KR101977983B1 - Wet scrubber including cyclone rotatory part - Google Patents

Wet scrubber including cyclone rotatory part Download PDF

Info

Publication number
KR101977983B1
KR101977983B1 KR1020180122863A KR20180122863A KR101977983B1 KR 101977983 B1 KR101977983 B1 KR 101977983B1 KR 1020180122863 A KR1020180122863 A KR 1020180122863A KR 20180122863 A KR20180122863 A KR 20180122863A KR 101977983 B1 KR101977983 B1 KR 101977983B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
unit
gas
cyclone
noxious gas
Prior art date
Application number
KR1020180122863A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박홍구
박보근
박병노
오충현
Original Assignee
박홍구
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 박홍구 filed Critical 박홍구
Priority to KR1020180122863A priority Critical patent/KR101977983B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101977983B1 publication Critical patent/KR101977983B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D50/00Combinations of methods or devices for separating particles from gases or vapours
    • B01D50/10Combinations of devices covered by groups B01D45/00, B01D46/00 and B01D47/00
    • B01D50/008
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D46/00Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/0027Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with additional separating or treating functions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06Spray cleaning
    • B01D47/063Spray cleaning with two or more jets impinging against each other
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B04CENTRIFUGAL APPARATUS OR MACHINES FOR CARRYING-OUT PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES
    • B04CAPPARATUS USING FREE VORTEX FLOW, e.g. CYCLONES
    • B04C9/00Combinations with other devices, e.g. fans, expansion chambers, diffusors, water locks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B04CENTRIFUGAL APPARATUS OR MACHINES FOR CARRYING-OUT PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES
    • B04CAPPARATUS USING FREE VORTEX FLOW, e.g. CYCLONES
    • B04C9/00Combinations with other devices, e.g. fans, expansion chambers, diffusors, water locks
    • B04C2009/002Combinations with other devices, e.g. fans, expansion chambers, diffusors, water locks with external filters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B04CENTRIFUGAL APPARATUS OR MACHINES FOR CARRYING-OUT PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES
    • B04CAPPARATUS USING FREE VORTEX FLOW, e.g. CYCLONES
    • B04C9/00Combinations with other devices, e.g. fans, expansion chambers, diffusors, water locks
    • B04C2009/008Combinations with other devices, e.g. fans, expansion chambers, diffusors, water locks with injection or suction of gas or liquid into the cyclone

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Separation Of Particles Using Liquids (AREA)

Abstract

The purpose of the present invention is to provide a wet scrubber which uses cyclone rotation and whirls to improve a purifying processing efficiency of harmful gases. According to one embodiment of the present invention, the wet scrubber comprises: a gas inducing and cleaning unit which cleans harmful gases introduced therein to primarily purify the same; and a filtering unit which filters residual gases remaining in the gas inducing and cleaning unit and upwardly moving to secondarily purify the same. The gas inducing and cleaning unit comprises: a hopper unit which comprises a cleaning neck unit formed to have a cross section narrower than that of a cleaning main body unit, and a cleaning slanting unit slantingly connecting the cleaning main body unit to the cleaning neck unit and inducing whirls; a cyclone rotating unit which is provided on the hopper unit and induces a cyclone rotation of flows of harmful gases introduced therein; a first cleaning nozzle which is induced between the cleaning main body unit and the outside of the cyclone rotation unit to inject water for cleaning harmful gases cyclone-rotating; and a second cleaning nozzle which injects water to clean residual gases flowing toward the filtering unit through the inside of the cyclone rotating unit.

Description

싸이클론 회전부를 포함하는 웨트 스크러버 {WET SCRUBBER INCLUDING CYCLONE ROTATORY PART}WET SCRUBBER INCLUDING CYCLONE ROTATORY PART WITH CYCLONE ROTATION SECTION

본 발명은 스크러버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 유해 가스를 정화 처리할 수 있는 웨트 스크러버에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a scrubber, and more particularly, to a wet scrubber capable of purifying a noxious gas.

유해 가스를 처리하는 기계 장치 중의 하나인 스크러버(scrubber)는 그 처리 방식에 따라 번-웨트(Burn-Wet), 번-필터(Burn-Filter), 건식(Dry), 습식(Wet) 등으로 분류될 수 있다. 이러한 종류들 중에서 습식 스크러버, 즉 웨트 스크러버는 반도체 생산을 위한 설비 등에 마련되며, 공정 중에 발생되는 유해가스를 처리하여 정화시킨다. 웨트 스크러버는 외관을 이루는 스크러버 바디와 정화 작용을 위하여 스크러버 바디 내에 마련되는 물 분사 노즐, 폴링, 데미스터 등의 구성을 포함한다.The scrubber, which is one of the machinery for treating harmful gas, is divided into Burn-Wet, Burn-Filter, Dry and Wet according to the treatment method. . Of these types, a wet scrubber, that is, a wet scrubber, is provided on a facility for semiconductor production, etc., and treats harmful gases generated during the process and purifies it. The wet scrubber includes a scrubber body that forms an appearance and a water injection nozzle, a poling, a demister, and the like provided in the scrubber body for purifying action.

통상의 웨트 스크러버의 동작 원리는 다음과 같다. 웨트 스크러버의 스크러버 바디 내로 유입되는 유해 가스는 스크러버 바디 내에서 상부로 향하게 되는데, 이때, 물 분사 노즐이 유해가스를 향해 물을 분사한다. 물의 분사로 인해 유해 가스로부터 흡착된 흡착 물질은 스크러버 바디 내의 폴링에 수집되고, 증기는 데미스터로 향하여 그 속의 수분이 제거될 수 있다.The operation principle of a conventional wet scrubber is as follows. The noxious gas flowing into the scrubber body of the wet scrubber is directed upward in the scrubber body, at which time the water jet nozzle injects water towards the noxious gas. The adsorbed material adsorbed from the noxious gas due to the injection of water is collected in the polling in the scrubber body, and the moisture can be removed toward the demister.

이와 같은 동작으로 유해 가스의 정화 처리가 완료된 처리 가스는 스크러버 바디의 상부 영역에 마련되는 블로워 유닛이 동작됨에 따라 배기부를 통해 배기될 수 있다.In this way, the process gas having been subjected to the purification process of the noxious gas can be exhausted through the exhaust unit as the blower unit provided in the upper region of the scrubber body is operated.

한편, 전술한 바와 같이, 웨트 스크러버는 폴링, 데미스터 등의 구성을 구비하고 있는 것이 보편적이지만 실질적으로 유해 가스를 정화 처리하는 효율이 다소 떨어지고, 폴링을 수시로 교체하여야 하는 등 유지 관리 비용도 많이 들 수 있다.On the other hand, as described above, the wet scrubber is generally equipped with a configuration such as polling and demister. However, the efficiency of purifying the harmful gas is somewhat lowered and the maintenance cost is also increased .

본 발명은 상술한 기술적 과제를 해결하기 위한 것으로써, 본 발명의 목적은 싸이클론 회전 및 소용돌이를 이용하여 유해 가스의 정화 처리 효율을 높일 수 있는 웨트 스크러버를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a wet scrubber which can increase the efficiency of the purification treatment of noxious gas using cyclone rotation and vortexing.

