KR101951691B1 - 오폐수 고도처리장치 - Google Patents

오폐수 고도처리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101951691B1
KR101951691B1 KR1020170168598A KR20170168598A KR101951691B1 KR 101951691 B1 KR101951691 B1 KR 101951691B1 KR 1020170168598 A KR1020170168598 A KR 1020170168598A KR 20170168598 A KR20170168598 A KR 20170168598A KR 101951691 B1 KR101951691 B1 KR 101951691B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reactor
wastewater
ozone
nozzle
wastewater treatment
Prior art date
Application number
KR1020170168598A
Other languages
English (en)
Inventor
전병근
Original Assignee
소프트에코 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 소프트에코 주식회사 filed Critical 소프트에코 주식회사
Priority to KR1020170168598A priority Critical patent/KR101951691B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101951691B1 publication Critical patent/KR101951691B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 반응기; 상기 반응기 내부에 배치되는 활성탄 촉매 및 상기 반응기 내부와 연결되어 상기 반응기 내부에 오존을 공급할 수 있는 오존 공급기를 포함하되, 상기 활성탄 촉매는 상기 반응기 내부에 유입된 오존과 접촉하여 유기물은 CO2로, 암모니아는 N2로 분해하여 제거하는, 오폐수 고도처리장치를 제공한다. 오폐수 고도처리장치에 따르면, 오존과 활성탄 촉매 또는 전기 촉매를 이용하여 유기물, 무기물, 질소, 중금속, 색도를 제거할 수 있는 OH 라디칼 생성할 수 있다.

Description

오폐수 고도처리장치{A WASTEWATER TREATMENT APPARATUS}
촉매를 이용하여 유기물, 무기물, 질소, 중금속, 색도를 제거할 수 있는 OH 라티칼 생성하는오폐수 고도처리장치에 관한 것이다.
고급산화법(AOP, Advanced Oxidation Process)은 자외선과 오존, 염소 등의 재래식 산화처리 공정의 한계를 극복할 수 있는 기술로 자외선과 오존의 분해를 인위적로 가속화하여 나오는 중간 생성물질인 OH 라디칼이 각종 오염물질을 산화처리하여 제거하는 기술이다.
OH 라디칼 (OH radical)은 다른 산화제에 비해 산화력이 월등히 뛰어나고, 비선택적으로 반응하기 때문에 유기염소 화합물과 같은 난분해성 물질도 신속히 분해할 수 있다.
고급산화법은 OH 라디칼의 생성 농도를 어떻게 증가시켜야 하는 지가 주된 관건이며 이를 위하여 다양한 시도가 이루어지고 있다. 고급산화법은 OH라디칼의 생성방법에 따라, 펜톤산화법, 오존산화법, PEREXONE법, UV 광분해법 네가지 분류로 나눌 수 있다. 펜톤산화법은 촉매 철 2가 이온과 산화제 과산화수소의 혼합물인 펜톤 용액을 이용하여 하기와 같은 반응식의 원리로 OH 라디칼을 생성할 수 있다.
Fe2+ + H2O2 → Fe3+ + OH- + OH·
이와 같은 펜톤산화법은 높은 농도의 OH 라디칼을 얻기 위해서는 많은 양의 철염이 투입되어야 하므로, 철염 투입에 따른 비용의 증가 및 슬러지 증가의 문제점이 따른다. 따라서, 펜톤산화법은 상기와 같은 이유로 상용화에 적합하지 않은 문제점이 있다.
오존산화법은 알칼리조건에서 유리하지만, 실제반응에서는 pH를 증가시킬수록 OH 라디칼의 생성속도는 감소하는 현상이 일어난다. 이는 pH 가 증가할수록 탄산염과 중탄산염의 농도가 증가하여 OH 라디칼을 소모하기 때문이다. 따라서, 오존 산화법은 OH 라디칼의 생성속도를 제어하기 위한 pH 농도 제어가 용이하지 않은 문제점이 있다.
PEROXONE법은 과산화수소(PEROXIDE)와 오존(OZONE)을 함께 사용하는 고급산화법이다. PEROXONE법은 오존과 과산화수소의 투입비가 공정효율에 영향을 미치는 것으로 과산화수소의 농도가 낮으면 오존의 분해가 원활하지 않아 OH 라디칼 생성이 저해되고 반면에 과산화수소의 농도가 높으면 OH 라디칼을 소모하여 마찬가지로 OH 라디칼 생성 속도를 줄어들게 하는 문제점이 발생하게 된다.
한편, UV 광분해법은 산화제에 자외선을 조사시켜 OH 라디칼을 생성시키는 방법으로, UV/O3, UV/H2O2 두가지 방법이 있다. 두가지 방법 중 UV/O3 방법에 의할 경우가 UV/H2O2방법에 의할 경우보다 OH 라디칼 생성효율이 보다 우수한 특징이 있지만, 비용이 많이 들고 과산화 수소에 비해 취급이 어려운 문제점이 있다. 또한, 자외선을 이용하는 고급산화법은 처리대상 폐수가 탁도나 색도가 높을 경우 투과율이 낮아 OH 라디칼의 형성이 저조해 처리 효율이 낮은 문제점이 있다.
본 발명은 전술한 문제를 해결하고자 안출된 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따르면 낮은 비용으로 고농도의 OH라디칼을 생성시키고, 촉매의 잦은 교체가 불필요하여 경제적인 오폐수 처리장치를 제공한다. 또한, 오폐수 처리 반응후에도 슬러지와 같은 2차 오염물질을 생성시키지 않은 오폐수 처리장치를 제공한다. 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 한정되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 오폐수 고도처리장치를 제공한다. 오폐수 고도 처리장치는 오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 제1 반응기; 상기 제1 반응기 내부와 연결되어 상기 제1 반응기 내부에 오존을 공급할 수 있는 제1 오존 공급기; 상기 제1 반응기 내부에 배치되는 활성탄 촉매;로서, 상기 활성탄 촉매는 상기 제1 반응기 내부에 유입된 오존과 접촉하여 유기물은 CO2로, 암모니아는 N2로 분해하여 제거하는 활성탄 촉매; 상기 제1 반응기 내부의 상측 및 하측에 형성되어 일면에 상기 활성탄 촉매를 지지하고, 관통공을 포함하여 상기 제1 반응기 내부로 유입되는 오존이 상기 활성탄과 접촉될 수 있도록 하는 상측 지지부 및 하측 지지부; 오존의 입자를 세분화하여 미세기포를 생성하여 오존의 용존율을 높일 수 있도록, 상기 상측 지지부 위에 구비된 상측 분사부; 상기 하측 지지부 아래에 구비된 하측 분사부로서, 제 1반응기의 하부 내부측면에 접선으로 분사되도록 하여 접선 방향을 따라 회전하면서, 와류가 형성되도록 하여 오폐수와 오존의 접촉 면적을 보다 넓혀 반응기 내의 오존의 용존율을 높이는 하측 분사부; 오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 제2 반응기; 상기 제2 반응기의 내부에 설치되며, 하단에 개구부를 형성하는 중공부를 구비하고, 상부에서 상기 개구부로 갈수록 좁아지는 폭을 형성하는 깔때기 하우징; 상기 제2 반응기 내부에 설치되며, 상기 깔때기 하우징과 상기 제2 반응기를 연결하는 차단 프레임으로서, 상기 제2 반응기의 상기 수용공간은, 상기 차단 프레임에 의해 상부와 하부로 분리되되, 상기 수용공간의 상부와 하부는 상기 깔때기 하우징에 의해 연통되도록 하는 차단 프레임; 상기 제2 반응기의 내부에 설치되되 상기 깔때기 하우징에 수용되고, 상기 깔때기 하우징의 상기 개구부를 향하여 오존가스(O3)를 분사하는 깔때기 분사부; 상기 제2 반응기 내부에 상기 깔대기 하우징 아래에 배치되는 전극 촉매로서, 상기 전극 촉매는 상기 반응기 내부에 유입된 오존과 접촉하여 OH라디칼을 생성시키는 전극 촉매; 상기 제1 반응기와 상기 제2 반응기 사이에 형성되어 상기 제1 반응기에서 반응이 완료된 오폐수가 제2반응기를 통과하기 전 고체의 침전물을 침전 시키도록 형성되는 라멜라 침전부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 활성탄 촉매는 제오라이트가 더 포함될 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 활성탄 촉매와 상기 제오라이트 촉매는 9: 1 내지 6:4 (중량 or 부피비)일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1 반응기 내부의 상기 오폐수의 ph는 6≤PH≤10 범위일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 깔때기 하우징의 하부는, 상기 차단 프레임으로부터 연장되되 상기 제2 반응기의 하단을 향하여 돌출될 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 상측 분사부 및 상기 하측 분사부는, 각각
외부 노즐; 상기 외부 노즐의 내부에 위치하는 내부 노즐을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 상측 분사부 및 상기 하측 분사부는, 각각
상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하는 오존흡입관; 그리고 상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하고, 상기 오존흡입관과 이격되어 형성되는, 액체흡입홀을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 외부 노즐의 노즐팁 직경(d2)은, 상기 내부 노즐의 노즐팁 직경(d1)의 2 내지 4배일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 상측 지지부 및 상기 하측 지지부는 다공판일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 오폐수 또는 오존이 상기 제1 반응기 및 상기 제2 반응기 내부에 유입될 수 있도록 상기 제1 반응기 및 상기 제2 반응기의 상측 또는 하측에 유입로가 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 깔때기 분사부는, 외부 노즐; 상기 외부 노즐의 내부에 위치하는 내부 노즐; 상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하는 오존흡입관; 그리고 상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하고, 상기 오존흡입관과 이격되어 형성되는, 액체흡입홀을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 외부 노즐의 노즐팁 직경(d2)은, 상기 내부 노즐의 노즐팁 직경(d1)의 2 내지 4배일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1 반응기 및 상기 제2 반응기는, 각각 원통(cylinder)의 형상을 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 내부 노즐의 유입부 내경(D0)은 노즐팁 직경(d1)의 2~6배일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 전극 촉매는, 백금, 알루미늄합금, 스텐레스, 그리고 탄소나노 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 전극 촉매는, 상기 깔때기 분사부의 아래에 위치하고, 상기 반응기에서 인출될 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 전극 촉매는 메쉬망 형태로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 전극 촉매는, 상기 깔때기 분사부의 아래에 위치하고, 상기 깔때기 분사부는, 상기 전극 촉매를 향하여 오존가스(O3)를 분사할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 오폐수 고도처리장치는 상기 제2 반응기의 일측에 형성되며, 상기 제2 반응기를 통과한 오폐수를 재활용할 수 있도록 정수 처리하는 마이크로-스트레이너 필터를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 낮은 비용으로 고농도의 OH 라디칼을 생성시키고, 촉매의 잦은 교체가 불필요하여 경제적인 오폐수 처리장치를 제공할 수 있다.
