KR101969361B1 - 집적회로 소자 제조 장치 및 방법 - Google Patents

집적회로 소자 제조 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

집적회로 소자 제조 장치는 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판이 놓여지는 플레이트가 구비되는 챔버; 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 현상액을 공급하도록 구비되는 현상액 공급부; 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 공급되는 현상액을 상기 챔버 외부로 배출시키는 현상액 배출부; 상기 현상액 배출부로부터 배출되는 폐 현상액을 수용하는 현상액 수용부; 및 상기 현상액 수용부에 수용되는 상기 폐 현상액을 공급받아 상기 현상액의 탁도를 조절할 수 있도록 상기 현상액 수용부로부터 상기 현상액 공급부로 상기 폐 현상액이 공급되게 상기 현상액 수용부 및 상기 현상액 공급부 사이를 연결하는 폐 현상액 공급부를 구비할 수 있다.

Description

집적회로 소자 제조 장치 및 방법{Apparatus and Method for manufacturing integrated circuit device}
본 발명은 집적회로 소자 제조 장치 및 방법에 관한 것으로써, 기판 상에 도포하는 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 공정이 이루어지는 집적회로 소자 제조 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서는 기판 상에 형성하는 박막을 원하는 박막 패턴을 갖도록 형성해야 한다. 즉, 집적회로 소자의 제조에서는 금속 배선 등의 연결을 위하여 기판 상에 박막을 형성한 후, 언급한 박막을 박막 패턴으로 형성해야 하는 것이다. 그리고 언급한 바와 같이, 박막을 박막 패턴으로 형성하는 공정은 기판 상에 박막을 형성하고, 이어서 박막 상에 포토레지스트를 도포하고, 그리고 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성한 후, 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 사용하는 식각 공정을 수행함에 의해 달성된다.
여기서, 언급한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하는 공정은 포토레지스트를 도포하는 도포 공정, 포토레지스트의 일부 영역을 광에 노출시키는 노광 공정, 그리고 광에 노출된 포토레지스트 또는 광에 노출되지 않은 포토레지스트를 제거하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 현상 공정을 수행함에 이루어진다.
특히, 언급한 현상 공정에서는 현상액의 탁도를 관리해야 한다. 이는, 현상액의 탁도가 설정 조건을 만족하지 않을 경우 불량이 발생하기 때문이다. 이에, 언급한 현상 공정에서는 현상액의 탁도가 낮을 경우 더미(dummy) 기판을 사용하는 더미 공정을 수행하여 현상액의 탁도를 관리하고 있다. 즉, 현상 공정에서는 신규로 공급되는 현상액을 그대로 사용할 경우 현상액의 탁도가 낮기 때문에 언급한 더미 공정을 수행하여 폐 현상액과 신규 현상액을 혼합함에 의해 현상액의 탁도를 관리하는 것이다.
그러나 종래의 집적회로 소자 제조 장치의 경우에는 현상액의 탁도를 관리하기 위하여 언급한 더미 공정을 수행해애 하기 때문에 더미 공정의 수행으로 인한 생산성이 저하되는 문제점이 있다.
또한, 종래의 집적회로 소자 제조 장치의 경우에는 언급한 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 별도 장치를 사용하여 수행하고 있기 때문에 장치 구성에 따른 복잡성으로 인하여 생산성이 저하되는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 현상액의 탁도 관리를 보다 용이하게 수행할 수 있을 뿐만 아니라 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 일괄로 수행할 수 있는 집적회로 소자 제조 장치 및 방법을 제공하는데 있다.
언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조 장치는 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판이 놓여지는 플레이트가 구비되는 챔버; 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 현상액을 공급하도록 구비되는 현상액 공급부; 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 공급되는 현상액을 상기 챔버 외부로 배출시키는 현상액 배출부; 상기 현상액 배출부로부터 배출되는 폐 현상액을 수용하는 현상액 수용부; 및 상기 현상액 수용부에 수용되는 상기 폐 현상액을 공급받아 상기 현상액의 탁도를 조절할 수 있도록 상기 현상액 수용부로부터 상기 현상액 공급부로 상기 폐 현상액이 공급되게 상기 현상액 수용부 및 상기 현상액 공급부 사이를 연결하는 폐 현상액 공급부를 구비할 수 있다.