본 발명의 실시 예에 따른 웨트 스크러버는, 내부로 유입된 유해 가스를 세정하여 1차 정화 처리하는 가스유도 및 세정 유닛; 및 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 필터링 유닛을 포함하되, 상기 가스유도 및 세정 유닛은, 세정 본체부보다 단면적이 좁게 형성되는 세정 네크부와, 상기 세정 본체부와 상기 세정 네크부를 경사지게 연결하여 소용돌이를 유도하는 세정 경사부를 구비하는 호퍼부; 상기 호퍼부 위에 마련되며, 상기 내부로 유입된 유해 가스의 흐름의 싸이클론 회전을 유도하는 싸이클론 회전부; 상기 세정 본체부와 상기 싸이클론 회전부 외부 사이로 유도되어 싸이클론 회전하는 유해 가스를 세정하기 위해 물을 분사하는 제 1 세정 노즐; 및 상기 싸이클론 회전부 내부를 통해 상기 필터링 유닛으로 향해 흐르는 잔류 가스를 세정하기 위해 물을 분사하는 제 2 세정 노즐을 포함한다. A wet scrubber according to an embodiment of the present invention includes: a gas guiding and cleaning unit for cleaning a noxious gas introduced into the inside thereof for a first purification treatment; And a filtering unit for performing a second purification treatment by filtering residual gas that is remained in the gas induction and washing unit and moving upward, wherein the gas induction and washing unit comprises: a washing neck portion having a narrower sectional area than the washing body portion; A hopper portion having a cleaning inclined portion for inclining the cleaning main body portion and the cleaning neck portion to induce a vortex; A cyclone rotating part provided on the hopper part and inducing cyclone rotation of the flow of noxious gas introduced into the inside of the hopper part; A first cleaning nozzle for spraying water to clean the noxious gas induced between the cleaning main body and the outside of the cyclone rotating part and cyclone rotating; And a second cleaning nozzle for spraying water to clean the residual gas flowing toward the filtering unit through the inside of the cyclone rotating part.

실시 예로서, 상기 싸이클론 회전부는, 원기둥 모양의 하부 수직부; 및 하부 수직부의 상단에서 경사지게 배치되고 상기 하부 수직부 방향으로 내려 갈수록 상기 내부로 유입된 유해 가스의 회전 공간을 넓게 형성하는 상부 경사부를 포함할 수 있다. 상기 제 1 세정 노즐은 상기 하부 수직부를 회전하는 유해 가스를 향해 상기 하부 수직부의 접선 방향으로 물을 분사할 수 있다. 상기 제 2 세정 노즐은 상기 상부 경사부에 설치되며, 상기 필터링 유닛으로 향하는 잔류 가스에 물을 분사하기 위한 복수의 노즐을 구비할 수 있다. 상기 복수의 노즐은 T자형 구조로 배치될 수 있다.In an embodiment, the cyclone rotating part includes: a cylindrical vertical lower part; And an upper inclined portion which is inclined at an upper end of the lower vertical portion and forms a larger rotation space of the noxious gas introduced into the lower portion toward the lower vertical portion. The first cleaning nozzle may inject water in a tangential direction of the lower vertical portion toward the noxious gas rotating in the lower vertical portion. The second cleaning nozzle may include a plurality of nozzles for spraying water on the residual gas directed to the filtering unit, the nozzles being installed on the upper inclined portion. The plurality of nozzles may be arranged in a T-shaped structure.

실시 예로서, 상기 필터링 유닛은, 하단부에 상기 가스유도 및 세정 유닛의 제 1 플랜지와 착탈 가능하게 플랜지 결합되는 제 2 플랜지가 형성되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하는 장소를 형성하는 필터링 유닛 케이싱; 및 상기 필터링 유닛 케이싱 내에 마련되어 상기 잔류 가스를 필터링하는 필터 모듈을 포함할 수 있다. 상기 필터 모듈은 내부가 일체로 되어 상기 필터 모듈 전체를 세정할 수 있도록 한 나선형 필터모듈 또는 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터 모듈일 수 있다.As an embodiment, the filtering unit may include a second flange formed at a lower end thereof to be detachably flange-coupled to a first flange of the gas introducing and cleaning unit, the residual gas being remained in the gas guiding and cleaning unit A filtering unit casing forming a place for filtering; And a filter module provided in the filtering unit casing to filter the residual gas. The filter module may be a helical filter module in which the inside of the filter module is cleaned to clean the entire filter module, or a stacked filter module that can separate and clean individual layers.

실시 예로서, 상기 웨트 스크러버는 상기 가스유도 및 세정 유닛의 하부에 결합되며, 보관된 물을 순환하기 위한 물 탱크 펌프 유닛을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 웨트 스크러버는 상기 필터링 유닛의 상부에 결합되며, 정화 처리가 완료된 처리 가스가 배출되는 배출 유닛을 더 포함할 수 있다. 상기 배출 유닛은 상기 필터링 유닛을 세척하기 위한 세척 노즐을 포함하고, 상기 세척 노즐은 필요한 경우에만 사용하도록 잠금 장치가 설치될 수 있다.In an embodiment, the wet scrubber may further comprise a water tank pump unit coupled to a lower portion of the gas guiding and cleaning unit, for circulating the stored water. The wet scrubber may further include an exhaust unit coupled to an upper portion of the filtering unit, through which the purge-processed process gas is exhausted. The discharge unit includes a cleaning nozzle for cleaning the filtering unit, and the cleaning nozzle may be provided with a locking device for use only when necessary.

본 발명의 실시 예에 따르면, 싸이클론 회전부의 회전력, 호퍼부의 소용돌이회전력, 그리고 세정부의 물 분사 세정력에 의해 유해 가스를 정화 처리함으로, 기존의 스크러버에 비해 정화 처리 효율을 높일 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the cleaning efficiency of the scrubber can be improved compared to the conventional scrubber by treating the harmful gas by the rotating force of the cyclone rotating part, the swirl rotating force of the hopper part, and the water jet washing power of the washing part.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 웨트 스크러버의 구조를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 웨트 스크러버에서 가스의 흐름을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3d는 도 1 및 도 2에 도시된 세정 노즐과 세척 노즐을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4 내지 도 7은 도 1 및 도 2에 도시된 필터링 유닛의 나선형 필터 모듈을 보여주는 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 웨트 스크러버에 적용되는 적층형 필터 모듈의 개략적인 내부 구조도이다.
1 is a cross-sectional view showing a structure of a wet scrubber according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view for explaining the flow of gas in the wet scrubber of Fig. 1;
FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views illustrating the cleaning nozzle and the cleaning nozzle shown in FIGS. 1 and 2. FIG.
Figs. 4 to 7 are views showing the spiral filter module of the filtering unit shown in Figs. 1 and 2. Fig.
8 is a schematic internal structure of a stacked filter module applied to a wet scrubber according to another embodiment of the present invention.

