KR101953850B1 - Double Side Embedded Manufacturing Method - Google Patents

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KR101953850B1
KR101953850B1 KR1020170096867A KR20170096867A KR101953850B1 KR 101953850 B1 KR101953850 B1 KR 101953850B1 KR 1020170096867 A KR1020170096867 A KR 1020170096867A KR 20170096867 A KR20170096867 A KR 20170096867A KR 101953850 B1 KR101953850 B1 KR 101953850B1
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Abstract

본 발명은 더블 사이드 임베디드 제조방법으로, (a) 코어를 선정하는 단계; (b) 상기 (a)단계에서 선정된 코어에 전자소자가 실장될 수 있도록, 상기 코어에 캐비티를 가공하는 단계; (c) 상기 전자소자를 캐비티 상에서 고정하는 단계; (d) 상기 코어의 일면에 하나의 동박층과 적층하는 단계; 및 (e) 상기 코어의 타면에 다른 하나의 동박층과 적층하여 더블 사이드 임베디드 기판을 형성하는 단계를 포함하도록 이루어져, 최소의 높이를 가진 임베디드 기판을 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a double-side embedded manufacturing method, comprising: (a) selecting a core; (b) processing the cavity in the core so that the electronic device can be mounted on the core selected in the step (a); (c) fixing the electronic device on the cavity; (d) stacking one copper foil layer on one side of the core; And (e) forming a double-sided embedded substrate by stacking the other copper layer on the other surface of the core to form an embedded substrate having a minimum height.

Description

더블 사이드 임베디드 제조방법{Double Side Embedded Manufacturing Method} {Double Side Embedded Manufacturing Method}

본 발명은 더블 사이드 임베디드 제조방법에 관한 것으로, 수동소자 부품 두께에 맞는 코어를 선정하여 양면 PCB(Double Side PCB)를 제조함으로써 소자 간의 접속 길이를 짧게 형성한 더블 사이드 임베디드 제조방법이다.The present invention relates to a double side embedded manufacturing method, and is a double side embedded manufacturing method in which a connection length between devices is shortened by manufacturing a double side PCB by selecting cores corresponding to passive device part thicknesses.

인쇄회로기판 (PCB; Printed Circuit Board)은 전기 절연성 기판에 구리와 같은 전도성 재료로 회로라인(line pattern)을 인쇄 형성시킨 것으로, 전자 부품을 탑재하기 직전의 기판을 말한다. 이때 상기 인쇄회로 기판은 도체가 형성된 면에 따라 양면 인쇄회로기판(D/S PCB; Double Sided PCB)과 일면 인쇄회로기판(S/S PCB; Single Sided PCB)으로 구분된다.A printed circuit board (PCB) is a substrate on which an electronic component is mounted, in which a circuit pattern is formed by printing a conductive material such as copper on an electrically insulating substrate. At this time, the printed circuit board is divided into a double side printed circuit board (D / S PCB) and a single side printed circuit board (S / S PCB) along the side on which the conductor is formed.

이때 상기 양면 인쇄회로기판은 절연체 양면에 도체 패턴이 형성된 배선판으로, 상기 양면 인쇄회로 기판 중에서도 양면에 도체 패턴을 형성하면서 그 사이에 동도금 쓰루홀(TH : Through Hole)로 접속한 Double Side TH PCB가 많이 사용된다. In this case, the double-sided printed circuit board is a wiring board on which conductor patterns are formed on both sides of the insulator. In the double-sided printed circuit board, a Double Side TH PCB is formed by forming conductor patterns on both surfaces thereof and connecting the through- It is widely used.

최근에는 상기한 바와 같은 인쇄회로 기판에 능동소자 또는 수동소자가 기판 내에 실장되어, 서로 유기적인 결합을 통해 소형화가 된 임베디드 인쇄회로기판(Embedded PCB)이 제공되고 있다. 이때 위와 같은 임베디드 인쇄회로기판을 제조하는 것이 관한 기술로써 한국등록특허공보 제10-1440327호("칩 내장형 임베디드 인쇄회로기판 및 그 제조방법")가 개시되어 있다. Recently, there has been provided an embedded printed circuit board (PCB) in which an active element or a passive element is mounted on a printed circuit board as described above and is miniaturized through organic bonding. Korean Patent Registration No. 10-1440327 (" embedded printed circuit board and its manufacturing method ") is disclosed as a technology related to manufacturing the above-described embedded printed circuit board.