언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조 장치에서, 상기 챔버를 개폐하기 위한 도어를 더 구비할 수 있고, 상기 현상액 공급부는 상기 도어와 연결되게 구비될 수 있고, 상기 플레이트는 회전 가능하게 구비될 수 있고, 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 현상액을 공급하기 이전에 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부가 상기 도어와 연결되게 구비될 수 있고, 그리고 상기 플레이트에 놓여지는 기판 상부에서 상기 기판으로 광을 조사할 수 있는 광 조사부가 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버로 이송 가능하게 구비될 수 있다.
언급한 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치 및 방법은 현상액 수용부로부터 현상액 공급부로 폐 현상액을 공급할 수 있는 폐 현상액 공급부를 구비함으로써 현상액의 탁도가 높을 경우에는 현상액 공급부로부터 신규 현상액을 공급받아 현상액의 탁도를 조절하고, 현상액의 탁도가 낮은 경우에는 폐 현상액 공급부로부터 폐 현상액을 공급받아 현상액의 탁도를 조절할 수 있다. 이에, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치를 사용할 경우 현상액의 탁도를 조절하기 위한 더미 공정을 생략할 수 있다.
따라서 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치 및 방법을 사용하는 집적회로 소자의 제조에서는 현상액의 탁도 조절을 위한 더미 공정을 생략할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 기대할 수 있다.
또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치 및 방법은 동일 챔버를 사용하여 포토레지스트를 도포하는 도포 공정, 포토레지스트를 광에 노출시키는 노광 공정 및 포토레지스트에 현상액을 공급하여 포토레지스트 패턴으로 형성하는 현상 공정을 수행할 수 있다. 이에, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 일괄로 수행할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 보다 향상된 생산성을 기대할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
실시예
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 포토리소그래피(photolithography) 공정에 사용한다. 즉, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 기판(10) 상에 형성하는 박막의 패터닝시 식각 마스크로 사용하기 위한 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 것이다. 또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 포토레지스트를 도포하는 도포 공정, 포토 마스크를 사용하여 원하는 부분의 포토레지스트에 광을 조사하는 노광 공정 및 현상액을 공급함에 따라 광이 조사되는 부분의 포토레지스트 또는 광이 조사되지 않은 부분의 포토레지스트를 제거하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 현상 공정을 수행할 수 있다. 그리고 이하에서는 본 발명의 집적회로 소자 장치를 사용하는 현상 공정에 대하여 먼저 설명하고, 아울러 도포 공정 및 노광 공정에 대해서는 후술하기로 한다.
본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판(10)이 놓여지는 플레이트(12)가 구비되는 챔버(11)를 포함한다. 특히, 본 발명에서의 챔버(11)는 챔버(11)를 개폐할 수 있도록 챔버(11) 상부에 도어(21)를 구비할 수 있다. 이에, 집적회로 소자의 제조시 챔버(11)의 개폐를 통하여 설정된 공정 조건을 유지할 수 있다. 아울러, 언급한 플레이트(12)는 회전 가능하게 구비될 수 있다. 이에, 현상 공정시 기판(10) 상으로 현상액을 공급할 때 플레이트(12)를 사용하여 기판(10)을 회전시킴으로써 회전력에 의해 기판(10)의 가장자리까지 현상액이 공급될 수 있다.
또한, 도포 공정에서도 플레이트(12)를 사용하여 기판(10)을 회전시킴으로써 기판(10) 상에 도포되는 포토레지스트를 회전력에 의해 기판(10)의 가장가지까지 충분하게 도포할 수 있다. 다만, 노광 공정에서는 기판(10)을 회전시키지 않을 수도 있다.