이하에서, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로, 본 발명의 실시 예들이 명확하고 상세하게 기재될 것이다.In the following, embodiments of the present invention will be described in detail and in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 웨트 스크러버의 구조를 보여주는 단면도이다. 도 1에 도시된 웨트 스크러버(100)는 유해 가스를 정화 처리할 수 있고, 기존의 스크러버보다 정화 처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 유지 관리 비용도 줄일 수 있다. 도 1을 참조하면, 웨트 스크러버(100)는 가스유도 및 세정 유닛(110), 물 탱크 및 펌프 유닛(150), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)을 포함할 수 있다. 1 is a cross-sectional view showing a structure of a wet scrubber according to an embodiment of the present invention. The wet scrubber 100 shown in FIG. 1 can purify noxious gas, improve cleaning treatment efficiency compared to conventional scrubbers, and reduce maintenance cost. 1, a wet scrubber 100 may include a gas induction and scrubbing unit 110, a water tank and pump unit 150, a filtering unit 160, and an exhaust unit 190.

가스유도 및 세정 유닛(110), 물 탱크 및 펌프 유닛(150), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)은 상호간 착탈 가능하게 플랜지 결합될 수 있다. 예를 들면, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)은 가스유도 및 세정 유닛(110) 측의 제 1 플랜지(122)와 필터링 유닛(160) 측의 제 2 플랜지(171)를 맞대어 두고 제 1 및 제 2 플랜지(122,171)에 볼트를 체결함으로써, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)을 결합시킬 수 있으며, 반대로 분해시킬 수 있다. 여기에서, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)은 반드시 플랜지 결합되는 것은 아니며, 플랜지 결합없이 하나의 본체로 구성될 수도 있다. The gas induction and cleaning unit 110, the water tank and pump unit 150, the filtering unit 160, and the discharge unit 190 may be detachably and flanably coupled to each other. For example, the gas induction and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 are connected to the first flange 122 on the gas induction and cleaning unit 110 side and the second flange 171 on the filtering unit 160 side By joining the bolts to the first and second flanges 122 and 171 in opposition to each other, the gas introducing and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 can be joined together and vice versa. Here, the gas induction and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 are not necessarily flanged, and may be composed of one body without flange connection.

마찬가지의 방법으로 필터링 유닛(160)과 배출 유닛(190) 역시, 필터링 유닛(160) 측의 제 3 플랜지(172)와 배출 유닛(190) 측의 제 4 플랜지(191)를 맞대어 두고 제 3 및 제 4 플랜지(172,191)에 볼트를 체결함으로써, 필터링 유닛(160)과 배출 유닛(190)을 결합시킬 수 있으며, 반대로 분해시킬 수 있다. 그리고 가스유도 및 세정 유닛(110)과 물 탱크 및 펌프 유닛(150)도 플랜지 결합될 수 있다.The filtering unit 160 and the discharging unit 190 are also arranged so that the third flange 172 on the side of the filtering unit 160 and the fourth flange 191 on the side of the discharging unit 190 face each other, By fastening the bolts to the fourth flanges 172 and 191, the filtering unit 160 and the discharge unit 190 can be engaged and vice versa. The gas induction and cleaning unit 110, the water tank, and the pump unit 150 may also be flanged.

이처럼 가스유도 및 세정 유닛(110), 물 탱크 및 펌프 유닛(150), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)이 상호간 착탈 가능하게 플랜지 결합될 경우, 해당 유닛(110, 150, 160, 190)의 운반 혹은 유지 보수가 수월해지는 이점이 있다. 특히, 필터링 유닛(160) 내에 마련되는 필터 모듈(180)의 세척 작업이나 교체 작업이 매우 수월해질 수 있는 이점이 있다.When the gas induction and washing unit 110, the water tank and the pump unit 150, the filtering unit 160 and the discharge unit 190 are detachably and flanably coupled to each other, the units 110, 150, 160, 190) is easy to carry or maintain. Particularly, there is an advantage that the cleaning operation or the replacement operation of the filter module 180 provided in the filtering unit 160 can be greatly facilitated.

도 2는 도 1의 웨트 스크러버에서 가스의 흐름을 설명하기 위한 단면도이다. 도 2를 참조하면, 가스유도 및 세정 유닛(110)은 호퍼부(120), 싸이클론 회전부(130), 그리고 세정부(140)를 포함할 수 있다. 가스유도 및 세정 유닛(110)은 가스 주입구(gas inlet, 111)를 통해 유해 가스를 내부로 유도시킨 후, 싸이클론 회전력(cyclone rotatory power) 및 소용돌이(vortex)을 이용하여 세정하여 1차 정화 처리하는 역할을 한다. 도 2에서 빨간색 점선으로 표시한 것은 가스 주입구(111)를 통해 유입된 가스의 흐름과 방향을 표시한 것이다. Fig. 2 is a cross-sectional view for explaining the flow of gas in the wet scrubber of Fig. 1; Referring to FIG. 2, the gas induction and washing unit 110 may include a hopper unit 120, a cyclone rotating unit 130, and a cleaning unit 140. The gas induction and cleaning unit 110 is configured to induce a harmful gas through a gas inlet 111 and then to clean it using a cyclone rotatory power and a vortex to perform a primary purification treatment . In FIG. 2, a red dotted line indicates the flow and direction of the gas introduced through the gas inlet 111.

세정 유닛 케이싱(121)은 가스유도 및 세정 유닛(110)의 외관을 이루는데, 단순한 원통형 구조물에서 벗어나 병을 뒤집어 놓은 것과 같은 구조를 갖는다. 세정 유닛 케이싱(121)의 상부는 필터링 유닛(160)과 결합되고, 하부는 물 탱크 및 펌프 유닛((150)과 결합될 수 있다. 세정 유닛 케이싱(121)은 상부에서 하부로 내려가면서 단면적이 좁게 형성되는 구조를 가짐으로, 가스의 회전력을 높이고 가스의 흐름을 원활하게 할 수 있다. 세정 유닛 케이싱(121)의 하단부에는 호퍼부(120)가 마련되고, 상단부에는 싸이클론 회전부(130)가 구성될 수 있다.The cleaning unit casing 121 forms the appearance of the gas guiding and cleaning unit 110, and has a structure such that the bottle is turned upside down from a simple cylindrical structure. The upper part of the cleaning unit casing 121 is coupled with the filtering unit 160 and the lower part can be coupled with the water tank and the pump unit 150. The cleaning unit casing 121 has a cross- The cleaning unit casing 121 is provided with a hopper part 120 at the lower end thereof and a cyclone rotating part 130 at the upper end thereof. Lt; / RTI >

호퍼부(120)은 세정 네크부(123)와 세정 경사부(124)를 포함한다. 세정 네크부(123)는 세정 유닛 케이싱(121)의 세정 본체부보다 단면적이 좁은 원기둥 모양으로 구성될 수 있다. 세정 경사부(124)는 원뿔대 모양으로 구성되고, 세정 본체부과 세정 네크부(123)를 경사지게 연결할 수 있다. 호퍼부(120)가 세정 네크부(123) 및 세정 경사부(124)의 구조를 가질 경우, 싸이클론 회전부(130)를 통과한 가스의 소용돌이(vortex)를 일으켜 가스의 회전력을 극대화하고 집진 효율을 높일 수 있다. The hopper portion 120 includes a cleaning neck portion 123 and a cleaning slope portion 124. The cleaning neck portion 123 may have a cylindrical shape having a narrower sectional area than that of the cleaning main body portion of the cleaning unit casing 121. The cleaning inclined portion 124 is formed in a truncated conical shape, and the cleaning main body portion and the cleaning neck portion 123 can be inclinedly connected. When the hopper part 120 has the structure of the cleaning neck part 123 and the cleaning slope part 124, the vortex of the gas passing through the cyclone rotating part 130 is generated to maximize the rotational force of the gas, .