또한, 오폐수 처리 반응후에도 슬러지와 같은 2차 오염물질을 생성시키지 않은 오폐수 처리장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치의 사용상태도를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 제6 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면 과정을 나타낸 도면이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제7 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 화학 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이다.
도 10a 및 10b는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 축산 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이다.
도 11a 및 11b는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 처리 시간에 따른 고농도의 염색 폐수, 질소가 함유된 염색 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이며, 도11c는 15분간격으로 처리상태를 나타낸 사진이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 절삭유 세정 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 질산성질소를 제거한 결과 및 COD 변화 결과를 알아보기 위한 사진이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경물, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 사용하였다.
오폐수 처리장치
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000)를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시에에 따른 오폐수 처리장치(1000)는 오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 제1 반응기(100), 제1 반응기(100) 내부에 배치되는 활성탄 촉매(110), 제1 반응기(100) 내부와 연결되어 제1 반응기(100) 내부에 오존(O3)을 공급할 수 있는 오존 공급기(400)를 포함한다. 여기서, 활성탄 촉매(110)는 제1 반응기(100) 내부에 유입된 오존(O3)과 접촉하여 OH라디칼을 생성시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 활성탄 촉매(110)는 종래기술과 달리 흡착 또는 여과를 통해 오폐수 속에 포함된 오염물질을 제거하는 방식이 아닌 오폐수에 용존되어 있는 오존과 반응하여 OH라디칼을 생성시킬 수 있으며, 이에 따라, 활성탄의 공극에 오염물질이 채워져 자주 교체해 주어야 하는 문제점을 해결할 수 있다.
종래기술의 활성탄은 일정시간이 경과하면 활성탄에 형성된 공극에 오염물질이 모두 들어차는 경우 오염물질을 제거하는 능력을 상실한다. 하지만, 본 발명의 일 실시예에 따른 활성탄 촉매(110)는 오존과 반응하여 OH라디칼의 농도를 증가시키는 역할을 하는 것으로 OH라디칼에 의해 대부분의 오염물질이 우선적으로 제거되므로, 오염물질의 흡착 또는 여과에 따른 잦은 교체가 불필요하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 활성탄 촉매(110)가 OH라디칼을 생성시키는 원리는 하기의 반응식과 같다.
· 유기물 (C,H,O) + O3 + (활성탄촉매) → CO2 + H2O
상기의 화학 반응식에 의할 경우, 활성탄 촉매는 오존(O3)과 반응하여 유기물을 물과 이산화탄소로 분해시킴으로써 오염원을 전혀 생성시키지 않고 유기물을 분해할 수 있다.
한편, 활성탄 촉매(110)를 이용하여 OH 라디칼의 생성속도가 높아지는 오폐수의 최적의 PH 범위는 6≤≤≤≤PH≤≤≤≤10이다. 6≤≤≤≤PH≤≤≤≤10 범위는 대부분의 오폐수의 PH 범위에 해당하는 것으로 본 발명의 일 실시예에 따른 활성탄 촉매(110)를 이용하는 경우 대부분의 오폐수에 해당하는 PH 범위로 OH라디칼 생성을 위해 별도의 PH 농도의 제어가 필요하지 않다.
또한, 활성탄 촉매(110)를 이용하여 OH 라디칼을 생성하는 본 발명의 일 실시예에 따르면 종래기술과 달리 염 발생에 의해 OH 라디칼의 농도가 줄어드는 문제점을 해결할 수 있으며, 이는 실험을 통해 확인되었다. 활성탄이 OH 라디칼의 생성에 있어 촉매로 작용하여 오염물질을 제거할 수 있는 실험결과는 후술하기로 한다.
종래기술의 고급산화법은 대부분 오폐수의 액성이 산인 것을 요구하고 있어 오폐수에 H2O 2를 첨가하여 제어하고 있다. 반면, 본 발명의 일 실시예에 따른 활성탄 촉매(110)는 종래기술과 달리 6≤≤≤≤PH≤≤≤≤10 의 농도에도 OH 라디칼을 활발히 생성시켜 대부분의 오폐수에 PH 농도 제어없이 이용할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000)에서 촉매는 제오라이트(120)가 더 포함되는 것을 특징으로 할 수 있다.
활성탄 촉매(110)과 제오라이트(120)의 비율은 9:1 내지 6:4일 수 있으며, 이는 오폐수의 종류 및 처리되어야 할 양 등에 따라 비율이 달리 정해질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 제오라이트 촉매(120)가 암모니아(NH3)를 분해하는 원리는 하기의 반응식과 같다.
· 2NH3 + O3 + (제오라이트를 포함하는 활성탄 촉매) → N2 + 3 H2O
제오라이트 촉매(120)는 높은 흡착력으로 인하여 암모니아를 질산으로 변환시켜 물속의 암모니아의 농도를 낮추기 위해 이용되는 것이 일반적이나 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제오라이트 촉매(120)가 오존(O3)과 반응하여 질소와 물로 분해되어 안전한 물질로 분해시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000)는 제1 반응기(100) 내부의 일측 또는 양측에 형성되어 일면에 상기 활성탄 촉매(110)를 지지하고, 관통공을 포함하여 상기 반응기 내부로 유입되는 오존이 상기 활성탄 촉매(110)와 접촉될 수 있는 것을 특징으로 하는 지지부(130)를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따는 지지부(130) 에는 활성탄 촉매(110) 뿐만 아니라 제오라이트 촉매(120)가 배치될 수 있으며, 다공판(131) 또는 메쉬망(133)으로 형성되어, 오폐수 내에 용존된 오존(O3)과 접촉되어 촉매작용을 할 수 있다. 지지부(130)는 다공판(131) 및 메쉬망(133)을 모두 포함하는 2중 구조로 형성될 수 있으며, 반응기(100) 내부의 상측 또는 하측 모두에 형성되어, 즉 상측 지지부 및 하측 지지부로 형성되어, 활성탄 촉매(110) 또는 제오라이트 촉매(120)가 반응기 내부에 배치되도록 할 수 있다.
한편 본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000)는 다수의 관통공이 형성된 분사부(140)를 포함할 수 있으며, 분사부(140)를 통하여 오존이 분사될 수 있다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 오폐수 처리장치(2000)를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 오폐수 처리장치(2000)는 오존(O3)의 입자를 세분화하여 미세기포를 생성하여 오존의 용존율을 높일 수 있는 분사부(150)를 더 포함할 수 있다.
상기 분사부(150)는, 2상 노즐(150)은 외부 노즐(151) 및 외부 노즐(151) 내부에 형성된 내부 노즐(152)을 포함하고, 외부 노즐(151)의 노즐팁 경(d2)은 상기 내부 노즐(152)의 노즐팁 직경(d1)의 2∼4배이며, 외부 노즐(151)과 내부 노즐(152)의 사이에 공기흡입부(153)가 형성되고, 공기흡입부(153)는 공기흡입관 및 그 상부위치에 형성된 액체흡입홀(154)을 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 제2 실시예에 따른 오폐수 처리장치(2000)는 오존(O3) 또는 오폐수가 제1 반응기(100) 내부에 유입될 수 있도록 제1 반응기(100)의 상측 또는 하측에 유입로가 형성되는 오폐수 유입부(D1, D2)를 포함할 수 있다.
여기서, 오존(O3)은 분사부(153)의 공기흡입홀(135)로 흡입되고, 오폐수는 내부 노즐(151)로 내부로 유입되어 제1 반응기(100)로 유입될 수 있다. 유입부(D2)가 반응기(100)의 하측에 형성되는 경우 상측(D1)에서 하측(D2)으로 오존이 도달하는 시간보다 하측(D2)에서 상측(D1)으로 오존(O3)이 도달하는 시간이 길어져 보다 긴 체류시간을 확보할 수 있는 효과가 있다.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 오폐수 처리장치(3000)를 개략적으로나타낸 도면이다. 도 3을 참조하면, 분사부(150)는 제 1반응기(100)의 하부에 설치된 원형반응기 내부측면(145)에 접선에 분사되도록 하여 접선 방향을 따라 회전하면서, 와류가 형성되도록 하여 오폐수와 오존의 접촉 면적을 보다 넓혀 반응기 내의 오존의 용존율을 보다 높일 수 있다.
도 4는 본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)를 나타낸 도면이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)는 오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 제2 반응기(200), 반응기 내부에 배치되는 전극 촉매(230) 및 제2 반응기(200) 내부와 연결되어 제2반응기(200) 내부에 오존을 공급할 수 있는 오존 공급기(미도시)를 포함한다. 여기서, 전극 촉매(230)는 제2 반응기(200) 내부에 유입된 오존(O3)과 접촉하여 OH라디칼을 생성시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)에서 전극 촉매(230)에 의해 OH 라디칼을 생성시키는 반응식은 하기와 같다.
· O3 + H2O → H O3 + OH -
· H O3+ + OH- → 2HO2
· O3 + HO2 → OH + 2HO2
· 2OH → H2O2
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)는 반응기(200) 내부에 오폐수 내의 오존의 용존율을 높이기 위해 설치되는 2상 노즐(150)(깔대기 분사부)를 더 포함하고, 2상 노즐(150)은 외부 노즐(151) 및 외부 노즐(151) 내부에 형성된 내부 노즐(152)을 포함하되, 외부 노즐(151)의 노즐팁 직경(d2)은 내부 노즐(152)의 노즐팁 직경(d1)의 2 ~ 4배이며, 외부 노즐(151)과 내부 노즐(152)의 사이에 오존 흡입부(155)가 형성되고, 오존흡입부(155)는 오존흡입관(153) 및 그 상부에 형성된 액체 흡입홀(154)을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 노즐은 오존을 짧은 시간에 반응기(100, 200) 내부에 분사하여 완전 혼합 시킬 수 있으며, 분사시 발생하는 음압력을 이용하여 공기를 자연 흡입시킨 후 미세기포를 만들어 재순환 시킴으로써, 폐수내 종래 4% 미만의 용존 오존율을 40% 이상 증가 시켜 종래의 용존율을 현저하게 증가시킬수 있다.
더 나아가, 본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)는 2상 노즐(150)의 주변의 와류 형성을 위하여 상기 2상 노즐(150) 주변을 커버하도록 형성되고 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 깔때기 하우징(210)을 더 포함할 수 있다.
마찬가지로, 2상 노즐(150)과 대응되는 형상의 깔때기 하우징(210)이 2상 노즐(150)을 주변에 형성됨으로써 오존은 깔때기 하우징(210)의 경사면을 따라 와류를 형성하며 상승하므로 오존과 오폐수의 접촉면적을 보다 늘릴 수 있다.
본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)는 내부 및 깔때기 하우징(210) 측면에 형성되어 상승하는 오존이 하강하여 오존의 용존율을 높일 수 있는 차단 프레임(220)을 포함할 수 있다. 차단 프레임(220)은 오존이 이상 노즐에 의해 분사되고 깔때기 하우징(210)의 측면을 따라 상승한 후 차단 프레임(220)에 도달시 일정체류시간을 갖게 억류함으로써, 오폐수 내의 오존의 용존 농도를 보다 높일 수 있다. 이때 일부 기포는 차단 프레임(220)에 도달하기 전에 주변에 형성 된 저압에 의해 깔때기 하우징(210)내부로 다시 유입되고, 새로 형성된 미세기포와 함께 분사된 제트(jet)류에 의해 하부 바닥까지 하강한 후 상승함을 수회 반복하게 되면서, 오존의 용존율을 현저하게 상승시킬 수 있다.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)의 사용상태도를 나타낸 도면이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)에서 전기 촉매(230)는 반응기(200) 하부에 형성되고, 반응기(200)에 하부에서 인출될 수 있는 구조로 형성될 수 있다. 전기 촉매(230)가 반응기(200) 하부에서 인출될 수 있는 구조는 반응기(200) 의 유지 보수를 용이하게 할 수 있다.
도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 6을 참조하면, 전기 촉매(240)는 메쉬망 형태로 형성되어 각각의 메쉬망 형태의 전기 촉매(241, 242) 각각에 +, - 극이 인가되도록 할 수 있다. 전기 촉매(240)가 메쉬망 형태로 이루어지면, 높은 전기 효율을 구현할 수 있다.
도 7은 본 발명의 제6 실시예에 따른 오폐수 처리장치(10000)를 개략적으로 나타낸 도면 과정을 나타낸 도면이다. 도 7을 참조하면, 오폐수 처리장치(10000)는 제1 반응기(100), 제2 반응기(200), 침전조(300), 오존 발생부(400), 저류조(600) 및 마이크로 필터(700)를 포함할 수 있다.
제1 반응기(100) 또는 제2 반응기(200)는 본 발명의 실시예에 따른 반응기를 포함하는 개념이며, 각각에는 오존 발명부(400)에서 발생하는 오존이 주입되어 OH라디칼을 발생시킬 수 있다.
또한, 침전조(300)는 중력방식의 라멜라 구조로 대체될 수 있으며, 압력방식의 침전방식의 장치가 포함되는 것을 제한하는 것은 아니다.
오폐수 처리장치(10000)는 마이크로 필터(700)에 처리 전 저류조(600)를 거치도록 설계될 수 있으며, 마이크로 필터(700) 등 고체 물질 등을 여과할 수 있는 장치를 더 포함하여, 오폐수 처리장치(10000)를 거쳐 정화된 물을 재활용하도록 할 수 있다.
도 8a 내지 8b는 본 발명의 제7 실시예에 따른 오폐수 처리장치(20000)를 개략적으로 나타낸 도면이며, 도 8a는 일체형 오폐수 처리장치(20000)의 정면도, 도 8b는 오폐수 처리장치(20000)의 평면도이다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 오폐수 처리장치(20000)는 제1 반응기(100), 제 2 반응기(200) 및 라멜라 침전부(500)를 포함하며, 제1 반응기(100) 및 제2 반응기(200)는 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 반응기이다.
실험예
이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 처리장치의 오폐수 처리능을 확인할 수 있는 실험예를 검토하여 설명하기로 한다.
1. 화학폐수1(고농도COD) 고농도 COD폐수1
(1) 실험조건
① 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000) 및 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)에 의한 처리
② 처리시간: 50분, 50분 범위 처리
(2) 실험결과
[표 1] 화학폐수1(고농도 COD) 처리
Figure 112017122692228-pat00001
도 9a는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 화학폐수1(고농도COD) 을 처리한 결과를 나타낸 사진이며, 도 9a 및 표 1을 참조하면, BOD, COD Mn , COD Cr 값이 개선된 것을 확인할 수 있다.
2. 화학폐수2
(1) 실험조건
① 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000) 및 제4 실시예에 따른 오폐수 처리장치(4000)에 의한 처리
② 처리시간: 30분, 30분 범위 처리
(2) 실험결과
[표 2] 화학폐수2 처리
Figure 112017122692228-pat00002
도 9b는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 화학폐수 2를 처리한
결과를 나타낸 사진이며, 도 9b 및 표 2를 참조하면, BOD, COD Mn , COD Cr 값이 개선된 것을 확인할 수 있다.
3. 축산 폐수 실험결과
(1) 실험조건
① 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000) 및 제4 실시예에 따른 오폐수
처리장치(4000)에 의한 처리
② 처리시간: 30분, 30분 범위 처리
(2) 실험결과
[표 3] 축산 폐수 처리결과
Figure 112017122692228-pat00003
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 축산 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이다. 도 10a, 도 10b 및 표 3을 참조하면, 색도 등이 개선되고 대부분의 오염물질이 제거된 것을 확인할 수 있다.
4. 염색폐수1 실험결과
(1) 실험조건
① 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000) 에 의한 처리
② 처리시간: 30분 범위 처리
(2) 실험결과 비교
[표 4] 염색폐수1 처리결과
Figure 112017122692228-pat00004
5. 염색폐수2 실험결과
(1) 실험조건
① 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000) 의한 처리
② 처리시간: 30분범위 처리
(2) 실험결과 비교
[표 5] 염색폐수2 처리결과(색도)
Figure 112017122692228-pat00005
도 11a 및 도 11b 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 염색 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이다. 도11c 는 염색폐수를 15분 간격으로 산화처리되는 과정을 나타낸 사진이다.
도 11a 내지 도 11c를 참조할 때, 폐수에 포함된 질소의 농도 및 색도가 개선되어 다양한 종류의 염색 폐수의 오염물질이 현저하게 저하되었음을 확인할 수 있다.
5. 절삭유 세정폐수
(1) 실험조건
① 제1 실시예에 따른 오폐수 처리장치(1000) 및 제4 실시예에 따른 오폐수처리장치(4000)에 의한 처리
② 처리시간: 30분, 30분 범위 처리
[표 6] 원수 수질분석
Figure 112017122692228-pat00006
(2) 실험결과
[표 7] 절삭유 처리결과
Figure 112017122692228-pat00007
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리장치를 이용하여 절삭유 폐수를 처리한 결과를 나타낸 사진이다. 도 12 및 표 7을 참조할 때, 절삭유 폐수에 포함된 COD 값이 개선되어 절삭유의 정화에도 효과가 있음을 확인할 수 있다.
6. 전기촉매를 이용한 오폐수 처리실험
도 13을 참조하면, 전기촉매를 이용한 경우에 오폐수는 질산성질소 및 COD가 제거된 것을 확인할 수 있다.
상기 검토한 바와 같이 본 발명의 실시예들에 따른 오폐수 처리장치는 고농도의 OH 라디칼을 생성하여 암모니아성 축산 폐수, 절삭유 세정폐수 등 다양한 오폐수를 비선택적으로 빠른 시간 내에 처리할 수 있는 것을 확인할 수 있다.
더 나아가, 종래의 고도산화법과는 달리 과산화수소를 사용하지 않아도 되어 경제적이며, 활성탄이 촉매로 이용되어 OH라디칼을 생성시킴으로써 잦은 교체없이 사용할 수 있어 사용자의 편의성이 현저히 증대됨을 확인할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 OH 라디칼을 생성시킬 수 있는 PH의 적용범위는 대부분의 오폐수 자체가 가지고 있는 PH 범위이므로 별도의 PH 제어를 요하지 않는 장점이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 고도처리장치는 상기 제시된 실험예 뿐만 아니라, 중금속 제거, 부유물 및 콜로이드 입자제거, BOD, 인, 질소제거, 복합유기물 제거, 지방, 오일, 그리스 제거, Oil/ Water 에멀전을 분해하고, 박테리아, 바이러스, 낭포사멸 등에도 효과가 있으며, 린스, 세탁폐수, 도축, 계란 육가공 폐수, 식품가공폐수, 펄프 종이가공 폐수, 섬유폐수, 정유/석유화학 emulsion, membrane filter전처리, 냉각탑, 하수처리 다양한 범위에 적용 가능하다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 오폐수 고도처리장치는 좁은 면적에 설치 가능한 구조로 설계되어 있으며, 운전비가 저렴하고 발생 슬러지가 적어 탈수가 용이한 장점이 있다. 따라서, 처리수는 재이용, 재사용이 가능하며 슬러지는 EPA 독성 가이드 라인이 제시하는 기중을 통과하였으며, 연속 또는 배치(BATCH) 운전 가능하도록 설계할 수 있다.
이상과 같은 본 발명에 대한 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (22)

  1. 오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 제1 반응기;
    상기 제1 반응기 내부와 연결되어 상기 제1 반응기 내부에 오존을 공급할 수 있는 제1 오존 공급기;
    상기 제1 반응기 내부에 배치되는 활성탄 촉매;로서, 상기 활성탄 촉매는 상기 제1 반응기 내부에 유입된 오존과 접촉하여 유기물은 CO2로, 암모니아는 N2로 분해하여 제거하는 활성탄 촉매;
    상기 제1 반응기 내부의 상측 및 하측에 형성되어 일면에 상기 활성탄 촉매를 지지하고, 관통공을 포함하여 상기 제1 반응기 내부로 유입되는 오존이 상기 활성탄과 접촉될 수 있도록 하는 상측 지지부 및 하측 지지부;
    오존의 입자를 세분화하여 미세기포를 생성하여 오존의 용존율을 높일 수 있도록, 상기 상측 지지부 위에 구비된 상측 분사부;
    상기 하측 지지부 아래에 구비된 하측 분사부;로서, 제 1반응기의 하부 내부측면에 접선으로 분사되도록 하여 접선 방향을 따라 회전하면서, 와류가 형성되도록 하여 오폐수와 오존의 접촉 면적을 보다 넓혀 반응기 내의 오존의 용존율을 높이는 하측 분사부;
    오폐수가 유입되어 오폐수를 처리할 수 있는 수용공간이 형성된 제2 반응기;
    상기 제2 반응기의 내부에 설치되며, 하단에 개구부를 형성하는 중공부를 구비하고, 상부에서 상기 개구부로 갈수록 좁아지는 폭을 형성하는 깔때기 하우징;
    상기 제2 반응기 내부에 설치되며, 상기 깔때기 하우징과 상기 제2 반응기를 연결하는 차단 프레임으로서, 상기 제2 반응기의 상기 수용공간은, 상기 차단 프레임에 의해 상부와 하부로 분리되되, 상기 수용공간의 상부와 하부는 상기 깔때기 하우징에 의해 연통되도록 하는 차단 프레임;
    상기 제2 반응기의 내부에 설치되되 상기 깔때기 하우징에 수용되고, 상기 깔때기 하우징의 상기 개구부를 향하여 오존가스(O3)를 분사하는 깔때기 분사부;
    상기 제2 반응기 내부에 상기 깔때기 하우징 아래에 배치되는 전극 촉매로서, 상기 전극 촉매는 상기 반응기 내부에 유입된 오존과 접촉하여 OH라디칼을 생성시키는 전극 촉매; 그리고
    상기 제1 반응기와 상기 제2 반응기 사이에 형성되어 상기 제1 반응기에서 반응이 완료된 오폐수가 제2반응기를 통과하기 전 고체의 침전물을 침전 시키도록 형성되는 라멜라 침전부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 고도처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 활성탄 촉매는 제오라이트가 더 포함되는, 오폐수 고도처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 활성탄 촉매와 상기 제오라이트 촉매는 9: 1 내지 6:4 (중량 or 부피비) 인 것을 특징으로 하는, 오폐수 고도처리장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 반응기 내부의 상기 오폐수의 ph는 6≤PH≤10 범위인 것을 특징으로 하는, 오폐수 고도처리장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 깔때기 하우징의 하부는,
    상기 차단 프레임으로부터 연장되되 상기 제2 반응기의 하단을 향하여 돌출된,
    오폐수 고도처리장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 상측 분사부 및 상기 하측 분사부는, 각각
    외부 노즐;
    상기 외부 노즐의 내부에 위치하는 내부 노즐을 포함하는,
    오폐수 고도처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 상측 분사부 및 상기 하측 분사부는, 각각
    상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하는 오존흡입관; 그리고
    상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하고, 상기 오존흡입관과 이격되어 형성되는, 액체흡입홀을 포함하는,
    오폐수 고도처리장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 외부 노즐의 노즐팁 직경(d2)은,
    상기 내부 노즐의 노즐팁 직경(d1)의 2 내지 4배인 것을 특징으로 하는,
    오폐수 고도처리장치.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 상측 지지부 및 상기 하측 지지부는 다공판인, 오폐수 고도처리장치.
  11. 삭제
  12. 제1항에 있어서,
    오폐수 또는 오존이 상기 제1 반응기 및 상기 제2 반응기 내부에 유입될 수 있도록 상기 제1 반응기 및 상기 제2 반응기의 상측 또는 하측에 유입로가 형성되는 오폐수 유입부;를 포함하는, 오폐수 고도처리장치.
  13. 삭제
  14. 제1항에 있어서,
    상기 깔때기 분사부는,
    외부 노즐;
    상기 외부 노즐의 내부에 위치하는 내부 노즐;
    상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하는 오존흡입관; 그리고
    상기 외부 노즐에 형성되며, 상기 외부 노즐과 상기 내부 노즐 사이의 공간에 연통하고, 상기 오존흡입관과 이격되어 형성되는, 액체흡입홀을 포함하는,
    오폐수 고도처리장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 외부 노즐의 노즐팁 직경(d2)은,
    상기 내부 노즐의 노즐팁 직경(d1)의 2 내지 4배인 것을 특징으로 하는,
    오폐수 고도처리장치.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 제1 반응기 및 상기 제2 반응기는, 각각
    원통(cylinder)의 형상을 가지는 것을 특징으로 하는,
    오폐수 고도처리장치.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 내부 노즐의 유입부 내경(D0)은 노즐팁 직경(d1)의 2~6배인, 오폐수 고도처리장치.
  18. 제1항에 있어서,
    상기 전극 촉매는,
    백금, 알루미늄합금, 스텐레스, 그리고 탄소나노 중 적어도 하나를 포함하는 전도체인 것을 특징으로 하는,
    오폐수 고도처리장치.
  19. 제1항에 있어서,
    상기 전극 촉매는,
    상기 깔때기 분사부의 아래에 위치하고,
    상기 반응기에서 인출될 수 있는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는,
    오폐수 고도처리장치.
  20. 제1항에 있어서,
    상기 전극 촉매는 메쉬망 형태로 형성되는, 오폐수 고도처리장치.
  21. 제1항에 있어서,
    상기 전극 촉매는,
    상기 깔때기 분사부의 아래에 위치하고,
    상기 깔때기 분사부는,
    상기 전극 촉매를 향하여 오존가스(O3)를 분사하는 것을 특징으로 하는,
    오폐수 고도처리장치.
  22. 제1항에 있어서,
    상기 제2 반응기의 일측에 형성되며, 상기 제2 반응기를 통과한 오폐수를 재활용할 수 있도록 정수 처리하는 마이크로-스트레이너 필터를 더 포함하는,
    오폐수 고도처리장치.
KR1020170168598A 2017-12-08 2017-12-08 오폐수 고도처리장치 KR101951691B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170168598A KR101951691B1 (ko) 2017-12-08 2017-12-08 오폐수 고도처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170168598A KR101951691B1 (ko) 2017-12-08 2017-12-08 오폐수 고도처리장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101951691B1 true KR101951691B1 (ko) 2019-06-03

Family

ID=66848882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170168598A KR101951691B1 (ko) 2017-12-08 2017-12-08 오폐수 고도처리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101951691B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111003746A (zh) * 2019-12-31 2020-04-14 内蒙古万众炜业科技环保股份公司 一种兰炭废水处理装置及其处理方法
WO2021258515A1 (zh) * 2020-06-22 2021-12-30 苏州大学 柚子皮生物碳应用于催化臭氧氧化降解废水中的有机污染物

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001191085A (ja) * 2000-01-09 2001-07-17 Hiroyuki Yonezaki 発生期状態の酸素による水質及び気質浄化処理方法及び装置
KR20010088734A (ko) * 2001-08-28 2001-09-28 양금모 침전 여과조와, 이를 이용한 오수처리장치 및 방법
KR20020094870A (ko) * 2001-06-08 2002-12-18 주식회사 에코썸 정수 및 오폐수 고도처리장치 및 방법
JP2005111407A (ja) * 2003-10-09 2005-04-28 Toshiba Corp オゾン応用水処理装置
KR20060004898A (ko) * 2005-12-30 2006-01-16 황덕흥 복수탈염설비 재생폐수의 유기탄소와 질소 처리장치 및처리방법
KR20070113551A (ko) * 2006-05-25 2007-11-29 (주)지피엔이 난분해성 폐액처리를 위한 오존-전기분해/반도체촉매복합장치 및 그 사용방법
KR101036225B1 (ko) * 2010-08-11 2011-05-20 보람환경개발(주) 제트 루프 반응기를 이용한 고농도 폐수처리장치
KR20120007931A (ko) * 2010-07-15 2012-01-25 한국기계연구원 마이크로 버블을 이용한 선박 평형수 살균 처리장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001191085A (ja) * 2000-01-09 2001-07-17 Hiroyuki Yonezaki 発生期状態の酸素による水質及び気質浄化処理方法及び装置
KR20020094870A (ko) * 2001-06-08 2002-12-18 주식회사 에코썸 정수 및 오폐수 고도처리장치 및 방법
KR20010088734A (ko) * 2001-08-28 2001-09-28 양금모 침전 여과조와, 이를 이용한 오수처리장치 및 방법
JP2005111407A (ja) * 2003-10-09 2005-04-28 Toshiba Corp オゾン応用水処理装置
KR20060004898A (ko) * 2005-12-30 2006-01-16 황덕흥 복수탈염설비 재생폐수의 유기탄소와 질소 처리장치 및처리방법
KR20070113551A (ko) * 2006-05-25 2007-11-29 (주)지피엔이 난분해성 폐액처리를 위한 오존-전기분해/반도체촉매복합장치 및 그 사용방법
KR20120007931A (ko) * 2010-07-15 2012-01-25 한국기계연구원 마이크로 버블을 이용한 선박 평형수 살균 처리장치
KR101036225B1 (ko) * 2010-08-11 2011-05-20 보람환경개발(주) 제트 루프 반응기를 이용한 고농도 폐수처리장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111003746A (zh) * 2019-12-31 2020-04-14 内蒙古万众炜业科技环保股份公司 一种兰炭废水处理装置及其处理方法
WO2021258515A1 (zh) * 2020-06-22 2021-12-30 苏州大学 柚子皮生物碳应用于催化臭氧氧化降解废水中的有机污染物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Saharan et al. Advanced oxidation technologies for wastewater treatment: an overview
JP6355818B2 (ja) 廃水を用いて生産された酸化剤を使用する資源再利用方式産業廃水処理方法及び装置
CN202785890U (zh) 一种纺织印染废水深度处理回用设备
KR100848117B1 (ko) 복합 고도정수처리 장치
JP6266954B2 (ja) 液面プラズマ放電を利用した水処理装置
CN205933558U (zh) 一种废水的处理装置
JP2006263505A (ja) 水処理方法及び装置
CN102730906A (zh) 一种组合型深度处理高浓度有机废水的装置
CN103304018A (zh) 一种臭氧尾气强化臭氧氧化废水处理的方法及装置
JP2009056364A (ja) 配管型の水処理装置
KR101951691B1 (ko) 오폐수 고도처리장치
CN103145296A (zh) 一种反渗透浓水的处理方法及其处理系统
CN113716756B (zh) 一种非负载型臭氧催化氧化处理污水系统及其方法
CN103030244B (zh) 一种工业废水组合预处理方法
CN100503478C (zh) 一种废水处理方法及装置
KR200461827Y1 (ko) 난분해성 유해물질을 포함하는 폐수 처리장치
KR100454260B1 (ko) 오폐수 고도처리장치 및 방법
CN115196832A (zh) 一种用于高浓废水处理的臭氧氧化技术
KR200407858Y1 (ko) 폐수 및 악취 다중 플라스마 처리 장치
KR100461493B1 (ko) 오존반응기와 여과장치를 단일화한 원수 처리 장치 및이를 이용한 수질 정화 방법
Sun et al. Research Progress of Advanced Oxidation Water Treatment Technology
KR100505942B1 (ko) 폐수처리용 반응시스템 및 이를 이용한 폐수처리방법
KR100943987B1 (ko) 일체형 하수 재이용 장치
KR100473651B1 (ko) 초음파와 광촉매를 이용한 수처리장치 및 수처리방법
CN215627352U (zh) 含氰废水处理器