JP2008089894A - Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film - Google Patents

Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film Download PDF

Info

Publication number
JP2008089894A
JP2008089894A JP2006269831A JP2006269831A JP2008089894A JP 2008089894 A JP2008089894 A JP 2008089894A JP 2006269831 A JP2006269831 A JP 2006269831A JP 2006269831 A JP2006269831 A JP 2006269831A JP 2008089894 A JP2008089894 A JP 2008089894A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
retardation
layer forming
photoreactive
forming layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006269831A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiko Kiyohara
欣子 清原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2006269831A priority Critical patent/JP2008089894A/en
Publication of JP2008089894A publication Critical patent/JP2008089894A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a retardation film having a low haze. <P>SOLUTION: The method for manufacturing a retardation film includes: a layer forming step of forming a retardation layer, to form a layer 2A' for formation of a retardation layer on a transparent substrate by applying a UV-curing composition containing a crosslinking liquid crystal material having a crosslinking functional group and a photoreactive compound having a photoreactive group on the transparent substrate 1; an alignment imparting step of developing alignment property of the layer for formation of a retardation layer to the crosslinking liquid crystal material by irradiating the layer for formation of the retardation layer with polarized UV rays through one surface to allow the photoreactive compound to react; and a step of heating the layer for formation of the retardation layer in such a manner that the surface of the layer for formation of the retardation layer irradiated with the polarized UV rays reaches a crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinking liquid crystal material faster than the surface opposite to the surface irradiated with polarized UV rays. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は液晶表示装置等に用いられる位相差フィルムの製造方法に関するものである。より詳しくは、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a retardation film used in a liquid crystal display device or the like. More specifically, the present invention relates to a method for producing a retardation film having a transparent substrate and a retardation layer formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material.

液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のCRTディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、図3に示すように、入射側の偏光板102Aと、出射側の偏光板102Bと、液晶セル101とを有するものを挙げることができる。偏光板102Aおよび102Bは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光(図中、矢印で模式的に図示)のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル101は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板102Aと102Bとの間に配置されている。   The liquid crystal display device has features such as power saving, light weight, thinness, and the like, and has rapidly spread in recent years in place of the conventional CRT display. As a general liquid crystal display device, as shown in FIG. 3, a liquid crystal display device having an incident side polarizing plate 102 </ b> A, an outgoing side polarizing plate 102 </ b> B, and a liquid crystal cell 101 can be exemplified. The polarizing plates 102A and 102B are configured to selectively transmit only linearly polarized light (schematically illustrated by arrows in the figure) having a vibration surface in a predetermined vibration direction. They are arranged to face each other in a crossed Nicol state so as to have a right angle relationship with each other. The liquid crystal cell 101 includes a large number of cells corresponding to the pixels, and is disposed between the polarizing plates 102A and 102B.

液晶表示装置には特有の欠点として視野角特性の問題がある。視野角特性の問題とは、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とでコントラストや色味等が変化する問題である。このような問題は、液晶表示装置に用いられる液晶セルが複屈折性を示すことやクロスニコルに配置された2枚の偏光板を有することに起因するものである。   The liquid crystal display device has a problem of viewing angle characteristics as a peculiar defect. The problem of viewing angle characteristics is a problem in which contrast, color, and the like change between when the liquid crystal display device is viewed from the front and when viewed from an oblique direction. Such a problem is caused by the fact that the liquid crystal cell used in the liquid crystal display device has birefringence and has two polarizing plates arranged in crossed Nicols.

上記視野角特性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されている。そして、その代表的な方法の一つに所定の複屈折率を有する位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、液晶表示装置における液晶セルと偏光板との間に所定の複屈折率を示す位相差フィルムを配置することによって視野角特性を改善する方法である。このような方法は、液晶セルの種類に応じて複屈折率の異なる位相差フィルムを用いることにより、様々の光学特性を有する液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角依存性の問題を改善できる点において有用であり、現在種々の表示方式を採用した液晶表示装置において採用されるに至っている。   Various techniques have been developed so far to improve the viewing angle characteristic. One of the typical methods is a method using a retardation film having a predetermined birefringence. This method using a retardation film is a method for improving viewing angle characteristics by disposing a retardation film exhibiting a predetermined birefringence between a liquid crystal cell and a polarizing plate in a liquid crystal display device. Such a method can improve the viewing angle dependency problem of a liquid crystal display device using a liquid crystal cell having various optical characteristics by using a retardation film having different birefringence according to the type of the liquid crystal cell. In this respect, it is useful in liquid crystal display devices that employ various display methods.

上記位相差フィルムとしては、従来、基材と、上記基材上に形成された配向膜と、上記配向膜上に形成され、液晶材料を含有する位相差層とを有するものが広く用いられてきた。このような位相差フィルムは、上記位相差層において上記液晶材料が上記配向膜の配向規制力に従って規則的に配列されていることにより、所望の複屈折率を発現することができるものである。   As the retardation film, those having a substrate, an alignment film formed on the substrate, and a retardation layer formed on the alignment film and containing a liquid crystal material have been widely used. It was. In such a retardation film, the liquid crystal material is regularly arranged in the retardation layer in accordance with the alignment regulating force of the alignment film, so that a desired birefringence can be expressed.

ところで、近年においては上記位相差フィルムとして上記配向膜を必要としないもの、すなわち、上記基材上に、位相差層が直接形成された構成を有する位相差フィルムが開発されている(特許文献1および特許文献2)。このような配向膜を必要としない位相差フィルムは、従来の配向膜を用いる位相差フィルムでは実現することが困難であった、液晶材料の3次元配向が可能であったり、また、複数の位相差層を積層することが可能であったり、さらには、位相差フィルムの製造工程を簡略化することができるという利点を有する。   By the way, in recent years, a retardation film that does not require the alignment film as the retardation film, that is, a retardation film having a structure in which a retardation layer is directly formed on the substrate has been developed (Patent Document 1). And Patent Document 2). Such a retardation film that does not require an alignment film is capable of three-dimensional alignment of a liquid crystal material, which has been difficult to achieve with a retardation film using a conventional alignment film, and has a plurality of positions. It has an advantage that a retardation layer can be laminated, and furthermore, a manufacturing process of a retardation film can be simplified.

しかしながら、特許文献1および特許文献2に開示されているような、化合物を用いて配向膜を必要としない位相差フィルムを作成した場合、従来の配向膜を用いた位相差フィルムに比べて位相差層のヘイズが大きくなってしまう問題点があった。   However, when the retardation film which does not require an alignment film using a compound as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 is prepared, the retardation is compared with a retardation film using a conventional alignment film. There was a problem that the haze of the layer was increased.

このようなことから、配向膜を用いない位相差フィルムにおいては、透明性に優れた位相差フィルムを得ることが困難であるという問題点があった。   For these reasons, there is a problem that it is difficult to obtain a retardation film excellent in transparency in a retardation film that does not use an alignment film.

特表2002−517605号公報Special table 2002-517605 gazette 特開2002−82224号公報JP 2002-82224 A

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造可能な位相差フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and is a retardation film having a transparent substrate and a retardation layer which is directly formed on the transparent substrate without an alignment film and contains a liquid crystalline material. The main object of the present invention is to provide a method for producing a retardation film capable of producing a retardation film having a small haze.

上記課題を解決するために、本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention uses a transparent substrate, and contains a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group on the transparent substrate and a photoreactive compound having a photoreactive group. By applying the composition, the phase difference layer forming layer forming step for forming the phase difference layer forming layer on the transparent substrate, and the polarizing layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet rays from one side, An alignment imparting step for causing the retardation layer forming layer to exhibit alignment with respect to the crosslinkable liquid crystal material by reacting the photoreactive compound, and the polarized ultraviolet rays of the retardation layer forming layer were irradiated. The phase difference layer forming layer is heated so that the surface surface reaches the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. The crosslinkable liquid crystal material Providing a liquid crystal alignment step of the column, a method for producing a retardation film characterized by having a liquid crystal crosslinking step of crosslinking the crosslinkable liquid crystal material arranged by the liquid crystal aligning step.

本発明によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記架橋性液晶材料を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記架橋性液晶材料を均一に配列させることができる。このため、本発明によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
According to the present invention, the orientation imparting step imparts the orientation to the retardation layer forming layer by irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light from one side, and In the liquid crystal alignment step, the surface of the phase difference layer forming layer irradiated with the polarized ultraviolet light has a crystal of the crosslinkable liquid crystal material before the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. -By aligning the crosslinkable liquid crystal material by heating the retardation layer forming layer so as to reach the liquid crystal phase transition temperature, the crosslinkable liquid crystal material is uniformly distributed in the liquid crystal alignment step. Can be arranged. For this reason, according to this invention, the phase difference film which has a phase difference layer with a small haze can be manufactured.
Therefore, according to the present invention, a retardation film having a transparent substrate and a retardation layer formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material, A retardation film having a small haze can be produced.

本発明においては、上記光反応性化合物が、下記式(I)および(II)で表される光反応性基の少なくとも1つを有することが好ましい。下記式(I)および(II)で表される光反応基を有する光反応性化合物は、上記架橋性液晶材料との相溶性に優れるため、このような光反応性化合物を用いることにより、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。   In the present invention, the photoreactive compound preferably has at least one photoreactive group represented by the following formulas (I) and (II). Since the photoreactive compound having a photoreactive group represented by the following formulas (I) and (II) is excellent in compatibility with the crosslinkable liquid crystal material, by using such a photoreactive compound, This is because a retardation film having a small haze can be produced.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

上記式(I)および(II)において、A、A,Aは、それぞれ独立に未置換、または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、アルコキシ、または、アルキルオキシカルボニルで置換された1,4−フェニレン、4,4’−ビフェニレン、1,4−ナフチレン、2,6−ナフチレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピペリジン−1,4−ジイル、または、ピペラジン−1,4−ジイルを表す。
は、水素、炭素数1〜4のアルキル、または、炭素数1〜4のアルコキシを表す。
は、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数2〜6のアルキルオキシカルボニル、または、シアノを表す。
は水素、未置換または任意のフッ素、塩素で置換された炭素数1〜20のアルキルを表す。
In the above formulas (I) and (II), A 1 , A 2 , A 3 are each independently unsubstituted or optionally substituted with fluorine, chlorine, cyano, alkyl, alkoxy, or alkyloxycarbonyl. , 4-phenylene, 4,4′-biphenylene, 1,4-naphthylene, 2,6-naphthylene, pyridine-2,5-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, 1,3-dioxane-2,5- Diyl, piperidine-1,4-diyl or piperazine-1,4-diyl is represented.
R 1 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons, or alkoxy having 1 to 4 carbons.
R 2 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, alkyloxycarbonyl having 2 to 6 carbon atoms, or cyano.
R 3 represents hydrogen, unsubstituted or alkyl having 1 to 20 carbon atoms substituted with any fluorine or chlorine.

また本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。   In addition, the present invention uses a transparent substrate, and coats an ultraviolet curable composition containing a liquid crystalline structural unit having liquid crystallinity in the molecule and a photoreactive polymer liquid crystal having a photoreactive group on the transparent substrate. A phase difference layer forming layer forming step for forming a phase difference layer forming layer on the transparent substrate, and irradiating the phase difference layer forming layer with polarized ultraviolet light from one side to form the photoreactive group. An orientation imparting step for causing the retardation layer forming layer to exhibit orientation with respect to the liquid crystalline structural unit by reacting, and a surface of the surface of the retardation layer forming layer that has been irradiated with the polarized ultraviolet rays, By heating the retardation layer forming layer so as to reach the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal before the surface opposite to the surface irradiated with polarized ultraviolet rays, Liquid crystal in which the liquid crystalline structural units are arranged It provides a method for producing a retardation film characterized by having a column step.

本発明によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記液晶性構造単位を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記液晶性構造単位を均一に配列させることができる。このため、本発明によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
According to the present invention, the orientation imparting step imparts the orientation to the retardation layer forming layer by irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light from one side, and In the liquid crystal alignment step, the surface of the retardation layer forming layer irradiated with the polarized ultraviolet light has a surface opposite to the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. The liquid crystalline structural units are aligned in the liquid crystal aligning step by heating the retardation layer forming layer so as to reach a glass phase-liquid crystal phase transition temperature of Can be arranged uniformly. For this reason, according to this invention, the phase difference film which has a phase difference layer with a small haze can be manufactured.
Therefore, according to the present invention, a retardation film having a transparent substrate and a retardation layer formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material, A retardation film having a small haze can be produced.

本発明においては、上記液晶配列工程が、上記配向性付与工程において上記偏光紫外線が照射された面側のみから、上記位相差層形成用層を加温するものであることが好ましい。これにより、上記液晶配列工程において、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度、あるいは、上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することが容易になるからである。   In this invention, it is preferable that the said liquid crystal aligning process heats the said layer for phase difference layer formation only from the surface side irradiated with the said polarized ultraviolet rays in the said orientation provision process. Thereby, in the liquid crystal alignment step, the cross-linkability of the surface of the retardation layer forming layer on the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is earlier than the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. This is because it is easy to heat the retardation layer forming layer so as to reach the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the liquid crystal material or the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal. .

また、本発明においては、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層の上記透明基板とは反対面側から、上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。これにより、上記配向性付与工程において上記位相差層形成用層に均一な配向規制力を付与することが容易になるからである。   In the present invention, the orientation imparting step may irradiate the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light from the side opposite to the transparent substrate of the retardation layer forming layer. preferable. This is because it becomes easy to impart a uniform orientation regulating force to the retardation layer forming layer in the orientation imparting step.

本発明は、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造できるという効果を奏する。   The present invention is a retardation film having a transparent substrate and a retardation film formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material, and producing a retardation film having a small haze. There is an effect that can be done.

以下、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the retardation film of this invention is demonstrated.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成用層形成工程に用いられる位相差層形成用塗工液の組成により、2つの態様に大別することができる。したがって、以下、各態様に分けて本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。   The method for producing a retardation film of the present invention can be broadly divided into two modes depending on the composition of the retardation layer forming coating solution used in the retardation layer forming layer forming step. Therefore, hereinafter, the method for producing the retardation film of the present invention will be described separately for each embodiment.

A.第1態様の位相差フィルムの製造方法
まず、第1態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成用塗工液として、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有するものを用いる態様である。
すなわち、本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とするものである。
A. First, a method for producing the retardation film of the first aspect will be described. The method for producing a retardation film according to this aspect includes a retardation layer forming coating solution containing a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group and a photoreactive compound having a photoreactive group. This is the mode of use.
That is, the method for producing a retardation film of this embodiment uses a transparent substrate, and contains a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group on the transparent substrate and a photoreactive compound having a photoreactive group. By applying the curable composition, a retardation layer forming layer forming step for forming a retardation layer forming layer on the transparent substrate, and the polarizing layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet rays from one side. , By applying the photoreactive compound to the retardation layer forming layer, the orientation imparting step for expressing the orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material, and the polarized ultraviolet rays of the retardation layer forming layer are irradiated. The retardation layer forming layer is heated so that the surface of the surface reaches the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. The above crosslinkability A liquid crystal alignment step of aligning the crystal material, is characterized in that it has a liquid crystal crosslinking step of crosslinking the crosslinkable liquid crystal material arranged by the liquid crystal aligning step.

このような本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図1は本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図1に例示するように本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板1を用い(図1(a))、上記透明基板1上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板1上に位相差層形成用層2A’を形成する位相差層形成用層形成工程(図1(b))と、上記位相差層形成用層2A’に、上記透明基板1とは、反対面(A)側から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって、上記位相差層形成用層2A’に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程(図1(c))と、上記位相差層形成用層2A’の上記透明基板1とは反対面側の表面(A)が、上記透明基板1側の表面(B)よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層2A’を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程(図1(d))と、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程(図1(e))と、により、透明基板1上と、上記透明基板1上に直接形成された位相差層2Aとを有する位相差フィルム10Aを製造するものである(図1(f))。   The method for producing the retardation film of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for producing a retardation film of this embodiment. As illustrated in FIG. 1, the method for producing a retardation film of this embodiment uses a transparent substrate 1 (FIG. 1A), a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group on the transparent substrate 1, and light. Retardation layer forming layer forming step of forming a retardation layer forming layer 2A ′ on the transparent substrate 1 by coating an ultraviolet curable composition containing a photoreactive compound having a reactive group. (FIG. 1B) and the retardation layer forming layer 2A ′ are irradiated with polarized ultraviolet rays from the opposite surface (A) side to the transparent substrate 1 to cause the photoreactive compound to react. , An orientation imparting step (FIG. 1 (c)) for causing the retardation layer forming layer 2A ′ to exhibit orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material, and the transparent substrate 1 of the retardation layer forming layer 2A ′. The surface (A) on the opposite side is above the surface (B) on the transparent substrate 1 side. A liquid crystal alignment step (FIG. 1 (d)) for aligning the crosslinkable liquid crystal material by heating the retardation layer forming layer 2A ′ so as to reach the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material; The liquid crystal cross-linking step (FIG. 1 (e)) for cross-linking the cross-linkable liquid crystal material arranged in the liquid crystal aligning step, and the retardation layer 2A directly formed on the transparent substrate 1 10A is produced (FIG. 1 (f)).

本発明によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記架橋性液晶材料を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記架橋性液晶材料を均一に配列させることができる。このため、本発明によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。   According to the present invention, the orientation imparting step imparts the orientation to the retardation layer forming layer by irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light from one side, and In the liquid crystal alignment step, the surface of the phase difference layer forming layer irradiated with the polarized ultraviolet light has a surface of the crosslinkable liquid crystal material prior to the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. The crosslinkable liquid crystal material is aligned by heating the retardation layer forming layer so as to reach a crystal-liquid crystal phase transition temperature, so that the crosslinkable liquid crystal material is uniformly distributed in the liquid crystal alignment step. Can be arranged. For this reason, according to this invention, the phase difference film which has a phase difference layer with a small haze can be manufactured.

ここで、上述したような配向性付与工程および液晶配列工程を有することにより、上記架橋性液晶材料を均一に配列された位相差層を形成できる理由については明らかではないが、次のような理由によるものであると考えられる。
すなわち、上記配向性付与工程は、上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することにより、上記位相差層形成用層に含有される光反応性化合物を反応させて配向性を付与するものである。ここで、上記光反応性化合物は偏光度の高い偏光紫外線が照射されることによって、より均一な配向規制力を発現できるものであることから、上記配向性付与工程においては、上記偏光紫外線が照射された面の表面が最も均一な配向規制力を発現できる領域となる。
このため、上記液晶配列工程において、上記偏光紫外線が照射された面の表面の方が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層が加熱されることにより、上記架橋性液晶材料が配列される初期の段階において、上記架橋性液晶材料を均一な配向規制力に従って配列させることが可能となる。
ここで、上記架橋性液晶材料は、ある部分に存在する架橋性液晶材料が配列すると、他の部分に存在する架橋性液晶材料がその配列に沿うように配列する性質を有するものである。このため、上記液晶配列工程において、上記架橋性液晶材料が配列する初期の段階において均一な配列を形成することができると、その後はその均一な配列に沿って他の部分に存在する架橋性液晶材料を、いわば連鎖的に、均一に配列させることが可能となる。
このようなことから、本態様により製造される位相差フィルムは、上記架橋性液晶材料が位相差層の全体に渡って均一な配列を形成したものにできるため、位相差フィルム全体として、ヘイズが小さいものにできると考えられる。
Here, the reason why the retardation layer in which the crosslinkable liquid crystal material is uniformly arranged can be formed by having the alignment imparting step and the liquid crystal alignment step as described above is not clear. It is thought to be due to.
That is, in the orientation imparting step, the retardation layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet rays to cause the photoreactive compound contained in the retardation layer forming layer to react to impart orientation. It is. Here, since the photoreactive compound is capable of expressing a more uniform alignment regulating force when irradiated with polarized ultraviolet rays having a high degree of polarization, the polarized ultraviolet rays are irradiated in the orientation imparting step. The surface of the formed surface becomes a region where the most uniform orientation regulating force can be expressed.
For this reason, in the liquid crystal alignment step, the surface of the surface irradiated with the polarized ultraviolet light reaches the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the surface on the opposite side. By heating the phase difference layer forming layer, the crosslinkable liquid crystal material can be arranged according to a uniform alignment regulating force at an initial stage where the crosslinkable liquid crystal material is arranged.
Here, the crosslinkable liquid crystal material has a property that when the crosslinkable liquid crystal material present in a certain portion is aligned, the crosslinkable liquid crystal material present in the other portion is aligned along the alignment. For this reason, in the liquid crystal alignment step, when a uniform alignment can be formed at the initial stage where the crosslinkable liquid crystal material is aligned, then the crosslinkable liquid crystal present in other portions along the uniform alignment. It is possible to arrange the materials uniformly in a chained manner.
For this reason, the retardation film produced according to the present aspect can be obtained by forming the crosslinkable liquid crystal material in a uniform arrangement over the entire retardation layer. It is thought that it can be made small.

以上のようなことから、本態様によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。   From the above, according to this aspect, a retardation film having a transparent substrate and a retardation layer formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material, A retardation film having a small haze can be produced.

本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記位相差層形成用層形成工程と、上記配向性付与工程と、上記液晶配列工程と、上記液晶架橋工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本態様の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。
The method for producing a retardation film according to this aspect includes at least the layer forming step for forming a retardation layer, the orientation imparting step, the liquid crystal alignment step, and the liquid crystal crosslinking step. May have other processes.
Hereinafter, each process used for the manufacturing method of the retardation film of this aspect is demonstrated in order.

1.液晶配列工程
まず、本態様に用いられる液晶配列工程について説明する。本工程は後述する位相差層形成用層形成工程において形成される位相差層形成用層を、後述する配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる工程である。
本態様の位相差フィルムの製造方法は、本工程がこのような方法によって上記架橋性液晶材料を配列させるものであることにより、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができるのである。
以下、このような液晶配列工程について詳細に説明する。
1. Liquid Crystal Alignment Step First, the liquid crystal alignment step used in this embodiment will be described. In this step, the layer for forming the retardation layer formed in the layer forming step for forming the retardation layer, which will be described later, the surface of the surface irradiated with polarized ultraviolet rays in the orientation providing step described later is more than the surface on the opposite side. This is a step of arranging the crosslinkable liquid crystal material by first heating to reach the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material.
In the method for producing a retardation film of this embodiment, this step is to arrange the crosslinkable liquid crystal material by such a method, whereby a retardation film having a small haze can be produced.
Hereinafter, such a liquid crystal alignment process will be described in detail.

上述したように、本工程は上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる工程であるが、本工程に用いられる加温方法としては、上記配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温できる方法であれば特に限定されるものではない。このような加温方法としては、上記位相差層形成用層の両面から加温し、上記偏光紫外線が照射された面に対する加温温度を、その反対側の表面に対する加温温度よりも高くする方法と、上記位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法とを挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの加温方法であっても好適に用いることができるが、なかでも後者の加温方法を用いることが好ましい。上記位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法を用いることにより、上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することが容易になるからである。
なお、位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法を用いる場合には、上記偏光紫外線が照射された面の反対側の表面を冷却して反対側の表面の温度上昇を抑制してもよい。
As described above, this step is a step of aligning the crosslinkable liquid crystal material by heating the phase difference layer forming layer. As a heating method used in this step, the orientation imparting is performed. A method in which the retardation layer forming layer can be heated so that the surface irradiated with polarized ultraviolet rays in the process reaches the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the opposite surface. If it is, it will not specifically limit. As such a heating method, heating is performed from both sides of the retardation layer forming layer, and the heating temperature for the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is set higher than the heating temperature for the opposite surface. And a method of heating the retardation layer forming layer only from the side irradiated with the polarized ultraviolet light. In this step, any of these heating methods can be preferably used, but the latter heating method is particularly preferable. By using a method in which the phase difference layer forming layer is heated only from the surface side irradiated with the polarized ultraviolet light, the surface of the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. This is because it is easy to heat the retardation layer forming layer so as to reach the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the surface on the opposite side.
In addition, when using the method of heating the phase difference layer forming layer only from the surface side irradiated with the polarized ultraviolet light, the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is cooled and the opposite side is cooled. You may suppress the temperature rise of the surface.

上記位相差層形成用層を偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法としては、上記偏光紫外線が照射された面を所定の温度に加温できる方法であれば特に限定されるものではない。このような加温方法としては、例えば、上記偏光紫外線が照射された面に温風を吹き付ける方法、上記偏光紫外線が照射された面にホットプレートを近接させる方法、上記偏光紫外線が照射された面の側に赤外線ヒーター又は遠赤外線ヒーターを設置する方法等を挙げることができる。   The method of heating the retardation layer forming layer only from the side irradiated with polarized ultraviolet rays is particularly limited as long as the surface irradiated with polarized ultraviolet rays can be heated to a predetermined temperature. is not. As such a heating method, for example, a method of blowing warm air on the surface irradiated with the polarized ultraviolet light, a method of bringing a hot plate close to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light, and a surface irradiated with the polarized ultraviolet light The method etc. which install an infrared heater or a far-infrared heater in the side of this can be mentioned.

また、上記位相差層形成用層を偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する場合、偏光紫外線が照射された面の加温のための熱源からの熱が反対側の面にまわりこまないように偏光紫外線が照射された面の反対側の面を断熱部材で覆ったり、偏光紫外線が照射された面の反対側の面を冷却してもよい。   In addition, when the retardation layer forming layer is heated only from the side irradiated with polarized ultraviolet rays, the heat from the heat source for heating the surface irradiated with polarized ultraviolet rays wraps around the opposite side surface. The surface opposite to the surface irradiated with polarized ultraviolet light may be covered with a heat insulating member, or the surface opposite to the surface irradiated with polarized ultraviolet light may be cooled.

本工程において、上記偏光紫外線が照射された面を加温する温度(Ttと称す。)としては、上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度(Tmと称す。)以上であり、かつ、上記架橋性液晶材料の液晶相−等方相転移温度(Tiと称す。)未満の温度であって、上記偏光紫外線が照射された面を、所定の時間内に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するようにできる温度であれば特に限定されるものではない。このような加温温度は上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度(Tm)、液晶相−等方相転移温度(Ti)に応じて適宜決定することができる。なかでも本工程においては、上記加温温度(Tt)が、(Tm+5)(℃)≦Tt(℃)<Ti(℃)の範囲内であることが好ましい。本工程における加温温度(Tt)が、Tm(℃)≦Tt(℃)<(Tm+5)(℃)であることにより、上記偏光紫外線が照射された面を所望の時間内に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に加温することが困難となる場合があるからである。   In this step, the temperature (referred to as Tt) for heating the surface irradiated with polarized ultraviolet light is not less than the crystal-liquid crystal phase transition temperature (referred to as Tm) of the crosslinkable liquid crystal material, and The crosslinkable liquid crystal material has a temperature lower than the liquid crystal phase-isotropic phase transition temperature (referred to as Ti) and irradiated with the polarized ultraviolet light within a predetermined time. The temperature is not particularly limited as long as it can reach the liquid crystal phase transition temperature. Such a heating temperature can be appropriately determined according to the crystal-liquid crystal phase transition temperature (Tm) and the liquid crystal phase-isotropic phase transition temperature (Ti) of the crosslinkable liquid crystal material. Especially in this process, it is preferable that the said heating temperature (Tt) is in the range of (Tm + 5) (° C.) ≦ Tt (° C.) <Ti (° C.). When the heating temperature (Tt) in this step is Tm (° C.) ≦ Tt (° C.) <(Tm + 5) (° C.), the cross-linkable liquid crystal is irradiated on the surface irradiated with the polarized ultraviolet rays within a desired time. This is because it may be difficult to heat to the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the material.

2.配向性付与工程
次に、本工程に用いられる配向性付与工程について説明する。本工程は、後述する位相差層形成用層形成工程により形成される位相差層形成用層に、片面から偏光紫外線を照射し、上記位相差層形成用層に含有される上記光反応性化合物を反応させることによって、上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる工程である。
以下、このような配向性付与工程について詳細に説明する。
2. Orientation imparting step Next, the orientation imparting step used in this step will be described. In this step, the photoreactive compound contained in the retardation layer forming layer is obtained by irradiating the retardation layer forming layer formed by the retardation layer forming layer, which will be described later, with polarized ultraviolet rays from one side. Is a step of causing the retardation layer forming layer to exhibit orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material.
Hereinafter, such an orientation imparting step will be described in detail.

本工程は、上記位相差層形成用層の片面から偏光紫外線を照射することによって、上記位相差層形成用層に配向性を付与するものであるが、本工程において上記偏光紫外線を照射する位相差層形成用層の面としては、透明基板側の表面であってもよく、または、上記透明基板側とは反対側の表面であってもよい。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用層の上記透明基板とは反対面側の表面から上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することが好ましい。これは次のような理由によるものである。
すなわち、上記透明基板側の表面に偏光紫外線を照射する場合、上記偏光紫外線は透明基板を通して上記位相差層形成用層に照射されることになる。ここで、偏光紫外線を上記透明基板を通過させると、透明基板によって偏光紫外線が吸収または散乱され、紫外線の強度が低減したり、あるいは、偏光が緩和されてしまい、上記位相差層形成用層に均一な配向性を付与することが困難となる恐れがある。一方、上記透明基板とは反対面側の表面から偏光紫外線を照射する場合はこのようなことがないため、本工程において上記位相差層形成用層に均一な配向規制力を付与することが容易になるからである。
This step is to impart orientation to the retardation layer forming layer by irradiating polarized ultraviolet rays from one side of the retardation layer forming layer. The surface of the phase difference layer forming layer may be the surface on the transparent substrate side or the surface on the opposite side to the transparent substrate side. In particular, in this step, it is preferable to irradiate the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet rays from the surface of the retardation layer forming layer on the side opposite to the transparent substrate. This is due to the following reason.
That is, when irradiating polarized ultraviolet rays to the surface on the transparent substrate side, the polarized ultraviolet rays are irradiated to the retardation layer forming layer through the transparent substrate. Here, when the polarized ultraviolet light passes through the transparent substrate, the polarized ultraviolet light is absorbed or scattered by the transparent substrate, and the intensity of the ultraviolet light is reduced or the polarized light is relaxed. There is a risk that it may be difficult to impart uniform orientation. On the other hand, when irradiating polarized ultraviolet rays from the surface opposite to the transparent substrate, such a situation does not occur. Therefore, in this step, it is easy to impart a uniform alignment regulating force to the retardation layer forming layer. Because it becomes.

本工程において、上記位相差層形成用層に照射される偏光紫外線としては、波長が、上記光反応性化合物が有する光反応性基の光反応を生じることができ、かつ、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の架橋形成反応を生じにくい範囲内のものであれば特に限定されるものではない。このような偏光紫外線は、上記光反応性基および上記架橋性官能基の種類に応じて適宜選択して用いることができる。   In this step, the polarized ultraviolet ray irradiated to the retardation layer forming layer has a wavelength that can cause a photoreaction of the photoreactive group of the photoreactive compound, and the crosslinkable liquid crystal material. There is no particular limitation as long as it is within a range in which the crosslinkable functional group has a crosslink formation reaction hardly occurring. Such polarized ultraviolet rays can be appropriately selected and used according to the types of the photoreactive group and the crosslinkable functional group.

本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する方法としては、上記位相差層形成用層に所望の振動方向の偏光紫外線を照射できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、通常、上記範囲の波長を有する紫外線を発振する光源を用い、上記光源から発振された無偏光の紫外線を偏光子を通して上記位相差層形成用層に照射する方法が用いられる。
このとき、上記位相差層形成用層に照射される偏光紫外線の振動方向は、上記偏光子の吸収軸の方向を変更することにより変化させることができる。
In this step, the method for irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light is not particularly limited as long as it can irradiate the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light in a desired vibration direction. As such a method, a method of using a light source that oscillates ultraviolet rays having a wavelength in the above range and irradiating non-polarized ultraviolet rays oscillated from the light source to the retardation layer forming layer through a polarizer is used. It is done.
At this time, the vibration direction of the polarized ultraviolet light applied to the retardation layer forming layer can be changed by changing the direction of the absorption axis of the polarizer.

上記偏光子としては、例えば、グラントムソンプリズム、グランテーラープリズム、二色性色素を含有する偏光フィルム、ブルースタープレート偏光子、ワイヤーグリッド偏光子等を挙げることができる。   Examples of the polarizer include a Glan-Thompson prism, a Grand Taylor prism, a polarizing film containing a dichroic dye, a Brewster plate polarizer, and a wire grid polarizer.

また、上記光源としては、超高圧水銀灯、中圧水銀灯、キセノン灯、重水素ランプ、ハロゲンランプ、DeepUVランプ、蛍光灯等を挙げることができる。   Examples of the light source include an ultrahigh pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a xenon lamp, a deuterium lamp, a halogen lamp, a deep UV lamp, and a fluorescent lamp.

さらに、本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する際には必要に応じて、特定波長の紫外線を遮蔽するUVカットフィルターを用いてもよい。このようなUVカットフィルターを用いることにより、例えば、上記光反応性化合物の反応が阻害されることを防止したり、または、本工程において上記架橋性液晶材料の架橋形成反応が進行してしまうことを防止できるからである。   Furthermore, when irradiating polarized ultraviolet rays to the retardation layer forming layer in this step, a UV cut filter that shields ultraviolet rays having a specific wavelength may be used as necessary. By using such a UV cut filter, for example, the reaction of the photoreactive compound is prevented from being inhibited, or the crosslinking formation reaction of the crosslinkable liquid crystal material proceeds in this step. It is because it can prevent.

本工程に用いられるUVカットフィルターとしては、例えば、上記光反応性化合物の反応が阻害されることを防止するために用いられるものとして、SCHOTT製WG280を挙げることができる。
また、上記架橋性液晶材料の架橋形成反応が進行してしまうことを防止するために用いられるものとしては、例えば、最大吸収波長が270nm〜310nmの光反応性化合物を使用する場合に、325nm〜400nmの紫外線を遮蔽するUVカットフィルター(朝日分光社製:SU0325)を挙げることができる。
As a UV cut filter used in this step, for example, WG280 manufactured by SCHOTT can be mentioned as one used to prevent the reaction of the photoreactive compound from being inhibited.
Moreover, as what is used in order to prevent that the crosslinking formation reaction of the said crosslinkable liquid crystal material advances, when using the photoreactive compound whose maximum absorption wavelength is 270 nm-310 nm, for example, 325 nm- Examples thereof include a UV cut filter (manufactured by Asahi Spectroscopic Co., Ltd .: SU0325) that shields ultraviolet rays of 400 nm.

本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する際の上記位相差層形成用層の温度は、上記架橋性液晶材料の非液晶性温度であることが好ましい。ここで、非液晶性温度は、通常、結晶又はガラス相から液晶相への転移温度未満、および、液晶相−等方相転移温度よりも高い温度を意味するものであるが、本工程においては、上記結晶またはガラス相から液晶相への転移温度未満であることが好ましい。   In this step, the temperature of the retardation layer forming layer when the polarizing layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet light is preferably the non-liquid crystalline temperature of the crosslinkable liquid crystal material. Here, the non-liquid crystalline temperature usually means a temperature lower than the transition temperature from the crystal or glass phase to the liquid crystal phase and higher than the liquid crystal phase-isotropic phase transition temperature. It is preferably less than the transition temperature from the crystal or glass phase to the liquid crystal phase.

3.位相差層形成用層形成工程
次に、本態様に用いられる位相差層形成用層形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する工程である。
また、本工程により形成される位相差層形成用層は、上述した液晶配列工程、配向性付与工程、および、後述する液晶架橋工程を経て、位相差性を発現する位相差層とされるものである。
以下、このような位相差層形成用層形成工程について詳細に説明する。
3. Next, the phase difference layer forming layer forming step used in this embodiment will be described. This step uses a transparent substrate, and coats an ultraviolet curable composition containing a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group and a photoreactive compound having a photoreactive group on the transparent substrate. To form a retardation layer forming layer on the transparent substrate.
Further, the retardation layer forming layer formed in this step is a retardation layer that develops retardation through the above-described liquid crystal alignment step, orientation imparting step, and liquid crystal crosslinking step described later. It is.
Hereinafter, the layer forming process for forming the retardation layer will be described in detail.

(1)紫外線硬化性組成物
まず、本工程に用いられる紫外線硬化性組成物について説明する。本工程に用いられる紫外線硬化性組成物は、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応基を有する光反応性化合物とを含有するものである。
(1) Ultraviolet curable composition First, the ultraviolet curable composition used for this process is demonstrated. The ultraviolet curable composition used in this step contains a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group and a photoreactive compound having a photoreactive group.

a)光反応性化合物
上記紫外線硬化性組成物に用いられる光反応性化合物としては、特定の波長の紫外線が照射されることにより光化学反応を生じ、本工程により形成される位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を付与できる光反応性基を有するものであれば特に限定されるものではない。本工程に用いられる光反応性化合物が有する光反応性基としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体等を挙げることができる。
a) Photoreactive compound As the photoreactive compound used in the ultraviolet curable composition, a phase difference layer forming layer is formed by this process by causing a photochemical reaction when irradiated with ultraviolet rays having a specific wavelength. If it has a photoreactive group which can provide the orientation with respect to the said crosslinkable liquid crystal material, it will not specifically limit. Examples of the photoreactive group of the photoreactive compound used in this step include cinnamate, coumarin, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, uracil, quinolinone, maleinimide, or cinnamylideneacetic acid derivatives. Can be mentioned.

本工程に用いられる光反応性化合物としては、上記のいずれの光反応性基を有する光反応性化合物であっても好適に用いることができるが、なかでも上記式(I)または(II)で表される光反応性基(以下、上記式(I)、(II)で表される光反応性基をそれぞれ、光反応性基I、光反応性基IIと称する場合がある。)を少なくとも一つ有する光反応性化合物を用いることが好ましい。光反応性基Iまたは光反応性基IIを有する光反応性化合物は、後述する架橋性液晶材料との相溶性に優れるため、このような光反応性化合物を用いることにより、本態様によってさらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。   As the photoreactive compound used in this step, any photoreactive compound having any of the above-mentioned photoreactive groups can be suitably used, and among them, in the above formula (I) or (II) At least a photoreactive group represented (hereinafter, the photoreactive groups represented by the above formulas (I) and (II) may be referred to as a photoreactive group I and a photoreactive group II, respectively). It is preferable to use one photoreactive compound. Since the photoreactive compound having the photoreactive group I or the photoreactive group II is excellent in compatibility with a crosslinkable liquid crystal material described later, the use of such a photoreactive compound further increases the haze according to this embodiment. This is because it is possible to produce a retardation film having a small thickness.

ここで、上記光反応性化合物として、光反応性基Iまたは光反応性基IIの少なくとも1つを有するものを用いることにより、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができるのは次のような理由によるものと考えられる。
すなわち、一般的に上記架橋性液晶材料は、芳香族系の環状構造が連結された剛直部と、上記剛直部に結合し、炭素−酸素結合を含む鎖状部とを有する構造を備えるものである。これに対し、上記光反応性基Iまたは上記光反応性基IIは、芳香環を少なくとも2個以上連結した構造を有するものであり、上記架橋性液晶材料の剛直部の分子構造との類似性が高い化学構造を有するものである。
このため、上記光反応性化合物として、上記光反応性基Iまたは上記光反応性基IIを少なくとも一つ有する光反応性化合物を用いることにより、上記光反応性化合物と、上記架橋性液晶材料との相溶性を向上することができ、その結果として透明性に優れた位相差層形成用層を形成することができるため、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
Here, a retardation film having a smaller haze can be produced by using a compound having at least one of photoreactive group I or photoreactive group II as the photoreactive compound. This is thought to be due to such reasons.
That is, the crosslinkable liquid crystal material generally has a structure having a rigid part to which an aromatic ring structure is connected and a chain part that is bonded to the rigid part and includes a carbon-oxygen bond. is there. On the other hand, the photoreactive group I or the photoreactive group II has a structure in which at least two aromatic rings are connected, and is similar to the molecular structure of the rigid portion of the crosslinkable liquid crystal material. Have a high chemical structure.
For this reason, by using a photoreactive compound having at least one photoreactive group I or photoreactive group II as the photoreactive compound, the photoreactive compound, the crosslinkable liquid crystal material, Therefore, it is possible to form a retardation layer-forming layer having excellent transparency. As a result, a retardation film having a smaller haze can be produced.

上記光反応性基Iとしては、上記式(I)で表される構造を有するものであれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途や、後述する架橋性液晶材料の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本態様においては、クマリンが7位または6位で酸素と結合しているものが好ましい。このような光反応性基Iは光反応性が高いからである。   The photoreactive group I is not particularly limited as long as it has a structure represented by the above formula (I). The use of the retardation film produced according to this embodiment and the crosslinkability described later. It can be appropriately selected and used according to the type of liquid crystal material. In particular, in this embodiment, it is preferable that the coumarin is bonded to oxygen at the 7th or 6th position. This is because such a photoreactive group I has high photoreactivity.

また本態様に用いられる光反応性基Iは、上記Aが、未置換または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキルまたはアルコキシで置換された1,4−フェニレンであるものが好ましい。上記Aがこのような構造であることにより、本態様に用いられる光反応性化合物の分子構造を、後述する架橋性液晶材料の分子構造により近似したものにできるため、上記光反応性化合物と上記架橋性液晶材料との相溶性をさらに向上することができる結果、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。 The photoreactive group I used in this embodiment is preferably one in which the above A 1 is 1,4-phenylene which is unsubstituted or optionally substituted with fluorine, chlorine, cyano, alkyl or alkoxy. By the A 1 has such a structure, the molecular structure of photoreactive compound used in the present embodiment, since it in an approximation by the molecular structure described below crosslinked liquid crystal material, and the photoreactive compound This is because the compatibility with the crosslinkable liquid crystal material can be further improved, and as a result, a retardation film having a smaller haze can be produced.

このような、光反応性基Iとしては、例えば、下記式(I)−1、(I)−2で表されるものを例示することができる。   Examples of such photoreactive group I include those represented by the following formulas (I) -1 and (I) -2.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

ここで、上記式においてRは、水素、炭素数1〜4のアルキル、または、炭素数1〜4のアルコキシを表す。
また、RおよびRは、それぞれ独立に水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、シアノ、または、炭素数2〜6のアルキルオキシカルボニルを表す。
Here, in the above formula, R 4 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, or alkoxy having 1 to 4 carbon atoms.
R 5 and R 6 each independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, cyano, or alkyloxycarbonyl having 2 to 6 carbon atoms.

本態様においては、上記式(I)−1、および、(I)−2で表される光反応性基Iのいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも本態様においては、上記式(I)−1、(I)−2中のRが水素またはメチル基であり、かつ、Rが水素であるものをより好適に用いることができる。このような構造を有する光反応性基Iは光反応性が高いからである。 In this embodiment, any one of the photoreactive groups I represented by the above formulas (I) -1 and (I) -2 can be suitably used. In particular, in this embodiment, A compound in which R 4 in the above formulas (I) -1 and (I) -2 is hydrogen or a methyl group and R 5 is hydrogen can be used more suitably. This is because the photoreactive group I having such a structure has high photoreactivity.

このような光反応性基Iの具体例としては、例えば、下記式で表されるものを挙げることができる。   Specific examples of such photoreactive group I include, for example, those represented by the following formula.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

一方、上記光反応性基IIとしては、上記式(II)で表される構造を有するものであれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途や、後述する架橋性液晶材料の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本態様においては、上記AおよびAがそれぞれ独立に、未置換または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、アルコキシ、または、アルキルオキシカルボニルで置換された1,4−フェニレン、4,4’−ビフェニレン、または2,6−ナフチレンであるものを好適に用いることができる。上記AおよびAがこのような構造であることにより、本態様に用いられる光反応性化合物の分子構造を、後述する架橋性液晶材料の分子構造により近似するものにできるため、上記光反応性化合物と上記架橋性液晶材料との相溶性をさらに向上することができる結果、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。 On the other hand, the photoreactive group II is not particularly limited as long as it has a structure represented by the above formula (II), and the use of the retardation film produced according to this embodiment, which will be described later. It can be appropriately selected and used according to the type of the crosslinkable liquid crystal material. Among these, in this embodiment, the above A 2 and A 3 are each independently 1,4-phenylene, which is unsubstituted or optionally substituted with fluorine, chlorine, cyano, alkyl, alkoxy, or alkyloxycarbonyl, 4, What is 4′-biphenylene or 2,6-naphthylene can be preferably used. Since A 2 and A 3 have such a structure, the molecular structure of the photoreactive compound used in this embodiment can be approximated by the molecular structure of the crosslinkable liquid crystal material described later. This is because the compatibility between the functional compound and the crosslinkable liquid crystal material can be further improved, and as a result, a retardation film having a smaller haze can be produced.

このような、光反応性基IIとしては、例えば、下記式(II)−1、(II)−2、および、(II)−3で表されるものを例示することができる。   As such a photoreactive group II, what is represented by following formula (II) -1, (II) -2, and (II) -3 can be illustrated, for example.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

ここで、上記式においてRは、水素、未置換または任意にフッ素、塩素で置換された炭素数1〜20のアルキルを表す。
また、R、Rは、それぞれ独立に水素、または、炭素数1〜4の炭素原子を有するアルコキシを表す。R10は、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数2〜6のアルキルオキシカルボニル、またはシアノを表す。
さらに、mは、0または1である。
Here, in the above formula, R 7 represents hydrogen, unsubstituted or optionally substituted alkyl having 1 to 20 carbon atoms substituted with fluorine or chlorine.
R 8 and R 9 each independently represent hydrogen or alkoxy having 1 to 4 carbon atoms. R 10 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons, alkoxy having 1 to 4 carbons, alkyloxycarbonyl having 2 to 6 carbons, or cyano.
Further, m is 0 or 1.

本態様に用いられる上記光反応性基IIの具体例としては、例えば、下記式で表されるものを挙げることができる。   Specific examples of the photoreactive group II used in this embodiment include those represented by the following formulas.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

本態様に用いられる光反応性化合物としては、上記光反応性基を一つのみ有するものであってもよく、または、複数の光反応性基を有するものであってもよい。なかでも本態様においては、複数の光反応性基を有する光反応性化合物を用いることが好ましい。このような光反応性化合物を用いることにより、上述した配向性付与工程において位相差層形成用層に配向性を付与することが容易になるからである。   The photoreactive compound used in this embodiment may have only one photoreactive group or may have a plurality of photoreactive groups. Among these, in this embodiment, it is preferable to use a photoreactive compound having a plurality of photoreactive groups. This is because by using such a photoreactive compound, it becomes easy to impart orientation to the phase difference layer forming layer in the above-described orientation imparting step.

なお、上記光反応性化合物として上記式(I)または(II)で表される光反応性基を分子内に複数有する化合物を用いる場合、上記光反応性化合物としては、同一の式で表される同一の光反応性基を複数含有するものであってもよく、同一の式で表され、構造の異なる光反応性基を複数含有するものであってもよく、さらには、異なる式で表される光反応性基を複数含有する態様であってもよい。   When a compound having a plurality of photoreactive groups represented by the above formula (I) or (II) in the molecule is used as the photoreactive compound, the photoreactive compound is represented by the same formula. May contain a plurality of the same photoreactive groups, may be represented by the same formula, may contain a plurality of photoreactive groups having different structures, and may be represented by different formulas. It may be an embodiment containing a plurality of photoreactive groups.

また、本態様に用いられる光反応性化合物は液晶性を示すものであってもよく、または、液晶性を示さないものであってもよい。   Moreover, the photoreactive compound used in this embodiment may exhibit liquid crystallinity or may not exhibit liquid crystallinity.

本態様に用いられる光反応性化合物としては、例えば、下記式で表される低分子化合物(III)−1〜(III)−5、および、(III)−1で表される化合物の重合体を挙げることができる。   Examples of the photoreactive compound used in this embodiment include polymers of compounds represented by low molecular compounds (III) -1 to (III) -5 and (III) -1 represented by the following formulae: Can be mentioned.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

上記式においてWは上記光反応性基を表す。また、R11は、水素、または、メチルを表す。さらに、nは0〜20の整数、pは0または1を表す。 In the above formula, W 1 represents the photoreactive group. R 11 represents hydrogen or methyl. Furthermore, n represents an integer of 0 to 20, and p represents 0 or 1.

ここで、上記式(III)−1で表される化合物の重合体の場合は、単独重合体、共重合体のどちらでもよい。
また、共重合体の場合には、後述する架橋性液晶材料との相溶性を損なわない範囲内であれば(III)−1で表される化合物以外のモノマーとの共重合体でもよい。
さらに、(III)−1で表される化合物以外のモノマーとの共重合体の場合、(III)−1で表される化合物以外のモノマーは液晶性モノマーでも非液晶性モノマーのどちらでもよいが、液晶性モノマーである方が、架橋性液晶材料との相溶性を向上させることができるため好ましい。
Here, in the case of the polymer of the compound represented by the formula (III) -1, either a homopolymer or a copolymer may be used.
Further, in the case of a copolymer, a copolymer with a monomer other than the compound represented by (III) -1 may be used as long as the compatibility with a crosslinkable liquid crystal material described later is not impaired.
Further, in the case of a copolymer with a monomer other than the compound represented by (III) -1, the monomer other than the compound represented by (III) -1 may be either a liquid crystalline monomer or a non-liquid crystalline monomer. A liquid crystal monomer is preferable because compatibility with a crosslinkable liquid crystal material can be improved.

本態様においては、上記式(III)−1〜(III)−5で表される光反応性化合物および(III)−1で表される化合物の重合体のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも下記式(IV)−1〜(IV)−3で表されるユニットを含む重合体が好適に用いられる。   In this embodiment, any of the photoreactive compound represented by the above formulas (III) -1 to (III) -5 and the polymer of the compound represented by (III) -1 is preferably used. Among them, polymers containing units represented by the following formulas (IV) -1 to (IV) -3 are preferably used.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

ここで、上記式においてR12は、水素またはメチル基を表す。R13は、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシを表す。R14、R15はそれぞれ独立して、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数2〜6のアルキルオキシカルボニルまたは、シアノを表す。R16は、未置換、または、任意にフッ素、塩素で置換された炭素数1〜20のアルキルを表す。R17、R18は、それぞれ独立に水素、炭素数1〜4のアルコキシを表す。qは、2〜20の整数を表す。 Here, in the above formula, R 12 represents hydrogen or a methyl group. R 13 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons, or alkoxy having 1 to 4 carbons. R 14 and R 15 each independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, alkyloxycarbonyl having 2 to 6 carbon atoms, or cyano. R 16 represents unsubstituted or optionally substituted alkyl having 1 to 20 carbon atoms substituted with fluorine or chlorine. R <17> , R < 18 > represents hydrogen and a C1-C4 alkoxy each independently. q represents an integer of 2 to 20.

本態様に用いられる光反応性化合物の具体例としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。   Specific examples of the photoreactive compound used in this embodiment include the following compounds.

(上記式(I)で表される光反応性基を有する光反応性化合物)
7−{[4−(4−アクリロイルオキシ)ブチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、7−{[4−(6−アクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、4−メチル−7−{[4−(4−アクリロイルオキシ)ブチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、4−メチル−7-{[4−(6−アクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、6-{[4−(6−アクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、4−メチル−6-{[4−(6−アクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、ポリ[7-{[4−(6−アクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[7-{[4−(8−アクリロイルオキシ)オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−7-{[4−(6−アクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−7-{[4−(8−アクリロイルオキシ)オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[7-{[4−(8−メタクリロイルオキシ)オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[7-{[4−(11−メタクリロイルオキシ)ウンデシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−7-{[4−(8−メタクリロイルオキシ)オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−7‐{[4−(11−メタクリロイルオキシ)ウンデシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−6‐{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−6-{[4−(8−メタクリロイルオキシ)オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[4−メチル−6-{[4−(11−メタクリロイルオキシ)ウンデシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]。
(Photoreactive compound having a photoreactive group represented by the above formula (I))
7-{[4- (4-acryloyloxy) butoxy] benzoyloxy} coumarin, 7-{[4- (6-acryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin, 4-methyl-7-{[4- (4 -Acryloyloxy) butyroxy] benzoyloxy} coumarin, 4-methyl-7-{[4- (6-acryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin, 6-{[4- (6-acryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy } Coumarin, 4-methyl-6-{[4- (6-acryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin, poly [7-{[4- (6-acryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [ 7-{[4- (8-acryloyloxy) octyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [4-methyl-7-{[4- ( -Acryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [4-methyl-7-{[4- (8-acryloyloxy) octyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [7-{[4- (6-methacryloyl) Oxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [7-{[4- (8-methacryloyloxy) octyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [7-{[4- (11-methacryloyloxy) undecyloxy] benzoyloxy } Coumarin], poly [4-methyl-7-{[4- (6-methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [4-methyl-7-{[4- (8-methacryloyloxy) octyloxy] Benzoyloxy} coumarin], poly [4-methyl-7-{[4- (11-methacryloyloxy) undecyloxy] benzoyl Xy} coumarin], poly [4-methyl-6-{[4- (6-methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin], poly [4-methyl-6-{[4- (8-methacryloyloxy) octyloxy ] Benzoyloxy} coumarin], poly [4-methyl-6-{[4- (11-methacryloyloxy) undecyloxy] benzoyloxy} coumarin].

(上記式(II)で表される光反応性基を有する光反応性化合物)
1−〔4−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕エチレン、1−〔6−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン、1−〔4−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕エチレン、1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン、ポリ〔1−〔6−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔1−〔8−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔1−〔11−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔1−〔8−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔1−〔11−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔1−〔6−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔8−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔11−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔6−〔4−〔4−〔(E)−2−エトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔8−〔4−〔4−〔(E)−2−プロポキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔8−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔11−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−エトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔8−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−プロポキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ〔1−〔6−〔4−〔4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕ナフタリン−6−イルオキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕、ポリ‐[1‐[11‐[5‐[4‐[(E)‐2‐メトキシカルボニルビニル]ベンゾイロキシ]‐2‐[6‐[2‐メトキシ‐(E)‐4‐(メトキシカルボニルビニル)フェノキシ]オキシヘキシル]ベンゾイロキシ]ウンデシロキシカルボニル]‐1‐メチルエチレン]、ポリ-[1‐[11‐[5‐[4‐[(E)‐2‐メトキシカルボニルビニル]ベンゾイルオキシ]‐2‐(4‐プロピルベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ]ウンデシロキシカルボニル]-1-メチルエチレン]、ポリ-[1‐[11‐[5‐[4‐[(E)‐2‐メトキシカルボニルビニル]ベンゾイルオキシ]‐2‐(4‐ペンチルベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ]ウンデシロキシカルボニル]‐1‐メチルエチレン]、ポリ‐[1‐[8‐[5‐[4‐[(E)‐2‐メトキシカルボニルビニル]ベンゾイルオキシ]‐2‐(4‐プロピルベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ]オクチロキシカルボニル]‐1‐メチルエチレン]。
(Photoreactive compound having a photoreactive group represented by the formula (II))
1- [4- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] butyloxycarbonyl] ethylene, 1- [6- [4- [4-[(E) -2] -Methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] ethylene, 1- [4- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] butyloxycarbonyl ] Ethylene, 1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] ethylene, poly [1- [6- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxy Carbonyl] ethylene], poly [1- [8- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] octyloxycarbonyl] ethylene], poly [1- [11- [4 -[4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] undecyloxycarbonyl] ethylene], poly [1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E)- 2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] ethylene], poly [1- [8- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy ] Octyloxycarbonyl] ethylene], poly [1- [11- [4- [2-methoxy-4-[( ) -2-Methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] undecyloxycarbonyl] ethylene], poly [1- [6- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] Hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [1- [8- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] octyloxycarbonyl] -1-methylethylene] Poly [1- [11- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] undecyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [1- [6- [ 4- [4-[(E) -2-ethoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy Si] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [1- [8- [4- [4-[(E) -2-propoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] octyloxycarbonyl] -1-methyl Ethylene], poly [1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [1 -[8- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] octyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [1- [11- [4 -[2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] undec Oxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-ethoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1- Methylethylene], poly [1- [8- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-propoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] octyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly [ 1- [6- [4- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] naphthalin-6-yloxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly- [1- [11- [5- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] benzoyloxy] -2- [6- [2-methoxy- (E) -4- (Methoxycarbonylvinyl) phenoxy] oxyhexyl] benzoyloxy] undecyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly- [1- [11- [5- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] benzoyloxy ] -2- (4-Propylbenzoyloxy) benzoyloxy] undecyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly- [1- [11- [5- [4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl]] Benzoyloxy] -2- (4-pentylbenzoyloxy) benzoyloxy] undecyloxycarbonyl] -1-methylethylene], poly- [1- [8- [5- [4-[(E) -2-methoxycarbonyl] Vinyl] benzoyloxy] -2- (4-propylbenzoyloxy) benzoyloxy] octyloxycarbonyl] -1-methylethyl ]

なお、本態様においてはこのような光反応性化合物を1種類のみ用いてもよく、または、複数種類の光反応性化合物を混合して用いてもよい。   In this embodiment, only one kind of such a photoreactive compound may be used, or a plurality of kinds of photoreactive compounds may be mixed and used.

b)架橋性液晶材料
次に、上記紫外線硬化性組成物に用いられる架橋性液晶材料について説明する。本態様に用いられる架橋性液晶材料は、架橋性官能基を有するものである。
b) Crosslinkable liquid crystal material Next, the crosslinkable liquid crystal material used in the ultraviolet curable composition will be described. The crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment has a crosslinkable functional group.

本態様に用いられる架橋性液晶材料としては、本態様により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではなく、任意の液晶性を備える化合物を用いることができる。なかでも、本態様においては、上記架橋性液晶材料としてネマチック相を示すものを好適に用いることができる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易だからである。   The crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment is not particularly limited as long as it can give a desired retardation to the retardation film produced according to this embodiment, and includes a compound having any liquid crystallinity. Can be used. Especially, in this aspect, what shows a nematic phase as said crosslinkable liquid crystal material can be used conveniently. This is because nematic liquid crystals are easily arranged regularly as compared with liquid crystal materials exhibiting other liquid crystal phases.

本態様に用いられる架橋性液晶材料が有する架橋性官能基としては、分子間架橋を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。このような架橋性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の放射線によって架橋を形成する放射線架橋性官能基、熱の作用によって架橋を形成する熱架橋性官能基等を挙げることができる。なかでも本態様においては上記放射線架橋性官能基が好ましく、特に紫外線を照射することにより架橋を形成する紫外線架橋性官能基が好ましい。その理由は次の通りである。
すなわち、上記架橋性液晶材料として上記熱架橋性官能基を用いた場合、例えば、本工程において紫外線硬化性組成物を塗布・乾燥することによって位相差層形成用層を形成する際に、上記乾燥時に上記架橋性液晶材料が架橋されてしまい、結果として形成される位相差フィルムの位相差性を所望の範囲にできない可能性がある。しかしながら、上記紫外線架橋性官能基であればこのような問題が少ないからである。また、紫外線架橋性官能基を用いることにより、上記架橋性液晶材料を架橋する工程を短時間で完了させることができるからである。
The crosslinkable functional group of the crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment is not particularly limited as long as it can form intermolecular crosslinks. Examples of such a crosslinkable functional group include a radiation crosslinkable functional group that forms a crosslink by radiation such as ultraviolet rays and electron beams, and a heat crosslinkable functional group that forms a crosslink by the action of heat. Among these, in the present embodiment, the radiation crosslinkable functional group is preferable, and an ultraviolet crosslinkable functional group that forms a crosslink by irradiation with ultraviolet rays is particularly preferable. The reason is as follows.
That is, when the thermally crosslinkable functional group is used as the crosslinkable liquid crystal material, for example, when the retardation layer forming layer is formed by applying and drying the ultraviolet curable composition in this step, the drying is performed. Sometimes the crosslinkable liquid crystal material is cross-linked, and as a result, the retardation of the retardation film formed may not be within a desired range. However, this is because there are few such problems with the ultraviolet crosslinkable functional group. Moreover, it is because the process of bridge | crosslinking the said crosslinkable liquid crystal material can be completed in a short time by using an ultraviolet crosslinkable functional group.

上記紫外線架橋性官能基としては、通常、紫外線を照射することにより架橋を形成し、上記架橋性液晶材料のポリマー化合物を得ることが可能な重合性官能基、または、紫外線を照射することにより架橋を形成し、上記架橋性液晶材料の二量体を得ることが可能な二量化官能基が用いられる。   The UV crosslinkable functional group is usually a polymerizable functional group capable of forming a crosslink by irradiating ultraviolet rays and obtaining a polymer compound of the crosslinkable liquid crystal material, or crosslinked by irradiating ultraviolet rays. A dimerization functional group that can form a dimer of the crosslinkable liquid crystal material is used.

上記重合性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルエーテル基、オキセタニル基、グリシジル基、脂環式エポキシ基等を挙げることができる。   Examples of the polymerizable functional group include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl ether group, oxetanyl group, glycidyl group, and alicyclic epoxy group.

また、上記二量化官能基としては、例えば、シンナメート、クマリン、カルコン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、チミン、マレインイミド、シンナミリデン酢酸およびその誘導体等を挙げることができる。   Examples of the dimerization functional group include cinnamate, coumarin, chalcone, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, uracil, quinolinone, thymine, maleimide, cinnamylideneacetic acid and derivatives thereof. it can.

本態様においては上記重合性官能基、または、上記二量化官能基のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも重合性官能基を用いることが好ましい。重合性官能基は光重合開始剤を添加した場合には反応速度が高く、二量化官能基よりも少ない紫外線照射量で耐久性の高い層を形成することができるからである。   In this embodiment, any of the polymerizable functional group and the dimerized functional group can be preferably used, and among them, the polymerizable functional group is preferably used. This is because the polymerizable functional group has a high reaction rate when a photopolymerization initiator is added, and a highly durable layer can be formed with a smaller amount of UV irradiation than the dimerized functional group.

また、本態様においては、上記重合性官能基のなかでもアクリロイル基、オキセタニル基を用いることが好ましい。これらの重合性官能基は反応性に優れるからである。さらに、本態様においてはこれらの重合性官能基のなかでもアクリロイル基を用いることが好ましい。アクリロイル基を有する架橋性液晶材料は、工業的に入手可能な種類が多いことから本態様へ適用することが容易だからである。   In this embodiment, it is preferable to use an acryloyl group or an oxetanyl group among the polymerizable functional groups. This is because these polymerizable functional groups are excellent in reactivity. Furthermore, in this embodiment, it is preferable to use an acryloyl group among these polymerizable functional groups. This is because the crosslinkable liquid crystal material having an acryloyl group is easy to apply to this embodiment because there are many types that are industrially available.

本態様に用いられる架橋性液晶材料は、上記架橋性官能基を複数有するものであってもよく、または、1つのみを有するものであってもよい。また、本態様においては架橋性官能基を複数有する架橋性液晶材料と、架橋性官能基を1つのみを有する架橋性液晶材料とを混合して用いてもよい。   The crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment may have a plurality of the crosslinkable functional groups or may have only one. In this embodiment, a crosslinkable liquid crystal material having a plurality of crosslinkable functional groups and a crosslinkable liquid crystal material having only one crosslinkable functional group may be mixed and used.

本態様に用いられる架橋性液晶材料は、少なくとも、−A−CO−O−A−で表される構造を含むものであることが好ましい。架橋性液晶材料が上記構造を含むものであることにより、上記光反応性化合物との相溶性を向上させることができるからである。 The crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment preferably includes at least a structure represented by —A 4 —CO—O—A 5 —. This is because the compatibility of the crosslinkable liquid crystal material with the photoreactive compound can be improved by including the above structure.

ここで、上記A、Aは、それぞれ独立に未置換または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、またはアルコキシ、またはアルキルオキシカルボニルで置換された1,4−フェニレン、4,4’−ビフェニレン、1,4−ナフチレン、2,6−ナフチレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピペリジン−1,4−ジイル、または、ピペラジン−1,4−ジイルを表す。 Here, the above A 4 and A 5 are each independently 1,4-phenylene or 4,4′-biphenylene which is unsubstituted or optionally substituted with fluorine, chlorine, cyano, alkyl, alkoxy, or alkyloxycarbonyl. 1,4-naphthylene, 2,6-naphthylene, pyridine-2,5-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, 1,3-dioxane-2,5-diyl, piperidine-1,4-diyl, or Represents piperazine-1,4-diyl.

このような構造を有する架橋性液晶材料のうち、上記架橋性官能基を複数有するものとしては、例えば、下記式(1)〜(7)で表される化合物を挙げることができる。   Among the crosslinkable liquid crystal materials having such a structure, examples of those having a plurality of the crosslinkable functional groups include compounds represented by the following formulas (1) to (7).

Figure 2008089894
Figure 2008089894

Figure 2008089894
Figure 2008089894

また、このような構造を有する架橋性液晶材料のうち上記架橋性官能基を1つのみ有するものとしては、例えば、下記式(8)、(9)で表される化合物を挙げることができる。   Examples of the crosslinkable liquid crystal material having such a structure include those represented by the following formulas (8) and (9) as those having only one crosslinkable functional group.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

ここで、上記式(1)〜(9)において、L、Lは、それぞれ独立に−O−、または、−O−CO−O−を表す。また、Bは、下記式(i)〜(viii)で表されるメソゲン基を表す。 Here, in the above formulas (1) to (9), L 1 and L 2 each independently represent —O— or —O—CO—O—. B represents a mesogenic group represented by the following formulas (i) to (viii).

Figure 2008089894
Figure 2008089894

また、R19は、それぞれ独立に水素またはメチル基を表す。d〜lは、それぞれ独立に2〜12の整数であるが、より好ましくは4〜10である。
さらに、L、Lは、それぞれ独立に下記式(ix)〜(xiii)のいずれかを表す。
R 19 each independently represents hydrogen or a methyl group. d to l are each independently an integer of 2 to 12, more preferably 4 to 10.
Further, L 3 and L 4 each independently represent any of the following formulas (ix) to (xiii).

Figure 2008089894
Figure 2008089894

また、rは、0〜20の整数を表す。R21は、水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜10のアルキル基、アルキルオキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、または、ニトロ基を表す。 Moreover, r represents the integer of 0-20. R 21 represents hydrogen, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxycarbonyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a nitro group.

上記以外に、本態様に用いられる架橋性液晶材料の具体例としては、例えば、特開平4−227684号公報、特開平9−111240号公報、特開平10−182556号公報、特開平11−513019号公報、特開2000−98113号公報、特開2002−69450号公報、特開2002−30042号公報、特開2003−96066号公報、および、特開2004−123597号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。   In addition to the above, specific examples of the crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment include, for example, JP-A-4-227684, JP-A-9-111240, JP-A-10-182556, and JP-A-11-513019. No. 2000-98113, No. 2002-69450, No. 2002-30042, No. 2003-96066, and No. 2004-123597. Can be mentioned.

本態様に用いられる架橋性液晶材料は1種類でもよく、または、2種類以上を混合して用いてもよい。   The crosslinkable liquid crystal material used in this embodiment may be one type or a mixture of two or more types.

c)紫外線硬化性組成物
本工程に用いられる紫外線硬化性組成物は、上記光反応性化合物および上記架橋性液晶材料を含有するものであるが、紫外線硬化性組成物中に含有される上記光反応性化合物と、上記架橋性液晶材料との比率としては、本態様により製造される位相差フィルムに所定の位相差性を付与できる範囲であれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。なかでも本態様においては、上記架橋性液晶材料100質量部に対する上記光反応性化合物の含有量が、0.1質量部〜60質量部の範囲内であることが好ましく、なかでも3質量部〜50質量部の範囲内であることが好ましく、特に10質量部〜50質量部の範囲内であることが好ましい。上記光反応性化合物の含有量が上記範囲よりも少ないと、例えば、本態様により製造される位相差フィルムにおいて上記架橋性液晶材料を規則的に配列させることが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲よりも多いと本態様により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できない恐れがあるからである。
c) UV curable composition The UV curable composition used in this step contains the photoreactive compound and the crosslinkable liquid crystal material, but the light contained in the UV curable composition. The ratio of the reactive compound and the crosslinkable liquid crystal material is not particularly limited as long as the retardation film produced according to this embodiment can provide a predetermined retardation, and is produced according to this embodiment. It can determine suitably according to the use etc. of the retardation film made. Especially in this aspect, it is preferable that content of the said photoreactive compound with respect to 100 mass parts of said crosslinkable liquid crystal materials exists in the range of 0.1 mass part-60 mass parts, especially 3 mass parts- It is preferably within the range of 50 parts by mass, and particularly preferably within the range of 10 parts by mass to 50 parts by mass. If the content of the photoreactive compound is less than the above range, for example, it may be difficult to regularly arrange the crosslinkable liquid crystal material in the retardation film produced according to this embodiment. is there. Moreover, it is because there exists a possibility that desired retardation property cannot be provided to the retardation film manufactured by this aspect when it is more than the said range.

本工程に用いられる紫外線硬化性組成物は、上記光反応性化合物および上記架橋性液晶材料を含有するものであるが、必要に応じてこれら以外の他の構成を含有するものであってもよい。このような他の構成としては、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。なかでも本態様においては上記他の構成として、光重合開始剤、および、溶媒を用いることが好ましい。上記紫外線硬化性組成物に光重合開始剤が含有されることにより、後述する液晶架橋工程において、上記架橋性液晶材料の架橋形成反応を促進することが可能となるからである。また上記紫外線硬化性組成物に溶媒が含有されることにより、例えば、融点や軟化点が高い架橋性液晶材料や光反応性化合物を含む紫外線硬化性組成物を用いる場合であっても、これを室温で塗工することが容易になるからである。   Although the ultraviolet curable composition used for this process contains the said photoreactive compound and the said crosslinkable liquid crystal material, it may contain other structures other than these as needed. . Examples of such other configurations include solvents, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, plasticizers, surfactants, and silane coupling agents. Especially in this aspect, it is preferable to use a photoinitiator and a solvent as said other structure. This is because by containing a photopolymerization initiator in the ultraviolet curable composition, it is possible to accelerate the cross-linking formation reaction of the cross-linkable liquid crystal material in the liquid crystal cross-linking step described later. In addition, when the ultraviolet curable composition contains a solvent, for example, even when an ultraviolet curable composition containing a crosslinkable liquid crystal material or a photoreactive compound having a high melting point or softening point is used, It is because it becomes easy to apply at room temperature.

上記溶媒としては、上記光反応性化合物および上記架橋性液晶材料を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶媒;ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等を挙げることができるが、これらに限られるものではない。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the photoreactive compound and the crosslinkable liquid crystal material at a desired concentration. Examples of such solvents include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and cyclopentanone; hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and hexane; ethers such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane. Solvents; alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; amide solvents such as N, N-dimethylformamide; and dimethyl Examples thereof include, but are not limited to, sulfoxide solvents such as sulfoxide.

また、本態様に用いられる溶媒は1種類でもよく、または、2種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。   Further, the solvent used in this embodiment may be one type or a mixed solvent of two or more types of solvents.

上記光重合開始剤としては、上記架橋性液晶材料が有する重合性官能基の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本態様においては、上記重合性官能基として、アクリロイル基、および、メタクリロイル基を有する架橋性液晶材料を用いる場合においては光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましく、一方、上記重合性官能基として、ビニルエーテル基、オキセタニル基、グリシジル基、および、脂環式エポキシ基を有する架橋性液晶材料を用いる場合においては、光カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。   As said photoinitiator, it can select and use suitably according to the kind etc. of the polymerizable functional group which the said crosslinkable liquid crystal material has. Among these, in this embodiment, when a crosslinkable liquid crystal material having an acryloyl group and a methacryloyl group is used as the polymerizable functional group, it is preferable to use a radical photopolymerization initiator, while the polymerizable functional group In the case of using a crosslinkable liquid crystal material having a vinyl ether group, an oxetanyl group, a glycidyl group, and an alicyclic epoxy group, it is preferable to use a photocationic polymerization initiator.

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、2−n−ブトキシエチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、3、3’−ジメチル−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノー1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェルニケトン、2−ヒロドキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロキシチオキサントン、2−ヒドロキシ−2−メチル−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマー等を挙げることができる。   Examples of the photo radical polymerization initiator include benzyl, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, benzyl methyl ketal, dimethylaminomethyl. Benzoate, 2-n-butoxyethyl-4-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, 3,3′-dimethyl-dimethyl-4-methoxybenzophenone, methylobenzoylformate, 2-methyl-1- ( 4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl Erniketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-chlorothioxanthone, 2,4- Diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 1-chloro-4-proxythioxanthone, 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer Etc.

また、上記光カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−4−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−p−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、(η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)等を挙げることができる。さらに具体的には、ベンゾイントシレート、2,5−ジニトロベンジルトシレート、N−トシフタル酸イミド等を挙げることができる。   Examples of the cationic photopolymerization initiator include sulfonic acid esters, imide sulfonates, dialkyl-4-hydroxysulfonium salts, arylsulfonic acid-p-nitrobenzyl esters, silanol-aluminum complexes, (η6-benzene) (η5-cyclo Pentadienyl) iron (II) and the like. More specifically, benzoin tosylate, 2,5-dinitrobenzyl tosylate, N-tosicphthalimide and the like can be mentioned.

さらに、上記光ラジカル重合開始剤および上記光カチオン重合開始剤として用いることが可能な化合物としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等を例示することができる。より具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−クロロフェニル)ヨードニウム等のヨードに有無のクロリド;ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、4−tert−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニルー4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチルー4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等の2,4,6−置換−1,3,5−トリアジン化合物等を挙げることができる。   Furthermore, examples of the compound that can be used as the photo radical polymerization initiator and the photo cation polymerization initiator include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, An iron arene complex etc. can be illustrated. More specifically, chlorides with or without iodine such as diphenyliodonium, ditolyliodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium; bromide, borofluoride, hexafluorophosphate salt, Iodonium salts such as hexafluoroantimonate salts, chlorides of sulfonium such as triphenylsulfonium, 4-tert-butyltriphenylsulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, bromides, borofluorides, hexafluorophosphate salts, hexafluoro Sulfonium salts such as antimonate salts, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2 − And the like Chiru 4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-2,4,6-substituted-1,3,5-triazine compounds such as triazines.

また、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   Moreover, when using the said photoinitiator, a photoinitiator adjuvant can be used together. Examples of such photopolymerization initiation assistants include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as ethyl 2-dimethylaminoethylbenzoate and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. Yes, but not limited to these.

上記光重合開始剤を上記紫外線硬化性組成物中に含有させる量としては、上記紫外線硬化性組成物中に含有される架橋性液晶材料の質量に対して0.01質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましく、なかでも0.1質量%〜10質量%の範囲内であることが好ましく、特に0.3質量%〜5質量%の範囲内であることが好ましい。光重合開始剤の添加量が上記範囲よりも少ないと、上記架橋性液晶材料を架橋させるのに必要な紫外線照射量が多くなりすぎてしまう可能性があり、また、上記範囲よりも多いと上記光反応性化合物の反応を阻害してしまう恐れがあるからである。   The amount of the photopolymerization initiator contained in the ultraviolet curable composition is 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the mass of the crosslinkable liquid crystal material contained in the ultraviolet curable composition. It is preferably within the range, and in particular, it is preferably within the range of 0.1% by mass to 10% by mass, and particularly preferably within the range of 0.3% by mass to 5% by mass. If the addition amount of the photopolymerization initiator is less than the above range, the amount of ultraviolet irradiation necessary to crosslink the crosslinkable liquid crystal material may increase too much. It is because there exists a possibility of inhibiting the reaction of a photoreactive compound.

なお、上記紫外線硬化性組成物が上記溶媒を含有するものである場合、上記紫外線硬化性組成物の固形分濃度としては特に限定されるものではなく、本工程において上記紫外線硬化性組成物を、透明基板上に塗工する塗布方法等に応じて任意の濃度にすることができる。   In addition, when the said ultraviolet curable composition contains the said solvent, it is not specifically limited as solid content concentration of the said ultraviolet curable composition, The said ultraviolet curable composition in this process, The concentration can be set arbitrarily according to the coating method applied on the transparent substrate.

(2)透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、透明性を有するものであり、本態様により製造される位相差フィルムにおいて位相差層を支持するものである。
(2) Transparent substrate Next, the transparent substrate used for this process is demonstrated. The transparent substrate used in this step has transparency, and supports the retardation layer in the retardation film produced according to this embodiment.

本工程に用いられる透明基板の透明度は、本態様により製造される位相差フィルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。透過率が上記範囲であることにより、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いた場合に、液晶表示装置の表示輝度が低下することを防止することができるからである。
ここで、透明基板の透過率は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
The transparency of the transparent substrate used in this step may be arbitrarily determined according to the transparency required for the retardation film produced according to this embodiment, but the transmittance in the visible light region is usually 80% or more. It is preferably 90% or more. When the transmittance is in the above range, for example, when the retardation film produced according to this embodiment is used as a viewing angle compensation film for a liquid crystal display device, the display luminance of the liquid crystal display device is prevented from being lowered. Because you can.
Here, the transmittance of the transparent substrate can be measured according to JIS K7361-1 (Testing method for total light transmittance of plastic transparent material).

本工程に用いられる透明基板は、上記透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、ガラス基板等の可撓性のないリジッド材でも用いることもできる。なかでも本工程においてはフレキシブル材を用いることが好ましい。フレキシブル材を用いることにより、本工程をRoll to Rollプロセス(ロール状に巻き取った透明基板から巻き出された透明基板上に、位相差層形成用層を連続的に形成した後、再度ロール状に巻き取る製造手法)にすることが可能になるため、本態様により高生産性で位相差フィルムを製造することが可能になるからである。   The transparent substrate used in this step may be a flexible material having flexibility or a rigid material having no flexibility such as a glass substrate as long as it has the above transparency. Especially, it is preferable to use a flexible material in this process. By using a flexible material, this step can be performed in a roll-to-roll process (a retardation layer forming layer is continuously formed on a transparent substrate unwound from a rolled-up transparent substrate, and then rolled again. This is because the retardation film can be produced with high productivity according to this embodiment.

また、本工程に用いられる透明基板は、光学的等方性基板でもよく、または、位相差性有する基板であってもよい。
ここで上記光学的等方性基板とは、Reが10nm以下であり、かつ、Rthが40nm以下である透明基板を意味するものとする。なかでも本工程に用いられる光学的等方性基板は、Reが5nm以下であること好ましい。また、Rthは20nm以下であることが好ましい。
Further, the transparent substrate used in this step may be an optically isotropic substrate or a substrate having retardation.
Here, the optically isotropic substrate means a transparent substrate having Re of 10 nm or less and Rth of 40 nm or less. In particular, the optically isotropic substrate used in this step preferably has Re of 5 nm or less. Rth is preferably 20 nm or less.

なお、上記ReとRthそれぞれ下記式で定義される。
Re=(nx−ny)×d
Rth=[{(nx+ny)/2}−nz]×d
式中、nxは透明基板の面内方向において最も屈折率が高い方向の屈折率、nyは透明基板の面内方向において最も屈折率が低い方向の屈折率、さらに、nzは透明基板の厚み方向の屈折率である。また、dは透明基板の厚みである。
The above Re and Rth are defined by the following formulas.
Re = (nx−ny) × d
Rth = [{(nx + ny) / 2} -nz] × d
In the formula, nx is the refractive index in the direction with the highest refractive index in the in-plane direction of the transparent substrate, ny is the refractive index in the direction with the lowest refractive index in the in-plane direction of the transparent substrate, and nz is the thickness direction of the transparent substrate. Is the refractive index. D is the thickness of the transparent substrate.

上記光学的等方性基板を構成する材料としては、例えば、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル類などを挙げることができる。なかでも本工程に用いられる光学的等方性基板は、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系ポリマーからなるものが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるからである。また、シクロオレフィン系ポリマーは耐久性に優れるからである。   Examples of the material constituting the optically isotropic substrate include cellulose derivatives, norbornene polymers, cycloolefin polymers, polycarbonates, polyesters, and the like. Among these, the optically isotropic substrate used in this step is preferably a cellulose derivative or a cycloolefin polymer. This is because the cellulose derivative is particularly excellent in optical isotropy. Moreover, it is because a cycloolefin type polymer is excellent in durability.

上記セルロース誘導体としては、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。   As said cellulose derivative, it is preferable to use a cellulose ester, Furthermore, it is preferable to use cellulose acylates among cellulose esters. This is because cellulose acylates are advantageous in terms of availability because they are widely used industrially.

また、上記セルロースアシレート類としては、炭素数2〜4の低級脂肪酸エステルが好ましい。このような低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。   Moreover, as said cellulose acylates, C2-C4 lower fatty acid ester is preferable. Such a lower fatty acid ester may contain only a single lower fatty acid ester, for example, cellulose acetate, and a plurality of fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate may be used. It may be included.

本工程においては、上記低級脂肪酸エステルのなかでもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。また、セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5〜62.5%(置換度:2.6〜3.0)のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
In this step, cellulose acetate can be particularly preferably used among the above lower fatty acid esters. Moreover, as a cellulose acetate, it is most preferable to use the triacetyl cellulose whose average acetylation degree is 57.5-62.5% (substitution degree: 2.6-3.0).
Here, the degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation can be determined by measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like). In addition, the acetylation degree of the triacetyl cellulose which comprises a triacetyl cellulose film can be calculated | required by said method, after removing impurities, such as a plasticizer contained in a film.

一方、上記シクロオレフィン系ポリマーとは、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのような、環状オレフィン(シクロオレフィン)からなるモノマーのユニットを有するポリマーである。このような、シクロオレフィン系ポリマーは分子設計により、ガラス転移点や吸水率を好ましい範囲に制御でき、良好な耐熱性と適度な吸水性を満たすことができる。   On the other hand, the cycloolefin polymer is a polymer having a monomer unit composed of a cyclic olefin (cycloolefin) such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer. Such a cycloolefin-based polymer can control the glass transition point and water absorption rate within a preferable range by molecular design, and can satisfy good heat resistance and appropriate water absorption.

本工程に用いられるシクロオレフィン系ポリマーは、23℃における飽和吸水率が1質量%以下であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板は、吸水による光学特性の変化や寸法変化を生じにくいからである。
ここで、上記飽和吸水率はASTMD570に準拠し、23℃水中で1週間浸漬して増加重量を測定することにより得られる値を意味するものとする。
The cycloolefin polymer used in this step preferably has a saturated water absorption at 23 ° C. of 1% by mass or less. This is because a transparent substrate made of such a cycloolefin-based polymer is less likely to cause changes in optical properties and dimensional changes due to water absorption.
Here, the said saturated water absorption shall mean the value obtained by immersing in 23 degreeC water for 1 week, and measuring an increase weight based on ASTMD570.

また、本工程に用いられるシクロオレフィン系ポリマーは、ガラス転移温度が100℃〜200℃の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板は、耐熱性と加工適性とに優れるからである。   Moreover, as for the cycloolefin type polymer used for this process, that whose glass transition temperature is in the range of 100 to 200 degreeC is preferable. This is because a transparent substrate made of such a cycloolefin polymer is excellent in heat resistance and processability.

本工程に用いられるシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板としては、例えば、ドイツのTicona社から販売されている「Topas」、ジェイエスアール(株)から販売されている「アートン」、日本ゼオン(株)から販売されている「ZEONOR」や「ZEONEX」、三井化学(株)から販売されている「アペル」などを挙げることができる。   Examples of the transparent substrate made of a cycloolefin polymer used in this step include “Topas” sold by Ticona, Germany, “Arton” sold by JSR, and ZEON Corporation. “ZEONOR” and “ZEONEX” sold by the company, “Apel” sold by Mitsui Chemicals, Inc., and the like.

なお、本工程に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
ここで、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されているものであってもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されているものであってもよい。
In addition, the structure of the transparent substrate used for this process is not restricted to the structure which consists of a single layer, You may have the structure by which the several layer was laminated | stacked.
Here, in the case of a configuration in which a plurality of layers are laminated, layers having the same composition may be laminated, or a plurality of layers having different compositions may be laminated. May be.

上記複数の層が積層された構成を有する透明基板としては、上記セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル類などで構成される層に紫外線および/または電子線硬化性樹脂が紫外線又は電子線により硬化された層を積層したものが挙げられる。紫外線および/または電子線硬化性樹脂が紫外線または電子線により硬化された層は上記ポリマーから構成される層に含まれる添加剤が位相差層に移動することを抑制する遮蔽層としての役割や、上記ポリマーから構成される層と位相差層との密着性を向上させる役割を果たす。   As a transparent substrate having a structure in which the plurality of layers are laminated, an ultraviolet ray and / or an electron beam curable resin is formed on a layer composed of the cellulose derivative, norbornene polymer, cycloolefin polymer, polycarbonate, polyester, or the like. A laminate of layers cured by ultraviolet rays or electron beams can be mentioned. The layer in which the ultraviolet ray and / or electron beam curable resin is cured by ultraviolet ray or electron beam serves as a shielding layer for suppressing the additive contained in the layer composed of the polymer from moving to the retardation layer, It plays the role which improves the adhesiveness of the layer comprised from the said polymer, and retardation layer.

上記紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂は、重合可能なビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、イソペニル基、エポキシ基、オキセタニル基等の重合性基を二つ以上有するもので、紫外線または電子線の照射により架橋構造または網目構造を形成するものが好ましい。なかでも本工程においては(メタ)アクリロイル基、またはエポキシ基が重合速度、反応性の面から好ましく多官能モノマーまたはオリゴマーが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂の例としては、紫外線硬化型のポリオールアクリレート類、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂が挙げられる。これらは通常公知の光重合開始剤と共に使用される。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線および/または電子線硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤または光増感剤は該組成物の0.5質量%〜5質量%であることが好ましい。   The ultraviolet curable resin and the electron beam curable resin have two or more polymerizable groups such as a polymerizable vinyl group, allyl group, (meth) acryloyl group, isophenyl group, epoxy group, and oxetanyl group. Or what forms a crosslinked structure or network structure by irradiation of an electron beam is preferable. Among these, in this step, a (meth) acryloyl group or an epoxy group is preferable from the viewpoint of polymerization rate and reactivity, and a polyfunctional monomer or oligomer is preferable. Examples of such ultraviolet curable resins and electron beam curable resins include ultraviolet curable polyol acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, and epoxy resins. These are usually used together with known photopolymerization initiators. The photopolymerization initiator or photosensitizer contained in the ultraviolet and / or electron beam curable resin composition excluding the solvent component that volatilizes after coating and drying is 0.5% by mass to 5% by mass of the composition. Is preferred.

上記透明基板として位相差性を有する基板を用いる場合、このような透明基板としては、本態様により製造される位相差フィルムに所望の屈折率異方性を付与できるものであれば特に限定されない。なかでも本工程においては、λ/4板としての性質、または、λ/2板としての性質を有する透明基板を用いることが好ましい。
ここで、上記「λ/4板としての性質を有する」とは、通常、透明基板のReが、入射光の波長の1/4の値を示すことを意味するものであるが、本工程に用いられる透明基板としては、波長550nmにおけるReが120nm〜150nmの範囲内であるものが好ましい。
また、上記「λ/2板としての性質を有する」とは、通常、透明基板のReが、入射光の波長の1/2の値を示すことを意味するものであるが、本工程に用いられる透明基板としては、波長550nmにおけるReが250nm〜300nmの範囲内であるものが好ましい。
When a substrate having retardation is used as the transparent substrate, the transparent substrate is not particularly limited as long as it can impart a desired refractive index anisotropy to the retardation film produced according to this embodiment. In particular, in this step, it is preferable to use a transparent substrate having properties as a λ / 4 plate or properties as a λ / 2 plate.
Here, the above-mentioned “having properties as a λ / 4 plate” usually means that Re of the transparent substrate shows a value of ¼ of the wavelength of incident light. As the transparent substrate to be used, those having Re at a wavelength of 550 nm in the range of 120 nm to 150 nm are preferable.
In addition, the above-mentioned “having properties as a λ / 2 plate” usually means that Re of the transparent substrate shows a value half of the wavelength of incident light. The transparent substrate to be used is preferably one having Re at a wavelength of 550 nm in the range of 250 nm to 300 nm.

本工程に用いられる透明基板の厚みは、本態様により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を備えることができる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本工程においては25μm〜1000μmの範囲内であること好ましく、特に30μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本態様により製造される位相差フィルムに必要な自己支持性を付与することができない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。   The thickness of the transparent substrate used in this step is not particularly limited as long as it is within a range in which necessary self-supporting properties can be provided according to the use of the retardation film produced according to this embodiment. In particular, in this step, it is preferably in the range of 25 μm to 1000 μm, particularly preferably in the range of 30 μm to 100 μm. This is because if the thickness of the transparent substrate is thinner than the above range, the necessary self-supporting property may not be imparted to the retardation film produced according to this embodiment. Further, if the thickness is thicker than the above range, for example, when cutting the retardation film produced according to this embodiment, the processing waste may increase or the cutting blade may be worn quickly. It is.

(3)位相差層形成用層の形成方法
本工程においては、上記紫外線硬化性組成物を上記透明基板上に塗工することによって位相差層形成用層を形成するが、本工程において上記紫外線硬化性組成物を上記透明基板上に塗工する塗布方式としては、上記紫外線硬化性組成物の組成等に応じて、所望の平面性を備える位相差層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法などを例示することができる。
(3) Method for forming retardation layer forming layer In this step, the ultraviolet curable composition is coated on the transparent substrate to form the retardation layer forming layer. As a coating method for coating the curable composition on the transparent substrate, any method can be used as long as it can form a retardation layer forming layer having desired flatness according to the composition of the ultraviolet curable composition. It is not particularly limited. Examples of such coating methods include gravure coating, reverse coating, knife coating, dip coating, spray coating, air knife coating, roll coating, printing, curtain coating, die coating, and casting. Examples thereof include a method, a bar coating method, an extrusion coating method, and an E-type coating method.

また、上記紫外線硬化性組成物の塗膜の厚みは、本工程に用いられる紫外線硬化性組成物に含有される架橋性液晶材料の種類等に応じて、本態様により所望の位相差性を発現できる位相差フィルムを製造できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも、本工程においては、0.1μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、特に0.5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、なかでも0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましい。   Moreover, the thickness of the coating film of the ultraviolet curable composition exhibits a desired retardation according to the present embodiment depending on the type of the crosslinkable liquid crystal material contained in the ultraviolet curable composition used in this step. The retardation film is not particularly limited as long as it is within a range capable of producing a retardation film. In particular, in this step, it is preferably within a range of 0.1 μm to 50 μm, particularly preferably within a range of 0.5 μm to 30 μm, and in particular within a range of 0.5 μm to 10 μm. Is preferred.

また、上記紫外線硬化性組成物として溶媒を含有するものを用いた場合、上記塗膜の乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等の一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば、残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により複数の乾燥方式を採用してもよい。   In addition, when a solvent-containing material is used as the ultraviolet curable composition, the drying method for the coating film may be a commonly used drying method such as a heat drying method, a vacuum drying method, a gap drying method, or the like. Can be used. In addition, the drying method in the present invention is not limited to a single method, and for example, a plurality of drying methods may be adopted in such a manner that the drying method is sequentially changed according to the amount of the remaining solvent.

なお、本工程において上記加熱乾燥方法を用いる場合は、上記紫外線硬化性組成物中に含有される架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度未満の温度で乾燥することが好ましい。   In addition, when using the said heat drying method in this process, it is preferable to dry at the temperature below the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material contained in the said ultraviolet curable composition.

4.液晶架橋工程
次に、本態様に用いられる液晶架橋工程ついて説明する。本工程は、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる工程である。
4). Liquid Crystal Crosslinking Step Next, the liquid crystal crosslinking step used in this embodiment will be described. This step is a step of crosslinking the crosslinkable liquid crystal material arranged in the liquid crystal alignment step.

本工程において、上記架橋性液晶材料を架橋させる方法としては、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の架橋形成反応を生じさせることができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の種類に応じた方法を適宜選択して用いることができる。このような方法としては、例えば、架橋性液晶材料として、紫外線重合性官能基を有するものが用いられている場合は、上記紫外線重合性官能基の重合反応を生じさせることができる波長の紫外線を、上記位相差層形成用層に照射する方法が用いられる。なお、このような紫外線を照射する方法が用いられる場合、上記架橋性液晶材料を反応させる紫外線は反応性が高いという観点から、通常、非偏光紫外線が用いられる。   In this step, the method for crosslinking the crosslinkable liquid crystal material is not particularly limited as long as it is a method capable of causing a crosslinking formation reaction of the crosslinkable functional group of the crosslinkable liquid crystal material. A method corresponding to the type of the crosslinkable functional group possessed by the crosslinkable liquid crystal material can be appropriately selected and used. As such a method, for example, when a crosslinkable liquid crystal material having an ultraviolet polymerizable functional group is used, an ultraviolet ray having a wavelength capable of causing a polymerization reaction of the ultraviolet polymerizable functional group is used. A method of irradiating the retardation layer forming layer is used. When such a method of irradiating ultraviolet rays is used, non-polarized ultraviolet rays are usually used from the viewpoint that the ultraviolet rays for reacting the crosslinkable liquid crystal material have high reactivity.

5.位相差フィルム
本態様の位相差フィルムの製造方法によって製造される位相差フィルムは、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記架橋性液晶材料の架橋物および上記光反応性化合物の反応物とを含有する位相差層とを有するものとなる。
5. Retardation film A retardation film produced by the method for producing a retardation film of this embodiment is formed on the transparent substrate, the cross-linked product of the cross-linkable liquid crystal material, and the reaction of the photoreactive compound. And a retardation layer containing a product.

上記架橋性液晶材料の架橋物は、上記光反応性化合物の反応物の作用により規則的に配列した状態で存在することになるが、その配列状態としては、本発明の位相差フィルムに所望の光学機能を発現できる配列状態であれば特に限定されるものではない。このような配列状態としては、例えば、透明基板に対してメソゲンが平行となるように、かつ平均配向方向が面内の特定の方向に配向した状態を挙げることができる。この液晶構造はホモジニアス配向構造と称され、このような構造を有することにより、本発明の光学機能フィルムに光学的にAプレートとしての性質を付与することができる。さらに、メソゲンを透明基板に対して傾斜した方向に配向させることができ、位相差層の特定方向での傾斜角依存性が法線方向に対して非対称とすることもできる。   The cross-linked product of the cross-linkable liquid crystal material is present in a regularly arranged state by the action of the reaction product of the photoreactive compound. The arrangement is not particularly limited as long as the optical function can be expressed. Examples of such an arrangement state include a state in which the mesogens are parallel to the transparent substrate and the average orientation direction is oriented in a specific direction in the plane. This liquid crystal structure is called a homogeneous alignment structure, and by having such a structure, the optical function film of the present invention can be optically imparted with properties as an A plate. Furthermore, the mesogen can be oriented in a direction inclined with respect to the transparent substrate, and the inclination angle dependency in a specific direction of the retardation layer can be asymmetric with respect to the normal direction.

なお、本発明の位相差フィルムは配向層を必要としないものであるため、上述したように、従来の配向層を必要とする位相差フィルムでは実現することが困難であった液晶材料の三次元配向を実現することが可能となる。   In addition, since the retardation film of the present invention does not require an alignment layer, as described above, the three-dimensional liquid crystal material that has been difficult to realize with a retardation film that requires a conventional alignment layer. Orientation can be realized.

このような位相差フィルムは、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム(例えば、視野角補償フィルム)、楕円偏光板、円偏光板、輝度向上板等として用いることができる。   Such a retardation film can be used, for example, as an optical compensation film (for example, a viewing angle compensation film) used in a liquid crystal display device, an elliptically polarizing plate, a circularly polarizing plate, and a brightness enhancement plate.

B.第2態様の位相差フィルムの製造方法
次に、第2態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成用塗工液として、分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有するものを用いる態様である。
すなわち、本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程と、を有することを特徴とするものである。
B. Manufacturing method of retardation film of second aspect Next, a manufacturing method of the retardation film of the second aspect will be described. The method for producing a retardation film according to this aspect includes a liquid crystalline structural unit having liquid crystallinity in a molecule and a photoreactive polymer liquid crystal having a photoreactive group as the retardation layer forming coating liquid. Is an embodiment using
That is, the method for producing a retardation film of this embodiment uses a transparent substrate, and contains a liquid crystalline structural unit having liquid crystallinity in the molecule and a photoreactive polymer liquid crystal having a photoreactive group on the transparent substrate. By applying a polymer liquid crystal-containing composition, a retardation layer forming layer forming step for forming a retardation layer forming layer on the transparent substrate, and polarized ultraviolet rays from one side are applied to the retardation layer forming layer. Irradiation and reacting the photoreactive group to cause the retardation layer forming layer to exhibit orientation with respect to the liquid crystalline structural unit, and the polarizing UV of the retardation layer forming layer The retardation layer is formed so that the surface of the irradiated surface reaches the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal before the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. By heating the working layer, A liquid crystal alignment step of arranging the serial liquid crystalline structural units, is characterized in that it has a.

このような、本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図2は、本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図2に例示するように、本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板1を用い(図2(a))、上記透明基板1上に、分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、上記透明基板1上に位相差層形成用層2B’を形成する位相差層形成用層形成工程(図2(b))と、上記位相差層形成用層2B’に、上記透明基板1とは、反対面(A)側から偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層2B’に上記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程(図2(c))と、上記位相差層形成用層2B’の上記透明基板1とは反対面側の表面(A)が、上記透明基板1側の表面(B)よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層2B’を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程(図2(d))と、により、透明基板1上と、上記透明基板1上に直接形成された位相差層2Bとを有する位相差フィルム10Bを製造するものである(図2(e))。   Such a method for producing a retardation film of this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic view showing an example of a method for producing the retardation film of this embodiment. As illustrated in FIG. 2, the method for producing a retardation film of this embodiment uses a transparent substrate 1 (FIG. 2A), and on the transparent substrate 1, a liquid crystalline structural unit having liquid crystallinity in the molecule. And forming a retardation layer forming layer 2B ′ on the transparent substrate 1 by coating a polymer liquid crystal-containing composition containing a photoreactive polymer liquid crystal having a photoreactive group The layer forming step (FIG. 2B) and the retardation layer forming layer 2B ′ are irradiated with polarized ultraviolet rays from the side opposite to the transparent substrate 1 (A), and the photoreactive group is irradiated. An orientation imparting step (FIG. 2 (c)) for causing the retardation layer forming layer 2B ′ to exhibit orientation with respect to the liquid crystalline structural unit by reacting with the transparent layer forming layer 2B ′. The surface (A) on the side opposite to the substrate 1 is ahead of the surface (B) on the transparent substrate 1 side. A liquid crystal alignment step of aligning the liquid crystalline structural units by heating the retardation layer forming layer 2B ′ so as to reach the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal (FIG. 2 ( and d)) to produce a retardation film 10B having a transparent substrate 1 and a retardation layer 2B directly formed on the transparent substrate 1 (FIG. 2 (e)).

本態様によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記液晶性構造単位を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記液晶性構造単位を均一に配列させることができる。このため、本態様によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。   According to this aspect, the orientation imparting step imparts the orientation to the retardation layer forming layer by irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light from one side, and In the liquid crystal alignment step, the surface of the retardation layer forming layer irradiated with the polarized ultraviolet light has a surface opposite to the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. The liquid crystalline structural units are aligned in the liquid crystal aligning step by heating the retardation layer forming layer so as to reach a glass phase-liquid crystal phase transition temperature of Can be arranged uniformly. For this reason, according to this aspect, a retardation film having a retardation layer having a small haze can be produced.

ここで、上述したような配向性付与工程および液晶配列工程により、上記架橋性液晶材料を均一に配列された位相差層を形成できる理由については明らかではないが、上記「A.第1態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した理由と同様な理由によるものであると考えられる。
すなわち、上記配向性付与工程は、上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することにより、上記位相差層形成用層中の光反応性高分子液晶が有する光反応性基を反応させて配向性を付与するものである。ここで、上記光反応性基は偏光度の高い偏光紫外線が照射されることによって、より均一な配向規制力を発現できるものであることから、上記配向性付与工程においては、上記偏光紫外線が照射された面の表面が最も均一な配向規制力を発現できる領域となる。
したがって、上記液晶配列工程において、上記偏光紫外線が照射された面の表面の方が、その反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層が加熱されることにより、上記液晶性構造単位が配列される初期の段階において、上記液晶性構造単位を均一な配向規制力に従って配列させることが可能となる。
ここで、上記液晶性構造単位は、ある部分に存在する液晶性構造単位が配列すると、他の部分に存在する液晶性構造単位がその配列に沿うように配列する性質を有するものである。このため、上記液晶配列工程において、上記液晶性構造単位が配列する初期の段階において均一な配列を形成することができると、その後はその均一な配列に沿って他の部分に存在する液晶性構造単位を、いわば連鎖的に、均一に配列させることが可能となる。
このようなことから、本態様により製造される位相差フィルムは、上記液晶性構造単位が位相差層の全体に渡って均一な配列を形成したものにできるため、位相差フィルム全体として、ヘイズが小さいものにできると考えられる。
Here, although it is not clear why the retardation layer in which the crosslinkable liquid crystal material is uniformly arranged can be formed by the alignment imparting step and the liquid crystal alignment step as described above, the above-mentioned “A. The reason is considered to be similar to the reason described in the section “Method for producing retardation film”.
That is, in the orientation imparting step, the photoreactive group of the photoreactive polymer liquid crystal in the retardation layer forming layer is reacted by irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet rays. It imparts orientation. Here, since the photoreactive group is capable of expressing a more uniform alignment regulating force when irradiated with polarized ultraviolet rays having a high degree of polarization, the polarized ultraviolet rays are irradiated in the orientation imparting step. The surface of the formed surface becomes a region where the most uniform orientation regulating force can be expressed.
Accordingly, in the liquid crystal alignment step, the surface of the surface irradiated with the polarized ultraviolet light reaches the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal before the surface on the opposite side. By heating the retardation layer forming layer, the liquid crystalline structural units can be arranged in accordance with a uniform alignment regulating force at an initial stage where the liquid crystalline structural units are arranged.
Here, the liquid crystalline structural unit has a property that when a liquid crystalline structural unit existing in a certain portion is aligned, a liquid crystalline structural unit existing in another portion is aligned along the alignment. For this reason, in the liquid crystal alignment step, when a uniform alignment can be formed at the initial stage where the liquid crystalline structural units are aligned, the liquid crystal structure existing in other portions along the uniform alignment is then obtained. It is possible to arrange the units uniformly in a chain.
For this reason, the retardation film produced according to the present embodiment can form the liquid crystalline structural unit having a uniform arrangement over the entire retardation layer. It is thought that it can be made small.

以上のようなことから、本態様によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。   From the above, according to this aspect, a retardation film having a transparent substrate and a retardation layer formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material, A retardation film having a small haze can be produced.

本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記位相差層形成用層形成工程と、上記配向性付与工程と、上記液晶配列工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本態様の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。
The method for producing a retardation film of this aspect includes at least the retardation layer forming layer forming step, the orientation imparting step, and the liquid crystal alignment step, and has other steps as necessary. You may do it.
Hereinafter, each process used for the manufacturing method of the retardation film of this aspect is demonstrated in order.

1.液晶配列工程
まず、本態様に用いられる液晶配列工程について説明する。本工程は後述する位相差層形成用層形成工程において形成される位相差層形成用層を、後述する配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる工程である。
本態様の位相差フィルムの製造方法は、本工程がこのような方法によって上記液晶性構造単位を配列させるものであることにより、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができるのである。
1. Liquid Crystal Alignment Step First, the liquid crystal alignment step used in this embodiment will be described. In this step, the retardation layer forming layer formed in the later-described retardation layer forming layer forming step, the surface of the surface irradiated with the polarized ultraviolet rays in the orientation providing step described later was irradiated with the polarized ultraviolet rays. This is a step of aligning the liquid crystalline structural units by heating so as to reach the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal before the surface opposite to the surface.
In the method for producing a retardation film of this embodiment, a retardation film having a small haze can be produced by arranging the liquid crystalline structural units by such a method in this step.

上述したように、本工程は上記位相差層形成用層を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる工程であるが、本工程に用いられる加温方法としては、上記配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度となるように上記位相差層形成用層を加温できる方法であれば特に限定されるものではない。このような加温方法としては、上記「A.第1態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様の方法を用いることができる。   As described above, this step is a step of aligning the liquid crystalline structural units by heating the retardation layer forming layer. As a heating method used in this step, the orientation imparting is performed. In the process, the retardation layer forming layer is added so that the surface of the surface irradiated with polarized ultraviolet rays has the glass-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal before the opposite surface. It is not particularly limited as long as it can be heated. As such a heating method, a method similar to the method described in the section “A. Method for producing retardation film of first aspect” can be used.

本工程において、上記偏光紫外線が照射された面を加温する温度(Ttと称す。)としては、上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度(Tgと称す。)以上であり、かつ、上記光反応性高分子液晶の光反応した部分の軟化温度未満であって、上記偏光紫外線が照射された面を、所定の時間内に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度にできる温度であれば特に限定されるものではない。このような加温温度は上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に応じて適宜決定することができる。なかでも本工程においては、上記加温温度Tt(℃)が、(Tg+20)(℃)≦Tt(℃)の範囲内であることが好ましい。本工程における加温温度Tt(℃)が、Tt(℃)<(Tg+20)(℃)であることにより、上記偏光紫外線が照射された面を所望の時間内に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に加温することが困難となる場合があるからである。   In this step, the temperature (referred to as Tt) for heating the surface irradiated with polarized ultraviolet light is not less than the glass phase-liquid crystal phase transition temperature (referred to as Tg) of the photoreactive polymer liquid crystal. And the surface of the photoreactive polymer liquid crystal that is lower than the softening temperature of the photoreacted portion and irradiated with the polarized ultraviolet light is a glass phase-liquid crystal of the photoreactive polymer liquid crystal within a predetermined time. The temperature is not particularly limited as long as it can be a phase transition temperature. Such a heating temperature can be appropriately determined according to the glass phase-liquid crystal phase transition temperature of the photoreactive polymer liquid crystal. Especially in this process, it is preferable that the said heating temperature Tt (degreeC) is in the range of (Tg + 20) (degreeC) <= Tt (degreeC). The heating temperature Tt (° C.) in this step is Tt (° C.) <(Tg + 20) (° C.), so that the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is irradiated on the surface of the photoreactive polymer liquid crystal within a desired time. This is because it may be difficult to warm to the glass phase-liquid crystal phase transition temperature.

2.配向性付与工程
次に、本工程に用いられる配向性付与工程について説明する。本工程は、後述する位相差層形成用層形成工程により形成される位相差層形成用層に、片面から偏光紫外線を照射し、上記位相差層形成用層中の光反応性高分子液晶が有する光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を付与する工程である。
以下、このような配向性付与工程について詳細に説明する。
2. Orientation imparting step Next, the orientation imparting step used in this step will be described. In this step, the retardation layer forming layer formed in the retardation layer forming layer forming step described later is irradiated with polarized ultraviolet rays from one side, and the photoreactive polymer liquid crystal in the retardation layer forming layer is This is a step of imparting orientation to the liquid crystalline structural unit to the retardation layer forming layer by reacting a photoreactive group having the same.
Hereinafter, such an orientation imparting step will be described in detail.

本工程は、上記位相差層形成用層の片面から偏光紫外線を照射することによって、上記位相差層形成用層に配向性を付与するものであるが、本工程において上記偏光紫外線を照射する面としては、位相差層形成用層の透明基板側の表面であってもよく、または、上記透明基板側とは反対側の表面であってもよい。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用層の上記透明基板とは反対側の表面から上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することが好ましい。これは次のような理由によるものである。すなわち、上記透明基板側の表面に偏光紫外線を照射する場合、上記偏光紫外線は透明基板を通して上記位相差層形成用層に照射されることになる。ここで、偏光紫外線が上記透明基板を通過すると、透明基板によって上記偏光紫外線が吸収または散乱され、紫外線の強度が低減したり、あるいは、偏光が緩和されてしまい、上記位相差層形成用層に均一な配向性を付与することが困難となる恐れがある。一方、上記透明基板とは反対側の表面から偏光紫外線を照射する場合は、このようなことがないため、本工程において上記位相差層形成用層に均一な配向規制力を付与することが容易になるからである。   This step is to impart orientation to the retardation layer forming layer by irradiating polarized ultraviolet rays from one side of the retardation layer forming layer. As such, the surface on the transparent substrate side of the phase difference layer forming layer may be used, or the surface opposite to the transparent substrate side may be used. In particular, in this step, it is preferable to irradiate the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet rays from the surface of the retardation layer forming layer opposite to the transparent substrate. This is due to the following reason. That is, when irradiating polarized ultraviolet rays to the surface on the transparent substrate side, the polarized ultraviolet rays are irradiated to the retardation layer forming layer through the transparent substrate. Here, when the polarized ultraviolet light passes through the transparent substrate, the polarized ultraviolet light is absorbed or scattered by the transparent substrate, and the intensity of the ultraviolet light is reduced or the polarized light is relaxed. There is a risk that it may be difficult to impart uniform orientation. On the other hand, when polarized ultraviolet rays are irradiated from the surface opposite to the transparent substrate, this is not the case, so it is easy to impart a uniform alignment regulating force to the retardation layer forming layer in this step. Because it becomes.

本工程において、上記位相差層形成用層に照射される偏光紫外線としては、波長が上記光反応性化合物が有する光反応性基の光反応を生じることができる範囲内のものであれば特に限定されるものではない。このような偏光紫外線は、上記光反応性基および上記架橋性官能基の種類に応じて適宜選択して用いることができる。   In this step, the polarized ultraviolet ray irradiated to the retardation layer forming layer is particularly limited as long as the wavelength is within a range in which the photoreactive group of the photoreactive compound has a photoreactive group. Is not to be done. Such polarized ultraviolet rays can be appropriately selected and used according to the types of the photoreactive group and the crosslinkable functional group.

本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する方法としては、上記位相差層形成用層に所望の振動方向の偏光紫外線を照射できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、上記「A.第1態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様の方法を用いることができる。   In this step, the method for irradiating the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light is not particularly limited as long as it can irradiate the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet light in a desired vibration direction. As such a method, the method similar to the method demonstrated in the above-mentioned "A. Manufacturing method of retardation film of 1st aspect" can be used.

3.位相差層形成用層形成工程
次に、本態様に用いられる位相差層形成用層形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する工程である。
また、本工程により形成される位相差層形成用層は、上述した液晶配列工程、および、配向性付与工程を経て、位相差性を発現する位相差層とされるものである。
以下、このような位相差層形成用層形成工程について詳細に説明する。
3. Next, the phase difference layer forming layer forming step used in this embodiment will be described. This step uses a transparent substrate, and coats a polymer liquid crystal-containing composition containing a liquid crystalline structural unit having liquid crystallinity in the molecule and a photoreactive polymer liquid crystal having a photoreactive group on the transparent substrate. This is a step of forming a retardation layer forming layer on the transparent substrate.
In addition, the retardation layer forming layer formed in this step is a retardation layer that exhibits retardation through the liquid crystal alignment step and the orientation imparting step described above.
Hereinafter, the layer forming process for forming the retardation layer will be described in detail.

(1)高分子液晶含有組成物
まず、本工程に用いられる高分子液晶含有組成物について説明する。本工程に用いられる高分子液晶含有組成物は、分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有するものである。
(1) Polymer liquid crystal containing composition First, the polymer liquid crystal containing composition used for this process is demonstrated. The polymer liquid crystal-containing composition used in this step contains a photoreactive polymer liquid crystal having a liquid crystalline structural unit exhibiting liquid crystallinity and a photoreactive group in the molecule.

本工程に用いられる光反応性高分子液晶が有する光反応性基としては、、特定の波長の紫外線が照射されることによって光化学反応を生じ、本工程により形成される位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような光反応性基としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体等を挙げることができる。   The photoreactive group possessed by the photoreactive polymer liquid crystal used in this step includes a photochemical reaction caused by irradiation with ultraviolet rays having a specific wavelength, and the retardation layer forming layer formed in this step There is no particular limitation as long as it can provide orientation to the liquid crystalline structural unit. Examples of such photoreactive groups include cinnamate, coumarin, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, uracil, quinolinone, maleinimide, and cinnamilidene acetic acid derivatives.

本工程に用いられる光反応性高分子液晶が有する液晶性構造単位としては、規則的に配列させることによって所望の位相差性を発現できるものであれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、任意の液晶性を備えるものを用いることができる。なかでも、本態様においては、上記液晶性構造単位としてネマチック液晶相を示すものを用いることが好ましい。ネマチック液晶相を示す液晶性構造単位は規則的に配列させることが容易だからである。   The liquid crystalline structural unit possessed by the photoreactive polymer liquid crystal used in this step is not particularly limited as long as it can express a desired retardation by being regularly arranged. What has arbitrary liquid crystallinity can be used according to the use etc. of retardation film manufactured. Among these, in this embodiment, it is preferable to use a liquid crystal structural unit that exhibits a nematic liquid crystal phase. This is because liquid crystalline structural units exhibiting a nematic liquid crystal phase can be easily arranged regularly.

本態様に用いられる光反応性高分子液晶は、上記光反応性基を一つのみ有するものであってもよく、または、複数の光反応性基を有するものであってもよい。
また、本態様に用いられる光反応性高分子液晶は、上記液晶性構造単位を一つのみ有するものであってもよく、または、複数の液晶性構造単位を有するものであってもよい。
The photoreactive polymer liquid crystal used in this embodiment may have only one photoreactive group or may have a plurality of photoreactive groups.
Further, the photoreactive polymer liquid crystal used in this embodiment may have only one liquid crystalline structural unit or may have a plurality of liquid crystalline structural units.

本態様に用いられる光反応性高分子液晶の具体例としては、例えば、下記式で表される主鎖が炭化水素、アクリレート、メタクリレート、マレイミド、N−フェニルマレイミド、シロキサンなどの構造を有する光反応性高分子液晶等を挙げることができる。   Specific examples of the photoreactive polymer liquid crystal used in this embodiment include, for example, a photoreaction in which the main chain represented by the following formula has a structure such as hydrocarbon, acrylate, methacrylate, maleimide, N-phenylmaleimide, and siloxane. For example, a functional polymer liquid crystal.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

上記式(V)−1及び(V)−2において、x、y、zはx+y+z=1、x、yはx+y=1、sは1〜12、tは1〜12、uは1〜12、vは1〜12、wは1〜12である。
また、XおよびYはそれぞれ独立して、none、−COO、−OCO、−N=N−、−C=C−、または、−C−を表す。
また、W、W、Wは、それぞれ独立して−H、−CN、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、下記式(VI)−1〜(VI)−8のいずれかで表される構造であり、少なくとも1つは下記式(VI)−1〜(VI)−8で表される構造である。
In the above formulas (V) -1 and (V) -2, x 1 , y 1 , and z 1 are x 1 + y 1 + z 1 = 1, x 2 , y 2 is x 2 + y 2 = 1, and s is 1 to 1 12, t is 1 to 12, u is 1 to 12, v is 1 to 12, and w is 1 to 12.
X and Y each independently represent none, —COO, —OCO, —N═N—, —C═C—, or —C 6 H 4 —.
W 2 , W 3 and W 4 are each independently —H, —CN, a halogen group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an alkenyloxy group, a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, the following formula (VI) -1 to (VI) -8, and at least one of the structures is represented by the following formulas (VI) -1 to (VI) -8.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

さらに、R22〜R32は、それぞれ独立して−H、−CN、ハロゲン基、アルキル基またはメトキシ基などのアルキルオキシ基である。 Furthermore, R 22 to R 32 are each independently an alkyloxy group such as —H, —CN, a halogen group, an alkyl group, or a methoxy group.

なお、本態様においてはこのような光反応性高分子液晶を1種類のみ用いてもよく、または、複数種類の光反応性化合物を混合して用いてもよい。   In this embodiment, only one kind of such a photoreactive polymer liquid crystal may be used, or a plurality of kinds of photoreactive compounds may be mixed and used.

本工程に用いられる高分子液晶含有組成物は、上記光反応性高分子液晶を含有するものであるが、必要に応じて他の物質を含有するものであってもよい。このような他の物質としては、溶媒、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。なかでも本態様においては上記他の構成として溶媒を用いることが好ましい。溶媒を含有することにより、例えば、融点や軟化点が高い光反応性高分子液晶を含む高分子液晶含有組成物を用いる場合であっても、これを室温で塗工することが容易になるからである。   The polymer liquid crystal-containing composition used in this step contains the photoreactive polymer liquid crystal, but may contain other substances as necessary. Examples of such other substances include solvents, plasticizers, surfactants, and silane coupling agents. In particular, in this embodiment, it is preferable to use a solvent as the other configuration. By containing a solvent, for example, even when a polymer liquid crystal-containing composition containing a photoreactive polymer liquid crystal having a high melting point or softening point is used, it can be easily applied at room temperature. It is.

上記溶媒としては、上記光反応性高分子液晶を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、上記「A.第1態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明したものを用いることができる。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the photoreactive polymer liquid crystal at a desired concentration. As such a solvent, those described in the above section “A. Method for producing retardation film of first aspect” can be used.

なお、上記高分子液晶含有組成物が上記溶媒を含有するものである場合、上記高分子液晶含有組成物の固形分濃度としては特に限定されるものではなく、本工程において上記高分子液晶含有組成物を、透明基板上に塗工する塗布方法等に応じて任意の濃度にすることができる。   In addition, when the said polymer liquid crystal containing composition contains the said solvent, it does not specifically limit as solid content concentration of the said polymer liquid crystal containing composition, The said polymer liquid crystal containing composition in this process is not limited. An object can be made into arbitrary density | concentration according to the coating method etc. which apply | coat on a transparent substrate.

(2)透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、透明性を有するものであり、本態様により製造される位相差フィルムにおいて位相差層を支持するものである。
ここで、本態様に用いられる透明基板については、上記「A.第1態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
(2) Transparent substrate Next, the transparent substrate used for this process is demonstrated. The transparent substrate used in this step has transparency, and supports the retardation layer in the retardation film produced according to this embodiment.
Here, the transparent substrate used in this embodiment is the same as that described in the above-mentioned section “A. Method for producing retardation film of first embodiment”, and thus the description thereof is omitted here.

(3)位相差層形成用層の形成方法
本工程は、上記高分子液晶含有組成物を上記透明基板上に塗工することによって位相差層形成用層を形成するものであるが、本工程において上記高分子液晶含有組成物を用いて位相差層形成用層を形成する方法については、上記「A.第1態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。
(3) Method for forming retardation layer forming layer This step is to form the retardation layer forming layer by coating the above-mentioned polymer liquid crystal-containing composition on the transparent substrate. The method for forming the retardation layer-forming layer using the polymer liquid crystal-containing composition is the same as the method described in the section “A. Method for producing retardation film of first aspect” above. Explanation here is omitted.

4.その他の工程
本態様の位相差フィルムの製造方法は、上記各工程以外の他の工程を有するものであってもよい。このような他の工程としては特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムに所望の機能を付与できる工程を任意に用いることができる。このような他の工程としては、例えば、上記液晶配列工程後に上記位相差層に紫外線を照射する工程を例示することができる。上記液晶配列工程後に上記位相差層に紫外線を照射することにより、配向性付与工程での偏光紫外線照射では反応していなかった光反応性高分子液晶の光反応性基を反応させ、架橋構造をとらせることにより、位相差層の耐熱性が向上する。
4). Other Steps The method for producing a retardation film of this aspect may include steps other than the above steps. Such other steps are not particularly limited, and a step capable of imparting a desired function to the retardation film produced according to this embodiment can be arbitrarily used. Examples of such other steps include a step of irradiating the retardation layer with ultraviolet rays after the liquid crystal alignment step. By irradiating the retardation layer with ultraviolet rays after the liquid crystal alignment step, the photoreactive group of the photoreactive polymer liquid crystal that has not reacted by the irradiation with polarized ultraviolet rays in the orientation imparting step is reacted to form a crosslinked structure. By taking it, the heat resistance of the retardation layer is improved.

5.位相差フィルム
本態様の位相差フィルムの製造方法によって製造される位相差フィルムは、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記光反応性高分子液晶を含有する位相差層とを有するものとなる。
5. Retardation Film A retardation film produced by the method for producing a retardation film of this embodiment has the transparent substrate and a retardation layer formed on the transparent substrate and containing the photoreactive polymer liquid crystal. It will be a thing.

このような位相差フィルムは、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム(例えば、視野角補償フィルム)、楕円偏光板、円偏光板、輝度向上板等として用いることができる。   Such a retardation film can be used, for example, as an optical compensation film (for example, a viewing angle compensation film) used in a liquid crystal display device, an elliptically polarizing plate, a circularly polarizing plate, and a brightness enhancement plate.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

次に、実施例を示すことにより本発明についてさらに具体的に説明する。   Next, the present invention will be described more specifically by showing examples.

(合成例1)
ポリ〔1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕(下記式A)の合成
(Synthesis Example 1)
Synthesis of poly [1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene] (formula A below)

Figure 2008089894
Figure 2008089894

1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン4.91質量部、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.018質量部を脱水テトラヒドロフラン28質量部に溶解した。窒素雰囲気下、65℃で25時間加熱した。得られた反応溶液を800mlのメタノールに滴下し、沈降物をろ過し、減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をメタノール1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。重量平均分子量116000(GPC:溶媒THF、ポリスチレン換算)であるポリ〔1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕3.6質量部が得られた。   1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene 4.91 parts by mass, 2,2 ′ -0.018 parts by mass of azobisisobutyronitrile was dissolved in 28 parts by mass of dehydrated tetrahydrofuran. Heated at 65 ° C. for 25 hours under nitrogen atmosphere. The obtained reaction solution was added dropwise to 800 ml of methanol, the precipitate was filtered, and dried under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was dropped into 1 L of methanol, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. Poly [1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxy having a weight average molecular weight of 116000 (GPC: solvent THF, converted to polystyrene) 3.6 parts by mass of [carbonyl] -1-methylethylene] were obtained.

(合成例2)
ポリ[7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]の合成
(Synthesis Example 2)
Synthesis of poly [7-{[4- (6-methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin]

Chem.Mater.,Vol.13,No.2,2001,694−703に記載の方法と同様に合成し、7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリンを得た。
7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン1.1質量部、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.04質量部、メルカプトプロピオン酸0.06質量部を脱水テトラヒドロフラン7質量部に溶解した。窒素雰囲気下、65℃で19時間加熱した。得られた反応溶液をメタノール600mlに滴下し、沈降物をろ過、メタノールで洗浄後、室温で減圧乾燥を行った。得られた固体にメチルエチルケトン15gを添加、攪拌後、ろ過によりメチルエチルケトンに不溶な部分は除去した。メチルエチルケトン溶液をメタノール800mlに滴下し、沈降物をろ過、減圧乾燥を行った。重量平均分子量5100(GPC:溶媒THF、ポリスチレン換算)であるポリ[7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]0.25質量部が得られた。このポリマーは51℃から77℃の範囲で液晶性を呈した。
Chem. Mater. , Vol. 13, no. Synthesis was performed in the same manner as described in 2,2001,694-703 to obtain 7-{[4- (6-methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin.
7-{[4- (6-Methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin 1.1 parts by mass, 2,2′-azobisisobutyronitrile 0.04 parts by mass, mercaptopropionic acid 0.06 parts by mass Dissolved in 7 parts by mass of dehydrated tetrahydrofuran. The mixture was heated at 65 ° C. for 19 hours under a nitrogen atmosphere. The obtained reaction solution was added dropwise to 600 ml of methanol, the precipitate was filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature. 15 g of methyl ethyl ketone was added to the obtained solid, and after stirring, the portion insoluble in methyl ethyl ketone was removed by filtration. The methyl ethyl ketone solution was added dropwise to 800 ml of methanol, and the precipitate was filtered and dried under reduced pressure. As a result, 0.25 parts by mass of poly [7-{[4- (6-methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin] having a weight average molecular weight of 5100 (GPC: solvent THF, polystyrene conversion) was obtained. This polymer exhibited liquid crystallinity in the range of 51 ° C to 77 ° C.

1.実施例1
(遮蔽層の作製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET−30、日本化薬製)40質量部、光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(商品名 IRGACURE184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)2質量部、メチルエチルケトン29質量部、トルエン58質量部からなる溶液を、トリアセチルセルロースフィルム(FT−T80UZ、富士写真フィルム社製)上にバーコートし、80℃で3分間乾燥後、UV照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン(株)製、光源:Hバルブ)を用いて窒素雰囲気下70mJ/cmの紫外線を照射して膜厚1μmの遮蔽層を作製した。
1. Example 1
(Production of shielding layer)
Pentaerythritol triacrylate (PET-30, Nippon Kayaku) 40 parts by mass, photopolymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone (trade name IRGACURE184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts by mass, methyl ethyl ketone 29 parts by mass A solution consisting of 58 parts by mass of toluene is bar-coated on a triacetylcellulose film (FT-T80UZ, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), dried at 80 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with a UV irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.). A light-shielding layer having a thickness of 1 μm was produced by irradiating with an ultraviolet ray of 70 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere using a light source (manufactured, light source: H bulb).

(紫外線硬化性組成物の調製)
光反応性化合物:ポリ〔1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン〕(合成例1の化合物)2質量部、架橋性液晶材料:下記式(B)で表される化合物 8質量部、光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(商品名IRGACURE184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)0.004質量部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分10%溶液として、紫外線硬化性組成物を調製した。
(Preparation of UV curable composition)
Photoreactive compound: poly [1- [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene] (synthesis) Compound of Example 1) 2 parts by mass, crosslinkable liquid crystal material: compound represented by the following formula (B) 8 parts by mass, photopolymerization initiator: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (trade name IRGACURE184, Ciba Specialty) Chemicals) 0.004 parts by mass was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a UV curable composition as a 10% solid content solution.

Figure 2008089894
Figure 2008089894

ここで、上記式(B)におけるa、bはそれぞれ2〜5の整数である。   Here, a and b in the above formula (B) are integers of 2 to 5, respectively.

(位相差層の形成)
上記紫外線硬化性組成物を上記工程で作製した遮蔽層上にワイヤーバーにて塗工し、30℃で3分間加熱乾燥し、位相差層形成用層を形成した。
500WのDeepUVランプによる紫外線照射装置にカットフィルターとしてショット製WG280と朝日分光製SU0325を配置して波長制限し、さらにワイヤーグリッド偏光板を透過させることにより偏光紫外線とした。透明基板であるトリアセチルセルロースとは反対面から、上記位相差層形成用層の膜面に対し垂直方向から偏光紫外線を8mJ/cm大気中で照射した。ここでの偏光紫外線照射量は、照射強度と照射時間から算出し、照射強度はセンサーS−310(測定範囲280〜360nm)を用いてUV RADIO METER UVR−400A(アズワン株式会社製)で測定した。、偏光紫外線を照射後、偏光紫外線が照射された面側から温風が当たるように、100℃に設定したオーブン中に配置し、3分間加熱した。この加熱により液晶を配向させた後、窒素雰囲気下120mJ/cm非偏光紫外線を照射して塗膜を硬化させた。これにより、配列した液晶が固定化され、位相差フィルムを製造した。この位相差層の膜厚は0.8μmであった。
(Formation of retardation layer)
The ultraviolet curable composition was coated on the shielding layer prepared in the above step with a wire bar, and heated and dried at 30 ° C. for 3 minutes to form a retardation layer forming layer.
A shot WG280 and Asahi Spectroscopic SU0325 were placed as a cut filter in an ultraviolet irradiation device using a 500 W Deep UV lamp to limit the wavelength, and further, the wire grid polarizing plate was transmitted to obtain polarized ultraviolet rays. From the surface opposite to the transparent substrate triacetylcellulose, polarized ultraviolet rays were irradiated in the air at 8 mJ / cm 2 from the direction perpendicular to the film surface of the retardation layer forming layer. Here, the irradiation amount of polarized ultraviolet rays was calculated from the irradiation intensity and the irradiation time, and the irradiation intensity was measured with a UV RADIO METER UVR-400A (manufactured by ASONE Corporation) using a sensor S-310 (measurement range 280 to 360 nm). . Then, after irradiating polarized ultraviolet light, it was placed in an oven set at 100 ° C. and heated for 3 minutes so that warm air was applied from the side irradiated with polarized ultraviolet light. After aligning the liquid crystal by this heating, 120 mJ / cm 2 non-polarized ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere to cure the coating film. Thereby, the aligned liquid crystal was fixed, and a retardation film was produced. The thickness of this retardation layer was 0.8 μm.

(評価)
このように得られた位相差フィルムについて、自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製,自動複屈折計KOBRA−WR)を用い、波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ63nmであった。また、濁度計NDH2000(日本電色工業(株)社製)にてヘイズを測定したところ、1.5%であった。
(Evaluation)
The retardation film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring apparatus (manufactured by Oji Scientific Instruments, automatic birefringence meter KOBRA-WR). Met. Moreover, it was 1.5% when haze was measured with the turbidimeter NDH2000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

2.実施例2
(高分子液晶含有組成物の調製)
光反応性高分子液晶:ポリ[7-{[4−(6−メタクリロイルオキシ)ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン](合成例2の化合物)2質量部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分5%溶液として、高分子液晶含有組成物を調製した。
2. Example 2
(Preparation of polymer liquid crystal-containing composition)
Photoreactive polymer liquid crystal: 2 parts by mass of poly [7-{[4- (6-methacryloyloxy) hexyloxy] benzoyloxy} coumarin] (Compound of Synthesis Example 2) is dissolved in methyl ethyl ketone to obtain a 5% solid content solution. A polymer liquid crystal-containing composition was prepared.

(位相差層の形成)
上記高分子液晶含有組成物を実施例1と同様の工程で作製した遮蔽層上にワイヤーバーにて塗工し、30℃で3分間加熱乾燥し、位相差層形成用層を形成した。
500WのDeepUVランプによる紫外線照射装置にカットフィルターとしてショット製WG280と朝日分光製SU0325を配置して波長制限し、さらにワイヤーグリッド偏光板を透過させることにより偏光紫外線とした。透明基板であるトリアセチルセルロースとは反対面から、上記位相差層形成用層の膜面に対し垂直方向から偏光紫外線を20mJ/cm大気中で照射した。偏光紫外線を照射後、偏光紫外線が照射された面側から温風が当たるように、65℃に設定したオーブン中に配置し、3分間加熱した。これにより液晶が配列し、位相差フィルムを製造した。この位相差層の膜厚は0.8μmであった。
(Formation of retardation layer)
The polymer liquid crystal-containing composition was coated on the shielding layer prepared in the same process as in Example 1 with a wire bar, and dried by heating at 30 ° C. for 3 minutes to form a retardation layer forming layer.
A shot WG280 and Asahi Spectroscopic SU0325 were placed as a cut filter in an ultraviolet irradiation device using a 500 W Deep UV lamp to limit the wavelength, and further, the wire grid polarizing plate was transmitted to obtain polarized ultraviolet rays. From the surface opposite to the transparent substrate triacetylcellulose, polarized ultraviolet rays were irradiated in the air at 20 mJ / cm 2 from the direction perpendicular to the film surface of the retardation layer forming layer. After irradiating polarized ultraviolet rays, it was placed in an oven set at 65 ° C. and heated for 3 minutes so that warm air hits the surface irradiated with polarized ultraviolet rays. Thereby, the liquid crystal was aligned, and a retardation film was produced. The thickness of this retardation layer was 0.8 μm.

(評価)
このように得られた位相差フィルムの波長590nmにおける面内位相差は50nm、ヘイズは2%であった。
(Evaluation)
The retardation film thus obtained had an in-plane retardation at a wavelength of 590 nm of 50 nm and a haze of 2%.

3.比較例
偏光紫外線照射後の加熱を、100℃のホットプレート上にトリアセチルセルロースが接するように3分間置き、偏光紫外線が照射された面とは反対の側から加熱した以外は実施例と同様にしてサンプルを作製した。得られたフィルムの波長590nmにおける面内位相差は15nm、ヘイズは18%であった。
3. Comparative Example Heating after irradiation with polarized ultraviolet rays was performed for 3 minutes so that triacetylcellulose was in contact with a 100 ° C. hot plate, and heating was performed from the opposite side to the surface irradiated with polarized ultraviolet rays. A sample was prepared. The obtained film had an in-plane retardation at a wavelength of 590 nm of 15 nm and a haze of 18%.

本発明の第1態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the phase difference film of the 1st aspect of this invention. 本発明の第2態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the phase difference film of the 2nd aspect of this invention. 一般的な液晶表示装置の一部を模式的に示す概略図である。It is the schematic which shows a part of common liquid crystal display device typically.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 透明基板
2A,2B … 位相差層
2A’,2B’ … 位相差層形成用層
10A,10B … 位相差フィルム
100 … 液晶表示装置
101 … 液晶セル
102A,102B … 偏光板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2A, 2B ... Phase difference layer 2A ', 2B' ... Phase difference layer formation layer 10A, 10B ... Phase difference film 100 ... Liquid crystal display device 101 ... Liquid crystal cell 102A, 102B ... Polarizing plate

Claims (5)

透明基板を用い、前記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、前記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、
前記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、前記光反応性化合物を反応させることによって前記位相差層形成用層に前記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、
前記位相差層形成用層の前記偏光紫外線が照射された面の表面が、前記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に前記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように前記位相差層形成用層を加温することにより、前記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、
前記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とすることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
By applying a UV curable composition containing a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group and a photoreactive compound having a photoreactive group on the transparent substrate, using the transparent substrate, the transparent A phase difference layer forming layer forming step of forming a phase difference layer forming layer on the substrate;
Alignment imparting step in which the retardation layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet rays from one side and the photoreactive compound is reacted to cause the retardation layer forming layer to exhibit orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material; and ,
The crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material is such that the surface of the phase difference layer forming layer irradiated with the polarized ultraviolet light has a surface opposite to the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. A liquid crystal alignment step of aligning the crosslinkable liquid crystal material by heating the retardation layer forming layer to reach
A liquid crystal cross-linking step of cross-linking the cross-linkable liquid crystal material aligned in the liquid crystal alignment step.
前記光反応性化合物が、下記式(I)および(II)で表される光反応性基の少なくとも1つを有することを特徴とする、請求項1に記載の位相差フィルムの製造方法。
Figure 2008089894
(上記式(I)および(II)において、A、A,Aは、それぞれ独立に未置換、または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、アルコキシ、または、アルキルオキシカルボニルで置換された1,4−フェニレン、4,4’−ビフェニレン、1,4−ナフチレン、2,6−ナフチレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピペリジン−1,4−ジイル、または、ピペラジン−1,4−ジイルを表す。
は、水素、炭素数1〜4のアルキル、または、炭素数1〜4のアルコキシを表す。
は、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数2〜6のアルキルオキシカルボニル、または、シアノを表す。
は水素、未置換または任意のフッ素、塩素で置換された炭素数1〜20のアルキルを表す。)
The method for producing a retardation film according to claim 1, wherein the photoreactive compound has at least one photoreactive group represented by the following formulas (I) and (II).
Figure 2008089894
(In the above formulas (I) and (II), A 1 , A 2 , A 3 are each independently unsubstituted or optionally substituted with fluorine, chlorine, cyano, alkyl, alkoxy, or alkyloxycarbonyl. 1,4-phenylene, 4,4′-biphenylene, 1,4-naphthylene, 2,6-naphthylene, pyridine-2,5-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, 1,3-dioxane-2,5 -Represents diyl, piperidine-1,4-diyl or piperazine-1,4-diyl.
R 1 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons, or alkoxy having 1 to 4 carbons.
R 2 represents hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, alkyloxycarbonyl having 2 to 6 carbon atoms, or cyano.
R 3 represents hydrogen, unsubstituted or alkyl having 1 to 20 carbon atoms substituted with any fluorine or chlorine. )
透明基板を用い、前記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、前記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、
前記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、前記光反応性基を反応させることによって前記位相差層形成用層に前記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、
前記位相差層形成用層の前記偏光紫外線が照射された面の表面が、前記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に前記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように前記位相差層形成用層を加温することにより、前記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程と、を有することを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
By applying a polymer liquid crystal-containing composition containing a photoreactive polymer liquid crystal having a liquid crystalline structural unit exhibiting liquid crystallinity in the molecule and a photoreactive group on the transparent substrate using a transparent substrate, A retardation layer forming layer forming step of forming a retardation layer forming layer on the transparent substrate;
Alignment imparting step in which the retardation layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet rays from one side and the photoreactive group is reacted to cause the retardation layer forming layer to exhibit orientation with respect to the liquid crystalline structural unit; ,
The surface of the surface of the retardation layer forming layer irradiated with the polarized ultraviolet light is a glass phase-liquid crystal of the photoreactive polymer liquid crystal before the surface opposite to the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. And a liquid crystal alignment step of aligning the liquid crystalline structural units by heating the retardation layer forming layer so as to reach a phase transition temperature.
前記液晶配列工程が、前記配向性付与工程において前記偏光紫外線が照射された面側のみから、前記位相差層形成用層を加温するものであることを特徴とする、請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルムの製造方法。   The liquid crystal alignment step is to heat the retardation layer forming layer only from the surface side irradiated with the polarized ultraviolet rays in the orientation imparting step. The method for producing a retardation film according to claim 3. 前記配向性付与工程が、前記位相差層形成用層の前記透明基板とは反対面側から、前記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射するものであることを特徴とする、請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルムの製造方法。   The orientation imparting step irradiates the retardation layer forming layer with polarized ultraviolet rays from the side of the retardation layer forming layer opposite to the transparent substrate. The method for producing a retardation film according to any one of claims 1 to 4.
JP2006269831A 2006-09-29 2006-09-29 Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film Pending JP2008089894A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006269831A JP2008089894A (en) 2006-09-29 2006-09-29 Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006269831A JP2008089894A (en) 2006-09-29 2006-09-29 Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008089894A true JP2008089894A (en) 2008-04-17

Family

ID=39374125

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006269831A Pending JP2008089894A (en) 2006-09-29 2006-09-29 Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008089894A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013257550A (en) * 2012-05-15 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Laminate substrate, laminate, polarizing plate, liquid crystal display panel, and image display device
JP2015172756A (en) * 2015-04-21 2015-10-01 大阪有機化学工業株式会社 Method for manufacturing retardation film
JP5843772B2 (en) * 2010-07-28 2016-01-13 大阪有機化学工業株式会社 Copolymerizable (meth) acrylic acid polymer, photo-alignment film and retardation film
WO2016147923A1 (en) * 2015-03-13 2016-09-22 三菱樹脂株式会社 Optical film and method for manufacturing same
WO2019013144A1 (en) * 2017-07-14 2019-01-17 シャープ株式会社 Polarized uv irradiation device, production method for photo-alignment film, production method for phase difference layer, and production method for liquid crystal display device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5843772B2 (en) * 2010-07-28 2016-01-13 大阪有機化学工業株式会社 Copolymerizable (meth) acrylic acid polymer, photo-alignment film and retardation film
JP2013257550A (en) * 2012-05-15 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Laminate substrate, laminate, polarizing plate, liquid crystal display panel, and image display device
WO2016147923A1 (en) * 2015-03-13 2016-09-22 三菱樹脂株式会社 Optical film and method for manufacturing same
CN107430233A (en) * 2015-03-13 2017-12-01 三菱化学株式会社 Optical thin film and its manufacture method
JP2020170179A (en) * 2015-03-13 2020-10-15 三菱ケミカル株式会社 Optical film and manufacturing method therefor
CN107430233B (en) * 2015-03-13 2021-03-16 三菱化学株式会社 Optical film and method for producing the same
CN112526665A (en) * 2015-03-13 2021-03-19 三菱化学株式会社 Optical film and method for producing the same
JP6996590B2 (en) 2015-03-13 2022-01-17 三菱ケミカル株式会社 Optical film and its manufacturing method
CN112526665B (en) * 2015-03-13 2023-01-03 三菱化学株式会社 Optical film and method for producing the same
JP2015172756A (en) * 2015-04-21 2015-10-01 大阪有機化学工業株式会社 Method for manufacturing retardation film
WO2019013144A1 (en) * 2017-07-14 2019-01-17 シャープ株式会社 Polarized uv irradiation device, production method for photo-alignment film, production method for phase difference layer, and production method for liquid crystal display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007297606A (en) Ultraviolet-curable composition, retardation film and method for producing retardation film
JP5531419B2 (en) Compound and optical film containing the compound
EP2110390B1 (en) Polymerizable composition
EP2130843B1 (en) Polymerizable compounds and polymerizable compositions
US7981320B2 (en) Polymerizable composition
JP7377927B2 (en) Anisotropic light absorption film and laminate
EP2261201B1 (en) Trifunctional (meth)acrylate compound and polymerizable composition containing the compound
EP2067796B1 (en) Polymerizable compound and polymerizable composition
TWI611256B (en) Photosensitive polymer, photo-aligning phase difference agent, phase difference film, optical film, display device and laminate
KR20120008425A (en) Optical film, preparation method of the same, and liquid crystal display comprising the same
JP4788123B2 (en) Photopolymerizable liquid crystal composition, polymer thereof or polymer composition and optically anisotropic film
JP2010030979A (en) Compound, optical film and method for producing optical film
JP2007501958A (en) Alignment layer for aligning liquid crystal molecules with reactive mesogens
JP6636253B2 (en) Retardation film, method for producing the same, and optical member having the retardation film
JP2009108152A (en) Polymerizable compound and optical film
JP2019191507A (en) Light absorption anisotropic film, laminate, method of manufacturing laminate, and image display device
JP2018151535A (en) Phase difference film, transfer laminate, optical member, method for producing optical member, and display device
JP2008276165A (en) Photosensitive material for forming optically functional layer, composition for forming optically functional layer, optically functional film, and production method of optically functional film
US11314007B2 (en) Circularly polarizing plate
JP2004262884A (en) Non-liquid crystalline (meth)acrylate compound, liquid crystalline composition, cholesteric liquid crystal composition, optical film and image displaying device
KR20120120082A (en) Liquid crystal composition
JP2008089894A (en) Method for manufacturing retardation filmmethod for manufacturing retardation film
JP2010001284A (en) Compound and optical film
US11543697B2 (en) Polarizer and image display device
JP2007114739A (en) Optical anisotropic polymer film, polarizing film, manufacturing method thereof and application use thereof