싸이클론 회전부(130)는 호퍼부(120) 위에 배치될 수 있다. 싸이클론 회전부(130)는 도 2의 화살표처럼 가스의 회전을 유도하는 역할을 한다. 싸이클론 회전부(130)는 가스 주입구(111)를 통해 주입된 가스의 회전력을 유지하고, 가스의 흐름이 바깥쪽으로 향하도록 한다. 싸이클론 회전부(130)는 원기둥 모양으로 구성되고 단면이 수직하게 형성되는 하부 수직부(131)와, 하부 수직부(131)의 상단에 원뿔대 모양으로 경사지게 배치되는 상부 경사부(132)를 포함할 수 있다. 싸이클론 회전부(130)의 상부 경사부(132)는 아래로 갈수록 가스의 회전 공간을 넓게 형성함으로, 가스의 회전 흐름을 원할하게 유도할 수 있다. The cyclone rotating part 130 may be disposed on the hopper part 120. The cyclone rotating part 130 serves to induce the rotation of the gas as shown by an arrow in Fig. The cyclone rotating part 130 maintains the rotational force of the gas injected through the gas injection port 111, so that the flow of the gas is directed to the outside. The cyclone rotating part 130 includes a lower vertical part 131 formed in a cylindrical shape and having a vertically formed cross section and an upper inclined part 132 disposed at an upper end of the lower vertical part 131 in a truncated conical shape . Since the upper inclined portion 132 of the cyclone rotating portion 130 forms a larger space for rotating the gas as it goes downward, the rotation flow of the gas can be guided smoothly.

싸이클론 회전부(130)에는 세정부(140)가 구비될 수 있다. 세정부(140)는 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)을 포함할 수 있다. 제 1 세정 노즐(141)은 세정 유닛 케이싱(121)과 싸이클론 회전부(130) 사이에 배치되어 이곳을 따라 흐르는 유해 가스를 향해 물을 분사함으로써 유해 가스를 1차로 세정하는 역할을 한다. 제 1 세정 노즐(141)는 가스의 흐름을 방해하지 않고 세정 효율을 극대화할 수 있는 분사 방향을 가질 수 있다. 제 2 세정 노즐(142)은 필터링 유닛(160)으로 향하는 유해 가스를 향해 물을 분사함으로 2차로 세정하는 역할을 한다. 제 2 세정 노즐(142)은 복수의 노즐을 가질 수 있다. The cyclone rotating part 130 may be provided with a cleaning part 140. The cleaning section 140 may include first and second cleaning nozzles 141 and 142. The first cleaning nozzle 141 is disposed between the cleaning unit casing 121 and the cyclone rotation unit 130 and serves to clean the noxious gas first by spraying water toward the noxious gas flowing along the cleaning unit casing 121. The first cleaning nozzle 141 can have a spraying direction capable of maximizing the cleaning efficiency without disturbing the flow of the gas. The second cleaning nozzle 142 serves to clean secondarily by spraying water toward the harmful gas directed to the filtering unit 160. The second cleaning nozzle 142 may have a plurality of nozzles.

도 2의 예에서, 제 2 세정 노즐(142)은 일자형 구조를 갖고 3개의 노즐을 포함하고 있다. 제 2 세정 노즐(142)은 일자형 구조 외에도 T자형 또는 Y자형 구조를 가질 수도 있다. 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)의 구성 및 동작 원리는 도 3a 내지 도 3c에서 좀 더 자세하게 설명될 것이다. 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)의 작용에 의해 정화 처리된 드레인 수(drain water)는 물 탱크 및 펌프 유닛(150)으로 드레인될 수 있다.In the example of Fig. 2, the second cleaning nozzle 142 has a straight structure and includes three nozzles. The second cleaning nozzle 142 may have a T-shaped or Y-shaped structure in addition to the straight type structure. The construction and operation principle of the first and second cleaning nozzles 141 and 142 will be described in more detail in FIGS. 3A to 3C. The drain water purified by the action of the first and second cleaning nozzles 141 and 142 can be drained to the water tank and the pump unit 150. [

물 탱크 및 펌프 유닛(150)은 물 탱크(151), 펌프(152), 그리고 배관(153)을 포함할 수 있다. 물 탱크(151)에 있는 물은 펌프(151)의 순환 작용에 의해 배관(153)을 통해 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)로 흐를 수 있다. 물 탱크(151)에 있는 물은 배관(153)을 통해 순환하고, 순환 과정에서 가스에 포함된 먼지나 유해 물질이 포집될 수 있다. 물에 의해 포집된 먼지나 유해 물질은 물 탱크(151)에 침전될 수 있다. 물 탱크 및 펌프 유닛(150)은 침전물 등을 제거하고 물을 교환하기 위해 물 드레인(water drain)을 구비할 수 있다. The water tank and pump unit 150 may include a water tank 151, a pump 152, and a pipe 153. The water in the water tank 151 can flow to the first and second cleaning nozzles 141 and 142 through the pipe 153 by the circulation action of the pump 151. [ Water in the water tank 151 circulates through the pipe 153, and dust or toxic substances contained in the gas can be collected during the circulation process. The dust or harmful substances collected by the water can be deposited in the water tank 151. The water tank and pump unit 150 may have a water drain to remove deposits and the like and to exchange water.

계속해서 도 2를 참조하면, 필터링 유닛(160)은 가스유도 및 세정 유닛(110)의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하여 2차 정화 처리하는 역할을 한다. 이러한 필터링 유닛(160)은 필터링 유닛 케이싱(170)과, 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 마련되어 잔류 가스를 필터링하는 필터 모듈(180)을 포함할 수 있다.2, the filtering unit 160 is detachably coupled to the top of the gas induction and scrubbing unit 110 and filters the residual gas that is remnant and uptake in the gas scrubbing and scrubbing unit 110 And performs secondary purification treatment. This filtering unit 160 may include a filtering unit casing 170 and a filter module 180 provided in the filtering unit casing 170 to filter the residual gas.

필터링 유닛 케이싱(170)은 필터링 유닛(160)의 외관을 이루되 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하는 장소를 형성한다. 앞에서 설명한 바와 같이, 필터링 유닛 케이싱(170)의 하단부와 상단부에는 각각 제 2 및 제 3 플랜지(171,172)가 마련되어 가스유도 및 세정 유닛(110) 및 배출 유닛(190)과 착탈될 수 있다. 필터링 유닛 케이싱(170)의 측부에는 필터링 유닛 케이싱(170)의 핸들링을 위한 러그(173)가 결합될 수 있다.The filtering unit casing 170 forms an appearance of the filtering unit 160 and forms a place for filtering residual gas that remains and is moved upward in the gas introducing and cleaning unit 110. The second and third flanges 171 and 172 are provided at the lower end and the upper end of the filtering unit casing 170 and can be attached to and detached from the gas induction and washing unit 110 and the discharge unit 190. A lug 173 for handling the filtering unit casing 170 may be coupled to the side of the filtering unit casing 170.