언급한 집적회로 소자 제조 장치는 플레이트(12)에 놓여지는 기판(10)으로 현상액을 공급하도록 구비되는 현상액 공급부(13)를 포함한다. 이때, 현상액 공급부(13)는 도어(21)와 연결되게 구비될 수 있다. 즉, 현상액 공급부(13)는 도어(21)를 통하여 챔버(11) 내의 플레이트(12)에 놓여지는 기판(10)으로 현상액을 공급하도록 구비될 수 있는 것이다. 특히, 도어(21)에 노즐 등과 같은 분사부(23)가 구비될 경우에는 현상액 공급부(13)는 분사부(23)와 연결되도록 구비될 수 있다. 여기서, 현상액 공급부(13)를 도어(21)와 연결되도록 구비하는 것은 기판(10)의 상부에서 기판(10)으로 현상액을 공급하기 위함이다. 따라서 도어(21)가 없을 경우에는 기판(10) 상부를 향하도록 현상액 공급부(13)가 구비될 수 있다.
그리고 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 플레이트(12)에 놓여지는 기판(10)으로 공급되는 현상액을 챔버(11) 외부로 배출시키는 현상액 배출부(15)를 포함한다. 따라서, 현상 공정의 수행시 기판(10)으로 공급되는 현상액이 현상액 배출부(15)를 통하여 챔버(11) 외부로 배출될 수 있다. 이에, 언급한 현상액 배출부(15)는 주로 챔버(11)의 저면에 연결될 수 있다.
또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 현상액 배출부(15)로부터 배출되는 현상액, 즉 폐 현상액을 수용하는 현상액 수용부(17)를 포함한다. 이에, 현상액 배출부(15)를 통하여 배출되는 폐 현상액을 그대로 흘려보내지 않고 언급한 현상액 수용부(17)에 수용할 수 있는 것이다.
언급한 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 현상액의 탁도를 조절하기 위한 폐 현상액 공급부(19)를 포함한다. 언급한 폐 현상액 공급부(19)는 현상액 수용부(17)에 수용되는 폐 현상액을 공급받아 현상액 수용부(17)로부터 현상액 공급부(13)로 폐 현상액이 공급되도록 구비될 수 있다. 이에, 언급한 폐 현상액 공급부(19)는 현상액 수용부(17) 및 현상액 공급부(13) 사이를 연결하도록 구비될 수 있다.
따라서 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 언급한 폐 현상액 공급부(19)를 구비함으로써 현상액 공급부(13)로부터 기판(10)으로 공급되는 현상액의 탁도가 낮을 경우 폐 현상액 공급부(19)로부터 폐 현상액을 공급받음에 의해 현상액의 탁도를 조절할 수 있다. 또한, 언급한 현상액 공급부(13)로부터 기판(10)으로 공급되는 현상액의 탁도가 높을 경우에는 현상액 공급부(13)를 통하여 계속적으로 신규 현상액을 공급받에 의해 현상액 탁도를 조절할 수 있다.
이에, 본 발명에서의 집적회로 소자 제조 장치는 기판(10)으로 공급되는 현상액의 탁도를 보다 용이하게 조절할 수 있다. 즉, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치를 사용할 경우 종래와 같이 더미 공정을 수행하지 않고도 현상액의 탁도를 조절할 수 있는 것이다.
따라서 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치를 사용하여 현상 공정을 수행할 경우 더미 공정을 수행하지 않고도 현상액의 탁도를 용이하게 수행할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 기대할 수 있다.
또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 언급한 현상 공정 이외에도 포토레지스트를 도포하는 도포 공정 및 포토레지스트에 광을 조사하는 노광 공정을 더 수행할 수 있다.
이에, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 플레이트(12) 놓여지는 기판(10)으로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부(25)를 포함할 수 있다. 즉, 포토레지스트 공급부(25)의 경우에도 도어(21)를 통하여 챔버(11) 내의 플레이트(12)에 놓여지는 기판(10)으로 포토레지스트를 도포하도록 구비될 수 있는 것이다. 특히, 도어(21)에 노즐 등과 같은 분사부(23)가 구비될 경우에는 현상액 공급부(13)와 마찬가지로 포토레지스트 공급부(25)도 분사부(23)와 연결되도록 구비될 수 있다. 여기서, 포토레지스트 공급부(25) 또한 도어(21)와 연결되도록 구비하는 것은 기판(10)의 상부에서 기판(10)으로 포토레지스트를 공급 및 도포하기 위함이다. 따라서 도어(21)가 없을 경우에는 현상액 공급부(13)와 마찬가지로 기판(10) 상부를 향하도록 포토레지스트 공급부(25)가 구비될 수 있다.
아울러, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 플레이트(12)에 놓여지는 기판(10) 상부에서기판(10)으로 광을 조사할 수 있는 광 조사부(27)를 포함한다. 특히, 언급한 광 조사부(27)는 챔버(11) 외부로부터 챔버(11)로 이송 가능하게 구비될 수 있다. 즉, 도어(21)의 개폐를 통하여 광 조사부(27)가 챔버(11) 외부로부터 챔버(11)로 이송 가능하게 구비될 수 있는 것이다.
또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 도어(21)를 사용한 챔버(11)의 폐쇄시 챔버(11)를 외부로부터 긴밀하게 폐쇄하도록 도어(21)와 접촉하는 접촉 부위에 오-링(O-ring) 등과 같은 긴밀부(29)를 구비할 수 있고, 그리고 챔버(11) 내부를 설정 압력을 유지하도록 기압을 조정하기 위한 기압 조정부(31, 33)를 구비할 수 있다. 여기서, 언급한 기압 조정부(31, 33)는 대기압 조정부(31), 진공 조정부(33) 등으로 구비될 수 있다.
언급한 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치를 사용하는 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정에 대하여 설명하면, 먼저 기판(10)을 플레이트(12)에 놓은 후 도어(21)를 사용하여 챔버(11)를 밀폐시키고 그리고 포토레지스트 공급부(25)를 사용하여 기판(10)으로 포토레지스트를 공급한다. 이때, 플레이트(12)가 회전함에 따라 기판(10)도 회전하는 상태를 유지하고, 챔버(11) 내부는 진공 상태를 유지한다. 이에, 언급한 기판(10)의 회전에 따른 회전력에 의해 기판(10)으로 공급되는 포토레지스트는 기판(10)의 중심 부분으로부터 가장가리 부분까지 균일하게 도포된다. 그리고 포토레지스트를 경화시키는 공정을 수행한다. 여기서, 언급한 포토레지스트의 경화는 도시하지는 않았지만 챔버(11) 내부의 온도를 조절할 수 있는 부재를 사용함에 의해 달성될 수 있다. 이어서, 도어(21)를 사용하여 챔버(11)를 개방시킨 후, 챔버(11) 상부로 광 조사부(27)를 배치시킨다. 이에, 언급한 광 조사부(27)는 기판(10) 상에 배치될 수 있다. 그리고 광 조사부(27)를 사용하여 기판(10) 상에 도포된 포토레지스트에 광을 조사한다. 이때, 포토레지스트의 선택적인 부분에만 광이 조사되도록 포토 마스크를 사용할 수 있다. 계속해서, 언급한 광 조사부(27)를 사용한 광의 조사를 수행한 후, 도어(21)를 사용하여 챔버(11)를 폐쇄시킨다. 그리고 현상액 공급부(13)를 사용하여 포토레지스트로 현상액을 공급한다. 이때, 현상액의 탁도가 낮을 경우 현상액 배출부(15), 현상액 수용부(17) 및 폐 현상액 공급부(19)를 사용하여 현상액의 탁도를 조절한다. 따라서 포토레지스트에는 탁도가 조절된 현상액이 계속적으로 공급될 수 있다. 이에, 광에 노출된 포토레지스트 또는 광에 노출되지 않은 포토레지스트를 제거함으로써 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성할 수 있다.
