는 별도의 압축공기가 투입되지 않고, 교반을 통해 간단하게 수행될 수 있다. 막분리 호기조(30)를 거쳐 나온 처리수는 다량의 용존산소를 포함하게 되므로, 탈기조(40)에서는 이러한 용존산소를 소비하여 처리수내 존재하는 유기물을 산화시켜 제거하고, 이를 통해 처리수내 용존산소는 저감되어진다.The degassing tank 40 reduces dissolved oxygen contained in the treated water that has passed through the membrane separation aerobic tank 30 at the front end. The degassing tank 40 is not supplied with separate compressed air, and can be simply performed through stirring. Since the treated water discharged through the membrane separation aerobic tank 30 contains a large amount of dissolved oxygen, the degassing tank 40 consumes such dissolved oxygen to oxidize and remove organic substances present in the treated water, and through this, dissolved oxygen in the treated water. Is reduced.

상기와 같이 탈기조(40)에 의한 용존산소의 저감을 통해 후단의 반응조(50)에서 수행되는 혐기 분위기가 제공되어진다. 바람직하게는 탈기조(40)를 거친 처리수내 용존산소는 0.2mg/L 이하로 한다.As described above, the anaerobic atmosphere performed in the reaction tank 50 at the rear stage is provided through the reduction of dissolved oxygen by the degassing tank 40. Preferably, the dissolved oxygen in the treated water passing through the degassing tank 40 is 0.2 mg/L or less.

탈기조(40)에서 나온 처리수는 반응조(50)로 반송된다.The treated water from the degassing tank 40 is returned to the reaction tank 50.

반응조(50)는 탈기조(40)를 거친 반류된 처리수를 유입받아, 바람직하게는 간헐포기 방식을 이용하여 혐기, 호기, 혐기 공정의 순으로 교대로 운영된다. 따라서, 탈기조(40)를 거친 처리수는 먼저 혐기 공정으로 운영되고, 이 기간에는 처리수의 탈질 및 인의 방출이 유도된다. 후속하여 처리수는 호기 공정으로 이어지며 이 과정을 통해 잔류 질소에 대한 질산화 과정이 수행된다. 그리고 나서 질산화 과정을 통해 생성된 질산성질소는 후속하는 혐기공정에 의해 다시 혐기분위기에서 탈질 및 인제거 공정을 거치게 된다. 상기 일련의 공정은 하나의 반응실에서 순차적으로 간헐포기하는 단순한 방법에 의해 수행되어질 수 있다.The reaction tank 50 receives the recirculated treated water through the degassing tank 40 and is operated alternately in the order of anaerobic, aerobic, and anaerobic processes, preferably using an intermittent aeration method. Therefore, the treated water passing through the degassing tank 40 is first operated in an anaerobic process, and during this period, denitrification of the treated water and release of phosphorus are induced. Subsequently, the treated water is passed to an aerobic process, through which the residual nitrogen is nitrified. Then, the nitrate nitrogen produced through the nitrification process is subjected to a denitrification and phosphorus removal process in an anaerobic atmosphere again by a subsequent anaerobic process. The series of processes may be performed by a simple method of intermittently aeration sequentially in one reaction chamber.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 반응조(50)는 바람직하게는 마지막 단계의 혐기분위기를 효율적으로 조성하기 위해 혐기, 호기 공정을 위한 제1반응실(51)과, 마지막 혐기 공정을 위한 제2반응실(52)을 분리설치할 수 있다. 이 경우 바람직하게는 상기 제1반응실(51)과 제2반응실(52) 사이에 연결관로(53)를 두고, 상기 연결관로에는 열공급수단(54)이 추가로 장착될 수 있다. 상기 열공급수단은 연결관로의 일부를 감싸는 형태의 온열자켓 내지는 보일러로부터 공급되는 고온의 유체로부터 열교환방식을 통해 열을 공급받는 열교환기일 수 있다. 또한, 상기 제2반응실(52)의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프(미도시)가 연결될 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the reaction tank 50 is preferably a first reaction chamber 51 for anaerobic and aerobic processes in order to efficiently create the anaerobic atmosphere of the last stage, and a second reaction chamber for the last anaerobic process. The reaction chamber 52 can be installed separately. In this case, preferably, a connection pipe 53 is provided between the first reaction chamber 51 and the second reaction chamber 52, and a heat supply means 54 may be additionally mounted on the connection pipe. The heat supply means may be a heat exchanger that receives heat through a heat exchange method from a high-temperature fluid supplied from a heating jacket or a boiler that surrounds a part of the connection pipe. In addition, a vacuum pump (not shown) may be connected to an upper portion of the second reaction chamber 52 with a sealed structure for vacuum pressure reduction.

이와 같은 구성에 의하면, 상기 제1반응실(51)에는 혐기와 호기반응이 연속하여 일어나야 하므로, 제1반응실 내부 하부에 산기수단이 요구되며, 혐기반응 이후에 포기처리를 통해 호기반응을 진행시킬 수 있다. 호기반응이 진행된 처리수는 용존산소를 포함하며, 이는 제2반응실(52)로 유입되기 이전에 열공급수단에 의해 가열되고(바람직하게는 처리수의 수온이 30~40℃에 이를 수 있도록 승온), 가열된 처리수는 제2반응실(52)에 유입되어 온도 상승에 따른 산소 용해도가 저감되고 뿐만 아니라, 진공펌프를 작동시켜 상부에 감압상태를 유지하면 산소 용해도가 더욱 저감되므로, 처리수내 용존산소를 짧은 시간에 대부분 제거할 수 있다. 이러한 과정에 의해 제2반응실(52)은 짧은 시간에 혐기분위기로 조성될 수 있다.According to this configuration, since anaerobic and aerobic reactions must occur in succession in the first reaction chamber 51, an acidic means is required in the lower part of the first reaction chamber, and an aerobic reaction proceeds through aeration treatment after the anaerobic reaction. I can make it. The treated water in which the aerobic reaction has progressed contains dissolved oxygen, which is heated by a heat supply means before flowing into the second reaction chamber 52 (preferably, the temperature of the treated water is raised to reach 30 to 40°C. ), the heated treated water is introduced into the second reaction chamber 52 to reduce the oxygen solubility due to the increase in temperature, and if the vacuum pump is operated to maintain a reduced pressure at the top, the oxygen solubility is further reduced. Most of the dissolved oxygen can be removed in a short time. By this process, the second reaction chamber 52 can be formed in an anaerobic atmosphere in a short time.

상기와 같이 열공급수단(54)이나 진공펌프와 같은 구성의 동작은 제어기(미도시)에 의해 제어될 수 있다. As described above, the operation of the heat supply means 54 or the vacuum pump may be controlled by a controller (not shown).

이러한 일련의 반응을 통해 처리수내 존재하는 질소 및 인 화합물은 대부분 제거가 가능하다. 상기 반응조(50)을 통한 처리과정은 통상 60분으로 운영될 수 있다.Through this series of reactions, most of the nitrogen and phosphorus compounds present in the treated water can be removed. The treatment process through the reaction tank 50 may be operated for 60 minutes in general.

본 발명에서는 바람직하게는 상기 반응조(50)는 혐기, 호기, 혐기 공정의 일련의 반응을 개시하기 전에 탈기조(40)로부터 처리수가 유입되는 시간(대략 60분으로 설정) 동안 혐기분위기로 유지한다.In the present invention, preferably, the reaction tank 50 is maintained in an anaerobic atmosphere for a period of time (set to about 60 minutes) that the treated water is introduced from the degassing tank 40 before starting a series of reactions of anaerobic, aerobic, and anaerobic processes. .

본 발명의 바람직한 실시예로써, 한쌍의 반응조(50) 중 하나는 탈기조(40)로부터 혐기 상태로 처리수를 유입받는 시간으로 설정하고, 다른 하나는 유입된 처리수를 혐기, 호기, 혐기공정의 일련의 반응을 수행하도록 하여 반응조의 공정 사이클을 교대로 수행할 수 있도록 한다.As a preferred embodiment of the present invention, one of the pair of reaction tanks 50 is set as the time to receive the treated water in an anaerobic state from the degassing tank 40, and the other is the anaerobic, aerobic, and anaerobic process for the introduced treated water. By allowing a series of reactions to be performed, the process cycles of the reactor can be carried out alternately.

