KR101947838B1 - Laminated base material, laminated body, polarizing plate, liquid crystal display panel, and image display device - Google Patents

Laminated base material, laminated body, polarizing plate, liquid crystal display panel, and image display device Download PDF

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KR101947838B1 KR1020130054152A KR20130054152A KR101947838B1 KR 101947838 B1 KR101947838 B1 KR 101947838B1 KR 1020130054152 A KR1020130054152 A KR 1020130054152A KR 20130054152 A KR20130054152 A KR 20130054152A KR 101947838 B1 KR101947838 B1 KR 101947838B1
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Abstract

면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재를 포함하면서 간섭 줄무늬를 눈에 띄지 않게 하는 적층 기재를 제공한다.
적층 기재(11)는 한쪽 면 위에 기능층(15)이 형성된다. 적층 기재는, 면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재(12)와, 광투과성 기재와 적층되어 면 내 복굴절성을 갖는 굴절률 조정층(13)을 포함한다. 굴절률 조정층은 광투과성 기재와 기능층 사이에 위치하게 된다. 광투과성 기재의 면 내의 지상축 방향 dx에서의 굴절률 n1x, 지상축 방향 dx에서의 굴절률 조정층의 굴절률 n2x, 지상축 방향 dx에서의 기능층의 굴절률 n3x, 광투과성 기재의 진상축 방향 dy에서의 굴절률 n1y, 진상축 방향 dy에서의 굴절률 조정층의 굴절률 n2y 및 진상축 방향 dy에서의 기능층의 굴절률 n3y

Figure 112013042321123-pat00027

인 관계를 만족한다.Provided is a laminated base material which includes a light-transmitting base material having in-plane birefringence and makes interference fringes inconspicuous.
The functional layer 15 is formed on one side of the laminated substrate 11. The laminated substrate includes a light-transmitting base material 12 having in-plane birefringence and a refractive-index adjusting layer 13 laminated with the light-transmitting base material and having in-plane birefringence. The refractive index adjustment layer is positioned between the light-transmitting substrate and the functional layer. The refractive index n 1x in the slow axis direction dx in the plane of the light-transmitting substrate, the refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer in the slow axis direction dx, the refractive index n 3x of the function layer in the slow axis direction dx, refractive index at dy n 1y, n 3y are refractive indices of the functional layer in the refractive index n 2y and the fast axis direction of the refractive index adjusting layer dy in the fast axis direction dy
Figure 112013042321123-pat00027

Lt; / RTI >

Description

적층 기재, 적층체, 편광판, 액정 표시 패널 및 화상 표시 장치{LAMINATED BASE MATERIAL, LAMINATED BODY, POLARIZING PLATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a laminated substrate, a laminated body, a polarizing plate, a liquid crystal display panel, and an image display device,

본 발명은, 적층 기재, 적층체, 편광판, 액정 표시 패널 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated substrate, a laminate, a polarizing plate, a liquid crystal display panel, and an image display apparatus.

액정 표시 장치, 음극선관 표시 장치(CRT), 플라즈마 디스플레이, 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD), 필드에미션 디스플레이(FED) 등의 화상 표시 장치에 있어서의 화상 표시면 위에는, 통상 직접 또는 다른 부재(예를 들어 터치 패널 센서)를 통해서, 원하는 기능을 발휘할 것을 기대한 기능층을 갖는 적층체가 설치되어 있다. 전형적인 기능층으로서, 내찰상성의 향상을 목적으로 한 하드코트층이 예시된다.On an image display surface of an image display device such as a liquid crystal display, a cathode ray tube display (CRT), a plasma display, an electroluminescence display (ELD), and a field emission display (FED) For example, a touch panel sensor), there is provided a laminate having a functional layer expected to exhibit a desired function. As a typical functional layer, a hard coat layer for the purpose of improving scratch resistance is exemplified.

또한, 기능층을 지지하는 적층체의 광투과성 기재로서는, 복굴절성을 갖지 않는 광학 등방성의 필름, 전형적으로는 트리아세틸셀룰로오스로 대표되는 셀룰로오스에스테르로 이루어지는 필름이 사용되고 있다. 복굴절성을 갖는 필름을, 예를 들어 액정 표시 장치와 같은 편광을 이용한 표시 장치의 표시면에 적용한 경우, 색이 다른 불균일(이하, 「무지개 불균일」이라고도 칭함)이 시인되는 등의 문제가 발생해 버리기 때문이다. 단, 셀룰로오스에스테르 필름은, 내습열성이 뒤떨어지는 것이나, 고온 다습한 환경 하에서 사용했을 때에 편광 기능이나 색상 등의 편광판 기능을 저하시켜 버린다고 하는 등의 결점이 있다. As the light-transmitting base material of the laminate supporting the functional layer, a film made of optically isotropic film having no birefringence, typically cellulose ester represented by triacetyl cellulose is used. When a film having birefringence is applied to a display surface of a display device using polarized light such as a liquid crystal display device, problems such as the appearance of unevenness in color (hereinafter also referred to as " rainbow unevenness " It is because it throws away. However, the cellulose ester film is disadvantageous in that it is inferior in humidity resistance and heat resistance, and that the polarizing plate functions, such as polarizing function and color, is lowered when used under high temperature and high humidity.

이러한 셀룰로오스에스테르 필름의 문제점으로부터, 시장에서 입수가 용이하거나, 혹은 간이한 방법으로 제조하는 것이 가능한 범용성 필름을 적층체의 광투과성 기재로서 사용하는 것이 요망되고 있으며, 다양한 연구가 이루어지고 있다. 예를 들어 JP2011-107198A에서는, 광원으로서 백색 발광 다이오드를 사용해서, 리타데이션이 3000㎚ ~ 30000㎚인 고분자 필름을 편광판의 흡수축과 고분자 필름의 지상축이 이루는 각이 45도가 되도록 배치하여 사용함으로써 선글라스 등의 편광판을 통해 화면을 관찰했을 때, 관찰 각도에 상관없이 양호한 시인성을 확보할 수 있는 것이 보고되어 있다. From the problems of such a cellulose ester film, it has been desired to use a general-purpose film that can be easily obtained on the market or can be produced by a simple method as a light-transmitting substrate of a laminate, and various studies have been made. For example, in JP2011-107198A, a white light emitting diode is used as a light source, and a polymer film having retardation of 3000 nm to 30000 nm is arranged so that the angle formed by the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the polymer film is 45 degrees It has been reported that when a screen is viewed through a polarizing plate such as a sunglass, good visibility can be ensured irrespective of an observation angle.

그러나, JP2011-107198A에 있어서의 바람직한 고분자 필름인 폴리에스테르나 폴리카보네이트 필름 위에 하드코트층을 형성한 경우, 무지개 불균일의 발생을 억제하는 것은 가능하게 되지만, 별도의 문제로서, 간섭 줄무늬의 불가시화가 문제가 된다. 여기서, 간섭 줄무늬란, 기능층의 표면에서 반사하는 광과, 일단 기능층에 입사하여 기능층과 광투과성 기재의 계면에서 반사하는 광의 간섭에 기인하여 부분적인 홍채 형상 색채가 보이는 현상으로, 보는 방향에 따라 서로 강화하는 파장이 변하기 때문에 발생하는 현상이다. 이 현상은, 사용자에게 있어서 보기 힘들 뿐만 아니라 불쾌한 인상을 주는 경우가 있어, 개선이 강하게 요구된다.However, when a hard coat layer is formed on a polyester film or a polycarbonate film, which is a preferable polymer film in JP2011-107198A, it is possible to suppress the occurrence of irregularity of iridescence. However, as another problem, . Here, the interference fringe pattern is a phenomenon in which light reflected at the surface of the functional layer and partial iris color appear due to interference of the light incident on the functional layer and reflected at the interface between the functional layer and the light-transmitting substrate, Is a phenomenon that occurs because the wavelengths that are strengthened with each other are changed. This phenomenon is not only difficult for the user to see but also gives an unpleasant impression, and improvement is strongly demanded.

간섭 줄무늬 대책으로서, 기능층과 광투과성 기재의 굴절률차를 저감시켜 기능층과 광투과성 기재의 계면에서의 반사율을 저하시키는 것이 생각된다. 그러나, 광투과성 기재가 면 내 복굴절성을 갖고, 그의 리타데이션값이 높은 경우, 비용면 등의 관점에서 광투과성 기재의 두께가 두꺼워져 버리는 것을 회피하고자 하면, 광투과성 기재의 면 내에 있어서의 지상축 방향의 굴절률과 진상축 방향의 굴절률의 굴절률차를 크게 할 필요가 생긴다. 따라서,지상축 방향 및 진상축 방향의 양 방향 모두에 있어서, 기능층과 광투과성 기재의 굴절률차를 저감하는 것이 곤란해지고, 결과적으로, 간섭 줄무늬를 충분히 눈에 띄지 않게 할 수 없다.As countermeasures against interference streaking, it is conceivable that the refractive index difference between the functional layer and the light-transmitting substrate is reduced to lower the reflectance at the interface between the functional layer and the light-transmitting substrate. However, when the light-transmitting base material has in-plane birefringence and its retardation value is high, in order to avoid the thickness of the light-transmitting base material from becoming thick from the viewpoint of cost, etc., It is necessary to increase the refractive index difference between the refractive index in the axial direction and the refractive index in the fast axis direction. Therefore, it is difficult to reduce the refractive index difference between the functional layer and the light-transmitting substrate in both of the direction of the slow axis and the direction of the fast axis, and as a result, the interference fringe can not be sufficiently conspicuous.

본 발명은, 이상의 점을 고려하여 이루어진 것으로, 면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재를 사용하면서 간섭 줄무늬를 눈에 띄지 않게 하는 것을 목적으로 한다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to make interference fringes less conspicuous while using a light-transmitting base material having in-plane birefringence.

본 발명에 따른 적층 기재는,In the laminated substrate according to the present invention,

한쪽 면 위에 기능층을 형성하여 적층체를 이루는 적층 기재이며,A multilayer substrate comprising a functional layer formed on one side thereof to form a laminate,

면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재와,A light-transmitting substrate having in-plane birefringence,

상기 광투과성 기재와 적층되어 면 내 복굴절성을 갖는 굴절률 조정층으로서, 상기 광투과성 기재와 상기 기능층 사이에 위치하게 되는 굴절률 조정층을 구비하고,And a refractive index adjustment layer laminated with the light-transmitting base material and having in-plane birefringence, the refractive index adjustment layer being positioned between the light-transparent base and the functional layer,

상기 광투과성 기재의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 지상축 방향에 있어서의 굴절률 n1x, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행해지는 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3xThe refractive index n 1x of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the slow axis direction of the light transmitting base material and the refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer in the direction of the slow axis, The refractive index n 3x of the functional layer in a direction parallel to the slow axis direction of the light-transmitting substrate is

Figure 112013042321123-pat00001
Figure 112013042321123-pat00001

인 관계를 만족하고,Lt; RTI ID = 0.0 >

상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향에 직교하는 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n1y, 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2y 및 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행해지는 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3yA refractive index n 1y in the direction of the fast axis perpendicular to the slow axis direction of the light-transmitting substrate, a refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the fast axis direction of the light- The refractive index n3y of the functional layer in the direction parallel to the fast axis direction of the substrate is

Figure 112013042321123-pat00002
Figure 112013042321123-pat00002

인 관계를 만족한다.Lt; / RTI >

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2yIn the laminated base material according to the present invention, the refractive index n 2x of the refractive index-adjusting layer in the direction parallel to the slow axis direction of the light-transmitting base material and the refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the fast axis direction of the light- When the refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer is

Figure 112013042321123-pat00003
Figure 112013042321123-pat00003

인 관계를 만족하도록 해도 된다.May be satisfied.

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향에 있어서의 굴절률 n1x, 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n1y, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2yIn the laminated base material according to the present invention, it is preferable that a refractive index n 1x in the slow axis direction of the light-transmitting substrate, a refractive index n 1y in the fast axis direction of the light- and a refractive index of the refractive index adjustment layer in the direction parallel to n 2x and 2y refractive index n of the refractive index adjustment layer in a direction parallel to the fast axis direction of the light-transmitting substrate is

Figure 112013042321123-pat00004
Figure 112013042321123-pat00004

인 관계를 만족하도록 해도 된다.May be satisfied.

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서, 상기 적층 기재를 법선 방향으로부터 관찰한 경우에, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과, 상기 굴절률 조정층의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 상기 굴절률 조정층의 지상축 방향에 의해 이루어지는 각도의 크기가 45° 미만이도록 해도 된다.In the laminated base material according to the present invention, when the laminated base material is observed from the normal direction, the direction of the slow axis of the light-transmitting base material and the direction of the refractive index adjustment which is the direction with the greatest refractive index in the plane of the refractive- The angle formed by the slow axis direction of the layer may be less than 45 degrees.

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향이, 상기 굴절률 조정층의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 상기 굴절률 조정층의 지상축 방향과 평행하게 되어 있어도 된다.In the laminated substrate according to the present invention, the slow axis direction of the light-transmitting substrate may be parallel to the slow axis direction of the refractive index adjustment layer, which is the direction in which the refractive index is the greatest in the surface of the refractive index adjustment layer.

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향에 있어서의 굴절률 n1x, 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n1y, 상기 굴절률 조정층의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 상기 굴절률 조정층의 지상축 방향에 있어서의 굴절률 n2a, 및 상기 굴절률 조정층의 상기 지상축 방향에 직교하는 상기 굴절률 조정층의 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n2bIn the laminated substrate according to the present invention, the refractive index n 1x of the light-transmitting substrate in the slow axis direction, the refractive index n 1y in the fast axis direction of the light-transmitting substrate, The refractive index n 2a of the refractive index adjusting layer in the direction of the greatest refractive index in the slow axis direction and the refractive index n 2b of the refractive index adjusting layer in the fast axis direction of the refractive index adjusting layer perpendicular to the slow axis direction are

Figure 112013042321123-pat00005
Figure 112013042321123-pat00005

인 관계를 만족하도록 해도 된다.May be satisfied.

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서,In the laminated base material according to the present invention,

상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향에 있어서의 상기 굴절률 n1x, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3xThe refractive index n 1x of the refractive index adjusting layer in a direction parallel to the slow axis direction dx of the light transmitting substrate and the refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer of the light transmitting substrate, The refractive index n 3x of the functional layer in the direction parallel to the axial direction is

Figure 112013042321123-pat00006
Figure 112013042321123-pat00006

인 관계를 만족하고,Lt; RTI ID = 0.0 >

상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n1y, 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2y 및 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3yThe refractive index n 1y of the light-transmitting substrate in the fast axis direction, the refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the fast axis direction of the light-transmitting substrate, and the refractive index n 2y of the light- The refractive index n 3y of the functional layer in a direction parallel to

Figure 112013042321123-pat00007
Figure 112013042321123-pat00007

인 관계를 만족하도록 해도 된다.May be satisfied.

본 발명에 따른 적층 기재가 3000㎚ 이상의 리타데이션을 갖도록 해도 된다.The laminated substrate according to the present invention may have retardation of 3000 nm or more.

본 발명에 따른 적층 기재에 있어서, 상기 광투과성 기재가 3000㎚ 이상의 리타데이션을 갖도록 해도 된다.In the laminated base material according to the present invention, the light-transmitting base material may have retardation of 3000 nm or more.

본 발명에 따른 적층체는,In the laminate according to the present invention,

전술한 본 발명에 따른 적층 기재 중 어느 하나와,Any one of the above-described laminated substrates according to the present invention,

상기 적층 기재의 한쪽 면 위에 형성된 기능층을 구비하고,And a functional layer formed on one side of the laminated substrate,

상기 굴절률 조정층이 상기 광투과성 기재와 상기 기능층 사이에 위치하고 있다.And the refractive index adjusting layer is positioned between the light-transmitting substrate and the functional layer.

본 발명에 따른 적층체에 있어서, 상기 기능층은 하드코트층이어도 된다.In the laminate according to the present invention, the functional layer may be a hard coat layer.

본 발명에 따른 적층체가 상기 기능층의 상기 적층 기재측과는 반대측에 설치된 제2 기능층을 더 구비하도록 해도 된다. 본 발명에 따른 적층체에 있어서, 상기 제2 기능층이 상기 기능층보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층이어도 된다.The laminated body according to the present invention may further comprise a second functional layer provided on the side of the functional layer opposite to the side of the laminated substrate. In the laminate according to the present invention, the second functional layer may be a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the functional layer.

본 발명에 따른 편광판은,In the polarizing plate according to the present invention,

편광 소자와,A polarizing element,

전술한 본 발명에 따른 적층 기재 중 어느 하나, 또는 전술한 본 발명에 따른 적층체 중 어느 하나를 구비한다.Any one of the above-described laminated substrates according to the present invention, or any of the above-described laminated bodies according to the present invention.

본 발명에 따른 편광판은, 전술한 본 발명에 따른 적층 기재 중 어느 하나, 전술한 본 발명에 따른 적층체 중 어느 하나, 또는 전술한 본 발명에 따른 편광판 중 어느 하나를 구비한다.The polarizing plate according to the present invention comprises any one of the laminated substrates according to the present invention described above, the laminate according to the present invention described above, or the polarizing plate according to the present invention described above.

본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 전술한 본 발명에 따른 적층 기재 중 어느 하나, 전술한 본 발명에 따른 적층체 중 어느 하나, 또는 전술한 본 발명에 따른 편광판 중 어느 하나를 구비한다.The image display apparatus according to the present invention comprises any one of the above-described laminated substrates according to the present invention, the laminate according to the present invention described above, or the above-mentioned polarizing plate according to the present invention.

본 발명에 따른 터치 패널 장치는, 터치 패널 센서와, 터치 패널 센서 상에 설치된 전술한 본 발명에 따른 적층 기재 중 어느 하나, 전술한 본 발명에 따른 적층체 중 어느 하나, 또는 전술한 본 발명에 따른 편광판 중 어느 하나를 구비한다.The touch panel device according to the present invention may be any one of the touch panel sensor and the above-described laminated substrate according to the present invention provided on the touch panel sensor, the laminate according to the present invention described above, And a polarizing plate according to the present invention.

본 발명에 따르면, 기능층과 면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재 사이에 면 내 복굴절성을 갖는 굴절률 조절층이 설치되어 있다. 이 굴절률 조절층에 의해, 기능층에 일단 입사한 광의 반사율을 저감시킬 수 있다. 이에 의해, 간섭 줄무늬를 눈에 띄지 않게 할 수 있다.According to the present invention, a refractive index control layer having in-plane birefringence is provided between a functional layer and a light-transmitting base material having in-plane birefringence. With this refractive index control layer, it is possible to reduce the reflectance of the light which has once entered the functional layer. Thereby, the interference fringe can be made inconspicuous.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태를 설명하기 위한 도면이며, 적층체의 층 구성을 도시하는 도면.
도 2는 도 1에 대응하는 도면으로, 기능층이 다른 예의 층 구성을 도시하는 도면.
도 3은 도 1에 도시된 적층체에 있어서의 굴절률의 분포를 설명하기 위한 도면이며, 적층체를 모식적으로 도시하는 사시도.
도 4는 도 1에 도시된 적층 기재에 있어서의 면 내 복굴절성을 설명하기 위한 도면이며, 적층 기재를 모식적으로 도시하는 평면도.
도 5는 도 1에 도시된 적층체를 포함하는 편광판의 개략 구성을 도시하는 도면.
도 6은 도 1에 도시된 적층체를 포함하는 액정 표시 패널의 개략 구성을 도시하는 도면.
도 7은 도 1에 도시된 적층체를 포함하는 표시 장치의 개략 구성을 도시하는 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view for explaining an embodiment of the present invention, showing a layer structure of a laminate. Fig.
Fig. 2 is a view corresponding to Fig. 1, in which the functional layer is a layer structure of another example. Fig.
Fig. 3 is a view for explaining the distribution of the refractive index in the laminate shown in Fig. 1, and is a perspective view schematically showing the laminate. Fig.
Fig. 4 is a view for explaining the in-plane birefringence in the laminated substrate shown in Fig. 1, and is a plan view schematically showing a laminated substrate. Fig.
Fig. 5 is a view showing a schematic configuration of a polarizing plate including the laminate shown in Fig. 1; Fig.
6 is a view showing a schematic configuration of a liquid crystal display panel including the laminate shown in Fig.
7 is a view showing a schematic configuration of a display device including the laminate shown in Fig.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시 형태에 대해서 설명한다. 또한,본건 명세서에 첨부하는 도면에 있어서는, 도시와 이해를 쉽게 하기 위해 편의상, 적절히 축척 및 종횡의 치수비 등을 실물로부터 변경하고 과장하고 있다. 도 1 내지 도 7은 본 발명의 일 실시 형태를 설명하기 위한 도면이다. 이 중, 도 1 및 도 2는 적층 기재 및 적층체를 설명하기 위한 도면이다. 도 3 및 도 4는 적층 기재 및 적층체의 굴절률의 분포를 설명하기 위한 도면이다. 도 5 내지 도 7은 편광판, 액정 표시 패널 및 적층체의 구성을 도시하는 모식도이다. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in the drawings attached to the present specification, dimensions and aspect ratios are appropriately changed and exaggerated from the real world for convenience in order to facilitate understanding and understanding. 1 to 7 are views for explaining an embodiment of the present invention. 1 and 2 are views for explaining a laminated base material and a laminated body. Figs. 3 and 4 are views for explaining the distribution of the refractive indexes of the laminated base material and the laminate. Fig. Figs. 5 to 7 are schematic diagrams showing the configurations of a polarizing plate, a liquid crystal display panel, and a laminate.

《적층 기재 및 적층체》&Quot; Laminated substrate and laminate "

<적층 기재 및 적층체의 전체 구성> &Lt; Overall structure of laminated base material and laminate >

우선, 적층 기재(11) 및 적층체(10)의 전체 구성에 대해서 설명한다. 도 1에 도시한 바와 같이, 적층체(10)는 적층 기재(11)와, 적층 기재(11)의 한쪽 면 위에 형성된 기능층(15)을 갖고 있다. 적층 기재(11)는 광투과성 기재(12)와, 광투과성 기재(12)와 적층된 굴절률 조정층(13)을 갖고 있다. 적층체(10) 내에 있어서, 굴절률 조정층(13)은 광투과성 기재(12)와 기능층(15) 사이에 위치한다. 즉, 기능층(15)은 굴절률 조정층(13) 측으로부터 적층 기재(11)에 적층되어 있다. 도시된 예에 있어서, 적층 기재(11) 내에 있어서, 굴절률 조정층(13)은 광투과성 기재(12)의 한쪽 면 위에 형성되어 있다. 즉, 적층체(10)는 광투과성 기재(12), 굴절률 조정층(13), 기능층(15)의 3개의 층을 이 순서로 포함하도록 구성되어 있고, 굴절률 조정층(13)은 광투과성 기재(12) 및 기능층(15)에 인접하여 배치되어, 광투과성 기재(12) 및 기능층(15) 사이에서 각각 계면을 형성하고 있다.First, the overall structure of the laminated base material 11 and the laminated body 10 will be described. As shown in Fig. 1, the laminate 10 has a laminate substrate 11 and a functional layer 15 formed on one side of the laminate substrate 11. As shown in Fig. The laminated substrate 11 has a light-transmitting base material 12 and a refractive index adjusting layer 13 laminated with the light-transmitting base material 12. [ In the laminate 10, the refractive index adjusting layer 13 is located between the light-transmitting base material 12 and the functional layer 15. That is, the functional layer 15 is laminated on the laminate substrate 11 from the refractive index adjusting layer 13 side. In the illustrated example, the refractive index adjusting layer 13 is formed on one surface of the light-transmitting base material 12 in the laminated substrate 11. [ That is, the laminate 10 is configured to include three layers of the transparent base material 12, the refractive index adjusting layer 13, and the functional layer 15 in this order. The refractive index adjusting layer 13 is made of a transparent material Is disposed adjacent to the base material 12 and the functional layer 15 to form an interface between the light-transparent base material 12 and the functional layer 15, respectively.

또한,도 2에는 도 1에 도시된 적층체(10)의 하나의 변형예로서의 적층체가 나타나 있다. 도 2에 도시된 적층체(10)에서는, 기능층(15)의 적층 기재(11)에 대면하지 않는 측의 면 위에 제2 기능층(17)이 형성되어 있는 점에 있어서, 도 1의 적층체(10)와 다르다. 도 1에 도시된 적층체(10)에서는, 기능층(15)이 적층 기재(11)의 한쪽 면 위에 형성된 하드코트층으로 구성되도록 해도 된다. 한편, 도 2에 도시된 적층체(10)에서는, 기능층(15)이 적층 기재(11)의 한쪽 면 위에 형성된 하드코트층으로 구성됨과 함께, 제2 기능층(17)이 하드코트층의 적층 기재(11)와는 반대측의 면 위에 형성된 저굴절률층으로 구성되도록 해도 된다. 2 shows a laminate as one modified example of the laminate 10 shown in Fig. 2 is that the second functional layer 17 is formed on the surface of the functional layer 15 that is not facing the laminated substrate 11, (10). In the laminate 10 shown in Fig. 1, the functional layer 15 may be constituted by a hard coat layer formed on one side of the laminate substrate 11. Fig. On the other hand, in the laminate 10 shown in Fig. 2, the functional layer 15 is formed of a hard coat layer formed on one side of the laminated substrate 11, and the second functional layer 17 is formed of a hard coat layer And a low refractive index layer formed on the surface opposite to the laminated substrate 11.

적층 기재(11)에 포함되는 광투과성 기재(12)는, 광학 이방성이며, 적어도 면 내 복굴절성을 갖고 있다. 또한, 적층 기재(11)에 포함되는 굴절률 조정층(13)도, 광학 이방성이며, 적어도 면 내 복굴절성을 갖고 있다. 따라서,도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 시트 형상의 광투과성 기재(12)의 그 시트면을 따른 직교하는 2개의 방향에 있어서의 광투과성 기재(12)의 굴절률이 다르다. 마찬가지로, 시트 형상의 굴절률 조정층(13)의 그 시트면을 따른 직교하는 2개의 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률이 다르다. The light-transmitting base material 12 included in the laminated base material 11 is optically anisotropic and has at least in-plane birefringence. The refractive index adjusting layer 13 included in the laminated base material 11 is also optically anisotropic and has at least in-plane birefringence. Therefore, as shown in Figs. 3 and 4, the refractive index of the light-transparent base material 12 in the two orthogonal directions along the sheet surface of the sheet-like light-transparent base material 12 is different. Similarly, the refractive index of the refractive index adjusting layer 13 in the two orthogonal directions along the sheet surface of the sheet-shaped refractive index adjusting layer 13 is different.

또한,여기에서 「시트면(필름면, 판면)」이란, 대상으로 되는 시트 형상(필름 형상, 판상)의 부재를 전체적이면서 대국적으로 본 경우에 있어서 대상으로 되는 시트 형상 부재의 평면 방향과 일치하는 면을 가리킨다. 일 실시 형태로서 설명하는 예에 있어서, 광투과성 기재(12)의 시트면, 굴절률 조정층(13)의 시트면, 기능층(15)의 시트면, 적층 기재(11)의 시트면 및 적층체(10)의 시트면은, 서로 평행하게 되어 있다.Here, the &quot; sheet surface (film surface, sheet surface) &quot; means a sheet surface in which the sheet-like (film, plate) Point to the face. The sheet surface of the refractive index adjusting layer 13, the sheet surface of the functional layer 15, the sheet surface of the laminated substrate 11, and the sheet surface of the laminate substrate 11, The sheet surfaces of the sheet member 10 are parallel to each other.

또한, 광투과성 기재(12)나 굴절률 조정층(13)이 면 내 복굴절성을 갖고 있는지 여부는, 파장 550㎚의 굴절률에 있어서, 광투과성 기재(12) 또는 굴절률 조정층(13)의 면 내에 있어서의 최대 굴절률차 △n(시트면을 따른 2개의 방향의 굴절률차의 최대값)이Whether or not the light transmitting base material 12 and the refractive index adjusting layer 13 have in-plane birefringence can be determined by measuring the refractive index of the light transmitting base material 12 or the refractive index adjusting layer 13 within the surface of the light transmitting base material 12 or the refractive index adjusting layer 13 (The maximum value of the refractive index difference in the two directions along the sheet surface)

Figure 112013042321123-pat00008
Figure 112013042321123-pat00008

인 조건을 만족하는지 여부로 판단한다. 즉, 광투과성 기재(12)의 면 내에서의 최대 굴절률차 △n이 0.0005 이상이면, 그 광투과성 기재(12)는 복굴절성을 갖고 있으며, 광투과성 기재(12)의 면 내에서의 최대 굴절률차 △n이 0.0005 미만이면, 그 광투과성 기재(12)는 복굴절성을 갖고 있지 않다고 판단한다. 마찬가지로, 굴절률 조정층(13)의 면 내에서의 최대 굴절률차 △n이 0.0005 이상이면, 그 굴절률 조정층(13)은 복굴절성을 갖고 있으며, 굴절률 조정층(13)의 면 내에서의 최대 굴절률차 △n이 0.0005 미만이면, 그 굴절률 조정층(13)은 복굴절성을 갖고 있지 않다고 판단한다. 복굴절률은 오지게이소꾸기끼사 제조 KOBRA-WR을 사용해서, 측정각 0° 또한 측정 파장 552.1㎚로 설정하여 측정을 행할 수 있다. 이때,복굴절률 산출에는, 막 두께, 평균 굴절률이 필요하다. 막 두께는, 예를 들어 광투과성 필름에 대해서는, 마이크로미터(Digimatic Micrometer, 미쯔토요사 제조)나, 전기 마이크로미터(안리쯔사 제조)를 사용해서 측정할 수 있다. 또한, 굴절률 조정층(13)이 박막층으로서 형성되어 있는 경우에는, TEM 단면 관찰하고, 대상층의 높이를 적어도 10점 이상 측정하여 평균값을 막 두께로 해서 구한다. 평균 굴절률은, 아베 굴절률계(아타고사 제조 NAR-4T)나, 닛본분꼬우(주)사 제조의 「엘립소미터」를 사용해서 측정할 수 있다.Is satisfied or not. That is, when the maximum refractive index difference? N in the plane of the light-transmitting base material 12 is 0.0005 or more, the light-transmitting base material 12 has birefringence, and the maximum refractive index When the difference DELTA n is less than 0.0005, it is judged that the light-transparent base material 12 does not have birefringence. Similarly, when the maximum refractive index difference DELTA n in the surface of the refractive index adjusting layer 13 is 0.0005 or more, the refractive index adjusting layer 13 has birefringence and the maximum refractive index If the difference DELTA n is less than 0.0005, it is determined that the refractive index adjustment layer 13 does not have birefringence. The birefringence index can be measured by using KOBRA-WR manufactured by Isabuchi Kogyo Co., Ltd. with a measurement angle of 0 ° and a measurement wavelength of 552.1 nm. At this time, the film thickness and the average refractive index are required for the calculation of the birefringence. The film thickness can be measured by using a micrometer (manufactured by Mitsutoyo Corporation) or an electric micrometer (manufactured by Anritsu Co., Ltd.) for the light-transmitting film, for example. When the refractive index adjustment layer 13 is formed as a thin film layer, the TEM cross section is observed, and the height of the target layer is measured at least 10 points, and the average value is obtained as the film thickness. The average refractive index can be measured by using an Abbe's refractive index meter (NAR-4T manufactured by Atago) or an &quot; ellipsometer &quot; manufactured by Nippon Bunko Co.,

일반적으로 등방성 재료로 알려진, 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 TD80UL-M(후지 필름사 제조), 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 ZF16-100(닛본 제온사 제조)의 면 내에서의 최대 굴절률차 △n은 상기 측정 방법에 의해, 각각 0.0000375, 0.00005이며, 복굴절성을 갖고 있지 않다(등방성이다)라고 판단된다.The maximum refractive index difference? N in the plane of TD80UL-M (manufactured by Fuji Film), which is generally made of triacetyl cellulose, and ZF16-100 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), which is a cycloolefin polymer, Of 0.0000375 and 0.00005, respectively, and it is judged that it has no birefringence (isotropic).

여기서 설명하는 적층체(10)에서는, 광투과성 기재(12)의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률 n1x, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행해지는 방향에 있어서의 기능층(15)의 굴절률 n3xIn the laminate 10 described herein, the refractive index n 1x in the slow axis direction dx, which is the direction with the greatest refractive index in the plane of the light-transmitting substrate 12, and the refractive index nx of the slow axis direction dx of the light- The refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer in the parallel direction and the refractive index n 3x of the functional layer 15 in the direction parallel to the slow axis direction dx of the light transmitting base material 12

Figure 112013042321123-pat00009
Figure 112013042321123-pat00009

인 조건 (a)를 만족하도록 되어 있다. 더하여, 광투과성 기재(12)의 면 내에 있어서 지상축 방향 dx에 직교하는 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률 n1y, 광투과성 기재(11)의 진상축 방향 dy와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2y 및 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy와 평행해지는 방향에 있어서의 기능층(15)의 굴절률 n3y(A) is satisfied. In addition, the refractive index n 1y in the fast axis direction dy orthogonal to the slow axis direction dx in the plane of the light-transmitting base material 12, the refractive index adjustment in the direction parallel to the fast axis direction dy of the light- The refractive index n 2y of the layer 13 and the refractive index n 3y of the functional layer 15 in the direction parallel to the fast axis direction dy of the light-

Figure 112013042321123-pat00010
Figure 112013042321123-pat00010

인 조건 (b)를 만족한다.(B).

즉, 굴절률 조정층(13)은 기능층(15)과 복굴성을 갖는 광투과성 기재(12) 사이에 배치되고, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx 및 진상축 방향 dy의 양 방향에 있어서 굴절률을 2단계로 나누어서 변화시키도록 하고 있다. 이에 의해, 기능층(15)과 복굴성을 갖는 광투과성 기재(12) 사이에는, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률이 크게 변화하는 계면이 존재하지 않고, 또한 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률이 크게 변화하는 계면도 존재하지 않게 된다. 즉, 기능층(15)과 복굴성을 갖는 광투과성 기재(12) 사이에는, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx 및 진상축 방향 dy의 양 방향에 있어서의 굴절률차가 작고, 이 때문에 반사율이 낮아지는 계면밖에 존재하지 않는다. That is, the refractive index adjustment layer 13 is disposed between the functional layer 15 and the light-transmitting base material 12 having birefringence, and is arranged in both directions of the slow axis direction dx and the fast axis direction dy of the light- So that the refractive index is changed in two steps. As a result, there is no interface between the functional layer 15 and the light-transmitting base material 12 having birefringence, in which the refractive index in the slow axis direction dx of the light-transparent base material 12 largely changes, There is no interface at which the refractive index in the fast axis direction dy of the substrate 12 largely changes. That is, between the functional layer 15 and the light-transmitting base material 12 having birefringence, the refractive index difference in both the slow axis direction dx and the fast axis direction dy of the light-transparent base material 12 is small, There is only a lower interface.

따라서,기능층(15) 측으로부터 적층체(10)에 입사한 광이 광투과성 기재(12)를 향해서 진행하는 동안에, 반사에 의해 진행 방향을 되돌아가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 이에 의해, 기능층(15) 측으로부터 적층체(10)에 입사하는 광 중, 기능층(15)의 표면에서 반사하는 광과, 기능층(15)과 굴절률 조정층(13)의 계면 또는 굴절률 조정층(13)과 광투과성 기재(12)의 계면에서 반사하는 광에 의해 발생할 수 있는 간섭 줄무늬를 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다. Therefore, it is possible to effectively prevent the traveling direction from returning due to reflection while the light incident on the multilayer body 10 from the functional layer 15 side advances toward the light-transparent base material 12. [ The light reflected from the surface of the functional layer 15 and the light reflected from the surface of the functional layer 15 and the refractive index adjusting layer 13 or the refractive index of the refractive index adjusting layer 13 out of the light incident on the layered body 10 from the side of the functional layer 15 The interference fringes that can be generated by the light reflected at the interface between the adjustment layer 13 and the light-transmitting base material 12 can be effectively suppressed.

또한, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2x 및 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2yThe refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer 13 in the direction parallel to the slow axis direction dx of the light-transmitting base material 12 and the refractive index n 2x in the direction parallel to the fast axis direction dy of the light- When the refractive index n 2y of the adjustment layer 13 is

Figure 112013042321123-pat00011
Figure 112013042321123-pat00011

인 조건 (c)를 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우, 기능층(15)과 복굴성을 갖는 광투과성 기재(12) 사이에 있어서, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률을 두 번에 나누어서 조금씩 변화시킬 수 있고, 또한 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률도 두 번에 나누어서 조금씩 변화시킬 수 있다. 이에 의해, 기능층(15) 측으로부터 적층체(10)에 입사한 광이 광투과성 기재(12)로 진행하는 동안에, 반사에 의해 진행 방향을 되돌아가는 것을 더 효과적으로 방지할 수 있다. 이 결과, 간섭 줄무늬를 더 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.(C). &Lt; / RTI &gt; In this case, the refractive index in the slow axis direction dx of the light-transparent base material 12 can be changed little by little between the functional layer 15 and the light-transmitting base material 12 having birefringence, The refractive index in the fast axis direction dy of the light-transmitting base material 12 can be changed little by little in two steps. This makes it possible to more effectively prevent the traveling direction from being reflected back by the reflection while the light incident on the laminate 10 from the functional layer 15 side proceeds to the light-transparent base material 12. [ As a result, interference fringes can be made more inconspicuous.

또한, 조건 (c)가 만족되는 경우에, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률 n1x, 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률 n1y, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2x 및 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2yWhen the condition (c) is satisfied, the refractive index n 1x in the slow axis direction dx of the light-transparent substrate 12, the refractive index n 1y in the fast axis direction dy of the light-transparent substrate 12, The refractive index adjusting layer 13 in the direction parallel to the slow axis direction dx of the substrate 12 in the direction parallel to the fast axis direction dy of the refractive index adjusting layer 13 and the refractive index n2x of the light- ) &Lt; / RTI &gt;

Figure 112013042321123-pat00012
Figure 112013042321123-pat00012

인 조건 (d)를 만족하는 것이 더 바람직하다. 예를 들어, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 기능층(15)의 굴절률 n3x 및 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy와 평행한 방향에 있어서의 기능층(15)의 굴절률 n3y가 크게 다르지 않은 경우, 전형적으로는, 기능층(15)이 광학 등방성이며, 복굴성을 갖고 있지 않은 경우에는, 조건 (c) 및 조건 (d)가 충족됨으로써, 굴절률 조정층(13)이 필요 이상으로 강한 복굴절성을 나타내지 않고, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx 및 진상축 방향 dy의 양 방향에 있어서, 굴절률을 조금씩 두 번에 나누어서 변화시킬 수 있다. 이에 의해, 기능층(15) 측으로부터 적층체(10)에 입사한 광이 광투과성 기재(12)로 진행하는 동안에, 반사에 의해 진행 방향을 되돌아가는 것을 더 효과적으로 방지할 수 있다. 이 결과, 간섭 줄무늬를 더 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.It is more preferable that the condition (d) is satisfied. For example, the refractive index n 3x of the functional layer 15 in the direction parallel to the slow axis direction dx of the light-transmitting base material 12 and the refractive index n 3x of the function layer 15 in the direction parallel to the fast axis direction dy of the light- Typically, when the refractive index n 3y of the functional layer 15 is not significantly different, typically, when the functional layer 15 is optically isotropic and does not have birefringence, the conditions (c) and (d) , The refractive index adjusting layer 13 does not exhibit strong birefringence more than necessary and the refractive index can be changed little by little in both directions in both the slow axis direction dx and the fast axis direction dy of the light- have. This makes it possible to more effectively prevent the traveling direction from being reflected back by the reflection while the light incident on the laminate 10 from the functional layer 15 side proceeds to the light-transparent base material 12. [ As a result, interference fringes can be made more inconspicuous.

또한, 도 4에 도시한 바와 같이, 적층 기재(11)를 법선 방향(적층 기재(11)의 시트면에의 법선 방향)으로부터 관찰한 경우에, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와, 굴절률 조정층(13)의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 굴절률 조정층(13)의 지상축 방향 da에 의해 이루어지는 각도 θ의 크기가, 45° 미만인 것이 바람직하다(조건 (e)). 이 각도 θ가 작을수록, 굴절률 조정층(13)의 면 내에서의 굴절률의 대소의 분포가 광투과성 기재(12)의 면 내에서의 굴절률의 대소의 분포와 동일 경향을 나타내게 된다. 즉, 이 각도 θ가 45° 미만인 경우에는, 전술한 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx 및 진상축 방향 dy의 2 방향뿐만 아니라, 광투과성 기재(12)의 시트면을 따른 다양한 방향에 있어서의 굴절률이 기능층(15)과 광투과성 기재(12) 사이에서 크게 변화하지 않고, 두 번에 나누어서 점차로 변화해가게 된다. 특히, 이 각도 θ가 0°인 경우, 즉 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 굴절률 조정층(13)의 지상축의 조정 방향 da가 평행한 경우(조건 (f))에는, 각 방향에 있어서의 굴절률이, 다른 방향의 굴절률의 변화와 마찬가지 경향을 나타내면서, 기능층(15)과 광투과성 기재(12) 사이에서 두 번에 나누어서 점차 변화해간다. 이에 의해, 기능층(15) 측으로부터 적층체(10)에 입사한 광이 광투과성 기재(12)로 진행하는 동안에, 반사에 의해 진행 방향을 되돌아가는 것을 매우 효과적으로 방지할 수 있으며, 간섭 줄무늬를 매우 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.4, when the laminated substrate 11 is observed from the normal direction (the direction normal to the sheet surface of the laminated substrate 11), the relationship between the slow axis direction dx of the light- And the angle da in the slow axis direction of the refractive index adjustment layer 13, which is the direction with the largest refractive index in the plane of the refractive index adjustment layer 13, is less than 45 degrees (condition (e)). . As the angle? Is smaller, the distribution of the refractive index in the plane of the refractive index adjustment layer 13 tends to be the same as the distribution of the refractive index in the plane of the light-transparent base 12. In other words, when the angle? Is less than 45 degrees, not only the two directions of the above-mentioned light-transmitting base material 12 in the slow axis direction dx and the fast axis direction dy but also in the various directions along the sheet surface of the light- Refractive index in the functional layer 15 and the light-transmitting base material 12 does not vary greatly between the functional layer 15 and the light-transparent base material 12 but gradually changes in two divided portions. In particular, when the angle? Is 0, that is, when the slow axis direction dx of the transparent base 12 and the adjustment direction da of the slow axis of the refractive index adjustment layer 13 are parallel (condition (f)), The refractive index in the functional layer 15 gradually changes between the functional layer 15 and the light-transmitting base 12 in two portions, while exhibiting the same tendency as the change in the refractive index in the other direction. Thus, it is possible to very effectively prevent the light reflected by the reflective layer 12 from returning to the traveling direction while the light incident on the laminate 10 from the side of the functional layer 15 proceeds to the light-transparent base material 12, It can be made very inconspicuous.

여기서 도 4에 있어서의 광투과성 기재(12) 위에 그려진 타원은, 광투과성 기재(12)의 굴절률의 분포를 나타내는 굴절률 타원체의 일례에 대한 광투과성 기재(12) 상에서의 단면을 나타내고 있다. 마찬가지로, 도 4에 있어서의 굴절률 조정층(13) 상에 그려진 타원은, 굴절률 조정층(13)의 굴절률의 분포를 나타내는 굴절률 타원체의 일례에 대한 굴절률 조정층(13) 상에서의 단면을 나타내고 있다.Here, the ellipse drawn on the light-transmitting base material 12 in FIG. 4 shows a cross-section on the light-transmitting base material 12 for an example of the refractive index ellipsoid showing the distribution of the refractive index of the light-transmitting base material 12. Similarly, the ellipse drawn on the refractive index adjusting layer 13 in FIG. 4 shows a cross section on the refractive index adjusting layer 13 for an example of the refractive index ellipsoid showing the distribution of the refractive index of the refractive index adjusting layer 13.

또한, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률 n1x, 광투과성 기재(13)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률 n1y, 굴절률 조정층(13)의 지상축 방향 da에 있어서의 굴절률 n2a 및 굴절률 조정층의 진상축 방향 db에 있어서의 굴절률 n2bThe refractive index n 1x in the slow axis direction dy of the light transmitting base material 13 and the refractive index n 1y in the fast axis direction dy of the refractive index adjusting layer 13 the index of refraction n 2a and a refractive index of a fast axis direction db of the adjustment layer in the refractive index n 2b in

Figure 112013042321123-pat00013
Figure 112013042321123-pat00013

인 조건 (g)를 만족하는 것이 바람직하다. 조건 (g)가 만족되는 경우, 전술한 조건 (d)가 만족되는 경우와 마찬가지로, 굴절률 조정층(13)이 필요 이상으로 강한 복굴절성을 갖는 것을 방지할 수 있고, 이에 의해 간섭 줄무늬를 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.It is preferable that the condition (g) is satisfied. When the condition (g) is satisfied, it is possible to prevent the refractive index adjusting layer 13 from having strong birefringence more than necessary, as in the case where the above-mentioned condition (d) is satisfied, .

또한, 전술한 조건 (a) ~ (g)의 하나 이상과 함께, 광투과성 기재(12)의 면 내 평균 굴절률 n1(n1=(n1x+n1y)/2), 굴절률 조정층(13)의 면 내 평균 굴절률 n2(n2=(n2x+n2y)/2) 및 기능층(15)의 면 내 평균 굴절률 n3(n3=(n3x+n3y)/2)가In addition, with one or more of the aforementioned conditions (a) ~ (g), averaged refractive surface of the light-transmitting substrate (12) n 1 (n 1 = (n 1x + n 1y) / 2), the refractive index adjusting layer ( 13) within the average refractive index n 2 if the (n 2 = (n 2x + n 2y) / 2) and the functional layer (in the average refractive index side of 15) n 3 (n 3 = (n 3x + n 3y) / 2) end

Figure 112013042321123-pat00014
Figure 112013042321123-pat00014

인 조건 (h)를 만족하는 것이 바람직하다. 조건 (h)가 만족되는 경우, 굴절률 조정층(13)에 적절한 복굴절성이 부여되고, 이에 의해 간섭 줄무늬를 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.It is preferable to satisfy the condition (h). When the condition (h) is satisfied, appropriate birefringence is given to the refractive index adjusting layer 13, thereby making it possible to effectively prevent interference fringes.

전형적인 예로서, 광투과성 기재(12)가 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로부터 형성되고, 기능층(15)이 하드코트층으로서 기능하는 경우, 광투과성 기재(12)는, 강한 복굴절성을 가질 수 있음과 함께, 광투과성 기재(12)의 면 내 평균 굴절률 n1이 기능층(15)의 면 내 평균 굴절률 n3에 대해 커진다. 이 경우, 조건 (h)가 충족됨으로써, 굴절률 조정층(13)은 기능층(15)의 복굴절성의 정도에 따른 적절한 정도로 복굴절성을 갖게 할 수 있어, 간섭 줄무늬를 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.As a typical example, when the light-transmitting substrate 12 is formed from a biaxially stretched polyethylene terephthalate film and the functional layer 15 functions as a hardcoat layer, the light-transmitting substrate 12 may have a strong birefringence Plane average refractive index n 1 of the light-transmitting base material 12 is larger than the in-plane average refractive index n 3 of the functional layer 15. In this case, by satisfying the condition (h), the refractive index adjusting layer 13 can have birefringence to an appropriate degree according to the degree of birefringence of the functional layer 15, and the interference fringe can be made less effective .

또한, 전술한 조건 (a) ~ (h)의 하나 이상과 함께, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률 n1x, 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률 n1y, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2x, 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy와 평행한 방향에 있어서의 굴절률 조정층(13)의 굴절률 n2y, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx와 평행한 방향에 있어서의 기능층(15)의 굴절률 n3x 및 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy와 평행한 방향에 있어서의 기능층(15)의 굴절률 n3yThe refractive index n 1x in the slow axis direction dx of the light-transparent substrate 12 and the refractive index n 1x in the fast axis direction dy of the light-transmitting substrate 12 together with at least one of the above conditions (a) to (h) in the refractive index n 1y, the refractive index n 2x, fast axis direction, dy, and the direction parallel to the light-transmitting substrate 12 having a refractive index adjusting layer 13 in the direction parallel with the slow axis direction dx of the light-transmitting substrate 12 The refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer 13 in the direction parallel to the slow axis direction dx of the transparent base 12 and the refractive index n 3x of the function layer 15 in the direction parallel to the slow axis direction dx of the light- the refractive index n3y of the functional layer 15 in the direction parallel to dy is

Figure 112013042321123-pat00015
Figure 112013042321123-pat00015

인 조건 (i)를 만족하는 것이 바람직하다. 조건 (i)가 만족되는 경우, 굴절률 조정층(13)과 광투과성 기재(12) 사이의 굴절률차, 및 굴절률 조정층(13)과 기능층(15) 사이의 굴절률차가 커져버리는 것을 회피할 수 있어, 결과적으로, 광투과성 기재(12)로부터 기능층(15)까지의 굴절률차를 조금씩 변화시켜 갈 수 있다. 이에 의해, 간섭 줄무늬를 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다. It is preferable that the condition (i) is satisfied. When the condition (i) is satisfied, it is possible to avoid a difference in refractive index between the refractive index adjusting layer 13 and the light-transmitting base 12 and a difference in refractive index between the refractive index adjusting layer 13 and the functional layer 15 As a result, the refractive index difference from the light-transmitting base material 12 to the functional layer 15 can be changed little by little. Thereby, the interference fringe can be effectively prevented from being conspicuous.

그런데, 면 내 복굴절성의 정도를 표시하는 지표로서, 리타데이션 Re가 알려져 있다. 리타데이션 Re는, 가장 값이 커지는 지상축 방향의 굴절률 nmax, 가장 값이 작아지는 진상축 방향의 굴절률 nmin 및 두께 d(단위:㎚)를 사용해서, 다음과 같이 표시된다. However, retardation Re is known as an index indicating the degree of birefringence in the plane. The retardation Re is expressed as follows using the refractive index n max in the slow axis direction which is the largest value, the refractive index n min in the fast axis direction in which the minimum value is small, and the thickness d (unit: nm).

Figure 112013042321123-pat00016
Figure 112013042321123-pat00016

JP2011-107198A에서도 개시되어 있듯이, 무지개 불균일을 방지하는 관점에서는, 적층 기재(11)가 3000㎚ 이상의 리타데이션을 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 조건 (d)나 조건 (g)가 만족되는 경우에는, 광투과성 기재(12)가 3000㎚ 이상인 리타데이션을 갖는 것이 더 바람직하다. 리타데이션은, 예를 들어 오지게이소꾸기끼사 제조 KOBRA-WR을 사용해서, 측정각 0° 또한 측정 파장 589.3㎚로 설정하여, 측정된 값으로 할 수 있다. 또한, 리타데이션은 2매의 편광판을 사용해서, 필름의 배향축 방향(주축의 방향)을 구하고, 배향축 방향에 대해 직교하는 2개의 축의 굴절률(nx, ny)을 아베 굴절률계(아타고사 제조 NAR-4T)에 의해 구하였다. 여기서, 보다 큰 굴절률을 나타내는 축을 지상축이라 정의한다. 필름 두께 d(㎚)는, 전기 마이크로미터(안리쯔사 제조)를 사용해서 측정하고, 단위를 ㎚로 환산하였다. 굴절률차 (nx-ny)와 필름의 두께 d(㎚)의 곱으로부터, 리타데이션을 계산할 수도 있다. As disclosed in JP2011-107198A, it is preferable that the laminated substrate 11 has a retardation of 3000 nm or more from the viewpoint of preventing irregularity of iridescence. Further, when the condition (d) or the condition (g) is satisfied, it is more preferable that the light-transmitting base material 12 has retardation of 3000 nm or more. The retardation can be measured, for example, by setting the measurement angle of 0 DEG and the measurement wavelength of 589.3 nm by using KOBRA-WR manufactured by Isoguchi Kikai Co., In the retardation, two polarizing plates were used to obtain the orientation axis direction (principal axis direction) of the film, and the refractive indexes (n x , n y ) of two axes perpendicular to the orientation axis direction were measured using Abbe's refractive index meter NAR-4T manufactured by Kojima Corporation). Here, an axis indicating a larger refractive index is defined as a slow axis. The film thickness d (nm) was measured using an electric micrometer (manufactured by Anritsu), and the unit was converted into nm. From the product of the refractive index difference (n x -n y ) and the thickness d (nm) of the film, the retardation can also be calculated.

광투과성 기재(12)의 리타데이션을 3000㎚ 이상으로 하는 관점으로부터는, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향의 굴절률 n1x와 진상축 방향의 굴절률 n1y의 차(이하, 「굴절률차 △n」으로도 표기함)는 0.05 ~ 0.20으로 되어 있는 것이 바람직하다. 상기 굴절률차 △n이 0.05 미만이면 전술한 리타데이션값을 얻기 위해 필요한 막 두께가 두꺼워진다. 한편, 상기 굴절률차 △n이 0.20을 초과하면, 광투과성 기재(12)에 찢어짐, 부서짐 등이 발생하기 쉬워져, 공업 재료로서의 실용성이 현저하게 저하된다. 보다 바람직하게는, 상기 굴절률차 △n의 하한은 0.07, 상기 굴절률차 △n의 상한은 0.15이다. 또한,상기 굴절률차 △n이 0.15를 초과하는 경우, 광투과성 기재(12)의 종류에 따라서는, 내습열성 시험에서의 광투과성 기재(12)의 내구성이 뒤떨어지는 경우가 있다. 내습열성 시험에서의 우수한 내구성을 확보하는 관점으로부터는, 상기 굴절률차 △n의 보다 바람직한 상한은 0.12이다. From the viewpoint of setting the retardation of the light-transmitting base material 12 to 3000 nm or more, the difference between the refractive index n 1x in the slow axis direction of the transparent base material 12 and the refractive index n 1y in the fast axis direction (hereinafter, n &quot;) is preferably 0.05 to 0.20. If the refractive index difference? N is less than 0.05, the film thickness necessary for obtaining the aforementioned retardation value becomes thick. On the other hand, when the refractive index difference? N exceeds 0.20, tearing, crumbling, or the like is liable to occur in the light-transmitting base material 12, and practicality as an industrial material is remarkably lowered. More preferably, the lower limit of the refractive index difference DELTA n is 0.07, and the upper limit of the refractive index difference DELTA n is 0.15. When the refractive index difference? N is more than 0.15, the durability of the light-transmitting base material 12 in the heat and humidity resistance test may be poor depending on the kind of the light-transmitting base material 12. From the viewpoint of ensuring excellent durability in the heat and humidity resistance test, a more preferable upper limit of the refractive index difference DELTA n is 0.12.

또한, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률 n1x로서는, 1.60 ~ 1.80인 것이 바람직하고, 보다 바람직한 하한은 1.65, 보다 바람직한 상한은 1.75이다. 또한, 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률 n1y로서는, 1.50 ~ 1.70인 것이 바람직하고, 보다 바람직한 하한은 1.55, 보다 바람직한 상한은 1.62(1.65)이다. 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률 n1x 및 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률 n1y가 상기 범위에 있고, 또한 전술한 굴절률차 △n의 관계가 충족됨으로써, 보다 적합한 무지개 불균일의 억제 효과를 얻을 수 있다. Further, the refractive index n 1x in the slow axis direction dx of the light-transmitting base material 12 is preferably 1.60 to 1.80, more preferably 1.65, and still more preferably 1.75. The refractive index n 1y in the fast axis direction dy of the light-transmitting base material 12 is preferably 1.50 to 1.70, more preferably 1.55, and more preferably 1.62 (1.65). When the refractive index n 1x in the slow axis direction dx and the refractive index n 1y in the fast axis direction dy of the light-transparent base material 12 are within the above-mentioned range and the relationship of the above-described refractive index difference? N is satisfied, It is possible to obtain an effect of suppressing unevenness.

여기서, 굴절률은 분광 광도계(시마즈 세이사꾸쇼사 제조의 UV-3100PC)를 사용해서, 파장 380 ~ 780㎚의 평균 반사율(R)을 측정하고, 얻어진 평균 반사율(R)로부터, 이하의 식을 사용해서 특정된다. 기능층(15)의 평균 반사율(R)은 접착 용이화 처리가 없는 두께 50㎛의 PET 위에 원료 조성물을 도포하여, 1 ~ 3㎛의 두께의 경화막으로 하고, PET의 원료 조성물을 도포하지 않은 면(이면)에, 이면 반사를 방지하기 위해 측정 스폿 면적보다 큰 폭의 흑색 비닐 테이프(예를 들어, 야마토 비닐 테이프 NO200-38-21 38㎜폭)를 붙이고 나서 각 도막의 평균 반사율을 측정할 수 있다. 광투과성 기재(12)의 굴절률은, 측정면과는 반대면에 마찬가지로 흑색 비닐 테이프를 붙이고 나서 측정할 수 있다. 또한, 굴절률 조정층(13)의 굴절률은, 적층 기재(11)에 있어서의 측정면과는 반대면, 즉 광투과성 기재(12) 위에 흑색 비닐 테이프를 붙이고 나서 측정할 수 있다. Here, the average reflectance (R) at a wavelength of 380 to 780 nm was measured using a spectrophotometer (UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation), and the following equation was used from the obtained average reflectance (R) . The average reflectance R of the functional layer 15 was determined by coating the raw material composition on PET having a thickness of 50 占 퐉 without the adhesion facilitating treatment to form a cured film having a thickness of 1 to 3 占 퐉 and applying the PET raw material composition A black vinyl tape (for example, Yamato vinyl tape NO200-38-21 38 mm wide) having a width larger than the measurement spot area is attached to the surface (back surface) of the film to prevent the reflection of the back surface, and then the average reflectance of each coating film is measured . The refractive index of the light-transmitting base material 12 can be measured after a black vinyl tape is similarly applied to the surface opposite to the measurement surface. The refractive index of the refractive index adjustment layer 13 can be measured after the surface of the laminate substrate 11 opposite to the measurement surface, that is, after attaching the black vinyl tape on the light-transmitting base material 12.

Figure 112013042321123-pat00017
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또한, 전술한 아베의 굴절률계나, 닛본분꼬우(주) 제조의 「엘립소미터 M150」을 사용해서 굴절률 및 복굴절률을 측정할 수 있다. In addition, refractive index and birefringence index can be measured using Abbe's refractive index system or &quot; Ellipsometer M150 &quot; manufactured by Nippon Bunko Co.,

또한,면 내에 있어서의 지상축 방향의 굴절률 nx 및 면 내에 있어서의 진상축 방향에 있어서의 굴절률 ny를 측정하는 방법으로서, 다음의 방법이 있다. 우선, 2매의 편광판을 사용해서, 측정 대상(광투과성 기재(12) 또는 굴절률 조정층(13))의 배향축 방향(주축의 방향, 즉 면 내에 있어서의 지상축의 방향 및 진상축의 방향)을 특정한다. 이어서, 측정 대상의 이면에 흑색 비닐 테이프(예를 들어, 야마토 비닐 테이프 No200-38-21 38㎜폭)를 붙인 후, 분광 광도계(V7100형, 자동 절대 반사율 측정 유닛, VAR-7010 닛본분꼬우사 제조)를 사용해서, 편광 측정의 조건을 S 편광으로 해서, S 편광의 진동 방향과 해당 측정 대상의 지상축의 방향이 평행해지는 경우의 반사율을 5회 측정하여 평균값을 산출하고, 또한 S 편광의 진동 방향과 해당 측정 대상의 진상축의 방향이 평행해지는 경우의 반사율을 5회 측정하여 평균값을 산출한다. S 편광의 진동 방향과 측정 대상의 지상축의 방향이 평행해지는 경우의 반사율의 평균값을, 다음 식의 반사율 R(%)로서, 측정 대상의 지상축 방향에 있어서의 굴절률 nx를 얻을 수 있고, 마찬가지로, S 편광의 진동 방향과 측정 대상의 진상축의 방향이 평행해지는 경우의 반사율의 평균값을, 다음 식의 반사율 R(%)로서, 측정 대상의 진상축 방향에 있어서의 굴절률 ny를 얻을 수 있다.Further, as a method for measuring the refractive index n x in the slow axis direction in the plane and the refractive index n y in the fast axis direction in the plane, there is the following method. First, two polarizing plates are used to measure the alignment axis direction (the direction of the main axis, that is, the direction of the slow axis in the plane and the direction of the fast axis) of the measurement target (the light-transmitting base material 12 or the refractive index adjustment layer 13) Specify. Next, a black vinyl tape (for example, Yamato Vinyl Tape No. 200-38-21 38 mm wide) was attached to the back surface of the object to be measured, and then a spectrophotometer (V7100 type, automatic absolute reflectance measuring unit, VAR-7010 Nitobunku Co., The average of the S polarized light was measured by measuring the reflectance when the oscillation direction of the S polarized light was parallel to the direction of the slow axis of the object to be measured, Direction is parallel to the direction of the fast axis of the measurement target is measured five times to calculate an average value. It is possible to obtain the refractive index n x in the direction of the slow axis of the measurement object as the average value of the reflectance when the oscillation direction of the S-polarized light is parallel to the direction of the slow axis of the measurement object as the reflectance R , The refractive index n y in the fast axis direction of the object to be measured can be obtained with the average value of the reflectance in the case where the oscillation direction of the S-polarized light becomes parallel to the direction of the fast axis of the measurement object as the reflectance R (%) of the following formula.

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또한, 적층체(10)가 된 후에 기능층(15)의 굴절률을 측정하는 방법으로서는, 각 층의 경화막을 커터 등으로 깍아내어 가루 상태의 샘플을 제작하고, JISK7142(2008) B법(가루체 또는 입상의 투명 재료용)에 따른 베케법(굴절률이 기지인 카길 시약을 사용해서, 상기 가루 상태의 샘플을 슬라이드 글래스 등에 놓고, 그 샘플 위에 시약을 적하하여, 시약으로 샘플을 침지한다. 그 모습을 현미경 관찰에 의해 관찰하여, 샘플과 시약의 굴절률이 다름에 의해 샘플 윤곽에 발생하는 휘선;베케선을 육안으로 관찰할 수 없게 되는 시약의 굴절률을 샘플의 굴절률로 하는 방법)을 사용할 수 있다. 광투과성 기재(12) 및 굴절률 조정층(13)에 대해서는, 방향에 의해 굴절률이 다르므로, 베케법이 아니라, 적층 기재(11)의 처리면에 상기 흑색 비닐 테이프를 붙임으로써 평균 반사율을 측정하여 구한다.As a method of measuring the refractive index of the functional layer 15 after the laminate 10 has been formed, a cured film of each layer is scraped off with a cutter or the like to produce a sample in a powder state, and the sample is pulverized in accordance with JIS K7142 (For the transparent material of the granular phase), a sample of the powder state is placed on a slide glass, etc., and the reagent is dropped on the sample, and the sample is immersed in the reagent. A method of observing by a microscope observation, a method of making the refractive index of the sample to be a refractive index of the sample, and a method of making the refractive index of the reagent which makes it impossible to observe the naked eye be the refractive index of the sample) can be used. Since the refractive indexes of the light-transmitting substrate 12 and the refractive index adjusting layer 13 are different depending on the direction, the average reflectance is measured by attaching the black vinyl tape to the treated surface of the laminated substrate 11 instead of the Becke method I ask.

<광투과성 기재><Light-transmitting substrate>

이어서, 적층 기재(11)의 광투과성 기재(12)에 대해서 상세히 설명한다. 광투과성 기재(12)는 적어도 면 내 위상차를 갖는 가시광 투과성을 갖는 기재이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 광투과성 기재(12)로서, 폴리카보네이트, 시클로올레핀 중합체, 아크릴, 폴리에스테르 등으로 이루어지는 기재를 들 수 있다. 이 중, 폴리에스테르 기재는, 비용 및 기계적 강도의 면에 있어서 유리하다. 이하의 설명에서는, 폴리에스테르 기재를 예로 들어, 면 내에 복굴절률을 갖는 광투과성 기재(12)를 보다 상세히 설명한다.Next, the light-transmitting base material 12 of the laminated base material 11 will be described in detail. The light-transmitting substrate 12 is not particularly limited as long as it is a substrate having visible light transmittance with at least in-plane retardation. For example, as the light-transmitting substrate 12, a substrate made of polycarbonate, cycloolefin polymer, acrylic, polyester, or the like can be given. Among them, the polyester substrate is advantageous in terms of cost and mechanical strength. In the following description, the light-transparent base material 12 having a birefringent index in a plane is described in more detail, taking a polyester base as an example.

상기 폴리에스테르 기재를 구성하는 재료로서는, 방향족 이염기산 또는 그의 에스테르 형성성 유도체와 디올 또는 그의 에스테르 형성성 유도체로부터 합성되는 선상 포화 폴리에스테르로 할 수 있다. 이러한 폴리에스테르의 구체예로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리(1,4-시클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트), 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트를 예시할 수 있다. 또한, 폴리에스테르 기재에 사용되는 폴리에스테르는, 이들 상기 폴리에스테르의 공중합체여도 되고, 상기 폴리에스테르를 주체(예를 들어 80몰% 이상의 성분)로 하여, 적은 비율(예를 들어 20몰% 이하)의 다른 종류의 수지와 블렌드한 것이어도 된다. 폴리에스테르로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트가 역학적 물성이나 광학 물성 등의 밸런스가 좋으므로 특히 바람직하다. 특히, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 것이 바람직하다. 폴리에틸렌테레프탈레이트는 범용성이 높아 입수가 용이하기 때문이다. 또한, PET는 투명성, 열 또는 기계적 특성이 우수하여, 연신 가공에 의해 리타데이션의 제어가 가능하고, 고유 복굴절이 커서, 막 두께가 얇아도 비교적 용이하게 큰 리타데이션이 얻어진다.The material constituting the polyester base material may be a linear saturated polyester synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof. As specific examples of such polyesters, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate), and polyethylene-2,6-naphthalate . The polyester used for the polyester substrate may be a copolymer of the above-mentioned polyesters. The polyester may be used as a main component (for example, 80 mol% or more) and a small proportion (for example, 20 mol% ). &Lt; / RTI &gt; As the polyester, polyethylene terephthalate or polyethylene-2,6-naphthalate is particularly preferable because it has good balance of mechanical properties and optical properties. Particularly, it is preferable that it is made of polyethylene terephthalate (PET). Polyethylene terephthalate is highly versatile and easy to obtain. Further, PET is excellent in transparency, heat, or mechanical properties, and can control retardation by stretching and has a large intrinsic birefringence, so that a relatively large retardation can be obtained even if the film thickness is thin.

상기 폴리에스테르 기재를 얻는 방법으로서는, 예를 들어 재료의 상기 PET 등의 폴리에스테르를 용융하여, 시트 형상으로 압출하여 성형된 미연신 폴리에스테르를 유리 전이 온도 이상의 온도에 있어서 텐타 등을 사용해서 가로 연신 후, 열처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 상기 가로 연신 온도로서는, 80 ~ 130℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 90 ~ 120℃이다. 또한, 가로 연신 배율은 2.5 ~ 6.0배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3.0 ~ 5.5배이다. 상기 가로 연신 배율이6.0배를 초과하면, 얻어지는 폴리에스테르 기재의 투명성이 저하되기 쉬워지고, 연신 배율이 2.5배 미만이면, 연신 장력도 작아지기 때문에, 얻어지는 폴리에스테르 기재의 복굴절이 작아져서, 원하는 리타데이션을 얻기 위한 막 두께가 두꺼워져버린다. 또한, 폴리에스테르 기재를 시트 형상으로 압출 성형할 때에 흐름 방향(기계 방향)에의 연신, 즉 세로 방향 연신을 행해도 된다. 이 경우, 상기 굴절률차 △n의 값을 전술한 바람직한 범위로 안정되게 확보하는 관점에서, 상기 세로 연신은, 연신 배율이 2배 이하인 것이 바람직하다. 또한,압출 성형 시에 세로 연신시키는 것 대신에, 상기 미연신 폴리에스테르의 가로 연신을 상기 조건으로 행한 후에, 세로 연신을 행하도록 해도 된다. 또한, 상기 열 처리 시의 처리 온도로서는, 100 ~ 250℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 180 ~ 245℃이다. Examples of the method for obtaining the polyester base material include a method of melting the polyester such as PET as the material and extruding the polyester into a sheet form and stretching the unstretched polyester at a temperature of the glass transition temperature or higher by using a tenter or the like Followed by heat treatment. The transverse stretching temperature is preferably 80 to 130 占 폚, more preferably 90 to 120 占 폚. The transverse stretch ratio is preferably 2.5 to 6.0 times, more preferably 3.0 to 5.5 times. If the transverse stretching magnification exceeds 6.0 times, the transparency of the obtained polyester base tends to be lowered. If the stretching magnification is less than 2.5 times, the stretching tension is also small, and the birefringence of the obtained polyester base becomes small, The film thickness for obtaining the film becomes thick. Further, when the polyester base material is extrusion-molded into a sheet shape, stretching in the flow direction (machine direction), that is, longitudinal stretching may be performed. In this case, from the viewpoint of ensuring the value of the refractive index difference DELTA n stably within the above-mentioned preferable range, it is preferable that the longitudinal stretching is two times or less the stretching magnification. Further, instead of longitudinally stretching at the time of extrusion molding, longitudinal stretching may be performed after transverse stretching of the above-mentioned unstretched polyester under the above-described conditions. The treatment temperature at the time of the heat treatment is preferably 100 to 250 占 폚, more preferably 180 to 245 占 폚.

전술한 방법으로 제작한 폴리에스테르 기재의 리타데이션을 3000㎚ 이상으로 제어하는 방법으로서는, 연신 배율이나 연신 온도, 제작하는 폴리에스테르 기재의 막 두께를 적절히 설정하는 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 연신 배율이 높을수록, 연신 온도가 낮을수록, 또한 막 두께가 두꺼울수록, 높은 리타데이션을 얻기 쉬워지고, 연신 배율이 낮을수록, 연신 온도가 높을수록, 또한 막 두께가 얇을수록, 낮은 리타데이션을 얻기 쉬워진다.As a method of controlling the retardation of the polyester substrate produced by the above-described method to 3000 nm or more, a method of appropriately setting the stretching magnification, the stretching temperature, and the film thickness of the polyester substrate to be produced can be mentioned. Specifically, for example, the higher the stretching ratio, the lower the stretching temperature, and the thicker the film thickness, the easier to obtain higher retardation, the lower the stretch ratio, the higher the stretching temperature, The thinner the film, the easier it is to obtain a low retardation.

상기 폴리에스테르 기재의 두께로서는, 15 ~ 500㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 15㎛ 미만이면 상기 폴리에스테르 기재의 리타데이션을 3000㎚ 이상으로 할 수 없으며, 또한 역학 특성의 이방성이 현저해져서, 찢어짐, 부서짐 등이 발생하기 쉬워져, 공업 재료로서의 실용성이 현저하게 저하되는 경우가 있다. 한편, 500㎛를 초과하면, 폴리에스테르 기재가 매우 강직해서, 고분자 필름 특유의 잘 휘어지는 성질이 저하되어, 역시 공업 재료로서의 실용성이 저하되므로 바람직하지 않다. 상기 폴리에스테르 기재의 두께의 보다 바람직한 하한은 50㎛, 보다 바람직한 상한은 400㎛이며, 또한 보다 바람직한 상한은 300㎛이다.The thickness of the polyester base material is preferably in the range of 15 to 500 mu m. If it is less than 15 mu m, the retardation of the polyester base material can not be made to be not less than 3000 nm, and the anisotropy of the mechanical properties becomes remarkable, and tearing, breakage and the like are likely to occur and the practicality as an industrial material is remarkably lowered have. On the other hand, if it is more than 500 탆, the polyester base is very rigid, and the pliable property unique to the polymer film is deteriorated, and practical utility as an industrial material is lowered. A more preferable lower limit of the thickness of the polyester base material is 50 占 퐉, a more preferable upper limit is 400 占 퐉, and a more preferable upper limit is 300 占 퐉.

또한, 광투과성 기재(12)는, 가시광 영역에서의 투과율이 80% 이상인 것이 바람직하고, 84% 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한,상기 투과율은 JISK7361-1(플라스틱-투명 재료의 전체 광투과율의 시험 방법)에 의해 측정할 수 있다.The transmittance of the light-transmitting base material 12 in the visible light region is preferably 80% or more, more preferably 84% or more. Further, the transmittance can be measured by JIS K7361-1 (test method for total light transmittance of plastic-transparent material).

또한, 광투과성 기재(12)에는 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 비누화 처리, 글로우 방전 처리, 코로나 방전 처리, 자외선(UV) 처리 및 화염 처리 등의 표면 처리를 행해도 된다.The light-transmitting substrate 12 may be subjected to a surface treatment such as a saponification treatment, a glow discharge treatment, a corona discharge treatment, an ultraviolet (UV) treatment and a flame treatment within the range not deviating from the object of the present invention.

<굴절률 조정층><Refractive index adjustment layer>

이어서, 굴절률 조정층(13)에 대해서 상세히 설명한다. 굴절률 조정층(13)은, 전술한 조건 (a) ~ (i)의 하나 이상을 만족함으로써, 광투과성 기재(12)와 기능층(15) 사이에 존재하는 계면의 굴절률차를 저감시키고, 해당 계면에서의 반사를 억제하여 간섭 줄무늬를 눈에 띄지 않게 하고자 하는 것이다. 굴절률 조정층(13)은, 면 내 복굴절성을 갖고 가시광 투과성을 갖는 층이면, 특별히 한정되지 않는다. 또한, 굴절률 조정층(13)은 광투과성 기재(12)와 기능층(15) 사이에서 굴절률을 조절하는 것 이외의 기능을 가져도 된다. 예를 들어, 프라이머층, 보다 구체적인 예로서, 접착 용이층으로서 기능하는 프라이머층에 면 내 굴절률차를 부여함으로써, 해당 프라이머층이 굴절률 조정층(13)을 형성하도록 해도 된다. Next, the refractive index adjustment layer 13 will be described in detail. The refractive index adjustment layer 13 reduces the refractive index difference of the interface between the light-transparent substrate 12 and the functional layer 15 by satisfying at least one of the conditions (a) to (i) Reflection at the interface is suppressed so that the interference fringe is not conspicuous. The refractive index adjustment layer 13 is not particularly limited as long as it has in-plane birefringence and has a visible light transmittance. The refractive index adjustment layer 13 may have a function other than the function of adjusting the refractive index between the light-transparent substrate 12 and the functional layer 15. For example, as a primer layer, more specifically, a primer layer functioning as an adhesion-facilitating layer may be provided with an in-plane refractive index difference so that the primer layer may form the refractive index-adjusting layer 13.

광투과성 기재(12) 위에 형성되는 면 내 복굴절성을 갖는 굴절률 조정층(13)은, 굴절률 이방성을 갖는 분자(예를 들어 액정 분자) 또는 화합물을 배향시켜 이루어지는 층에 의해 형성될 수 있다. 이러한 굴절률 조정층(13)은 굴절률 이방성 분자 또는 굴절률 이방성 화합물을 포함하는 조성물을 광투과성 기재(12) 위에 도포하고, 그 조성물을 경화시킴으로써 얻어진다. 일례로서, 광투과성 기재(12)가 연신 필름 등으로 이루어지고, 규칙성을 갖는 분자 배향을 갖고 있는 경우에는, 그 광투과성 기재(12) 위에 도포된 액정 분자가, 그 성질상, 광투과성 기재(12)의 분자 배향에 대응한 규칙성을 갖고 배향되게 될 수 있다. 이에 의해, 얻어진 굴절률 조정층(13)은 광투과성 기재(12)의 복굴절성에 대응한 면 내 복굴절성을 갖게 되며, 이 굴절률 조정층(13)에 의해 전술한 조건 (a) ~ (i)가 만족될 수 있다. 또한,굴절률 조정층(13) 중에 포함되는 굴절률 이방성 분자나 굴절률 이방성 화합물의 배향을 보다 안정시키는 관점에서는, 광투과성 기재(12)의 배향에만 의존하는 것은 아니고, 러빙 배향이나 광 배향에 의해, 굴절률 조정층(13) 중에 포함되는 굴절률 이방성 분자나 굴절률 이방성 화합물을 적극적으로 배향시키도록 해도 된다. The refractive index adjusting layer 13 having an in-plane birefringence formed on the light-transmitting base material 12 may be formed of a molecule having refractive index anisotropy (for example, liquid crystal molecules) or a layer in which a compound is oriented. This refractive index adjustment layer 13 is obtained by applying a composition comprising anisotropic refractive index molecules or anisotropic compound of refractive index on a light-transmitting substrate 12, and curing the composition. As an example, when the light-transmitting base material 12 is made of a stretched film or the like and has a molecular orientation with regularity, the liquid crystal molecules coated on the light-transmitting base material 12, by their nature, Can be aligned with regularity corresponding to the molecular orientation of the substrate 12. The resultant refractive-index-adjusting layer 13 has in-plane birefringence corresponding to the birefringence of the light-transmitting base material 12, and the conditions (a) to (i) Can be satisfied. Further, from the standpoint of stabilizing the orientation of the refractive index anisotropic molecule and the refractive index anisotropic compound contained in the refractive index adjustment layer 13, it is not dependent only on the orientation of the light-transmitting base material 12, The refractive index anisotropic molecules contained in the adjustment layer 13 and the refractive index anisotropic compound may be positively oriented.

또한, 다른 방법으로서, 수지층을 연신함으로써, 면 내 복굴절성을 갖는 굴절률 조정층(13)을 얻을 수도 있다. 일반적으로, 온도 등의 조건을 조절한 다음, 수지로 이루어지는 층을 연신함으로써, 해당 수지로 이루어지는 층은 면 내 복굴절성을 나타내게 된다. 따라서,연신 전의 광투과성 기재(12) 위에 굴절률 조정층(13)을 제작하고, 광투과성 기재(12) 및 굴절률 조정층(13)을 동시에 연신함으로써, 광투과성 기재(12)에 복굴절성을 부여할 수 있음과 함께, 광투과성 기재(12)의 복굴절성에 대응한 복굴절성을 굴절률 조정층(13)에도 부여할 수 있다. As another method, the refractive index adjusting layer 13 having in-plane birefringence can be obtained by stretching the resin layer. Generally, by adjusting the conditions such as temperature, and then stretching the layer made of the resin, the layer made of the resin exhibits birefringence in the plane. Thus, by forming the refractive index adjusting layer 13 on the light-transmitting base material 12 before stretching and simultaneously stretching the light-transmitting base material 12 and the refractive index adjusting layer 13, the birefringence is imparted to the light- And the birefringence corresponding to the birefringence of the light-transmitting base material 12 can also be imparted to the refractive index adjusting layer 13. [

보다 구체적으로는, 우선 굴절률 조정층(13)을 이루게 되는 조성물을, 전술한 연신 전의 광투과성 기재(12) 상에 도포하고, 해당 조성물을 광투과성 기재(12) 상에서 경화시킴으로써 굴절률 조정층(13)이 얻어진다. 굴절률 조정층(13)을 이루게 되는 재료로서는, 연신에 의해 복굴절성을 나타내는 수지 재료를 넓게 사용할 수 있으며, 또한 광투과성 기재(12)에 대한 친화성이 높은 것이 바람직하다. 열가소성 또는 열경화성의 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 아크릴 수지 및 이들의 변성체 등이 굴절률 조정층(13)을 이루는 수지 재료로서 예시된다. 또한,굴절률 조정층(13)을 이루게 되는 조성물이 도포되는 광투과성 기재(12)는, 전술한 다양한 수지 필름을 사용할 수 있지만, 압출 성형 시에 기계 방향으로 저배율로 연신된 수지 필름인 것이 바람직하다. 기계 방향(광투과성 기재(12)의 압출 성형 시에 있어서의 압출 방향)에의 연신에 의해 광투과성 기재(12)의 평탄성이 확보되기 때문에, 그 광투과성 기재(12) 위에 형성되는 굴절률 조정층(13)을 균일화할 수 있다.More specifically, first, the composition for forming the refractive index adjustment layer 13 is applied on the light-transmitting base material 12 before stretching as described above, and the composition is cured on the light-transmitting base material 12, ) Is obtained. As the material for forming the refractive index adjustment layer 13, a resin material exhibiting birefringence can be widely used by stretching, and it is preferable that the affinity to the light-transmitting base material 12 is high. A thermoplastic or thermosetting polyester resin, a urethane resin, an acrylic resin, a modified material thereof and the like are exemplified as the resin material constituting the refractive index adjustment layer 13. [ Although the above-described various resin films can be used for the light-transmitting base material 12 to which the composition for forming the refractive index adjustment layer 13 is applied, it is preferable that the resin films are stretched at a low magnification in the machine direction during extrusion molding . The flatness of the light transmitting base material 12 is ensured by stretching in the machine direction (the extrusion direction in the extrusion molding of the light transmitting base material 12), so that the refractive index adjusting layer 13) can be made uniform.

그 후, 광투과성 기재(12) 및 광투과성 기재(12) 위에 형성된 굴절률 조정층(13)을 포함하는 적층 기재(11)를 유리 전이점 온도 이상으로 가열한 상태에서, 기계 방향과 직교하는 가로 방향으로 연신한다. 전술한 바와 같이, 가로 방향에의 연신 배율이 세로 방향에의 연신 배율과 비교하여 매우 크게 되어 있는 경우, 광투과성 기재(12)의 연신축은 대강 가로 방향을 향해, 구체예로서 폴리에스테르 테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 광투과성 기재(12)의 지상축은 대강 가로 방향으로 연장한다. 한편, 굴절률 조정층(13)은 가로 방향으로밖에 연신되고 있지 않다. 따라서,굴절률 조정층(13)이 광투과성 기재(12)보다 복굴성이 부여되기 어려운 수지 재료로 형성되어 있었다고 해도, 광투과성 기재(12)의 복굴절성에 대응한 이방성에서의 복굴절성이 어느 정도 부여되게 된다.Thereafter, the laminated substrate 11 including the light-transmitting base material 12 and the refractive index adjusting layer 13 formed on the light-transmitting base material 12 is heated at a temperature not lower than the glass transition point temperature, Direction. As described above, when the stretching magnification in the transverse direction is extremely large as compared with the stretching magnification in the longitudinal direction, the stretching axis of the light-transmitting base material 12 is oriented substantially in the transverse direction and, as a specific example, polyester terephthalate The slow axis of the light-transmitting base material 12 made of a film extends substantially in the transverse direction. On the other hand, the refractive index adjustment layer 13 is stretched only in the transverse direction. Therefore, even when the refractive index adjustment layer 13 is formed of a resin material that is less likely to be given birefringence than the light-transmitting base material 12, the birefringence in the anisotropy corresponding to the birefringence of the light- .

이상의 방법에 따르면, 광투과성 기재(12)에 복굴절성을 부여하기 위한 연신 가공에 의해, 광투과성 기재(12)뿐만 아니라, 굴절률 조정층(13)에도 복굴절성을 부여할 수 있다. 더하여, 광투과성 기재(12)와 굴절률 조정층(13)이 가열된 상태에서 연신되기 때문에, 광투과성 기재(12)와 굴절률 조정층(13)과의 접착성이 향상된다고 하는 이점을 얻을 수 있다.According to the above method, birefringence can be imparted not only to the light-transmitting base material 12 but also to the refractive index adjustment layer 13 by stretching processing for imparting birefringence to the light-transmitting base material 12. [ In addition, since the light transmitting base material 12 and the refractive index adjusting layer 13 are stretched in a heated state, there is an advantage that adhesion between the light transmitting substrate 12 and the refractive index adjusting layer 13 is improved .

굴절률 조정층(13)의 각 굴절률 n2, n2x, n2y, n2a, n2b(도 3 및 도 4 참조)에 대해서는, 이미 설명한 바와 같이 광투과성 기재(12)의 각 굴절률 n1, n1x, n1y 및 기능층(15)의 각 굴절률 n3, n3x, n3y와 관련을 갖고 적절히 설정될 수 있다. 일례로서, 광투과성 기재(12)가 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지고 기능층(15)이 하드코트층으로서 기능하는 경우, 굴절률 조정층(13)의 상기 굴절률 n2를, 1.50 ~ 1.70으로 할 수 있고, 굴절률 조정층(13)의 상기 굴절률 n2x를 1.55 ~ 1.75로 할 수 있고, 굴절률 조정층(13)의 상기 굴절률 n2y를 1.45 ~ 1.65로 할 수 있고, 굴절률 조정층(13)의 상기 굴절률 n2a를 1.51 ~ 1.69로 할 수 있고, 굴절률 조정층(13)의 상기 굴절률 n2b를 1.46 ~ 1.64로 할 수 있다. For each refractive index of the refractive index adjusting layer (13), n 2, n 2x, n 2y, n 2a, n 2b (see Figs. 3 and 4), each of the refractive index of the substrate (12) light-transmissive n as described above 1, n 1x , n 1y and refractive indices n 3 , n 3x , n 3y of the functional layer 15, respectively. As an example, when the light-transmitting substrate 12 is made of a polyethylene terephthalate film and the functional layer 15 functions as a hard coat layer, the refractive index n 2 of the refractive index adjusting layer 13 can be set to 1.50 to 1.70 The refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer 13 can be set to 1.55 to 1.75 and the refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer 13 can be set to 1.45 to 1.65. The refractive index n 2a can be set to 1.51 to 1.69, and the refractive index n 2b of the refractive index adjusting layer 13 can be set to 1.46 to 1.64.

굴절률 조정층(13)의 두께는 30㎚ 이상 10㎛ 이하로 할 수 있다. 굴절률 조정층(13)의 두께가 30㎚ 미만이 되면, 굴절률 조정층(13)의 균일성이 저하되어 버린다. 또한, 굴절률 조정층(13)의 두께의 상한은, 굴절률 조정층(13)의 기능상 특별히 설정되는 것은 아니지만, 공업상의 이유로부터 1㎛ 이하로 설정되는 것이 바람직하다. The refractive index adjusting layer 13 may have a thickness of 30 nm or more and 10 占 퐉 or less. When the thickness of the refractive index adjusting layer 13 is less than 30 nm, the uniformity of the refractive index adjusting layer 13 is lowered. The upper limit of the thickness of the refractive index adjusting layer 13 is not particularly set in view of the function of the refractive index adjusting layer 13, but is preferably set to 1 m or less for industrial reasons.

또한,굴절률 조정층(13)의 두께(경화 시)는, 예를 들어 굴절률 조정층(13)의 단면을 전자 현미경(SEM, TEM, STEM)으로 관찰함으로써 얻어진 임의의 10점의 측정값의 평균값(㎚)으로서 특정될 수 있다. 굴절률 조정층(13)의 두께가 매우 얇은 경우에는, 고배율 관찰한 것을 사진으로서 기록하고, 더 확대함으로써 측정할 수 있다. 확대한 경우, 층 계면 라인이 경계선으로서 명확하게 알 수 있을 정도로 매우 가는 선이었던 것이 굵은 선이 된다. 그 경우는, 굵은 선 폭을 이등분한 중심 부분을 경계선으로서 측정하면 된다. The thickness of the refractive index adjusting layer 13 (at the time of curing) can be measured by measuring the average value of arbitrary ten points obtained by observing the cross section of the refractive index adjusting layer 13 with an electron microscope (SEM, TEM, STEM) (Nm). In the case where the thickness of the refractive index adjustment layer 13 is very thin, measurement can be made by recording a photograph at high magnification and photographing it, and enlarging it further. In the case of enlargement, it is a thick line that the layer interface line was a very thin line so that it can be clearly recognized as a boundary line. In this case, it is sufficient to measure the center line bisecting the thick line width as a boundary line.

<기능층, 제2 기능층><Functional layer, second functional layer>

이어서, 기능층(15) 및 제2 기능층(17)에 대해서 설명한다. 기능층(15) 및 제2 기능층(17)은, 적층체(10)에 있어서, 어떠한 기능을 발휘하는 것이 의도된 층이며, 구체적으로는, 예를 들어 하드코트성, 반사 방지성, 대전 방지성 또는 오염 방지성 등의 기능을 발휘하는 층을 들 수 있다. 이미 설명한 바와 같이, 적층체(10)에 포함되는 기능층의 수는, 해당 적층체의 용도 등에 따라서 1 이상의 임의의 수로 할 수 있다. 도 1에 도시된 적층체(10)에서는, 기능층(15)이 적층 기재(11)의 한쪽 면 위에 형성된 하드코트층으로 구성되어 있다. 또한, 도 2에 도시된 적층체(10)에서는, 기능층(15)이 적층 기재(11)의 한쪽 면 위에 형성된 하드코트층으로 구성됨과 함께, 제2 기능층(17)이 하드코트층의 적층 기재(11)와는 반대측의 면 위에 형성된 저굴절률층으로 구성되어 있다. 이하, 기능층(15)으로서의 하드코트층 및 제2 기능층(17)으로서의 저굴절률층에 대해서 설명한다.Next, the functional layer 15 and the second functional layer 17 will be described. The functional layer 15 and the second functional layer 17 are intended to exhibit a certain function in the layered product 10. Specifically, for example, the functional layer 15 and the second functional layer 17 may have a hard coat property, And a layer exhibiting functions such as antistatic property or antifouling property. As described above, the number of functional layers included in the laminate 10 can be arbitrarily set to one or more according to the use of the laminate. In the laminate 10 shown in Fig. 1, the functional layer 15 is formed of a hard coat layer formed on one side of the laminated substrate 11. [ In the laminate 10 shown in Fig. 2, the functional layer 15 is formed of a hard coat layer formed on one side of the laminated substrate 11, and the second functional layer 17 is formed of a hard coat layer And a low refractive index layer formed on the surface opposite to the laminated substrate 11. Hereinafter, the hard coat layer as the functional layer 15 and the low refractive index layer as the second functional layer 17 will be described.

하드코트층이란, 광학 필름의 내찰상성을 향상시키기 위한 층이며, 구체적으로는, JIS K5600-5-4(1999)로 규정되는 연필 경도 시험(4.9N 하중)에서 「H」이상의 경도를 갖는 층인 것이 바람직하다. 하드코트층은, 일례로서, 자외선 또는 전자선에 의해 경화하는 수지인 전리 방사선 경화형 수지와 광 중합 개시제를 함유하는 하드코트층 형성용 조성물을 적층 기재(11) 위에 도포하고, 적층 기재(11) 위에 하드코트층 형성용 조성물을 경화시킴으로써 제작될 수 있다. 이 방법으로 얻어진 하드코트층은, 광학 등방성으로 되어, 면 내 복굴절성을 갖지 않는다. 따라서,이 하드코트 층으로 이루어지는 기능층(15)의 상기 굴절률 n3, n3x, n3y는 동일값으로 된다. 구체적으로는, 하드코트층으로 이루어지는 기능층(15)의 상기 굴절률 n3, n3x, n3y를 각각 1.45 ~ 1.65로 할 수 있다. 하드코트층의 막 두께(경화 시)는 0.1 ~ 100㎛, 바람직하게는 0.5 ~ 20㎛의 범위이다. 상기 하드코트층의 막 두께는, 단면을 전자 현미경(SEM, TEM, STEM)으로 관찰하여 측정한 값이다.The hard coat layer is a layer for improving the scratch resistance of the optical film, and more specifically, a layer having a hardness of &quot; H &quot; or higher at a pencil hardness test (4.9 N load) specified by JIS K5600-5-4 . The hard coat layer is formed by applying a composition for forming a hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin, which is a resin that is curable by ultraviolet rays or electron beams, and a photopolymerization initiator, on the laminate substrate 11, And then curing the composition for forming a hard coat layer. The hard coat layer obtained by this method is optically isotropic and has no in-plane birefringence. Therefore, the refractive indexes n 3 , n 3x , and n 3y of the functional layer 15 made of the hard coat layer have the same value. Specifically, the refractive indexes n 3 , n 3x and n 3y of the functional layer 15 made of the hard coat layer can be set to 1.45 to 1.65, respectively. The thickness of the hard coat layer (at the time of curing) is in the range of 0.1 to 100 탆, preferably 0.5 to 20 탆. The film thickness of the hard coat layer is a value measured by observing a cross section with an electron microscope (SEM, TEM, STEM).

하드코트층 형성용 조성물의 상기 전리 방사선 경화형 수지로서는, 예를 들어 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 화합물 등의 하나 또는 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 하나의 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 예를 들어 에틸(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 예를 들어 폴리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 헥산디올(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 다관능 화합물, 또는 상기 다관능 화합물과 (메트)아크릴레이트 등의 반응 생성물(예를 들어 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트에스테르) 등을 들 수 있다. 또한,본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴레이트」는, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 가리키는 것이다.Examples of the ionizing radiation curable resin of the composition for forming a hard coat layer include compounds having one or more unsaturated bonds such as compounds having an acrylate functional group. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone. (Meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Polyfunctional compounds such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) Or a reaction product of the polyfunctional compound and (meth) acrylate (for example, a poly (meth) acrylate ester of polyhydric alcohol). In the present specification, "(meth) acrylate" refers to methacrylate and acrylate.

상기 화합물 외에, 불포화 이중 결합을 갖는 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 상기 전리 방사선 경화형 수지로서 사용할 수 있다.A polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, an alkyd resin, a spiroacetal resin, a polybutadiene resin, a polythiol polyene resin and the like having an unsaturated double bond, It can be used as a curable resin.

상기 전리 방사선 경화형 수지는, 용제 건조형 수지(열가소성 수지 등, 도포 시공시에 고형분을 조정하기 위해 첨가한 용제를 건조시키는 것만으로 피막으로 되는 것과 같은 수지)와 병용하여 사용할 수도 있다. 용제 건조형 수지를 병용함으로써, 도포면의 피막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 상기 전리 방사선 경화형 수지와 병용하여 사용할 수 있는 용제 건조형 수지로서는 특별히 한정되지 않고 일반적으로 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 상기 열가소성 수지로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 아세트산 비닐계 수지, 비닐에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지는, 비결정성이고 또한 유기 용매(특히 복수의 중합체나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용매)에 가용인 것이 바람직하다. 특히, 제막성, 투명성이나 내후성의 관점에서, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다.The ionizing radiation curable resin may be used in combination with a solvent-drying resin (a resin such as a thermoplastic resin or the like, which is formed into a film by simply drying a solvent added to adjust the solid content at the time of coating). By using the solvent-drying type resin in combination, it is possible to effectively prevent coating defects on the coated surface. The solvent-drying resin usable in combination with the ionizing radiation curable resin is not particularly limited and a thermoplastic resin can be generally used. The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, a halogen-containing resin, an alicyclic olefin resin, a polycarbonate resin, A resin, a polyamide-based resin, a cellulose derivative, a silicone-based resin, and a rubber or an elastomer. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (in particular, a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers or curable compounds). Particularly, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (such as cellulose esters) and the like are preferable from the viewpoints of film formability, transparency and weather resistance.

또한, 상기 하드코트층 형성용 조성물은, 열경화성 수지를 함유하고 있어도 된다. 상기 열경화성 수지로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노 알키드 수지, 멜라민-요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다.The composition for forming a hard coat layer may contain a thermosetting resin. The thermosetting resin is not particularly limited and examples thereof include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine- Condensation resins, silicon resins, polysiloxane resins, and the like.

상기 광 중합 개시제로서는 특별히 한정되지 않고 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들어 상기 광 중합 개시제로서는, 구체예에는 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥시드류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체예로서는, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다. The photopolymerization initiator is not particularly limited and a known photopolymerization initiator can be used. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, meihylbenzoylbenzoates,? -Amyloxime esters, Acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, acid anhydrides, Further, it is preferable to mix and use a photosensitizer. Specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

상기 광 중합 개시제로서는, 상기 전리 방사선 경화형 수지가 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계인 경우에는, 아세토페논류, 벤조페논류, 티오크산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 전리 방사선 경화형 수지가 양이온 중합성 관능기를 갖는 수지계인 경우에는, 상기 광 중합 개시제로서는, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오도늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 사용하는 것이 바람직하다.As the photopolymerization initiator, when the ionizing radiation curable resin is a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoins, benzoin methyl ethers, etc. are used alone or in combination . When the ionizing radiation curable resin is a resin system having a cationic polymerizable functional group, examples of the photopolymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, benzoin sulfonic acid esters and the like. It is preferably used alone or as a mixture.

상기 하드코트층 형성용 조성물에 있어서의 상기 광 중합 개시제의 함유량은, 상기 전리 방사선 경화형 수지 100 질량부에 대해, 1 ~ 10 질량부인 것이 바람직하다. 1 질량부 미만이면 적층체(10)에 있어서의 하드코트층의 경도를 충분한 경도로 할 수 없는 경우가 있고, 10 질량부를 초과하면, 도설한 막의 심부까지 전리 방사선이 닿지 않게 되어 내부 경화가 촉진되지 않을 우려가 있기 때문이다. 상기 광 중합 개시제의 함유량의 보다 바람직한 하한은 2 질량부이며, 보다 바람직한 상한은 8 질량부이다. 상기 광 중합 개시제의 함유량이 이 범위에 있음으로써, 막 두께 방향으로 경도 분포가 발생하지 않고, 균일한 경도가 되기 쉬워진다.The content of the photopolymerization initiator in the composition for forming a hard coat layer is preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin. If the amount is less than 1 part by mass, hardness of the hard coat layer in the layered product (10) may not be sufficient, and if it exceeds 10 parts by mass, ionization radiation does not reach the core of the film, There is a possibility that it will not be. A more preferable lower limit of the content of the photopolymerization initiator is 2 parts by mass, and a more preferable upper limit is 8 parts by mass. When the content of the photopolymerization initiator is within this range, hardness distribution does not occur in the film thickness direction, and uniform hardness tends to be obtained.

상기 하드코트층 형성용 조성물은 용제를 함유하고 있어도 된다. 상기 용제로서는, 사용하는 수지 성분의 종류 및 용해성에 따라서 선택하여 사용할 수 있고, 예를 들어 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤 알코올 등), 에테르류(디옥산, 테트라히드로푸란, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 등), 지방족 탄화수소류(헥산 등), 지환식 탄화수소류(시클로헥산 등), 방향족 탄화수소류(톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화 탄소류(디클로로메탄, 디클로로에탄 등), 에스테르류(아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등), 물, 알코올류(에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 시클로헥산올 등), 셀로솔브류(메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브 아세테이트류, 술폭시드류(디메틸술폭시드 등), 아미드류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등) 등을 예시할 수 있으며, 이들의 혼합 용매여도 된다.The composition for forming a hard coat layer may contain a solvent. The solvent may be selected depending on the type and solubility of the resin component to be used, and examples thereof include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like), ethers Aliphatic hydrocarbons such as hexane and the like; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated aliphatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and the like; (Such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate), water, alcohols (ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol and the like), cellosolve (methylcellosolve , Ethyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) May be mentioned are, or may be a mixed solvent thereof.

상기 하드코트층 형성용 조성물 중에 있어서의 원료의 함유 비율(고형분)로서는 특별히 한정되지 않지만, 통상은 5 ~ 70 질량%, 특히 25 ~ 60 질량%로 하는 것이 바람직하다.The content (solid content) of the raw material in the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 5 to 70 mass%, particularly preferably 25 to 60 mass%.

상기 하드코트층 형성용 조성물에는, 하드코트층의 경도를 높게 하는 것, 경화 수축을 억제하는 것, 굴절률을 제어하는 것, 방현성을 부여하는 것 등의 목적에 따라, 종래 공지의 분산제, 계면 활성제, 대전 방지제, 실란 커플링제, 증점제, 착색 방지제, 착색제(안료, 염료), 소포제, 레벨링제, 난연제, 자외선 흡수제, 접착 부여제, 중합 금지제, 산화 방지제, 표면 개질제, 윤활제 등이 첨가되어 있어도 된다.The composition for forming a hard coat layer may contain a conventionally known dispersant, an antioxidant, an antioxidant, an antioxidant, an antioxidant, an antioxidant, An antistatic agent, a silane coupling agent, a thickening agent, a coloring preventing agent, a colorant (pigment, a dye), a defoaming agent, a leveling agent, a flame retardant, an ultraviolet absorber, an adhesive agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a surface modifier, .

또한, 상기 하드코트층 형성용 조성물은 광증감제를 혼합하여 사용해도 되고, 그 구체예로서는, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.The composition for forming the hard coat layer may be used by mixing a photosensitizer. Specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, and poly-n-butylphosphine.

상기 하드코트층 형성용 조성물의 제조 방법으로서는 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 페인트 셰이커, 비즈밀, 니이더, 믹서 등의 공지의 장치를 사용해서 행할 수 있다.The method for producing the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited as long as the respective components can be uniformly mixed and can be carried out by using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, a mixer or the like.

또한, 상기 하드코트층 형성용 조성물을 적층 기재(11) 위에 도포하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 스핀 코트법, 침지법, 스프레이법, 다이코트법, 바코트법, 롤코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 피드 코터법 등의 공지의 방법을 들 수 있다.The method for applying the composition for forming a hard coat layer on the laminated substrate 11 is not particularly limited and examples thereof include a spin coating method, a dipping method, a spraying method, a die coating method, a bar coating method, a roll coater method, Known methods such as a varnish coating method, a varnish coating method, a flexographic printing method, a screen printing method and a feed coater method.

상기 적층 기재(11) 위에 상기 하드코트층 형성용 조성물을 도포하여 형성한 도막은, 필요에 따라 가열 및/또는 건조시키고, 활성 에너지선 조사 등에 의해 경화시키는 것이 바람직하다.The coating film formed by applying the composition for forming a hard coat layer on the laminated base material 11 is preferably heated and / or dried and cured by irradiation with active energy rays or the like, if necessary.

상기 활성 에너지선 조사로서는, 자외선 또는 전자선에 의한 조사를 들 수 있다. 상기 자외선원의 구체예로서는, 예를 들어 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크등, 블랙 라이트 형광등, 메탈 할라이드 램프등 등의 광원을 들 수 있다. 또한, 자외선의 파장으로서는, 190 ~ 380㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다. 전자선원의 구체예로서는, 코크로프트월턴형, 반데그라프트형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다.As the active energy ray irradiation, irradiation with ultraviolet rays or electron beams can be mentioned. Specific examples of the ultraviolet ray source include light sources such as ultrahigh pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc lamp, black light fluorescent lamp, metal halide lamp and the like. As the wavelength of ultraviolet rays, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various types of electron beam accelerators such as a Cocross Walton type, a Bandegraft type, a resonant transformer type, an insulating core transformer type, or a linear type, a dinamic type, and a high frequency type.

이어서 저굴절률층은, 외부로부터의 광(예를 들어 형광등, 자연광 등)이 적층체(10)의 표면에서 반사할 때, 그 반사율을 낮게 한다고 하는 역할을 하는 층이다. 상기 저굴절률층은, 그의 굴절률이 하드코트층보다 작고, 또한 공기보다 큰 것이다. 구체적으로는, 저굴절률층의 굴절률은, 1.1 ~ 2.0의 범위 내인 것이 바람직하고, 1.2 ~ 1.8의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 1.3 ~ 1.6의 범위 내인 것이 더 바람직하다. 저굴절률층의 굴절률이 상기 범위 내인 경우, 적층체(10)에의 투영을 효과적 방지할 수 있다. 또한, 저굴절률층의 굴절률은, 저굴절률층 내에서, 적층체(10)의 내부 측으로부터, 적층체(10)의 표면 측을 향해, 완만하게 굴절률이 공기의 굴절률을 향해 변화하고 있는 것이어도 된다. The low refractive index layer is a layer which functions to lower the reflectance when light (for example, fluorescent light, natural light or the like) from the outside is reflected on the surface of the layered body 10. The low refractive index layer has a refractive index smaller than that of the hard coat layer and larger than air. Specifically, the refractive index of the low refractive index layer is preferably within a range of 1.1 to 2.0, more preferably within a range of 1.2 to 1.8, and still more preferably within a range of 1.3 to 1.6. When the refractive index of the low refractive index layer is within the above range, projection onto the laminate 10 can be effectively prevented. The refractive index of the low refractive index layer may be such that the refractive index gradually changes toward the refractive index of air from the inner side of the laminate 10 toward the surface side of the laminate 10 in the low refractive index layer do.

상기 저굴절률층에 사용되는 재료로서는, 전술한 굴절률을 갖는 저굴절률층을 형성할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 전술한 하드코트층 형성용 조성물에서 설명한 수지 재료를 함유하는 것이 바람직하다. 또한 상기 저굴절률층은, 상기 수지 재료에 더하여, 실리콘 함유 공중합체, 불소 함유 공중합체 및 미립자를 함유함으로써 굴절률을 조정할 수 있다. 상기 실리콘 함유 공중합체로서는, 예를 들어 실리콘 함유 비닐리덴 공중합체를 들 수 있다. 또한, 상기 불소 함유 공중합체의 구체예로서는, 예를 들어 불화비닐리덴과 헥사플루오로프로필렌을 함유하는 단량체 조성물을 공중합함으로써 얻어지는 공중합체를 들 수 있다. 또한, 상기 미립자로서는, 예를 들어 실리카 미립자, 아크릴 미립자, 스티렌 미립자, 아크릴 스티렌 공중합 미립자, 공극을 갖는 미립자를 들 수 있다. 또한,「공극을 갖는 미립자」란, 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및/또는 기체를 포함하는 다공질 구조체를 형성하고, 미립자 본래의 굴절률에 비해 미립자 중 기체의 점유율에 반비례하여 굴절률이 저하되는 미립자를 의미한다.The material used for the low refractive index layer is not particularly limited as long as it can form the low refractive index layer having the above-mentioned refractive index, and for example, it is preferable to contain the resin material described in the above-mentioned composition for hard coat layer formation . The refractive index of the low refractive index layer can be adjusted by containing a silicon-containing copolymer, a fluorine-containing copolymer and fine particles in addition to the resin material. As the silicon-containing copolymer, for example, a silicon-containing vinylidene copolymer can be cited. Specific examples of the fluorine-containing copolymer include copolymers obtained by copolymerizing a monomer composition containing vinylidene fluoride and hexafluoropropylene, for example. Examples of the fine particles include fine particles of silica fine particles, acrylic fine particles, styrene fine particles, acryl styrene copolymer fine particles, and voids. The term &quot; fine particles having voids &quot; means a structure in which a gas is filled in the fine particles and / or a porous structure containing gas is formed, and the refractive index is lowered in inverse proportion to the occupancy rate of the gas in the fine particles Means fine particles.

또한,여기에서는 기능층(15)이 하드코트층으로서 구성되며, 제2 기능층(17)이 저굴절률층으로서 구성된 예를 나타냈지만, 이들 예에 한정되지 않고, 적층체(10)가 하드코트층 및 저굴절률층 중 적어도 한쪽에 더하거나 혹은 하드코트층 및 저굴절률층 중 적어도 한쪽 대신에, 대전 방지층, 방현층, 오염 방지층 등의 다른 기능을 갖는 층을 포함하도록 해도 된다.In this embodiment, the functional layer 15 is formed as a hard coat layer and the second functional layer 17 is formed as a low refractive index layer. However, the present invention is not limited to these examples, Layer or the low refractive index layer, or a layer having another function such as an antistatic layer, antiglare layer, antifouling layer or the like may be included in place of at least one of the hard coat layer and the low refractive index layer.

대전 방지층은, 예를 들어 상기 하드코트층 형성용 조성물 중에 대전 방지제를 함유시킴으로써 형성할 수 있다. 상기 대전 방지제로서는 종래 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들어 제4급 암모늄염 등의 양이온성 대전 방지제나, 주석 도프 산화인듐(ITO) 등의 미립자나, 도전성 중합체 등을 사용할 수 있다. 상기 대전 방지제를 사용하는 경우, 그의 함유량은 전체 고형분의 합계 질량에 대해 1 ~ 30 질량%인 것이 바람직하다.The antistatic layer can be formed, for example, by containing an antistatic agent in the composition for forming a hard coat layer. As the antistatic agent, conventionally known antistatic agents can be used. For example, cationic antistatic agents such as quaternary ammonium salts, fine particles such as tin-doped indium oxide (ITO), and conductive polymers can be used. When the above-mentioned antistatic agent is used, its content is preferably 1 to 30% by mass based on the total mass of the total solid content.

또한, 방현층은, 예를 들어 상기 하드코트층 형성용 조성물 중에 방현제를 함유시킴으로써 형성할 수 있다. 상기 방현제로서는 특별히 한정되지 않고 공지의 무기계 또는 유기계의 각종 미립자를 사용할 수 있다. 상기 미립자의 평균 입경으로서는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 0.01 ~ 20㎛ 정도로 하면 된다. 또한, 상기 미립자의 형상은, 진구 형상, 타원 형상 등 중 어느 하나여도 되고, 바람직하게는 진구 형상의 것을 들 수 있다.Further, the antiglare layer can be formed, for example, by incorporating a blending agent into the composition for forming a hard coat layer. The antiglare agent is not particularly limited and various known inorganic or organic fine particles may be used. The average particle diameter of the fine particles is not particularly limited, but it is generally about 0.01 to 20 占 퐉. Further, the shape of the fine particles may be any one of a sphere shape and an ellipse shape, and preferably a sphere shape.

상기 미립자는 방현성을 발휘하는 것이며, 바람직하게는 투명성의 미립자이다. 이러한 미립자의 구체예로서는, 무기계이면, 예를 들어 실리카 비즈, 유기계이면, 예를 들어 플라스틱 비즈를 들 수 있다. 상기 플라스틱 비즈의 구체예로서는, 예를 들어 스티렌 비즈(굴절률 1.60), 멜라민 비즈(굴절률 1.57), 아크릴 비즈(굴절률 1.49), 아크릴스티렌비즈(굴절률 1.54), 폴리카보네이트 비즈, 폴리에틸렌 비즈 등을 들 수 있다.The above-mentioned fine particles exhibit flicker resistance, and are preferably transparent fine particles. Specific examples of such fine particles include inorganic beads, for example, silica beads, and organic beads, for example, plastic beads. Specific examples of the plastic beads include styrene beads (refractive index 1.60), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic styrene beads (refractive index 1.54), polycarbonate beads and polyethylene beads .

상기 오염 방지층은, 액정 표시 장치의 최표면에 오염물(지문, 수성 또는 유성의 잉크류, 연필 등)이 부착되기 어렵거나, 또는 부착된 경우에도 용이하게 닦아낼 수 있다고 하는 역할을 담당하는 층이다. 또한, 상기 오염 방지층의 형성에 의해, 액정 표시 장치에 대해 오염 방지성과 내찰상성의 개선을 도모하는 것도 가능하게 된다. 상기 오염 방지층은, 예를 들어 오염 방지제 및 수지를 포함하는 조성물에 의해 형성할 수 있다.The anti-fouling layer is a layer that plays a role of being able to easily wipe out contaminants (fingerprints, water-based or oil-based inks, pencils, etc.) on the outermost surface of the liquid crystal display device . Further, by the formation of the antifouling layer, it is possible to improve the antifouling property and scratch resistance of the liquid crystal display device. The antifouling layer may be formed of, for example, a composition comprising a antifouling agent and a resin.

상기 오염 방지제는, 액정 표시 장치의 최표면의 오염 방지를 주된 목적으로 하는 것이며, 액정 표시 장치에 내찰상성을 부여할 수 있다. 상기 오염 방지제로서는, 예를 들어 불소계 화합물, 규소계 화합물, 또는 이들의 혼합 화합물을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 2-퍼플루오로옥틸에틸트리아미노실란 등의 플루오로알킬기를 갖는 실란 커플링제 등을 들 수 있으며, 특히 아미노기를 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 전술한 하드코트층 형성용 조성물에서 예시한 수지 재료를 들 수 있다.The antifouling agent is mainly intended to prevent contamination of the outermost surface of the liquid crystal display device, and can impart scratch resistance to the liquid crystal display device. Examples of the antifouling agent include a fluorine-based compound, a silicon-based compound, and a mixed compound thereof. More specifically, a silane coupling agent having a fluoroalkyl group such as 2-perfluorooctylethyltriaminosilane and the like can be given, and those having an amino group can be preferably used. The resin is not particularly limited, and resin materials exemplified in the above-mentioned composition for forming a hard coat layer can be mentioned.

상기 오염 방지층은, 예를 들어 전술한 하드코트층 위에 형성할 수 있다. 특히, 오염 방지층이 최표면이 되도록 형성하는 것이 바람직하다. 상기 오염 방지층은, 예를 들어 하드코트층 자신에게 오염 방지 성능을 부여함으로써 대체할 수도 있다.The antifouling layer can be formed, for example, on the hard coat layer described above. Particularly, it is preferable to form the antifouling layer so as to be the outermost surface. The antifouling layer may be replaced, for example, by imparting antifouling performance to the hard coat layer itself.

<적층 기재 및 적층체에 대해서> &Lt; About laminated base material and laminate >

일 실시 형태로서 이상에서 설명한 적층 기재(11) 및 적층체(10)에 의하면, 적층 기재(11) 위에 설치된 기능층(15)과 적층 기재(11)의 광투과성 기재(12) 사이에, 굴절률 조정층(13)이 설치되어 있다. 이 굴절률 조정층(13)의 굴절률은, 면 내 복굴절성을 갖고 있으며, 마찬가지로 면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx 및 진상축 방향 dy의 양 방향을 따른 굴절률을, 광투과성 기재(12)와 기능층(15) 사이에서 조정하고 있다. 보다 구체적으로는, 광투과성 기재(12)와 기능층(15) 사이에, 광투과성 기재(12)의 지상축 방향 dx에 있어서의 굴절률이 크게 변화하는 광학 계면이 존재하지 않고, 또한 광투과성 기재(12)의 진상축 방향 dy에 있어서의 굴절률이 크게 변화하는 광학 계면도 존재하지 않게 되어 있다. 즉, 광투과성 기재(12)와 기능층(15) 사이에, 굴절률차가 크기 때문에 반사율이 높아져버리는 계면이 존재하지 않게 된다. 따라서,기능층(15) 측으로부터 적층체(10) 내에 입사한 광이, 면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재(12)에 도달할 때까지 반사해 버리는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 이에 의해, 적층체(10)의 표면에서 반사하는 광과 적층체(10)의 내부에서 반사하는 광의 간섭에 기인하여 시인될 수 있게 되는 간섭 줄무늬를 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.According to the laminated base material 11 and the laminated body 10 described above as an embodiment, the functional layer 15 provided on the laminated base material 11 and the light-transparent base material 12 of the laminated base material 11 are provided with a refractive index An adjustment layer 13 is provided. The refractive index of the refractive index adjustment layer 13 has an in-plane birefringence and similarly has a refractive index along both the slow axis direction dx and the fast axis direction dy of the light-transmitting base material 12 having in-plane birefringence, And is adjusted between the light-transmitting substrate 12 and the functional layer 15. [ More specifically, there is no optical interface between the light-transmitting substrate 12 and the functional layer 15, in which the refractive index in the slow axis direction dx of the light-transmitting substrate 12 greatly changes, There is no optical interface in which the refractive index in the fast axis direction dy of the light source 12 greatly changes. In other words, there is no interface between the light-transparent substrate 12 and the functional layer 15, the reflectivity of which becomes high due to the large refractive index difference. Therefore, it is possible to effectively prevent the light incident into the laminate 10 from the functional layer 15 side from being reflected until reaching the light-transmitting base material 12 having in-plane birefringence. This makes it possible to effectively obscure the interference fringes that can be visually recognized due to the interference between the light reflected from the surface of the layered product 10 and the light reflected inside the layered product 10.

또한, 광투과성 기재(12)의 리타데이션을 3000㎚ 이상으로 설정함으로써, 무지개 불균일을 눈에 띄지 않게 할 수 있다. 따라서,여기에서 설명한 적층 기재(11) 및 적층체(10)에 의하면, 무지개 불균일 및 간섭 줄무늬 양쪽을 효과적으로 눈에 띄지 않게 할 수 있다.Further, by setting the retardation of the light-transmitting base material 12 to 3000 nm or more, irregularity of iridescence can be made inconspicuous. Therefore, with the laminate substrate 11 and the laminate 10 described herein, both the irregularity of the irregularity and the interference fringe can be effectively rendered invisible.

또한, 굴절률 조정층(13)이 프라이머층에 의해 실현되도록 하면, 실질적인 재료비의 증가나 제조 공정의 증가 등을 발생시키지 않고, 전술한 유용한 작용 효과를 확보할 수 있다. 단 이러한 예에 한정되지 않고, 광투과성 기재(12)와 굴절률 조정층(13) 사이 및 굴절률 조정층(13)과 기능층(15) 사이 중 적어도 한쪽에, 두께가 30㎚ 미만인 프라이머층을 굴절률 조정층(13)과는 별도로 설치하도록 해도 된다. 두께가 30㎚ 미만인 프라이머층을 설치한 경우에도, 전술한 굴절률 조정층(13)에 의한 간섭 줄무늬를 눈에 띄지 않게 하는 작용 효과가 유효하게 발휘되고, 또한 예를 들어 프라이머층에 기인한 접착 용이 작용을 기대할 수 있다.In addition, when the refractive index adjusting layer 13 is realized by the primer layer, the above-described useful working effects can be ensured without causing substantial increase in the material cost and increase in the manufacturing process. A primer layer having a thickness of less than 30 nm is formed on at least one of the space between the light-transmitting base material 12 and the refractive index adjusting layer 13 and between the refractive index adjusting layer 13 and the functional layer 15 to have a refractive index It may be provided separately from the adjustment layer 13. [ Even when a primer layer having a thickness of less than 30 nm is provided, the effect of making the interference fringe pattern of the refractive index adjusting layer 13 described above not to be conspicuous is effectively exhibited, and also, for example, Action can be expected.

《편광판》 &Quot; Polarizer &quot;

적층 기재(11) 및 적층체(10)는 예를 들어 편광판(20)에 내장하여 사용할 수 있다. 도 5는 도 1에 도시된 적층체(10) 및 적층 기재(11)를 내장한 편광판(20)의 개략 구성도이다. 도 5에 도시된 바와 같이 편광판(20)은 적층체(10)와, 편광 소자(21)와, 보호 필름(22)을 구비하고 있다. 편광 소자(21)는 적층 기재(11)에 있어서의 기능층(15)이 형성되어 있는 면과는 반대측의 면에 형성되어 있다. 보호 필름(22)은, 편광 소자(21)의 적층체(10)가 설치되어 있는 면과는 반대측의 면에 설치되어 있다. 보호 필름(22)은 위상차 필름이어도 된다. The laminated substrate 11 and the laminated body 10 can be used, for example, in the polarizing plate 20. Fig. 5 is a schematic configuration diagram of the laminate 10 shown in Fig. 1 and the polarizing plate 20 incorporating the laminated substrate 11. Fig. As shown in FIG. 5, the polarizing plate 20 includes a laminate 10, a polarizing element 21, and a protective film 22. The polarizing element 21 is formed on the surface of the laminated substrate 11 opposite to the surface on which the functional layer 15 is formed. The protective film 22 is provided on the surface of the polarizing element 21 opposite to the surface on which the laminated body 10 is provided. The protective film 22 may be a retardation film.

편광 소자(21)로서는, 예를 들어 요오드 등에 의해 염색하고, 연신한 폴리비닐알코올 필름, 폴리비닐포르말필름, 폴리비닐아세탈 필름, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체계 비누화 필름 등을 들 수 있다. Examples of the polarizing element 21 include a stretched polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film and an ethylene-vinyl acetate copolymerization system saponified film dyed with iodine or the like.

《액정 표시 패널》 &Quot; Liquid crystal display panel &quot;

적층 기재(11), 적층체(10) 및 편광판(20)은, 액정 표시 패널에 내장하여 사용할 수 있다. 도 6은 도 1에 도시된 적층체(10) 및 적층 기재(11), 및 도 5에 도시된 편광판(20)을 내장한 액정 표시 패널(30)의 개략 구성도이다.The laminated substrate 11, the layered product 10 and the polarizing plate 20 can be incorporated in a liquid crystal display panel. 6 is a schematic configuration diagram of the laminated body 10 and the laminated substrate 11 shown in Fig. 1 and the liquid crystal display panel 30 incorporating the polarizing plate 20 shown in Fig.

도 6에 도시하는 액정 표시 패널은, 광원측(백라이트 유닛측)으로부터 관찰자측을 향해서, 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름) 등의 보호 필름(31), 편광 소자(32), 위상차 필름(33), 접착제층(34), 액정셀(35), 접착제층(36), 위상차 필름(37), 편광 소자(21), 적층체(10)의 순으로 적층된 구조를 갖고 있다. 액정 셀(35)은 2매의 유리 기재 사이에, 액정층, 배향막, 전극층, 컬러 필터 등을 배치한 것이다.6 includes a protective film 31 such as a triacetylcellulose film (TAC film), a polarizing element 32, a retardation film 33, and the like, from the light source side (backlight unit side) toward the viewer side. The adhesive layer 34, the liquid crystal cell 35, the adhesive layer 36, the retardation film 37, the polarizing element 21 and the laminate 10 are stacked in this order. The liquid crystal cell 35 is formed by arranging a liquid crystal layer, an orientation film, an electrode layer, a color filter, and the like between two glass substrates.

위상차 필름(33, 37)으로서는, 트리아세틸셀룰로오스 필름이나 시클로올레핀폴리머 필름을 들 수 있다. 위상차 필름(37)은 보호 필름(22)과 동일해도 된다. 접착제층(34, 36)을 구성하는 접착제로서는 감압 접착제(PSA)를 들 수 있다.Examples of the retardation films 33 and 37 include a triacetyl cellulose film and a cycloolefin polymer film. The retardation film 37 may be the same as the protective film 22. As the adhesive constituting the adhesive layers 34 and 36, a pressure-sensitive adhesive (PSA) can be mentioned.

《화상 표시 장치》"Image display device"

적층 기재(11), 적층체(10), 편광판(20), 액정 표시 패널(30)은 화상 표시 장치에 내장하여 사용할 수 있다. 화상 표시 장치로서는, 예를 들어 액정 디스플레이(LCD), 음극선관 표시 장치(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD), 필드 에미션 디스플레이(FED), 터치 패널, 태블릿 PC, 전자 페이퍼 등을 들 수 있다. 도 7은 도 1에 도시된 적층체(10) 및 적층 기재(11), 도 5에 도시된 편광판(20), 및 도 6에 도시된 액정 표시 패널(30)을 내장한 화상 표시 장치(40)의 일례인 액정 디스플레이의 개략 구성도이다.The laminated substrate 11, the laminate 10, the polarizing plate 20, and the liquid crystal display panel 30 can be used in an image display apparatus. Examples of the image display device include a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED) , Electronic paper, and the like. 7 is a sectional view of the laminated body 10 and the laminated substrate 11 shown in Fig. 1, the polarizing plate 20 shown in Fig. 5, and the image display device 40 ), Which is an example of a liquid crystal display.

도 7에 도시하는 화상 표시 장치(40)는 액정 디스플레이이다. 화상 표시 장치(30)는 백라이트 유닛(41)과, 백라이트 유닛(41)보다 관찰자측에 배치된, 적층체(10)를 구비하는 액정 표시 패널(30)로 구성되어 있다. 백라이트 유닛(41)으로서는, 공지의 백라이트 유닛을 사용할 수 있다.The image display device 40 shown in Fig. 7 is a liquid crystal display. The image display device 30 is composed of a backlight unit 41 and a liquid crystal display panel 30 having a laminate 10 disposed on the observer side of the backlight unit 41. As the backlight unit 41, a known backlight unit can be used.

《그 밖의 용도》"Other uses"

또한, 전술한 적층 기재(11) 및 적층체(10)는, 화상 표시 장치(30)의 표시면 위에 직접 배치되는 용도 이외의 용도로서, 터치 패널 센서를 통해 화상 표시 장치(30) 위에 설치되도록 해도 된다. 이 예에 있어서는, 미리 터치 패널 센서 상에 직접 또는 다른 부재를 개재하여 적층 기재(11) 또는 적층체(10)를 배치하여 이루어지는 터치 패널 장치를 준비해 두고, 이 터치 패널 장치를 화상 표시 장치 위에 설치해도 된다. The laminated substrate 11 and the laminated body 10 described above are used for applications other than those directly disposed on the display surface of the image display device 30 so as to be installed on the image display device 30 through the touch panel sensor You can. In this example, a touch panel device in which the laminated substrate 11 or the laminated body 10 is placed on the touch panel sensor directly or through another member is prepared in advance, and this touch panel device is provided on the image display device .

또한, 전술한 적층 기재(11) 및 적층체(10)는 간섭 줄무늬의 발생이 방지되어야 할 다양한 용도로 사용될 수 있다. 예를 들어, 적층 기재(11) 및 적층체(10)가 시계나 미터류 등의 기기의 표시부의 창재로서도 사용될 수 있다. Further, the laminated base material 11 and the laminate 10 described above can be used for various purposes in which generation of interference fringe should be prevented. For example, the laminated substrate 11 and the laminated body 10 can also be used as a window of a display portion of a device such as a watch or meter.

<실시예><Examples>

본 발명을 상세히 설명하기 위해서, 이하에 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이들 기재에 한정되지 않는다. In order to explain the present invention in detail, the present invention will be described with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

이하에 설명하도록 하여, 실시예 1, 2, 및 비교예 1에 따른 적층체를 제작하였다. 제작된 각 적층체에 대해서, 간섭 줄무늬의 발생 및 무지개 불균일의 발생을 조사하였다. A laminate according to Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was produced as described below. The occurrence of interference fringes and the occurrence of irregularity of iridescence were examined for each laminate manufactured.

(실시예 1) (Example 1)

폴리에틸렌테레프탈레이트 재료를 290℃에서 용융하여, 필름 형성 다이를 통해서 시트 형상으로 압출하고, 수냉 냉각한 회전 급냉 드럼 위에 밀착시켜서 냉각하여 미연신 필름을 제작하였다. 이 미연신 필름을 2축 연신 시험 장치(도요세끼 제조)로 120℃에서 1분간 예열한 후, 120℃에서 연신 배율 4.5배로 연신한 후, 그 연신 방향과는 90도의 방향으로 연신 배율 1.5배로 연신을 행하고, n1x=1.70, n1y=1.60, 막 두께 80㎛, 리타데이션=8000㎚인 광투과성 기재를 얻었다.The polyethylene terephthalate material was melted at 290 占 폚, extruded into a sheet form through a film forming die, adhered on a rotating quenching drum cooled by water cooling, and cooled to prepare an unstretched film. The unstretched film was preheated at 120 DEG C for 1 minute by a biaxial stretching tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), stretched at a stretching magnification of 4.5 times at 120 DEG C, stretched at 90 DEG in a stretching direction at a stretching magnification of 1.5 times To obtain a light transmitting substrate having n 1x = 1.70, n 1y = 1.60, film thickness 80 μm, retardation = 8000 nm.

광투과성 기재 상에 광 중합성 액정 화합물을, 시클로헥사논과 n-프로필알코올의 혼합 용매(용매비 9:1)로 20질량% 용해시켜, 광 중합 개시제 Irg184(치바스페셜티케미컬즈(주))를 고형분에 대해 5% 첨가한 잉크를, 바코터에 의해, 건조 후의 막 두께가 0.5㎛가 되도록 도포 시공하였다. 계속해서, 70℃에서 4분간 가열하여 용제를 건조 제거함과 함께, 그 광 중합성 액정 화합물을 배향시키고, 또한 도포 시공면에 자외선을 조사함으로써, 상기 광 중합성 액정 화합물을 고정화하여, n2x=1.60, n2y=1.55의 굴절률 조정층을 적층하였다.20% by mass of a photopolymerizable liquid crystal compound was dissolved in a mixed solvent of cyclohexanone and n-propyl alcohol (solvent ratio 9: 1) on a light-transmitting substrate to prepare a photopolymerization initiator Irg184 (Ciba Specialty Chemicals) The ink added in an amount of 5% based on the solid content was applied by a bar coater so that the film thickness after drying became 0.5 탆. Then, with heating at 70 ℃ 4 minutes to the solvent and dried removed, and the orientation of the optical polymerizable liquid crystal compound, and by irradiating ultraviolet rays to the surface coated construction, by immobilizing the photo-polymerizable liquid crystal compound, n 2x = 1.60, and n 2y = 1.55.

이어서, 기능층으로서, 광학적으로 등방성인, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)를, MIBK 용매에 30 질량% 용해시켜, 광 중합 개시제 Irg184(치바스페셜티케미컬즈(주))를 고형분에 대해 5% 첨가한 잉크를, 바코터에 의해, 건조 후의 막 두께가 5㎛가 되도록 도포 시공하였다. 계속해서, 70℃에서 2분간 가열하여 용제를 제거하고, 도포 시공면에 자외선을 조사함으로써 고정화하고, n3x=n3y=1.50의 기능층을 적층하여, 실시예 1에 따른 적층체를 얻었다. Subsequently, 30% by mass of optically isotropic pentaerythritol triacrylate (PETA) as a functional layer was dissolved in a MIBK solvent to prepare a photopolymerization initiator Irg184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in an amount of 5% The added ink was applied by a bar coater so that the film thickness after drying was 5 占 퐉. Subsequently, heated for 2 minutes at 70 ℃ to remove the solvent, and by irradiating ultraviolet rays to the coating installation surface and fixed, by laminating a functional layer of n 3x = n 3y = 1.50, to obtain a laminated body according to the first embodiment.

(실시예 2)(Example 2)

폴리에틸렌테레프탈레이트 재료를 290℃에서 용융하여, 필름 형성 다이를 통해서 시트 형상으로 압출하고, 수냉 냉각한 회전 급냉 드럼 위에 밀착시켜서 냉각하여 미연신 필름을 제작하였다. 이 미연신 필름을 2축 연신 시험 장치(도요세끼 제조)로 120℃에서 1분간 예열한 후, 120℃에서 연신 배율 4.5배로 연신한 후, 그 연신 방향과는 90도 방향으로 연신 배율 1.5배로 연신을 행하고, n1x=1.70, n1y=1.60, 막 두께 33㎛, 리타데이션=3300㎚인 광투과성 기재를 얻었다. 얻어진 광투과성 기재 상에, 실시예 1과 동일하게 하여 굴절률 조정층 및 기능층을 형성하여, 실시예 2에 따른 적층체를 얻었다. 즉, 실시예 2에 따른 적층체는, 실시예 1에 따른 적층체와 광투과성 기재의 두께가 다르다. The polyethylene terephthalate material was melted at 290 占 폚, extruded into a sheet form through a film forming die, adhered on a rotating quenching drum cooled by water cooling, and cooled to prepare an unstretched film. This unoriented film was preheated at 120 DEG C for 1 minute by a biaxial stretching tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), stretched at a stretching magnification of 4.5 times at 120 DEG C, stretched at 90 DEG in the stretching direction, To obtain a light transmitting substrate having n 1x = 1.70, n 1y = 1.60, film thickness 33 μm, retardation = 3300 nm. A refractive index adjustment layer and a functional layer were formed on the obtained light-transmitting substrate in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate according to Example 2. That is, the laminate according to the second embodiment differs from the laminate according to the first embodiment in the thickness of the light-transmitting substrate.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1의 굴절률 조정층의 변화에, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트:오산화안티몬=7:3으로 이루어지는 중간층을 사용한 것 이외에는, 실시예 1에 따른 적층체와 마찬가지의 방법으로 비교예 1에 따른 적층체를 제작하였다. 비교예 1에 따른 적층체의 중간층은 광학적으로 등방성이며, n2x=n2y=1.575였다.The laminate according to Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in the laminate according to Example 1 except that the intermediate layer made of pentaerythritol triacrylate: antimony pentoxide = 7: 3 was used in the change of the refractive index adjustment layer of Example 1, Sieve. The intermediate layer of the laminate according to Comparative Example 1 was optically isotropic, and n 2x = n 2y = 1.575.

(참고예 1) (Reference Example 1)

폴리에틸렌테레프탈레이트 재료를 290℃에서 용융하여, 필름 형성 다이를 통해서 시트 형상으로 압출하고, 수냉 냉각한 회전 급냉 드럼 위에 밀착시켜서 냉각하여 미연신 필름을 제작하였다. 이 미연신 필름을 2축 연신 시험 장치(도요세끼 제조)로 120℃에서 1분간 예열한 후, 120℃에서 연신 배율 4.5배로 연신한 후, 그 연신 방향과는 90도 방향으로 연신 배율 1.5배로 연신을 행하고, n1x=1.70, n1y=1.60, 막 두께 28㎛, 리타데이션=2800㎚인 광투과성 기재를 얻었다. 얻어진 광투과성 기재 위에, 실시예 1과 동일하게 하여 굴절률 조정층 및 기능층을 형성하여, 참고예 1에 따른 적층체를 얻었다. 즉, 실시예 2에 따른 적층체는, 실시예 1에 따른 적층체와 광투과성 기재의 두께가 다르다.The polyethylene terephthalate material was melted at 290 占 폚, extruded into a sheet form through a film forming die, adhered on a rotating quenching drum cooled by water cooling, and cooled to prepare an unstretched film. This unoriented film was preheated at 120 DEG C for 1 minute by a biaxial stretching tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), stretched at a stretching magnification of 4.5 times at 120 DEG C, stretched at 90 DEG in the stretching direction, To obtain a light transmitting substrate having n 1x = 1.70, n 1y = 1.60, film thickness of 28 μm, retardation = 2800 nm. On the obtained light-transmitting substrate, a refractive index adjusting layer and a functional layer were formed in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate according to Reference Example 1. [ That is, the laminate according to the second embodiment differs from the laminate according to the first embodiment in the thickness of the light-transmitting substrate.

(광투과 기재의 굴절률과 리타데이션의 측정)(Measurement of Refractive Index and Retardation of Light Transmitting Substrate)

광투과 기재의 굴절률과 리타데이션은 다음과 같이 하여 측정하였다. 우선, 연신 후의 광투과 기재를, 2매의 편광판을 사용해서, 필름의 배향축 방향을 구하고, 배향축 방향에 대해 직교하는 2개의 축의 파장 590㎚에 대한 굴절률(nx, ny)을, 아베 굴절률계(아타고사 제조 NAR-4T)에 의해 구하였다. 여기서, 보다 큰 굴절률을 나타내는 축을 지상축이라 정의한다. 필름 두께 d(㎚)는, 전기 마이크로미터(안리쯔사 제조)를 사용해서 측정하고, 단위를 ㎚로 환산하였다. 굴절률차(n1x-n1y)와, 필름의 두께 d(㎚)의 곱으로부터, 리타데이션을 계산하였다.The refractive index and retardation of the light transmitting substrate were measured as follows. First, the orientation of the orientation axis of the film is determined by using two polarizing plates after the stretching, and the refractive index (nx, ny) with respect to the wavelength 590 nm of two axes orthogonal to the orientation axis direction is calculated by the Abbe refractive index (NAR-4T manufactured by Atagosa Co., Ltd.). Here, an axis indicating a larger refractive index is defined as a slow axis. The film thickness d (nm) was measured using an electric micrometer (manufactured by Anritsu), and the unit was converted into nm. The retardation was calculated from the product of the refractive index difference (n 1x -n 1y ) and the film thickness d (nm).

(굴절률 조정층의 굴절률의 측정) (Measurement of refractive index of refractive index adjusting layer)

굴절률 조정층의 굴절률은 다음과 같이 하여 측정하였다. 실시예 1 및 2에 사용한 광 중합성 액정 화합물의 경우, 광학적으로 등방성인 유리 기판 위에 배향막 재료인 폴리이미드를 도포하여 러빙 처리를 실시한다. 이 기재 위에 광 중합성 액정 화합물을, 시클로헥사논과 n-프로필알코올의 혼합 용매(용매비 9:1)에 20질량% 용해시킨 잉크를, 스핀 코터에 의해, 건조 후의 막 두께가 1um가 되도록 도포하였다. 계속해서, 70℃에서 4분간 가열하여 용제를 건조 제거함과 함께, 그 광 중합성 액정 화합물을 배향시키고, 또한 도포 시공면에 자외선을 조사함으로써, 상기 광 중합성 액정 화합물을 고정화하여 얻은 굴절률 조정층을, 광투과 기재와 마찬가지의 방법으로, 굴절률을 측정하였다.The refractive index of the refractive index adjusting layer was measured as follows. In the case of the photopolymerizable liquid crystal compounds used in Examples 1 and 2, polyimide as an alignment film material is applied on an optically isotropic glass substrate and subjected to rubbing treatment. On this substrate, an ink obtained by dissolving a photopolymerizable liquid crystal compound in a mixed solvent of cyclohexanone and n-propyl alcohol (solvent ratio 9: 1) in an amount of 20% by mass was applied by a spin coater so that the film thickness after drying became 1 μm Respectively. Subsequently, the substrate was heated at 70 占 폚 for 4 minutes to remove the solvent therefrom, to align the photopolymerizable liquid crystal compound, and to irradiate ultraviolet light on the coated surface to immobilize the refractive index adjusting layer Was measured for refractive index by the same method as for the light transmitting base.

(복굴절을 갖는지 여부의 판단) (Judgment as to whether or not it has birefringence)

복굴절을 갖는지 여부는 다음과 같이 하여 판단하였다. 오지게이소꾸기끼제 KOBRA-WR을 사용해서, 측정각 0° 또한 측정 파장 589.3㎚로 설정하여 면 내 위상차를 측정하고, 면 내 위상차가 20㎚ 미만인 것은 복굴절을 갖지 않는다고 판단하고, 20㎚ 이상의 것은 복굴절을 갖는다고 판단하였다.Whether or not birefringence has occurred was judged as follows. The in-plane retardation was measured by setting a measurement angle of 0 DEG and a measurement wavelength of 589.3 nm using a non-conjugated KOBRA-WR. The in-plane retardation of less than 20 nm was judged to have no birefringence, .

(등방성인 재료의 굴절률 측정) (Measurement of refractive index of isotropic material)

등방성인 재료(중간층 및 기능층)의 굴절률은 아베 굴절률계(아타고사 제조 NAR-4T)에 의해 측정하였다.The refractive index of an isotropic material (intermediate layer and functional layer) was measured by an Abbe's refractometer (NAR-4T manufactured by Atago).

(간섭 줄무늬 평가) (Evaluation of interference stripes)

각 적층체에 있어서의 간섭 줄무늬의 발생을 다음과 같이 하여 평가하였다. 후나테크사 제조의 간섭 줄무늬 검사 램프(Na 램프)를 사용해서, 육안으로, 얻어진 방현성 필름의 간섭 줄무늬의 유무를 검사하여, 하기 기준으로 평가하였다. 얻어진 방현성 필름은, 도포 시공면의 반대측을 흑색 잉크로 전부 칠하고, 도포 시공면에 간섭 줄무늬 검사 램프를 비추어서, 반사 관찰로 평가를 행하였다.The occurrence of interference fringes in each laminate was evaluated as follows. The interference fringe pattern of the obtained anti-glare film was visually inspected using an interference fringe inspection lamp (Na lamp) manufactured by Funatech Co., and evaluated by the following criteria. The obtained antiglare film was evaluated by reflection observation, in which the opposite side of the coated surface was painted with black ink and an interference fringe inspection lamp was irradiated onto the coated surface.

○:간섭 줄무늬가 관찰되지만, 매우 얇아, 실사용 상 문제없는 수준.○: Interference streaks are observed, but they are very thin, and there is no problem in practical use.

×:간섭 줄무늬가 확실하게 관찰된다.X: interference fringes are reliably observed.

(무지개 불균일 평가)(Rainbow Unevenness Evaluation)

각 샘플에 있어서의 무지개 불균일의 발생을 다음과 같이 하여 평가하였다. 각 적층 기재를, LED 백라이트 액정 모니터(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan사 제조))의 관찰자측의 편광 소자 상에 배치하여, 액정 표시 장치를 제작하였다. 또한,폴리에스테르 기재의 지상축과 액정 모니터의 관찰자측의 편광 소자의 흡수축의 이루는 각도가 45°가 되도록 배치하였다. 그리고, 암소 및 명소(액정 모니터 주변 조도 400럭스)로, 정면 및 경사 방향(약 50도)으로부터 육안 및 편광 선글라스 너머로 표시 화상의 관찰을 행하여, 무지개 불균일의 유무를 이하의 기준에 따라 평가하였다. 편광 선글라스 너머의 관찰은, 육안보다 매우 엄격한 평가법이다. 관찰은 10인이 행하여, 최다수의 평가를 관찰 결과로 하고 있다.The occurrence of rainbow unevenness in each sample was evaluated as follows. Each laminated substrate was placed on a polarizing element on the observer side of an LED backlit liquid crystal monitor (FLATORON IPS226V (LG Electronics Japan)) to produce a liquid crystal display device. Further, the angle formed by the slow axis of the polyester base material and the absorption axis of the polarizing element on the observer side of the liquid crystal monitor was 45 degrees. Then, the display image was observed with naked eyes and polarized sunglasses from front and oblique directions (about 50 degrees) with a cow and a spot (400 lux at the periphery of the liquid crystal monitor), and the presence or absence of irregularity of iridescence was evaluated according to the following criteria. Observations beyond polarized sunglasses are much more rigorous than the naked eye. Observation was performed by 10 people, and the maximum number of evaluations were observed.

◎:무지개 불균일이 관측되지 않는다.◎: Irregular irregularities are not observed.

○:무지개 불균일이 관측되지만, 실사용 상 문제없는 수준.○: Rainbow irregularities are observed, but there is no problem in actual use.

×:무지개 불균일이 강하게 관측된다. X: Rainbow unevenness is strongly observed.

간섭 줄무늬 및 무지개 불균일의 평가 결과를 표 1에 나타낸다. Table 1 shows the evaluation results of the interference stripes and the irregularity of iridescence.

Figure 112013042321123-pat00019
Figure 112013042321123-pat00019

Claims (16)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 적층 기재와,
상기 적층 기재의 한쪽 면 위에 형성된 기능층을 구비하고,
상기 적층 기재는,
면 내 복굴절성을 갖는 광투과성 기재와,
상기 광투과성 기재와 적층되어 면 내 복굴절성을 갖는 굴절률 조정층으로서, 상기 광투과성 기재와 상기 기능층 사이에 위치하게 되는 굴절률 조정층을 구비하고,
상기 광투과성 기재의 면 내에 있어서의 가장 굴절률이 큰 방향인 지상축 방향에 있어서의 굴절률 n1x, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행해지는 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3x
Figure 112018120120515-pat00046

인 관계를 만족하고,
상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향에 직교하는 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n1y, 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2y 및 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행해지는 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3y
Figure 112018120120515-pat00047

인 관계를 만족하고,
상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향에 있어서의 상기 굴절률 n1x, 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2x 및 상기 광투과성 기재의 상기 지상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3x
Figure 112018120120515-pat00048

인 관계를 만족하고,
상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향에 있어서의 굴절률 n1y, 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 굴절률 조정층의 굴절률 n2y 및 상기 광투과성 기재의 상기 진상축 방향과 평행한 방향에 있어서의 상기 기능층의 굴절률 n3y
Figure 112018120120515-pat00049

인 관계를 만족하는 적층체.
A laminated substrate,
And a functional layer formed on one side of the laminated substrate,
In the laminated substrate,
A light-transmitting substrate having in-plane birefringence,
And a refractive index adjustment layer laminated with the light-transmitting base material and having in-plane birefringence, the refractive index adjustment layer being positioned between the light-transparent base and the functional layer,
The refractive index n 1x of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the slow axis direction of the light transmitting base material and the refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer in the direction of the slow axis, The refractive index n 3x of the functional layer in a direction parallel to the slow axis direction of the light-transmitting substrate is
Figure 112018120120515-pat00046

Lt; RTI ID = 0.0 &gt;
A refractive index n 1y in the direction of the fast axis perpendicular to the slow axis direction of the light-transmitting substrate, a refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the fast axis direction of the light- The refractive index n3y of the functional layer in the direction parallel to the fast axis direction of the substrate is
Figure 112018120120515-pat00047

Lt; RTI ID = 0.0 &gt;
The refractive index n 1x of the refractive index adjusting layer in a direction parallel to the slow axis direction of the light-transmitting substrate, and the refractive index n 2x of the refractive index adjusting layer of the light- The refractive index n 3x of the functional layer in the direction parallel to the direction
Figure 112018120120515-pat00048

Lt; RTI ID = 0.0 &gt;
The refractive index n 1y of the light-transmitting substrate in the fast axis direction, the refractive index n 2y of the refractive index adjusting layer in the direction parallel to the fast axis direction of the light-transmitting substrate, and the refractive index n 2y of the light- The refractive index n 3y of the functional layer in a direction parallel to
Figure 112018120120515-pat00049

Lt; / RTI &gt;
제7항에 있어서,
상기 적층 기재가 3000㎚ 이상의 리타데이션을 갖는 적층체.
8. The method of claim 7,
Wherein the laminated substrate has retardation of 3000 nm or more.
제7항에 있어서,
상기 광투과성 기재가 3000㎚ 이상의 리타데이션을 갖는 적층체.
8. The method of claim 7,
Wherein the light-transmitting substrate has retardation of 3000 nm or more.
삭제delete 제7항에 있어서,
상기 기능층은 하드코트층인 적층체.
8. The method of claim 7,
Wherein the functional layer is a hard coat layer.
제7항에 있어서,
상기 기능층의 상기 적층 기재측과는 반대측에 설치된 제2 기능층을 더 구비하는 적층체.
8. The method of claim 7,
And a second functional layer provided on the side of the functional layer opposite to the side of the laminated substrate.
제12항에 있어서,
상기 제2 기능층이 상기 기능층보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층인 적층체.
13. The method of claim 12,
And the second functional layer is a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the functional layer.
편광 소자와,
제7항에 기재된 적층체를 구비하는 편광판.
A polarizing element,
A polarizer comprising the laminate according to claim 7.
제14항에 기재된 편광판을 구비하는 액정 표시 패널.A liquid crystal display panel comprising the polarizing plate according to claim 14. 제14항에 기재된 편광판을 구비하는 화상 표시 장치.An image display apparatus comprising the polarizing plate according to claim 14.
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