필터 모듈(180)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 마련되며, 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 실질적으로 필터링하는 역할을 한다. 필터 모듈(180)의 구성 및 동작 원리는 도 4 내지 도 8을 참조하여 좀 더 자세하게 설명될 것이다. 필터 모듈(180)을 통해 2차로 정화 처리된 처리 가스가 비로소 배출 유닛(190)을 통해 배출될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서 필터 모듈(180)은 내부가 일체로 되어 전체를 탈착한 후 세정할 수 있도록 한 나선형 필터 모듈(180)일 수 있다.The filter module 180 is provided in the filtering unit casing 170 and serves to substantially filter the residual gas that remains and is moved up in the gas induction and cleaning unit 110. The construction and operation principle of the filter module 180 will be described in more detail with reference to FIGS. The process gas that has been secondarily purified through the filter module 180 can be discharged through the discharge unit 190. In the embodiment of the present invention, the filter module 180 may be a helical filter module 180 that is integrated with the inside of the filter module 180 so that the filter module 180 can be detached and cleaned.

배출 유닛(190)은 필터링 유닛(160)의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 정화 처리가 완료된 처리 가스를 배출할 수 있다. 배출 유닛(190)은 배출 유닛 케이싱(192)과 세척 노즐(193)을 포함할 수 있다. 세척 노즐(193)은 물 탱크 및 펌프 유닛(150)의 배관(153)에 연결되고, 필요한 경우에만 사용할 수 있도록 잠금 장치가 마련될 수 있다. 세척 노즐(193)은 일자형 구조를 갖고 3개의 노즐을 포함하고 있다. 세척 노즐(193)은 일자형 구조 외에도 T자형 또는 Y자형 구조를 가질 수도 있다. 세척 노즐(193)의 구성 및 동작 원리는 도 3d에서 좀 더 자세하게 설명될 것이다. 배출 유닛(190)은 데미스터(197)를 추가로 설치할 수 있다. 또한, 배출 유닛(190)은 데미스터(197)를 투입하거나 교체하기 위한 점검구를 배출 유닛 케이싱(192)에 설치할 수 있다. The discharge unit 190 is detachably coupled to the upper portion of the filtering unit 160 and can discharge the process gas that has been subjected to the purge process. The discharge unit 190 may include a discharge unit casing 192 and a cleaning nozzle 193. The cleaning nozzle 193 is connected to the pipe 153 of the water tank and the pump unit 150 and may be provided with a locking device for use only when necessary. The cleaning nozzle 193 has a straight structure and includes three nozzles. The cleaning nozzle 193 may have a T-shaped or Y-shaped structure in addition to the straight type structure. The construction and operation principle of the cleaning nozzle 193 will be described in more detail in Fig. The discharge unit 190 may further include a demister 197. Further, the discharge unit 190 can be provided with a check port for inputting or replacing the demister 197 in the discharge unit casing 192.

본 발명의 실시 예에 따른 웨트 스크러버(100)는 싸이클론 회전부(130)의 싸이클론 회전력, 호퍼부(120)의 소용돌이 회전력, 그리고 세정부(140)의 물 분사 세정력에 의해 1차로 정화 처리할 수 있다. 그리고 웨트 스크러버(100)는 필터 모듈(180)을 구비하는 필터링 유닛(160)에서 2차로 정화 처리된 후, 배출 유닛(190)으로 배출함으로 기존의 스크러버보다 정화 처리 효율을 높일 수 있다. 특히, 이와 같은 방식이 적용될 경우, 유해 가스인 Sox, Co 저감에 유리할 뿐만 아니라 악취 처리에 탁월하며, 유지 관리가 용이하다. 그리고 구조물이 높이 방향으로 세워지는 형태이기 때문에 설치 면적을 좁게 할 수 있다.The wet scrubbers 100 according to the embodiment of the present invention are subjected to the first purification treatment by the cyclone rotary force of the cyclone rotary part 130, the swirl rotary force of the hopper part 120, and the water jet cleaning force of the cleaning part 140 . The wet scrubber 100 is subjected to a secondary purification treatment in the filtering unit 160 having the filter module 180 and then discharged to the discharge unit 190, thereby improving the purification treatment efficiency compared to the conventional scrubber. In particular, when such a method is applied, it is advantageous in reducing harmful gases such as Sox and Co, is excellent in odor treatment, and is easy to maintain. Since the structure is formed in the height direction, the installation area can be narrowed.

도 3a 내지 도 3d는 도 1 및 도 2에 도시된 세정 노즐과 세척 노즐을 설명하기 위한 단면도이다. 도 3a는 제 1 세정 노즐(141)을 보여주고, 도 3b는 제 2 세정 노즐(142)을 보여주고, 도 3c는 제 2 세정 노즐(143)의 분사 범위를 보여준다. 그리고 도 3d는 세척 노즐(193)을 보여준다.FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views illustrating the cleaning nozzle and the cleaning nozzle shown in FIGS. 1 and 2. FIG. FIG. 3A shows a first cleaning nozzle 141, FIG. 3B shows a second cleaning nozzle 142, and FIG. 3C shows a spraying range of the second cleaning nozzle 143. And Figure 3d shows the cleaning nozzle 193.

도 3a를 참조하면, 제 1 세정 노즐(141)은 세정 본체부(121)에 설치되고, 배관(153)으로부터 A 거리에 위치하며, 싸이클론 회전부(130)의 하부 수직부(131)에 접선 방향으로 물을 분사할 수 있다. 제 1 세정 노즐(141)의 위치와 분사 방향은 가스의 흐름을 방해하지 않고 세정 효율을 최대로 높일 수 있도록 많은 실험을 통해 얻은 것이다. 예를 들면, 제 1 세정 노즐(141)은 배관(153)에서 약 305mm 거리(A=305)에 있고, 중심 방향에서 약 54각도(a=54)의 분사 방향을 가질 때 가스의 흐름을 최소하고 세정 효율을 최대로 높일 수 있다.3A, the first cleaning nozzle 141 is provided at the cleaning main body 121 and is located at a distance A from the pipe 153, and is tangent to the lower vertical portion 131 of the cyclone rotating portion 130 Water can be sprayed in the direction of the arrow. The position and the spraying direction of the first cleaning nozzle 141 are obtained through many experiments so as to maximize the cleaning efficiency without interfering with the gas flow. For example, when the first cleaning nozzle 141 is at a distance of about 305 mm (A = 305) from the pipe 153 and has an ejection direction of about 54 angles (a = 54) in the center direction, And the cleaning efficiency can be maximized.

도 3b를 참조하면, 제 2 세정 노즐(142)은 필터링 유닛(160)으로 향하는 유해 가스를 향해 물을 분사함으로 2차로 세정하는 역할을 한다. 제 2 세정 노즐(142)은 노즐의 위치에 따라 일자형, T자형, Y자형 등 여러 구조를 가질 수도 있다. 도 3b는 예로서 T자형 구조를 보여준다. 제 2 세정 노즐(142)은 배관(153)에서 B 거리에 위치하며, 세정 본체부(121)와 싸이클론 회전부(130)의 상부 경사부(132)에 설치될 수 있다. 제 2 세정 노즐(142)는 제 1 내지 제 3 노즐(143, 144, 145)을 포함하고, 제 1 내지 제 3 노즐(143, 144, 145)은 T자형 구조를 갖도록 설치할 수 있다. Referring to FIG. 3B, the second cleaning nozzle 142 serves to clean secondarily by spraying water toward the noxious gas directed to the filtering unit 160. The second cleaning nozzle 142 may have various structures such as a straight shape, a T shape, and a Y shape depending on the position of the nozzle. FIG. 3B shows a T-shaped structure as an example. The second cleaning nozzle 142 is located at a distance B from the pipe 153 and may be installed in the cleaning main body 121 and the upper inclined portion 132 of the cyclonic rotary portion 130. The second cleaning nozzle 142 may include first to third nozzles 143, 144 and 145 and the first to third nozzles 143, 144 and 145 may have a T-shaped structure.