상기 제조방법은 도 1에서 도시된 바와 같이 베이스 기판에 캐비티를 형성(S2)하고 베이스 기판 내 캐비티에 소자칩을 배치 및 고정(S4, S5)하며, 베이스 기판의 양면에 절연층을 적층(S8)하는 단계를 거쳐 임베디드 인쇄회로기판을 제작할 수 있다. 1, a cavity is formed in a base substrate S2, a device chip is placed and fixed on the cavity in the base substrate S4 and S5, and an insulating layer is stacked on both sides of the base substrate S8 ) To manufacture an embedded printed circuit board.

여기서 상기한 바와 같은 제조방법은, 하나의 코어에 양면에 절연층을 적층하도록 이루어지기 때문에 제조 시간이 많이 소요되며, 임베디드 인쇄회로기판의 두께가 커지는 단점이 발생된다. 이와 같이 두께가 큰 임베디드 인쇄회로기판은 소자 간의 접속 길이가 커지기 때문에 인덕턴스 성분이 높아져 전기적 효율이 낮을 수 있으며, 이 외에도 기존 유전 손실 등을 개선하기 위한 방법에 대해서는 개시되어 있지 않아 이를 해결할 수 없는 문제점이 있다.The manufacturing method described above is disadvantageous in that it requires a long manufacturing time because the insulation layers are laminated on both sides of one core, and the thickness of the embedded printed circuit board is increased. Since the embedded printed circuit board having a large thickness has a large connection length between devices, the inductance component is high and the electrical efficiency may be low. In addition, a method for improving existing dielectric loss has not been disclosed, .

한국등록특허공보 제10-1440327호("칩 내장형 임베디드 인쇄회로기판 및 그 제조방법", 2014.09.04)Korean Registered Patent No. 10-1440327 (" embedded printed circuit board embedded in chip and its manufacturing method ", 2014.09.04)

본 발명은 더블 사이드 임베디드 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소자의 높이에 대응되는 코어를 베이스 자재로 사용하여 인쇄회로기판의 두께를 낮추며, 저 유전 소재를 적용하여 고속 신호 및 고주파 신호의 유전 손실을 낮출 수 있는 더블 사이드 임베디드 제조방법이다.The present invention relates to a double-side embedded manufacturing method, and more particularly, to a method of manufacturing a double-side embedded device in which a core corresponding to a height of a device is used as a base material to reduce the thickness of a printed circuit board, It is a double side embedded manufacturing method that can reduce the loss.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은, (a) 코어(110)를 선정하는 단계; (b) 상기 (a)단계에서 선정된 코어(110)에 전자소자(300)가 실장될 수 있도록, 상기 코어(110)에 캐비티(111)를 가공하는 단계; (c) 상기 코어(110)의 일면에 지지테이프(140)를 부착하여 상기 전자소자(300)를 캐비티(111)에 고정하는 단계; (d) 하나의 동박층(130)을 상기 코어(110)의 타면과 접착제(120)를 통해 결합하고, 상기 지지테이프(140)를 제거하는 단계; 및 (e) 다른 하나의 동박층(130)을 상기 코어(110)의 일면과 접착제(120)를 통해 결합하여 더블 사이드 임베디드 기판(1000)을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 코어(110)는 에폭시 수지를 포함하고, 상기 (d)단계는, 상기 코어(110)가 반경화된 상태로 이루어지며, 상기 (e)단계에서 더블 사이드 임베디드 기판(1000)이 형성되면 상기 코어(110)가 전경화되는 것을 특징으로 할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a double-side embedded manufacturing method comprising the steps of: (a) selecting a core; (b) machining the cavity (111) in the core (110) so that the electronic device (300) can be mounted on the core (110) selected in the step (a); (c) attaching a support tape 140 to one surface of the core 110 to fix the electronic device 300 to the cavity 111; (d) coupling one of the copper foil layers 130 to the other surface of the core 110 through the adhesive 120 and removing the support tape 140; And forming a double side embedded substrate (1000) by bonding another copper foil layer (130) to one side of the core (110) through an adhesive (120) Wherein the core 110 is semi-cured, and when the double-sided embedded substrate 1000 is formed in step (e), the core 110 is formed of an epoxy resin, And is characterized in that it is precolored.

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또한 상기 (e) 단계 이후, (f) 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 홀을 가공하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.Further, after step (e), (f) machining the hole in the double side embedded substrate 1000 may be further included.

이때 상기 (f)단계는 자외선 레이저 또는 탄산가스 레이저를 이용하여 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 홀을 가공하는 것을 특징으로 할 수 있다.In the step (f), holes may be formed in the double side embedded substrate 1000 using an ultraviolet laser or a carbon dioxide gas laser.

또한 상기 (f)단계는 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 비아홀(400) 및 쓰루홀(500)을 가공하는 것을 특징으로 할 수 있다.In the step (f), the via hole 400 and the through hole 500 may be formed on the double side embedded substrate 1000.

또한 상기 비아홀(400)은 코어(110)의 일면 방향을 향하도록 가공되는 제1비아홀(410) 및 상기 코어(110)의 타면 방향을 향하도록 가공되는 제2비아홀(420)을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.The via hole 400 includes a first via hole 410 formed to face the core 110 in one direction and a second via hole 420 formed to face the other surface of the core 110 .

또한 상기 (f)단계 이후, (g) 상기 쓰루홀(500)을 도체로 충진하는 단계;를 더 포함하여 이루어질 수 있다.Further, after the step (f), (g) filling the through hole 500 with a conductor.

상기와 같은 구성에 의한 본 발명에 따른 더블 사이드 임베디드 제조방법은, 전자소자의 높이와 대응하는 코어를 선정하고, 상기 코어의 양면에 동박층을 형성함에 따라 임베디드 기판의 두께를 최소화할 수 있다. 이는 소자 간의 접속 길이가 짧아져 인덕턴스 성분이 감소하여 전기적인 성능 향상으로 이어지며, 이에 따라 본 발명에 따른 인쇄회로기판이 장착된 전자제품의 효율이 높아진다.According to the method of manufacturing a double side embedded according to the present invention, the thickness of the embedded substrate can be minimized by selecting a core corresponding to the height of the electronic device and forming a copper foil layer on both sides of the core. This shortens the connection length between the devices, thereby reducing the inductance component, leading to an improvement in electrical performance, thereby increasing the efficiency of the electronic product on which the printed circuit board according to the present invention is mounted.

또한 본 발명은 최소의 두께를 가지는 임베디드 기판의 제조공정을 보다 효율적으로 운용함에 따라, 현장에서 해당 제품을 생산하는 시간이 대폭 감소하는 효과로 이어질 수 있으며, 이는 제품의 가격이 저렴해지는 장점으로 이어진다. Further, since the manufacturing process of the embedded substrate having the minimum thickness is operated more efficiently, the present invention can lead to a significant reduction in the time required for producing the product in the field, which leads to the advantage that the cost of the product is reduced .

도 1은 종래 기술에 따른 임베디드 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 블록선도
도 2는 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예에 따른 (a)단계를 도시한 도면
도 3은 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예에 따른 (b)단계 및 (c)단계를 도시한 도면
도 4는 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예에 따른 (d)단계를 도시한 도면
도 5는 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예에 따른 (e)단계를 도시한 도면
도 6은 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예에 따른 (f)단계 및 (g)단계를 도시한 도면
도 7은 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 다른 실시예에 따른 적층구조를 도시한 도면
1 is a block diagram showing a method of manufacturing an embedded printed circuit board according to the prior art;
2 is a view illustrating a step (a) according to an embodiment of the double-side embedded manufacturing method of the present invention
3 is a view illustrating steps (b) and (c) according to an embodiment of the double-side embedded manufacturing method of the present invention
4 is a view showing step (d) according to an embodiment of the double-side embedded manufacturing method of the present invention
5 is a view illustrating step (e) according to an embodiment of the double-side embedded manufacturing method of the present invention
6 is a diagram illustrating steps (f) and (g) according to an embodiment of the double-side embedded manufacturing method of the present invention
7 is a view showing a laminated structure according to another embodiment of the double-side embedded manufacturing method of the present invention

이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예에 따른 더블 사이드 임베디드 제조방법을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 또한 명세서 전반에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method of manufacturing a double-side embedded device according to various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following drawings are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the following drawings, but may be embodied in other forms. Also, throughout the specification, like reference numerals designate like elements.

이때 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.In the following description and drawings, unless otherwise indicated, technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. A description of the known function and configuration that can be blurred is omitted.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

도 2는 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예로서, 도 2는 더블 사이드 임베디드 제조방법의 (a)단계 및 (b)단계를 도시한 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 삽입될 전자소자의 두께에 대응하는 코어를 선정하는 (a)단계를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 (a)단계는 도 2-(a)에서 도시된 바와 같이, 전자소자의 두께 혹은 높이와 같은 두께를 가진 코어(110)를 준비하는 과정이다. 이때 상기 코어(110)는 다양한 소재로 이루어질 수 있으며, 본 발명의 코어(110)는 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다. FIG. 2 illustrates an embodiment of a double-side embedded manufacturing method according to the present invention, and FIG. 2 illustrates steps (a) and (b) of a double-side embedded manufacturing method. Referring to FIG. 2, the double-side embedded manufacturing method of the present invention may include (a) selecting a core corresponding to a thickness of an electronic device to be inserted. The step (a) is a process of preparing the core 110 having a thickness equal to the thickness or the height of the electronic device, as shown in FIG. 2- (a). At this time, the core 110 may be made of various materials, and the core 110 of the present invention may include an epoxy resin.

그리고 상기한 바와 같은 (a)단계를 통해 코어(110)가 선정되면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 도 2-(b)에서 도시된 바와 같이 선정된 코어(110)에 상기 전자소자(300)가 실장될 수 있도록, 상기 코어(110)에 캐비티(111)를 가공하는 (b)단계를 포함하여 이루어질 수 있다. 이때 상기 (b)단계에서는 삽입될 전자소자가 복수로 이루어지는 경우에 복수의 캐비티(111)를 가공하도록 이루어질 수 있으며, 상기 캐비티(111)는 자외선 레이저를 이용하여 가공될 수 있다.When the core 110 is selected through the above-described step (a), the double-side embedded manufacturing method according to the present invention is applied to the selected core 110 as shown in FIG. 2- (b) (B) machining the cavity (111) in the core (110) so that the core (300) can be mounted. In this case, in the step (b), a plurality of cavities 111 may be machined when a plurality of electronic devices to be inserted are formed, and the cavities 111 may be processed using an ultraviolet laser.

도 3은 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예로서, 도 3은 더블 사이드 임베디드 제조방법의 (c)단계를 도시한 도면이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 앞서서 명시한 (a)단계 및 (b)단계 이후, 상기 코어(110)의 일면에 지지테이프(140)를 부착하고, 상기 캐비티(111)에 전자소자(300)를 삽입하고, 상기 전자소자(300)를 캐비티(111) 상에서 고정하는 (c)단계를 포함하여 이루어질 수 있다. 이때 도 3-(a)는 상기 코어(110)의 일면에 지지테이프(140)가 부착된 것을 나타내며, 도 3-(b)는 상기 캐비티(111)에 전자소자(300)가 삽입된 것을 도시하고 있다.FIG. 3 shows an embodiment of a double-side embedded manufacturing method according to the present invention, and FIG. 3 shows a step (c) of a double-side embedded manufacturing method. 3, the double-side embedded manufacturing method of the present invention includes attaching a supporting tape 140 to one side of the core 110 after the steps (a) and (b) And (c) inserting the electronic element 300 in the cavity 111 and fixing the electronic element 300 on the cavity 111. [ 3 (a) shows that the support tape 140 is attached to one side of the core 110, and FIG. 3- (b) shows that the electronic device 300 is inserted into the cavity 111 .

이때 상기 지지테이프(140)는 실리콘 테이프를 사용할 수 있으며, 상기 실리콘 테이프 중에서도 PI 실리콘 테이프를 사용하여 상기 코어의 일면을 지지하도록 할 수 있다. 또한 상기 지지테이프(140)는 실리콘 테이프가 아닌 다른 접착수단이나 단순하게 지지하는 바닥에 상기 코어(110)가 배치되어 이루어지도록 형성될 수 있다. 다만, 본 발명의 지지테이프(140)는 상기 코어(110)의 제조시간을 보다 줄일 수 있도록 탈착가능하게 형성되는 것을 개시하고 있다.At this time, the support tape 140 may use a silicone tape, and one side of the core may be supported using a PI silicone tape among the silicone tapes. Further, the support tape 140 may be formed so that the core 110 is disposed on a floor where the adhesive tape 140 or the adhesive tape 140 is simply supported by a bonding means other than the silicone tape. However, the support tape 140 of the present invention is detachably formed to further reduce the manufacturing time of the core 110.

그리고 상기 전자소자(300)는 앞서서 말한 바와 같이 복수로 이루어져, 복수의 전자소자(300)가 코어(110) 내에 실장될 수 있으며, 도 3-(c)는 이를 도시하고 있다. 도 3-(c)를 참조하면, 본 발명의 전자소자(300)는 제1소자(310) 및 제2소자(320)를 포함하여 복수로 이루어질 수 있으며, 상기 코어(110)는 상기 제1소자(310) 및 제2소자(320)를 포함하는 복수의 전자소자(300)가 각각 실장될 수 있도록 복수의 캐비티(111)가 앞 선 (b)단계에서 가공될 수 있다.The electronic device 300 may be a plurality of electronic devices 300 as described above, and a plurality of electronic devices 300 may be mounted in the core 110, as shown in FIG. 3- (c). 3 (c), the electronic device 300 of the present invention may include a plurality of devices including a first device 310 and a second device 320, A plurality of cavities 111 can be processed in the front line (b) so that a plurality of electronic devices 300 including the device 310 and the second device 320 can be mounted, respectively.

또한 상기 캐비티(111)에 삽입된 전자소자(300)는 별도의 보조접착제나 액상의 접합제를 이용해서도 고정이 될 수 있으며, 본 발명의 일 실시예는 상기 전자소자(300)가 상기 지지테이프(140)를 통해 상기 코어(110)의 캐비티(111) 상에 고정되는 것을 도시하고 있다.Also, the electronic device 300 inserted into the cavity 111 may be fixed using a separate auxiliary adhesive or a liquid bonding agent. In an embodiment of the present invention, the electronic device 300 may be fixed to the support And is fixed on the cavity 111 of the core 110 via the tape 140. As shown in Fig.

도 4는 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예로서, 도 4는 더블 사이드 임베디드 제조방법의 (d)단계를 도시한 도면이다. 도 4-(a)를 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 상기 코어(110)의 타면에 접착제(120)가 도포되어 하나의 동박층(130)과 적층하는 (d)단계를 더 포함하여 이루어질 수 있다. 이때 상기 (d)단계는 에폭시로 이루어진 상기 코어(110)가 반경화된 상태에서 진행되는 것이 바람직하다. 또한 상기 (d)단계는 상기 코어(110)가 반경화된 상태에서 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 상기 지지테이프(140)를 상기 코어(110)의 일면에서 제거하는 단계를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 지지테이프(140)를 상기 코어(110)의 일면에서 제거하는 단계는 도 4-(b) 및 도 4-(c)에서 보다 상세히 도시하고 있다.FIG. 4 shows an embodiment of a double-side embedded manufacturing method according to the present invention, and FIG. 4 shows a step (d) of a double-side embedded manufacturing method. Referring to FIG. 4- (a), the double-side embedded manufacturing method of the present invention further includes the step (d) of applying an adhesive 120 to the other surface of the core 110 and stacking the single copper foil 130 . At this time, it is preferable that the step (d) is performed while the core 110 made of epoxy is semi-cured. In the step (d), the double-sided embedded manufacturing method of the present invention may include removing the support tape 140 from one side of the core 110 while the core 110 is semi-cured. have. The step of removing the support tape 140 from one side of the core 110 is shown in more detail in FIGS. 4- (b) and 4- (c).

앞서서 기재한 바와 같이, 상기 지지테이프(140)가 제거되면, 상기 전자소자(300)는 일부가 노출될 수 있으며, 이때 상기 전자소자(300)가 상기 코어(110) 상에서 떨어지지 않도록, 상기 코어(110)가 반경화된 상태에서 진행되는 것이 바람직하다.As described above, when the support tape 140 is removed, a part of the electronic device 300 may be exposed, so that the electronic device 300 is not detached from the core 110, 110 are preferably semi-cured.

도 5는 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예로서, 도 5는 더블 사이드 임베디드 제조방법의 (e)단계를 도시한 도면이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 상기 코어(110)의 일면에 접착제(120)가 도포되어 다른 하나의 동박층(130)과 적층하여 더블 사이드 임베디드 기판(1000)을 형성하는 (e)단계를 포함하여 이루어질 수 있다. 그리고 상기 (e)단계는 더블 사이드 임베디드 기판(1000)이 형성되면 완전하게 경화된 전경화가 되도록 형성될 수 있다. 이에 따라 상기 전자소자(300)는 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000) 상에 완전하게 삽입될 수 있으며, 안정적인 적층구조가 이루어질 수 있다. 여기서 도 5-(a)는 상기 코어(110)의 일면에 접착제(120)가 도포된 것을 나타내며, 도 5-(b)는 상기 코어(110)의 일면에 다른 하나의 동박층(130)이 적층되는 것을 도시하고 있다.FIG. 5 shows an embodiment of a double-side embedded manufacturing method according to the present invention, and FIG. 5 shows a step (e) of a double-side embedded manufacturing method. 5, an adhesive 120 is applied to one surface of the core 110 to form a double-sided embedded substrate 1000 with the other copper layer 130 (E). In the step (e), the double-sided embedded substrate 1000 may be formed so as to be fully cured. Accordingly, the electronic device 300 can be completely inserted on the double side embedded substrate 1000, and a stable lamination structure can be achieved. 5- (a) shows that the adhesive 120 is applied to one side of the core 110, and FIG. 5- (b) shows another copper layer 130 on the side of the core 110 Are stacked.

도 6은 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 일 실시예로서, 도 6은 더블 사이드 임베디드 제조방법의 (f)단계 및 (g)단계를 도시한 도면이다. 도 6-(a)를 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은, 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 홀을 가공하는 (f)단계를 포함하여 이루어질 수 있다. 이때 상기 (f)단계는 자외선 레이저 또는 탄산가스 레이저를 이용하여 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 홀을 가공할 수 있으며, 상기 홀은 비아홀(400) 및 쓰루홀(500)을 포함하여 이루어질 수 있다.FIG. 6 is an embodiment of a double side embedded manufacturing method according to the present invention, and FIG. 6 is a view showing steps (f) and (g) of the double side embedded manufacturing method. Referring to FIG. 6- (a), the double-side embedded manufacturing method of the present invention may include the step (f) of machining holes in the double-side embedded substrate 1000. In the step (f), a hole may be formed in the double side embedded substrate 1000 using an ultraviolet laser or a carbon dioxide gas laser. The hole may include a via hole 400 and a through hole 500 have.

이때 상기 (f)단계는 제1소자(310) 및 제2소자(320)에 각각 비아홀(400)을 형성하되, 각각의 비아홀(400)이 서로 다른 방향을 향하도록 가공되는 것을 특징으로 할 수 있다. 이에 따라 본 발명의 더블 사이드 임베디드 기판(1000)은 작은 두께를 가짐에도 효율이 더 높아지는 장점으로 이어진다.In this case, in the step (f), a via hole 400 is formed in the first element 310 and the second element 320, respectively, and the respective via holes 400 are processed to face different directions have. Accordingly, the double-side embedded substrate 1000 of the present invention has an advantage that the efficiency is further increased even though the double-sided embedded substrate 1000 has a small thickness.

그리고 도 6-(b)를 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은 상기 쓰루홀(500)을 도체로 충진하는 (g)단계를 더 포함하여 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 6- (b), the double-side embedded manufacturing method of the present invention may further include filling the through hole 500 with a conductor.

또한 상기한 동박층(130)은 고속 및 고주파 신호를 대응하기 위해 저 조도 동박으로 이루어질 수 있다. 이때 저 조도는 상기 동박층(130)의 표면 거칠기에 관한 것으로, 고속 및 고주파 신호의 전류 밀도가 도체 포면 부분에 집중하는 것에서 안출된 것으로, 금속 도체 표면이 저 조도로 매끄러운 표면으로 형성되면 저항 값이 낮아져 전류의 손실을 최소화할 수 있다. In addition, the copper foil layer 130 may be formed of a low-profile copper foil to correspond to high-speed and high-frequency signals. At this time, the low illuminance is related to the surface roughness of the copper foil layer 130, and the current density of high-speed and high-frequency signals converges on the conductor surface portion. When the surface of the metal conductor is formed into a smooth surface with low illuminance, So that the loss of current can be minimized.

그리고 상기 접착제(120)는 일반적으로는 프리프레그(Prepreg)를 사용할 수 있으나, 고속 및 고주파 신호를 대응하기 위해서는 저유전율 본딩을 통해 형성될 수 있다. 이는 앞서서 말한 동박층(130)과의 호환을 통해 전체적인 더블 사이드 임베디드 기판(1000)이 낮은 유전 손실을 가지도록 하되, 낮은 층간 두께로 전기적 성능이 향상하도록 이루게 할 수 있다.The adhesive 120 may be a prepreg, but it may be formed through low-dielectric-constant bonding in order to cope with high-speed and high-frequency signals. This allows the double-side embedded substrate 1000 to have a low dielectric loss through the compatibility with the copper foil layer 130 described above, but the electrical performance can be improved with a low interlayer thickness.

또한 상기 비아홀(400)은 상기 코어(110)의 일면 방향으로 향하는 제1비아홀(410) 및 상기 코어(110)의 타면 방향으로 향하는 제2비아홀(420)을 포함하여 이루어질 수 있다. 여기서 상기 제1비아홀(410) 및 제2비아홀(420)은 하나의 전자소자(300)의 양극에 각각 형성되거나, 복수의 전자소자(300)가 각각 형성되는 것을 모두 포함하여 이루어질 수 있다.The via hole 400 may include a first via hole 410 facing the one side of the core 110 and a second via hole 420 facing the other side of the core 110. The first via hole 410 and the second via hole 420 may be formed on the anode of one electronic device 300 or may include a plurality of electronic devices 300 respectively.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

도 7은 본 발명인 더블 사이드 임베디드 제조방법의 다른 실시예로서, 도 7은 더블 사이드 임베디드의 적층구조를 도시한 도면이다. 도 7을 참조하면, 본 발명의 더블 사이드 임베디드 제조방법은, 상기 코어(110)가 한 쌍으로 이루어져, 한 쌍의 코어(110)의 높이가 제1소자(310) 및 제2소자(320)와 동일하도록 이루어질 수 있다. FIG. 7 shows another embodiment of a double-side embedded manufacturing method according to the present invention, and FIG. 7 shows a laminated structure of a double-side embedded. Referring to FIG. 7, the double-side embedded manufacturing method of the present invention includes a pair of the cores 110, and a pair of the cores 110 has a height equal to the height of the first and second elements 310 and 320, . &Lt; / RTI &gt;

그리고 상기 한 쌍의 코어(110)는 각각 (a)단계 내지 (d)단계를 거쳐 반경화된 상태의 한 쌍의 적층체(100)를 각각 이룰 수 있으며, 상기 한 쌍의 적층체(100)는 코어(110)의 타면에 접착제(120) 및 동박층(130)이 적층된 것으로 이루어질 수 있다. 그리고 하나의 코어(110)의 캐비티에는 상기 제1소자(310) 또는 제2소자(320)가 상반이 삽입된 상태로 반경화될 수 있으며, 다른 하나의 코어(110)는 상기 제1소자(310) 또는 제2소자(320)가 하반이 삽입될 수 있는 캐비티가 형성된 상태에서 반경화될 수 있다. 이에 따라 한 쌍의 적층체(100)는 상기 코어(110)가 서로 대면하도록 결합되며, 최종적으로 결합된 도 7-(b) 상태에서 완전하게 경화되어 더블 사이드 임베디드 기판(1000)으로 형성될 수 있다. 또는 서로 대면하는 한 쌍의 코어(110) 사이에 접착제 또는 접착테이프가 형성되어 결합되도록 이루어질 수 있다.Each of the pair of cores 110 may be formed as a semi-laminated laminated body 100 through steps (a) to (d) The adhesive 120 and the copper foil layer 130 may be laminated on the other surface of the core 110. [ The first element 310 or the second element 320 may be semi-cured in a state where the upper half of the first element 310 or the second element 320 is inserted into the cavity of the one core 110, 310 or the second element 320 can be semi-cured in a state in which a cavity into which the lower half is inserted is formed. Thus, the pair of stacked bodies 100 can be formed as a double-sided embedded substrate 1000 by bonding the cores 110 to face each other, and finally cured in the state of FIG. 7- (b) have. Or an adhesive or an adhesive tape may be formed between the pair of cores 110 facing each other.

이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 일 실시예에 한정되는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And various modifications and changes may be made thereto by those skilled in the art to which the present invention pertains.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술되는 특허 청구 범위뿐 아니라 이 특허 청구 범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, it is to be understood that the subject matter of the present invention is not limited to the described embodiments, and all of the equivalents or equivalents of the claims are intended to fall within the scope of the present invention will be.

1000 : 더블 사이드 임베디드 기판
100 : 적층체
110 : 코어 111 : 캐비티
120 : 접착제 130 : 동박층
140 : 지지테이프
300 : 전자소자
310 : 제1소자 320 : 제2소자
400 : 비아홀 500 : 쓰루홀
1000: Double side embedded substrate
100:
110: Core 111: Cavity
120: adhesive 130: copper foil layer
140: Support tape
300: electronic device
310: first element 320: second element
400: via hole 500: through hole

Claims (9)

(a) 코어(110)를 선정하는 단계;
(b) 상기 (a)단계에서 선정된 코어(110)에 전자소자(300)가 실장될 수 있도록, 상기 코어(110)에 캐비티(111)를 가공하는 단계;
(c) 상기 코어(110)의 일면에 지지테이프(140)를 부착하여 상기 전자소자(300)를 캐비티(111)에 고정하는 단계;
(d) 하나의 동박층(130)을 상기 코어(110)의 타면과 접착제(120)를 통해 결합하고, 상기 지지테이프(140)를 제거하는 단계; 및
(e) 다른 하나의 동박층(130)을 상기 코어(110)의 일면과 접착제(120)를 통해 결합하여 더블 사이드 임베디드 기판(1000)을 형성하는 단계;
를 포함하되,
상기 코어(110)는 에폭시 수지를 포함하고,
상기 (d)단계는, 상기 코어(110)가 반경화된 상태로 이루어지며,
상기 (e)단계에서 더블 사이드 임베디드 기판(1000)이 형성되면 상기 코어(110)가 전경화되는 것을 특징으로 하는 더블 사이드 임베디드 제조방법.
(a) selecting a core 110;
(b) machining the cavity (111) in the core (110) so that the electronic device (300) can be mounted on the core (110) selected in the step (a);
(c) attaching a support tape 140 to one surface of the core 110 to fix the electronic device 300 to the cavity 111;
(d) coupling one of the copper foil layers 130 to the other surface of the core 110 through the adhesive 120 and removing the support tape 140; And
(e) forming a double-sided embedded substrate 1000 by bonding another copper foil layer 130 to one side of the core 110 through an adhesive 120;
, &Lt; / RTI &
The core 110 comprises an epoxy resin,
In the step (d), the core 110 is semi-cured,
Wherein the core (110) is precured when the double side embedded substrate (1000) is formed in the step (e).
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 (e) 단계 이후,
(f) 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 홀을 가공하는 단계;
를 더 포함하는 더블 사이드 임베디드 제조방법.
The method according to claim 1,
After the step (e)
(f) machining a hole in the double side embedded substrate 1000;
Further comprising the steps of:
제5항에 있어서,
상기 (f)단계는 자외선 레이저 또는 탄산가스 레이저를 이용하여 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 홀을 가공하는 것을 특징으로 하는 더블 사이드 임베디드 제조방법.

6. The method of claim 5,
Wherein the step (f) includes processing holes in the double side embedded substrate (1000) using an ultraviolet laser or a carbon dioxide gas laser.

제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 (f)단계는 상기 더블 사이드 임베디드 기판(1000)에 비아홀(400) 및 쓰루홀(500)을 가공하는 것을 특징으로 하는 더블 사이드 임베디드 제조방법.
The method according to claim 5 or 6,
Wherein the step (f) includes processing the via hole (400) and the through hole (500) in the double side embedded substrate (1000).
제7항에 있어서,
상기 비아홀(400)은 코어(110)의 일면 방향을 향하도록 가공되는 제1비아홀(410) 및 상기 코어(110)의 타면 방향을 향하도록 가공되는 제2비아홀(420)을 포함하는 것을 특징으로 하는 더블 사이드 임베디드 제조방법.
8. The method of claim 7,
The via hole 400 includes a first via hole 410 and a second via hole 420 formed to face the core 110 in the direction of the other surface of the core 110, Double-sided embedded manufacturing method.
제7항에 있어서,
상기 (f)단계 이후,
(g) 상기 쓰루홀(500)을 도체로 충진하는 단계;
를 더 포함하는 더블 사이드 임베디드 제조방법.
8. The method of claim 7,
After the step (f)
(g) filling the through hole (500) with a conductor;
Further comprising the steps of:
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