KR20200042383A - Wet scrubber including cyclone rotatory part - Google Patents

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KR20200042383A
KR20200042383A KR1020190053350A KR20190053350A KR20200042383A KR 20200042383 A KR20200042383 A KR 20200042383A KR 1020190053350 A KR1020190053350 A KR 1020190053350A KR 20190053350 A KR20190053350 A KR 20190053350A KR 20200042383 A KR20200042383 A KR 20200042383A
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박홍구
박보근
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박홍구
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Abstract

An embodiment of the present invention relates to a wet scrubber including a cyclone rotation unit to increase purification efficiency of hazardous gas. According to one embodiment of the present invention, the wet scrubber comprises a gas guidance and cleaning unit cleaning hazardous gas flowing therein to perform first purification treatment and a filtering unit filtering remaining gas, which is remaining in the gas guidance and cleaning unit to move up, to perform second purification treatment. The gas guidance and cleaning unit comprises: a hopper unit including a cleaning neck unit having a less sectional area than that of a cleaning main body unit and a cleaning inclination unit connecting the cleaning main body unit and the cleaning neck unit with an inclination to induce a cyclone; a cyclone rotation unit disposed above the hopper unit and inducing cyclone rotation in the flow of the hazardous gas flowing therein; a first cleaning nozzle spraying water to clean the hazardous gas guided between the cleaning main body unit and the outside of the cyclone rotation unit to be swirled; and a second cleaning nozzle spraying water to clean the remaining gas flowing toward the filtering unit through the inside of the cyclone rotation unit.

Description

싸이클론 회전부를 포함하는 웨트 스크러버 {WET SCRUBBER INCLUDING CYCLONE ROTATORY PART}Wet scrubber including cyclone rotating part {WET SCRUBBER INCLUDING CYCLONE ROTATORY PART}

본 발명은 스크러버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 유해 가스를 정화 처리할 수 있는 웨트 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to a scrubber, and more particularly, to a wet scrubber capable of purifying harmful gases.

유해 가스를 처리하는 기계 장치 중의 하나인 스크러버(scrubber)는 그 처리 방식에 따라 번-웨트(Burn-Wet), 번-필터(Burn-Filter), 건식(Dry), 습식(Wet) 등으로 분류될 수 있다. 이러한 종류들 중에서 습식 스크러버, 즉 웨트 스크러버는 반도체 생산을 위한 설비 등에 마련되며, 공정 중에 발생되는 유해가스를 처리하여 정화시킨다. 웨트 스크러버는 외관을 이루는 스크러버 바디와 정화 작용을 위하여 스크러버 바디 내에 마련되는 물 분사 노즐, 폴링, 데미스터 등의 구성을 포함한다.Scrubbers, which are one of the mechanical devices that process harmful gases, are classified into burn-wet, burn-filter, dry, wet, etc. according to the treatment method. Can be. Among these types, a wet scrubber, that is, a wet scrubber, is provided in facilities for semiconductor production, and treats and purifies harmful gases generated during the process. The wet scrubber includes a scrubber body constituting an exterior and a configuration of a water spray nozzle, polling, and demister provided in the scrubber body for purification.

통상의 웨트 스크러버의 동작 원리는 다음과 같다. 웨트 스크러버의 스크러버 바디 내로 유입되는 유해 가스는 스크러버 바디 내에서 상부로 향하게 되는데, 이때, 물 분사 노즐이 유해가스를 향해 물을 분사한다. 물의 분사로 인해 유해 가스로부터 흡착된 흡착 물질은 스크러버 바디 내의 폴링에 수집되고, 증기는 데미스터로 향하여 그 속의 수분이 제거될 수 있다.The operation principle of a normal wet scrubber is as follows. The harmful gas flowing into the scrubber body of the wet scrubber is directed upward in the scrubber body, where the water spray nozzle sprays water toward the harmful gas. Adsorption material adsorbed from the noxious gas due to the spraying of water is collected in the polling in the scrubber body, and the vapor can be removed toward the demister to remove the moisture therein.

이와 같은 동작으로 유해 가스의 정화 처리가 완료된 처리 가스는 스크러버 바디의 상부 영역에 마련되는 블로워 유닛이 동작됨에 따라 배기부를 통해 배기될 수 있다.The treatment gas in which the purification of the noxious gas is completed by such an operation may be exhausted through the exhaust unit as the blower unit provided in the upper region of the scrubber body is operated.

한편, 전술한 바와 같이, 웨트 스크러버는 폴링, 데미스터 등의 구성을 구비하고 있는 것이 보편적이지만 실질적으로 유해 가스를 정화 처리하는 효율이 다소 떨어지고, 폴링을 수시로 교체하여야 하는 등 유지 관리 비용도 많이 들 수 있다.On the other hand, as described above, the wet scrubber is generally equipped with a configuration such as polling and a demister, but the efficiency of actually purifying harmful gases is somewhat reduced, and maintenance costs such as the need to frequently replace polling are also high. You can.

본 발명은 상술한 기술적 과제를 해결하기 위한 것으로써, 본 발명의 목적은 싸이클론 회전 및 소용돌이를 이용하여 유해 가스의 정화 처리 효율을 높일 수 있는 웨트 스크러버를 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above technical problem, the object of the present invention is to provide a wet scrubber that can increase the efficiency of purification treatment of harmful gases using cyclone rotation and vortex.

본 발명의 실시 예에 따른 웨트 스크러버는, 내부로 유입된 유해 가스를 세정하여 1차 정화 처리하는 가스유도 및 세정 유닛; 및 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 필터링 유닛을 포함하되, 상기 가스유도 및 세정 유닛은, 세정 본체부보다 단면적이 좁게 형성되는 세정 네크부와, 상기 세정 본체부와 상기 세정 네크부를 경사지게 연결하여 소용돌이를 유도하는 세정 경사부를 구비하는 호퍼부; 상기 호퍼부 위에 마련되며, 상기 내부로 유입된 유해 가스의 흐름의 싸이클론 회전을 유도하는 싸이클론 회전부; 상기 세정 본체부와 상기 싸이클론 회전부 외부 사이로 유도되어 싸이클론 회전하는 유해 가스를 세정하기 위해 물을 분사하는 제 1 세정 노즐; 및 상기 싸이클론 회전부 내부를 통해 상기 필터링 유닛으로 향해 흐르는 잔류 가스를 세정하기 위해 물을 분사하는 제 2 세정 노즐을 포함한다. A wet scrubber according to an embodiment of the present invention includes: a gas induction and cleaning unit that performs primary purification by cleaning harmful gases introduced into the interior; And a filtering unit that filters the residual gas remaining in the gas induction and cleaning unit and moves upward to perform secondary purification, wherein the gas induction and cleaning unit includes a cleaning neck portion having a narrower cross-sectional area than the cleaning body portion. , A hopper part having a cleaning inclined part for inclining the vortex by connecting the cleaning main body part and the cleaning neck part at an angle; It is provided on the hopper portion, a cyclone rotating portion for inducing a cyclone rotation of the flow of harmful gas flowing into the interior; A first cleaning nozzle which is guided between the cleaning main body part and the outside of the cyclone rotating part and sprays water to clean the harmful gas rotating in the cyclone; And a second cleaning nozzle spraying water to clean residual gas flowing through the cyclone rotating portion toward the filtering unit.