제 1 내지 제 3 노즐(143, 144, 145)은 위치와 분사 범위는 필터링 유닛(160)으로 향하는 가스의 세정 효율을 최대로 높일 수 있도록 많은 실험을 통해 얻은 것이다. 예를 들면, 제 2 세정 노즐(142)은 배관(153)에서 약 189mm 거리(B=189)에 있고, 도 3c에 도시된 바와 같은 분사 범위를 가질 때 세정 효율을 최대로 높일 수 있다.The position and the spray range of the first to third nozzles 143, 144, and 145 are obtained through many experiments so as to maximize the cleaning efficiency of the gas directed to the filtering unit 160. For example, the second cleaning nozzle 142 is at a distance of about 189 mm (B = 189) in the pipe 153, and can maximize the cleaning efficiency when the spraying range is as shown in FIG. 3C.

도 3d를 참조하면, 세척 노즐(193)은 필터링 유닛(160) 방향으로 물을 분사함으로 가스유도 및 세정 유닛(110) 및 필터링 유닛(160)을 세척하는 역할을 한다. 세척 노즐(193)은 노즐의 위치에 따라 일자형, T자형, Y자형 등 여러 구조를 가질 수도 있다. 도 3d는 예로서 T자형 구조를 보여준다. 세척 노즐(193)는 제 2 세정 노즐(142)과 마찬가지로, 배관(153)에서 B 거리에 위치하며, 배출 유닛 케이싱(192)에 설치될 수 있다. 세척 노즐(193)은 제 1 내지 제 3 노즐(194, 195, 196)을 포함하고, T자형 구조를 갖도록 설치할 수 있다. 세척 노즐(193)은 배관(153)에서 약 189mm 거리(B=189)에 있고, 도 3d에 도시된 바와 같은 분사 범위를 가질 때 세척 효율을 최대로 높일 수 있다.Referring to FIG. 3D, the cleaning nozzle 193 serves to clean the gas guiding and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 by spraying water toward the filtering unit 160. The cleaning nozzle 193 may have various structures such as a straight shape, a T shape, and a Y shape depending on the position of the nozzle. FIG. 3D shows a T-shaped structure as an example. Like the second cleaning nozzle 142, the cleaning nozzle 193 is located at a distance B from the pipe 153 and can be installed in the discharge unit casing 192. The cleaning nozzle 193 includes the first to third nozzles 194, 195, and 196, and may have a T-shaped structure. The cleaning nozzle 193 is at a distance of about 189 mm (B = 189) in the pipe 153, and can maximally improve the cleaning efficiency when having the jetting range as shown in FIG.

도 4 내지 도 7은 도 1 및 도 2에 도시된 필터링 유닛의 나선형 필터 모듈을 보여주는 도면이다. 도 4는 나선형 필터 모듈의 입체 이미지를 보여주고, 도 5는 도 4의 절단 이미지를 보여주고, 도 6은 나선형 필터 모듈의 개략적인 내부 구조도를 보여주고, 도 7은 나선형 필터 플레이트의 평면을 보여준다. 도 4 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 나선형 필터 모듈(180)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 배치되는 제 1 모듈 하우징(181)과, 제 1 모듈 하우징(181) 내에서 나선형으로 서로 연결되어 배열되되 판면에 복수의 튜브(183)가 형성되는 나선형 필터 플레이트(182)를 포함할 수 있다.Figs. 4 to 7 are views showing the spiral filter module of the filtering unit shown in Figs. 1 and 2. Fig. Fig. 4 shows the three-dimensional image of the helical filter module, Fig. 5 shows the cut-away image of Fig. 4, Fig. 6 shows a schematic internal structure of the helical filter module, and Fig. 7 shows the plane of the helical filter plate . 4 to 7, the helical filter module 180 includes a first module housing 181 disposed within the filtering unit casing 170 and a second module housing 182 connected spirally within the first module housing 181 And a helical filter plate 182 on which a plurality of tubes 183 are formed.

이때, 나선형 필터 플레이트(182)는 전체가 연결된 구조를 가질 수 있다. 잔류 가스는 나선형 필터 모듈(180)을 지나면서 복수의 튜브(183)를 통과할 수 있다. 잔류 가스는 복수의 튜브(183)를 통과하면서 접촉되어 2차로 정화처리될 수 있다. 복수의 튜브(183)는 결과적으로 잔류 가스의 접촉 면적을 넓혀 가능한 많은 유해 물질이 흡착될 수 있도록 함으로써, 정화 효율을 높일 수 있다.At this time, the spiral filter plate 182 may have a structure in which the spiral filter plates 182 are integrally connected. The residual gas may pass through the plurality of tubes 183 through the helical filter module 180. The residual gas can be contacted while being passed through the plurality of tubes 183 and can be subjected to second purification treatment. As a result, the plurality of tubes 183 can enlarge the contact area of the residual gas so that as much harmful substances as possible can be adsorbed, thereby improving the purification efficiency.

제 1 모듈 하우징(181)의 상부에는 하우징 플랜지(181a)가 형성되어 제 3 플랜지(172) 및 제 4 플랜지(191)와 함께 결합되며, 측면에는 복수의 통공(181b)이 형성되어 필터 모듈(180)이 세척될 때 세척수가 제 1 모듈 하우징(181)의 외부로 배출되어 드레인될 수 있다.A housing flange 181a is formed on the upper part of the first module housing 181 and is coupled to the third flange 172 and the fourth flange 191. A plurality of through holes 181b are formed in the side surface of the first module housing 181, 180 are washed, the washing water may be discharged to the outside of the first module housing 181 and drained.

또한, 복수의 튜브(183)는 상하로 이웃하게 배치되는 튜브들끼리 어긋나게 배치됨으로써, 상향 잔류 가스가 곧바로 수직 상승하지 아니하고 상하의 필터 플레이트(182) 사이에 체류하는 시간을 연장시켜 복수의 튜브(183)에 유해 물질이 흡착될 확률을 높이게 된다. 바람직하게 복수의 튜브(183)는 필터 플레이트(182)의 상하부로 노출되도록 설치되나, 상부의 노출 길이가 더 길게 형성되는 것이 정화 효율을 높이는데 더욱 유리하다.The plurality of tubes 183 are arranged so as to be shifted from each other in the upper and lower adjacent tubes so that the upward residual gas does not directly rise vertically but extends the time between the upper and lower filter plates 182, The probability of the harmful substances being adsorbed is increased. Preferably, the plurality of tubes 183 are provided so as to be exposed to the upper and lower portions of the filter plate 182, but it is more advantageous to enhance the purification efficiency by forming the upper exposed length longer.

나선형 필터 모듈(180)의 세척시에는 배출 유닛(190)을 분리한 후 상부에서 세척수를 분사함으로써, 세척수가 복수의 튜브(183)을 통과하여 제 1 모듈 하우징(181) 측면의 복수의 통공(181b)을 통해 제 1 모듈 하우징(181) 외부로 배출되어 상부 드레인 라인(175)을 통해 드레인됨으로써, 세척이 간단히 이루어질 수 있어, 나선형 필터 모듈(180)의 반영구적인 사용이 가능하여 유지 관리 비용을 현저히 줄일 수 있다.When the spiral filter module 180 is washed, the washing water is sprayed from the upper part after detaching the discharging unit 190, so that the washing water passes through the plurality of tubes 183 and passes through the plurality of through holes The spiral filter module 180 can be used semi-permanently, so that the maintenance cost can be reduced, and the maintenance cost can be reduced. Further, the spiral filter module 180 can be easily cleaned by draining the first module housing 181 through the first module housing 181 and the upper drain line 175, Can be significantly reduced.

도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 웨트 스크러버에 적용되는 적층형 필터 모듈의 개략적인 내부 구조도이다. 도 8을 참조하면, 본 실시예의 경우, 필터 모듈(270)로서, 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터 모듈(270)을 적용하고 있다.8 is a schematic internal structure of a stacked filter module applied to a wet scrubber according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 8, in the present embodiment, a filter module 270 is applied as a filter module 270 in which individual layers can be separated and cleaned.

이러한 적층형 필터 모듈(270)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 배치되는 제 2 모듈 하우징(271)과, 제 2 모듈 하우징(271) 내에서 독립적으로 경사지게 층상 배열되며, 판면에 복수의 튜브(273)가 형성되는 복수의 적층형 필터 플레이트(272)와, 제 2 모듈 하우징(271)의 중앙 영역에서 복수의 적층형 필터 플레이트(272)를 개별적으로 고정시키는 플레이트 고정부(274)를 포함할 수 있다.The stacked filter module 270 includes a second module housing 271 disposed in the filtering unit casing 170 and a plurality of tubes 273 arranged on the plate surface in an independent slanting manner in the second module housing 271. [ And a plate fixing portion 274 for individually fixing the plurality of stacked filter plates 272 in the central region of the second module housing 271. [

한편, 앞선 실시예의 나선형 필터 모듈(180)은 전체적으로 이어진 하나의 나선형 필터 플레이트(182)를 적용하고 있기 때문에 필터 플레이트(182)를 각각 분리하여 세정하기는 어려우나 본 실시예의 적층형 필터 모듈(270)의 경우, 복수의 적층형 필터 플레이트(272)가 적용되고 있기 때문에 필요 시 개별층으로서의 적층형 필터 플레이트(272)를 분리하여 세정할 수 있어 편리할 수 있다. 다만 가스의 상향 흐름이 나선형 필터 모듈(180)에 비해 떨어질 수 있지만, 본 실시예가 적용되더라도 기존의 스크러버보다 정화 처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리 비용도 줄일 수 있다.In the meantime, since the spiral filter module 180 of the previous embodiment applies the spiral filter plate 182, which is formed as a whole, it is difficult to separate and clean the filter plate 182, but the filter module 182 of the stacked filter module 270 A plurality of stacked filter plates 272 are applied, so that it is possible to separate and clean the stacked filter plate 272 as an individual layer when necessary, which is convenient. However, even if the upward flow of the gas is lower than that of the helical filter module 180, the cleaning efficiency can be improved as compared with the conventional scrubber, and the maintenance cost can be reduced.

상술한 내용은 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 실시 예들이다. 본 발명은 상술한 실시 예들 이외에도, 단순하게 설계 변경되거나 용이하게 변경할 수 있는 실시 예들도 포함할 것이다. 또한, 본 발명은 실시 예들을 이용하여 용이하게 변형하여 실시할 수 있는 기술들도 포함될 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 실시 예들에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 할 것이다.The foregoing are specific embodiments for carrying out the present invention. The present invention may include, in addition to the above-described embodiments, embodiments that are simply designed or modified easily. In addition, the present invention will also include techniques that can be easily modified and implemented using the embodiments. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be determined by the claims equivalent to the claims of the present invention as well as the claims of the following.

Claims (6)