언급한 바와 같이, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 포토레지스트 공급부(25)를 구비함으로써 도포 공정을 수행할 수 있고, 광 조사부(27)를 구비함으로써 노광 공정을 수행할 수 있고, 그리고 현상액 공급부(13)를 구비함으로써 현상 공정을 수행할 수 있다. 아울러, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치는 현상액 배출부(15), 현상액 수용부(17) 및 폐 현상액 공급부(19)를 구비함으로써 현상액의 탁도 조절을 보다 용이하게 수행할 수 있다.
언급한 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치 및 방법은 더미 공정을 수행하지 않고도 현상액의 탁도 조절을 위한 더미 공정을 생략할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 기대할 수 있다. 또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치 및 방법은 동일 챔버를 사용하여 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 일괄로 수행할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 보다 향상된 생산성을 기대할 수 있다.
따라서 본 발명의 집적회로 소자 제조 장치 및 방법을 사용할 경우 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 확보할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 가격 경쟁력의 향상까지도 기대할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10 : 기판 11 : 챔버
12 : 플레이트 13 : 현상액 공급부
15 : 현상액 배출부 17 : 현상액 수용부
19 : 폐 현상액 공급부 21 : 도어
23 : 분사부 25 : 포토레지스트 공급부
27 : 광 조사부 29 : 긴밀부
31 : 대기압 조정부 33 : 진공 조정부
100 : 제조 장치

Claims (12)

  1. 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판이 놓여지는 플레이트가 구비되는 챔버;
    상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 현상액을 공급하도록 구비되는 현상액 공급부;
    상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 공급되는 현상액을 상기 챔버 외부로 배출시키는 현상액 배출부;
    상기 현상액 배출부로부터 배출되는 폐 현상액을 수용하는 현상액 수용부;
    상기 현상액 수용부에 수용되는 상기 폐 현상액을 공급받아 상기 현상액의 탁도를 조절할 수 있도록 상기 현상액 수용부로부터 상기 현상액 공급부로 상기 폐 현상액이 공급되게 상기 현상액 수용부 및 상기 현상액 공급부 사이를 연결하는 폐 현상액 공급부; 및
    상기 챔버를 개폐하기 위한 도어를 구비하고,
    상기 현상액 공급부는 상기 도어와 연결되게 구비되고, 상기 플레이트는 회전 가능하게 구비되고, 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 현상액을 공급하기 이전에 상기 플레이트에 놓여지는 기판으로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부가 상기 도어와 연결되게 구비되고, 그리고 상기 플레이트에 놓여지는 기판 상부에서 상기 기판으로 광을 조사할 수 있는 광 조사부가 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버로 이송 가능하게 구비되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조 장치.
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  3. 제1 항에 있어서, 상기 도어에는 상기 현상액 공급부 및 상기 포토레지스트 공급부와 연결되는 분사부가 구비되고, 상기 현상액은 상기 현상액 공급부로부터 상기 분사부를 통하여 상기 기판으로 공급되고, 상기 포토레지스트는 상기 포토레지스트 공급부로부터 상기 분사부를 통하여 상기 기판으로 공급되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조 장치.
  4. 제1 항에 있어서, 상기 도어를 사용한 상기 챔버의 폐쇄시 상기 챔버를 외부로부터 긴밀하게 폐쇄하도록 상기 도어와 접촉하는 접촉 부위에 긴밀부가 구비되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조 장치.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 광 조사부를 상기 플레이트에 놓여지는 기판 상부에 위치시켜 노광 공정을 수행할 때에는 상기 플레이트는 회전하지 않고 고정되도록 조정되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조 장치.
  6. 제1 항에 있어서, 상기 현상액 공급부로부터 공급되는 현상액의 탁도가 낮을 경우에는 상기 폐 현상액 공급부로부터 폐 현상액을 공급하도록 조절되고, 상기 현상액 공급부로부터 공급되는 현상액의 탁도가 높을 경우에는 상기 현상액 공급부로부터 계속해서 신규 현상액을 공급하도록 조절되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조 장치.
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