KR102025152B1 - Vortex type wet scrubber - Google Patents

Vortex type wet scrubber Download PDF

Info

Publication number
KR102025152B1
KR102025152B1 KR1020170041668A KR20170041668A KR102025152B1 KR 102025152 B1 KR102025152 B1 KR 102025152B1 KR 1020170041668 A KR1020170041668 A KR 1020170041668A KR 20170041668 A KR20170041668 A KR 20170041668A KR 102025152 B1 KR102025152 B1 KR 102025152B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
cleaning
vortex
cleaning liquid
main body
Prior art date
Application number
KR1020170041668A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180111152A (en
Inventor
홍은표
Original Assignee
(주)씨앤지테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)씨앤지테크 filed Critical (주)씨앤지테크
Priority to KR1020170041668A priority Critical patent/KR102025152B1/en
Publication of KR20180111152A publication Critical patent/KR20180111152A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102025152B1 publication Critical patent/KR102025152B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/02—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D45/00—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces
    • B01D45/12—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
    • Y02A50/2351—Atmospheric particulate matter [PM], e.g. carbon smoke microparticles, smog, aerosol particles, dust

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

와류형 세정집진장치가 개시되어 있다. 이 개시된 장치는 복수의 세정액 주입구와, 기체 유입구와, 기체 배출구 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구가 형성되며, 내부에 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 챔버가 형성된 본체와; 운전 중 하단부가 복수의 세정액 중 제1세정액에 잠기도록 본체 내에 설치되며, 기체 유입구에 연통되며 기체 유입구를 통해 유입된 기체가 제1세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스가 형성된 제1기체분사로와; 제1오리피스를 통해 배출되는 기체와 미립자 상태의 제1세정액이 충돌하도록 본체 내부에 설치되어, 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 하는 제1와류형성부와; 본체 내부에 제1와류형성부와 연통되게 설치되며, 유입된 기체 및 미립자 상태의 제1세정액이 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제2오리피스가 형성된 제2기체분사로와; 제2오리피스를 통해 배출되는 기체와 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 충돌하도록 본체 내부에 설치되어, 배출되는 기체의 분사 배출력에 의해 제2기체분사로 외측에 충돌하면서 와류가 형성되도록 하는 제2와류형성부를 포함한다.Vortex type dust collector is disclosed. The disclosed apparatus includes a main body having a plurality of cleaning solution inlets, a gas inlet, a gas outlet, and a plurality of cleaning solution outlets for discharging the used cleaning solution, and a chamber in which each of the plurality of cleaning solutions is separately stored; The first gas is installed in the main body so that the lower end is submerged in the first cleaning liquid of the plurality of cleaning liquids, the first gas is in communication with the gas inlet, the first orifice is formed to inject and discharge the gas introduced through the gas inlet into the first cleaning liquid With a spray furnace; A first vortex forming unit installed inside the main body such that the gas discharged through the first orifice collides with the first cleaning liquid in a particulate state, such that a vortex is formed by the jet discharge force of the gas; A second gas injection furnace installed in communication with the first vortex forming unit, the second orifice having a second orifice formed therein for injecting and discharging the first cleaning liquid in the gaseous and particulate state into the second cleaning liquid; It is installed inside the main body so that the gas discharged through the second orifice and the first and second cleaning liquids in the form of particulates collide with each other by the jet discharge force of the discharged gas so that the vortex is formed outside. And a second vortex forming unit.

Description

와류형 세정집진장치{Vortex type wet scrubber}Vortex type wet scrubber

본 발명은 세정집진장치에 관한 것으로서, 상세하게는 산업현장이나 소각로에서 배출되는 유해가스와 분진등의 대기오염물질을 처리하는 와류형 세정집진장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scrubber, and more particularly, to a vortex scrubber that processes air pollutants such as harmful gases and dusts emitted from industrial sites or incinerators.

일반적으로 산업현장이나 소각로에서 발생되는 유해가스와 분진 등의 대기오염물질은 환경오염과 인체에 치명적인 질병을 초래한다. 한편 배출되는 대기오염물질들의 다양성으로 인하여, 특성과 처리방식이 다른 여러 종류의 대기오염물질을 동시에 처리해야 할 처리시설이 요구되고 있다. 이에 따라 산업단지 내 공장에서는 다양한 대기오염물질 각각의 처리를 위하여 추가적인 설비 설치와 유지 관리가 필요한 실정이다. 표 1은 대기오염물질의 처리방식과 처리 및 운영특성을 요약한 것이다. In general, air pollutants such as harmful gases and dust generated at industrial sites or incinerators cause environmental pollution and fatal diseases to the human body. On the other hand, due to the variety of air pollutants emitted, a treatment facility that needs to simultaneously treat various types of air pollutants with different characteristics and treatment methods is required. Accordingly, in the industrial complex, additional facilities need to be installed and maintained for treatment of various air pollutants. Table 1 summarizes the treatment methods, treatment and operational characteristics of air pollutants.

구분division 물리적 처리(원심, 여과, 전기집진)Physical treatment (centrifugal, filtration, electrostatic precipitation) 화학적 처리
(활성탄흡착, 약액세정방식)Chemical treatment
(Activated carbon adsorption, chemical liquid cleaning method) 생물학적 처리
(토양, 미생물처리)Biological treatment
(Soil, Microbial Treatment) 소각 처리
(직접, 간접연소처리)Incineration
(Direct, indirect combustion processing) 입자상물질
(미세분진)Particulate matter
(Fine dust) - 처리할 수 있는 입자경이 제한적임
- 전기집진의 경우 전력비가 많이 높음-Limited particle size that can be processed
-In the case of electric dust collection, the power cost is very high. 활성탄흡착제 및 충진층(Pall Ring)의 패색현상 발생으로 주기적인 교체 및 청소가 필요함Periodic replacement and cleaning is necessary due to the color development of activated carbon adsorbent and filler ring. 토양층 및 미생물층의 패색현상발생으로 안정적 처리가 어려움Difficult to handle stably due to color development of soil layer and microbial layer 조대 입자상물질을
처리하기 위해 Pre-filter 등의 전처리가 필요함Coarse particulate matter
Pre-treatment such as pre-filter is necessary to process 악취물질Odor substances 처리불가Unprocessable - 활성탄흡착: 성상별 선택 처리(산성, 알칼리성)
- 고농도 악취처리 가능-Activated carbon adsorption: Selective treatment by properties (acidic, alkaline)
-High concentration odor treatment - 중/저농도 악취처리 가능
- 지속적으로 유기물공급이 필요함-Possible to deal with medium / low concentration odor
-Continuous supply of organic matter 악취처리를 위해 연료비가 높음(VOC 등 휘발성가스 처리에 적합)High fuel cost for odor treatment (suitable for treating volatile gases such as VOC) 복합가스Complex gas 악취물질의 처리 불가No treatment of odorous substances 미세분진으로 인해 여재층의 패색현상이 발생하여 처리가 어려움Difficult to handle due to the color phenomenon of media layer due to fine dust 시설비가 많이 들고, 유지관리비가 고가임High facility cost and high maintenance cost

최근에는 여러 산업분야에서 다양한 대기오염물질 처리 공정을 하나의 시설에 합쳐 적용하는 하이브리드 처리시설이 사용되고 있다. 하지만 하이브리드 방식 처리시설은 설치 및 유지비용이 비교적 고가이고, 기존의 각 용도별 오염물질 처리시설을 하나로 합쳐 놓은 시설이기 때문에 각각의 처리시설이 가지는 단점을 극복하는데 한계가 있다.Recently, hybrid treatment facilities have been used in various industries to apply various air pollutant treatment processes in one facility. However, the hybrid type treatment facility is relatively expensive to install and maintain, and it is limited to overcome the disadvantages of each treatment facility because it is a facility that combines the existing pollutant treatment facilities for each use.

또한 배출되는 대기오염물질 내에는 어떤 한 조건에서 모두 제거가 가능하지 않은 매우 다양한 종류의 대기오염물질이 혼재한다. 예를 들어 혼재하는 대기오염물질로는 표 2에 나타낸 바와 같은 가스 물질 등이 있으며, 세정집진장치를 통하여 처리가 이루어진다. 표 2는 배출가스 성분에 따른 스크러빙(scrubbing) 세정액의 종류와 처리원리를 나타내고 있다.In addition, there are a wide variety of air pollutants that cannot be removed under any one condition. For example, mixed air pollutants include gaseous substances as shown in Table 2, and the treatment is performed through a scrubber. Table 2 shows the types and treatment principles of scrubbing cleaning liquids according to the off-gas components.

스크러빙 액체Scrubbing liquid 처리가능 가스 성분Treatable Gas Components 처리원리Processing principle NaOHNaOH 황화수소, 메틸메르캅탄, 페놀 등Hydrogen sulfide, methyl mercaptan, phenol, etc. 중화반응Neutralization NaClONaClO 이황화메틸, 황화메틸 Methyl disulfide, methyl sulfide 산화, 흡수 Oxidation, absorption H2SO4 H 2 SO 4 암모니아, 아민, 파라딘Ammonia, amine, paradine 산화, 흡수Oxidation, absorption NaONNaON 포름알데히드Formaldehyde 유기산으로 변화 후 중화반응Neutralization reaction after conversion to organic acid Na2SO3 Na 2 SO 3 포름알데히드Formaldehyde 반응 후 물에 흡수되는 성분으로 변화Change to components absorbed by water after reaction NaClONaClO 포름알데히드, 아크로레인Formaldehyde, Acrolein 아크릴산으로 변화 후 중화흡수Neutralization after change to acrylic acid

일반적인 세정집진장치의 입자 및 가스 물질의 포집 원리는 액적과 입자의 충돌, 미립자의 확산에 의한 접촉 면적, 증기의 응결로 인한 응집성 촉진, 액막 및 기포와의 입자 접촉 등이 있다.The principle of collecting particles and gaseous materials in general scrubbers includes collision of droplets and particles, contact area by diffusion of fine particles, promotion of cohesiveness due to condensation of steam, and particle contact with liquid film and bubbles.

종래의 세정집진장치는 상기한 복합 오염물질을 동시에 제거하기 어렵고, 먼지 및 용해도가 매우 높은 가스상 오염물질의 제거만을 위해 사용되고 있다. 또한 압력 손실, 세정액의 증발이나 염의 생성에 의한 오리피스의 막힘 등과 같은 여러 단점들을 가지고 있기 때문에 경제성 및 효율성이 떨어진다.Conventional cleaning dust collectors are difficult to remove the complex contaminants at the same time, and are used only for the removal of dust and gaseous contaminants with high solubility. In addition, there are various disadvantages such as pressure loss, evaporation of the cleaning liquid, or clogging of the orifice due to salt formation, and the like, so that the economy and efficiency are inferior.

한국 등록특허 제10-1483392호Korean Patent Registration No. 10-1483392 한국 등록특허 제10-1457421호Korea Patent Registration No. 10-1457421

본 발명은 다양한 대기오염물질인 입자상 물질 및 가스상 물질을 높은 효율로 동시 제거가 가능한 와류형 세정집진장치를 제공하는데 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a vortex type scrubber that can simultaneously remove particulate matter and gaseous substances that are various air pollutants with high efficiency.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 와류형 세정집진장치는 복수의 세정액이 각각 주입되는 복수의 세정액 주입구와, 외부로부터 기체가 유입되는 기체 유입구와, 유입된 기체가 세정되어 배출되는 기체 배출구 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구가 형성되며, 내부에 상기 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 챔버가 형성된 본체와; 운전 중 하단부가 상기 복수의 세정액 중 제1세정액에 잠기도록 상기 본체 내에 설치되며, 상기 기체 유입구에 연통되며 상기 기체 유입구를 통해 유입된 기체가 상기 제1세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스가 형성된 제1기체분사로와; 상기 제1오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 상기 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 하는 제1와류형성부와; 상기 본체 내부에 상기 제1와류형성부와 연통되게 설치되며, 유입된 상기 기체 및 미립자 상태의 상기 제1세정액이 상기 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제2오리피스가 형성된 제2기체분사로와; 상기 제2오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 배출되는 상기 기체의 분사 배출력에 의해 상기 제2기체분사로 외측에 충돌하면서 와류가 형성되도록 하는 제2와류형성부를 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, the vortex-type cleaning dust collector according to the present invention is a plurality of cleaning liquid inlet port, each of which is injected with a plurality of cleaning liquids, the gas inlet for the gas is introduced from the outside, the gas is cleaned and discharged A main body having a discharge port and a plurality of cleaning liquid discharge ports for discharging the used cleaning liquid, and a chamber in which each of the plurality of cleaning liquids is separately stored; The first orifice is installed in the main body so that the lower end is immersed in the first cleaning liquid of the plurality of cleaning liquids, and communicates with the gas inlet, and the gas introduced through the gas inlet is injected and discharged into the first cleaning liquid. A first gas spray furnace formed with; A first vortex forming unit installed inside the main body such that the gas discharged through the first orifice and the first cleaning liquid in a particulate state collide with each other, such that a vortex is formed by the ejection force of the gas; The second gas injection furnace is installed in the main body in communication with the first vortex forming unit, the second orifice is formed to inject and discharge the first cleaning liquid in the state of the gas and particulates introduced into the second cleaning liquid Wow; Installed inside the main body such that the gas discharged through the second orifice collides with the first and second cleaning liquids in a particulate state, and collides outside with the second gas injection by the injection discharge force of the discharged gas. It may include a second vortex forming portion to form a vortex.