실시 예로서, 상기 싸이클론 회전부는, 원기둥 모양의 하부 수직부; 및 하부 수직부의 상단에서 경사지게 배치되고 상기 하부 수직부 방향으로 내려 갈수록 상기 내부로 유입된 유해 가스의 회전 공간을 넓게 형성하는 상부 경사부를 포함할 수 있다. 상기 제 1 세정 노즐은 상기 하부 수직부를 회전하는 유해 가스를 향해 상기 하부 수직부의 접선 방향으로 물을 분사할 수 있다. 상기 제 2 세정 노즐은 상기 상부 경사부에 설치되며, 상기 필터링 유닛으로 향하는 잔류 가스에 물을 분사하기 위한 복수의 노즐을 구비할 수 있다. 상기 복수의 노즐은 T자형 구조로 배치될 수 있다.As an embodiment, the cyclone rotating unit may include a cylindrical lower vertical portion; And an upper inclined portion which is disposed to be inclined at the upper end of the lower vertical portion and widens a rotation space of harmful gas introduced into the interior as it descends in the direction of the lower vertical portion. The first cleaning nozzle may spray water in a tangential direction of the lower vertical portion toward a noxious gas rotating the lower vertical portion. The second cleaning nozzle is installed on the upper inclined portion, and may include a plurality of nozzles for spraying water to residual gas directed to the filtering unit. The plurality of nozzles may be arranged in a T-shaped structure.

실시 예로서, 상기 필터링 유닛은, 하단부에 상기 가스유도 및 세정 유닛의 제 1 플랜지와 착탈 가능하게 플랜지 결합되는 제 2 플랜지가 형성되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하는 장소를 형성하는 필터링 유닛 케이싱; 및 상기 필터링 유닛 케이싱 내에 마련되어 상기 잔류 가스를 필터링하는 필터 모듈을 포함할 수 있다. 상기 필터 모듈은 내부가 일체로 되어 상기 필터 모듈 전체를 세정할 수 있도록 한 나선형 필터모듈 또는 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터 모듈일 수 있다.As an embodiment, the filtering unit may include a second flange detachably coupled to the first flange of the gas induction and cleaning unit at a lower end, and the residual gas remaining in the gas induction and cleaning unit and upwardly moved. A filtering unit casing forming a place to filter; And a filter module provided in the filtering unit casing to filter the residual gas. The filter module may be a helical filter module that is integral with the inside to clean the entire filter module or a stacked filter module that can be cleaned by separating each individual layer.

실시 예로서, 상기 웨트 스크러버는 상기 가스유도 및 세정 유닛의 하부에 결합되며, 보관된 물을 순환하기 위한 물 탱크 펌프 유닛을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 웨트 스크러버는 상기 필터링 유닛의 상부에 결합되며, 정화 처리가 완료된 처리 가스가 배출되는 배출 유닛을 더 포함할 수 있다. 상기 배출 유닛은 상기 필터링 유닛을 세척하기 위한 세척 노즐을 포함하고, 상기 세척 노즐은 필요한 경우에만 사용하도록 잠금 장치가 설치될 수 있다.As an embodiment, the wet scrubber is coupled to the lower portion of the gas induction and cleaning unit, and may further include a water tank pump unit for circulating the stored water. In addition, the wet scrubber is coupled to the upper portion of the filtering unit, and may further include a discharge unit through which the treatment gas after the purification treatment is completed is discharged. The discharge unit includes a cleaning nozzle for cleaning the filtering unit, and the cleaning nozzle may be provided with a locking device for use only when necessary.

본 발명의 실시 예에 따르면, 싸이클론 회전부의 회전력, 호퍼부의 소용돌이회전력, 그리고 세정부의 물 분사 세정력에 의해 유해 가스를 정화 처리함으로, 기존의 스크러버에 비해 정화 처리 효율을 높일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, by purifying the harmful gas by the rotational force of the cyclone rotating portion, the vortex rotational force of the hopper portion, and the water jet cleaning power of the cleaning portion, it is possible to increase the purification treatment efficiency compared to a conventional scrubber.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 웨트 스크러버의 구조를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 웨트 스크러버에서 가스의 흐름을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3d는 도 1 및 도 2에 도시된 세정 노즐과 세척 노즐을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4 내지 도 7은 도 1 및 도 2에 도시된 필터링 유닛의 나선형 필터 모듈을 보여주는 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 웨트 스크러버에 적용되는 적층형 필터 모듈의 개략적인 내부 구조도이다.
1 is a cross-sectional view showing the structure of a wet scrubber according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the flow of gas in the wet scrubber of FIG. 1.
3A to 3D are cross-sectional views illustrating the cleaning nozzles and the cleaning nozzles illustrated in FIGS. 1 and 2.
4 to 7 are views showing a helical filter module of the filtering unit shown in FIGS. 1 and 2.
8 is a schematic internal structural diagram of a stacked filter module applied to a wet scrubber according to another embodiment of the present invention.

이하에서, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로, 본 발명의 실시 예들이 명확하고 상세하게 기재될 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described clearly and in detail so that a person having ordinary knowledge in the technical field of the present invention can easily implement the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 웨트 스크러버의 구조를 보여주는 단면도이다. 도 1에 도시된 웨트 스크러버(100)는 유해 가스를 정화 처리할 수 있고, 기존의 스크러버보다 정화 처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 유지 관리 비용도 줄일 수 있다. 도 1을 참조하면, 웨트 스크러버(100)는 가스유도 및 세정 유닛(110), 물 탱크 및 펌프 유닛(150), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)을 포함할 수 있다. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a wet scrubber according to an embodiment of the present invention. The wet scrubber 100 shown in FIG. 1 can purify harmful gases, improve the purification treatment efficiency, and reduce maintenance costs as compared to the conventional scrubber. Referring to FIG. 1, the wet scrubber 100 may include a gas induction and cleaning unit 110, a water tank and pump unit 150, a filtering unit 160, and a discharge unit 190.

가스유도 및 세정 유닛(110), 물 탱크 및 펌프 유닛(150), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)은 상호간 착탈 가능하게 플랜지 결합될 수 있다. 예를 들면, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)은 가스유도 및 세정 유닛(110) 측의 제 1 플랜지(122)와 필터링 유닛(160) 측의 제 2 플랜지(171)를 맞대어 두고 제 1 및 제 2 플랜지(122,171)에 볼트를 체결함으로써, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)을 결합시킬 수 있으며, 반대로 분해시킬 수 있다. 여기에서, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)은 반드시 플랜지 결합되는 것은 아니며, 플랜지 결합없이 하나의 본체로 구성될 수도 있다. The gas induction and cleaning unit 110, the water tank and the pump unit 150, the filtering unit 160, and the discharge unit 190 may be detachably flanged to each other. For example, the gas induction and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 may include a first flange 122 on the gas induction and cleaning unit 110 side and a second flange 171 on the filtering unit 160 side. By fastening the bolts to the first and second flanges 122 and 171 against each other, the gas induction and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 can be combined, and vice versa. Here, the gas induction and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 are not necessarily flange-coupled, and may be configured as one body without flange coupling.

마찬가지의 방법으로 필터링 유닛(160)과 배출 유닛(190) 역시, 필터링 유닛(160) 측의 제 3 플랜지(172)와 배출 유닛(190) 측의 제 4 플랜지(191)를 맞대어 두고 제 3 및 제 4 플랜지(172,191)에 볼트를 체결함으로써, 필터링 유닛(160)과 배출 유닛(190)을 결합시킬 수 있으며, 반대로 분해시킬 수 있다. 그리고 가스유도 및 세정 유닛(110)과 물 탱크 및 펌프 유닛(150)도 플랜지 결합될 수 있다.In the same way, the filtering unit 160 and the discharge unit 190 also face the third flange 172 on the filtering unit 160 side and the fourth flange 191 on the discharge unit 190 side, and the third and By fastening the bolts to the fourth flanges 172 and 191, the filtering unit 160 and the discharge unit 190 can be combined, and conversely, disassembled. And the gas induction and cleaning unit 110 and the water tank and the pump unit 150 may also be flanged.

이처럼 가스유도 및 세정 유닛(110), 물 탱크 및 펌프 유닛(150), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)이 상호간 착탈 가능하게 플랜지 결합될 경우, 해당 유닛(110, 150, 160, 190)의 운반 혹은 유지 보수가 수월해지는 이점이 있다. 특히, 필터링 유닛(160) 내에 마련되는 필터 모듈(180)의 세척 작업이나 교체 작업이 매우 수월해질 수 있는 이점이 있다.When the gas induction and cleaning unit 110, the water tank and the pump unit 150, the filtering unit 160, and the discharge unit 190 are flanged so as to be detachable from each other, the corresponding units 110, 150, 160, 190) has the advantage of facilitating transportation or maintenance. In particular, there is an advantage that the cleaning or replacement of the filter module 180 provided in the filtering unit 160 can be very easy.

도 2는 도 1의 웨트 스크러버에서 가스의 흐름을 설명하기 위한 단면도이다. 도 2를 참조하면, 가스유도 및 세정 유닛(110)은 호퍼부(120), 싸이클론 회전부(130), 그리고 세정부(140)를 포함할 수 있다. 가스유도 및 세정 유닛(110)은 가스 주입구(gas inlet, 111)를 통해 유해 가스를 내부로 유도시킨 후, 싸이클론 회전력(cyclone rotatory power) 및 소용돌이(vortex)을 이용하여 세정하여 1차 정화 처리하는 역할을 한다. 도 2에서 빨간색 점선으로 표시한 것은 가스 주입구(111)를 통해 유입된 가스의 흐름과 방향을 표시한 것이다. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the flow of gas in the wet scrubber of FIG. 1. Referring to FIG. 2, the gas induction and cleaning unit 110 may include a hopper unit 120, a cyclone rotating unit 130, and a cleaning unit 140. The gas induction and cleaning unit 110 induces harmful gas inside through a gas inlet 111, and then cleans it using a cyclone rotatory power and a vortex to perform primary purification. Plays a role. In FIG. 2, a red dotted line indicates the flow and direction of the gas introduced through the gas inlet 111.

세정 유닛 케이싱(121)은 가스유도 및 세정 유닛(110)의 외관을 이루는데, 단순한 원통형 구조물에서 벗어나 병을 뒤집어 놓은 것과 같은 구조를 갖는다. 세정 유닛 케이싱(121)의 상부는 필터링 유닛(160)과 결합되고, 하부는 물 탱크 및 펌프 유닛((150)과 결합될 수 있다. 세정 유닛 케이싱(121)은 상부에서 하부로 내려가면서 단면적이 좁게 형성되는 구조를 가짐으로, 가스의 회전력을 높이고 가스의 흐름을 원활하게 할 수 있다. 세정 유닛 케이싱(121)의 하단부에는 호퍼부(120)가 마련되고, 상단부에는 싸이클론 회전부(130)가 구성될 수 있다.The cleaning unit casing 121 forms a gas induction and an external appearance of the cleaning unit 110, and has a structure such as turning a bottle out of a simple cylindrical structure. The upper portion of the cleaning unit casing 121 may be combined with the filtering unit 160, and the lower portion may be combined with the water tank and the pump unit 150. The cleaning unit casing 121 has a cross-sectional area while descending from the top to the bottom. By having a narrowly formed structure, it is possible to increase the rotational force of the gas and to smoothly flow the gas.The hopper unit 120 is provided at the lower end of the cleaning unit casing 121, and the cyclone rotating unit 130 is provided at the upper end. Can be configured.

호퍼부(120)은 세정 네크부(123)와 세정 경사부(124)를 포함한다. 세정 네크부(123)는 세정 유닛 케이싱(121)의 세정 본체부보다 단면적이 좁은 원기둥 모양으로 구성될 수 있다. 세정 경사부(124)는 원뿔대 모양으로 구성되고, 세정 본체부과 세정 네크부(123)를 경사지게 연결할 수 있다. 호퍼부(120)가 세정 네크부(123) 및 세정 경사부(124)의 구조를 가질 경우, 싸이클론 회전부(130)를 통과한 가스의 소용돌이(vortex)를 일으켜 가스의 회전력을 극대화하고 집진 효율을 높일 수 있다. The hopper part 120 includes a cleaning neck part 123 and a cleaning inclined part 124. The cleaning neck portion 123 may be configured in a cylindrical shape having a narrower cross-sectional area than the cleaning body portion of the cleaning unit casing 121. The cleaning inclined portion 124 may be formed in a truncated cone shape, and the cleaning main body portion and the cleaning neck portion 123 may be inclinedly connected. When the hopper portion 120 has the structure of the cleaning neck portion 123 and the cleaning inclined portion 124, it generates a vortex of gas passing through the cyclone rotating portion 130, maximizing the rotational force of the gas and collecting efficiency Can increase.

싸이클론 회전부(130)는 호퍼부(120) 위에 배치될 수 있다. 싸이클론 회전부(130)는 도 2의 화살표처럼 가스의 회전을 유도하는 역할을 한다. 싸이클론 회전부(130)는 가스 주입구(111)를 통해 주입된 가스의 회전력을 유지하고, 가스의 흐름이 바깥쪽으로 향하도록 한다. 싸이클론 회전부(130)는 원기둥 모양으로 구성되고 단면이 수직하게 형성되는 하부 수직부(131)와, 하부 수직부(131)의 상단에 원뿔대 모양으로 경사지게 배치되는 상부 경사부(132)를 포함할 수 있다. 싸이클론 회전부(130)의 상부 경사부(132)는 아래로 갈수록 가스의 회전 공간을 넓게 형성함으로, 가스의 회전 흐름을 원할하게 유도할 수 있다. The cyclone rotating part 130 may be disposed on the hopper part 120. Cyclone rotating unit 130 serves to induce the rotation of the gas as shown in the arrow of FIG. The cyclone rotating part 130 maintains the rotational force of the gas injected through the gas inlet 111 and allows the gas flow to be directed outward. The cyclone rotating part 130 includes a lower vertical part 131 having a cylindrical shape and having a vertical cross-section, and an upper inclined part 132 disposed obliquely in the shape of a cone on the top of the lower vertical part 131. You can. The upper inclined portion 132 of the cyclone rotating portion 130 forms a rotation space of the gas wider as it goes downward, so that the rotational flow of the gas can be induced smoothly.

싸이클론 회전부(130)에는 세정부(140)가 구비될 수 있다. 세정부(140)는 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)을 포함할 수 있다. 제 1 세정 노즐(141)은 세정 유닛 케이싱(121)과 싸이클론 회전부(130) 사이에 배치되어 이곳을 따라 흐르는 유해 가스를 향해 물을 분사함으로써 유해 가스를 1차로 세정하는 역할을 한다. 제 1 세정 노즐(141)는 가스의 흐름을 방해하지 않고 세정 효율을 극대화할 수 있는 분사 방향을 가질 수 있다. 제 2 세정 노즐(142)은 필터링 유닛(160)으로 향하는 유해 가스를 향해 물을 분사함으로 2차로 세정하는 역할을 한다. 제 2 세정 노즐(142)은 복수의 노즐을 가질 수 있다. The cyclone rotating part 130 may be provided with a cleaning part 140. The cleaning unit 140 may include first and second cleaning nozzles 141 and 142. The first cleaning nozzle 141 is disposed between the cleaning unit casing 121 and the cyclone rotating part 130 and serves to primarily clean the harmful gas by spraying water toward the harmful gas flowing there. The first cleaning nozzle 141 may have an injection direction capable of maximizing cleaning efficiency without interfering with the flow of gas. The second cleaning nozzle 142 serves to perform secondary cleaning by spraying water toward the harmful gas directed to the filtering unit 160. The second cleaning nozzle 142 may have a plurality of nozzles.

도 2의 예에서, 제 2 세정 노즐(142)은 일자형 구조를 갖고 3개의 노즐을 포함하고 있다. 제 2 세정 노즐(142)은 일자형 구조 외에도 T자형 또는 Y자형 구조를 가질 수도 있다. 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)의 구성 및 동작 원리는 도 3a 내지 도 3c에서 좀 더 자세하게 설명될 것이다. 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)의 작용에 의해 정화 처리된 드레인 수(drain water)는 물 탱크 및 펌프 유닛(150)으로 드레인될 수 있다.In the example of FIG. 2, the second cleaning nozzle 142 has a straight structure and includes three nozzles. The second cleaning nozzle 142 may have a T-shaped or Y-shaped structure in addition to the straight structure. The configuration and operation principle of the first and second cleaning nozzles 141 and 142 will be described in more detail in FIGS. 3A to 3C. Drain water purified by the action of the first and second cleaning nozzles 141 and 142 may be drained to the water tank and the pump unit 150.

물 탱크 및 펌프 유닛(150)은 물 탱크(151), 펌프(152), 그리고 배관(153)을 포함할 수 있다. 물 탱크(151)에 있는 물은 펌프(151)의 순환 작용에 의해 배관(153)을 통해 제 1 및 제 2 세정 노즐(141, 142)로 흐를 수 있다. 물 탱크(151)에 있는 물은 배관(153)을 통해 순환하고, 순환 과정에서 가스에 포함된 먼지나 유해 물질이 포집될 수 있다. 물에 의해 포집된 먼지나 유해 물질은 물 탱크(151)에 침전될 수 있다. 물 탱크 및 펌프 유닛(150)은 침전물 등을 제거하고 물을 교환하기 위해 물 드레인(water drain)을 구비할 수 있다. The water tank and the pump unit 150 may include a water tank 151, a pump 152, and a pipe 153. Water in the water tank 151 may flow to the first and second cleaning nozzles 141 and 142 through the pipe 153 by the circulation action of the pump 151. The water in the water tank 151 circulates through the pipe 153, and dust or harmful substances contained in the gas may be collected during the circulation process. Dust or harmful substances collected by water may be deposited in the water tank 151. The water tank and the pump unit 150 may be provided with a water drain to remove sediment and the like and exchange water.

계속해서 도 2를 참조하면, 필터링 유닛(160)은 가스유도 및 세정 유닛(110)의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하여 2차 정화 처리하는 역할을 한다. 이러한 필터링 유닛(160)은 필터링 유닛 케이싱(170)과, 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 마련되어 잔류 가스를 필터링하는 필터 모듈(180)을 포함할 수 있다.2, the filtering unit 160 is detachably coupled to the upper portion of the gas induction and cleaning unit 110, and filters residual gas remaining in the gas induction and cleaning unit 110 and moved upward. Secondary purification. The filtering unit 160 may include a filtering unit casing 170 and a filter module 180 provided in the filtering unit casing 170 to filter residual gas.

필터링 유닛 케이싱(170)은 필터링 유닛(160)의 외관을 이루되 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하는 장소를 형성한다. 앞에서 설명한 바와 같이, 필터링 유닛 케이싱(170)의 하단부와 상단부에는 각각 제 2 및 제 3 플랜지(171,172)가 마련되어 가스유도 및 세정 유닛(110) 및 배출 유닛(190)과 착탈될 수 있다. 필터링 유닛 케이싱(170)의 측부에는 필터링 유닛 케이싱(170)의 핸들링을 위한 러그(173)가 결합될 수 있다.The filtering unit casing 170 forms an external appearance of the filtering unit 160, but forms a place for filtering residual gas that remains in the gas induction and cleaning unit 110 and moves upward. As described above, the lower and upper ends of the filtering unit casing 170 are provided with second and third flanges 171 and 172, respectively, and can be detached from the gas induction and cleaning unit 110 and the discharge unit 190. A lug 173 for handling the filtering unit casing 170 may be coupled to a side of the filtering unit casing 170.

필터 모듈(180)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 마련되며, 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 실질적으로 필터링하는 역할을 한다. 필터 모듈(180)의 구성 및 동작 원리는 도 4 내지 도 8을 참조하여 좀 더 자세하게 설명될 것이다. 필터 모듈(180)을 통해 2차로 정화 처리된 처리 가스가 비로소 배출 유닛(190)을 통해 배출될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서 필터 모듈(180)은 내부가 일체로 되어 전체를 탈착한 후 세정할 수 있도록 한 나선형 필터 모듈(180)일 수 있다.The filter module 180 is provided in the filtering unit casing 170 and serves to substantially filter the residual gas remaining in the gas induction and cleaning unit 110 and moved upward. The configuration and operation principle of the filter module 180 will be described in more detail with reference to FIGS. 4 to 8. The process gas that is secondly purified through the filter module 180 may be discharged through the discharge unit 190. In an embodiment of the present invention, the filter module 180 may be a helical filter module 180 that is integrally formed inside and is detachable so that it can be cleaned.

배출 유닛(190)은 필터링 유닛(160)의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 정화 처리가 완료된 처리 가스를 배출할 수 있다. 배출 유닛(190)은 배출 유닛 케이싱(192)과 세척 노즐(193)을 포함할 수 있다. 세척 노즐(193)은 물 탱크 및 펌프 유닛(150)의 배관(153)에 연결되고, 필요한 경우에만 사용할 수 있도록 잠금 장치가 마련될 수 있다. 세척 노즐(193)은 일자형 구조를 갖고 3개의 노즐을 포함하고 있다. 세척 노즐(193)은 일자형 구조 외에도 T자형 또는 Y자형 구조를 가질 수도 있다. 세척 노즐(193)의 구성 및 동작 원리는 도 3d에서 좀 더 자세하게 설명될 것이다. 배출 유닛(190)은 데미스터(197)를 추가로 설치할 수 있다. 또한, 배출 유닛(190)은 데미스터(197)를 투입하거나 교체하기 위한 점검구를 배출 유닛 케이싱(192)에 설치할 수 있다. The discharging unit 190 is detachably coupled to the upper portion of the filtering unit 160 and can discharge the process gas after the purification process has been completed. The discharge unit 190 may include a discharge unit casing 192 and a cleaning nozzle 193. The washing nozzle 193 is connected to the water tank and the pipe 153 of the pump unit 150, and a locking device can be provided to be used only when necessary. The cleaning nozzle 193 has a straight structure and includes three nozzles. The cleaning nozzle 193 may have a T-shaped or Y-shaped structure in addition to the straight-shaped structure. The configuration and operation principle of the cleaning nozzle 193 will be described in more detail in FIG. 3D. The discharge unit 190 may further install the demister 197. In addition, the discharge unit 190 may be installed in the discharge unit casing 192 a check port for introducing or replacing the demister 197.

본 발명의 실시 예에 따른 웨트 스크러버(100)는 싸이클론 회전부(130)의 싸이클론 회전력, 호퍼부(120)의 소용돌이 회전력, 그리고 세정부(140)의 물 분사 세정력에 의해 1차로 정화 처리할 수 있다. 그리고 웨트 스크러버(100)는 필터 모듈(180)을 구비하는 필터링 유닛(160)에서 2차로 정화 처리된 후, 배출 유닛(190)으로 배출함으로 기존의 스크러버보다 정화 처리 효율을 높일 수 있다. 특히, 이와 같은 방식이 적용될 경우, 유해 가스인 Sox, Co 저감에 유리할 뿐만 아니라 악취 처리에 탁월하며, 유지 관리가 용이하다. 그리고 구조물이 높이 방향으로 세워지는 형태이기 때문에 설치 면적을 좁게 할 수 있다.The wet scrubber 100 according to an embodiment of the present invention is primarily treated by the cyclone rotational force of the cyclone rotating portion 130, the vortex rotational force of the hopper portion 120, and the water jet cleaning force of the cleaning portion 140. You can. In addition, the wet scrubber 100 is secondly purified by the filtering unit 160 provided with the filter module 180, and then discharged to the discharge unit 190 to increase the purification efficiency compared to the conventional scrubber. In particular, when this method is applied, it is advantageous not only for reducing Sox and Co, which are harmful gases, but also excellent for odor treatment and easy maintenance. And since the structure is erected in the height direction, the installation area can be narrowed.

도 3a 내지 도 3d는 도 1 및 도 2에 도시된 세정 노즐과 세척 노즐을 설명하기 위한 단면도이다. 도 3a는 제 1 세정 노즐(141)을 보여주고, 도 3b는 제 2 세정 노즐(142)을 보여주고, 도 3c는 제 2 세정 노즐(143)의 분사 범위를 보여준다. 그리고 도 3d는 세척 노즐(193)을 보여준다.3A to 3D are cross-sectional views illustrating the cleaning nozzles and the cleaning nozzles illustrated in FIGS. 1 and 2. 3A shows the first cleaning nozzle 141, FIG. 3B shows the second cleaning nozzle 142, and FIG. 3C shows the spraying range of the second cleaning nozzle 143. And Figure 3d shows a cleaning nozzle 193.

도 3a를 참조하면, 제 1 세정 노즐(141)은 세정 본체부(121)에 설치되고, 배관(153)으로부터 A 거리에 위치하며, 싸이클론 회전부(130)의 하부 수직부(131)에 접선 방향으로 물을 분사할 수 있다. 제 1 세정 노즐(141)의 위치와 분사 방향은 가스의 흐름을 방해하지 않고 세정 효율을 최대로 높일 수 있도록 많은 실험을 통해 얻은 것이다. 예를 들면, 제 1 세정 노즐(141)은 배관(153)에서 약 305mm 거리(A=305)에 있고, 중심 방향에서 약 54각도(a=54)의 분사 방향을 가질 때 가스의 흐름을 최소하고 세정 효율을 최대로 높일 수 있다.Referring to Figure 3a, the first cleaning nozzle 141 is installed in the cleaning body portion 121, located at a distance A from the pipe 153, tangent to the lower vertical portion 131 of the cyclone rotating portion 130 You can spray water in the direction. The position and injection direction of the first cleaning nozzle 141 are obtained through many experiments to maximize the cleaning efficiency without interfering with the flow of gas. For example, the first cleaning nozzle 141 is located at a distance of about 305 mm from the pipe 153 (A = 305), and minimizes gas flow when it has an injection direction of about 54 degrees (a = 54) from the center direction. And the cleaning efficiency can be maximized.

도 3b를 참조하면, 제 2 세정 노즐(142)은 필터링 유닛(160)으로 향하는 유해 가스를 향해 물을 분사함으로 2차로 세정하는 역할을 한다. 제 2 세정 노즐(142)은 노즐의 위치에 따라 일자형, T자형, Y자형 등 여러 구조를 가질 수도 있다. 도 3b는 예로서 T자형 구조를 보여준다. 제 2 세정 노즐(142)은 배관(153)에서 B 거리에 위치하며, 세정 본체부(121)와 싸이클론 회전부(130)의 상부 경사부(132)에 설치될 수 있다. 제 2 세정 노즐(142)는 제 1 내지 제 3 노즐(143, 144, 145)을 포함하고, 제 1 내지 제 3 노즐(143, 144, 145)은 T자형 구조를 갖도록 설치할 수 있다. Referring to FIG. 3B, the second cleaning nozzle 142 serves to secondly clean water by spraying water toward a harmful gas directed to the filtering unit 160. The second cleaning nozzle 142 may have various structures such as a straight, T-shaped, and Y-shaped depending on the position of the nozzle. 3B shows a T-shaped structure as an example. The second cleaning nozzle 142 is located at a distance B from the pipe 153 and may be installed on the cleaning body portion 121 and the upper inclined portion 132 of the cyclone rotating portion 130. The second cleaning nozzle 142 may include first to third nozzles 143, 144, and 145, and the first to third nozzles 143, 144, and 145 may be installed to have a T-shaped structure.

제 1 내지 제 3 노즐(143, 144, 145)은 위치와 분사 범위는 필터링 유닛(160)으로 향하는 가스의 세정 효율을 최대로 높일 수 있도록 많은 실험을 통해 얻은 것이다. 예를 들면, 제 2 세정 노즐(142)은 배관(153)에서 약 189mm 거리(B=189)에 있고, 도 3c에 도시된 바와 같은 분사 범위를 가질 때 세정 효율을 최대로 높일 수 있다.The first to third nozzles 143, 144, and 145 are obtained through a number of experiments to maximize the cleaning efficiency of the gas directed to the filtering unit 160 in the position and injection range. For example, the second cleaning nozzle 142 is at a distance of about 189 mm (B = 189) from the pipe 153, and can have a maximum cleaning efficiency when it has an injection range as shown in FIG. 3C.

도 3d를 참조하면, 세척 노즐(193)은 필터링 유닛(160) 방향으로 물을 분사함으로 가스유도 및 세정 유닛(110) 및 필터링 유닛(160)을 세척하는 역할을 한다. 세척 노즐(193)은 노즐의 위치에 따라 일자형, T자형, Y자형 등 여러 구조를 가질 수도 있다. 도 3d는 예로서 T자형 구조를 보여준다. 세척 노즐(193)는 제 2 세정 노즐(142)과 마찬가지로, 배관(153)에서 B 거리에 위치하며, 배출 유닛 케이싱(192)에 설치될 수 있다. 세척 노즐(193)은 제 1 내지 제 3 노즐(194, 195, 196)을 포함하고, T자형 구조를 갖도록 설치할 수 있다. 세척 노즐(193)은 배관(153)에서 약 189mm 거리(B=189)에 있고, 도 3d에 도시된 바와 같은 분사 범위를 가질 때 세척 효율을 최대로 높일 수 있다.Referring to FIG. 3D, the cleaning nozzle 193 serves to clean the gas induction and cleaning unit 110 and the filtering unit 160 by spraying water in the direction of the filtering unit 160. The cleaning nozzle 193 may have various structures such as a straight, T-shaped, and Y-shaped depending on the position of the nozzle. 3D shows a T-shaped structure as an example. The cleaning nozzle 193, like the second cleaning nozzle 142, is located at a distance B from the pipe 153 and may be installed in the discharge unit casing 192. The washing nozzle 193 includes the first to third nozzles 194, 195, and 196, and may be installed to have a T-shaped structure. The cleaning nozzle 193 is located at a distance of about 189 mm (B = 189) from the pipe 153, and can have a maximum cleaning efficiency when it has an injection range as shown in FIG. 3D.

도 4 내지 도 7은 도 1 및 도 2에 도시된 필터링 유닛의 나선형 필터 모듈을 보여주는 도면이다. 도 4는 나선형 필터 모듈의 입체 이미지를 보여주고, 도 5는 도 4의 절단 이미지를 보여주고, 도 6은 나선형 필터 모듈의 개략적인 내부 구조도를 보여주고, 도 7은 나선형 필터 플레이트의 평면을 보여준다. 도 4 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 나선형 필터 모듈(180)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 배치되는 제 1 모듈 하우징(181)과, 제 1 모듈 하우징(181) 내에서 나선형으로 서로 연결되어 배열되되 판면에 복수의 튜브(183)가 형성되는 나선형 필터 플레이트(182)를 포함할 수 있다.4 to 7 are views showing a helical filter module of the filtering unit shown in FIGS. 1 and 2. FIG. 4 shows a three-dimensional image of the helical filter module, FIG. 5 shows a cut image of FIG. 4, FIG. 6 shows a schematic internal structure diagram of the helical filter module, and FIG. 7 shows a plane of the helical filter plate . 4 to 7, the spiral filter module 180 is spirally connected to each other in the first module housing 181 and the first module housing 181 disposed in the filtering unit casing 170. Arranged but may include a spiral filter plate 182 in which a plurality of tubes 183 are formed on the plate surface.

이때, 나선형 필터 플레이트(182)는 전체가 연결된 구조를 가질 수 있다. 잔류 가스는 나선형 필터 모듈(180)을 지나면서 복수의 튜브(183)를 통과할 수 있다. 잔류 가스는 복수의 튜브(183)를 통과하면서 접촉되어 2차로 정화처리될 수 있다. 복수의 튜브(183)는 결과적으로 잔류 가스의 접촉 면적을 넓혀 가능한 많은 유해 물질이 흡착될 수 있도록 함으로써, 정화 효율을 높일 수 있다.At this time, the spiral filter plate 182 may have a structure in which the whole is connected. The residual gas may pass through the plurality of tubes 183 while passing through the helical filter module 180. The residual gas may be contacted while passing through the plurality of tubes 183 to be secondly purified. As a result, the plurality of tubes 183 increases the contact area of the residual gas so that as many harmful substances as possible can be adsorbed, thereby improving purification efficiency.

제 1 모듈 하우징(181)의 상부에는 하우징 플랜지(181a)가 형성되어 제 3 플랜지(172) 및 제 4 플랜지(191)와 함께 결합되며, 측면에는 복수의 통공(181b)이 형성되어 필터 모듈(180)이 세척될 때 세척수가 제 1 모듈 하우징(181)의 외부로 배출되어 드레인될 수 있다.A housing flange 181a is formed on an upper portion of the first module housing 181 to be coupled together with the third flange 172 and the fourth flange 191, and a plurality of through holes 181b are formed on the side surface of the filter module ( When 180) is washed, the washing water may be discharged to the outside of the first module housing 181 and drained.

또한, 복수의 튜브(183)는 상하로 이웃하게 배치되는 튜브들끼리 어긋나게 배치됨으로써, 상향 잔류 가스가 곧바로 수직 상승하지 아니하고 상하의 필터 플레이트(182) 사이에 체류하는 시간을 연장시켜 복수의 튜브(183)에 유해 물질이 흡착될 확률을 높이게 된다. 바람직하게 복수의 튜브(183)는 필터 플레이트(182)의 상하부로 노출되도록 설치되나, 상부의 노출 길이가 더 길게 형성되는 것이 정화 효율을 높이는데 더욱 유리하다.In addition, the plurality of tubes 183 are arranged to be shifted between the tubes disposed adjacent to each other vertically, so that the upward residual gas does not immediately rise vertically and extends the residence time between the upper and lower filter plates 182, thereby extending the plurality of tubes 183 ) Increases the probability that harmful substances will be adsorbed. Preferably, the plurality of tubes 183 is installed to be exposed to the upper and lower parts of the filter plate 182, but it is more advantageous to increase the purification efficiency that the upper exposed length is formed longer.

나선형 필터 모듈(180)의 세척시에는 배출 유닛(190)을 분리한 후 상부에서 세척수를 분사함으로써, 세척수가 복수의 튜브(183)을 통과하여 제 1 모듈 하우징(181) 측면의 복수의 통공(181b)을 통해 제 1 모듈 하우징(181) 외부로 배출되어 상부 드레인 라인(175)을 통해 드레인됨으로써, 세척이 간단히 이루어질 수 있어, 나선형 필터 모듈(180)의 반영구적인 사용이 가능하여 유지 관리 비용을 현저히 줄일 수 있다.When washing the helical filter module 180, after discharging the discharge unit 190 and spraying the washing water from the top, the washing water passes through the plurality of tubes 183 and the plurality of through holes on the side of the first module housing 181 ( It is discharged to the outside of the first module housing 181 through 181b) and drained through the upper drain line 175, so that the washing can be easily performed, and the semi-permanent use of the spiral filter module 180 is possible, thereby reducing maintenance costs. It can be significantly reduced.

도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 웨트 스크러버에 적용되는 적층형 필터 모듈의 개략적인 내부 구조도이다. 도 8을 참조하면, 본 실시예의 경우, 필터 모듈(270)로서, 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터 모듈(270)을 적용하고 있다.8 is a schematic internal structural diagram of a stacked filter module applied to a wet scrubber according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 8, in the case of the present embodiment, as the filter module 270, a stacked filter module 270 is applied to separate and clean each individual layer.

이러한 적층형 필터 모듈(270)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 배치되는 제 2 모듈 하우징(271)과, 제 2 모듈 하우징(271) 내에서 독립적으로 경사지게 층상 배열되며, 판면에 복수의 튜브(273)가 형성되는 복수의 적층형 필터 플레이트(272)와, 제 2 모듈 하우징(271)의 중앙 영역에서 복수의 적층형 필터 플레이트(272)를 개별적으로 고정시키는 플레이트 고정부(274)를 포함할 수 있다.The stacked filter module 270 is a second module housing 271 disposed in the filtering unit casing 170, and the second module housing 271 is independently inclined in a layered arrangement, a plurality of tubes 273 on the plate surface It may include a plurality of stacked filter plate 272 is formed, and the plate fixing portion 274 for individually fixing the plurality of stacked filter plate 272 in the central region of the second module housing 271.

한편, 앞선 실시예의 나선형 필터 모듈(180)은 전체적으로 이어진 하나의 나선형 필터 플레이트(182)를 적용하고 있기 때문에 필터 플레이트(182)를 각각 분리하여 세정하기는 어려우나 본 실시예의 적층형 필터 모듈(270)의 경우, 복수의 적층형 필터 플레이트(272)가 적용되고 있기 때문에 필요 시 개별층으로서의 적층형 필터 플레이트(272)를 분리하여 세정할 수 있어 편리할 수 있다. 다만 가스의 상향 흐름이 나선형 필터 모듈(180)에 비해 떨어질 수 있지만, 본 실시예가 적용되더라도 기존의 스크러버보다 정화 처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리 비용도 줄일 수 있다.On the other hand, since the helical filter module 180 of the previous embodiment applies one helical filter plate 182 that is continuously connected, it is difficult to separate and clean the filter plate 182, respectively, but the stacked filter module 270 of the present embodiment In this case, since a plurality of stacked filter plates 272 are applied, the stacked filter plates 272 as individual layers can be separated and cleaned, if necessary, to be convenient. However, although the upward flow of gas may be inferior to that of the spiral filter module 180, even if the present embodiment is applied, it is possible to improve the purification treatment efficiency as well as to reduce the maintenance cost than the conventional scrubber.

상술한 내용은 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 실시 예들이다. 본 발명은 상술한 실시 예들 이외에도, 단순하게 설계 변경되거나 용이하게 변경할 수 있는 실시 예들도 포함할 것이다. 또한, 본 발명은 실시 예들을 이용하여 용이하게 변형하여 실시할 수 있는 기술들도 포함될 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 실시 예들에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 할 것이다.The above are specific embodiments for carrying out the present invention. In addition to the above-described embodiments, the present invention will also include embodiments that can be simply designed or easily changed. In addition, the present invention will also include techniques that can be easily modified and implemented using embodiments. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, and should be determined not only by the claims to be described later but also by the claims and equivalents of the present invention.

Claims (6)

내부로 유입된 유해 가스를 세정하여 1차 정화 처리하는 가스유도 및 세정 유닛; 및
상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 필터링 유닛을 포함하되,
상기 가스유도 및 세정 유닛은,
세정 본체부보다 단면적이 좁게 형성되는 세정 네크부와, 상기 세정 본체부와 상기 세정 네크부를 경사지게 연결하여 소용돌이를 유도하는 세정 경사부를 구비하는 호퍼부;
상기 호퍼부 위에 마련되며, 상기 내부로 유입된 유해 가스의 흐름의 싸이클론 회전을 유도하는 싸이클론 회전부;
상기 세정 본체부와 상기 싸이클론 회전부 외부 사이로 유도되어 싸이클론 회전하는 유해 가스를 세정하기 위해 물을 분사하는 제 1 세정 노즐; 및
상기 싸이클론 회전부 내부를 통해 상기 필터링 유닛으로 향해 흐르는 잔류 가스를 세정하기 위해 물을 분사하는 제 2 세정 노즐을 포함하는 웨트 스크러버.
A gas induction and cleaning unit that performs primary purification by cleaning harmful gases introduced into the interior; And
It includes a filtering unit for secondary purification by filtering the residual gas remaining in the gas induction and cleaning unit and moved upward,
The gas induction and cleaning unit,
A hopper portion having a cleaning neck portion having a narrower cross-sectional area than the cleaning body portion, and a cleaning inclined portion connecting the cleaning body portion and the cleaning neck portion obliquely to induce a vortex;
It is provided on the hopper portion, a cyclone rotating portion for inducing a cyclone rotation of the flow of harmful gas flowing into the interior;
A first cleaning nozzle which is guided between the cleaning main body part and the outside of the cyclone rotating part and sprays water to clean the harmful gas rotating in the cyclone; And
And a second scrubbing nozzle that sprays water to clean residual gas flowing through the cyclone rotating portion toward the filtering unit.
제 1 항에 있어서,
상기 싸이클론 회전부는,
원기둥 모양의 하부 수직부; 및
하부 수직부의 상단에서 경사지게 배치되고 상기 하부 수직부 방향으로 내려 갈수록 상기 내부로 유입된 유해 가스의 회전 공간을 넓게 형성하는 상부 경사부를 포함하는 웨트 스크러버.
According to claim 1,
The cyclone rotating unit,
A cylindrical lower vertical portion; And
A wet scrubber including an upper inclined portion which is disposed to be inclined at the upper portion of the lower vertical portion and widens a rotation space of harmful gas introduced into the interior as it goes down toward the lower vertical portion.
제 2 항에 있어서,
상기 제 1 세정 노즐은 상기 하부 수직부를 회전하는 유해 가스를 향해 상기 하부 수직부의 접선 방향으로 물을 분사하는 웨트 스크러버.
According to claim 2,
The first cleaning nozzle is a wet scrubber spraying water in a tangential direction of the lower vertical portion toward a noxious gas rotating the lower vertical portion.
제 2 항에 있어서,
상기 제 2 세정 노즐은 상기 상부 경사부에 설치되며, 상기 필터링 유닛으로 향하는 잔류 가스에 물을 분사하기 위한 복수의 노즐을 구비하는 웨트 스크러버.
According to claim 2,
The second cleaning nozzle is installed in the upper inclined portion, a wet scrubber having a plurality of nozzles for spraying water to the residual gas directed to the filtering unit.
제 1 항에 있어서,
상기 필터링 유닛은,
상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류 가스를 필터링하는 장소를 형성하는 필터링 유닛 케이싱; 및
상기 필터링 유닛 케이싱 내에 마련되어 상기 잔류 가스를 필터링하는 필터 모듈을 포함하는 웨트 스크러버.
According to claim 1,
The filtering unit,
A filtering unit casing forming a place for filtering residual gas remaining in the gas induction and cleaning unit and moving upward; And
A wet scrubber including a filter module provided in the filtering unit casing to filter the residual gas.
제 1 항에 있어서,
상기 필터링 유닛의 상부에 결합되며, 정화 처리가 완료된 처리 가스가 배출되는 배출 유닛을 더 포함하되,
상기 배출 유닛은 상기 필터링 유닛을 세척하기 위한 세척 노즐을 포함하고, 상기 세척 노즐은 필요한 경우에만 사용하도록 잠금 장치가 설치되는 웨트 스크러버.
According to claim 1,
Is coupled to the upper portion of the filtering unit, further comprising a discharge unit for discharging the processing gas is completed purification process,
The discharge unit includes a cleaning nozzle for cleaning the filtering unit, and the cleaning nozzle is equipped with a locking device for use only when necessary.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102193296B1 (en) * 2020-08-31 2020-12-22 탁용녀 industrial dust collector
KR102284626B1 (en) * 2020-12-14 2021-08-02 임성근 Dust Collector
KR20230107149A (en) * 2022-01-07 2023-07-14 김태근 A Multi-Cyclone Type of an Apparatus for Removing a Dust and a Odor Utilizing a Mist Cloud

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