본 발명에서는 상기와 같이 간헐포기 방식을 이용하여 포기하므로 자체 슬러지 반송효과가 있어 유지비를 절감하는 것이 가능하다.In the present invention, since it is abandoned using the intermittent aeration method as described above, it is possible to reduce maintenance costs by having its own sludge conveyance effect.

상기와 같이 반응조(50)를 거친 처리수는 다시 막분리 호기조(30)로 유입시켜, 처리수내 잔류할 수 있는 유기물을 산화시켜 제거하면서, 완벽한 질산화 및 인의 제거가 이루어진다. 막분리 호기조(30)를 거친 처리수는 탈기조(40)로 유입되어 용존산소를 저감시키고, 처리수의 일부는 다시 반송라인을 거쳐 반응조(50)로 반송되고, 나머지는 스컴저류조(70)을 거쳐 스컴을 제거한 후, 방류처리된다.The treated water that has passed through the reaction tank 50 as described above is again introduced into the membrane separation aerobic tank 30 to oxidize and remove organic substances that may remain in the treated water, while complete nitrification and phosphorus removal are achieved. The treated water that has passed through the membrane separation aerobic tank 30 flows into the degassing tank 40 to reduce dissolved oxygen, and part of the treated water is returned to the reaction tank 50 through the return line, and the rest is returned to the scum storage tank 70. After removing the scum through the process, it is discharged.

바람직하게는 상기 탈기조(40)와 막분리 호기조(30)의 연결관로(미도시)에 반응조에서와 마찬가지로 온열자켓 내지 열교환기 등의 열공급수단을 두고, 탈기조(40)의 상부에는 진공감압을 위한 밀폐형 구조와 함께 외부에 진공펌프(55)가 연결된다. 이를 통해 탈기조에서의 짧은 체류시간 동안 용존산소를 거의 완벽하게 저감할 수 있어 처리효율을 향상시킬 수 있다. Preferably, heat supply means such as a heating jacket or a heat exchanger are placed in the connection pipe (not shown) between the degassing tank 40 and the membrane separation aerobic tank 30 as in the reaction tank, and vacuum depressurization at the top of the degassing tank 40 A vacuum pump 55 is connected to the outside with a sealed structure for. Through this, dissolved oxygen can be almost completely reduced during a short residence time in the degassing tank, thereby improving treatment efficiency.

이하 본 발명의 내용을 실시예를 참조하여 보다 상세하게 설명하고자 한다. 다만 하기 예시된 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위해 제시되는 것일 뿐 이에 의해 본 발명의 권리범위가 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, the content of the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the examples illustrated below are provided to aid understanding of the present invention and should not be construed as limiting the scope of the present invention.

[실시예 1] [Example 1]

본 발명의 장치를 이용하여 실리카를 다량 함유한 것으로 알려진 아산디지털 산업단지에서 발생하는 폐수를 대상으로 실험을 실시한 결과 일평균 TMS 측정값은 하기 표 1과 같다. 다만, 2018.04.10.일과 2018.04.11.일은 기존 처리공법(MBR 공법)에 의해 수행하였으며, 2018.04.12.일부터 공법을 변경하여 도 1에 도시한 본 발명에 따른 처리장치를 이용하여 테스트를 수행하였다.As a result of conducting an experiment on wastewater generated in the Asan Digital Industrial Complex, which is known to contain a large amount of silica using the apparatus of the present invention, the daily average TMS measurement values are shown in Table 1 below. However, on 2018.04.10. and 2018.04.11., it was performed by the existing treatment method (MBR method), and from 2018.04.12., the method was changed and the test was performed using the treatment apparatus according to the present invention shown in FIG. Performed.

측정일Measurement date CODCOD T-NT-N T-PT-P pHpH SSSS 비교예Comparative example 2018.04.022018.04.02 7.27.2 1.571.57 0.0490.049 7.757.75 41.241.2 2018.04.112018.04.11 8.38.3 1.421.42 0.0490.049 7.827.82 27.727.7 실시예Example 2018.04.122018.04.12 9.79.7 1.271.27 0.0490.049 7.937.93 5.45.4 2018.04.212018.04.21 6.86.8 1.261.26 0.0310.031 7.847.84 0.50.5

상기와 같이, 기존의 MBR 공법만으로는 실리카를 포함한 부유물(SS)을 효과적으로 제거하지 못하는 것을 확인할 수 있는 반면, 본 발명에 따른 개선된 공법에 의하면 실리카가 완벽하게 제거되는 것을 확인할 수 있다.As described above, it can be seen that the conventional MBR method alone does not effectively remove the suspended matter (SS) including silica, whereas the improved method according to the present invention can confirm that silica is completely removed.

10: 제1중력침전조
20: 제2중력침전조
30: 막분리 호기조
40: 탈기조
50: 반응조
60: 분배조
70: 스컴저류조
10: first gravity settling tank
20: second gravity settling tank
30: membrane separation aerobic tank
40: degassing tank
50: reaction tank
60: distribution tank
70: scum storage tank

Claims (3)

실리카 함유 폐수가 유입되어 실리카를 1차 침전제거하는 제1중력침전조; 상기 제1중력침전조의 후단에 설치되고, 처리수내 함유된 잔류 실리카를 침전제거하는 제2중력침전조; 상기 제2중력침전조의 후단에 설치되고, 유입된 처리수를 포기처리하여 처리수의 고액분리 및 질산화를 수행하는 막분리 호기조; 상기 호기조의 후단에 설치되어, 유입된 처리수내 함유된 용존산소를 저감하는 탈기조; 상기 탈기조에서 반송된 처리수를 유입받아 처리수내 함유된 질산화 및 탈질을 수행하는 반응조; 및 최종 처리수의 방류이전에 스컴을 제거하기 위해 탈기조의 후단에 설치되는 스컴저류조를 포함하되,
상기 제1중력침전조, 제2중력침전조, 막분리 호기조, 탈기조, 및 반응조는 대칭이 되도록 좌우 한쌍으로 병렬적으로 설치되며, 이를 위해 폐수가 유입되는 최전단에는 분배조가 설치되고, 분배조는 외부에서 유입되는 원수 혹은 전처리를 거친 처리수를 유입받아 이를 좌우 한쌍의 제1중력침전조에 분배하며,
상기 반응조는 혐기, 호기 공정을 위한 제1반응실과, 후속하여 혐기 공정을 위한 제2반응실이 분리설치되되,
상기 반응조 중 하나는 탈기조로부터 혐기 상태로 처리수를 유입받는 시간으로 설정하고, 다른 하나는 유입된 처리수를 혐기, 호기, 혐기의 교대반응을 수행하도록 하여 반응조의 공정 사이클을 교대로 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
A first gravity sedimentation tank in which silica-containing wastewater flows into and removes silica by primary precipitation; A second gravity settling tank installed at a rear end of the first gravity settling tank to precipitate and remove residual silica contained in the treated water; A membrane separation aerobic tank installed at the rear end of the second gravity sedimentation tank and performing solid-liquid separation and nitrification of the treated water by aeration treatment of the introduced treated water; A degassing tank installed at the rear end of the aerobic tank to reduce dissolved oxygen contained in the introduced treated water; A reaction tank for receiving the treated water returned from the degassing tank and performing nitrification and denitrification contained in the treated water; And a scum storage tank installed at the rear end of the degassing tank to remove scum prior to discharge of the final treated water,
The first gravity settling tank, the second gravity settling tank, the membrane separation aeration tank, the degassing tank, and the reaction tank are installed in parallel in a pair of left and right so as to be symmetric, and for this purpose, a distribution tank is installed at the foremost end of which wastewater is introduced, and the distribution tank is external. The raw water or pre-treated treated water is received from and distributed to the left and right pair of first gravity settling tanks,
In the reaction tank, a first reaction chamber for anaerobic and aerobic processes and a second reaction chamber for subsequent anaerobic processes are separately installed,
One of the reaction tanks is set as the time to receive the treated water in an anaerobic state from the degassing tank, and the other is to perform an alternating reaction of anaerobic, aerobic, and anaerobic treatment water to alternate the process cycle of the reaction tank. Silica-containing wastewater treatment apparatus, characterized in that configured to be.
제 1항에 있어서,
상기 제1반응실과 제2반응실 사이에 연결관로를 두고, 상기 연결관로에는 열공급수단이 추가로 장착된 것을 특징으로 하는 실리카 함유 폐수의 처리장치.
The method of claim 1,
An apparatus for treating wastewater containing silica, characterized in that a connection pipe is provided between the first reaction chamber and the second reaction chamber, and a heat supply means is additionally mounted on the connection pipe.
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