여기서 제1챔버의 상부에서 기체유입구보다 높은 위치에 설치되고, 제1세정액을 분사하는 세정액 분사노즐을 더 포함하여, 상기 기체 유입구로부터 유입된 상기 기체에 포함된 대기오염물질을 일차적으로 제거할 수 있다.In this case, the first chamber is installed at a position higher than the gas inlet, and further includes a cleaning liquid injection nozzle for injecting the first cleaning liquid, the air pollutants contained in the gas introduced from the gas inlet can be primarily removed. have.

또한 본 발명은 상기 복수의 세정액 주입구 각각에 연결되도록 설치되어, 상기 본체 내부에 수용된 상기 복수의 세정액 각각의 수위를 조절하는 복수의 수위조절부를 더 포함하며, 상기 제1세정액의 수위가 상기 제2세정액의 수위보다 낮도록 조절할 수 있다.The present invention further includes a plurality of water level adjusting units installed to be connected to each of the plurality of cleaning liquid inlets, and adjusting the level of each of the plurality of cleaning liquids contained in the main body, wherein the level of the first cleaning liquid is the second level. It can be adjusted to be lower than the level of the cleaning liquid.

또한 본 발명은 상기 본체의 상부에 설치되어, 상기 기체배출구로 배출되는 기체에 포함된 잔여 오염물질 및 미립자 상태 세정액을 제거하는 데미스터 필터를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include a demister filter installed at an upper portion of the main body to remove residual contaminants and particulate state cleaning liquids contained in the gas discharged to the gas discharge port.

또한 본 발명은 상기 제2기체분사로 내벽에 돌출 형성되어, 상기 제2기체분사로 내부로 이동하는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액의 흐름을 안내하는 가이드돌기를 더 포함할 수 있다.In another aspect, the present invention may further include a guide protrusion protruding from the inner wall of the second gas sprayer to guide the flow of the first cleaning liquid in the state of the gas and the particulates moving into the second gas sprayer.

상기 챔버는 상기 본체 하단부 내에 깔때기 형상으로 형성된 하나의 공간으로 이루어지며, 상기 챔버 내에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버를 구획하는 챔버 분리판을 더 포함할 수 있다.The chamber may further include a chamber separation plate formed of one space formed in a funnel shape in the lower end of the main body, and installed in the chamber and partitioning the chamber so that each of the plurality of cleaning liquids may be independently received. .

또한 상기 챔버는 상기 본체 하단부에 각각 깔때기 형상으로 형성된 복수의 공간으로 이루어지고 상단부가 연통되게 형성되며, 상기 챔버의 연통 위치에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버의 상단부를 구획하는 챔버 분리판을 더 포함할 수 있다.In addition, the chamber is formed of a plurality of spaces each having a funnel shape at the lower end of the main body, the upper end is formed in communication with each other, is installed in the communication position of the chamber, so that each of the plurality of cleaning liquids can be independently received It may further include a chamber separator for partitioning the upper end.

상기 제1와류형성부는, 상기 챔버 분리판에서 상기 제2기체분사로 내부로 경사지게 연장 형성된 가이드부와; 상기 가이드부에 돌출 형성되며 와류 형성을 안내하는 제1와류형성판과; 상기 가이드부에 대향되는 상기 제1기체분사로의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부를 포함할 수 있다.The first vortex forming part includes: a guide part extending inclined inwardly from the chamber separation plate to the second gas injection; A first vortex forming plate protruding from the guide part and guiding vortex formation; It may include a first gas-liquid separator formed to be inclined at a predetermined position to the first gas injection path facing the guide portion, separating the gas and liquid.

또한 상기 제1와류형성부는, 상기 챔버 분리판 상에 상기 제1기체분사로 방향으로 라운드지게 연장 형성되어, 와류 형성을 안내하는 와류 형성 가이드부와; 상기 와류 형성 가이드부에 대향되는 상기 제1기체분사로의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부와; 상기 와류 형성 가이드부에서 상기 제2기체분사로 내부로 연장 형성되어 유체의 흐름을 가이드하는 유체 가이드부를 포함할 수 있다.The first vortex forming unit may further include a vortex forming guide unit extending round in the direction of the first gas injection on the chamber separator to guide vortex formation; A first gas-liquid separator formed to be inclined at a predetermined position of the first gas injection path opposite to the vortex forming guide part, to separate gas and liquid; It may include a fluid guide portion extending from the vortex forming guide portion to the second gas injection to guide the flow of the fluid.

상기 제2와류형성부는, 상기 본체의 측벽에 상기 제2기체분사로 방향으로 돌출 형성되며, 와류 형성을 안내하는 제2와류형성판과; 상기 제2와류 형성판에 대향되는 상기 제2기체분사로의 소정 위치에 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제2기액분리부를 포함할 수 있다.The second vortex forming unit includes: a second vortex forming plate protruding in the direction of the second gas injection on the sidewall of the main body and guiding vortex formation; It may include a second gas-liquid separator formed at a predetermined position to the second gas injection path facing the second swirl forming plate, separating the gas and the liquid.

또한 본 발명에 따른 와류형 세정집진장치는 상기한 와류형 세정집진장치를 복수개 포함하고, 이들을 물리적으로 결합하여 하나의 시스템을 구현하되, 상기 기체 유입구와 상기 기체 배출구 및 본체는 공통으로 사용하도록 할 수 있다. In addition, the vortex type scrubber according to the present invention includes a plurality of the vortex type scrubber, and physically combine them to implement a single system, the gas inlet and the gas outlet and the main body to be used in common Can be.

본 발명에 따른 와류형 세정집진장치는 독립 된 챔버 내에 각각 수용되는 세정액의 성상 (pH등)을 대기오염물질의 성상에 맞게 조절함으로써, 여러 가지 성상을 가지는 복합적인 대기오염물질들을 동시에 효과적으로 제거할 수 있다.The vortex type scrubber according to the present invention can effectively remove complex air pollutants having various properties simultaneously by adjusting the properties (pH, etc.) of cleaning liquids contained in separate chambers according to the properties of air pollutants. Can be.

본 발명에 따른 와류형 세정집진장치는 분리된 두 개 이상의 챔버를 설치한 후, 각각의 챔버에 위치한 오리피스를 이용하여 세정액의 강력한 와류를 생성함으로써, 세정액과 대기오염물질들의 충돌 및 접촉 횟수를 높이고 접촉되는 면적을 증가시킬 수 있다. 이에 따라 오염물질의 제거 효율을 높일 수 있다.In the vortex type dust collector according to the present invention, after installing two or more separate chambers, a powerful vortex of the cleaning liquid is generated using an orifice located in each chamber, thereby increasing the number of collisions and contacts between the cleaning liquid and the air pollutants. It is possible to increase the area in contact. Accordingly, the removal efficiency of the contaminants can be improved.

또한 본 발명에 따른 와류형 세정집진장치는 적어도 두 대의 세정집진장치를 결합하여 하나의 시스템으로 구성함으로써, 독립적인 세정집진장치를 두 대 적용하는 것과 대비하여 볼 때 효과적인 공간 구성이 가능함과 아울러, 일부 구성요소을 공통으로 사용함으로써 경제성을 높일 수 있다. 또는 시스템에 사용되는 세정액의 종류와 환경을 독립적으로 설정함으로써, 다양한 유형의 대기오염물질을 동시에 제거할 수 있다.In addition, the vortex type scrubber according to the present invention combines at least two scrubbers and constitutes a single system, so that an effective space configuration is possible as compared to the application of two independent scrubbers. By using some components in common, economics can be improved. Alternatively, various types of air pollutants can be removed at the same time by setting the type and environment of the cleaning liquid used in the system independently.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 와류형 세정집진장치를 이용한 먼지 제거효율을 나타낸 그래프이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 와류형 세정집진장치를 이용한 가스 제거효율을 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.
도 7은 본 발명의 제5실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a vortex type dust collector according to a first embodiment of the present invention.
2 is a graph showing dust removal efficiency using the vortex type dust collector according to the first embodiment of the present invention.
3 is a graph showing the gas removal efficiency using the vortex type dust collector according to the first embodiment of the present invention.
4 is a configuration diagram of the vortex type dust collecting device according to the second embodiment of the present invention.
5 is a block diagram of a vortex type dust collector according to a third embodiment of the present invention.
6 is a block diagram of a vortex type dust collecting device according to a fourth embodiment of the present invention.
7 is a configuration diagram of the vortex type dust collecting device according to the fifth embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 내부에 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 복수의 챔버(10a)(10b)가 형성된 본체(10), 제1기체분사로(20), 제1와류형성부(30), 제2기체분사로(40) 및 제2와류형성부(50)를 포함한다. 도 1은 복수의 챔버로서 후술하는 챔버 분리판(11)에 의하여 분리 된 제1챔버(10a)와 제2챔버(10b)를 포함한 경우를 예로 들어 나타낸 것이다.1 is a block diagram of a vortex type dust collector according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the vortex cleaning dust collecting apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a main body 10 and a first gas in which a plurality of chambers 10a and 10b are formed to separately store a plurality of cleaning liquids therein. The injection path 20, the first vortex forming unit 30, the second gas injection furnace 40, and the second vortex forming unit 50 are included. FIG. 1 illustrates an example in which a plurality of chambers include a first chamber 10a and a second chamber 10b separated by a chamber separation plate 11 to be described later.

상기 본체(10)에는 외부로부터 기체가 유입되는 기체 유입구(12)와, 복수의 세정액이 각각 주입되는 복수의 세정액 주입구(13)와, 유입된 기체가 세정되어 배출되는 기체 배출구(17) 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구(19)가 형성되어 있다. 도 1에서 본체(10) 내에 표시된 화살표는 기체 유입구(12)로부터 주입된 기체와 기체가 세정액을 통과하면서 발생 되어 기체와 이와 함께 유동하는 세정액 미립자의 흐름을 나타낸다. 본체(10)는 원통형이나 다면체 구조의 통 형상으로 구성될 수 있다.The main body 10 has a gas inlet 12 through which gas is introduced from the outside, a plurality of cleaning liquid inlets 13 through which a plurality of cleaning liquids are injected, and a gas outlet 17 through which the introduced gas is cleaned and discharged. A plurality of cleaning liquid discharge ports 19 for discharging the post-cleaning liquid are formed. In FIG. 1, arrows indicated in the main body 10 indicate the flow of the gas and the cleaning liquid particles injected from the gas inlet 12 while the gas flows through the cleaning liquid and flows with the gas. The main body 10 may be configured in a cylindrical shape of a cylindrical or polyhedral structure.

상기 기체 유입구(12)는 본체(10)의 측벽 외부에 설치될 수 있으며, 처리대상물질인 대기오염물질을 포함하는 기체가 기체 유입구(12)로 유입될 수 있다. 상기 기체 배출구(17)는 본체(10)의 상단부에 설치될 수 있다. 예를 들어 기체 배출구(17)는 본체(10)의 상단 중앙에 설치될 수 있다. 이 기체 배출구(17)로는 기체 유입구(12)를 통하여 유입된 기체 중 세정집진장치 내에서 대기오염물질이 제거된 후 깨끗한 공기가 최종적으로 배출될 수 있다.The gas inlet 12 may be installed outside the side wall of the main body 10, and a gas containing an air pollutant, which is a treatment target material, may be introduced into the gas inlet 12. The gas outlet 17 may be installed at an upper end of the main body 10. For example, the gas outlet 17 may be installed at the top center of the main body 10. The air outlet 17 may finally discharge clean air after the air pollutant is removed from the scrubbing unit among the gas introduced through the gas inlet 12.

복수의 세정액 주입구(13)로서 제1 및 제2챔버(10a)(10b)에 각각 세정액을 주입하는 제1 및 제2세정액 주입구(13a)(13b)를 포함할 수 있다. 제1세정액 주입구(13a)는 상기 기체 유입구(12)가 배치되는 본체(10)의 일 측벽 외부에 상기 기체 유입구(2) 보다 낮은 위치 즉 제1오리피스(25)에 대응되는 위치에 설치 될 수 있다. 상기 제1세정액 주입구(13a)는 제1챔버(10a)에 제1세정액을 주입하는 역할을 한다. 제2세정액 주입구(13b)는 제2챔버(10b)에 제2세정액을 주입하는 곳으로, 제2오리피스(45)에 대응되는 위치에 설치 될 수 있다.The plurality of cleaning liquid inlets 13 may include first and second cleaning liquid inlets 13a and 13b for injecting the cleaning liquid into the first and second chambers 10a and 10b, respectively. The first cleaning liquid inlet 13a may be installed at a position lower than the gas inlet 2, that is, corresponding to the first orifice 25, on an outer sidewall of the main body 10 where the gas inlet 12 is disposed. have. The first cleaning liquid injection hole 13a serves to inject the first cleaning liquid into the first chamber 10a. The second washing liquid injection hole 13b is a place for injecting the second washing liquid into the second chamber 10b and may be installed at a position corresponding to the second orifice 45.

또한 본 발명은 상기 본체(10) 내부에 수용된 복수의 세정액 각각의 수위를 확인하고 조절하는 복수의 수위조절부(15)를 더 포함할 수 있다. 이 수위조절부(15)는 수위 확인을 위한 수위 게이지와 압력 확인을 위한 압력 게이지를 구비할 수 있다. In addition, the present invention may further include a plurality of water level control unit 15 for checking and adjusting the level of each of the plurality of cleaning liquid contained in the main body 10. The level control unit 15 may be provided with a level gauge for checking the water level and a pressure gauge for checking the pressure.

상기 수위조절부(15)는 제1 및 제2챔버(10a)(10b) 각각에 채워지는 세정액의 수위를 확인함과 동시에, 운전시 기체 유입구(12)에서의 압력을 측정하여 전체 장치의 압력손실을 확인할 수 있도록 설치되어 있다. 측정 압력손실의 크기로 세정액의 교환 주기를 설정할 수도 있다. 수위조절부(15)는 제1 및 제2세정액 주입구(13a)(13b) 각각에 직접 연결되거나 외부로 연장 연결된 제1 및 제2수위조절부(15a)(15b)를 포함할 수 있으며, 제1 및 제2수위조절부(13a)(13b)는 상기 제1세정액의 수위가 상기 제2세정액의 수위보다 낮도록 조절할 수 있다. 이와 같이 수위조절부(15)를 구비함으로써, 지속적으로 압력손실을 파악하고 세정액 교환주기를 쉽게 진단할 수 있어서, 경제적으로 설비를 운영할 수 있다. The water level control unit 15 checks the level of the cleaning liquid filled in each of the first and second chambers 10a and 10b, and at the same time, measures the pressure at the gas inlet 12 during operation to pressure the entire apparatus. It is installed to confirm the loss. It is also possible to set the replacement cycle of the cleaning liquid by the magnitude of the measured pressure loss. The water level control unit 15 may include first and second water level control units 15a and 15b directly connected to the first and second cleaning solution inlets 13a and 13b or extended to the outside. The first and second water level adjusting units 13a and 13b may adjust the level of the first washing liquid to be lower than that of the second washing liquid. By providing the water level control unit 15 as described above, it is possible to continuously detect the pressure loss and easily diagnose the cleaning liquid replacement cycle, thereby economically operating the equipment.

상기 복수의 세정액 배출구(19)는 본체(10)의 하단부에 각 챔버(10a)(10b)와 연결되도록 설치된다. 복수의 세정액 배출구(19)로서 제1 및 제2챔버(10a)(10b) 각각으로부터 세정액을 제거하는 제1 및 제2세정액 배출구(19a)(19b)를 포함할 수 있다.The plurality of cleaning liquid discharge ports 19 are installed to be connected to the respective chambers 10a and 10b at the lower end of the main body 10. The plurality of cleaning solution outlets 19 may include first and second cleaning solution outlets 19a and 19b for removing the cleaning solution from each of the first and second chambers 10a and 10b.

상기한 바와 같이 본 발명의 제1실시예에 따른 세정집진장치는 제1챔버(10a)와 제2챔버(11)가 물리적으로 분리되어 있어서 각기 다른 성상의 세정액을 사용할 수 있도록 구성되어 있다. 각 챔버(10a)(10b) 별로 세정액의 물리화학적 성질을 조절하거나 차별화함으로써, 특성이 다른 대기오염물질에 대한 동시처리 및 효율적인 처리가 가능하다.As described above, the cleaning dust collecting apparatus according to the first exemplary embodiment of the present invention is configured such that the first chamber 10a and the second chamber 11 are physically separated so that cleaning liquids having different properties can be used. By adjusting or differenting the physicochemical properties of the cleaning liquid for each chamber 10a and 10b, simultaneous and efficient treatment for air pollutants with different characteristics is possible.

상기 제1기체분사로(20)는 그 하단부가 운전 중 제1챔버(10a) 내에 수용된 제1세정액에 잠기도록 상기 본체(10) 내에 설치되어, 상기 기체 유입구(12)로부터 주입된 오염물질을 포함한 기체를 일차적으로 전달한다. 이 제1기체분사로(20)는 제1구획판(21)과, 상기 기체 유입구(12)를 통해 유입된 기체가 상기 제1세정액을 통과하여 제1와류형성부(30)로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스(25)를 포함할 수 있다.The first gas injection furnace 20 is installed in the main body 10 so that the lower end thereof is immersed in the first cleaning liquid contained in the first chamber 10a during operation, so that the pollutants injected from the gas inlet 12 are removed. Deliver the gas containing primarily. The first gas injection furnace 20 is sprayed and discharged through the first compartment plate 21 and the gas inlet 12 through the first cleaning liquid to the first vortex forming unit 30. The first orifice 25 may be included.

또한 본 발명의 제1실시예에 따른 세정집진장치는 제1기체분사로(20)에 설치되어 제1세정액을 분사하는 세정액 분사노즐(60)을 더 포함할 수 있다. 상기 세정액 분사노즐(60)은 상기 기체 유입구(11)보다 위쪽에 적어도 하나 이상 설치될 수 있다. 따라서 기체 유입구(12)로부터 유입된 기체 흐름은 상기 제1구획판(21)에 이르기 전, 상기 세정액 분사노즐(60)로부터 분사되는 제1세정액과 접촉하면서, 제1세정액에 의하여 대기오염물질(가스상, 입자상 등)이 1차적으로 제거될 수 있다.In addition, the cleaning dust collecting apparatus according to the first embodiment of the present invention may further include a cleaning liquid injection nozzle 60 is installed in the first gas injection furnace 20 to spray the first cleaning liquid. The cleaning liquid injection nozzle 60 may be installed at least one above the gas inlet 11. Therefore, the gas flow introduced from the gas inlet 12 comes into contact with the first cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid jetting nozzle 60 before reaching the first compartment plate 21, and the air pollutants ( Gas phase, particulate form, etc.) can be removed first.

상기 제1구획판(21)은 후술하는 제2 및 제3구획판(41)(47)과 함께 제1 및 제2기체분사로(20)(40)와, 제2와류형성부(50)와 기체 배출구(17) 사이의 공간을 구분한다. 제1구획판(21)은 제2구획판(41)과 수직 또는 경사지게, 예를 들어 70° 내지 110°의 각도로 연결될 수 있다. 또한 제1구획판(21)은 기체 유입구(11)와 마주보도록 배치될 수 있다. 예를 들어 제1구획판(21)는 기체 유입구(11)에 대해 소정 거리 이격된 상태에서 70° 내지 110°의 각도를 이루도록 배치될 수 있다. 이 경우 기체 유입구(12)의 입구를 넓게 확보할 수 있고, 그 전방 구성이 단순하여 기체 유입구(12)에서의 압력 감소가 최소화될 수 있다.The first partition plate 21 includes first and second gas spray paths 20 and 40 together with second and third partition plates 41 and 47 which will be described later, and a second vortex forming unit 50. And the space between the gas outlet 17. The first partition plate 21 may be connected to the second partition plate 41 at a vertical or inclined angle, for example, at an angle of 70 ° to 110 °. In addition, the first partition plate 21 may be disposed to face the gas inlet 11. For example, the first partition plate 21 may be disposed to form an angle of 70 ° to 110 ° with a predetermined distance from the gas inlet 11. In this case, the inlet of the gas inlet 12 can be secured widely, and the forward configuration thereof is simple, so that the pressure reduction at the gas inlet 12 can be minimized.

기체 유입구(12)로부터 유입된 기체가 상기 제1구획판(21)에 일차적으로 충돌할 수 있다. 제1구획판(21)의 하부는 제1챔버(5)에 담긴 제1세정액 속에 잠길 수 있다. 상기 기체 유입구(12)와 마주보는 상기 제1구획판(21)의 일 면에는 제1세정액이 코팅되어 있을 수 있다. 제1세정액의 코팅은 세정액 분사노즐(60)로부터의 분사를 통해 또는 다른 방법을 통해 수행될 수 있다. 이를 위해 제1구획판(21)은 적어도 하나의 세정액 분사노즐(60)와 인접하게 배치될 수 있다. 제1세정액의 코팅은 가스의 유입 전에 미리 수행될 수 있고, 또한 가스의 유입 후에도 지속적으로 이루어질 수 있다.Gas introduced from the gas inlet 12 may primarily collide with the first compartment plate 21. The lower portion of the first partition plate 21 may be immersed in the first cleaning liquid contained in the first chamber (5). One surface of the first compartment plate 21 facing the gas inlet 12 may be coated with a first cleaning solution. Coating of the first cleaning liquid may be carried out by spraying from the cleaning liquid spray nozzle 60 or through another method. To this end, the first partition plate 21 may be disposed adjacent to the at least one cleaning liquid injection nozzle 60. Coating of the first cleaning liquid may be carried out before the introduction of the gas, and may also be carried out continuously after the introduction of the gas.

유입된 기체에 포함 된 대기오염물질들은 상술한 세정액 분사노즐(60)을 통한 1차 제거 이후에 제1세정액이 코팅된 제1구획판(21)에 강한 압력으로 충돌하면서 2차적으로 제거 될 수 있다. 이와 같이 가스 유입 영역에서 세정액을 일부 분사하여 대기오염물질을 직접 제거함과 동시에, 제1구획판(4) 표면에 세정액을 코팅함으로써 충돌 시 대기오염물질의 제거효율을 증가시킬 수 있다.The air pollutants contained in the introduced gas may be secondarily removed while colliding with the first cleaning plate 21 coated with the first cleaning liquid at a high pressure after the first removal through the cleaning liquid injection nozzle 60 described above. have. As described above, the cleaning solution is sprayed in the gas inflow area to directly remove the air pollutants, and at the same time, the cleaning solution is coated on the surface of the first compartment 4 to increase the efficiency of removing the air pollutants.

제1챔버(10a)의 경계는 아래로는 본체(10)의 바닥부, 위로는 제3구획판(41), 좌우로는 본체(10)의 측벽과 챔버 분리판(11)으로 이루어져, 상기 기체 유입구(12)로부터의 기체 흐름이 제1챔버(10a)로 직접 유입될 수 있다. 상기한 2차 제거가 이루어진 후의 기체 흐름은 제1챔버(10a) 내부에 채워진 제1세정액과 접촉하면서, 기체 흐름 내에 잔류하는 입자상 물질 및 특정 가스상 물질이 3차적으로 제거 될 수 있다.The boundary of the first chamber 10a consists of a bottom portion of the main body 10 below, a third partition plate 41 above, a side wall of the main body 10 and a chamber separating plate 11 of the left and right sides thereof. Gas flow from the gas inlet 12 may enter the first chamber 10a directly. The gas stream after the secondary removal is contacted with the first cleaning liquid filled in the first chamber 10a, and the particulate matter and the specific gaseous substance remaining in the gas stream may be removed in a third manner.

상기 챔버 분리판(11)은 적어도 1회 이상 절곡되어 방향 전환이 이루어질 수 있는데, 도 1에 예시된 바와 같이, 아래로부터 순차적으로 수직부(11a)와 경사부(11b)로 구성될 수 있다. 경사부(11b)는 그 상단부가 상기 제1오리피스(25) 높이에 위치되며 후술하는 가이드부(31)의 경사방향과 반대방향으로 경사지게 형성될 수 있다. 즉 경사부(11b)는 그 상단부가 제2오리피스(45)로부터 멀어지는 방향으로 경사지게 상기 수직판(11a)에 설치된다. 이와 같이 챔버 분리판(11)의 상단부를 경사부(11b)로 구성할 경우 제1오리피스(25)와의 간섭을 피하면서 효과적으로 제1세정액의 손실을 막고 충돌에 의한 제거효율을 개선할 수 있다.The chamber separation plate 11 may be bent at least one or more times to change direction. As illustrated in FIG. 1, the chamber separation plate 11 may be formed of a vertical portion 11a and an inclined portion 11b sequentially from below. The inclined portion 11b may be formed at an upper end thereof at a height of the first orifice 25 and inclined in a direction opposite to the inclined direction of the guide portion 31 described later. That is, the inclined portion 11b is installed on the vertical plate 11a so that its upper end is inclined in a direction away from the second orifice 45. As such, when the upper end portion of the chamber separation plate 11 is configured as the inclined portion 11b, it is possible to effectively prevent the loss of the first cleaning liquid and improve the removal efficiency due to the collision while avoiding the interference with the first orifice 25.

상기 제1오리피스(25)는 제1구획판(21)의 하부에 제1구획판(21)으로부터 돌출되도록 설치될 수 있다. 상기 제1세정액은 제1오리피스(25)의 일부만 잠기도록 제1챔버(10a)에 채워질 수 있다. 따라서 상기 제1오리피스(25)를 통과하는 기체 흐름에 의해 제1세정액의 계면에서 제1세정액의 와류를 효과적으로 생성할 수 있다. 상기 제1오리피스(25)는 제1세정액에 대한 효과적인 와류를 일으킴으로써, 대기오염물질과 제1세정액의 접촉 면적 및 접촉 시간을 증가시켜, 대기오염물질의 제거효율을 극대화하는 역할을 하는 4차 제거가 일어나는 부분이다. 기체 흐름은 제1구획판(21)을 따라 하강하다가 제1챔버(10a)에 채워진 제1세정액의 계면과 부딪힌 후 제1오리피스(25)를 통과하면서, 잔류하는 대기오염물질이 4차적으로 제거 될 수 있다.The first orifice 25 may be installed to protrude from the first compartment plate 21 at the lower portion of the first compartment plate 21. The first cleaning liquid may be filled in the first chamber 10a to lock only a part of the first orifice 25. Therefore, by the gas flow passing through the first orifice 25, it is possible to effectively generate the vortex of the first cleaning liquid at the interface of the first cleaning liquid. The first orifice 25 generates an effective vortex for the first cleaning liquid, thereby increasing the contact area and the contact time between the air pollutant and the first cleaning liquid, thereby maximizing the removal efficiency of the air pollutant. This is where the removal takes place. The gas flow descends along the first partition plate 21 and then hits the interface of the first cleaning liquid filled in the first chamber 10a, and then passes through the first orifice 25 to remove residual air pollutants in a quaternary manner. Can be.

상기 제1와류형성부(30)는 상기 제1오리피스(25)를 통해 배출되는 기체와 제1챔버(10a)에서 이탈된 미립자 상태의 제1세정액이 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 한다. 상기 제1와류형성부(30)는 상기 챔버 분리판(11)에서 상기 제2기체분사로(40) 내부로 경사지게 연장 형성된 가이드부(31)와, 상기 가이드부(31)에 돌출 형성되며 와류 형성을 안내하는 제1와류형성판(35) 및 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부(33)를 포함할 수 있다. 제1기액분리부(33)는 제1구획판(21)과 제1오리피스(25) 사이에 경사지게 형성되어 상기 가이드부(31)와의 사이에 와류 형성 공간이 마련되도록 한다.The first vortex forming unit 30 is such that the gas discharged through the first orifice 25 and the first cleaning liquid in a particulate state separated from the first chamber 10a form a vortex by the ejection force of the gas. do. The first vortex forming unit 30 extends from the chamber separation plate 11 to a guide part 31 formed to be inclined into the second gas injection path 40, and protrudes from the guide part 31. It may include a first vortex forming plate 35 for guiding formation and a first gas-liquid separator 33 for separating gas and liquid. The first gas-liquid separator 33 is formed to be inclined between the first partition plate 21 and the first orifice 25 so that a vortex forming space is provided between the guide section 31.

제1오리피스(25)을 통과한 기체 흐름은 아래쪽이 제1세정액에 의해 막혀서 위쪽으로 방향 전환되고, 상기 가이드부(31)에 의하여 제1와류형성판(35) 방향으로 가이드 된다. 제1와류형성판(35)은 제1오리피스(25)보다 높은 위치에 배치되며, 수평면을 기준으로 하향 경사지게 돌출 배치될 수 있다. 따라서 제1와류형성판(35)과 충돌한 기체는 상기 제1구획판(21) 및 상기 제1기액분리부(33)에 부딪치면서 기체와 액체를 분리되며, 분리된 액체는 제1챔버(10a)로 회수되고, 기체는 제2기체분사로(40)를 통하여 이동된다.The gas flow passing through the first orifice 25 is blocked by the first cleaning liquid and is turned upward, and guided toward the first vortex forming plate 35 by the guide part 31. The first vortex forming plate 35 may be disposed at a position higher than the first orifice 25, and may be disposed to protrude downwardly with respect to the horizontal plane. Therefore, the gas collided with the first vortex forming plate 35 strikes the first compartment plate 21 and the first gas-liquid separator 33 to separate the gas and the liquid, and the separated liquid is separated from the first chamber ( 10a), the gas is moved through the second gas injection furnace (40).

상기 제1와류형성판(35)은 기체와 액체를 분리하는 기능을 할 수 있다. 제1와류형성판(35)은 제1오리피스(25)을 통과하면서 미립자 상태로 된 제1세정액이 충돌 후, 액상으로 변화되어 제1챔버(10a)로 회수 되도록 함으로써 세정액의 손실을 막아줄 수 있다. 또한, 제1오리피스(25)를 통과한 잔여 오염물질을 포함한 기체가 제1와류형성판(35)에 충돌하면서, 잔류하는 대기오염물질이 5차적으로 제거 될 수 있다.The first vortex forming plate 35 may function to separate gas and liquid. As the first vortex forming plate 35 passes through the first orifice 25, the first cleaning liquid, which is in the form of particulates, is converted into a liquid state after being collided, thereby being recovered to the first chamber 10a to prevent the loss of the cleaning liquid. have. In addition, as the gas including the remaining contaminants passing through the first orifice 25 collides with the first vortex forming plate 35, the remaining air pollutants may be removed fifth.

상기 제2기체분사로(40)는 상기 본체(10) 내부에 상기 제1와류형성부(30)와 연통되게 설치되며, 제2 및 제3구획판(41)(47)과, 제2오리피스(45)를 포함할 수 있다. 제2오리피스(45)는 그 하단부가 운전 중 제1챔버(10b) 내에 수용된 제2세정액에 잠기도록 상기 본체(10) 내에 설치되며, 유입된 상기 기체 및 미립자 상태의 상기 제1세정액이 상기 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 한다.The second gas injection furnace 40 is installed in the main body 10 so as to communicate with the first vortex forming unit 30, and the second and third partition plates 41 and 47 and the second orifice. 45 may be included. The second orifice 45 is installed in the main body 10 so that its lower end is immersed in the second cleaning liquid contained in the first chamber 10b during operation. 2 Inject and discharge into the cleaning liquid.

상기 제2구획판(41)은 기체 유입구(21), 제1구획판(21) 및 가이드부(31) 보다 높은 위치에 수평방향으로 배치될 수 있다. 이 제2구획판(41)은 제1구획판(21) 및 제3구획판(47)에 연결되며, 상기 가이드부(31) 상단과 이격되도록 상기 본체(10) 내부에 설치된다. 제1구획판(21)은 제2구획판(41)의 대략 중앙 부위에서 연결될 수 있고, 제3구획판(47)은 제2구획판(41)의 말단에 연결될 수 있다. 제3구획판(47)은 제1와류형성부(30)를 통과한 세정액 미립자가 다음 부분으로 넘어가는 것을 방지한다. 또한 유입되는 잔여 오염물질을 포함한 기체가 제3구획판(43)에 충돌하면서, 잔류하는 대기오염물질이 6차적으로 제거 될 수 있다.The second compartment plate 41 may be disposed in a horizontal direction at a position higher than the gas inlet 21, the first compartment plate 21, and the guide part 31. The second compartment plate 41 is connected to the first compartment plate 21 and the third compartment plate 47, and is installed inside the main body 10 so as to be spaced apart from the upper end of the guide part 31. The first compartment plate 21 may be connected at an approximately central portion of the second compartment plate 41, and the third compartment plate 47 may be connected to an end of the second compartment plate 41. The third partition plate 47 prevents the cleaning liquid fine particles passing through the first vortex forming unit 30 from passing to the next portion. In addition, as the gas including the remaining contaminants introduced therein collides with the third compartment plate 43, the remaining air pollutants may be removed in sixth order.

제1와류형성부(30)를 통과한 가스 흐름은 제1구획판(21)와 가이드부(31) 사이에 형성된 제2기체분사로(40)의 유로를 따라 상승하다가 제2구획판(41)에 충돌하면서, 가이드부(31)와 제3구획판(43) 사이에 형성된 제2기체분사로(40)의 유로를 따라 흐름 방향이 하방으로 전환된다. 제3구획판(47)은 제2구획판(41)의 말단에서 하방으로 연장되며, 그 하단이 제1오리피스(25)와 거의 같은 높이에 위치하도록 연장될 수 있다.The gas flow passing through the first vortex forming unit 30 rises along the flow path of the second gas injection path 40 formed between the first compartment plate 21 and the guide unit 31, and then the second compartment plate 41. ), The flow direction is switched downward along the flow path of the second gas injection path 40 formed between the guide portion 31 and the third partition plate 43. The third compartment plate 47 extends downward from the end of the second compartment plate 41 and may extend so that the lower end thereof is positioned at substantially the same height as the first orifice 25.

상기 제2기체분사로(40)는 제1 내지 제3구획판(21)(41)(47) 및 가이드부(31)에 의하여 역 U자 형상의 유로로 형성될 수 있다. 이와 같이 세정집진장치의 중간에 형성된 긴 유로에 의해 기체의 체류시간이 늘어나서 제거 효율을 더욱 개선할 수 있다.The second gas injection path 40 may be formed as an inverted U-shaped flow path by the first to third partition plates 21, 41, 47, and the guide part 31. Thus, the residence time of a gas is extended by the long flow path formed in the middle of a washing | cleaning dust collector, and it can further improve removal efficiency.

제3구획판(47)은 적어도 1회 이상 절곡되어 방향 전환이 이루어질 수 있다. 도 1에 예시된 바와 같이, 제3구획판(47)은 위로부터 순차적으로 경사판과 수직판으로 구성될 수 있다. 경사판은 제2구획판(41)과 제3구획판(43)의 수직판 사이에 경사지게 형성될 수 있다. 이와 같이 제3구획판(47)의 일부를 경사판으로 구성할 경우 충돌에 의한 제거효율을 개선할 수 있다. 제3구획판(43)에서는 1차 내지 6차 제거까지의 과정 동안 제거되지 않은 대기오염물질들이 충돌하여 7차 제거가 일어날 수 있다.The third partition plate 47 may be bent at least one or more times to change direction. As illustrated in FIG. 1, the third partition plate 47 may be configured of an inclined plate and a vertical plate sequentially from above. The inclined plate may be formed to be inclined between the vertical plate of the second partition plate 41 and the third partition plate 43. As such, when a part of the third partition plate 47 is configured as an inclined plate, the removal efficiency due to the collision may be improved. In the third compartment 43, air pollutants that have not been removed during the process from the first to the sixth removal may collide with each other so that the seventh removal may occur.

상기 제2기체분사로(40)는 제3구획판(43)의 내벽에 돌출 형성된 가이드돌기(47)를 더 포함할 수 있다. 이 가이드돌기(47)는 상기 제3구획판(43)의 상부에 충돌 후 하강하는 기체와 잔여하는 제1세정액 미립자가 상기 가이드부(31)에 충돌 후 상기 제2오리피스(45) 방향으로 안내되도록 가이드한다. 이와 같이 가이드돌기(47)를 포함함으로써, 충돌 빈도를 높여 제거 효율을 더욱 개선할 수 있다. The second gas spray path 40 may further include a guide protrusion 47 protruding from an inner wall of the third partition plate 43. The guide protrusion 47 is guided toward the second orifice 45 after the descending gas and the remaining first cleaning liquid fine particles collide with the guide portion 31 after the collision with the upper portion of the third partition plate 43. Guide as much as possible. By including the guide protrusion 47 as described above, the collision frequency can be increased to further improve the removal efficiency.

상기 제2챔버(10b)의 경계는 아래로는 본체(10)의 바닥부, 위로는 제2구획판(41)과 제2와류형성판(51), 좌로는 본체(1)의 측벽 및 우로는 가이드부(31) 및 챔버 분리판(17)으로 이루어질 수 있다. 따라서 제2챔버(10a)는 제1챔버(10a)와 공간적으로 구분될 수 있다. 제2챔버(10b)의 내부에 수용되는 제2세정액은 제1세정액과 조성이 다르거나 성상(pH 등)이 다를 수 있다. 예를 들어, 제1세정액으로 염기성 세정액이 사용되고, 제2세정액으로 산성 세정액이 사용될 수 있다. 이와 같이, 다른 성질을 갖는 두 종류의 세정액을 사용함으로써, 다른 종류의 대기오염물질, 특히 복합 가스상 물질을 동시에 제거할 수 있다. 여기서 제2세정액의 수위는 제거효율 개선 등을 위해 제1세정액의 수위보다 높을 수 있다. 상기한 7차 제거가 이루어진 후의 기체는 제2챔버(10b) 내부에 채워진 제2세정액과 접촉하면서 기체 흐름 내에 잔류하는 대기 오염물질 및 제1세정액 미립자가 8차적으로 제거될 수 있다.The boundary of the second chamber 10b is below the bottom of the body 10, above the second compartment plate 41 and the second vortex forming plate 51, and the left sidewall of the body 1 and the right side thereof. The guide portion 31 and the chamber separation plate 17 may be made. Therefore, the second chamber 10a may be spatially separated from the first chamber 10a. The second cleaning liquid contained in the second chamber 10b may be different from the first cleaning liquid or may have a different composition (pH, etc.). For example, a basic washing liquid may be used as the first washing liquid, and an acidic washing liquid may be used as the second washing liquid. As such, by using two kinds of cleaning liquids having different properties, different kinds of air pollutants, in particular composite gaseous substances, can be removed at the same time. Here, the level of the second cleaning liquid may be higher than the level of the first cleaning liquid to improve the removal efficiency. The gas after the seventh removal is contacted with the second cleaning liquid filled in the second chamber 10b, and the air pollutants and the first cleaning liquid particles remaining in the gas stream may be removed.

상기 제2오리피스(45)는 제3구획판(43)에 제3구획판(43)으로부터 돌출되도록 설치될 수 있다. 이 제2오리피스(45)는 상기 제1오리피스(25) 보다 상대적으로 높은 위치에 배치될 수 있다. 제2세정액은 상기 제2오리피스(45)의 일부만 잠기도록 제2챔버(10b)에 채워질 수 있다. 따라서 상기 제2오리피스(45)을 통과하는 가스 흐름에 의해 제2세정액의 계면에서 제2세정액의 와류를 효과적으로 생성할 수 있다. 상기 제2오리피스(45)는 제2세정액에 대한 효과적인 와류를 일으킴으로써, 대기오염물질과 제2세정액의 접촉 면적 및 접촉 시간을 증가시켜, 대기오염물질의 제거효율을 극대화하는 역할을 하는 9차 제거가 일어나는 부분이다. 기체 흐름은 제3구획판(43)과 가이드부(31)을 따라 하강하다가 제2챔버(10b)에 채워진 제2세정액의 계면과 부딪힌 후 제2오리피스(45)를 통과하면서, 잔류하는 대기오염물질이 9차적으로 제거 될 수 있다.The second orifice 45 may be installed to protrude from the third compartment plate 43 to the third compartment plate 43. The second orifice 45 may be disposed at a position relatively higher than the first orifice 25. The second cleaning liquid may be filled in the second chamber 10b to lock only a part of the second orifice 45. Therefore, by the gas flow passing through the second orifice 45, it is possible to effectively generate the vortex of the second cleaning liquid at the interface of the second cleaning liquid. The second orifice 45 causes an effective vortex of the second cleaning liquid, thereby increasing the contact area and the contact time of the air pollutant and the second cleaning liquid, thereby maximizing the removal efficiency of the air pollutant. This is where the removal takes place. The gas flow descends along the third partition plate 43 and the guide part 31 and hits the interface of the second cleaning liquid filled in the second chamber 10b, and then passes through the second orifice 45, thereby remaining air pollution. The substance can be removed ninth.

상기 제2와류형성부(50)는 상기 제2오리피스(45)를 통해 배출되는 기체와 제1 및 제2챔버(10a)(10b)에서 이탈된 후 배기 경로 상에 잔류하는 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 한다. 상기 제2와류형성부(50)는 상기 본체(10)의 일측 내벽에 돌출 형성되어 와류 형성을 안내하는 제2와류형성판(51) 및 기체와 액체를 분리하는 제2기액분리부(55)를 포함할 수 있다. 제2기액분리부(55)는 제3구획판(43)과 제2오리피스(45) 사이에 경사지게 형성되어 상기 제2와류형성판(51)과의 사이에 와류 형성 공간이 마련되도록 한다.The second vortex forming unit 50 is a gas discharged through the second orifice 45 and a first state of the particulate state remaining on the exhaust path after leaving the first and second chambers (10a) (10b) And the second cleaning liquid forms a vortex by the ejection force of the gas. The second vortex forming unit 50 protrudes from one side inner wall of the main body 10 to form a second vortex forming plate 51 for guiding vortex formation and a second gas-liquid separator 55 for separating gas and liquid. It may include. The second gas-liquid separator 55 is formed to be inclined between the third partition plate 43 and the second orifice 45 to provide a vortex forming space between the second vortex forming plate 51.

제2오리피스(45)를 통과한 기체 흐름은 아래쪽이 제2세정액에 의해 막혀서 위쪽으로 방향 전환되고, 상기 본체(10)의 일측 내벽에 의하여 제2와류형성판(51) 방향으로 가이드 된다. 제2와류형성판(51)은 제2오리피스(45)보다 높은 위치에 배치되며, 수평면을 기준으로 하향 경사지게 돌출 배치될 수 있다. 따라서 제2와류형성판(51)과 충돌한 기체는 상기 제3구획판(43) 및 상기 제2기액분리부(55)에 부딪치면서 기체와 액체를 분리되며, 분리된 액체는 제2챔버(10b)로 회수되고, 기체는 배기구(17) 방향으로 이동된다.The gas flow passing through the second orifice 45 is blocked by the second cleaning liquid and is turned upward, and is guided in the direction of the second vortex forming plate 51 by one inner wall of the main body 10. The second vortex forming plate 51 may be disposed at a position higher than the second orifice 45, and may protrude downwardly with respect to the horizontal plane. Therefore, the gas collided with the second vortex forming plate 51 strikes the third compartment plate 43 and the second gas-liquid separator 55 to separate the gas and the liquid, and the separated liquid is separated from the second chamber ( 10b), the gas moves to the exhaust port 17 direction.

상기 제2와류형성판(51)은 기체와 액체를 분리하는 기능을 할 수 있다. 제2와류형성판(51)은 제2오리피스(45)을 통과하면서 미립자 상태로 된 제1세정액이 충돌 후, 액상으로 변화되어 제1챔버(10b)로 회수 되도록 함으로써 세정액의 손실을 막아줄 수 있다. 또한, 제2오리피스(45)를 통과한 잔여 오염물질을 포함한 기체가 제2와류형성판(51)에 충돌하면서, 잔류하는 대기오염물질이 10차적으로 제거 될 수 있다.The second vortex forming plate 51 may function to separate gas and liquid. The second vortex forming plate 51 may prevent the loss of the cleaning liquid by passing through the second orifice 45 and causing the first cleaning liquid, which is in a particulate state, to be converted into a liquid state and recovered to the first chamber 10b after the collision. have. In addition, as the gas including the remaining contaminants passing through the second orifice 45 collides with the second vortex forming plate 51, the remaining air pollutants may be removed ten times.

또한 본 발명은 상기 본체(10)의 상부에 설치되어, 상기 기체 배출구(17)로 배출되는 기체에 포함된 잔여 오염물질 및 미립자 상태의 세정액을 마지막으로 제거하는 데미스터 필터(Demister Filter; 70)를 더 포함할 수 있다. 데미스터 필터(70)는 상기 제2구획판(41)과 상기 기체 배출구(17) 사이에 본체(10)의 폭 방향 전체에 걸쳐 넓게 설치될 수 있다. 이와 같이 데미스트 필터(70)를 적용하는 경우 세정액의 유출 손실과 시스템 압력 감소를 최소화할 수 있으며, 세정액에 포함된 대기오염물질의 추가적인 제거도 가능하다.In addition, the present invention is installed on the upper portion of the main body 10, the demister filter (Demister Filter; 70) to finally remove the remaining contaminants and particulate state of the cleaning liquid contained in the gas discharged to the gas outlet 17 It may further include. The demister filter 70 may be widely installed between the second compartment plate 41 and the gas outlet 17 over the entire width direction of the main body 10. As such, when the demister filter 70 is applied, it is possible to minimize the leakage loss and the system pressure reduction of the cleaning liquid, and to further remove the air pollutant contained in the cleaning liquid.

[실험예]Experimental Example

본 발명의 제1실시예에 따른 세정집진장치의 시제품을 제작하여 실제 먼지와 복합 가스의 제거 효율을 확인하였다. 도 2, 도 3 및 표 3은 유량 9.2 ㎥/min 및 유입 먼지 농도 108.7 mg/min의 실험조건으로 실험한 결과를 나타낸 것이다.A prototype of the cleaning dust collector according to the first embodiment of the present invention was manufactured to confirm the removal efficiency of the actual dust and the composite gas. 2, 3 and Table 3 show the results of experiments under the experimental conditions of the flow rate 9.2 m 3 / min and the concentration of the inflow dust 108.7 mg / min.

먼지 제거 효율 (Cumulative removal efficiency) Cumulative removal efficiency 99.43 %99.43% 가스 제거 효율 (암모니아) Degassing efficiency (ammonia) 93.80 %93.80% 가스 제거 효율 (황화수소) Degassing efficiency (hydrogen sulfide) 85.15 %85.15%

이 세정집진장치 내로 유입되는 가스의 유량과 먼지의 농도를 변환요소로 지정하였다. 또한 제1챔버 내에 수용되는 제1세정액은 pH 4.0±0.2, 제2챔버 내에 수용되는 제2세정액은 pH 10±0.2로 조절하였다. 유량과 먼지의 초기 유입 농도를 달리하면서 먼지와 복합 가스(암모니아, 황화수소)를 동시에 유입시켜 제거 실험을 실시하였다. The flow rate of the gas flowing into the scrubber and the dust concentration were designated as conversion elements. In addition, the first cleaning liquid contained in the first chamber was adjusted to pH 4.0 ± 0.2, the second cleaning liquid contained in the second chamber to pH 10 ± 0.2. Removal experiments were carried out by simultaneously introducing dust and complex gases (ammonia, hydrogen sulfide) while varying the flow rate and dust inlet concentration.

각 결과에서 확인 가능하듯이, 먼지 제거 효율은 93% ~ 99% 이상 수준의 매우 높은 결과를 보였다. 또한 복합 가스 중 암모니아의 제거 효율은 90% 이상이고, 황화수소의 제거 효율은 85% 이상으로 나타났다. 암모니아 가스의 경우, 물에 대한 용해도가 매우 높기도 하지만 본 실험에서 실시한 물의 pH 조절을 바탕으로 먼지 제거와 함께 높은 제거 효율을 보였다. 단일 종류의 세정액(양 챔버 모두 같은 pH 적용)을 사용한 실험에서는 황화수소에 대한 제거율이 75% 이하였지만, 먼지 및 암모니아가 함께 포함된 복합 가스를 사용한 본 실험에서는 황화수소의 제거효율이 85% 이상으로 높은 제거효율을 보였다. 이는 본 실험에서 실시한 pH 조절과 함께 먼지 등과의 흡착 등 여러 가지 요소가 복합되어 보다 높은 제거효율을 나타낸 것으로 파악된다.As can be seen from each result, the dust removal efficiency was very high, ranging from 93% to 99%. In addition, the removal efficiency of ammonia in the composite gas was 90% or more, and the hydrogen sulfide removal efficiency was 85% or more. In the case of ammonia gas, the solubility in water was very high, but based on the pH adjustment of the water in this experiment, it showed high removal efficiency with dust removal. Although the removal rate for hydrogen sulfide was less than 75% in an experiment using a single type of cleaning solution (both at the same pH), the removal efficiency of hydrogen sulfide was more than 85% in this experiment using a complex gas containing dust and ammonia. Removal efficiency was shown. In addition to the pH adjustment carried out in this experiment, various factors such as adsorption with dust, etc. are combined to show higher removal efficiency.

본 실험 결과에서 확인 가능하듯이, 본 발명의 세정집진장치는 일반적인 역할인 먼지의 제거뿐만 아니라 각기 다른 특성, 특히, 산성 및 염기성 가스가 모두 포함된 복합 가스상 물질을 고효율로 동시 제거가 가능한 대기오염저감장치로 사용될 수 있다고 판단된다. 또한 이들의 제거를 동시에 실시할 수 있기 때문에 각 대기오염물질의 제거에 필요한 각기 다른 처리 장치의 설치가 불필요해짐으로써, 먼지 및 복합가스상 오염물의 처리를 위한 경제성과 효율성을 동시에 얻을 수 있는 뛰어난 대기오염물질 처리 장치로 사용이 가능할 것이다.As can be seen from the results of this experiment, the dust collector of the present invention can remove the dust, which is a general role, as well as air pollution, which can simultaneously and efficiently remove complex gaseous substances containing different characteristics, in particular, both acidic and basic gases. It is considered that it can be used as an abatement device. In addition, the simultaneous removal of these components eliminates the need for the installation of different treatment equipment for the removal of each air pollutant, resulting in superior air pollution for economical and efficient treatment of dust and complex gaseous contaminants. It may be used as a material handling device.

도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.4 is a configuration diagram of the vortex type dust collecting device according to the second embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 내부에 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 복수의 챔버(110a)(110b)가 형성된 본체(110), 제1기체분사로(120), 제1와류형성부(130), 제2기체분사로(140) 및 제2와류형성부(150)를 포함한다. 여기서 복수의 챔버는 챔버 분리판(111)에 의하여 분리 된 제1챔버(110a)와 제2챔버(110b)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the vortex type dust collecting device according to the second embodiment of the present invention includes a main body 110 and a first gas in which a plurality of chambers 110a and 110b are formed to separately store a plurality of cleaning liquids therein. The injection furnace 120, the first vortex forming unit 130, the second gas injection furnace 140, and the second vortex forming unit 150 are included. Here, the plurality of chambers includes a first chamber 110a and a second chamber 110b separated by the chamber separation plate 111.

제2실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 제1와류형성부(130)의 구성을 달리한 점에서 제1실시예예 따른 와류형 세정집장치와 구별될 뿐 동일 이름을 사용하는 다른 구성요소의 구조 및 기능은 실질상 동일하다. 따라서 제1와류형성부(130)를 제외한 다른 구성요소에 대한 설명은 생략하기로 한다.The vortex-type cleaning dust collector according to the second embodiment is different from the vortex-type cleaning collector according to the first embodiment in that the configuration of the first vortex forming unit 130 is different. The structure and function are substantially the same. Therefore, the description of the other components except for the first vortex forming unit 130 will be omitted.

상기 제1와류형성부(130)는 제1오리피스(125)를 통해 배출되는 기체와 제1챔버(110a)에서 이탈된 미립자 상태의 제1세정액이 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 한다. 이를 위하여 제1와류형성부(130)는 와류 형성 가이드부(131)와, 제1기액분리부(133)와 유체 가이드부(135)를 포함한다. 와류 형성 가이드부(131)는 상기 챔버 분리판(111) 상에 상기 제1기체분사로 방향으로 라운드지게 연장 형성되어 와류 형성을 안내한다. 제1기액분리부(133)는 상기 와류 형성 가이드부(131)에 대향되는 상기 제1기체분사로(120)의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리한다. 유체 가이드부(135)는 상기 와류 형성 가이드부(131)에서 상기 제2기체분사로(140) 내부로 연장 형성되어 유체의 흐름을 가이드한다. 이와 같이 제1와류형성부(130)를 구성하는 경우, 라운드지게 연장 형성된 와류 형성 가이드부(131)와 제1기액분리부(133) 사이에서 형성되는 와류의 세기를 크게 할 수 있다. 따라서 기체와 액체의 분리 효과를 더욱 높일 수 있어서, 운전시 세정액의 손실을 줄임과 아울러 세정 효율을 높일 수 있다.The first vortex forming unit 130 allows the gas discharged through the first orifice 125 and the first cleaning liquid in a particulate state separated from the first chamber 110a to form a vortex by the ejection force of the gas. . To this end, the first vortex forming unit 130 includes a vortex forming guide unit 131, a first gas-liquid separator 133, and a fluid guide unit 135. The vortex forming guide part 131 extends roundly in the direction of the first gas injection on the chamber separation plate 111 to guide vortex formation. The first gas-liquid separator 133 is formed to be inclined at a predetermined position of the first gas injection path 120 opposite to the vortex forming guide 131 to separate gas and liquid. The fluid guide part 135 extends from the vortex forming guide part 131 into the second gas injection path 140 to guide the flow of the fluid. As such, when the first vortex forming unit 130 is configured, the strength of the vortex formed between the vortex forming guide unit 131 and the first gas-liquid separating unit 133 extending roundly may be increased. Therefore, the separation effect of the gas and the liquid can be further enhanced, thereby reducing the loss of the cleaning liquid during operation and increasing the cleaning efficiency.

도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.5 is a block diagram of a vortex type dust collector according to a third embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 내부에 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 복수의 챔버(210a)(210b) (210c)(210d)가 형성된 본체(210), 제1기체분사로(220a)(220b), 제1와류형성부(230a)(230b), 제2기체분사로(240a)(240b) 및 제2와류형성부(250a) (250b)를 포함한다.Referring to FIG. 5, the vortex cleaning dust collecting apparatus according to the third embodiment of the present invention includes a main body in which a plurality of chambers 210a, 210b, 210c, and 210d in which a plurality of cleaning liquids are separately stored are stored. 210, the first gas injection paths 220a and 220b, the first vortex forming parts 230a and 230b, the second gas injection paths 240a and 240b and the second vortex forming parts 250a and 250b It includes.

본 발명의 제3실시예에 따른 세정집진장치는 제2실시예에 따른 세정집진장치와 비교하여 볼 때, 도 4의 장치를 실질상 두 대로 확장하여 적용한 점에 특징이 있다. The cleaning dust collecting apparatus according to the third embodiment of the present invention is characterized in that the apparatus of FIG. 4 is substantially extended to two in comparison with the cleaning dust collecting apparatus according to the second embodiment.

제3실시예에 따른 세정집진장치는 도 5에 표시된 수직방향 중심선(C)을 기준으로 볼 때 상호 좌우 대칭 형상을 가지는 두 대의 설비 (I)(II)로 구성되며, 설비(I)의 형상은 제2실시예에 따른 세정집진장치의 형상과 동일하며, 설비(II)의 형상은 제2실시예에 따른 세정집진장치의 형상에 대해 수직방향 선대칭을 이루는 형상을 가진다. 여기서 두 대의 설비(I)(II)를 접목하여 하나의 시스템을 구성함에 있어서, 본체(210), 기체 유입구(212), 기체 배출구(217) 및 데미스터 필터(270)는 제2실시예와 같이 공통으로 적용한다.The cleaning dust collecting apparatus according to the third embodiment is composed of two installations (I) and (II) having mutually symmetrical shapes with respect to the vertical center line (C) shown in FIG. 5, and the shape of the installation (I). Is the same as the shape of the cleaning precipitator according to the second embodiment, and the shape of the equipment (II) has a shape which makes a line symmetry perpendicular to the shape of the cleaning precipitator according to the second embodiment. Here, in constructing one system by combining two facilities (I) and (II), the main body 210, the gas inlet 212, the gas outlet 217 and the demister filter 270 are different from those of the second embodiment. The same applies in common.

이와 같이, 세정집진장치를 구성하는 경우는 독립적인 세정집진장치를 두 대 적용하는 것과 대비하여 볼 때, 효과적인 공간 구성이 가능함과 아울러, 일부 구성요소을 공통으로 사용함으로써 경제성을 높일 수 있다. 또는 두 대의 설비(I)(II)에 사용되는 세정액의 종류와 환경을 독립적으로 설정함으로써, 다양한 유형의 대기오염물질을 동시에 제거할 수 있다.As such, in the case of configuring the cleaning dust collecting apparatus, as compared with applying two independent cleaning dust collecting apparatuses, an effective space configuration is possible and economical efficiency can be increased by using some components in common. Alternatively, various types of air pollutants can be removed at the same time by independently setting the type and environment of the cleaning liquid used in the two plants (I) and (II).

도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다.6 is a block diagram of a vortex type dust collecting device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제4실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 내부에 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 복수의 챔버(310a)(310b)가 형성된 본체(310), 제1기체분사로(320), 제1와류형성부(330), 제2기체분사로(340) 및 제2와류형성부(350)를 포함한다. 여기서 복수의 챔버는 챔버 분리판(311)에 의하여 분리 된 제1챔버(310a)와 제2챔버(310b)를 포함한다.Referring to FIG. 6, in the vortex type dust collecting device according to the fourth embodiment of the present invention, a main body 310 having a plurality of chambers 310a and 310b in which a plurality of cleaning liquids are separately stored and a first gas are formed therein. The injection furnace 320, the first vortex forming unit 330, the second gas injection furnace 340, and the second vortex forming unit 350 are included. Here, the plurality of chambers includes a first chamber 310a and a second chamber 310b separated by the chamber separation plate 311.

제4실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 챔버 및 챔버 분리판의 구성을 달리한 점에서 제2실시예예 따른 와류형 세정집장치와 구별될 뿐 동일 이름을 사용하는 다른 구성요소의 구조 및 기능은 실질상 동일하다. 따라서 챔버(310a)(310b)와 챔버 분리판(311)를 제외한 다른 구성요소에 대한 설명은 생략하기로 한다.The vortex type scrubber according to the fourth embodiment is different from the vortex type scrubber according to the second embodiment in that the chamber and the chamber separator are different in structure and function. Is substantially the same. Therefore, descriptions of other components except for the chambers 310a and 310b and the chamber separator 311 will be omitted.

상기 제1 및 제2챔버(310a)(310b) 각각은 도 6에 도시된 바와 같이 상기 본체(310) 하단부에 각각 깔때기 형상으로 형성된 복수의 공간으로 이루어지고 상단부가 연통되게 형성된 구조를 가진다. 이 경우 제1 및 제2챔버(310a)(310b)의 중하단부가 공간적으로 분리된 구조를 가지므로 두 챔버 각각에 설치된 세정액 배출구(319a)(319b) 사이의 간격을 제1 및 제2실시예와 같이 구성하는 경우 대비하여 충분히 이격 시킬 수 있다. 따라서 제1세정액과 제2세정액을 독립적으로 배출하고자 하는 경우 외부기기의 접근이 용이하다.As shown in FIG. 6, each of the first and second chambers 310a and 310b includes a plurality of spaces formed in a funnel shape at the lower end of the main body 310 and has a structure in which the upper end is in communication with each other. In this case, since the lower and lower ends of the first and second chambers 310a and 310b have spatially separated structures, the interval between the cleaning liquid discharge ports 319a and 319b provided in each of the two chambers is determined in the first and second embodiments. It can be sufficiently spaced apart in case of configuration as follows. Therefore, when the first cleaning liquid and the second cleaning liquid are to be discharged independently, it is easy to access external equipment.

챔버 분리판(311)은 상기 제1 및 제2챔버(310a)(310b)의 상호 연통 위치에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버의 상단부를 구획한다.The chamber separator 311 is installed at the mutually communicating positions of the first and second chambers 310a and 310b and partitions an upper end of the chamber so that each of the plurality of cleaning liquids can be independently received.

도 7은 본 발명의 제5실시예에 따른 와류형 세정집진장치의 구성도이다. 도 7을 참조하면, 본 발명의 제5실시예에 따른 와류형 세정집진장치는 내부에 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 복수의 챔버(410a)(410b) (410c)(410d)가 형성된 본체(410), 제1기체분사로(420a)(420b), 제1와류형성부(430a)(430b), 제2기체분사로(440a)(440b) 및 제2와류형성부(450a) (450b)를 포함한다.7 is a configuration diagram of the vortex type dust collecting device according to the fifth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 7, the vortex cleaning dust collecting apparatus according to the fifth embodiment of the present invention includes a main body in which a plurality of chambers 410a, 410b, 410c, and 410d each having a plurality of cleaning liquids stored therein are formed. 410, the first gas injection path 420a and 420b, the first vortex forming parts 430a and 430b, the second gas injection path 440a and 440b and the second vortex forming part 450a and 450b It includes.

본 발명의 제5실시예에 따른 세정집진장치는 제3실시예에 따른 세정집진장치와 비교하여 볼 때, 세정집진장치를 실질상 두 대로 확장하여 적용한 점에서 공통되며, 제2실시예에 따른 세정집진장치 대신 제4실시예에 따른 세정집진장치를 기본으로 확장하여 적용한 점에서 구별된다. The cleaning dust collecting apparatus according to the fifth embodiment of the present invention is common in that the washing dust collecting apparatus is substantially extended and applied to two in comparison with the washing dust collecting apparatus according to the third embodiment, and according to the second embodiment Instead of the cleaning dust collecting apparatus, the cleaning dust collecting apparatus according to the fourth embodiment is extended and applied.

또한 본 발명은 상기한 구성 이외에도 제1, 제2 및 제4실시예에 따른 세정집장치 중 적어도 2대를 선택하여 하나의 시스템으로 구현하는 것도 가능하다.In addition to the above-described configuration, the present invention may be implemented as one system by selecting at least two of the cleaning collectors according to the first, second and fourth embodiments.

10, 110, 210, 310, 410: 본체
20, 120, 220a, 220b, 320, 420a, 420b: 제1기체분사로
30, 130, 230a, 230b, 330, 430a, 430b: 제1와류형성부
40, 140, 240a, 240b, 340, 440a, 440b: 제2기체분사로
50, 150, 250a, 250b, 350, 450a, 450b: 제2와류형성부
10a, 110a, 310a: 제1챔버 10b, 110b, 310b: 제2챔버
11, 111: 챔버 분리판 12, 212: 기체 유입구
13: 세정액 주입구 15: 수위조절부
17, 217: 기체 배출구 19, 319a, 319b: 세정액 배출구
21: 제1구획판 25: 제1오리피스
31: 가이드부 35: 제1와류형성판
33, 133: 제1기액분리부 41: 제2구획판
43: 제3구획판 45: 제2오리피스
47: 가이드돌기 60: 세정액 분사노즐
131: 와류 형성 가이드부 135: 유체 가이드부10, 110, 210, 310, 410: main body
20, 120, 220a, 220b, 320, 420a, 420b: first gas jet
30, 130, 230a, 230b, 330, 430a, 430b: first vortex forming part
40, 140, 240a, 240b, 340, 440a, 440b: second gas jet
50, 150, 250a, 250b, 350, 450a, 450b: second vortex forming part
10a, 110a, 310a: first chamber 10b, 110b, 310b: second chamber
11, 111: chamber separator 12, 212: gas inlet
13: cleaning liquid inlet 15: water level control part
17, 217: gas outlet 19, 319a, 319b: cleaning liquid outlet
21: First compartment 25: First orifice
31: guide portion 35: first vortex forming plate
33, 133: first gas-liquid separator 41: second compartment plate
43: third compartment 45: second orifice
47: guide protrusion 60: cleaning liquid jet nozzle
131: vortex forming guide portion 135: fluid guide portion

Claims (13)

복수의 세정액이 각각 주입되는 복수의 세정액 주입구와, 외부로부터 기체가 유입되는 기체 유입구와, 유입된 기체가 세정되어 배출되는 기체 배출구 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구가 형성되며, 내부에 상기 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 챔버가 형성된 본체와;
운전 중 하단부가 상기 복수의 세정액 중 제1세정액에 잠기도록 상기 본체 내에 설치되며, 상기 기체 유입구에 연통되며 상기 기체 유입구를 통해 유입된 기체가 상기 제1세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스가 형성된 제1기체분사로와;
상기 제1오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 상기 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 하는 제1와류형성부와;
상기 본체 내부에 상기 제1와류형성부와 연통되게 설치되며, 유입된 상기 기체 및 미립자 상태의 상기 제1세정액이 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제2오리피스가 형성된 제2기체분사로와;
상기 제2오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 배출되는 상기 기체의 분사 배출력에 의해 상기 제2기체분사로 외측에 충돌하면서 와류가 형성되도록 하는 제2와류형성부를 포함하며,
상기 챔버는 상기 본체 하단부 내에 깔때기 형상으로 형성된 하나의 공간으로 이루어지며,
상기 챔버 내에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버를 구획하는 챔버 분리판을 더 포함하고,
상기 제1와류형성부는,
상기 챔버 분리판에서 상기 제2기체분사로 내부로 경사지게 연장 형성된 가이드부와;
상기 가이드부에 돌출 형성되며 와류 형성을 안내하는 제1와류형성판과;
상기 가이드부에 대향되는 상기 제1기체분사로의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.A plurality of cleaning liquid inlets for injecting a plurality of cleaning liquids, a gas inlet through which gas is introduced from the outside, a gas outlet through which the introduced gas is cleaned and discharged, and a plurality of cleaning liquid outlets for discharging the used cleaning liquid are formed therein. A main body having a chamber in which each of the plurality of cleaning liquids is separately stored;
The first orifice is installed in the main body so that the lower end is immersed in the first cleaning liquid of the plurality of cleaning liquids, and communicates with the gas inlet, and the gas introduced through the gas inlet is injected and discharged into the first cleaning liquid. A first gas spray furnace formed with;
A first vortex forming unit installed inside the main body such that the gas discharged through the first orifice and the first cleaning liquid in a particulate state collide with each other, such that a vortex is formed by the ejection force of the gas;
A second gas injection furnace installed in the main body to communicate with the first vortex forming unit, and having a second orifice for injecting and discharging the first cleaning liquid in the state of the gas and particulates introduced into the second cleaning liquid; ;
Installed inside the main body such that the gas discharged through the second orifice collides with the first and second cleaning liquids in a particulate state, and collides outside with the second gas injection by the injection discharge force of the discharged gas. A second vortex forming unit for forming a vortex,
The chamber is composed of one space formed in the funnel shape in the lower end of the body,
A chamber separator installed in the chamber and partitioning the chamber so that each of the plurality of cleaning liquids can be independently received;
The first vortex forming unit,
A guide part extending inclined from the chamber separation plate to the second gas jet;
A first vortex forming plate protruding from the guide part and guiding vortex formation;
And a first gas-liquid separator configured to be inclined at a predetermined position of the first gas injection path opposite to the guide part, to separate gas and liquid. 제1항에 있어서,
제1챔버의 상부에서 기체 유입구보다 높은 위치에 설치되고, 제1세정액을 분사하는 세정액 분사노즐을 더 포함하여, 상기 기체 유입구로부터 유입된 상기 기체에 포함된 대기오염물질을 일차적으로 제거하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.The method of claim 1,
And a cleaning liquid spray nozzle installed at a position higher than the gas inlet at the upper portion of the first chamber and spraying the first cleaning liquid to first remove air pollutants contained in the gas introduced from the gas inlet. Vortex cleaning scrubber. 제1항에 있어서,
상기 복수의 세정액 주입구 각각에 연결되도록 설치되어, 상기 본체 내부에 수용된 상기 복수의 세정액 각각의 수위를 조절하는 복수의 수위조절부를 더 포함하며,
상기 제1세정액의 수위가 상기 제2세정액의 수위보다 낮도록 조절하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.The method of claim 1,
It is installed to be connected to each of the plurality of cleaning liquid inlet, and further comprises a plurality of water level control unit for adjusting the level of each of the plurality of cleaning liquid contained in the main body,
Vortex type cleaning dust collection device characterized in that the level of the first cleaning liquid is adjusted to be lower than the level of the second cleaning liquid. 제1항에 있어서,
상기 본체의 상부에 설치되어, 상기 기체배출구로 배출되는 기체에 포함된 잔여 오염물질 및 미립자 상태 세정액을 제거하는 데미스터 필터를 더 포함하는 와류형 세정집진장치.The method of claim 1,
And a demister filter installed at an upper portion of the main body to remove residual contaminants and particulate state cleaning liquids contained in the gas discharged to the gas discharge port. 제1항에 있어서,
상기 제2기체분사로 내벽에 돌출 형성되어, 상기 제2기체분사로 내부로 이동하는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액의 흐름을 안내하는 가이드돌기를 더 포함하는 와류형 세정집진장치.The method of claim 1,
And a guide protrusion protruding from the inner wall of the second gas sprayer to guide the flow of the first cleaning liquid in the state of the gas and the particulates moving inside the second gas sprayer. 삭제delete 삭제delete 복수의 세정액이 각각 주입되는 복수의 세정액 주입구와, 외부로부터 기체가 유입되는 기체 유입구와, 유입된 기체가 세정되어 배출되는 기체 배출구 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구가 형성되며, 내부에 상기 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 챔버가 형성된 본체와;
운전 중 하단부가 상기 복수의 세정액 중 제1세정액에 잠기도록 상기 본체 내에 설치되며, 상기 기체 유입구에 연통되며 상기 기체 유입구를 통해 유입된 기체가 상기 제1세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스가 형성된 제1기체분사로와;
상기 제1오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 상기 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 하는 제1와류형성부와;
상기 본체 내부에 상기 제1와류형성부와 연통되게 설치되며, 유입된 상기 기체 및 미립자 상태의 상기 제1세정액이 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제2오리피스가 형성된 제2기체분사로와;
상기 제2오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 배출되는 상기 기체의 분사 배출력에 의해 상기 제2기체분사로 외측에 충돌하면서 와류가 형성되도록 하는 제2와류형성부를 포함하며,
상기 챔버는 상기 본체 하단부 내에 깔때기 형상으로 형성된 하나의 공간으로 이루어지며,
상기 챔버 내에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버를 구획하는 챔버 분리판을 더 포함하고,
상기 제1와류형성부는,
상기 챔버 분리판 상에 상기 제1기체분사로 방향으로 라운드지게 연장 형성되어, 와류 형성을 안내하는 와류 형성 가이드부와;
상기 와류 형성 가이드부에 대향되는 상기 제1기체분사로의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부와;
상기 와류 형성 가이드부에서 상기 제2기체분사로 내부로 연장 형성되어 유체의 흐름을 가이드하는 유체 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.A plurality of cleaning solution inlets through which a plurality of cleaning solutions are respectively injected, a gas inlet through which gas is introduced from the outside, a gas outlet through which the introduced gas is cleaned and discharged, and a plurality of cleaning solution outlets through which the cleaning solution is discharged after use are formed. A main body having a chamber in which each of the plurality of cleaning liquids is separately stored;
The first orifice is installed in the main body so that the lower end is immersed in the first cleaning liquid of the plurality of cleaning liquids, and communicates with the gas inlet and the gas introduced through the gas inlet is injected and discharged into the first cleaning liquid. A first gas spray furnace formed with;
A first vortex forming unit installed inside the main body such that the gas discharged through the first orifice collides with the first cleaning liquid in a particulate state, such that a vortex is formed by the ejection force of the gas;
A second gas injection furnace installed inside the main body so as to communicate with the first vortex forming unit, and having a second orifice for injecting and discharging the first cleaning liquid in the state of the gas and particulates introduced into the second cleaning liquid; ;
Installed inside the main body such that the gas discharged through the second orifice collides with the first and second cleaning liquids in a particulate state, and collides outside with the second gas injection by the injection discharge force of the discharged gas. A second vortex forming unit for forming a vortex,
The chamber is composed of one space formed in the funnel shape in the lower end of the body,
A chamber separator installed in the chamber and partitioning the chamber so that each of the plurality of cleaning liquids can be independently received;
The first vortex forming unit,
A vortex forming guide portion extending round in the direction of the first gas spraying on the chamber separator to guide vortex formation;
A first gas-liquid separator formed to be inclined at a predetermined position of the first gas injection path opposite to the vortex forming guide part, to separate gas and liquid;
And a fluid guide part extending from the vortex forming guide part to the second gas injection part to guide the flow of the fluid. 복수의 세정액이 각각 주입되는 복수의 세정액 주입구와, 외부로부터 기체가 유입되는 기체 유입구와, 유입된 기체가 세정되어 배출되는 기체 배출구 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구가 형성되며, 내부에 상기 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 챔버가 형성된 본체와;
운전 중 하단부가 상기 복수의 세정액 중 제1세정액에 잠기도록 상기 본체 내에 설치되며, 상기 기체 유입구에 연통되며 상기 기체 유입구를 통해 유입된 기체가 상기 제1세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스가 형성된 제1기체분사로와;
상기 제1오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 상기 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 하는 제1와류형성부와;
상기 본체 내부에 상기 제1와류형성부와 연통되게 설치되며, 유입된 상기 기체 및 미립자 상태의 상기 제1세정액이 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제2오리피스가 형성된 제2기체분사로와;
상기 제2오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 배출되는 상기 기체의 분사 배출력에 의해 상기 제2기체분사로 외측에 충돌하면서 와류가 형성되도록 하는 제2와류형성부를 포함하며,
상기 챔버는 상기 본체 하단부에 각각 깔때기 형상으로 형성된 복수의 공간으로 이루어지고 상단부가 연통되게 형성되며,
상기 챔버의 연통 위치에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버의 상단부를 구획하는 챔버 분리판을 더 포함하고,
상기 제1와류형성부는,
상기 챔버 분리판에서 상기 제2기체분사로 내부로 경사지게 연장 형성된 가이드부와;
상기 가이드부에 돌출 형성되며 와류 형성을 안내하는 제1와류형성판과;
상기 가이드부에 대향되는 상기 제1기체분사로의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.A plurality of cleaning liquid inlets for injecting a plurality of cleaning liquids, a gas inlet through which gas is introduced from the outside, a gas outlet through which the introduced gas is cleaned and discharged, and a plurality of cleaning liquid outlets for discharging the used cleaning liquid are formed therein. A main body having a chamber in which each of the plurality of cleaning liquids is separately stored;
The first orifice is installed in the main body so that the lower end is immersed in the first cleaning liquid of the plurality of cleaning liquids, and communicates with the gas inlet, and the gas introduced through the gas inlet is injected and discharged into the first cleaning liquid. A first gas spray furnace formed with;
A first vortex forming unit installed inside the main body such that the gas discharged through the first orifice and the first cleaning liquid in a particulate state collide with each other, such that a vortex is formed by the ejection force of the gas;
A second gas injection furnace installed in the main body to communicate with the first vortex forming unit, and having a second orifice for injecting and discharging the first cleaning liquid in the state of the gas and particulates introduced into the second cleaning liquid; ;
Installed inside the main body such that the gas discharged through the second orifice collides with the first and second cleaning liquids in a particulate state, and collides outside with the second gas injection by the injection discharge force of the discharged gas. A second vortex forming unit for forming a vortex,
The chamber is formed of a plurality of spaces each formed in a funnel shape at the lower end of the main body, the upper end is formed in communication with,
A chamber separation plate installed at a communication position of the chamber and partitioning an upper end of the chamber so that each of the plurality of cleaning liquids can be independently received;
The first vortex forming unit,
A guide part extending inclined from the chamber separation plate to the second gas jet;
A first vortex forming plate protruding from the guide part and guiding vortex formation;
And a first gas-liquid separator configured to be inclined at a predetermined position of the first gas injection path opposite to the guide part, to separate gas and liquid. 삭제delete 복수의 세정액이 각각 주입되는 복수의 세정액 주입구와, 외부로부터 기체가 유입되는 기체 유입구와, 유입된 기체가 세정되어 배출되는 기체 배출구 및 사용 후 세정액을 배출하는 복수의 세정액 배출구가 형성되며, 내부에 상기 복수의 세정액 각각이 구분 저장되는 챔버가 형성된 본체와;
운전 중 하단부가 상기 복수의 세정액 중 제1세정액에 잠기도록 상기 본체 내에 설치되며, 상기 기체 유입구에 연통되며 상기 기체 유입구를 통해 유입된 기체가 상기 제1세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제1오리피스가 형성된 제1기체분사로와;
상기 제1오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 상기 제1세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 상기 기체의 분사 배출력에 의해 와류가 형성되도록 하는 제1와류형성부와;
상기 본체 내부에 상기 제1와류형성부와 연통되게 설치되며, 유입된 상기 기체 및 미립자 상태의 상기 제1세정액이 제2세정액 내부로 분사 및 배출되게 하는 제2오리피스가 형성된 제2기체분사로와;
상기 제2오리피스를 통해 배출되는 상기 기체와 미립자 상태의 제1 및 제2세정액이 충돌하도록 상기 본체 내부에 설치되어, 배출되는 상기 기체의 분사 배출력에 의해 상기 제2기체분사로 외측에 충돌하면서 와류가 형성되도록 하는 제2와류형성부를 포함하며,
상기 챔버는 상기 본체 하단부에 각각 깔때기 형상으로 형성된 복수의 공간으로 이루어지고 상단부가 연통되게 형성되며,
상기 챔버의 연통 위치에 설치되며, 상기 복수의 세정액 각각이 독립적으로 수용될 수 있도록 상기 챔버의 상단부를 구획하는 챔버 분리판을 더 포함하고,
상기 제1와류형성부는,
상기 챔버 분리판 상에 상기 제1기체분사로 방향으로 라운드지게 연장 형성되어, 와류 형성을 안내하는 와류 형성 가이드부와;
상기 와류 형성 가이드부에 대향되는 상기 제1기체분사로의 소정 위치에 경사지게 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제1기액분리부와;
상기 와류 형성 가이드부에서 상기 제2기체분사로 내부로 연장 형성되어 유체의 흐름을 가이드하는 유체 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.A plurality of cleaning solution inlets through which a plurality of cleaning solutions are respectively injected, a gas inlet through which gas is introduced from the outside, a gas outlet through which the introduced gas is cleaned and discharged, and a plurality of cleaning solution outlets through which the cleaning solution is discharged after use are formed. A main body having a chamber in which each of the plurality of cleaning liquids is separately stored;
The first orifice is installed in the main body so that the lower end is immersed in the first cleaning liquid of the plurality of cleaning liquids, and communicates with the gas inlet and the gas introduced through the gas inlet is injected and discharged into the first cleaning liquid. A first gas spray furnace formed with;
A first vortex forming unit installed inside the main body such that the gas discharged through the first orifice collides with the first cleaning liquid in a particulate state, such that a vortex is formed by the ejection force of the gas;
A second gas injection furnace installed inside the main body so as to communicate with the first vortex forming unit, and having a second orifice for injecting and discharging the first cleaning liquid in the state of the gas and particulates introduced into the second cleaning liquid; ;
Installed inside the main body such that the gas discharged through the second orifice collides with the first and second cleaning liquids in a particulate state, and collides outside with the second gas injection by the injection discharge force of the discharged gas. A second vortex forming unit for forming a vortex,
The chamber is formed of a plurality of spaces each formed in a funnel shape at the lower end of the main body, the upper end is formed in communication with,
A chamber separation plate installed at a communication position of the chamber and partitioning an upper end of the chamber so that each of the plurality of cleaning liquids can be independently received;
The first vortex forming unit,
A vortex forming guide portion extending roundly in the direction of the first gas spraying on the chamber separator to guide vortex formation;
A first gas-liquid separator formed to be inclined at a predetermined position of the first gas injection path facing the vortex forming guide part to separate gas and liquid;
And a fluid guide part extending from the vortex forming guide part to the second gas injection part to guide the flow of the fluid. 제1항 내지 제5항, 제8항, 제9항 및 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2와류형성부는,
상기 본체의 측벽에 상기 제2기체분사로 방향으로 돌출 형성되며, 와류 형성을 안내하는 제2와류형성판과;
상기 제2와류 형성판에 대향되는 상기 제2기체분사로의 소정 위치에 형성되어, 기체와 액체를 분리하는 제2기액분리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.The method according to any one of claims 1 to 5, 8, 9 and 11,
The second vortex forming unit,
A second vortex forming plate which protrudes in the direction of the second gas injection in the side wall of the main body and guides vortex formation;
And a second gas-liquid separator formed at a predetermined position in the second gas injection path facing the second swirl-forming plate to separate gas and liquid. 제1항 내지 제5항, 제8항, 제9항 및 제11항 중 어느 한 항에 따른 와류형 세정집진장치를 복수개 포함하고,
이들을 물리적으로 결합하여 하나의 시스템을 구현하되, 상기 기체 유입구와 상기 기체 배출구 및 본체는 공통으로 사용하는 것을 특징으로 하는 와류형 세정집진장치.Claims 1 to 5, 8, 9 and 11 comprising a plurality of vortex-type cleaning dust collecting apparatus according to any one of claims,
Physically combining them to implement a system, the gas inlet, the gas outlet and the main body is a vortex type scrubber, characterized in that used in common.
KR1020170041668A 2017-03-31 2017-03-31 Vortex type wet scrubber KR102025152B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170041668A KR102025152B1 (en) 2017-03-31 2017-03-31 Vortex type wet scrubber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170041668A KR102025152B1 (en) 2017-03-31 2017-03-31 Vortex type wet scrubber

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180111152A KR20180111152A (en) 2018-10-11
KR102025152B1 true KR102025152B1 (en) 2019-11-04

Family

ID=63865456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170041668A KR102025152B1 (en) 2017-03-31 2017-03-31 Vortex type wet scrubber

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102025152B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102097982B1 (en) * 2019-12-16 2020-04-07 청주대학교 산학협력단 Wet scrubber for using the orifice theory

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109806671B (en) * 2019-03-21 2021-04-06 中国航发湖南动力机械研究所 Particle separator
KR102217873B1 (en) * 2019-07-01 2021-02-18 세메스 주식회사 Gas injection system
CN115312426A (en) * 2022-07-28 2022-11-08 上海华力集成电路制造有限公司 Wafer cleaning device and cleaning method thereof
KR102562130B1 (en) * 2023-03-30 2023-08-01 아쿠아셀 주식회사 Wet scrubber

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100745810B1 (en) 2007-03-15 2007-08-02 홍은표 Dust collector
KR101039373B1 (en) * 2011-03-04 2011-06-08 (주)씨앤지테크 Dust collector
KR101203420B1 (en) 2012-08-21 2012-11-21 (주)이화에코시스템 Dual washing and deodoring tower having acid and alkali baths
KR101493657B1 (en) 2014-09-23 2015-02-13 박복성 Removal apparatus of complex gas having variable type nozzle of mixing cleaning solutions and gas

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140103742A (en) * 2013-02-19 2014-08-27 (주)씨앤지테크 Dust collector
KR101457421B1 (en) 2013-03-18 2014-11-03 주식회사 한성더스트킹 Wet type dust collector system for collecting and exhausting dust
KR101483392B1 (en) 2014-03-22 2015-01-15 이경옥 Wet vortex flow style dust collector

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100745810B1 (en) 2007-03-15 2007-08-02 홍은표 Dust collector
KR101039373B1 (en) * 2011-03-04 2011-06-08 (주)씨앤지테크 Dust collector
KR101203420B1 (en) 2012-08-21 2012-11-21 (주)이화에코시스템 Dual washing and deodoring tower having acid and alkali baths
KR101493657B1 (en) 2014-09-23 2015-02-13 박복성 Removal apparatus of complex gas having variable type nozzle of mixing cleaning solutions and gas

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102097982B1 (en) * 2019-12-16 2020-04-07 청주대학교 산학협력단 Wet scrubber for using the orifice theory

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180111152A (en) 2018-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102025152B1 (en) Vortex type wet scrubber
KR101827121B1 (en) High efficiency multistage vortex type wet scrubber
KR101874338B1 (en) Complex type odor eliminator
KR101722232B1 (en) Exhaust gas purification device of a ship engine
KR100613264B1 (en) Wet type scrubber for exhaust gas
KR101396537B1 (en) Droplet separator system for odor gas removal
KR20160088261A (en) Wet scrubber nozzle system and method of use for cleaning a process gas
KR101959628B1 (en) Shower filter for air cleaning
KR101039373B1 (en) Dust collector
JP2009539579A (en) Wet electrostatic precipitator
KR101512459B1 (en) Air pollutants removal equipment with multifunction using high performance gas liquid contact module
JPH06254345A (en) Horizontal wet type cleaning device and method for removing sulfur dioxide from gaseous stream
KR101382140B1 (en) Air pollutants removal equipment with multifunction for effective scrubbing of particulate matter and gas absorption
KR101443157B1 (en) Apparatus for purification of pollution gas
KR101883659B1 (en) Simultaneous cleaning and deodorizing tower with two-component simultaneous distribution function of malodorous gas
KR101893358B1 (en) Simultaneous cleaning and deodorizing tower with 2-component simultaneous cleaning and deodorizing function
KR102236966B1 (en) Apparatus for eliminating odor
KR20170094676A (en) air purifing apparatus by water membrane
KR20140103742A (en) Dust collector
KR20130005079A (en) Dust collector
KR20100106266A (en) Immersion type scrubber
KR101989400B1 (en) Immersion type scrubber improving the efficiency of cleaning
KR101546227B1 (en) Scrubber
KR101896065B1 (en) odor treatment apparatus
KR102027895B1 (en) Voltex type gas-liquid mixing scrubber apparatus using vaccum

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant