KR101973413B1 - Apparatus firing ceramic substrate - Google Patents

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Abstract

세라믹기판 소성장치가 개시된다. 내부에 복수의 세라믹기판을 수용하여 상기 세라믹기판에 열을 공급하는 소성로; 상기 세라믹기판 하면을 지지하기 위하여 상기 소성로 내에 상하로 이격되게설치되는 복수의 세터; 복수의 세터 간의 간격이 유지되도록 상기 세터를 지지하는 지주; 및 상기 소성로에 환원가스를 공급하도록 상기 소성로에 형성되는 가스투입부를 포함하고, 상기 지주에는 상기 환원가스가 통과하도록 복수의 관통홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치가 제공된다.A ceramic substrate baking apparatus is disclosed. A firing furnace accommodating a plurality of ceramic substrates therein and supplying heat to the ceramic substrate; A plurality of setters installed vertically in the firing furnace to support the bottom surface of the ceramic substrate; A strut supporting the setter such that a gap between a plurality of setters is maintained; And a gas inlet formed in the furnace to supply a reducing gas to the furnace, wherein a plurality of through holes are formed in the strut to allow the reducing gas to pass therethrough.

Description

세라믹기판 소성장치{APPARATUS FIRING CERAMIC SUBSTRATE}{APPARATUS FIRING CERAMIC SUBSTRATE}

본 발명은 세라믹기판 소성장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a ceramic substrate baking apparatus.

세라믹 제품을 제작하기 위해서는 소성 공정이 반드시 진행되어야 한다. 세라믹 제품은 LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics) 또는 HTCC(High Temperature Co-fired Ceramics)에 의하여 제조될 수 있다. LTCC에 의하면 세라믹 적층체가 1000℃ 이하의 온도에서 소성되고, HTCC에 의하면 세라믹 적층체가 1200℃ 이상의 온도에서 소성된다.In order to produce ceramic products, the firing process must be carried out. Ceramic products can be manufactured by LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics) or HTCC (High Temperature Co-fired Ceramics). According to the LTCC, the ceramic laminate is fired at a temperature of 1000 ° C or less, and according to HTCC, the ceramic laminate is fired at a temperature of 1200 ° C or more.

세라믹 제품 소성 시, 전극의 산화를 막기 위한 가스를 투입하여 환원 분위기에서 소성이 진행되도록 한다. 따라서, 소성로 내의 상기와 같은 가스의 분압 제어는 중요하다. 상기 가스가 제품에 균일하게 퍼지지 않으면 소성할 세라믹 제품 간에 특성에 차이가 나고, 공정의 재현성 확보도 어렵게 된다.When the ceramics product is sintered, a gas for preventing the oxidation of the electrode is injected so that the sintering proceeds in the reducing atmosphere. Therefore, the control of the partial pressure of such gas in the calcining furnace is important. If the gas does not spread uniformly in the product, there is a difference in characteristics between the ceramic products to be fired, and it becomes difficult to ensure the reproducibility of the process.

본 발명의 배경기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2013-0045572호(2013.05.06 공개, 세라믹 기판 소성 장치 및 이를 이용한 세라믹 기판 소성 방법)에 개시되어 있다.
The background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2013-0045572 (published on May 31, 2016, Ceramic substrate firing apparatus and ceramic substrate firing method using the same).

본 발명의 목적은, 환원가스가 지주를 통과하는 세라믹기판 소성장치를 제공하는 것이다.
It is an object of the present invention to provide a ceramic substrate firing apparatus in which a reducing gas passes through a support.

본 발명의 일 측면에 따르면, 내부에 복수의 세라믹기판을 수용하여 상기 세라믹기판에 열을 공급하는 소성로; 상기 세라믹기판 하면을 지지하기 위하여 상기 소성로 내에 상하로 이격되게설치되는 복수의 세터; 복수의 세터 간의 간격이 유지되도록 상기 세터를 지지하는 지주; 및 상기 소성로에 환원가스를 공급하도록 상기 소성로에 형성되는 가스투입부를 포함하고, 상기 지주에는 상기 환원가스가 통과하도록 복수의 관통홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a firing furnace, comprising: a firing furnace accommodating a plurality of ceramic substrates therein to supply heat to the ceramic substrate; A plurality of setters installed vertically in the firing furnace to support the bottom surface of the ceramic substrate; A strut supporting the setter such that a gap between a plurality of setters is maintained; And a gas inlet formed in the furnace to supply a reducing gas to the furnace, wherein a plurality of through holes are formed in the strut to allow the reducing gas to pass therethrough.

상기 지주는 복수의 상기 세터에 삽입될 수 있다.The struts may be inserted into a plurality of the setters.

상기 세라믹기판은 상기 세터의 내측에 안착되고, 상기 지주는 상기 세터의 모서리측을 지지할 수 있다.The ceramic substrate is seated inside the setter, and the strut can support the edge side of the setter.

상기 지주는 서로 끼움결합 가능한 복수의 단위체로 이루어질 수 있다.The struts may be composed of a plurality of unit pieces which can be fitted to each other.

상기 단위체는, 상면에 형성되는 돌출부와 하면에 상기 돌출부와 상응하는 수용부를 포함할 수 있다.The unit body may include protrusions formed on the upper surface and accommodating portions corresponding to the protrusions on the lower surface.

상기 가스투입부와 연결되도록, 상기 소성로의 바닥과 최하층의 상기 세터 사이에 개재되어 상기 환원가스를 저장하는 가스저장부; 및 상기 가스저장부를 통과하는 상기 환원가스가 상기 지주 측으로 배출되도록 상기 가스저장부에 형성되는 배출구를 더 포함할 수 있다.A gas storage part interposed between a bottom of the firing furnace and the setter of the lowest layer to store the reducing gas to be connected to the gas charging part; And a discharge port formed in the gas storage portion so that the reducing gas passing through the gas storage portion is discharged to the pillar side.

상기 지주는 상기 환원가스가 이동하도록 상기 지주의 내부에 길이방향으로 연장되는 가스이동로를 포함하고, 상기 관통홀은 상기 가스이동로를 관통할 수 있다. The strut may include a gas moving path extending in the longitudinal direction inside the strut so that the reducing gas moves, and the through hole may penetrate the gas moving path.

상기 배출구는 상기 가스이동로와 대응하는 위치에 형성될 수 있다.The outlet may be formed at a position corresponding to the gas passage.

상기 세터 간의 간격은 상기 세라믹기판의 두께보다 크게 형성될 수 있다.The spacing between the setters may be greater than the thickness of the ceramic substrate.

상기 소성로에는 상기 세라믹기판에 열을 가하는 히터가 형성될 수 있다.A heater for applying heat to the ceramic substrate may be formed in the baking furnace.

상기 환원가스는 질소 또는 수소 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The reducing gas may include at least one of nitrogen or hydrogen.

상기 환원가스가 상기 소성로 외부로 배출되도록 상기 소성로에 형성되는 가스배출부를 더 포함할 수 있다.
And a gas discharging portion formed in the sintering furnace so that the reducing gas is discharged to the outside of the sintering furnace.

본 발명의 실시예에 따르면, 환원가스가 지주를 통과함으로써 소성로 내부에 균일하게 확산됨에 따라 세라믹기판의 소성이 균일하게 이루어질 수 있다.
According to the embodiment of the present invention, as the reducing gas passes through the strut, the ceramic substrate is uniformly fired as it is uniformly diffused into the firing furnace.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치의 세터와 지주를 나타낸 도면.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치의 지주를 나타낸 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 2 is a setter and a support of a ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 3 and FIG. 4 are views showing a support of a ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.

본 발명에 따른 세라믹기판 소성장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a perspective view of a ceramic substrate baking apparatus according to the present invention; Fig. 2 is a cross-sectional view of a ceramic substrate baking apparatus according to an embodiment of the present invention; Fig. Is omitted.

또한, 이하 사용되는 제1, 제2 등과 같은 용어는 동일 또는 상응하는 구성 요소들을 구별하기 위한 식별 기호에 불과하며, 동일 또는 상응하는 구성 요소들이 제1, 제2 등의 용어에 의하여 한정되는 것은 아니다.It is also to be understood that the terms first, second, etc. used hereinafter are merely reference numerals for distinguishing between identical or corresponding components, and the same or corresponding components are defined by terms such as first, second, no.

또한, 결합이라 함은, 각 구성 요소 간의 접촉 관계에 있어, 각 구성 요소 간에 물리적으로 직접 접촉되는 경우만을 뜻하는 것이 아니라, 다른 구성이 각 구성 요소 사이에 개재되어, 그 다른 구성에 구성 요소가 각각 접촉되어 있는 경우까지 포괄하는 개념으로 사용하도록 한다.In addition, the term " coupled " is used not only in the case of direct physical contact between the respective constituent elements in the contact relation between the constituent elements, but also means that other constituent elements are interposed between the constituent elements, Use them as a concept to cover each contact.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치의 세터와 지주를 나타낸 도면이고, 도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치의 지주를 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a view showing a ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing a setter and a support of a ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 and 4 1 is a view illustrating a support of a ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치(100)는, 소성로(110), 세터(120), 관통홀(131)이 형성된 지주(130), 가스투입부(140)를 포함하고, 가스저장부(150), 배출구(160), 가스배출부(170)를 더 포함할 수 있다.1, a ceramic substrate firing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a support 130 having a firing furnace 110, a setter 120, a through hole 131, a gas inlet 140 And may further include a gas storage part 150, an exhaust port 160, and a gas exhaust part 170. [

소성로(110)는 내부에 복수의 세라믹기판(10)을 수용하는 공간이 마련되며, 세라믹기판(10)에 열을 공급하는 챔버이다. 소성로(110)에는 히터(111)가 설치될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 히터(111)는 소성로(110)의 내측벽에 설치될 수 있다.The firing furnace 110 has a space for accommodating a plurality of ceramic substrates 10 therein and is a chamber for supplying heat to the ceramic substrate 10. A heater 111 may be installed in the firing furnace 110. As shown in FIG. 1, the heater 111 may be installed on the inner wall of the firing furnace 110.

세터(120)는 세라믹기판(10)의 하면을 지지하는 받침대이다. 세터(120)는 복수로 이루어지며, 각각의 세터(120)는 각각의 세라믹기판(10)을 지지한다. 복수의 세터(120)는 상하로 이격되게 설치될 수 있다. 복수의 세터(120)에 의하면, 복수의 세라믹기판(10)을 한꺼번에 소성시킬 수 있다.The setter 120 is a pedestal supporting the lower surface of the ceramic substrate 10. The setter 120 is composed of a plurality of sets, and each setter 120 supports each ceramic substrate 10. The plurality of setters 120 may be vertically spaced apart. According to the plurality of setters 120, a plurality of ceramic substrates 10 can be simultaneously fired.

지주(130)는 복수의 세터(120) 간의 간격이 유지되도록 세터(120)를 지지하는 기둥이다. 지주(130)는 세터(120)에 삽입될 수 있다. 이 경우, 세터(120)가 지지되도록 지주(130)에 스토퍼가 형성될 수 있다. The column 130 is a column for supporting the setter 120 so that the spacing between the plurality of setters 120 is maintained. The struts 130 may be inserted into the setter 120. In this case, a stopper may be formed on the column 130 to support the setter 120.

도 2에 도시된 바와 같이, 지주(130)는 세터(120)의 모서리측을 지지할 수 있다. 이 경우, 세라믹기판(10)은 세터(120)의 내측에 안착될 수 있다. 세터(120)의 모서리측을 지지하는 지주(130)에 의하면, 지주(130)가 세터(120)를 안정적으로 지지할 수 있다. As shown in FIG. 2, the strut 130 can support the edge side of the setter 120. In this case, the ceramic substrate 10 can be seated inside the setter 120. According to the pillar 130 that supports the edge of the setter 120, the pillar 130 can stably support the setter 120.

세터(120) 간의 간격은 세라믹기판(10)의 두께보다 크게 형성될 수 있다. 세터(120) 간의 간격이 작아 세라믹기판(10)과 세터(120) 간의 간격이 지나치게 작게 형성되면, 환원가스(20)의 이동에 방해가 될 수 있다.The distance between the setters 120 may be larger than the thickness of the ceramic substrate 10. [ If the distance between the ceramic substrate 10 and the setter 120 is too small, the movement of the reducing gas 20 may be interrupted.

가스투입부(140)는 소성로(110)에 형성되어 소성로(110) 내에 환원가스(20)를 공급한다. 여기서, 환원가스(20)는 반응성이 낮은 기체로서, 수소기체(H2) 또는 질소기체(N2)를 포함할 수 있다. 가스투입부(140)는 소성로(110)의 일측면의 하부에 형성될 수 있다. 이에 따라, 환원가스(20)가 가벼운 경우에 환원가스(20)의 확산이 효율적으로 될 수 있다. The gas inlet 140 is formed in the firing furnace 110 to supply the reducing gas 20 into the firing furnace 110. Here, the reducing gas 20 may include a hydrogen gas (H 2 ) or a nitrogen gas (N 2 ) as a low reactive gas. The gas inlet 140 may be formed at a lower portion of one side of the firing furnace 110. Accordingly, when the reducing gas 20 is light, the reducing gas 20 can be efficiently diffused.

지주(130)에는 복수의 관통홀(131)이 형성될 수 있다. 복수이 관통홀(131)은 환원가스(20)가 지주(130)를 통과하여 세라믹기판(10)으로 퍼지게 한다. 관통홀(131)이 없는 경우, 환원가스(20)는 지주(130)의 방해를 받아 세라믹기판(10)에 충분히 도달하지 못할 수 있다. A plurality of through holes 131 may be formed in the support 130. The plurality of through holes 131 allow the reducing gas 20 to pass through the pillars 130 and spread to the ceramic substrate 10. [ In the absence of the through hole 131, the reducing gas 20 may not reach the ceramic substrate 10 sufficiently due to the interference of the support pillars 130.

그러나, 지주(130)에 관통홀(131)이 있는 경우에는 환원가스(20) 확산에 대한 지주(130)의 방해가 감소될 수 있다. 궁극적으로는 환원가스(20)의 분압이 소성로(110) 내부에서 균일해짐에 따라, 세라믹기판(10)의 소성이 잘 이루어질 수 있다.However, if there is a through hole 131 in the support 130, interference of the support 130 with the diffusion of the reducing gas 20 can be reduced. Ultimately, as the partial pressure of the reducing gas 20 becomes uniform in the baking furnace 110, the baking of the ceramic substrate 10 can be performed well.

가스저장부(150)는 가스투입부(140)로 공급되는 환원가스(20)를 저장할 수 있다. 가스저장부(150)는 가스투입부(140)와 연결되며, 소성로(110)의 바닥과 최하층에 위치한 세터(120) 사이에 개재될 수 있다. 즉, 세터(120)는 가스저장부(150) 상에 형성될 수 있다.The gas storage part 150 may store the reducing gas 20 supplied to the gas charging part 140. The gas storage part 150 is connected to the gas input part 140 and may be interposed between the bottom of the firing furnace 110 and the setter 120 located at the lowermost layer. That is, the setter 120 may be formed on the gas storage part 150.

배출구(160)는 가스저장부(150)에 형성되어 환원가스(20)가 지주(130) 측으로 배출되도록 한다. 가스저장부(150)와 배출구(160)에 의하여, 환원가스(20)가 소성로(110)의 하측에서 상측으로 이동하고, 지주(130)의 관통홀(131)을 통과하면서 세라믹기판(10)으로 균일하게 확산될 수 있다.The discharge port 160 is formed in the gas storage part 150 so that the reducing gas 20 is discharged to the support 130 side. The reducing gas 20 is moved upward from the lower side of the firing furnace 110 by the gas storage part 150 and the discharge port 160 and passes through the through hole 131 of the support 130, As shown in Fig.

이 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 지주(130)는 내부에 가스이동로(132)를 포함할 수 있다.In this case, as shown in Fig. 4, the strut 130 may include a gas moving path 132 therein.

가스이동로(132)는 배출구(160)를 통하여 배출된 환원가스(20)가 지주(130) 내부를 통과할 수 있도록 마련되는 가스 이동통로이다. 가스이동로(132)는 지주(130) 내부에 지주(130)의 길이방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 여기서, 배출구(160)는 가스이동로(132)와 대응하는 위치에 형성될 수 있다. 즉, 지주(130)의 가스이동로(132)와 가스저장부(150)의 배출구(160)는 직접 연결될 수 있다.The gas transfer passage 132 is a gas transfer passage provided so that the reducing gas 20 discharged through the discharge port 160 can pass through the inside of the support 130. The gas moving path 132 may be formed to extend in the longitudinal direction of the strut 130 inside the strut 130. Here, the discharge port 160 may be formed at a position corresponding to the gas transfer path 132. That is, the gas flow path 132 of the strut 130 and the discharge port 160 of the gas storage part 150 can be directly connected.

지주(130)의 관통홀(131)은 가스이동로(132)를 관통할 수 있다. 이에 의하면, 환원가스(20)는, 가스투입부(140), 가스저장부(150), 배출구(160), 가스이동로(132)를 순차적으로 통과하며 관통홀(131)을 통하여 소성로(110) 내부로 확산될 수 있다.The through hole 131 of the support 130 can pass through the gas passage 132. The reducing gas 20 sequentially passes through the gas input part 140, the gas storage part 150, the discharge port 160 and the gas transfer path 132 and passes through the through hole 131 to the firing furnace 110 ). ≪ / RTI >

상술한 가스이동로(132)에 의하면, 환원가스(20)가 지주(130)를 타고 올라가면서 관통홀(131)을 통하여 배출되어, 세라믹기판(10) 측으로 효율적으로 확산될 수 있다.The reducing gas 20 is discharged through the through hole 131 while rising on the strut 130 and can be efficiently diffused to the ceramic substrate 10 side.

도 3 및 도 4를 참조하면, 지주(130)는 서로 끼움결합이 가능한 복수의 단위체(130a, 130b)로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 지주(130)는 소성로(110) 내부의 상하로 연장되는 봉 형상을 가질 수 있으나, 이는 복수의 단위체(130a, 130b)가 결합된 것일 수 있다.3 and 4, the struts 130 may be formed of a plurality of unit pieces 130a and 130b which can be fitted to each other. For example, the strut 130 may have a rod shape extending up and down inside the firing furnace 110, but it may be a combination of a plurality of unit pieces 130a and 130b.

도 3을 참조하면, 단위체(130a, 130b)는 돌출부(133)와 수용부(134)를 포함할 수 있다. 돌출부(133)는 단위체(130a, 130b)의 상면에 형성되는 볼록한 돌기이며, 수용부(134)는 단위체(130a, 130b)의 하면에 형성되는 오목한 홈이다. 돌출부(133)와 수용부(134)는 서로 맞물림이 가능한 형상을 가질 수 있으며, 제1의 단위체(130a)의 수용부(134)는 제2의 단위체(130b)의 돌출부(133)를 수용할 수 있다.Referring to FIG. 3, the unit pieces 130a and 130b may include a protrusion 133 and a receiving portion 134. As shown in FIG. The projecting portion 133 is a convex projection formed on the upper surface of the unit bodies 130a and 130b and the receiving portion 134 is a concave groove formed on the lower surface of the unit bodies 130a and 130b. The protruding portion 133 and the accommodating portion 134 may have a shape capable of engaging with each other and the accommodating portion 134 of the first unit body 130a may receive the protruding portion 133 of the second unit body 130b .

이러한 복수의 단위체(130a, 130b)로 이루어지는 지주(130)에 의하면, 지주(130)의 교체, 운반, 세척 등이 용이해질 수 있다.According to the pillar 130 composed of the plurality of unit bodies 130a and 130b, the pillar 130 can be easily replaced, transported, washed, and the like.

한편, 가스배출부(170)는 소성로(110)에 투입된 환원가스(20)가 외부로 배출되는 부분이다. 가스배출부(170)는 소성로(110)의 일측면의 상부에 형성될 수 있다. 환원가스(20)가 가벼운 기체인 경우, 소성로(110) 하측에 형성된 가스투입부(140)로 공급된 환원가스(20)는 소성로(110) 내에서 상부로 확산되어 소성로(110) 상측에 형성된 가스배출부(170)로 배출될 수 있다.On the other hand, the gas discharge portion 170 is a portion where the reducing gas 20 introduced into the firing furnace 110 is discharged to the outside. The gas discharge portion 170 may be formed on the upper side of one side of the firing furnace 110. When the reducing gas 20 is a light gas, the reducing gas 20 supplied to the gas introducing portion 140 formed below the baking furnace 110 is diffused upward in the baking furnace 110 and formed on the upper side of the baking furnace 110 And may be discharged to the gas discharge portion 170.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹기판 소성장치에 의하면, 환원가스의 확산이 균일하게 이루어질 수 있으므로, 각각의 세터 층 간에 온도 차이가 발생하지 않으며, 궁극적으로 세라믹기판의 소성이 균일하게 이루어질 수 있다. As described above, according to the ceramic substrate firing apparatus according to an embodiment of the present invention, since the reduction gas can be uniformly diffused, there is no temperature difference between the setter layers, and ultimately, the firing of the ceramic substrate It can be made uniform.

이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit of the invention as set forth in the appended claims. The present invention can be variously modified and changed by those skilled in the art, and it is also within the scope of the present invention.

10: 세라믹기판
20: 환원가스
100: 세라믹기판 소성장치.
110: 소성로
111: 히터
120: 세터
130: 지주
130a, 130b: 단위체
131: 관통홀
132: 가스이동로
133: 돌출부
134: 수용부
140: 가스투입부
150: 가스저장부
160: 배출구
170: 가스배출부10: Ceramic substrate
20: Reduction gas
100: Ceramic substrate firing apparatus.
110: firing furnace
111: heater
120: Setter
130: holding
130a, 130b:
131: Through hole
132: gas moving path
133:
134:
140: gas inlet
150: gas storage part
160: Outlet
170: gas discharge portion

Claims (12)

내부에 복수의 세라믹기판을 수용하여 상기 세라믹기판에 열을 공급하는 소성로;
상기 세라믹기판 하면을 지지하기 위하여 상기 소성로 내에 상하로 이격되게설치되는 복수의 세터;
복수의 세터 간의 간격이 유지되도록 상기 세터를 지지하는 지주;
상기 소성로에 환원가스를 공급하도록 상기 소성로에 형성되는 가스투입부;
상기 가스투입부와 연결되고, 상기 소성로의 바닥과 최하층의 상기 세터 사이에 개재되어 상기 환원가스를 저장하는 가스저장부; 및
상기 가스저장부를 통과하는 상기 환원가스가 상기 지주 측으로 배출되도록 상기 가스저장부에 형성되는 배출구;
를 포함하고,
상기 지주에는 상기 환원가스가 통과하도록 복수의 관통홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
A firing furnace accommodating a plurality of ceramic substrates therein and supplying heat to the ceramic substrate;
A plurality of setters installed vertically in the firing furnace to support the bottom surface of the ceramic substrate;
A strut supporting the setter such that a gap between a plurality of setters is maintained;
A gas inlet formed in the firing furnace to supply a reducing gas to the firing furnace;
A gas storage portion connected to the gas inlet portion and interposed between the bottom of the firing furnace and the setter of the lowest layer to store the reducing gas; And
A discharge port formed in the gas storage portion such that the reducing gas passing through the gas storage portion is discharged to the support side;
Lt; / RTI >
Wherein a plurality of through holes are formed in the support to allow the reducing gas to pass therethrough.
제1항에 있어서,
상기 지주는 복수의 상기 세터에 삽입되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
Wherein the struts are inserted into a plurality of the setters.
제1항에 있어서,
상기 세라믹기판은 상기 세터의 내측에 안착되고,
상기 지주는 상기 세터의 모서리측을 지지하는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
The ceramic substrate is seated inside the setter,
Wherein the support supports the corner side of the setter.
제1항에 있어서,
상기 지주는 서로 끼움결합 가능한 복수의 단위체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
Wherein the struts are composed of a plurality of unit pieces which can be fitted to each other.
제4항에 있어서,
상기 단위체는, 상면에 형성되는 돌출부와 하면에 상기 돌출부와 상응하는 수용부를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the unit body includes a projecting portion formed on an upper surface and a receiving portion corresponding to the projecting portion on a lower surface.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 지주는 상기 환원가스가 이동하도록 상기 지주의 내부에 길이방향으로 연장되는 가스이동로를 포함하고,
상기 관통홀은 상기 가스이동로를 관통하는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
Wherein the strut includes a gas path extending in the longitudinal direction inside the strut so that the reducing gas moves,
And the through-hole passes through the gas passage.
제7항에 있어서,
상기 배출구는 상기 가스이동로와 대응하는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
8. The method of claim 7,
And the discharge port is formed at a position corresponding to the gas transfer path.
제1항에 있어서,
상기 세터 간의 간격은 상기 세라믹기판의 두께보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
Wherein an interval between the setters is larger than a thickness of the ceramic substrate.
제1항에 있어서,
상기 소성로에는 상기 세라믹기판에 열을 가하는 히터가 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
And a heater for heating the ceramic substrate is formed on the firing furnace.
제1항에 있어서,
상기 환원가스는 질소 또는 수소 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치.
The method according to claim 1,
Wherein the reducing gas comprises at least one of nitrogen and hydrogen.
제1항에 있어서,
상기 환원가스가 상기 소성로 외부로 배출되도록 상기 소성로에 형성되는 가스배출부를 더 포함하는 세라믹기판 소성장치.The method according to claim 1,
And a gas discharging portion formed in the sintering furnace so that the reducing gas is discharged to the outside of the sintering furnace.
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