세정 유닛 케이싱에 설치된 가스 주입구를 통해 유해 가스를 유입받고, 상기 세정 유닛 케이싱 내부로 유입된 유해 가스가 하강하면서 싸이클론 회전을 하도록 유도하고, 상기 하강하면서 싸이클론 회전을 유해 가스를 향해 세정수를 분사함으로 1차 세정을 하고, 상기 1차 세정된 유해 가스가 소용돌이 회전을 하도록 유도하고, 상기 소용돌이 회전을 하면서 상승하는 유해 가스를 향해 세정수를 분사함으로 2차 세정하는 가스유도 및 세정 유닛;
상기 1차 및 2차 세정을 위한 세정수를 배관을 통해 상기 가스유도 및 세정 유닛으로 공급하기 위한 물 탱크 및 펌프 유닛;
상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 유해 가스를 필터링하여 정화 처리하는 필터링 유닛; 및
상기 필터링 유닛의 상부에 결합되며 정화 처리된 가스를 배출하는 배출 유닛을 포함하되
상기 가스유도 및 세정 유닛은,
상기 가스 주입구를 통해 유입된 유해 가스가 하강할수록 싸이클론 회전 공간이 넓어지도록 상기 세정 유닛 케이싱과 경사지게 형성되는 상부 경사부와, 상기 상부 경사부 아래에 형성되며 싸이클론 회전 공간이 일정하도록 원기둥 모양으로 형성되는 하부 수직부를 포함하는 싸이클론 회전부; 및
상기 싸이클론 회전부 아래에 형성되고 상기 세정 유닛 케이싱의 단면적이 아래로 내려갈수록 좁아지도록 경사지게 형성함으로 소용돌이 회전을 유도하는 세정 경사부와, 상기 세정 경사부 아래 형성되고 상기 세정 유닛 케이싱의 단면적이 일정하게 유지되는 세정 네크부를 포함하는 호퍼부;
상기 싸이클론 회전부에서 싸이클론 회전을 하는 유해 가스를 세정하기 위해 세정수를 분사하는 제 1 세정 노즐; 및
상기 소용돌이 회전을 하면서 상승하는 유해 가스를 세정하기 위해 세정수를 분사하는 제 2 세정 노즐을 포함하는 웨트 스크러버.
The noxious gas flows into the cleaning unit casing through the gas inlet port provided in the cleaning unit casing and induces the noxious gas flowing into the cleaning unit casing to rotate cyclone while being lowered so that the cyclone rotates the cleaning water toward the noxious gas A gas guiding and cleaning unit for performing primary cleaning by spraying, guiding the primary cleaned noxious gas to vortex rotation, and secondary cleaning by spraying cleaning water toward rising noxious gas while rotating the vortex;
A water tank and a pump unit for supplying cleaning water for the primary and secondary cleaning to the gas guiding and cleaning unit through a pipe;
A filtering unit for filtering and purifying the noxious gas which is remained in the gas induction and washing unit and moved upward; And
And a discharge unit coupled to an upper portion of the filtering unit and discharging purge gas
The gas-guiding and cleaning unit comprises:
An upper inclined portion formed to be inclined with respect to the cleaning unit casing so that the cyclone rotating space is widened as the noxious gas introduced through the gas injection port is lowered and a cylindrical inclined portion formed below the upper inclined portion and having a cylindrical shape A cyclone rotating part including a lower vertical part to be formed; And
A cleaning inclined portion formed below the cyclone rotating portion and inclined so that the cross sectional area of the cleaning unit casing becomes narrower as it goes downward, thereby to induce the rotation of the vortex; and a cleaning inclined portion formed below the cleaning inclined portion, A hopper portion including a cleaning neck portion to be held;
A first cleaning nozzle for spraying cleaning water to clean the noxious gas rotating in the cyclone at the cyclone rotating part; And
And a second cleaning nozzle for spraying cleaning water for cleaning the noxious gas rising while rotating the vortex.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 세정 노즐은 상기 하부 수직부를 회전하는 유해 가스를 향해, 원기둥 모양으로 형성된 상기 하부 수직부의 접선 방향으로 물을 분사하는 웨트 스크러버.
The method according to claim 1,
Wherein the first cleaning nozzle injects water in a tangential direction of the lower vertical portion formed in a cylindrical shape toward the noxious gas rotating in the lower vertical portion.
제 2 항에 있어서,
상기 제 1 세정 노즐이 물을 분사하는 각도는 중심에서 54도 각도인 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
3. The method of claim 2,
Wherein the angle at which the first cleaning nozzle injects water is at an angle of 54 degrees from the center.
제 2 항에 있어서,
상기 제 2 세정 노즐은 상기 상부 경사부에 설치되며, 상기 필터링 유닛으로 향하는 유해 가스에 물을 분사하기 위한 제 1 내지 제 3 노즐을 구비하고, 상기 제 1 내지 제 3 노즐은 T자형 구조로 배치되는 웨트 스크러버.
3. The method of claim 2,
The second cleaning nozzle is provided in the upper inclined portion and includes first to third nozzles for spraying water onto the noxious gas directed to the filtering unit, and the first to third nozzles are arranged in a T- Wet scrubber.
제 1 항에 있어서,
상기 필터링 유닛은,
상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 유해 가스를 필터링하는 장소를 형성하는 필터링 유닛 케이싱; 및
상기 필터링 유닛 케이싱 내에 마련되어 상기 유해 가스를 필터링하는 나선형 필터 모듈을 포함하는 웨트 스크러버.
The method according to claim 1,
Wherein the filtering unit comprises:
A filtering unit casing forming a place for filtering the noxious gas which is remained in the gas induction and washing unit and moved upward; And
And a helical filter module provided in the filtering unit casing to filter the noxious gas.
제 1 항에 있어서,
상기 배출 유닛은 상기 필터링 유닛을 세척하기 위한 세척 노즐을 포함하고, 상기 세척 노즐은 필요한 경우에만 사용하도록 잠금 장치가 설치되는 웨트 스크러버.
The method according to claim 1,
Wherein the discharge unit comprises a cleaning nozzle for cleaning the filtering unit, and the cleaning nozzle is provided with a locking device for use only when necessary.
KR1020180122863A 2018-10-15 2018-10-15 Wet scrubber including cyclone rotatory part KR101977983B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180122863A KR101977983B1 (en) 2018-10-15 2018-10-15 Wet scrubber including cyclone rotatory part

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180122863A KR101977983B1 (en) 2018-10-15 2018-10-15 Wet scrubber including cyclone rotatory part

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190053350A Division KR20200042383A (en) 2019-05-07 2019-05-07 Wet scrubber including cyclone rotatory part

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101977983B1 true KR101977983B1 (en) 2019-05-13

Family

ID=66582061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180122863A KR101977983B1 (en) 2018-10-15 2018-10-15 Wet scrubber including cyclone rotatory part

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101977983B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110523197A (en) * 2019-09-25 2019-12-03 任启兰 A kind of dust in mine pollution purification method
KR102075440B1 (en) * 2019-07-25 2020-02-10 박홍구 Cyclone dust collector including moving cyclone rotating part
CN113580482A (en) * 2021-06-17 2021-11-02 安徽美博智能科技有限公司 Injection molding device with cleaning function

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100519986B1 (en) * 2005-07-05 2005-10-13 금호환경 주식회사 High perfomance multicone scrubber
JP4538295B2 (en) * 2004-11-01 2010-09-08 サンテクノ株式会社 Waste treatment facility
KR101561414B1 (en) * 2015-07-20 2015-10-16 박홍구 Wet scrubber
KR101679537B1 (en) * 2016-04-26 2016-11-25 영창기계(주) Chemical Wet Scrubber

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4538295B2 (en) * 2004-11-01 2010-09-08 サンテクノ株式会社 Waste treatment facility
KR100519986B1 (en) * 2005-07-05 2005-10-13 금호환경 주식회사 High perfomance multicone scrubber
KR101561414B1 (en) * 2015-07-20 2015-10-16 박홍구 Wet scrubber
KR101679537B1 (en) * 2016-04-26 2016-11-25 영창기계(주) Chemical Wet Scrubber

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102075440B1 (en) * 2019-07-25 2020-02-10 박홍구 Cyclone dust collector including moving cyclone rotating part
CN110523197A (en) * 2019-09-25 2019-12-03 任启兰 A kind of dust in mine pollution purification method
CN113580482A (en) * 2021-06-17 2021-11-02 安徽美博智能科技有限公司 Injection molding device with cleaning function

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101977983B1 (en) Wet scrubber including cyclone rotatory part
KR101804418B1 (en) Wet Scrubber for Ship and System Having the Same
KR101864756B1 (en) SIMULTANEOUS REMOVAL APPARATUS OF PM AND SOx IN THE EXHAUST GAS
KR101768009B1 (en) A Dust Clearing Device
KR20140018971A (en) Spray drying apparatus for filtrate from desulfurization waste water, and exhaust gas treatment system
KR101561414B1 (en) Wet scrubber
KR101314181B1 (en) Dust collector
KR20200042383A (en) Wet scrubber including cyclone rotatory part
CN104307293B (en) A kind of water curtain combination dust arrester
CN103100284A (en) Flue gas dedusting circulating purifying device
KR20180041352A (en) Multi-cyclone scrubber
KR101303918B1 (en) Scrubbing apparatus for exhaust gas
KR101331002B1 (en) Cleaning apparatus for exhaust gas of ship
KR20160049782A (en) Scrubber
KR102236966B1 (en) Apparatus for eliminating odor
KR102025152B1 (en) Vortex type wet scrubber
CN208097740U (en) Spray washing Tower for purifying waste gas
JP2011527232A (en) Spray-drying absorber dispersion device
KR102072734B1 (en) Wet dust collecting unit and apparatus using the same
KR102262666B1 (en) Exhaust gas purifying scrubber and exhaust gas purifying method using the same
CN205867984U (en) Flue gas minimum discharge absorption tower device
KR102148218B1 (en) Dust collecting deodorizer equipped with in-pipe pre-treatment cleaning apparatus and vortex-type moisture removal apparatus
CN106823641A (en) A kind of high protein fuel boiler tail gas dust cleaning apparatus
KR101679537B1 (en) Chemical Wet Scrubber
KR100913031B1 (en) A complex type dust collector

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant