JP2008276165A - Photosensitive material for forming optically functional layer, composition for forming optically functional layer, optically functional film, and production method of optically functional film - Google Patents

Photosensitive material for forming optically functional layer, composition for forming optically functional layer, optically functional film, and production method of optically functional film Download PDF

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政人 岡田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optically functional film which has a transparent substrate and an optically functional layer directly formed on the transparent substrate without any alignment layer interposed in between, and containing a liquid crystalline material, is excellent in materializing an optical function, and has only slight haze, and a photosensitive compound for forming the optically functional layer used therefor. <P>SOLUTION: The invention includes: a photosensitive compound for forming the optically functional layer which is characterized in that it has a photoreactive group exhibiting photoreactivity and a lyophobic group exhibiting a lyophobic property; the transparent substrate; and the optically functional film formed on the transparent substrate and having the optically functional layer containing a reaction product of the photosensitive compound for forming the optically functional layer related to the invention, and a cross-linked product of a cross-linking liquid crystal material with a cross-linking functional group, and is characterized in that the reaction product of the photosensitive compound for forming the optically functional layer is unevenly distributed on the surface of the optically functional layer on the side opposite to the transparent substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は液晶表示装置用の視野角補償フィルム等に用いられる光学機能フィルム、および、これに用いられる光学機能層形成用感光性化合物等に関するものである。   The present invention relates to an optical functional film used for a viewing angle compensation film for a liquid crystal display device, and a photosensitive compound for forming an optical functional layer used therefor.

液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のCRTディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、図4に示すように、入射側の偏光板102Aと、出射側の偏光板102Bと、液晶セル101とを有するものを挙げることができる。偏光板102Aおよび102Bは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光(図中、矢印で模式的に図示)のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル101は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板102Aと102Bとの間に配置されている。   The liquid crystal display device has features such as power saving, light weight, thinness, and the like, and has rapidly spread in recent years in place of the conventional CRT display. As a general liquid crystal display device, as shown in FIG. 4, a liquid crystal display device having an incident side polarizing plate 102 </ b> A, an outgoing side polarizing plate 102 </ b> B, and a liquid crystal cell 101 can be exemplified. The polarizing plates 102A and 102B are configured to selectively transmit only linearly polarized light (schematically illustrated by arrows in the figure) having a vibration surface in a predetermined vibration direction. They are arranged to face each other in a crossed Nicol state so as to have a right angle relationship with each other. The liquid crystal cell 101 includes a large number of cells corresponding to the pixels, and is disposed between the polarizing plates 102A and 102B.

液晶表示装置には特有の欠点として視野角特性の問題がある。視野角特性の問題とは、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とでコントラストや色味等が変化する問題である。このような問題は、液晶表示装置に用いられる液晶セルが複屈折性を示すことやクロスニコルに配置された2枚の偏光板を有することに起因するものである。   The liquid crystal display device has a problem of viewing angle characteristics as a peculiar defect. The problem of viewing angle characteristics is a problem in which contrast, color, and the like change between when the liquid crystal display device is viewed from the front and when viewed from an oblique direction. Such a problem is caused by the fact that the liquid crystal cell used in the liquid crystal display device has birefringence and has two polarizing plates arranged in crossed Nicols.

このような視野角特性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されている。そして、その代表的な方法の一つに所定の複屈折性を有する位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、液晶表示装置における液晶セルと偏光板との間に所定の複屈折性を示す位相差フィルムを配置することによって視野角特性を改善する方法である。このような方法は、液晶セルの種類に応じて複屈折性の異なる位相差フィルムを用いることにより、様々の光学特性を有する液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角依存性の問題を改善できる点において有用であり、現在種々の表示方式を採用した液晶表示装置において採用されるに至っている。   Various techniques have been developed so far to improve such viewing angle characteristics. One of the typical methods is a method using a retardation film having a predetermined birefringence. This method using a retardation film is a method for improving viewing angle characteristics by disposing a retardation film exhibiting a predetermined birefringence between a liquid crystal cell and a polarizing plate in a liquid crystal display device. Such a method can improve the viewing angle dependency problem of a liquid crystal display device using a liquid crystal cell having various optical characteristics by using a retardation film having different birefringence depending on the type of the liquid crystal cell. In this respect, it is useful in liquid crystal display devices that employ various display methods.

上記位相差フィルムとしては、従来、基材と、上記基材上に形成された配向膜と、上記配向膜上に形成され、液晶材料を含有する位相差層とを有するものが広く用いられてきた。このような位相差フィルムは、上記位相差層において上記液晶材料が上記配向膜の配向規制力に従って規則的に配列されていることにより、所望の複屈折性を発現することができるものである。   As the retardation film, those having a substrate, an alignment film formed on the substrate, and a retardation layer formed on the alignment film and containing a liquid crystal material have been widely used. It was. Such a retardation film can exhibit desired birefringence when the liquid crystal material is regularly arranged in the retardation layer in accordance with the alignment regulating force of the alignment film.

ところで、近年においては上記位相差フィルムとして上記配向膜を必要としないもの、すなわち、上記基材上に、位相差層が直接形成された構成を有する位相差フィルムが開発されている(特許文献1および特許文献2)。このような配向膜を必要としない位相差フィルムは、従来の配向膜を用いる位相差フィルムでは実現することが困難であった、液晶材料の3次元配向が可能であったり、また、複数の位相差層を積層することが可能であったり、さらには、位相差フィルムの製造工程を簡略化することができるという利点を有する。   By the way, in recent years, a retardation film that does not require the alignment film as the retardation film, that is, a retardation film having a structure in which a retardation layer is directly formed on the substrate has been developed (Patent Document 1). And Patent Document 2). Such a retardation film that does not require an alignment film is capable of three-dimensional alignment of a liquid crystal material, which has been difficult to achieve with a retardation film using a conventional alignment film, and has a plurality of positions. It has an advantage that a retardation layer can be laminated, and furthermore, a manufacturing process of a retardation film can be simplified.

しかしながら、特許文献1および特許文献2に開示されている位相差フィルムは、位相差性を発現する位相差層として、液晶材料と、上記液晶材料を配向させる配向性化合物が混在するものが用いられることになるため、上記配向性化合物の存在によって上記液晶材料の配列が阻害されてしまうという欠点があった。上記液晶材料の配列が阻害されてしまうと、上記位相差層のヘイズが大きくなったり、位相差性の発現性が低下してしまうことから、このような配向膜を用いない位相差フィルムにおいては、透明性および位相差性の発現性に優れた位相差フィルムを得ることが困難であるという問題点があった。   However, in the retardation films disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, a liquid crystal material and an alignment compound that aligns the liquid crystal material are mixed as a retardation layer that exhibits retardation. Therefore, there is a drawback that the alignment of the liquid crystal material is hindered by the presence of the alignment compound. If the alignment of the liquid crystal material is hindered, the haze of the retardation layer is increased or the expression of retardation is reduced, so in a retardation film that does not use such an alignment film. In addition, there is a problem that it is difficult to obtain a retardation film excellent in transparency and retardation.

特表2002−517605号公報Special table 2002-517605 gazette 特開2002−82224号公報JP 2002-82224 A

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する光学機能層とを有する光学機能フィルムであって、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルム、および、これに用いられる光学機能層形成用感光性化合物を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and is an optical functional film having a transparent substrate and an optical functional layer formed directly on the transparent substrate without an alignment film and containing a liquid crystalline material. The main object of the present invention is to provide an optical functional film having excellent optical function and low haze, and a photosensitive compound for forming an optical functional layer used therefor.

上記課題を解決するために、本発明は、光反応性を示す光反応性基と、疎液性を示す疎液性基とを有することを特徴とする光学機能層形成用感光性化合物を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a photosensitive compound for forming an optical functional layer, which has a photoreactive group exhibiting photoreactivity and a lyophobic group exhibiting lyophobicity. To do.

本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、上記疎液性基を有することから、例えば、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を液晶材料と混合して塗工液を調整し、これを用いて光学機能層を形成する際に、表面に上記光学機能層形成用感光性化合物またはその反応物が偏在した光学機能層を形成することができる。このため、本発明の光学機能層形成用感光性化合物によれば、上記光学機能層において上記液晶材料の配列性を向上させることができるため、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成することができる。   Since the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention has the lyophobic group, for example, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is mixed with a liquid crystal material to prepare a coating solution, When forming an optical functional layer using this, the optical functional layer in which the photosensitive compound for forming an optical functional layer or a reaction product thereof is unevenly distributed on the surface can be formed. For this reason, according to the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, the alignment of the liquid crystal material can be improved in the optical functional layer, so that the optical function has excellent optical function and has a small haze. A layer can be formed.

本発明においては、上記疎液性基が、ケイ素またはフッ素を含有するものであることが好ましい。また、本発明においては、上記疎液性基がジメチルシロキサン鎖またはフルオロアルキル鎖であることが好ましい。このような疎液性基を有することにより、本発明の光学機能層形成用感光性化合物をより疎液性の高いものにできるため、本発明の光学機能層形成用感光性化合物と液晶材料とを混合して塗工液を調整し、これを用いて光学機能層を形成する際に、上記光学機能層形成用感光性化合物またはその反応物の表面への偏在をより著しくすることができる。この光学機能層形成用感光性化合物またはその反応物の表面への偏在により、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いてより光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを製造することが可能になるからである。   In the present invention, the lyophobic group preferably contains silicon or fluorine. In the present invention, the lyophobic group is preferably a dimethylsiloxane chain or a fluoroalkyl chain. By having such a lyophobic group, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention can be made more lyophobic. Therefore, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, a liquid crystal material, When the coating solution is prepared by mixing and forming an optical functional layer using this, uneven distribution on the surface of the photosensitive compound for forming an optical functional layer or a reaction product thereof can be made more remarkable. Due to the uneven distribution of the photosensitive compound for forming an optical functional layer or a reaction product thereof on the surface, an optical functional film having excellent optical function and low haze is obtained using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. It is because it becomes possible to manufacture.

また、本発明においては、上記光反応性基がメソゲン構造を有するものであってもよい。上記光反応性基がメソゲン構造を有することにより、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて、さらに光学機能の発現性に優れた光学機能フィルムを製造することが可能になるからである。   In the present invention, the photoreactive group may have a mesogenic structure. Since the photoreactive group has a mesogenic structure, it becomes possible to produce an optical functional film having further excellent optical function using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. is there.

さらに、本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、上記光反応性基を有する光反応性モノマーと、上記疎液性基を有する疎液性モノマーとが共重合されてなるものであってもよい。このような構造を有することにより、例えば、上記光反応性モノマーと、上記疎液性モノマーとの重合比を適宜変更することにより、本発明の光学機能層形成用感光性化合物が示す疎液性を、本発明の光学機能層形成用感光性化合物の具体的な用途に応じて任意に調整することが容易になるからである。   Furthermore, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is obtained by copolymerizing the photoreactive monomer having the photoreactive group and the lyophobic monomer having the lyophobic group. Also good. By having such a structure, for example, by appropriately changing the polymerization ratio between the photoreactive monomer and the lyophobic monomer, the lyophobic property exhibited by the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is shown. This is because it can be easily adjusted as desired according to the specific use of the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention.

また上記課題を解決するために、本発明は、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物と、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料とを含むことを特徴とする光学機能層形成用組成物を提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention includes an optical functional layer forming comprising the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention and a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group. A composition is provided.

本発明の光学機能層形成用組成物は、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物を含有するため、本発明の光学機能層形成用組成物を塗工して光学機能層を形成した際に、上記光学機能層形成用感光性化合物、あるいは、その反応物が表面に偏在した光学機能層を形成することができる。このため、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて形成される光学機能層は、上記光学機能層形成用感光性化合物の存在によって、上記架橋性液晶材料の配列性が阻害されることが少ないものにできる。このため、本発明によれば、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成することができる。   Since the composition for forming an optical functional layer of the present invention contains the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention, the optical functional layer is formed by coating the composition for forming an optical functional layer of the present invention. In this case, an optical functional layer in which the photosensitive compound for forming an optical functional layer or a reaction product thereof is unevenly distributed on the surface can be formed. For this reason, in the optical functional layer formed using the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the alignment of the crosslinkable liquid crystal material is inhibited by the presence of the photosensitive compound for forming an optical functional layer. Can be reduced. For this reason, according to the present invention, it is possible to form an optical functional layer having excellent optical function and low haze.

本発明の光学機能層形成用組成物は溶媒を含むことが好ましい。溶媒を含むことにより、本発明の光学機能層形成用組成物を塗工して光学機能層を形成する際に、上記光学機能層形成用感光性化合物が表面により偏在化された光学機能層を形成することができるため、さらに光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを形成することができるからである。   The composition for forming an optical functional layer of the present invention preferably contains a solvent. When the optical functional layer is formed by coating the composition for forming an optical functional layer of the present invention by including a solvent, the optical functional layer in which the photosensitive compound for forming an optical functional layer is unevenly distributed on the surface is provided. This is because it can be formed, so that it is possible to form an optical functional film that is further excellent in optical function expression and has a small haze.

また、本発明の光学機能層形成用組成物は上記光学機能層形成用感光性化合物の含有量が全固形分に対して1質量%以下であることが好ましい。これにより、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて、よりヘイズが小さい光学機能層を形成することが可能になるからである。   In the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the content of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is preferably 1% by mass or less based on the total solid content. This is because an optical functional layer having a smaller haze can be formed using the composition for forming an optical functional layer of the present invention.

また、上記課題を解決するために本発明は、透明基板、および、上記透明基板上に形成され、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物の反応物と、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料の架橋物とを含有する光学機能層を有する光学機能フィルムであって、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に偏在していることを特徴とする光学機能フィルムを提供する。   Moreover, in order to solve the said subject, this invention has a crosslinkable functional group and the reaction material of the photosensitive compound for optical function layer formation which is formed on the transparent substrate and the said transparent substrate according to the said this invention. An optical functional film having an optical functional layer containing a cross-linked product of a cross-linkable liquid crystal material, wherein the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is opposite to the transparent substrate of the optical functional layer. Provided is an optical functional film characterized by being unevenly distributed on the surface.

本発明によれば、上記光学機能層において上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に偏在していることから、上記光学機能層に上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が存在することによって、上記架橋性液晶材料の架橋物の配列性が阻害されることを防止できる。このため、本発明によれば光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを得ることができる。   According to the present invention, the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer in the optical functional layer is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. The presence of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer in the layer can prevent the alignment of the cross-linked product of the cross-linkable liquid crystal material from being inhibited. For this reason, according to this invention, the optical function film which is excellent in the expressibility of an optical function and has a small haze can be obtained.

本発明の光学機能フィルムにおいては、上記光学機能層における上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の含有量が1質量%以下であることが好ましい。これにより、本発明の光学機能フィルムをよりヘイズが小さいものにすることができるからである。   In the optical functional film of the present invention, the content of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer in the optical functional layer is preferably 1% by mass or less. This is because the optical functional film of the present invention can have a smaller haze.

さらに上記課題を解決するために、本発明は、透明基板を用い、上記本発明に係る光学機能層形成用組成物を塗工することにより、上記透明基板上に光学機能層形成用層を形成する光学機能層形成用層形成工程と、上記光学機能層形成用層に偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記光学機能層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を付与する配向性付与工程と、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、上記架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とすることを特徴とする光学機能フィルムの製造方法を提供する。   Furthermore, in order to solve the said subject, this invention forms the layer for optical function layer formation on the said transparent substrate by applying the composition for optical function layer formation concerning the said invention using a transparent substrate. An optical functional layer forming layer forming step, and the optical functional layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet light and reacted with the photoreactive group to align the optical functional layer forming layer with the crosslinkable liquid crystal material. An optical function characterized by comprising: an alignment imparting step for imparting a property; a liquid crystal alignment step for aligning the crosslinkable liquid crystal material; and a liquid crystal crosslinking step for crosslinking the crosslinkable liquid crystal material. A method for producing a film is provided.

本発明によれば、上記光学機能層形成用組成物として上記本発明に係る光学機能層形成用組成物が用いられていることにより、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を備える光学機能フィルムを製造することができる。このため、本発明の光学機能フィルムの製造方法によれば光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを得ることができる。   According to the present invention, since the optical functional layer forming composition according to the present invention is used as the optical functional layer forming composition, an optical functional layer having excellent optical function and low haze can be obtained. An optical functional film provided can be manufactured. For this reason, according to the method for producing an optical functional film of the present invention, an optical functional film having excellent optical function and low haze can be obtained.

本発明は、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する光学機能層とを有する光学機能フィルムであって、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを得ることができるという効果を奏する。   The present invention is an optical functional film having a transparent substrate and an optical functional layer that is directly formed on the transparent substrate without an alignment film and contains a liquid crystalline material, and has excellent optical function, There exists an effect that the optical function film with a small haze can be obtained.

本発明は、光学機能層形成用感光性化合物と、これを用いた光学機能層形成用組成物と、これを用いた光学機能フィルムの製造方法と、光学機能フィルムに関するものである。
以下、本発明の光学機能層形成用感光性化合物、光学機能層形成用組成物、光学機能フィルムの製造方法、および、光学機能フィルムについて順に説明する。
The present invention relates to a photosensitive compound for forming an optical functional layer, a composition for forming an optical functional layer using the same, a method for producing an optical functional film using the same, and an optical functional film.
Hereinafter, the photosensitive compound for forming an optical functional layer, the composition for forming an optical functional layer, the method for producing an optical functional film, and the optical functional film of the present invention will be described in order.

A.光学機能層形成用感光性化合物
まず、本発明の光学機能層形成用感光性化合物について説明する。本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、光反応性を示す光反応性基と、疎液性を示す疎液性基とを有することを特徴とするものである。
A. First, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention will be described. The photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is characterized by having a photoreactive group exhibiting photoreactivity and a lyophobic group exhibiting lyophobic properties.

本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、上記疎液性基を有することから、例えば、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を液晶材料と混合して塗工液を調整し、これを用いて光学機能層を形成した際に、表面に上記光学機能層形成用感光性化合物またはその反応物が偏在した光学機能層を形成することができる。このため、本発明の光学機能層形成用感光性化合物によれば、上記光学機能層において上記液晶材料の配列性を向上することができるため、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成することができる。   Since the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention has the lyophobic group, for example, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is mixed with a liquid crystal material to prepare a coating solution, When the optical functional layer is formed using this, the optical functional layer in which the photosensitive compound for forming an optical functional layer or a reaction product thereof is unevenly distributed on the surface can be formed. Therefore, according to the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, the alignment of the liquid crystal material can be improved in the optical functional layer, so that the optical function is excellent in optical function and has a small haze. A layer can be formed.

ここで、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いることにより、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成できる理由についてより具体的に説明する。
本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、液晶材料等の屈折率異方性を有する棒状化合物と混合されて用いられ、上記液晶材料が規則的に配列することにより、所定の光学機能を発現する光学機能層を形成するために用いられるものである。
図1は、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて、光学機能層を形成する方法の一例を示す概略図である。図1に例示するように、本発明の光学機能層形成用化合物を用いて光学機能層を形成する方法としては、通常、透明基板1を用い(図1(a))、上記透明基板1上に、本発明の光学機能層形成用感光性化合物と、架橋性液晶材料とを含有する光学機能層形成用組成物を塗工し、上記透明基板1上に光学機能層形成用層2’を形成する光学機能層形成用層形成工程(図1(b))と、上記光学機能層形成用層2’に、偏光紫外線を照射することによって、本発明の光学機能層形成用感光性化合物が有する光反応性基を反応させ、上記光学機能層形成用層2’に、上記架橋性液晶材料に対する配向性を付与する配向性付与工程(図1(c))と、上記光学機能層形成用層2’を加温することにより、架橋性液晶材料を、上記配向性付与工程によって付与された配向性に従って配列させる液晶配列工程(図1(d))、上記光学機能層形成用層2’に紫外線を照射することにより上記液晶配列工程によって配列された架橋性液晶材料を架橋する、液晶架橋工程(図1(e))と、により、上記透明基板1上に、規則的に配列された架橋性液晶材料を有する光学機能層2を形成する方法が用いられる。
Here, the reason why an optical functional layer having excellent optical function and low haze can be formed by using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention will be described more specifically.
The photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is used by being mixed with a rod-shaped compound having refractive index anisotropy such as a liquid crystal material, and the liquid crystal material is regularly arranged to provide a predetermined optical function. It is used to form an optical function layer that develops.
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for forming an optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. As exemplified in FIG. 1, as a method for forming an optical functional layer using the compound for forming an optical functional layer of the present invention, a transparent substrate 1 is usually used (FIG. 1 (a)), and the transparent substrate 1 is formed. A composition for forming an optical functional layer containing the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention and a crosslinkable liquid crystal material is applied, and an optical functional layer forming layer 2 ′ is formed on the transparent substrate 1. The optical functional layer-forming photosensitive compound of the present invention is formed by irradiating the optical functional layer-forming layer forming step (FIG. 1B) to be formed and the optical functional layer-forming layer 2 ′ with polarized ultraviolet rays. An orientation imparting step (FIG. 1 (c)) for imparting orientation to the crosslinkable liquid crystal material to the optical functional layer forming layer 2 ′ by reacting the photoreactive group, and for forming the optical functional layer By heating the layer 2 ', the crosslinkable liquid crystal material is attached by the above-described orientation imparting step. A liquid crystal alignment step (FIG. 1 (d)) for aligning according to the given orientation, and crosslinking the crosslinkable liquid crystal material aligned by the liquid crystal alignment step by irradiating the optical function layer forming layer 2 ′ with ultraviolet rays. The method of forming the optical functional layer 2 having the regularly arranged crosslinkable liquid crystal material on the transparent substrate 1 by the liquid crystal crosslinking step (FIG. 1E) is used.

上述したように、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて形成される光学機能層は、上記架橋性液晶材料が規則的に配列することにより所定の光学機能を発現するものである。そして、本発明の光学機能層形成用感光性化合物は偏光紫外線によって上記光反応性基が反応されることにより、上記架橋性液晶材料を配列させる機能を有するものである。
ここで、上記架橋性液晶材料は結晶−液晶相転移温度以上、液晶相−等方相転移温度未満の温度範囲で規則的に配列する配列性を有するものであるが、この配列性は他の化合物の存在によって容易に損なわれてしまう傾向を有する。上記配列性を損なわせる他の化合物としては、本発明の光学機能層形成用感光性化合物も例外ではない。したがって、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて形成される光学機能層において、本発明の光学機能層形成用感光性化合物と、上記架橋性液晶材料とが混在すると、本発明の光学機能層形成用感光性化合物の存在によって上記架橋性液晶材料の配列性が損なわれてしまうことになる。
この点、本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、上記疎液性基を有することにより、上記光学機能層形成用層形成工程において形成される光学機能層形成用層において、表面に偏在する性質を有するものである。すなわち、本発明の光学機能層形成用感光性化合物は上記疎液性基を有することにより、分子全体として上記光学機能層形成用組成物に用いられる液体に対して疎液性を示すものとなる。このため、本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、上記光学機能層形成用層形成工程において、上記光学機能層形成用組成物の塗膜を乾燥して光学機能層形成用層を形成する際に、疎液相互作用により上記光学機能層形成用層の表面に偏在することができるものである。
このようなことから、本発明の光学機能層形成感光性化合物を用いて形成される光学機能層においては、本発明の光学機能層形成用感光性化合物の大部分が、上記架橋性液晶材料と混在することなく存在するため、上記架橋性液晶材料の配列が本発明の光学機能層形成用感光性化合物の存在によって阻害されることを防止することができる。このため、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて形成される光学機能層は、上記架橋性液晶材料が高い規則性で配列したものとなるため、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さいものになるのである。
As described above, the optical functional layer formed using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention exhibits a predetermined optical function by regularly arranging the crosslinkable liquid crystal material. . And the photosensitive compound for optical function layer formation of this invention has the function to arrange the said crosslinkable liquid-crystal material, when the said photoreactive group reacts with polarized ultraviolet rays.
Here, the crosslinkable liquid crystal material has an alignment property that regularly arranges in a temperature range higher than the crystal-liquid crystal phase transition temperature and lower than the liquid crystal phase-isotropic phase transition temperature. It tends to be easily damaged by the presence of the compound. As the other compound that impairs the alignment, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is no exception. Therefore, in the optical functional layer formed using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, when the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention and the crosslinkable liquid crystal material are mixed, The alignment property of the crosslinkable liquid crystal material is impaired by the presence of the photosensitive compound for forming an optical functional layer.
In this regard, the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention is unevenly distributed on the surface in the optical functional layer forming layer formed in the optical functional layer forming layer forming step by having the lyophobic group. It has the property to do. That is, when the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention has the lyophobic group, the molecule as a whole exhibits lyophobic properties with respect to the liquid used in the composition for forming an optical functional layer. . Therefore, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention forms an optical functional layer forming layer by drying the coating film of the optical functional layer forming composition in the optical functional layer forming layer forming step. In this case, it can be unevenly distributed on the surface of the optical functional layer forming layer by lyophobic interaction.
Therefore, in the optical functional layer formed using the optical functional layer-forming photosensitive compound of the present invention, most of the optical functional layer-forming photosensitive compound of the present invention is composed of the crosslinkable liquid crystal material. Since it exists without mixing, it can prevent that the arrangement | sequence of the said crosslinkable liquid crystal material is inhibited by presence of the photosensitive compound for optical function layer formation of this invention. For this reason, the optical functional layer formed using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is one in which the crosslinkable liquid crystal material is arranged with high regularity. The haze becomes small.

本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、上記疎液性基と、上記光反応性基とを有するものである。
以下、このような本発明の光学機能層形成用感光性化合物について詳細に説明する。
The photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention has the lyophobic group and the photoreactive group.
Hereinafter, such a photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention will be described in detail.

1.疎液性基
まず、本発明に用いられる疎液性基について説明する。本発明に用いられる疎液性基は疎液性を有するものである。本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、このような疎液性基を有することにより、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成することが可能となるのである。
1. First, the lyophobic group used in the present invention will be described. The lyophobic group used in the present invention is lyophobic. By having such a lyophobic group, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention can form an optical functional layer having excellent optical function and low haze.

本発明に用いられる疎液性基としては、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて形成される光学機能層において、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を表面に偏在化させることが可能な程度の疎液性を有するものであれば特に限定されるものではなく、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する際に、併用される液状化合物の種類に応じて適宜選択して用いることができる。このような疎液性基としては、例えば、ケイ素を含有する官能基、フッ素を含有する官能基、炭素数が6〜20の範囲内である長鎖アルキル基等を挙げることができる。   As the lyophobic group used in the present invention, in the optical functional layer formed using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is unevenly distributed on the surface. It is not particularly limited as long as it has a lyophobic property to the extent that it can be used, and is used in combination when forming an optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. It can be appropriately selected and used depending on the type of liquid compound. Examples of such a lyophobic group include a functional group containing silicon, a functional group containing fluorine, and a long-chain alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

本発明においては、上記疎液性基のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも本発明においては、上記疎液性基が、ケイ素を含有する官能基またはフッ素を含有する官能基を用いることが好ましい。このような疎液性基を有することにより、本発明の光学機能層形成用感光性化合物をより疎液性の高いものにできるため、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いてより光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを製造することが可能になるからである。   In the present invention, any of the above-mentioned lyophobic groups can be suitably used. In particular, in the present invention, the lyophobic group is a functional group containing silicon or a functional group containing fluorine. It is preferable to use a group. By having such a lyophobic group, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention can be made more highly lyophobic. Therefore, by using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, This is because it is possible to produce an optical functional film having excellent optical function and low haze.

上記ケイ素を含有する官能基としては、例えば、下記式で表されるポリオルガノシロキサン鎖を挙げることができる。   Examples of the functional group containing silicon include a polyorganosiloxane chain represented by the following formula.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式においてR、Rはそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アルケニル基を示し、mは2以上の整数を示す。 In the above formula, R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group, an aryl group, or an alkenyl group, and m represents an integer of 2 or more.

上記式で表されるポリオルガノシロキサン鎖の鎖長としては、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する際に併用される液状化合物の種類に応じて、本発明の光学機能層感光性化合物に所望の疎液性を付与できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては上記mが2〜40の範囲内であることが好ましく、特に3〜30の範囲内であることが好ましく、さらに5〜25の範囲内であることが好ましい。   As the chain length of the polyorganosiloxane chain represented by the above formula, depending on the type of liquid compound used in combination when forming the optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, The optical functional layer of the invention is not particularly limited as long as the desired liquid repellency can be imparted to the photosensitive compound. In particular, in the present invention, the m is preferably in the range of 2 to 40, particularly preferably in the range of 3 to 30, and more preferably in the range of 5 to 25.

上記式で表されるポリオルガノシロキサン鎖の具体例としては、例えば、ポリジアルキルシロキサン(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等)、ポリジアリールシロキサン(例えば、ポリジフェニルシロキサン、ポリジトリルシロキサン等)、ポリアルキルアリールシロキサン(例えば、メチルフェニルシロキサン、ポリメチルトリルシロキサン等)、ポリアルケニルシロキサン(例えば、ポリジビニルシロキサン等)、ポリアルケニルアルキルシロキサン(例えば、ポリビニルメチルシロキサン等)、ポリアルケニルアリールシロキサン(例えば、ポリビニルフェニルシロキサン等)等を挙げることができる。   Specific examples of the polyorganosiloxane chain represented by the above formula include, for example, polydialkylsiloxane (eg, polydimethylsiloxane, polydiethylsiloxane, etc.), polydiarylsiloxane (eg, polydiphenylsiloxane, polyditolylsiloxane, etc.), Polyalkylaryl siloxane (eg, methylphenylsiloxane, polymethyltolylsiloxane, etc.), polyalkenylsiloxane (eg, polydivinylsiloxane, etc.), polyalkenylalkylsiloxane (eg, polyvinylmethylsiloxane, etc.), polyalkenylaryl siloxane (eg, Polyvinylphenylsiloxane, etc.).

本発明においては、これらのポリオルガノシロキサン鎖のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでもポリジアルキルシロキサン鎖を用いることが好ましく、ポリジメチルシロキサン鎖を用いることが最も好ましい。ジメチルシロキサン鎖は、鎖長を変更することにより疎液性の程度を任意に調整することが可能だからである。   In the present invention, any of these polyorganosiloxane chains can be suitably used. Among them, polydialkylsiloxane chains are preferably used, and polydimethylsiloxane chains are most preferably used. This is because the degree of lyophobicity of the dimethylsiloxane chain can be arbitrarily adjusted by changing the chain length.

なお、本発明に用いられるポリオルガノシロキサン鎖の鎖長としては、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する際に併用される液状化合物の種類に応じて、本発明の光学機能層感光性化合物に所望の疎液性を付与できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられるポリオルガノシロキサン鎖は分子量が200〜10000の範囲内であることが好ましく、特に500〜5000の範囲内であることが好ましく、さらに1000〜3000の範囲内であることが好ましい。   As the chain length of the polyorganosiloxane chain used in the present invention, depending on the type of liquid compound used in combination when forming the optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, It will not specifically limit if it is a range which can provide desired lyophobic property to the optical function layer photosensitive compound of this invention. Among them, the polyorganosiloxane chain used in the present invention preferably has a molecular weight in the range of 200 to 10,000, particularly preferably in the range of 500 to 5000, and more preferably in the range of 1000 to 3000. preferable.

一方、上記フッ素を含有する官能基として、本発明に好適に用いられるものの例としてはフルオロアルキル鎖を挙げることができる。   On the other hand, examples of the functional group containing fluorine that can be suitably used in the present invention include a fluoroalkyl chain.

本発明に用いられる上記フルオロアルキル鎖は、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する際に併用される液状化合物の種類に応じて、本発明の光学機能層感光性化合物に所望の疎液性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。したがって、本発明に用いられる上記フルオロアルキル基は、直鎖状のものであってもよく、または、分岐鎖状のものであってもよい。   The fluoroalkyl chain used in the present invention is an optical functional layer according to the present invention depending on the type of liquid compound used in combination when forming the optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention. There is no particular limitation as long as the desired lyophobic property can be imparted to the photosensitive compound. Therefore, the fluoroalkyl group used in the present invention may be linear or branched.

また、本発明に用いられるフルオロアルキル鎖の鎖長についても、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する際に併用される液状化合物の種類に応じて、本発明の光学機能層感光性化合物に所望の疎液性を付与できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられるフルオロアルキル鎖は炭素数が1〜20の範囲内であるものが好ましく、特に3〜18の範囲内であるものが好ましく、さらに6〜12の範囲内であるものが好ましい。   Further, the chain length of the fluoroalkyl chain used in the present invention is also determined depending on the type of liquid compound used in combination when forming the optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. The optical functional layer of the invention is not particularly limited as long as the desired liquid repellency can be imparted to the photosensitive compound. Among them, the fluoroalkyl chain used in the present invention preferably has 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 3 to 18 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. preferable.

本発明に用いられる直鎖状のフルオロアルキル鎖の具体例としては、例えば、−CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CFCF、−CF(CF10CF、−CHCF、−CHCFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CFCF、−CH(CF10CF、−CH(CF11CF、−CH(CFH、−CH(CFH、−CHCH(CFCF、−CHCHCF、−CHCHCFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CFCF、−CHCH(CF10CF、−CHCH(CF11CF、−CHCH(CF12CF等を挙げることができる。 Specific examples of the linear fluoroalkyl chain used in the present invention include, for example, —CF 2 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 2 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 3 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 4 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 5 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 6 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 7 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 9 CF 3 , —CF 2 (CF 2 ) 10 CF 3 , —CH 2 CF 3 , —CH 2 CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 2 CF 3 , -CH 2 (CF 2) 3 CF 3, -CH 2 (CF 2) 4 CF 3, -CH 2 (CF 2) 5 CF 3, -CH 2 (CF 2) 6 CF 3, -CH 2 (CF 2 ) 7 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 9 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 10 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 11 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 2 H, —CH 2 (CF 2) ) 4 H, -CH 2 CH 2 (CF 2) 2 CF 3, -CH 2 CH 2 CF 3, -CH 2 CH 2 CF 2 CF 3, -CH 2 CH 2 (CF 2) 2 CF 3, -CH 2 CH 2 (CF 2 ) 3 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 5 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 6 CF 3 , -CH 2 CH 2 (CF 2) 7 CF 3, -CH 2 CH 2 (CF 2) 8 CF 3, -CH 2 CH 2 (CF 2) 9 CF 3, -CH 2 CH 2 (CF 2) 10 CF 3, -CH 2 CH 2 (CF 2) 11 C 3, -CH 2 CH 2 (CF 2) may be mentioned 12 CF 3 and the like.

また、本発明に用いられる分岐鎖状のフルオロアルキル鎖の具体例としては、例えば、−CH(CF、−CHCF(CF、−CH(CH)CFCF、−CH(CH)(CFCFH等を挙げることができる。 Specific examples of the branched fluoroalkyl chain used in the present invention include, for example, —CH (CF 3 ) 3 , —CH 2 CF (CF 3 ) 3 , —CH (CH 3 ) CF 2 CF 3. , —CH (CH 3 ) (CF 3 ) 2 CF 2 H, and the like.

さらに、上記以外の本発明に用いられるフルオロアルキル鎖の例としては、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロアルキル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)を有するものや、−CHOCHCFCF、−CHCHOCH(CFCF、−CHCHOCH(CFCF、−CHCHOCH(CFCF、−CHCHOCH(CFCF、−CHCHOCH(CFCF、−CHCHOCH(CF11CF、CHCHOCFCFOCFCFH等のエーテル結合を有するものを挙げることができる。 Furthermore, examples of the fluoroalkyl chain used in the present invention other than those described above include alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluoroalkyl groups, perfluorocyclopentyl groups, or alkyls substituted therewith. has a group, etc.) and, -CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3, -CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2) 2 CF 3, -CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2) 3 CF 3, -CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2 ) 4 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2 ) 5 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2 ) 7 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2) 11 CF 3, CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 may include those having an ether bond such as H.

2.光反応性基
次に、本発明の光学機能層形成用感光性化合物に用いられる光反応性基について説明する。本発明に用いられる光反応性基は、偏光紫外線が照射されることによって光反応を生じ、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する際に併用される液晶材料等に対する配向性を発現する機能を有するものである。
2. Next, the photoreactive group used in the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention will be described. The photoreactive group used in the present invention causes a photoreaction when irradiated with polarized ultraviolet rays, and is a liquid crystal used in combination when forming the optical functional layer using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. It has a function of expressing orientation with respect to materials and the like.

本発明に用いられる光反応性基としては、特定の波長の紫外線が照射されることにより光化学反応を生じ、液晶材料等に対する配向性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。光化学反応としては例えば光二量化、光異性化等が挙げられ、このような光反応性基としては、例えば、シンナメート基、シンナモイル基、クマリン基、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレイミド、またはシンナミリデン酢酸誘導体等を挙げることができる。なかでも本発明においては、下記式(1)〜(3)で表される光反応性基を用いることが好ましい。   The photoreactive group used in the present invention is not particularly limited as long as it can generate a photochemical reaction when irradiated with ultraviolet rays having a specific wavelength and can impart orientation to a liquid crystal material or the like. Examples of the photochemical reaction include photodimerization, photoisomerization and the like. Examples of such photoreactive groups include cinnamate group, cinnamoyl group, coumarin group, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, Examples include uracil, quinolinone, maleimide, or cinnamylideneacetic acid derivatives. Especially in this invention, it is preferable to use the photoreactive group represented by following formula (1)-(3).

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式(1)〜(3)において、R11、R12、R13はそれぞれ独立して、置換されても良い官能基であり、該官能基としては置換基を有していても良いアルキル基(好ましくは炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基などが挙げられる。);置換基を有していても良いアルケニル基(たとえば、炭素数1〜8のアルケニル基であり、たとえばビニル、アリル、1−ブテニル基などが挙げられる。);置換基を有していても良いアルキニル基(例えば、炭素数1〜8のアルキニル基であり、例えばエチニル、プロパルギル基などが挙げられる。);置換基を有していても良いアラルキル基(例えば、炭素数1〜8のアラルキル基であり、例えばベンジル基などが挙げられる。);置換基を有していても良いアルコキシ基(好ましくは置換基を有していても良い炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ基などが挙げられる。);置換基を有していても良いアリールオキシ基(好ましくは芳香族炭化水素基や複素環基を有するものであり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシ、ピリジルオキシ、チエニルオキシ基などが挙げられる。);カルボキシル基;シアノ基;水酸基;メルカプト基;ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子);置換基を有していても良い芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基(好ましくは、5または6員環の、単環または2縮合環である、芳香族炭化水素環または芳香族複素環であり、例えばフェニル基、ナフチル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基などが挙げられる。)である。
また、R14は置換されても良い連結基であり、該連結基としては置換基を有していても良いアルキレン鎖(好ましくは炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキレン鎖であり、例えばメチレン、エチレン、n−プロピレン、2−プロピレン、n−ブチレン、イソブチレンなどが挙げられる。);置換基を有していても良いアリーレンオキシ基(好ましくは芳香族炭化水素基や複素環基を有するものであり、例えばフェニレンオキシ、1−ナフチレンオキシ、2−ナフチレンオキシなどが挙げられる。);置換基を有していても良い芳香族炭化水素環鎖または芳香族複素環鎖(好ましくは、5または6員環の、単環または2縮合環である、芳香族炭化水素環または芳香族複素環であり、例えばフェニルレン、ナフチルレン、チエニルレン、フリレン、ピリジレンなどが挙げられる。)である。
In the above formulas (1) to (3), R 11 , R 12 , and R 13 are each independently a functional group that may be substituted, and the functional group may be an alkyl that may have a substituent. Group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl group, etc.); An alkenyl group which may have a substituent (for example, an alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 1-butenyl group, etc.); An alkynyl group (for example, an alkynyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as ethynyl and propargyl groups); an aralkyl group (for example, an alkynyl group having 1 to 8 carbon atoms) which may have a substituent. An alkyl group which may have a substituent (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, for example, Methoxy, ethoxy, butoxy groups, etc.); an aryloxy group which may have a substituent (preferably an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, such as phenyloxy, 1-naphthyl) Oxy, 2-naphthyloxy, pyridyloxy, thienyloxy group, etc.); carboxyl group; cyano group; hydroxyl group; mercapto group; halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom); substituent An aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group (preferably a 5- or 6-membered monocyclic or bi-fused ring, An aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring, for example, a phenyl group, a naphthyl group, a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, etc.).
R 14 is a linking group which may be substituted, and the linking group is an alkylene chain which may have a substituent (preferably a linear or branched alkylene chain having 1 to 8 carbon atoms; Examples include methylene, ethylene, n-propylene, 2-propylene, n-butylene, isobutylene, etc.); an aryleneoxy group (preferably an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group) which may have a substituent. For example, phenyleneoxy, 1-naphthyleneoxy, 2-naphthyleneoxy, etc.); an aromatic hydrocarbon ring chain or an aromatic heterocyclic chain which may have a substituent (preferably 5 or 6-membered, monocyclic or bicondensed aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocyclic rings such as phenyllene, naphthyllene, thienyllene, Ren, pyridylene, etc.).

なお、上述の各官能基および各連結基が「有していても良い置換基」としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、2−プロピル基などが挙げられる。);無置換あるいはアルキル基で置換された芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、トリル基、メシチル基などが挙げられる。);アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ基などが挙げられる。)ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)が挙げられる。   In addition, as each of the above-described functional groups and each linking group may have an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, 2- A propyl group, etc.); an aromatic hydrocarbon group unsubstituted or substituted with an alkyl group (for example, a phenyl group, a tolyl group, a mesityl group, etc.); an alkoxy group (preferably having a carbon number of 1 to 8 is an alkoxy group such as methoxy, ethoxy, butoxy, etc.) Halogen atoms (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine).

本発明においてはこれらのいずれの光反応性基であっても好適に用いることができるが、なかでも下記式(4)〜(6)で表される光反応性基を用いることが好ましい。   In the present invention, any of these photoreactive groups can be suitably used, and among these, photoreactive groups represented by the following formulas (4) to (6) are preferably used.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式(4)〜(6)において、R21、R22はそれぞれ独立して、置換されても良い官能基であり、該官能基としては水素基、置換基を有していても良いアルキル基(好ましくは炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基などが挙げられる。);置換基を有していても良いアルコキシ基(好ましくは置換基を有していても良い炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ基などが挙げられる。);カルボキシル基;シアノ基;水酸基;メルカプト基;ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子);置換基を有していても良い芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基(好ましくは、5または6員環の、単環または2縮合環である、芳香族炭化水素環または芳香族複素環であり、例えばフェニル基、ナフチル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基などが挙げられる。)を挙げることができる。 In the above formulas (4) to (6), R 21 and R 22 are each independently a functional group which may be substituted, and the functional group may be a hydrogen group or an alkyl which may have a substituent. Group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl group, etc.); An alkoxy group which may have a substituent (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as methoxy, ethoxy and butoxy groups); a carboxyl group Cyano group; hydroxyl group; mercapto group; halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom); aromatic hydrocarbon ring group or aromatic heterocycle optionally having substituent (s) (Preferably, it is an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring which is a 5- or 6-membered monocyclic or double condensed ring. For example, a phenyl group, a naphthyl group, a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, etc. Can be mentioned).

また、R23は置換されても良い連結基であり、該連結基としては置換基を有していても良いアルキレン鎖(好ましくは炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキレン鎖であり、例えばメチレン、エチレン、n−プロピレン、2−プロピレン、n−ブチレン、イソブチレンなどが挙げられる。);置換基を有していても良い芳香族炭化水素環鎖または芳香族複素環鎖(好ましくは、5または6員環の、単環または2縮合環である、芳香族炭化水素環または芳香族複素環であり、例えばフェニルレン、ナフチルレン、チエニルレン、フリレン、ピリジレンなどが挙げられる。)を挙げることができる。 R 23 is a linking group which may be substituted, and the linking group may be an alkylene chain which may have a substituent (preferably a linear or branched alkylene chain having 1 to 8 carbon atoms; For example, methylene, ethylene, n-propylene, 2-propylene, n-butylene, isobutylene, etc.); an aromatic hydrocarbon ring chain or an aromatic heterocyclic chain which may have a substituent (preferably, A 5- or 6-membered, monocyclic or bicondensed aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring, such as phenyllene, naphthyllene, thienyllene, furylene, pyridylene and the like. it can.

なお、上述の各官能基及び各連結基が「有していても良い置換基」としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4のアルキル基でありたとえばメチル基、エチル基、2−プロピル基などが挙げられる。);無置換あるいはアルキル基で置換された芳香族炭化水素基(例えばフェニル基、トリル基、メシチル基などが挙げられる。);ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)が挙げられる。   The above-mentioned functional groups and linking groups may have an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, 2-propyl group). An aromatic hydrocarbon group that is unsubstituted or substituted with an alkyl group (for example, phenyl group, tolyl group, mesityl group, etc.); a halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine) Atom, iodine atom).

また、本発明に用いられる光配向性基はメソゲン構造を有するものであってもよい。本発明に用いられる光反応性基がメソゲン構造を有することにより、本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて、さらに光学機能の発現性に優れた光学機能フィルムを製造することが可能になるからである。   Moreover, the photo-alignment group used in the present invention may have a mesogenic structure. Since the photoreactive group used in the present invention has a mesogenic structure, it is possible to produce an optical functional film having further excellent optical function using the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. Because it becomes.

このようなメソゲン構造を有する光反応性基としては、例えば、下記式(7)〜(13)で表されるものを挙げることができる。   As a photoreactive group which has such a mesogen structure, what is represented by following formula (7)-(13) can be mentioned, for example.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式(7)〜(13)において、X、Yはそれぞれ独立に、なし、−O−、−CO−O−、−O−CO−、−NH−、−NH−CO−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−から選択される基を示す。また、Zは光反応性基を表す。   In the above formulas (7) to (13), X and Y are each independently None, —O—, —CO—O—, —O—CO—, —NH—, —NH—CO—, —CH═. A group selected from CH-, -C≡C-, and -O-CO-O- is shown. Z represents a photoreactive group.

なお、上記式(7)〜(13)におけるZは、上記式(1)〜(3)で表される光反応性基であることが好ましく、さらに(4)〜(6)で表される光反応性基であることがより好ましい。   In the above formulas (7) to (13), Z is preferably a photoreactive group represented by the above formulas (1) to (3), and further represented by (4) to (6). More preferred is a photoreactive group.

3.光学機能層形成用感光性化合物
本発明の光学機能層形成用感光性化合物の構造としては、分子内に上記光反応性基と、上記疎液性基とを少なくとも一つずつ有する構造であれば特に限定されるものではない。したがって、本発明の光学機能層形成用感光性化合物の構造としては、上記光反応性基と、上記疎液性基とを一つずつ有する構造であってもよく、上記光反応性基または上記疎液性基の一方を複数有する構造であってもよく、あるいは、上記光反応性基および上記疎液性基をいずれも複数有する構造であってもよい。
3. Photosensitive compound for forming an optical functional layer The structure of the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is as long as it has at least one photoreactive group and one lyophobic group in the molecule. It is not particularly limited. Therefore, the structure of the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention may be a structure having one each of the photoreactive group and the lyophobic group. A structure having a plurality of one of the lyophobic groups may be used, or a structure having a plurality of both the photoreactive group and the lyophobic group may be used.

このような本発明の光学機能層形成用感光性化合物としては、例えば、下記式(I)〜(IV)で表されるものを挙げることができる。   Examples of the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention include those represented by the following formulas (I) to (IV).

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式(I)〜(IV)中、Aは上述した疎液性基であり、Bは上述した光反応基(メソゲン構造を有するものを除く)である。また、Cは、上述したメソゲン構造を有する光反応性基である。さらに、Sは直鎖、あるいは分枝状のスペーサー基であり、置換されていても良い2価以上の有機基で、例えば−C−、−C−C−、などの直鎖、あるいは分枝状アルキル鎖、フェニレン鎖やナフタレン鎖などの芳香族炭化水素鎖、ピリジレン、チオフェレンなどの複素環芳香族鎖、アミノ基やシリル基、ボリル基などの典型元素分枝基が挙げられる。   In the above formulas (I) to (IV), A is the above-described lyophobic group, and B is the above-described photoreactive group (excluding those having a mesogenic structure). C is a photoreactive group having the mesogenic structure described above. Furthermore, S is a linear or branched spacer group, which may be a divalent or higher valent organic group, such as a linear or branched group such as —C— or —C—C—. And an aromatic hydrocarbon chain such as a linear alkyl chain, a phenylene chain and a naphthalene chain, a heterocyclic aromatic chain such as pyridylene and thioferene, and a typical element branching group such as an amino group, a silyl group and a boryl group.

なお、上記式(I)〜(IV)中、Bは上記式(1)〜(3)で表されるものであることが好ましく、Cは上記式(7)〜(13)で表されるものであることが好ましい。   In the above formulas (I) to (IV), B is preferably represented by the above formulas (1) to (3), and C is represented by the above formulas (7) to (13). It is preferable.

本発明においては、上記式(I)〜(IV)で表される光学機能層形成用感光性化合物のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも下記式(V)〜(XII)で表される光学機能層形成用感光性化合物を用いることが好ましく、特に下記式(IX)〜(XII)で表される光学機能層形成用感光性化合物を用いることが好ましい。   In the present invention, any of the photosensitive compounds for forming an optical functional layer represented by the above formulas (I) to (IV) can be suitably used, and among them, the following formulas (V) to (XII) It is preferable to use a photosensitive compound for forming an optical functional layer represented by the following formulas (IX) to (XII).

Figure 2008276165
Figure 2008276165

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式(V)〜(XII)において、Aは上述した疎水性基であり、Bは上述した光反応性基(メソゲン構造を有するものを除く)である。また、Cは上述したメソゲン構造を有する光反応性基である。
また、X、Yはそれぞれ独立に、なし、−O−、−CO−O−、−O−CO−、−NH−、−NH−CO−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−から選択される基である。
In the above formulas (V) to (XII), A is the above-described hydrophobic group, and B is the above-described photoreactive group (excluding those having a mesogenic structure). C is a photoreactive group having the mesogenic structure described above.
X and Y are each independently none, —O—, —CO—O—, —O—CO—, —NH—, —NH—CO—, —CH═CH—, —C≡C—, It is a group selected from —O—CO—O—.

本発明の光学機能層形成用感光性化合物は、重合体主鎖に上記疎液性基を含むセグメントが存在する共重合体、または、上記光反応性基を有する光反応性モノマーと上記疎液性基を有する疎液性モノマーとの共重合体であってもよい。このような構造を有することにより、例えば、上記光反応性基と、上記疎液性基との比率を適宜変更することにより、本発明の光学機能層形成用感光性化合物が示す疎液性を、本発明の光学機能層形成用感光性化合物の具体的な用途に応じて任意に調整することが容易になるからである。   The photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is a copolymer in which a segment containing the lyophobic group is present in the polymer main chain, or a photoreactive monomer having the photoreactive group and the lyophobic liquid. It may be a copolymer with a lyophobic monomer having a functional group. By having such a structure, for example, by appropriately changing the ratio of the photoreactive group to the lyophobic group, the lyophobic property exhibited by the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention is improved. This is because it can be easily adjusted arbitrarily according to the specific use of the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention.

上記重合体主鎖に上記疎液性基を含むセグメントが存在する共重合体としては、主鎖部分にジメチルシロキサンブロックが存在するブロック共重合体を挙げることができる。このようなポリジメチルシロキサンブロック共重合体を製造する方法としては、高分子開始剤法、または、高分子連鎖移動法が挙げられる。   Examples of the copolymer having a segment containing the lyophobic group in the polymer main chain include a block copolymer having a dimethylsiloxane block in the main chain portion. Examples of the method for producing such a polydimethylsiloxane block copolymer include a polymer initiator method and a polymer chain transfer method.

なお、上記高分子開始剤法は、例えば、アゾ基、パーオキシ基のラジカル発生可能な基を有するポリジメチルシロキサン化合物を使用して上記光反応性モノマーを重合する方法である。ここで、上記アゾ基を有するポリジメチルシロキサンとしては、例えば、下記式で表されるものを例示することができる。   The polymer initiator method is a method of polymerizing the photoreactive monomer using, for example, a polydimethylsiloxane compound having a radical capable of generating an azo group or a peroxy group. Here, as a polydimethylsiloxane which has the said azo group, what is represented by a following formula can be illustrated, for example.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

本発明の光学機能層形成用感光性化合物として、上記光反応性基を有する光反応性モノマーと、上記疎液性基を有する疎液性モノマーとが共重合した構造を有するものを用いる場合、共重合の形式はランダム共重合体、ブロック共重合体、または、グラフト共重合体いずれであってもよい。   When using the photoreactive compound for forming an optical functional layer of the present invention having a structure in which the photoreactive monomer having the photoreactive group and the lyophobic monomer having the lyophobic group are copolymerized, The form of copolymerization may be random copolymer, block copolymer, or graft copolymer.

また、本発明の光学機能層形成用感光性化合物として、上記光反応性基を有する光反応性モノマーと、上記疎液性基を有する疎液性モノマーとが共重合した構造を有するものを用いる場合、上記疎液性モノマーとしては、重合後に側鎖となる部分に上記疎液性基を有するモノマーであってもよく、または、重合後に主鎖となる部分に上記疎液性基を有するモノマーであってもよい。   Further, as the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention, a compound having a structure in which the photoreactive monomer having the photoreactive group and the lyophobic monomer having the lyophobic group are copolymerized is used. In this case, the lyophobic monomer may be a monomer having the lyophobic group in a portion that becomes a side chain after polymerization, or a monomer having the lyophobic group in a portion that becomes a main chain after polymerization. It may be.

一方、上記光反応性モノマーとしては、上記光反応性基を少なくとも一つ有し、かつ、後述する疎液性モノマーと共重合可能なものであれば特に限定されるものではない。また、本発明に用いられる上記光反応性モノマーは、上記光反応性基を一つ有するものであってもよく、または、複数の光反応性基を有するものであってもよい。   On the other hand, the photoreactive monomer is not particularly limited as long as it has at least one photoreactive group and can be copolymerized with a lyophobic monomer described later. The photoreactive monomer used in the present invention may have one photoreactive group or may have a plurality of photoreactive groups.

本発明に用いられる光反応性モノマーとしては、例えば、下記式で表されるものを例示することができる。   As a photoreactive monomer used for this invention, what is represented by a following formula can be illustrated, for example.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式において、Zは前記光反応性基を表す。また、R31は、水素、または、メチル基を表す。さらに、rは0〜20の整数、sは0または1を表す。 In the above formula, Z 1 represents the photoreactive group. R 31 represents hydrogen or a methyl group. Furthermore, r represents an integer of 0 to 20, and s represents 0 or 1.

一方、上記疎液性モノマーについても、上記疎液性基を少なくともひとつ有し、かつ、上記光反応性モノマーと共重合可能なものであれば特に限定されるものではない。また、本発明に用いられる上記疎液性モノマーは、上記疎液性基をひとつ有するものであってもよく、または、複数の疎液性基を有するものであってもよい。   On the other hand, the lyophobic monomer is not particularly limited as long as it has at least one lyophobic group and can be copolymerized with the photoreactive monomer. The lyophobic monomer used in the present invention may have one of the lyophobic groups or may have a plurality of lyophobic groups.

本発明に用いられる疎液性モノマーとしては、例えば、分子中にジメチルシロキサン鎖と(メタ)アクリロイル基を有するモノマー、または、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類が挙げられる。   Examples of the lyophobic monomer used in the present invention include a monomer having a dimethylsiloxane chain and a (meth) acryloyl group in the molecule, or a (meth) acrylic acid moiety or a fully fluorinated alkyl ester derivative. .

本発明に用いられる疎液性モノマーとしては、例えば、下記式で表されるものを例示することができる。   As a lyophobic monomer used for this invention, what is represented by a following formula can be illustrated, for example.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

上記式において、R41は、水素、または、メチルを表す。R42は、メチル基またはブチル基を表す。さらに、tは2〜150の整数、uは1〜20の整数を表す。 In the above formula, R 41 represents hydrogen or methyl. R42 represents a methyl group or a butyl group. Furthermore, t represents an integer of 2 to 150, and u represents an integer of 1 to 20.

上記光反応性モノマーと上記疎液性モノマーとが共重合した構造を有する本発明の光学機能層形成用感光性化合物としては、例えば、下記式で表されるものを例示することができる。   As a photosensitive compound for optical function layer formation of this invention which has the structure which the said photoreactive monomer and the said lyophobic monomer copolymerized, what is represented by a following formula can be illustrated, for example.

Figure 2008276165
上記式において、また、R51、R52、R54、R55は、水素、または、メチル基を表す。R53はメチル基またはブチル基を表す。vは1〜20の整数を表し、wは2〜150の整数を表す。Zは上記光反応性基を表す。
Figure 2008276165
In the above formula, R 51 , R 52 , R 54 , and R 55 each represent hydrogen or a methyl group. R 53 represents a methyl group or a butyl group. v represents an integer of 1 to 20, and w represents an integer of 2 to 150. Z 2 represents the photoreactive group.

上記光反応性モノマーと上記疎液性モノマーとが共重合した構造を有する本発明の光学機能層形成用感光性化合物としては、上記光反応性モノマーと、上記疎液性モノマーとが、本発明の光学機能層形成用感光性化合物全体として、所望の疎液性を発現できる程度の共重合比で共重合されたものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明の光学機能層形成用感光性化合物としては、上記光反応性モノマーと、上記疎液性モノマーとの共重合比(モル比)が、50:50〜99.9:0.1の範囲内、特に80:20〜99.8:0.2の範囲内、さらには90:10〜99:1の範囲内であることが好ましい。共重合比(モル比)が上記範囲内であることにより、光学機能層形成用感光性化合物の量を確保し、十分な架橋性液晶材料の配向規制力を得ることができるからである。   As the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention having a structure in which the photoreactive monomer and the lyophobic monomer are copolymerized, the photoreactive monomer and the lyophobic monomer are the present invention. The entire photosensitive compound for forming an optical functional layer is not particularly limited as long as it is copolymerized at a copolymerization ratio such that a desired lyophobic property can be expressed. Especially, as a photosensitive compound for optical function layer formation of this invention, the copolymerization ratio (molar ratio) of the said photoreactive monomer and the said lyophobic monomer is 50: 50-99.9: 0.1. In the range of 80:20 to 99.8: 0.2, more preferably in the range of 90:10 to 99: 1. This is because when the copolymerization ratio (molar ratio) is within the above range, the amount of the photosensitive compound for forming the optical functional layer can be secured, and sufficient alignment regulating force of the crosslinkable liquid crystal material can be obtained.

また、上記光反応性モノマーと上記疎液性モノマーとが共重合した構造を有する本発明の光学機能層形成用感光性化合物としては、本発明の光学機能層形成用感光性化合物全体として所望の疎液性を発現でき、さらに十分な架橋性液晶材料の配向規制力を得ることができるものであれば、上記光反応性モノマーや上記疎液性モノマーと共重合可能な光反応性モノマーや疎液性モノマー以外のモノマーを含む共重合体でもよい。   In addition, the photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention having a structure in which the photoreactive monomer and the lyophobic monomer are copolymerized is desired as the entire photosensitive compound for forming an optical functional layer of the present invention. Any photoreactive monomer or photoreactive monomer copolymerizable with the above photoreactive monomer or the above liquidphobic monomer can be used as long as it can exhibit liquidphobic properties and can obtain a sufficient alignment regulating force of the crosslinkable liquid crystal material. Copolymers containing monomers other than liquid monomers may also be used.

B.光学機能層形成用組成物
次に、本発明の光学機能層形成用組成物について説明する。本発明の光学機能層形成用組成物は、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物と、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料とを含むことを特徴とするものである。
B. Next, the composition for forming an optical functional layer of the present invention will be described. The composition for forming an optical functional layer of the present invention comprises the above-mentioned photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention and a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group.

本発明の光学機能層形成用組成物は、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物を含有するため、本発明の光学機能層形成用組成物を塗工して光学機能層を形成した際に、上記光学機能層形成用感光性化合物を表面に偏在された光学機能層を形成することができる。このため、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて形成される光学機能層は、上記光学機能層形成用感光性化合物の存在によって、上記架橋性液晶材料の配列性が阻害されることが少ないものにできる。このため、本発明によれば、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成することができる。   Since the composition for forming an optical functional layer of the present invention contains the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention, the optical functional layer is formed by coating the composition for forming an optical functional layer of the present invention. In this case, an optical functional layer in which the photosensitive compound for forming an optical functional layer is unevenly distributed on the surface can be formed. For this reason, in the optical functional layer formed using the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the alignment of the crosslinkable liquid crystal material is inhibited by the presence of the photosensitive compound for forming an optical functional layer. Can be reduced. For this reason, according to the present invention, it is possible to form an optical functional layer having excellent optical function and low haze.

なお、本発明により光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を形成できる理由については、上記「A.光学機能層形成用感光性化合物」の項において説明した理由と同様であるため、ここでの説明は省略する。   The reason why the present invention can form an optical functional layer having excellent optical function and low haze is the same as the reason described in the above section “A. Photosensitive compound for forming an optical functional layer”. Explanation here is omitted.

本発明の光学機能層形成用組成物は、少なくとも、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物と、上記架橋性液晶材料とを有するものであり、必要に応じて他の構成を有してもよいものである。
以下、本発明の光学機能層形成用組成物に用いられる各構成について順に説明する。
The composition for forming an optical functional layer of the present invention includes at least the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention and the crosslinkable liquid crystal material, and has other configurations as necessary. You may do it.
Hereinafter, each structure used for the composition for optical function layer formation of this invention is demonstrated in order.

なお、本発明に用いられる光学機能層形成用感光性化合物については、上記「A.光学機能層形成用感光性化合物」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。   The photosensitive compound for forming an optical functional layer used in the present invention is the same as that described in the above section “A. Photosensitive compound for forming an optical functional layer”, and thus the description thereof is omitted here. .

1.架橋性液晶材料
まず、本発明に用いられる架橋性液晶材料について説明する。本発明に用いられる架橋性液晶材料は、架橋性官能基を有するものである。
1. Crosslinkable liquid crystal material First, the crosslinkable liquid crystal material used in the present invention will be described. The crosslinkable liquid crystal material used in the present invention has a crosslinkable functional group.

本発明に用いられる架橋性液晶材料としては、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて製造される光学機能層に所望の光学機能を付与できるものであれば特に限定されるものではなく、任意の液晶性を備える化合物を用いることができる。なかでも、本発明においては、上記架橋性液晶材料としてネマチック相を示すもの用いることが好ましい。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易だからである。   The crosslinkable liquid crystal material used in the present invention is not particularly limited as long as a desired optical function can be imparted to the optical functional layer produced using the optical functional layer forming composition of the present invention. Any compound having liquid crystallinity can be used. Among them, in the present invention, it is preferable to use a material exhibiting a nematic phase as the crosslinkable liquid crystal material. This is because nematic liquid crystals are easily arranged regularly as compared with liquid crystal materials exhibiting other liquid crystal phases.

本発明に用いられる架橋性液晶材料が有する架橋性官能基としては、分子間架橋を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。このような架橋性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の放射線によって架橋を形成する放射線架橋性官能基、熱の作用によって架橋を形成する熱架橋性官能基等を挙げることができる。なかでも本発明においては上記放射線架橋性官能基が好ましく、特に紫外線を照射することにより架橋を形成する紫外線架橋性官能基が好ましい。その理由は次の通りである。
すなわち、上記架橋性液晶材料として上記熱架橋性官能基を用いた場合、例えば、本発明の光学機能層形成用組成物を塗布・乾燥することによって光学機能層を形成する際に、上記乾燥時に上記架橋性液晶材料が架橋されてしまい、結果として形成される光学機能層に所望の光学機能を付与できない可能性がある。しかしながら、上記紫外線架橋性官能基であればこのような問題が少ないからである。また、紫外線架橋性官能基を用いることにより、上記架橋性液晶材料を架橋する工程を短時間で完了させることができるという利点もある。
The crosslinkable functional group possessed by the crosslinkable liquid crystal material used in the present invention is not particularly limited as long as it can form intermolecular crosslinks. Examples of such a crosslinkable functional group include a radiation crosslinkable functional group that forms a crosslink by radiation such as ultraviolet rays and electron beams, and a heat crosslinkable functional group that forms a crosslink by the action of heat. Among these, in the present invention, the above-mentioned radiation crosslinkable functional group is preferable, and an ultraviolet crosslinkable functional group that forms a crosslink by irradiation with ultraviolet rays is particularly preferable. The reason is as follows.
That is, when the thermally crosslinkable functional group is used as the crosslinkable liquid crystal material, for example, when the optical functional layer is formed by applying and drying the optical functional layer forming composition of the present invention, The crosslinkable liquid crystal material is cross-linked, and as a result, a desired optical function may not be imparted to the optical functional layer formed. However, this is because there are few such problems with the ultraviolet crosslinkable functional group. Further, the use of an ultraviolet crosslinkable functional group has an advantage that the step of crosslinking the crosslinkable liquid crystal material can be completed in a short time.

上記紫外線架橋性官能基としては、通常、紫外線を照射することにより架橋を形成し、上記架橋性液晶材料のポリマー化合物を得ることが可能な重合性官能基、または、紫外線を照射することにより架橋を形成し、上記架橋性液晶材料の二量体を得ることが可能な二量化官能基が用いられる。   The UV crosslinkable functional group is usually a polymerizable functional group capable of forming a crosslink by irradiating ultraviolet rays and obtaining a polymer compound of the crosslinkable liquid crystal material, or crosslinked by irradiating ultraviolet rays. A dimerization functional group that can form a dimer of the crosslinkable liquid crystal material is used.

上記重合性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルエーテル基、オキセタニル基、グリシジル基、脂環式エポキシ基等を挙げることができる。   Examples of the polymerizable functional group include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl ether group, oxetanyl group, glycidyl group, and alicyclic epoxy group.

また、上記二量化官能基としては、例えば、シンナメート誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、ベンジリデンフタルイミジン誘導体、ベンジリデンアセトフェノン誘導体、ジフェニルアセチレン誘導体、スチルバゾール誘導体、ウラシル誘導体、キノリノン誘導体、チミン誘導体、マレインイミド誘導体、シンナミリデン酢酸誘導体等を挙げることができる。   Examples of the dimerization functional group include cinnamate derivatives, coumarin derivatives, chalcone derivatives, benzylidenephthalimidine derivatives, benzylideneacetophenone derivatives, diphenylacetylene derivatives, stilbazole derivatives, uracil derivatives, quinolinone derivatives, thymine derivatives, maleinimide derivatives. And cinnamylideneacetic acid derivatives.

本発明においては上記重合性官能基、または、上記二量化官能基のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも重合性官能基を用いることが好ましい。重合性官能基は光重合開始剤を添加した場合には反応速度が高く、二量化官能基よりも少ない紫外線照射量で耐久性の高い層を形成することができるからである。   In the present invention, any of the polymerizable functional group and the dimerized functional group can be preferably used, and among them, the polymerizable functional group is preferably used. This is because the polymerizable functional group has a high reaction rate when a photopolymerization initiator is added, and a highly durable layer can be formed with a smaller amount of UV irradiation than the dimerized functional group.

また、本発明においては、上記重合性官能基のなかでもアクリロイル基、オキセタニル基を用いることが好ましい。これらの重合性官能基は反応性に優れるからである。さらに、本発明においてはこれらの重合性官能基のなかでもアクリロイル基を用いることが好ましい。アクリロイル基を有する架橋性液晶材料は、工業的に入手可能な種類が多いことから本発明へ適用することが容易だからである。   In the present invention, it is preferable to use an acryloyl group or an oxetanyl group among the polymerizable functional groups. This is because these polymerizable functional groups are excellent in reactivity. Furthermore, in the present invention, it is preferable to use an acryloyl group among these polymerizable functional groups. This is because the crosslinkable liquid crystal material having an acryloyl group is easy to apply to the present invention because there are many types that are industrially available.

本発明に用いられる架橋性液晶材料は、上記架橋性官能基を複数有するものであってもよく、または、1つのみを有するものであってもよい。また、本発明においては架橋性官能基を複数有する架橋性液晶材料と、架橋性官能基を1つのみを有する架橋性液晶材料とを混合して用いてもよい。   The crosslinkable liquid crystal material used in the present invention may have a plurality of the crosslinkable functional groups or may have only one. In the present invention, a crosslinkable liquid crystal material having a plurality of crosslinkable functional groups and a crosslinkable liquid crystal material having only one crosslinkable functional group may be mixed and used.

このような構造を有する架橋性液晶材料のうち、上記架橋性官能基を複数有するものとしては、例えば、下記式(a)〜(g)で表される化合物を挙げることができる。   Among the crosslinkable liquid crystal materials having such a structure, examples of those having a plurality of the crosslinkable functional groups include compounds represented by the following formulas (a) to (g).

Figure 2008276165
Figure 2008276165

Figure 2008276165
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また、このような構造を有する架橋性液晶材料のうち上記架橋性官能基を1つのみ有するものとしては、例えば、下記式(h)、(i)で表される化合物を挙げることができる。   Moreover, as what has only one said crosslinkable functional group among the crosslinkable liquid crystal materials which have such a structure, the compound represented by following formula (h) and (i) can be mentioned, for example.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

ここで、上記式(a)〜(i)において、L、Lは、それぞれ独立に−O−、または、−O−CO−O−を表す。また、Dは、下記式(i)〜(viii)で表されるメソゲン基を表す。 Here, in the above formulas (a) to (i), L 1 and L 2 each independently represent —O— or —O—CO—O—. D represents a mesogenic group represented by the following formulas (i) to (viii).

Figure 2008276165
Figure 2008276165

また、R61は、それぞれ独立に水素またはメチル基を表す。a〜iは、それぞれ独立に2〜12の整数であるが、より好ましくは4〜10である。
さらに、L、Lは、それぞれ独立に下記式(ix)〜(xiii)のいずれかを表す。
R 61 each independently represents hydrogen or a methyl group. a to i are each independently an integer of 2 to 12, more preferably 4 to 10.
Further, L 3 and L 4 each independently represent any of the following formulas (ix) to (xiii).

Figure 2008276165
Figure 2008276165

また、jは、0〜20の整数を表す。R63は、水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜10のアルキル基、アルキルオキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、または、ニトロ基を表す。 J represents an integer of 0 to 20. R 63 represents hydrogen, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxycarbonyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a nitro group.

上記以外に、本発明に用いられる架橋性液晶材料の具体例としては、例えば、特開平4−227684号公報、特開平9−111240号公報、特開平10−182556号公報、特開平11−513019号公報、特開2000−98113号公報、特開2002−69450号公報、特開2002−30042号公報、特開2003−96066号公報、および、特開2004−123597号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。   In addition to the above, specific examples of the crosslinkable liquid crystal material used in the present invention include, for example, JP-A-4-227684, JP-A-9-111240, JP-A-10-182556, JP-A-11-513019. No. 2000-98113, No. 2002-69450, No. 2002-30042, No. 2003-96066, and No. 2004-123597. Can be mentioned.

本発明に用いられる架橋性液晶材料は1種類でもよく、または、2種類以上を混合して用いてもよい。   The crosslinkable liquid crystal material used in the present invention may be one kind or a mixture of two or more kinds.

2.光学機能層形成用組成物
本発明の光学機能層形成用組成物は、上記光学機能層形成用感光性材料および上記架橋性液晶材料を含有するものであるが、本発明の光学機能層形成用組成物中に含有される上記光学機能層形成用感光性化合物と、上記架橋性液晶材料との比率としては、本発明により製造される光学機能層に所定の光学機能を付与できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、上記架橋性液晶材料100質量部に対する上記光学機能層形成用感光性化合物の含有量が、0.001質量部〜10質量部の範囲内であることが好ましく、特に0.01質量部〜1質量部の範囲内であることが好ましく、さらに0.01質量部〜0.5質量部の範囲内であることが好ましい。上記光学機能層形成用感光性化合物の含有量が上記範囲よりも少ないと、例えば、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて形成される光学機能層において、上記架橋性液晶材料を規則的に配列させることが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲よりも多いと本発明の光学機能層形成用組成物を用いて形成される光学機能層に所望の光学機能を付与できない恐れがあるからである。
2. Optical functional layer forming composition The optical functional layer forming composition of the present invention contains the above-mentioned photosensitive material for forming an optical functional layer and the above-mentioned crosslinkable liquid crystal material, but for forming the optical functional layer of the present invention. The ratio of the photosensitive compound for forming an optical functional layer contained in the composition to the crosslinkable liquid crystal material is within a range that can give a predetermined optical function to the optical functional layer produced according to the present invention. It is not particularly limited. Especially in this invention, it is preferable that content of the said photosensitive compound for optical function layer formation with respect to 100 mass parts of said crosslinkable liquid crystal materials exists in the range of 0.001 mass part-10 mass parts, especially 0. It is preferably within a range of 0.01 parts by mass to 1 part by mass, and more preferably within a range of 0.01 parts by mass to 0.5 parts by mass. When the content of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is less than the above range, for example, in the optical functional layer formed using the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the crosslinkable liquid crystal material is ordered. This is because it may be difficult to arrange them periodically. Moreover, it is because there exists a possibility that a desired optical function may not be provided to the optical function layer formed using the composition for optical function layer formation of this invention when more than the said range.

また、本発明の光学機能層形成用組成物は、上記光学機能層形成用感光性化合物の含有量が全固形分比に対して1質量%以下であることが好ましく、なかでも0.001質量%〜0.5質量%の範囲内であることが好ましく、特に0.01質量%〜0.1質量%の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上記範囲内であることにより、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて、よりヘイズが小さい光学機能層を形成することが可能になるからである。   In the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the content of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is preferably 1% by mass or less, particularly 0.001% by mass with respect to the total solid content ratio. % To 0.5% by mass, and particularly preferably 0.01% to 0.1% by mass. This is because when the content is within the above range, an optical functional layer having a smaller haze can be formed using the composition for forming an optical functional layer of the present invention.

本発明の光学機能層形成用組成物は、上記光学機能層形成用感光性材料および上記架橋性液晶材料を含有するものであるが、必要に応じてこれら以外の他の構成を含有するものであってもよい。このような他の構成としては、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。なかでも本発明においては上記他の構成として、光重合開始剤、および、溶媒を用いることが好ましい。本発明の光学機能層形成用組成物に溶媒が含まれることにより、本発明の光学機能層形成用組成物を塗工して光学機能層を形成する際に、上記光学機能層形成用感光性化合物が表面により偏在化された光学機能層を形成することができるからである。また、本発明の光学機能層形成用組成物に光重合開始剤が含有されることにより、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて光学機能層を形成する際に、上記架橋性液晶材料の架橋形成反応を促進することが可能となるからである。   The composition for forming an optical functional layer of the present invention contains the above-mentioned photosensitive material for forming an optical functional layer and the above-mentioned crosslinkable liquid crystal material, but contains other components as necessary. There may be. Examples of such other configurations include solvents, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, plasticizers, surfactants, and silane coupling agents. In particular, in the present invention, it is preferable to use a photopolymerization initiator and a solvent as the other configuration. When the optical functional layer forming composition of the present invention contains a solvent, when the optical functional layer forming composition of the present invention is applied to form the optical functional layer, the optical functional layer forming photosensitive property is formed. This is because an optical functional layer in which the compound is unevenly distributed on the surface can be formed. Moreover, when the optical functional layer is formed using the composition for forming an optical functional layer of the present invention by containing a photopolymerization initiator in the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the crosslinkable liquid crystal is used. This is because the cross-linking reaction of the material can be promoted.

本発明に用いられる溶媒としては、上記光学機能層形成用感光性化合物および上記架橋性液晶材料を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶媒;ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等を挙げることができるが、これらに限られるものではない。   The solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve the optical functional layer-forming photosensitive compound and the crosslinkable liquid crystal material at a desired concentration. Examples of such solvents include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and cyclopentanone; hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and hexane; ethers such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane. Solvents; alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; amide solvents such as N, N-dimethylformamide; and dimethyl Examples thereof include, but are not limited to, sulfoxide solvents such as sulfoxide.

また、本発明に用いられる溶媒は1種類でもよく、または、2種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。   Further, the solvent used in the present invention may be one kind or a mixed solvent of two or more kinds of solvents.

なお、本発明の光学機能層形成用組成物に溶媒が含まれる場合、本発明の光学機能層形成用組成物の固形分濃度は特に限定されるものではなく、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて光学機能層を形成する際に、本発明の光学機能層形成用組成物を塗工する塗布方法等に応じて任意の濃度にすることができる。   In addition, when a solvent is contained in the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the solid content concentration of the composition for forming an optical functional layer of the present invention is not particularly limited, and for forming the optical functional layer of the present invention. When forming an optical functional layer using a composition, it can be made into arbitrary density | concentrations according to the coating method etc. which apply the composition for optical functional layer formation of this invention.

一方、本工程に用いられる光重合開始剤としては、上記架橋性液晶材料が有する重合性官能基の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本発明においては、上記重合性官能基として、アクリロイル基、および、メタクリロイル基を有する架橋性液晶材料を用いる場合においては光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましく、一方、上記重合性官能基として、ビニルエーテル基、オキセタニル基、グリシジル基、および、脂環式エポキシ基を有する架橋性液晶材料を用いる場合においては、光カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。   On the other hand, as a photoinitiator used for this process, it can select suitably according to the kind etc. of the polymerizable functional group which the said crosslinkable liquid crystal material has, and can use. In particular, in the present invention, when a crosslinkable liquid crystal material having an acryloyl group and a methacryloyl group is used as the polymerizable functional group, it is preferable to use a radical photopolymerization initiator. In the case of using a crosslinkable liquid crystal material having a vinyl ether group, an oxetanyl group, a glycidyl group, and an alicyclic epoxy group, it is preferable to use a photocationic polymerization initiator.

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、2−n−ブトキシエチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、3、3’−ジメチル−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノー1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェルニケトン、2−ヒロドキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロキシチオキサントン、2−ヒドロキシ−2−メチル−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマー等を挙げることができる。   Examples of the photo radical polymerization initiator include benzyl, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, benzyl methyl ketal, dimethylaminomethyl. Benzoate, 2-n-butoxyethyl-4-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, 3,3′-dimethyl-dimethyl-4-methoxybenzophenone, methylobenzoylformate, 2-methyl-1- ( 4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl Erniketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-chlorothioxanthone, 2,4- Diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 1-chloro-4-proxythioxanthone, 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer Etc.

また、上記光カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−4−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−p−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、(η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)等を挙げることができる。さらに具体的には、ベンゾイントシレート、2,5−ジニトロベンジルトシレート、N−トシフタル酸イミド等を挙げることができる。   Examples of the cationic photopolymerization initiator include sulfonic acid esters, imide sulfonates, dialkyl-4-hydroxysulfonium salts, arylsulfonic acid-p-nitrobenzyl esters, silanol-aluminum complexes, (η6-benzene) (η5-cyclo Pentadienyl) iron (II) and the like. More specifically, benzoin tosylate, 2,5-dinitrobenzyl tosylate, N-tosicphthalimide and the like can be mentioned.

さらに、上記光ラジカル重合開始剤および上記光カチオン重合開始剤として用いることが可能な化合物としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等を例示することができる。より具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−クロロフェニル)ヨードニウム等のヨードに有無のクロリド;ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、4−tert−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニルー4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチルー4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等の2,4,6−置換−1,3,5−トリアジン化合物等を挙げることができる。   Furthermore, examples of the compound that can be used as the photo radical polymerization initiator and the photo cation polymerization initiator include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, An iron arene complex etc. can be illustrated. More specifically, chlorides with or without iodine such as diphenyliodonium, ditolyliodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium; bromide, borofluoride, hexafluorophosphate salt, Iodonium salts such as hexafluoroantimonate salts, chlorides of sulfonium such as triphenylsulfonium, 4-tert-butyltriphenylsulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, bromides, borofluorides, hexafluorophosphate salts, hexafluoro Sulfonium salts such as antimonate salts, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2 − And the like Chiru 4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-2,4,6-substituted-1,3,5-triazine compounds such as triazines.

また、本発明の光学機能層形成用組成物に上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   Moreover, when using the said photoinitiator for the composition for optical function layer formation of this invention, a photoinitiator adjuvant can be used together. Examples of such photopolymerization initiation assistants include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as ethyl 2-dimethylaminoethylbenzoate and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. Yes, but not limited to these.

本発明の光学機能層形成用組成物に上記光重合開始剤を用いる場合、その添加量は、上記架橋性液晶材料の質量に対して0.01質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましく、なかでも0.1質量%〜10質量%の範囲内であることが好ましく、特に0.3質量%〜5質量%の範囲内であることが好ましい。光重合開始剤の添加量が上記範囲よりも少ないと、上記架橋性液晶材料を架橋させるのに必要な紫外線照射量が多くなりすぎてしまう可能性があり、また、上記範囲よりも多いと上記光学機能層形成用感光性化合物の反応を阻害してしまう恐れがあるからである。   When the photopolymerization initiator is used in the composition for forming an optical functional layer of the present invention, the addition amount thereof is in the range of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the mass of the crosslinkable liquid crystal material. In particular, it is preferably in the range of 0.1% by mass to 10% by mass, particularly preferably in the range of 0.3% by mass to 5% by mass. If the addition amount of the photopolymerization initiator is less than the above range, the amount of ultraviolet irradiation necessary to crosslink the crosslinkable liquid crystal material may increase too much. It is because there exists a possibility of inhibiting the reaction of the photosensitive compound for optical function layer formation.

C.光学機能フィルム
次に、本発明の光学機能フィルムについて説明する。本発明の光学機能フィルムは、透明基板、および、上記透明基板上に形成され、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物の反応物と、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料の架橋物とを含有する光学機能層を有する光学機能フィルムであって、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に偏在していることを特徴とするものである。
C. Next, the optical functional film of the present invention will be described. The optical functional film of the present invention comprises a transparent substrate, a reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention, and a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group, formed on the transparent substrate. An optical functional film having an optical functional layer containing a crosslinked product, wherein the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. It is characterized by being.

このような本発明の光学機能フィルムについて図を参照しながら説明する。図2は本発明の光学機能フィルムの一例を示す概略図である。図2に例示するように本発明の光学機能フィルム10は、透明基板1と、上記透明基板1上に形成され、光学機能層形成用感光性化合物の反応物Aと、架橋性液晶材料の架橋物とを含有する光学機能層2とを有するものである。
このような例において、本発明の光学機能フィルムは10は、上記光学機能層2に含まれる上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物Aが、上記光学機能層2の上記透明基板1とは反対側の表面に偏在していることを特徴とするものである。
Such an optical functional film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic view showing an example of the optical functional film of the present invention. As illustrated in FIG. 2, the optical functional film 10 of the present invention is formed on the transparent substrate 1, the reaction product A of the photosensitive compound for forming the optical functional layer, and the crosslinkable liquid crystal material. And an optical functional layer 2 containing a product.
In such an example, the optical functional film 10 of the present invention is such that the reaction product A of the photosensitive compound for forming an optical functional layer contained in the optical functional layer 2 is the same as the transparent substrate 1 of the optical functional layer 2. Is unevenly distributed on the opposite surface.

本発明によれば、上記光学機能層において上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に偏在していることから、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の存在によって、上記架橋性液晶材料の架橋物の配列性が阻害されることを防止できるため、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを得ることができる。   According to the present invention, the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer in the optical functional layer is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. Since it is possible to prevent the alignment of the cross-linked product of the cross-linkable liquid crystal material from being inhibited by the presence of the reaction product of the layer-forming photosensitive compound, an optical functional film having excellent optical function and low haze is obtained. be able to.

本発明の光学機能フィルムは、少なくとも上記透明基板と、上記光学機能とを有するのであり、必要に応じて他の構成を有してもよいものである。
以下、本発明の光学機能フィルムに用いられる各構成について順に説明する。
The optical functional film of the present invention has at least the transparent substrate and the optical function, and may have other configurations as necessary.
Hereafter, each structure used for the optical function film of this invention is demonstrated in order.

1.光学機能層
まず、本発明に用いられる光学機能層について説明する。本発明に用いられる光学機能層は、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物の反応物と、上記架橋性液晶材料の架橋物とを含むものであり、上記光学機能層形成用感光性化合物が、光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを特徴とするものである。
1. Optical Functional Layer First, the optical functional layer used in the present invention will be described. The optical functional layer used in the present invention includes a reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention and a crosslinked product of the crosslinkable liquid crystal material. The active compound is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate.

(1)光学機能層形成用感光性化合物の反応物
まず、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物について説明する。本発明に用いられる光学機能層形成用感光性化合物の反応物は、上記本発明に係る光学機能層形成用感光性化合物に偏光紫外線を照射され、上記光学機能層形成用感光性化合物の光反応性基が反応することによって得られる反応結果物である。したがって、例えば、上記本発明に係る光学機能層形成用組成物が有する光反応性基が、偏光紫外線が照射されることによって光二量化反応を生じるものである場合、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物は、上記光反応性基を複数有する光学機能層形成用感光性化合物が架橋構造を形成したものとなる。
(1) Reaction product of photosensitive compound for forming optical functional layer First, the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer will be described. The reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer used in the present invention is irradiated with polarized ultraviolet rays to the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to the present invention, and the photoreaction of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is performed. It is a reaction result obtained by the reaction of the sex group. Therefore, for example, when the photoreactive group of the composition for forming an optical functional layer according to the present invention causes a photodimerization reaction when irradiated with polarized ultraviolet rays, the photosensitivity for forming an optical functional layer is used. The reaction product of the compound is a compound in which the photosensitive compound for forming an optical functional layer having a plurality of photoreactive groups forms a crosslinked structure.

なお、上記光学機能層形成用感光性化合物については、上記「A.光学機能層形成用感光性化合物」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。   The photosensitive compound for forming an optical functional layer is the same as that described in the section “A. Photosensitive compound for forming an optical functional layer”, and thus the description thereof is omitted here.

(2)架橋性液晶材料の架橋物
次に、本発明に用いられる架橋性液晶材料の架橋物について説明する。本発明に用いられる架橋性液晶材料の架橋物は、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料が架橋を形成することにより得られる結果物である。
(2) Crosslinked product of crosslinkable liquid crystal material Next, a crosslinked product of the crosslinkable liquid crystal material used in the present invention will be described. The cross-linked product of the cross-linkable liquid crystal material used in the present invention is a result obtained by forming a cross-link by the cross-linkable liquid crystal material having a cross-linkable functional group.

上記架橋性液晶材料の架橋物は、上記架橋性官能基として、重合性官能基を有する架橋性液晶材料が用いられている場合には、上記架橋性液晶材料の重合物となる。一方、上記架橋性官能基として、二量化官能基を有する架橋性液晶材料が用いられている場合、分子中に二量化官能基の一つの場合は二量体となり、分子中の二量化官能基が複数である場合は、架橋物となる。
ここで、上記架橋性液晶材料については、上記「B.光学機能層形成用組成物」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
When a crosslinkable liquid crystal material having a polymerizable functional group is used as the crosslinkable functional group, the crosslinkable liquid crystal material is a polymer of the crosslinkable liquid crystal material. On the other hand, when a crosslinkable liquid crystal material having a dimerization functional group is used as the crosslinkable functional group, the dimerization functional group in the molecule becomes a dimer in the case of one of the dimerization functional groups in the molecule. When there is a plurality, the cross-linked product is obtained.
Here, since the crosslinkable liquid crystal material is the same as that described in the section “B. Composition for forming optical functional layer”, description thereof is omitted here.

上記架橋性液晶材料の架橋物は、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の作用により規則的に配列した状態で存在することになるが、その配列状態としては、本発明の光学機能フィルムに所望の光学機能を発現できる配列状態であれば特に限定されるものではない。このような配列状態としては、例えば、透明基板に対してメソゲンが平行となるように、かつ平均配向方向が面内の特定の方向に配向した状態を挙げることができる。この液晶構造はホモジニアス構造(平行配向構造)と称され、このような構造を有することにより、本発明の光学機能フィルムに光学的にAプレートとしての性質を付与することができる。さらに、メソゲンを透明基板に対して傾斜した方向に配向させることができ、光学機能層の特定方向での傾斜角依存性が法線方向に対して非対称とすることもできる。   The cross-linked product of the cross-linkable liquid crystal material exists in a regularly arranged state by the action of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer, and the arrangement state includes the optical function of the present invention. There is no particular limitation as long as the film is in an arrangement state in which a desired optical function can be expressed. Examples of such an arrangement state include a state in which the mesogens are parallel to the transparent substrate and the average orientation direction is oriented in a specific direction in the plane. This liquid crystal structure is called a homogeneous structure (parallel alignment structure). By having such a structure, the optical function film of the present invention can be optically imparted with properties as an A plate. Further, the mesogen can be oriented in a direction inclined with respect to the transparent substrate, and the inclination angle dependency in a specific direction of the optical functional layer can be asymmetric with respect to the normal direction.

なお、本発明の光学機能フィルムは配向層を必要としないものであるため、上述したように、従来の配向層を必要とする光学機能フィルムでは実現することが困難であった液晶材料の三次元配向を実現することが可能となる。   In addition, since the optical functional film of the present invention does not require an alignment layer, as described above, the three-dimensional liquid crystal material that has been difficult to realize with a conventional optical functional film that requires an alignment layer. Orientation can be realized.

(3)光学機能層
本発明に用いられる光学機能層は、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に偏在していることを特徴とするものである。ここで、本発明において、上記「偏在している」とは、本発明に用いられる光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に存在する上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の濃度が、本発明に用いられる光学機能層の厚み方向の中央部に存在する上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の濃度よりも高いことを意味するものである。なお、厚み方向とは、本発明に用いられる光学機能層の平面方向に垂直な方向を意味するものとする。
(3) Optical functional layer In the optical functional layer used in the present invention, the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. It is characterized by. Here, in the present invention, the term “distributed” means a reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer present on the surface of the optical functional layer used in the present invention on the side opposite to the transparent substrate. This means that the concentration of is higher than the concentration of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer present at the center in the thickness direction of the optical functional layer used in the present invention. The thickness direction means a direction perpendicular to the plane direction of the optical functional layer used in the present invention.

本発明に用いられる光学機能層において、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が偏在している態様としては、本発明に用いられる光学機能層のヘイズを所望の程度にでき、かつ、所定の光学機能を発現できる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、例えば、光学機能層において上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が存在している領域と、存在していない領域とが界面を形成するように存在するような態様であってもよく、または、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の濃度が、上記透明基板とは反対側の表面から、上記透明基板側の表面へ向かって連続的に低減するように傾斜して存在する態様であってもよい。   In the optical functional layer used in the present invention, as an embodiment in which the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is unevenly distributed, the haze of the optical functional layer used in the present invention can be set to a desired level, and The embodiment is not particularly limited as long as it can exhibit a predetermined optical function. As such an embodiment, for example, in the optical functional layer, a region where the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is present and a region where the reactant is not present exist so as to form an interface. The concentration of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer may be continuously reduced from the surface opposite to the transparent substrate toward the surface on the transparent substrate side. The aspect which exists in such a manner may be sufficient.

本発明の光学機能層において、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記後者の態様で存在する場合、上記反応物の濃度の傾斜の程度としては、本発明に用いられる光学機能層のヘイズを所望の程度にでき、かつ、所定の光学機能を発現できる態様であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、光学機能層中に存在する上記反応物の総量の50%以上が、上記透明基板とは反対側の表面から厚み10%の範囲内、より好ましくは5%〜8%の範囲内、さらに好ましくは0.01%〜0.3%の範囲内に存在することが好ましい。上記反応物の濃度の傾斜の程度が上記範囲内であることにより、本発明の光学機能層形成用組成物を用いて、よりヘイズが小さい光学機能層を形成することが可能になるからである。
なお、上記反応物の傾斜の程度は、例えば、光学機能層の断面をTOF−SIMS等の分析手法を用いて分析することにより求めることができる。また、定性的ではあるが、光電子X線分析により当該フィルム表面ならびにその深さ方向の原子組成比を測定することで偏在を確認することもできる。
In the optical functional layer of the present invention, when the reactant of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is present in the latter embodiment, the optical function used in the present invention is determined as the degree of concentration gradient of the reactant. There is no particular limitation as long as the haze of the layer can be set to a desired level and a predetermined optical function can be exhibited. In particular, in the present invention, 50% or more of the total amount of the reactants present in the optical functional layer is within a range of 10% from the surface opposite to the transparent substrate, more preferably 5% to 8%. It is preferable that it exists in the range of 0.01%-0.3% more preferably. This is because when the grade of the concentration of the reactant is within the above range, it is possible to form an optical functional layer having a smaller haze by using the optical functional layer forming composition of the present invention. .
In addition, the grade of the said reaction material inclination can be calculated | required by analyzing the cross section of an optical function layer using analytical methods, such as TOF-SIMS, for example. Moreover, although it is qualitative, uneven distribution can be confirmed by measuring the film surface and the atomic composition ratio in the depth direction by photoelectron X-ray analysis.

なお、本発明に用いられる光学機能層は、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、少なくとも上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面に偏在していることを特徴とするものである。したがって、本発明に用いられる光学機能層は、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、上記光学機能層の上記透明基板とは反対側の表面のみに偏在しているものであってもよく、上記透明基板とは反対側の表面と、上記透明基板側の表面との両面に偏在しているものであってもよい。   The optical functional layer used in the present invention is characterized in that the reaction product of the photosensitive compound for forming the optical functional layer is unevenly distributed at least on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. To do. Therefore, in the optical functional layer used in the present invention, the reaction product of the photosensitive compound for forming the optical functional layer is unevenly distributed only on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. Alternatively, it may be unevenly distributed on both the surface on the opposite side of the transparent substrate and the surface on the transparent substrate side.

本発明に用いられる光学機能層における上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の含有量が1質量%以下であることが好ましく、なかでも0.001質量%〜0.5質量%の範囲内であることが好ましく、さらに0.01質量%〜0.3質量%の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上記範囲内であることにより、本発明の光学機能フィルムをよりヘイズが小さいものにすることができるからである。   The content of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer in the optical functional layer used in the present invention is preferably 1% by mass or less, and more preferably in the range of 0.001% by mass to 0.5% by mass. It is preferable to be within the range of 0.01% by mass to 0.3% by mass. This is because when the content is within the above range, the optical function film of the present invention can have a smaller haze.

本発明における光学機能層には、上記架橋性液晶材料の架橋物および上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物以外の他の化合物が含まれていてもよい。このような他の化合物としては、光学機能層における上記架橋性液晶材料の配列状態や、光学機能層の光学機能の発現性を損なわないものであれば特に限定されるものではなく、本発明の光学機能フィルムの用途等に応じて適宜選択して用いることができる。このような他の化合物としては、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。なかでも本発明においては、上記液晶材料として上記架橋性液晶材料を用いる場合、上記他の化合物として重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。   The optical functional layer in the present invention may contain a compound other than the crosslinked product of the crosslinkable liquid crystal material and the reaction product of the photosensitive compound for forming the optical functional layer. Such other compounds are not particularly limited as long as they do not impair the alignment state of the crosslinkable liquid crystal material in the optical function layer and the optical function of the optical function layer. It can be appropriately selected and used according to the use of the optical functional film. Examples of such other compounds include a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a surfactant, and a silane coupling agent. In particular, in the present invention, when the crosslinkable liquid crystal material is used as the liquid crystal material, it is preferable to use a polymerization initiator or a polymerization inhibitor as the other compound.

また、本発明における光学機能層には、本発明の目的を損なわない範囲内で、非架橋性の液晶材料や下記に示すような非液晶性化合物を添加することができる。添加できる非液晶性合物としては、例えば、ポリオールアクリレート類、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂等が挙げられる。   In addition, a non-crosslinkable liquid crystal material or a non-liquid crystal compound as shown below can be added to the optical functional layer in the present invention within a range that does not impair the object of the present invention. Examples of the non-liquid crystalline compound that can be added include polyol acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, and epoxy resins.

本発明に用いられる光学機能層の構成としては、本発明の光学機能フィルムの用途等に応じて、所望の光学機能を発現できるものであれば特に限定されるものではない。したがって、本発明に用いられる光学機能層は、単一層からなる構成を有するものであってもよく、または、複数の層が積層された構成を有するものであってもよい。   The configuration of the optical functional layer used in the present invention is not particularly limited as long as a desired optical function can be expressed according to the use of the optical functional film of the present invention. Therefore, the optical functional layer used in the present invention may have a configuration composed of a single layer, or may have a configuration in which a plurality of layers are laminated.

本発明における光学機能層の厚みは、上記架橋性液晶材料の架橋物や上記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の種類等に応じて、本発明の光学機能フィルムに所望の光学機能を付与できる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、特に0.5μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、さらには0.8μm〜3μmの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記光学機能層が複数の層が積層された構成を有するものである場合、上記厚みは、すべての層の厚みの総和を意味するものとする。
The thickness of the optical functional layer in the present invention is such that the optical functional film of the present invention has a desired optical function depending on the cross-linked product of the crosslinkable liquid crystal material and the type of reaction product of the photosensitive compound for forming the optical functional layer. If it is in the range which can be provided, it will not specifically limit. In particular, in the present invention, it is preferably in the range of 0.5 μm to 10 μm, particularly preferably in the range of 0.5 μm to 5 μm, and more preferably in the range of 0.8 μm to 3 μm. preferable.
Here, when the optical functional layer has a structure in which a plurality of layers are laminated, the thickness means the sum of the thicknesses of all the layers.

2.透明基板
次に、本発明に用いられる透明基板について説明する。本発明に用いられる透明基板は、透明性を有するものであり、本発明の光学機能フィルムにおいて光学機能層を支持するものである。
2. Transparent substrate Next, the transparent substrate used in the present invention will be described. The transparent substrate used in the present invention has transparency, and supports the optical functional layer in the optical functional film of the present invention.

本発明に用いられる透明基板の透明度は、本発明の光学機能フィルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。透過率が上記範囲であることにより、例えば、本発明の光学機能フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いた場合に、液晶表示装置の表示輝度が低下することを防止することができるからである。
ここで、透明基板の透過率は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
The transparency of the transparent substrate used in the present invention may be arbitrarily determined according to the transparency required for the optical functional film of the present invention, but it is usually preferable that the transmittance in the visible light region is 80% or more. 90% or more is more preferable. When the transmittance is in the above range, for example, when the optical functional film of the present invention is used as a viewing angle compensation film for a liquid crystal display device, it is possible to prevent the display luminance of the liquid crystal display device from being lowered. It is.
Here, the transmittance of the transparent substrate can be measured according to JIS K7361-1 (Testing method for total light transmittance of plastic transparent material).

本発明に用いられる透明基板は、上記透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、ガラス基板等の可撓性のないリジッド材でも用いることもできる。なかでも本発明においてはフレキシブル材を用いることが好ましい。フレキシブル材を用いることにより、本発明の光学機能フィルムを製造する工程を、Roll to Rollプロセス(ロール状に巻き取った透明基板から巻き出された透明基板上に、光学機能層形成用層を連続的に形成した後、再度ロール状に巻き取る製造手法)にすることが可能になるため、本発明の光学機能フィルムを高生産性で製造することが可能になるからである。   The transparent substrate used in the present invention may be a flexible material having flexibility or a rigid material having no flexibility such as a glass substrate as long as it has the above-described transparency. Among them, it is preferable to use a flexible material in the present invention. By using a flexible material, the process for producing the optical functional film of the present invention is performed by the Roll to Roll process (a layer for forming an optical functional layer is continuously formed on a transparent substrate unwound from a transparent substrate wound in a roll shape). This is because the optical functional film of the present invention can be manufactured with high productivity.

また、本発明に用いられる透明基板は、光学的等方性基板でもよく、または、光学機能性有する基板であってもよい。
ここで上記光学的等方性基板とは、Reが10nm以下であり、かつ、Rthが40nm以下である透明基板を意味するものとする。なかでも本発明に用いられる光学的等方性基板は、Reが5nm以下であること好ましい。また、Rthは20nm以下であることが好ましい。
The transparent substrate used in the present invention may be an optically isotropic substrate or a substrate having optical functionality.
Here, the optically isotropic substrate means a transparent substrate having Re of 10 nm or less and Rth of 40 nm or less. In particular, the optically isotropic substrate used in the present invention preferably has Re of 5 nm or less. Rth is preferably 20 nm or less.

なお、上記ReとRthそれぞれ下記式で定義される。
Re=(nx−ny)×d
Rth=[{(nx+ny)/2}−nz]×d
式中、nxは透明基板の面内方向において最も屈折率が高い方向の屈折率、nyは透明基板の面内方向において最も屈折率が低い方向の屈折率、さらに、nzは透明基板の厚み方向の屈折率である。また、dは透明基板の厚みである。
The above Re and Rth are defined by the following formulas.
Re = (nx−ny) × d
Rth = [{(nx + ny) / 2} -nz] × d
In the formula, nx is the refractive index in the direction with the highest refractive index in the in-plane direction of the transparent substrate, ny is the refractive index in the direction with the lowest refractive index in the in-plane direction of the transparent substrate, and nz is the thickness direction of the transparent substrate. Is the refractive index. D is the thickness of the transparent substrate.

上記光学的等方性基板を構成する材料としては、例えば、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル類などを挙げることができる。なかでも本発明に用いられる光学的等方性基板は、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系ポリマーからなるものが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるからである。また、シクロオレフィン系ポリマーは耐久性に優れるからである。   Examples of the material constituting the optically isotropic substrate include cellulose derivatives, norbornene polymers, cycloolefin polymers, polycarbonates, polyesters, and the like. Among them, the optically isotropic substrate used in the present invention is preferably made of a cellulose derivative or a cycloolefin polymer. This is because the cellulose derivative is particularly excellent in optical isotropy. Moreover, it is because a cycloolefin type polymer is excellent in durability.

上記セルロース誘導体としては、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。   As said cellulose derivative, it is preferable to use a cellulose ester, Furthermore, it is preferable to use cellulose acylates among cellulose esters. This is because cellulose acylates are advantageous in terms of availability because they are widely used industrially.

また、上記セルロースアシレート類としては、炭素数2〜4の低級脂肪酸エステルが好ましい。このような低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。   Moreover, as said cellulose acylates, C2-C4 lower fatty acid ester is preferable. Such a lower fatty acid ester may contain only a single lower fatty acid ester, for example, cellulose acetate, and a plurality of fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate may be used. It may be included.

本発明においては、上記低級脂肪酸エステルのなかでもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。また、セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5〜62.5%(置換度:2.6〜3.0)のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
In the present invention, cellulose acetate can be particularly preferably used among the above lower fatty acid esters. Moreover, as a cellulose acetate, it is most preferable to use the triacetyl cellulose whose average acetylation degree is 57.5-62.5% (substitution degree: 2.6-3.0).
Here, the degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation can be determined by measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like). In addition, the acetylation degree of the triacetyl cellulose which comprises a triacetyl cellulose film can be calculated | required by said method, after removing impurities, such as a plasticizer contained in a film.

一方、上記シクロオレフィン系ポリマーとは、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのような、環状オレフィン(シクロオレフィン)からなるモノマーのユニットを有するポリマーである。このような、シクロオレフィン系ポリマーは分子設計により、ガラス転移点や吸水率を好ましい範囲に制御でき、良好な耐熱性と適度な吸水性を満たすことができる。   On the other hand, the cycloolefin polymer is a polymer having a monomer unit composed of a cyclic olefin (cycloolefin) such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer. Such a cycloolefin-based polymer can control the glass transition point and water absorption rate within a preferable range by molecular design, and can satisfy good heat resistance and appropriate water absorption.

本発明に用いられるシクロオレフィン系ポリマーは、23℃における飽和吸水率が1質量%以下であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板は、吸水による光学特性の変化や寸法変化を生じにくいからである。
ここで、上記飽和吸水率はASTMD570に準拠し、23℃水中で1週間浸漬して増加質量を測定することにより得られる値を意味するものとする。
The cycloolefin polymer used in the present invention preferably has a saturated water absorption at 23 ° C. of 1% by mass or less. This is because a transparent substrate made of such a cycloolefin-based polymer is less likely to cause changes in optical properties and dimensional changes due to water absorption.
Here, the said saturated water absorption rate shall mean the value obtained by immersing in 23 degreeC water for 1 week, and measuring an increase mass based on ASTMD570.

また、本発明に用いられるシクロオレフィン系ポリマーは、ガラス転移温度が100℃〜200℃の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板は、耐熱性と加工適性とに優れるからである。   In addition, the cycloolefin polymer used in the present invention preferably has a glass transition temperature in the range of 100 ° C to 200 ° C. This is because a transparent substrate made of such a cycloolefin polymer is excellent in heat resistance and processability.

本発明に用いられるシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板としては、例えば、ドイツのTicona社から販売されている「Topas」、ジェイエスアール(株)から販売されている「アートン」、日本ゼオン(株)から販売されている「ZEONOR」や「ZEONEX」、三井化学(株)から販売されている「アペル」などを挙げることができる。   Examples of the transparent substrate made of a cycloolefin polymer used in the present invention include “Topas” sold by Ticona, Germany, “Arton” sold by JSR Co., Ltd., and Nippon Zeon Co., Ltd. “ZEONOR” and “ZEONEX” sold by the company, “Apel” sold by Mitsui Chemicals, Inc., and the like.

上記透明基板として光学機能性を有する基板を用いる場合、このような透明基板としては、本発明の光学機能フィルムに所望の屈折率異方性を付与できるものであれば特に限定されない。なかでも本発明においては、λ/4板としての性質、または、λ/2板としての性質を有する透明基板を用いることが好ましい。
ここで、上記「λ/4板としての性質を有する」とは、通常、透明基板のReが、入射光の波長の1/4の値を示すことを意味するものであるが、本発明に用いられる透明基板としては、波長550nmにおけるReが120nm〜150nmの範囲内であるものが好ましい。
また、上記「λ/2板としての性質を有する」とは、通常、透明基板のReが、入射光の波長の1/2の値を示すことを意味するものであるが、本発明に用いられる透明基板としては、波長550nmにおけるReが250nm〜300nmの範囲内であるものが好ましい。
When a substrate having optical functionality is used as the transparent substrate, such a transparent substrate is not particularly limited as long as it can impart a desired refractive index anisotropy to the optical functional film of the present invention. In particular, in the present invention, it is preferable to use a transparent substrate having properties as a λ / 4 plate or properties as a λ / 2 plate.
Here, the above-mentioned “having properties as a λ / 4 plate” usually means that Re of the transparent substrate shows a value of 1/4 of the wavelength of incident light. As the transparent substrate to be used, those having Re at a wavelength of 550 nm in the range of 120 nm to 150 nm are preferable.
Further, the above-mentioned “having properties as a λ / 2 plate” usually means that Re of the transparent substrate shows a half value of the wavelength of incident light, but is used in the present invention. The transparent substrate to be used is preferably one having Re at a wavelength of 550 nm in the range of 250 nm to 300 nm.

本発明に用いられる透明基板の厚みは、本発明の光学機能フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を備えることができる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明においては25μm〜1000μmの範囲内であること好ましく、特に30μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の光学機能フィルムに必要な自己支持性を付与することができない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明の光学機能フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。   The thickness of the transparent substrate used for this invention will not be specifically limited if it is in the range which can provide required self-supporting property according to the use etc. of the optical function film of this invention. Especially in this invention, it is preferable to exist in the range of 25 micrometers-1000 micrometers, and it is especially preferable to exist in the range of 30 micrometers-100 micrometers. This is because if the thickness of the transparent substrate is thinner than the above range, the necessary self-supporting property may not be imparted to the optical functional film of the present invention. Moreover, when the thickness is thicker than the above range, for example, when cutting the optical functional film of the present invention, there is a case where processing waste increases or wear of the cutting blade is accelerated.

なお、本発明に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
ここで、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されているものであってもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されているものであってもよい。
In addition, the structure of the transparent substrate used for this invention is not restricted to the structure which consists of a single layer, You may have the structure by which the several layer was laminated | stacked.
Here, in the case of a configuration in which a plurality of layers are laminated, layers having the same composition may be laminated, or a plurality of layers having different compositions may be laminated. May be.

上記複数の層が積層された構成を有する透明基板としては、上記セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル類などで構成される層に紫外線および/または電子線硬化性樹脂が紫外線または電子線により硬化された層を積層したものを挙げることができる。
上記紫外線および/または電子線硬化性樹脂が紫外線または電子線により硬化された層は上記ポリマーから構成される層に含まれる添加剤が光学機能層に移動することを抑制する遮蔽層としての役割や、上記ポリマーから構成される層と光学機能層との密着性を向上させる役割を果たす。
As a transparent substrate having a structure in which the plurality of layers are laminated, an ultraviolet ray and / or an electron beam curable resin is formed on a layer composed of the cellulose derivative, norbornene polymer, cycloolefin polymer, polycarbonate, polyester, or the like. Examples thereof include a laminate of layers cured by ultraviolet rays or electron beams.
The layer in which the ultraviolet ray and / or electron beam curable resin is cured by ultraviolet ray or electron beam serves as a shielding layer for suppressing the additive contained in the layer composed of the polymer from moving to the optical functional layer. , It plays a role of improving the adhesion between the layer composed of the polymer and the optical functional layer.

上記紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂は、重合可能なビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、イソペニル基、エポキシ基、オキセタニル基等の重合性基を二つ以上有するもので、紫外線または電子線の照射により架橋構造または網目構造を形成するものが好ましい。なかでも本工程においては(メタ)アクリロイル基、またはエポキシ基が重合速度、反応性の面から好ましく多官能モノマーまたはオリゴマーが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂の例としては、紫外線硬化型のポリオールアクリレート類、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂が挙げられる。これらは通常公知の光重合開始剤と共に使用される。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線および/または電子線硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤または光増感剤は該組成物の0.5質量%〜5質量%であることが好ましい。   The ultraviolet curable resin and the electron beam curable resin have two or more polymerizable groups such as a polymerizable vinyl group, allyl group, (meth) acryloyl group, isophenyl group, epoxy group, and oxetanyl group. Or what forms a crosslinked structure or network structure by irradiation of an electron beam is preferable. Among these, in this step, a (meth) acryloyl group or an epoxy group is preferable from the viewpoint of polymerization rate and reactivity, and a polyfunctional monomer or oligomer is preferable. Examples of such ultraviolet curable resins and electron beam curable resins include ultraviolet curable polyol acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, and epoxy resins. These are usually used together with known photopolymerization initiators. The photopolymerization initiator or photosensitizer contained in the ultraviolet and / or electron beam curable resin composition excluding the solvent component that volatilizes after coating and drying is 0.5% by mass to 5% by mass of the composition. Is preferred.

3.その他の構成
本発明の光学機能フィルムは、少なくとも上記光学機能フィルムと、上記透明基板とを有するものであるが、必要に応じてこれら以外の他の構成を有してもよいものである。このような他の構成としては、本発明の光学機能フィルムに所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。
3. Other Configurations The optical functional film of the present invention has at least the optical functional film and the transparent substrate, but may have other configurations other than these as necessary. Such other configurations are not particularly limited as long as a desired function can be imparted to the optical functional film of the present invention.

4.光学機能フィルム
本発明の光学機能フィルムが備える光学機能は、本発明の光学機能フィルムの用途等に応じて適宜決定することができるが、λ/4板としての性質、または、λ/2板としての性質を有することが好ましい。
上記「λ/4板としての性質を有する」とは、通常、本発明の光学機能フィルムReが、入射光の波長の1/4の値を示すことを意味するものであるが、なかでも本発明の光学機能フィルムは、波長550nmにおけるReが120nm〜150nmの範囲内であることが好ましい。
また、上記「λ/2板としての性質を有する」とは、通常、本発明の光学機能フィルムのReが、入射光の波長の1/2の値を示すことを意味するものであるが、なかでも本発明の光学機能フィルムは、波長550nmにおけるReが250nm〜300nmの範囲内であることが好ましい。
4). Optical function film The optical function of the optical function film of the present invention can be appropriately determined according to the use of the optical function film of the present invention, etc., but the properties as a λ / 4 plate, or as a λ / 2 plate It is preferable to have the following properties.
The above-mentioned “having properties as a λ / 4 plate” usually means that the optical functional film Re of the present invention exhibits a value of ¼ of the wavelength of incident light. In the optical functional film of the present invention, Re at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 120 nm to 150 nm.
In addition, the above-mentioned “having properties as a λ / 2 plate” usually means that Re of the optical functional film of the present invention shows a value half of the wavelength of incident light. Especially, it is preferable that Re in wavelength 550nm is in the range of 250 nm-300 nm for the optical function film of this invention.

また、本発明の光学機能フィルムが上記λ/4板としての性質、または、λ/2板としいての性質を有する場合、本発明の光学機能フィルムのReの波長分散は、波長が短くなるほどRe値が小さくなる逆分散型であってもよく、波長が短くなるほどRe値が大きくなる正分散型であってもよく、または、Re値に波長依存性を有さないフラット型であってもよい。   When the optical functional film of the present invention has the property as the λ / 4 plate or the property as a λ / 2 plate, the wavelength dispersion of Re of the optical functional film of the present invention is such that the shorter the wavelength, the more Re It may be a reverse dispersion type in which the value decreases, a forward dispersion type in which the Re value increases as the wavelength becomes shorter, or a flat type in which the Re value does not have wavelength dependency .

なお、本発明の光学機能フィルムの形態は特に限定されるものではなく、例えば、本発明の光学機能フィルムを用いる液晶表示装置の画面サイズに合致したシート状であってもよく、または、長尺状であってもよい。   The form of the optical functional film of the present invention is not particularly limited. For example, the optical functional film may have a sheet shape that matches the screen size of a liquid crystal display device using the optical functional film of the present invention, or is long. It may be a shape.

4.光学機能フィルムの用途
本発明の光学機能フィルムの用途としては特に限定されるものではなく、上記光学機能層が示す光学機能を任意に制御することにより、種々の用途に用いることが可能である。このような用途としては、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム(例えば、視野角補償フィルム)、楕円偏光板、円偏光板、輝度向上板等を挙げることができる。なかでも本発明の光学機能フィルムは、液晶表示装置の視野角依存性改善のための光学補償フィルムとして好適に用いることができる。
4). Use of optical functional film The use of the optical functional film of the present invention is not particularly limited, and can be used for various applications by arbitrarily controlling the optical function exhibited by the optical functional layer. Examples of such applications include optical compensation films (for example, viewing angle compensation films) used in liquid crystal display devices, elliptically polarizing plates, circularly polarizing plates, and brightness enhancement plates. Among these, the optical functional film of the present invention can be suitably used as an optical compensation film for improving the viewing angle dependency of a liquid crystal display device.

5.光学機能フィルムの製造方法
本発明の光学機能フィルムは、例えば、後述する「D.光学機能フィルムの製造方法」の項において説明する方法により製造することができる。
5. Production method of optical functional film The optical functional film of the present invention can be produced, for example, by the method described in the section “D. Production method of optical functional film” described later.

D.光学機能フィルムの製造方法
次に、本発明の光学機能フィルムの製造方法について説明する。本発明の光学機能フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記本発明に係る光学機能層形成用組成物を塗工することにより、上記透明基板上に光学機能層形成用層を形成する光学機能層形成用層形成工程と、上記光学機能層形成用層に偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記光学機能層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、上記架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とすることを特徴とするものである。
D. Next, a method for producing an optical functional film of the present invention will be described. The method for producing an optical functional film of the present invention is a method of forming an optical functional layer forming layer on the transparent substrate by applying the optical functional layer forming composition according to the present invention using a transparent substrate. The functional layer forming layer forming step, and the optical functional layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet light, and the photoreactive group is reacted to cause the optical functional layer forming layer to have orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material. It is characterized by having an orientation imparting step for developing, a liquid crystal alignment step for aligning the crosslinkable liquid crystal material, and a liquid crystal crosslinking step for crosslinking the crosslinkable liquid crystal material.

このような本発明の光学機能フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図3は本発明の光学機能フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図3に例示するように、本発明の光学機能フィルムの製造方法は、透明基板を用い(図3(a))、上記本発明に係る光学機能層形成用組成物を塗工することにより、上記透明基板1上に光学機能層形成用層2’を形成する光学機能層形成用層形成工程(図3(b))と、上記光学機能層形成用層2’に偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記光学機能層形成用層2’に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程(図3(c))と、上記位相差層形成用層2’を加温することにより上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程(図3(d))と、上記位相差層形成用層2’に紫外線を照射することにより、上記架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と(図3(e))と、により、上記透明基板1と、上記透明基板1上に形成された光学機能層2とを有する光学機能フィルム10を製造するものである(図3(f))。   Such a method for producing an optical functional film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a schematic view showing an example of a method for producing an optical functional film of the present invention. As illustrated in FIG. 3, the method for producing an optical functional film of the present invention uses a transparent substrate (FIG. 3A), and by applying the optical functional layer forming composition according to the present invention, An optical functional layer forming layer forming step for forming the optical functional layer forming layer 2 ′ on the transparent substrate 1 (FIG. 3B), and the optical functional layer forming layer 2 ′ are irradiated with polarized ultraviolet rays, An orientation imparting step (FIG. 3 (c)) for causing the optical functional layer forming layer 2 ′ to exhibit orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material by reacting the photoreactive group, and the retardation layer forming A liquid crystal alignment step (FIG. 3 (d)) in which the crosslinkable liquid crystal material is aligned by heating the layer 2 ′, and the crosslinkable liquid crystal is irradiated by irradiating the retardation layer forming layer 2 ′ with ultraviolet rays. The liquid crystal crosslinking step for crosslinking the material (FIG. 3 (e)) Bright substrate 1 is for producing an optical functional film 10 having an optical function layer 2 formed on the transparent substrate 1 (FIG. 3 (f)).

本発明によれば、上記光学機能層形成用組成物として上記本発明に係る光学機能層形成用組成物が用いられていることにより、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能層を備える光学機能フィルムを製造することができる。このため、本発明の光学機能フィルムの製造方法によれば、光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを得ることができる。   According to the present invention, since the optical functional layer forming composition according to the present invention is used as the optical functional layer forming composition, an optical functional layer having excellent optical function and low haze can be obtained. An optical functional film provided can be manufactured. For this reason, according to the method for producing an optical functional film of the present invention, an optical functional film having excellent optical function and low haze can be obtained.

なお、本発明により光学機能の発現性に優れ、ヘイズが小さい光学機能フィルムを製造できる理由については、上記「A.光学機能層形成用感光性化合物」の項において説明した理由と同様であるため、ここでの説明は省略する。   The reason why the present invention can produce an optical functional film having excellent optical function and low haze is the same as the reason described in the above section “A. Photosensitive compound for forming an optical functional layer”. Explanation here is omitted.

本発明の光学機能フィルムの製造方法は、少なくとも上記光学機能層形成用層形成工程と、上記配向性付与工程と、上記液晶配列工程と、上記液晶架橋工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本発明に用いられる各工程について順に説明する。
The method for producing an optical functional film of the present invention comprises at least the layer forming step for forming an optical functional layer, the orientation imparting step, the liquid crystal aligning step, and the liquid crystal crosslinking step. May have other processes.
Hereafter, each process used for this invention is demonstrated in order.

1.光学機能層形成用層形成工程
まず、本発明に用いられる光学機能層形成用層形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記本発明に係る光学機能層形成用組成物を塗工することにより、上記透明基板上に光学機能層形成用層を形成する工程である。
1. First, a layer forming process for forming an optical functional layer used in the present invention will be described. This step is a step of forming an optical functional layer forming layer on the transparent substrate by applying the optical functional layer forming composition according to the present invention using a transparent substrate.

本工程においては、上記光学機能層形成用組成物を上記透明基板上に塗工することによって光学機能層形成用層を形成するが、本工程において上記光学機能層形成用組成物を上記透明基板上に塗工する塗布方式としては、上記光学機能層形成用組成物の組成等に応じて、所望の平面性を備える光学機能層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法などを例示することができる。   In this step, the optical functional layer forming layer is formed by coating the optical functional layer forming composition on the transparent substrate. In this step, the optical functional layer forming composition is formed on the transparent substrate. The coating method to be coated on the top is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a layer for forming an optical functional layer having desired flatness according to the composition of the composition for forming an optical functional layer. Absent. Examples of such coating methods include gravure coating, reverse coating, knife coating, dip coating, spray coating, air knife coating, roll coating, printing, curtain coating, die coating, and casting. Examples thereof include a method, a bar coating method, an extrusion coating method, and an E-type coating method.

また、上記光学機能層形成用組成物の塗膜の厚みは、本工程に用いられる光学機能層形成用組成物に含有される架橋性液晶材料の種類等に応じて、本発明により所望の光学機能を発現できる光学機能フィルムを製造できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも、本工程においては、0.1μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、特に0.5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、なかでも0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましい。   In addition, the thickness of the coating film of the composition for forming an optical functional layer is a desired optical thickness according to the present invention depending on the type of the crosslinkable liquid crystal material contained in the composition for forming an optical functional layer used in this step. It is not particularly limited as long as it is within a range where an optical functional film capable of expressing the function can be produced. In particular, in this step, it is preferably within a range of 0.1 μm to 50 μm, particularly preferably within a range of 0.5 μm to 30 μm, and in particular within a range of 0.5 μm to 10 μm. Is preferred.

また、上記光学機能層形成用組成物として溶媒を含有するものを用いた場合、上記塗膜の乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等の一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば、残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により複数の乾燥方式を採用してもよい。   In addition, when a composition containing a solvent is used as the composition for forming an optical functional layer, the method for drying the coating film is generally used, for example, a heat drying method, a vacuum drying method, a gap drying method, or the like. A drying method can be used. In addition, the drying method in the present invention is not limited to a single method, and for example, a plurality of drying methods may be adopted in such a manner that the drying method is sequentially changed according to the amount of the remaining solvent.

2.配向性付与工程
次に、本発明に用いられる配向性付与工程について説明する。本工程は、上記光学機能層形成用層に偏光紫外線を照射し、上記光学機能層形成用層中に含有される光学機能層形成用感光性化合物の光反応性基を反応させることによって上記光学機能層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる工程である。
2. Orientation imparting step Next, the orientation imparting step used in the present invention will be described. In this step, the optical functional layer forming layer is irradiated with polarized ultraviolet rays, and the photoreactive group of the optical functional layer forming photosensitive compound contained in the optical functional layer forming layer is allowed to react with the optical function layer forming layer. This is a step of causing the functional layer forming layer to exhibit orientation with respect to the crosslinkable liquid crystal material.

本工程において、上記光学機能層形成用層に照射される偏光紫外線としては、波長が、上記光学機能層形成用感光性材料が有する光反応性基の光反応を生じることができ、かつ、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の架橋形成反応を生じにくい範囲内のものであれば特に限定されるものではない。このような偏光紫外線は、上記光反応性基および上記架橋性官能基の種類に応じて適宜選択して用いることができる。   In this step, as the polarized ultraviolet ray irradiated to the optical functional layer forming layer, the wavelength can cause a photoreaction of the photoreactive group of the optical functional layer forming photosensitive material, and The crosslinkable liquid crystal material is not particularly limited as long as it is within a range in which the crosslinkable functional group has a crosslinkable formation reaction. Such polarized ultraviolet rays can be appropriately selected and used according to the types of the photoreactive group and the crosslinkable functional group.

本工程において上記光学機能層形成用層に偏光紫外線を照射する方法としては、上記光学機能層形成用層に所望の振動方向の偏光紫外線を照射できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、通常、上記範囲の波長を有する紫外線を発振する光源を用い、上記光源から発振された無偏光の紫外線を偏光子を通して上記光学機能層形成用層に照射する方法が用いられる。
このとき、上記光学機能層形成用層に照射される偏光紫外線の振動方向は、上記偏光子の吸収軸の方向を変更することにより変化させることができる。
In the present step, the method for irradiating the optical functional layer forming layer with polarized ultraviolet rays is not particularly limited as long as the optical functional layer forming layer can be irradiated with polarized ultraviolet rays in a desired vibration direction. As such a method, a method of using a light source that oscillates ultraviolet light having a wavelength in the above range and irradiating the non-polarized ultraviolet light oscillated from the light source to the optical functional layer forming layer through a polarizer is usually used. It is done.
At this time, the vibration direction of the polarized ultraviolet light applied to the optical functional layer forming layer can be changed by changing the direction of the absorption axis of the polarizer.

上記偏光子としては、例えば、グラントムソンプリズム、グランテーラープリズム、二色性色素を含有する偏光フィルム、ブルースタープレート偏光子、ワイヤーグリッド偏光子等を挙げることができる。   Examples of the polarizer include a Glan-Thompson prism, a Grand Taylor prism, a polarizing film containing a dichroic dye, a Brewster plate polarizer, and a wire grid polarizer.

また、上記光源としては、超高圧水銀灯、中圧水銀灯、キセノン灯、ハロゲンランプ、DeepUVランプ、蛍光灯等を挙げることができる。   Examples of the light source include an ultrahigh pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a deep UV lamp, and a fluorescent lamp.

さらに、本工程において上記光学機能層形成用層に偏光紫外線を照射する際には必要に応じて、特定波長の紫外線を遮蔽するUVカットフィルターを用いてもよい。このようなUVカットフィルターを用いることにより、例えば、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応が阻害されることを防止したり、または、本工程において上記架橋性液晶材料の架橋形成反応が進行してしまうことを防止できるからである。   Furthermore, when irradiating polarized ultraviolet rays to the optical functional layer forming layer in this step, a UV cut filter that shields ultraviolet rays having a specific wavelength may be used as necessary. By using such a UV cut filter, for example, the reaction of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is prevented from being inhibited, or the crosslinking formation reaction of the crosslinking liquid crystal material proceeds in this step. This is because it can be prevented.

本工程に用いられるUVカットフィルターとしては、例えば、上記光学機能層形成用感光性化合物の反応が阻害されることを防止するために用いられるものとして、SCHOTT製WG280を挙げることができる。
また、上記架橋性液晶材料の架橋形成反応が進行してしまうことを防止するために用いられるものとしては、例えば、最大吸収波長が270nm〜310nmの光学機能層形成用感光性化合物を使用する場合に、325nm〜400nmの紫外線を遮蔽するUVカットフィルター(朝日分光社製:SU0325)を挙げることができる。
As a UV cut filter used in this step, for example, WG280 manufactured by SCHOTT can be mentioned as one used to prevent the reaction of the photosensitive compound for forming an optical functional layer.
Moreover, as what is used in order to prevent that the crosslink formation reaction of the said crosslinkable liquid crystal material advances, for example, when using the photosensitive compound for optical function layer formation whose maximum absorption wavelength is 270 nm-310 nm In addition, a UV cut filter (manufactured by Asahi Spectroscopic Co., Ltd .: SU0325) that shields ultraviolet rays of 325 nm to 400 nm can be mentioned.

3.液晶配列工程
次に、本発明に用いられる液晶配列工程について説明する。本工程は、上記光学機能層形成用層に含有される架橋性液晶材料を、上記配向性付与工程によって上記光学機能層形成用層に付与された配向性に従って配列させる工程である。
3. Next, the liquid crystal alignment process used in the present invention will be described. This step is a step of aligning the crosslinkable liquid crystal material contained in the optical functional layer forming layer according to the orientation imparted to the optical functional layer forming layer by the orientation imparting step.

本工程において、上記架橋性液晶材料を配列させる方法としては、上記架橋性液晶材料の種類等に応じて上記配向性に従って上記架橋性液晶材料を配列できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、通常、上記光学機能層形成用層を上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度以上であり、かつ、液晶−等方相転移温度未満の温度に加温する方法が好適に用いられる。   In this step, the method for aligning the crosslinkable liquid crystal material is not particularly limited as long as it is a method capable of aligning the crosslinkable liquid crystal material according to the orientation according to the type of the crosslinkable liquid crystal material. . As such a method, usually, the optical functional layer forming layer is heated to a temperature not lower than the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material and lower than the liquid crystal-isotropic phase transition temperature. Are preferably used.

上述したように、本工程は上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる工程であるが、本工程に用いられる加温方法としては、上記配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温できる方法が好ましい。このような加温方法としては、上記位相差層形成用層の両面から加温し、上記偏光紫外線が照射された面に対する加温温度を、その反対側の表面に対する加温温度よりも高くする方法と、上記位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法とを挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの加温方法であっても好適に用いることができるが、なかでも後者の加温方法を用いることが好ましい。上記位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法を用いることにより、上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することが容易になるからである。位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法の場合には、上記偏光紫外線が照射された面の反対側の表面を冷却して反対側の表面の温度上昇を抑制してもよい。   As described above, this step is a step of aligning the crosslinkable liquid crystal material by heating the phase difference layer forming layer. As a heating method used in this step, the orientation imparting is performed. A method in which the retardation layer forming layer can be heated so that the surface irradiated with polarized ultraviolet rays in the process reaches the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the opposite surface. Is preferred. As such a heating method, heating is performed from both sides of the retardation layer forming layer, and the heating temperature for the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is set higher than the heating temperature for the opposite surface. And a method of heating the retardation layer forming layer only from the side irradiated with the polarized ultraviolet light. In this step, any of these heating methods can be preferably used, but the latter heating method is particularly preferable. By using the method of heating the phase difference layer forming layer only from the side irradiated with the polarized ultraviolet light, the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is the surface irradiated with the polarized ultraviolet light. This is because it is easy to heat the retardation layer forming layer so as to reach the crystal-liquid crystal phase transition temperature of the crosslinkable liquid crystal material before the surface on the opposite side. In the case of a method in which the phase difference layer forming layer is heated only from the side irradiated with the polarized ultraviolet light, the surface on the opposite side of the surface irradiated with the polarized ultraviolet light is cooled to cool the temperature of the opposite surface. The rise may be suppressed.

4.液晶架橋工程
次に、本発明に用いられる液晶架橋工程について説明する。本工程は、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる工程である。
4). Next, the liquid crystal crosslinking step used in the present invention will be described. This step is a step of crosslinking the crosslinkable liquid crystal material arranged in the liquid crystal alignment step.

本工程において、上記架橋性液晶材料を架橋させる方法としては、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の架橋形成反応を生じさせることができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の種類に応じた方法を適宜選択して用いることができる。このような方法としては、例えば、架橋性液晶材料として、紫外線重合性官能基を有するものが用いられている場合は、上記紫外線重合性官能基の重合反応を生じさせることができる波長の紫外線を、上記光学機能層形成用層に照射する方法が用いられる。なお、このような紫外線を照射する方法が用いられる場合、上記架橋性液晶材料を反応させる紫外線は反応性が高いという観点から、通常、非偏光紫外線が用いられる。   In this step, the method for crosslinking the crosslinkable liquid crystal material is not particularly limited as long as it is a method capable of causing a crosslinking formation reaction of the crosslinkable functional group of the crosslinkable liquid crystal material. A method corresponding to the type of the crosslinkable functional group possessed by the crosslinkable liquid crystal material can be appropriately selected and used. As such a method, for example, when a crosslinkable liquid crystal material having an ultraviolet polymerizable functional group is used, an ultraviolet ray having a wavelength capable of causing a polymerization reaction of the ultraviolet polymerizable functional group is used. The method for irradiating the optical functional layer forming layer is used. When such a method of irradiating ultraviolet rays is used, non-polarized ultraviolet rays are usually used from the viewpoint that the ultraviolet rays for reacting the crosslinkable liquid crystal material have high reactivity.

次に、実施例を示すことにより本発明についてさらに具体的に説明する。   Next, the present invention will be described more specifically by showing examples.

(合成例)
1.光学機能層形成用感光性化合物Iの合成
疎液性モノマーとしての信越化学工業株式会社製 アクリル樹脂改質用シリコーン(X-24−8201))1.0g、光反応性モノマーとしてのメチル(4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ))−シンナメート3.0g、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.016gを脱水テトラヒドロフラン28gに溶解した。次に、窒素雰囲気下、65℃で23時間加熱した。さらに、得られた反応溶液を800mlのメタノールに滴下し、沈降物をろ過し、減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をヘキサン1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。このような方法により、重量平均分子量120000(GPC:溶媒10mM、臭化リチウム-NMP溶液、ポリスチレン換算)である光学機能層形成用感光性化合物Iを3.3g得た。ここで、H−NMR測定から算出されたこの光学機能層形成用感光性化合物Iの共重合比(モル比)は光反応性モノマー:疎液性モノマー=36:1であった。
(Synthesis example)
1. Synthesis of Photosensitive Compound I for Optical Function Layer Formation 1.0 g of acrylic resin modifying silicone (X-24-8201) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a lyophobic monomer, methyl (4) as a photoreactive monomer -(2-Methacryloyloxyethoxy))-cinnamate (3.0 g) and 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.016 g) were dissolved in dehydrated tetrahydrofuran (28 g). Next, it heated at 65 degreeC under nitrogen atmosphere for 23 hours. Furthermore, the obtained reaction solution was dropped into 800 ml of methanol, the precipitate was filtered, and dried under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was added dropwise to 1 L of hexane, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. By such a method, 3.3 g of photosensitive compound I for forming an optical functional layer having a weight average molecular weight of 120,000 (GPC: solvent 10 mM, lithium bromide-NMP solution, polystyrene conversion) was obtained. Here, the copolymerization ratio (molar ratio) of the photosensitive compound I for forming an optical functional layer calculated from 1 H-NMR measurement was photoreactive monomer: lyophobic monomer = 36: 1.

2.光学機能層形成用感光性化合物IIの合成
疎液性モノマーとしての共栄社化学株式会社製 ライトエステルFM−108、2.0g、光反応性モノマーとしてのメチル(4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ))−シンナメート6.0g、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.032gを脱水テトラヒドロフラン28gに溶解した。その後、窒素雰囲気下、65℃で20時間加熱した。さらに、得られた反応溶液をメタノール1000mlに滴下し、沈降物をろ過、メタノールで洗浄後、室温で減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をヘキサン1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。このような方法により、重量平均分子量270000(GPC:溶媒THF、ポリスチレン換算)である光学機能層形成用感光性化合物IIを6.5g得た。
2. Synthesis of Photosensitive Compound II for Optical Function Layer Formation Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Light Ester FM-108 as a lyophobic monomer, 2.0 g, methyl as a photoreactive monomer (4- (2-methacryloyloxyethoxy)) -6.0 g of cinnamate and 0.032 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile were dissolved in 28 g of dehydrated tetrahydrofuran. Then, it heated at 65 degreeC for 20 hours in nitrogen atmosphere. Furthermore, the obtained reaction solution was added dropwise to 1000 ml of methanol, and the precipitate was filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was added dropwise to 1 L of hexane, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. By such a method, 6.5 g of photosensitive compound II for forming an optical functional layer having a weight average molecular weight of 270000 (GPC: solvent THF, polystyrene conversion) was obtained.

3.光学機能層形成用感光性化合物IIIの合成
疎液性モノマーとしての信越化学工業株式会社製 アクリル樹脂改質用シリコーン(X-24−8201))0.5gと、光反応性モノマーとしての1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン2.3g、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.008gと、を脱水テトラヒドロフラン16gに溶解した。次に、窒素雰囲気下、65℃で24時間加熱した。さらに、得られた反応溶液を1000mlのメタノールに滴下し、沈降物をろ過し、減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をヘキサン1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。このような方法により、重量平均分子量120000(GPC:THF溶液、ポリスチレン換算)である光学機能層形成用感光性化合物IIIを2.3g得た。ここで、H−NMR測定から算出されたこの光学機能層形成用感光性化合物IIIの共重合比(モル比)は光反応性モノマー:疎液性モノマー=40:1であった。
3. Synthesis of photosensitive compound III for forming optical functional layer 0.5 g of acrylic resin modifying silicone (X-24-8201) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a lyophobic monomer and 1- as a photoreactive monomer [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene 2.3 g, 2,2′-azobisiso 0.008 g of butyronitrile was dissolved in 16 g of dehydrated tetrahydrofuran. Next, it was heated at 65 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. Furthermore, the obtained reaction solution was dripped at 1000 ml of methanol, the deposit was filtered, and it dried under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was added dropwise to 1 L of hexane, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. By such a method, 2.3 g of photosensitive compound III for forming an optical functional layer having a weight average molecular weight of 120,000 (GPC: THF solution, polystyrene conversion) was obtained. Here, the copolymerization ratio (molar ratio) of the photosensitive compound III for forming an optical functional layer calculated from 1 H-NMR measurement was photoreactive monomer: lyophobic monomer = 40: 1.

4.光学機能層形成用感光性化合物IVの合成
疎液性モノマーとしての信越化学工業株式会社製 アクリル樹脂改質用シリコーン(X-24−8201))0.8gと、光反応性モノマーとしての1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン2.0g、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.007gと、を脱水テトラヒドロフラン18gに溶解した。次に、窒素雰囲気下、65℃で24時間加熱した。さらに、得られた反応溶液を1000mlのメタノールに滴下し、沈降物をろ過し、減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をヘキサン1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。このような方法により、重量平均分子量120000(GPC:THF溶液、ポリスチレン換算)である光学機能層形成用感光性化合物IVを2.3g得た。ここで、1H−NMR測定から算出されたこの光学機能層形成用感光性化合物IVの共重合比(モル比)は光反応性モノマー:疎液性モノマー=20:1であった。
4). Synthesis of Photosensitive Compound IV for Optical Function Layer Formation 0.8 g of acrylic resin modifying silicone (X-24-8201) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a lyophobic monomer and 1- as a photoreactive monomer [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene 2.0 g, 2,2′-azobisiso 0.007 g of butyronitrile was dissolved in 18 g of dehydrated tetrahydrofuran. Next, it was heated at 65 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. Furthermore, the obtained reaction solution was dripped at 1000 ml of methanol, the deposit was filtered, and it dried under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was added dropwise to 1 L of hexane, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. By such a method, 2.3 g of photosensitive compound IV for forming an optical functional layer having a weight average molecular weight of 120,000 (GPC: THF solution, polystyrene conversion) was obtained. Here, the copolymerization ratio (molar ratio) of the photosensitive compound IV for forming an optical functional layer calculated from 1H-NMR measurement was photoreactive monomer: lyophobic monomer = 20: 1.

5.光学機能層形成用感光性化合物Vの合成
疎液性モノマーとしての信越化学工業株式会社製 アクリル樹脂改質用シリコーン(X-24−8201))0.21gと、光反応性モノマーとしての1−〔6−〔4−〔2−メトキシ−4−〔(E)−2−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−1−メチルエチレン1.5g、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.005gと、を脱水テトラヒドロフラン10gに溶解した。次に、窒素雰囲気下、65℃で24時間加熱した。さらに、得られた反応溶液を1000mlのメタノールに滴下し、沈降物をろ過し、減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をヘキサン1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。このような方法により、重量平均分子量135000(GPC:THF溶液、ポリスチレン換算)である光学機能層形成用感光性化合物Vを1.5g得た。ここで、H−NMR測定から算出されたこの光学機能層形成用感光性化合物Vの共重合比(モル比)は光反応性モノマー:疎液性モノマー=60:1であった。
5. Synthesis of photosensitive compound V for optical functional layer formation 0.21 g of acrylic resin modifying silicone (X-24-8201) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a lyophobic monomer and 1- as a photoreactive monomer [6- [4- [2-methoxy-4-[(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene 1.5 g, 2,2′-azobisiso 0.005 g of butyronitrile was dissolved in 10 g of dehydrated tetrahydrofuran. Next, it was heated at 65 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. Furthermore, the obtained reaction solution was dripped at 1000 ml of methanol, the deposit was filtered, and it dried under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was added dropwise to 1 L of hexane, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. By such a method, 1.5 g of photosensitive compound V for forming an optical functional layer having a weight average molecular weight of 135000 (GPC: THF solution, polystyrene conversion) was obtained. Here, the copolymerization ratio (molar ratio) of the photosensitive compound V for forming an optical functional layer calculated from 1 H-NMR measurement was photoreactive monomer: lyophobic monomer = 60: 1.

6.感光性化合物(ポリ〔メチル(4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ))−シンナメート〕)の合成 6). Synthesis of photosensitive compound (poly [methyl (4- (2-methacryloyloxyethoxy))-cinnamate])

メチル(4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ))−シンナメート6.0g、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.016gを脱水テトラヒドロフラン14gに溶解した。次に、窒素雰囲気下、65℃で20時間加熱した。さらに、得られた反応溶液をメタノール1000mlに滴下し、沈降物をろ過、メタノールで洗浄後、室温で減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム5質量部に溶解し、その溶液をヘキサン1Lに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。これにより、重量平均分子量41000(GPC:溶媒THF、ポリスチレン換算)である感光性化合物6.0gを得た。   Methyl (4- (2-methacryloyloxyethoxy))-cinnamate 6.0 g and 2,2′-azobisisobutyronitrile 0.016 g were dissolved in dehydrated tetrahydrofuran 14 g. Next, it heated at 65 degreeC for 20 hours in nitrogen atmosphere. Furthermore, the obtained reaction solution was added dropwise to 1000 ml of methanol, and the precipitate was filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature. The obtained solid was dissolved in 5 parts by mass of chloroform, the solution was added dropwise to 1 L of hexane, the precipitate was filtered, and then dried under reduced pressure. As a result, 6.0 g of a photosensitive compound having a weight average molecular weight of 41000 (GPC: solvent THF, converted to polystyrene) was obtained.

<実施例1>
(遮蔽層の作製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET−30、日本化薬製)40質量部、光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(商品名IRGACURE184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)2質量部、メチルエチルケトン29質量部、トルエン58質量部からなる溶液を、トリアセチルセルロースフィルム(FT−T80UZ、富士写真フィルム社製)上にバーコートし、80℃で3分間乾燥後、UV照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン(株)製、光源:Hバルブ)を用いて窒素雰囲気下70mJ/cmの紫外線を照射して膜厚1μmの遮蔽層を作製した。
<Example 1>
(Production of shielding layer)
Pentaerythritol triacrylate (PET-30, Nippon Kayaku) 40 parts by mass, photopolymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone (trade name IRGACURE184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts by mass, methyl ethyl ketone 29 parts by mass A solution consisting of 58 parts by mass of toluene is bar-coated on a triacetylcellulose film (FT-T80UZ, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), dried at 80 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with a UV irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.). A light-shielding layer having a thickness of 1 μm was produced by irradiating with an ultraviolet ray of 70 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere using a light source (manufactured, light source: H bulb).

(光学機能層形成用組成物の調製)
光学機能層形成用感光性化合物I 0.1質量部、下記式で表される架橋性液晶材料99.9質量部、光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(商品名IRGACURE184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)0.04質量部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分10%溶液として、光学機能層形成用組成物を調製した。
(Preparation of optical functional layer forming composition)
0.1 parts by mass of photosensitive compound I for forming an optical functional layer, 99.9 parts by mass of a crosslinkable liquid crystal material represented by the following formula, photopolymerization initiator: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (trade name: IRGACURE 184, Ciba (Specialty Chemicals) 0.04 parts by mass were dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a composition for forming an optical functional layer as a 10% solid content solution.

Figure 2008276165
Figure 2008276165

ここで、上記式におけるa、bはそれぞれ2〜5の整数である。   Here, a and b in the above formula are integers of 2 to 5, respectively.

(光学機能層の形成)
上記光学機能層形成用組成物を上記遮蔽層上にワイヤーバーにて塗工し、100℃で3分間加熱乾燥した。次に、500WのDeepUVランプによる紫外線照射装置にカットフィルターとしてショット製WG280と朝日分光製SU0325を配置して波長制限し、さらにワイヤーグリッド偏光板を透過させることにより偏光紫外線とした。次に、上記光学機能層形成用組成物が塗布された膜に対し、膜に対し垂直方向から偏光紫外線を40mJ/cm大気中で照射した。ここで偏光紫外線強度はセンサーS−310(測定範囲280nm〜360nm)を用いてUV RADIO METER UVR−400A(アズワン株式会社製)で測定した。次に、偏光紫外線を照射後、偏光紫外線が照射された面側から温風があたるように、70℃に設定したオーブンにて、3分間加熱して架橋性液晶材料を配向させた後、窒素雰囲気下120mJ/cm非偏光紫外線を照射して塗膜を硬化させた。これにより、配列した液晶が固定化され、光学機能フィルムを製造した。このとき光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
また、光電子X線分析(XPS装置 ESCA−3400型 : 英国KRATOS ANALYTICAL社製)により得られた、当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面の原子組成比のうち疎液性基に含まれるケイ素の割合が、光学機能層形成用組成物中の固形分の組成比より算出される理論上のケイ素の割合の180倍であり、光学機能層形成用感光性化合物Iの反応物が当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを確認した。
(Formation of optical functional layer)
The composition for forming an optical functional layer was coated on the shielding layer with a wire bar and dried by heating at 100 ° C. for 3 minutes. Next, a shot WG280 and Asahi Spectroscopic SU0325 were placed as a cut filter in an ultraviolet irradiation device using a 500 W Deep UV lamp to limit the wavelength, and further, the wire grid polarizing plate was transmitted to obtain polarized ultraviolet rays. Next, with respect to the film | membrane with which the said composition for optical function layer formation was apply | coated, polarized ultraviolet rays were irradiated in 40 mJ / cm < 2 > air | atmosphere from the orthogonal | vertical direction with respect to the film | membrane. Here, the intensity of polarized ultraviolet rays was measured with a UV RADIO METER UVR-400A (manufactured by ASONE Corporation) using a sensor S-310 (measurement range: 280 nm to 360 nm). Next, after irradiation with polarized ultraviolet light, the crosslinkable liquid crystal material is aligned by heating for 3 minutes in an oven set at 70 ° C. so that warm air is applied from the surface irradiated with polarized ultraviolet light, The coating film was cured by irradiation with 120 mJ / cm 2 non-polarized ultraviolet light in an atmosphere. Thereby, the aligned liquid crystal was fixed, and an optical functional film was manufactured. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.
Also included in the lyophobic group in the atomic composition ratio of the surface opposite to the transparent substrate of the optical functional layer obtained by photoelectron X-ray analysis (XPS apparatus ESCA-3400 type: manufactured by KRATOS ANALYTICAL, UK) The silicon ratio is 180 times the theoretical silicon ratio calculated from the composition ratio of the solid content in the composition for forming an optical functional layer, and the reaction product of the photosensitive compound I for forming an optical functional layer is It was confirmed that the optical functional layer was unevenly distributed on the surface opposite to the transparent substrate.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ19nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring device (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.). there were.

<実施例2>
光学機能層形成用感光性化合物Iに替えて、光学機能層形成用感光性化合物IIを用いて光学機能層形成用組成物を調整したこと以外は、実施例1と同様にして光学機能フィルムを作製した。このとき、光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
また、光電子X線分析(XPS装置 ESCA−3400型 : 英国KRATOS ANALYTICAL社製)により得られた当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面の原子組成比のうち、疎液性基に含まれるフッ素の割合が、光学機能層形成用組成物中の固形分の組成比より算出される理論上のフッ素の割合の360倍であり、光学機能層形成用感光性化合物IIの反応物が当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを確認した。
<Example 2>
An optical functional film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the optical functional layer-forming photosensitive compound II was used in place of the optical functional layer-forming photosensitive compound I to prepare the optical functional layer-forming composition. Produced. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.
Also included in the lyophobic group out of the atomic composition ratio of the surface opposite to the transparent substrate of the optical functional layer obtained by photoelectron X-ray analysis (XPS apparatus ESCA-3400 type: manufactured by KRATOS ANALYTICAL, UK) The fluorine ratio is 360 times the theoretical fluorine ratio calculated from the composition ratio of the solid content in the optical functional layer forming composition, and the reaction product of the photosensitive compound II for optical functional layer formation is It was confirmed that the optical functional layer was unevenly distributed on the surface opposite to the transparent substrate.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ16nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring apparatus (automatic birefringence meter KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.). there were.

<比較例1>
光学機能層形成用感光性化合物Iに替えて、上記感光性化合物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学機能フィルムを作製した。このとき、光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
<Comparative Example 1>
An optical functional film was produced in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive compound I was used instead of the photosensitive compound I for forming an optical functional layer. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ6nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring device (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.). there were.

<実施例3>
光学機能層形成用感光性化合物I 0.05質量部、下記式で表される架橋性液晶材料
99.95質量部、光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(商品名IRGACURE184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)0.04質量部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分10%溶液として、光学機能層形成用組成物を調製した。上記光学機能層形成用組成物を上記遮蔽層上にワイヤーバーにて塗工し、30℃で3分間加熱乾燥した。次に、500WのDeepUVランプによる紫外線照射装置にカットフィルターとしてショット製WG280と朝日分光製SU0325を配置して波長制限し、さらにワイヤーグリッド偏光板を透過させることにより偏光紫外線とした。
<Example 3>
0.05 mass parts of photosensitive compound I for forming an optical functional layer, 99.95 mass parts of a crosslinkable liquid crystal material represented by the following formula, photopolymerization initiator: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (trade name IRGACURE184, Ciba (Specialty Chemicals) 0.04 parts by mass were dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a composition for forming an optical functional layer as a 10% solid content solution. The composition for forming an optical functional layer was applied onto the shielding layer with a wire bar and dried by heating at 30 ° C. for 3 minutes. Next, a shot WG280 and Asahi Spectroscopic SU0325 were placed as a cut filter in an ultraviolet irradiation device using a 500 W Deep UV lamp to limit the wavelength, and further, the wire grid polarizing plate was transmitted to obtain polarized ultraviolet rays.

Figure 2008276165
ここで、上記式におけるa、bはそれぞれ2〜5の整数である。
Figure 2008276165
Here, a and b in the above formula are integers of 2 to 5, respectively.

次に、上記光学機能層形成用組成物が塗布された膜に対し、膜に対し垂直方向から偏光紫外線を8mJ/cm大気中で照射した。ここで偏光紫外線強度はセンサーS−310(測定範囲280nm〜360nm)を用いてUV RADIO METER UVR−400A(アズワン株式会社製)で測定した。次に、偏光紫外線を照射後、偏光紫外線が照射された面側から温風が当たるように、100℃に設定したオーブンにて、3分間加熱して架橋性液晶材料を配向させた後、窒素雰囲気下120mJ/cm非偏光紫外線を照射して塗膜を硬化させた。これにより、配列した液晶が固定化され、光学機能フィルムを製造した。このとき光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
また、光電子X線分析(XPS装置 ESCA−3400型 : 英国KRATOS ANALYTICAL社製)により得られた、当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面の原子組成比のうち疎液性基に含まれるケイ素の割合が、光学機能層形成用組成物中の固形分の組成比より算出される理論上のケイ素の割合の150倍であり、光学機能層形成用感光性化合物Iの反応物が当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを確認した。
Next, with respect to the film | membrane with which the said composition for optical function layer formation was apply | coated, polarized ultraviolet rays were irradiated in 8 mJ / cm < 2 > air | atmosphere from the orthogonal | vertical direction with respect to the film | membrane. Here, the intensity of polarized ultraviolet rays was measured with a UV RADIO METER UVR-400A (manufactured by ASONE Corporation) using a sensor S-310 (measurement range: 280 nm to 360 nm). Next, after irradiation with polarized ultraviolet light, the crosslinkable liquid crystal material is aligned by heating for 3 minutes in an oven set at 100 ° C. so that warm air is applied from the side irradiated with polarized ultraviolet light, The coating film was cured by irradiation with 120 mJ / cm 2 non-polarized ultraviolet light in an atmosphere. Thereby, the arranged liquid crystal was fixed, and an optical functional film was manufactured. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.
Also included in the lyophobic group in the atomic composition ratio of the surface opposite to the transparent substrate of the optical functional layer obtained by photoelectron X-ray analysis (XPS apparatus ESCA-3400 type: manufactured by KRATOS ANALYTICAL, UK) The silicon ratio is 150 times the theoretical silicon ratio calculated from the composition ratio of the solid content in the composition for forming an optical functional layer, and the reaction product of the photosensitive compound I for forming an optical functional layer is It was confirmed that the optical functional layer was unevenly distributed on the surface opposite to the transparent substrate.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ41nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring apparatus (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments) at 41 nm. there were.

<実施例4>
光学機能層形成用組成物感光性化合物Iに替えて、光学機能層形成用組成物感光性化合物IIIを用いたこと以外は、実施例3と同様にして光学機能フィルムを作製した。このとき、光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
また、光電子X線分析(XPS装置 ESCA−3400型 : 英国KRATOS ANALYTICAL社製)により得られた、当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面の原子組成比のうち疎液性基に含まれるケイ素の割合が、光学機能層形成用組成物中の固形分の組成比より算出される理論上のケイ素の割合の150倍であり、光学機能層形成用感光性化合物IIIの反応物が当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを確認した。
<Example 4>
An optical functional film was produced in the same manner as in Example 3, except that the photosensitive compound III for forming an optical functional layer was used instead of the photosensitive compound I for forming an optical functional layer. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.
Also included in the lyophobic group in the atomic composition ratio of the surface opposite to the transparent substrate of the optical functional layer obtained by photoelectron X-ray analysis (XPS apparatus ESCA-3400 type: manufactured by KRATOS ANALYTICAL, UK) Is 150 times the theoretical silicon ratio calculated from the composition ratio of the solid content in the composition for forming an optical functional layer, and the reaction product of the photosensitive compound III for forming an optical functional layer is It was confirmed that the optical functional layer was unevenly distributed on the surface opposite to the transparent substrate.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ114nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measurement apparatus (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments) at 114 nm. there were.

<実施例5>
光学機能層形成用組成物感光性化合物Iに替えて、光学機能層形成用組成物感光性化合物IVを用いたこと以外は、実施例3と同様にして光学機能フィルムを作製した。このとき、光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
また、光電子X線分析(XPS装置 ESCA−3400型 : 英国KRATOS
ANALYTICAL社製)により得られた、当該光学機能層の透明基板とは反対側の表
面の原子組成比のうち疎液性基に含まれるケイ素の割合が、光学機能層形成用組成物中の
固形分の組成比より算出される理論上のケイ素の割合の150倍であり、光学機能層形成
用感光性化合物IVの反応物が当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを確認した。
<Example 5>
An optical functional film was produced in the same manner as in Example 3, except that the optical functional layer forming composition photosensitive compound IV was used in place of the optical functional layer forming composition photosensitive compound I. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.
Photoelectron X-ray analysis (XPS equipment ESCA-3400 type: KRATOS, UK)
The ratio of silicon contained in the lyophobic group in the atomic composition ratio of the surface opposite to the transparent substrate of the optical functional layer obtained by ANALYTICAL) is the solid content in the optical functional layer forming composition. It is 150 times the theoretical silicon ratio calculated from the composition ratio of the minute, and the reaction product of the photosensitive compound IV for forming the optical functional layer is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate. I confirmed.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器
株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相
差(Re)を測定したところ109nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring device (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments) at 109 nm. there were.

<実施例6>
光学機能層形成用組成物感光性化合物Iに替えて、光学機能層形成用組成物感光性化合物Vを用いたこと以外は、実施例3と同様にして光学機能フィルムを作製した。このとき、光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
また、光電子X線分析(XPS装置 ESCA−3400型 : 英国KRATOS ANALYTICAL社製)により得られた、当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面の原子組成比のうち疎液性基に含まれるケイ素の割合が、光学機能層形成用組成物中の固形分の組成比より算出される理論上のケイ素の割合の150倍であり、光学機能層形成用感光性化合物Vの反応物が当該光学機能層の透明基板とは反対側の表面に偏在していることを確認した。
<Example 6>
An optical functional film was produced in the same manner as in Example 3, except that the optical functional layer forming composition photosensitive compound V was used instead of the optical functional layer forming composition photosensitive compound I. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.
Also included in the lyophobic group in the atomic composition ratio of the surface opposite to the transparent substrate of the optical functional layer obtained by photoelectron X-ray analysis (XPS apparatus ESCA-3400 type: manufactured by KRATOS ANALYTICAL, UK) The silicon ratio is 150 times the theoretical silicon ratio calculated from the composition ratio of the solid content in the composition for forming an optical functional layer, and the reaction product of the photosensitive compound V for forming an optical functional layer is It was confirmed that the optical functional layer was unevenly distributed on the surface opposite to the transparent substrate.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器
株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相
差(Re)を測定したところ46nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for an in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring apparatus (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments) at 46 nm. there were.

<比較例2>
光学機能層形成用感光性化合物Iに替えて、上記感光性化合物を用いたこと以外は、実施例3と同様にして光学機能フィルムを作製した。このとき、光学機能層の膜厚は0.8μmであった。
<Comparative example 2>
An optical functional film was produced in the same manner as in Example 3 except that the photosensitive compound was used in place of the photosensitive compound I for forming an optical functional layer. At this time, the film thickness of the optical functional layer was 0.8 μm.

(評価)
このようにして得られた光学機能フィルムについて自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製 自動複屈折計KOBRA−WR)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re)を測定したところ2nmであった。
(Evaluation)
The optical functional film thus obtained was measured for in-plane retardation (Re) at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence measuring device (automatic birefringence meter KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments). there were.

本発明の光学機能層形成用感光性化合物を用いて光学機能層を形成する方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the method of forming an optical function layer using the photosensitive compound for optical function layer formation of this invention. 本発明の光学機能フィルムの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the optical function film of this invention. 本発明の光学機能フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the optical function film of this invention. 一般的な液晶表示装置の一部を模式的に示す概略図である。It is the schematic which shows a part of common liquid crystal display device typically.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 透明基板
2 … 光学機能層
2’ … 光学機能層形成用層
10 … 光学機能フィルム
100 … 液晶表示装置
101 … 液晶セル
102A,102B … 偏光板
A … 光学機能層形成用感光性化合物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... Optical functional layer 2 '... Optical functional layer formation layer 10 ... Optical functional film 100 ... Liquid crystal display device 101 ... Liquid crystal cell 102A, 102B ... Polarizing plate A ... Photosensitive compound for optical functional layer formation

Claims (11)

光反応性を示す光反応性基と、疎液性を示す疎液性基とを有することを特徴とする、光学機能層形成用感光性化合物。   A photosensitive compound for forming an optical functional layer, comprising a photoreactive group exhibiting photoreactivity and a lyophobic group exhibiting lyophobicity. 前記疎液性基が、ケイ素またはフッ素を含有するものであることを特徴とする、請求項1に記載の光学機能層形成用感光性化合物。   The photosensitive compound for forming an optical functional layer according to claim 1, wherein the lyophobic group contains silicon or fluorine. 前記疎液性基が、ジメチルシロキサン鎖またはフルオロアルキル鎖であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学機能層形成用感光性化合物。   3. The photosensitive compound for forming an optical functional layer according to claim 1, wherein the lyophobic group is a dimethylsiloxane chain or a fluoroalkyl chain. 前記光反応性基がメソゲン構造を有するものであることを特徴とする、請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の光学機能層形成用感光性化合物。   The photosensitive compound for forming an optical functional layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the photoreactive group has a mesogenic structure. 前記光反応性基を有する光反応性モノマーと、前記疎液性基を有する疎液性モノマーとが共重合されてなることを特徴とする、請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の光学機能層形成用感光性化合物。   The claim according to any one of claims 1 to 4, wherein the photoreactive monomer having the photoreactive group and the lyophobic monomer having the lyophobic group are copolymerized. The photosensitive compound for forming an optical functional layer described in the item. 請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の光学機能層形成用感光性化合物と、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料とを含むことを特徴とする、光学機能層形成用組成物。   An optical functional layer forming comprising the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to any one of claims 1 to 5 and a crosslinkable liquid crystal material having a crosslinkable functional group. Composition. 溶媒を含むことを特徴とする、請求項6に記載の光学機能層形成用組成物。   The composition for forming an optical functional layer according to claim 6, comprising a solvent. 前記光学機能層形成用感光性化合物の含有量が全固形分に対して1質量%以下であることを特徴とする、請求項6または請求項7に記載の光学機能層形成用組成物。   The composition for forming an optical functional layer according to claim 6 or 7, wherein the content of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is 1% by mass or less based on the total solid content. 透明基板、および、前記透明基板上に形成され、請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の光学機能層形成用感光性化合物の反応物と、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料の架橋物とを含有する光学機能層を有する光学機能フィルムであって、
前記光学機能層形成用感光性化合物の反応物が、前記光学機能層の前記透明基板とは反対側の表面に偏在していることを特徴とする、光学機能フィルム。
Crosslinking formed on a transparent substrate, the photosensitive compound for forming an optical functional layer according to any one of claims 1 to 5, and a crosslinkable functional group formed on the transparent substrate. An optical functional film having an optical functional layer containing a crosslinked product of a functional liquid crystal material,
A reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer is unevenly distributed on the surface of the optical functional layer opposite to the transparent substrate.
前記光学機能層における前記光学機能層形成用感光性化合物の反応物の含有量が1質量%以下であることを特徴とする、請求項9に記載の光学機能フィルム。   The optical functional film according to claim 9, wherein a content of the reaction product of the photosensitive compound for forming an optical functional layer in the optical functional layer is 1% by mass or less. 透明基板を用い、請求項6から請求項8までのいずれかの請求項に記載の光学機能層形成用組成物を塗工することにより、前記透明基板上に光学機能層形成用層を形成する光学機能層形成用層形成工程と、
前記光学機能層形成用層に偏光紫外線を照射し、前記光反応性基を反応させることによって前記光学機能層形成用層に前記架橋性液晶材料に対する配向性を付与する配向性付与工程と、
前記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、
前記架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
An optical functional layer forming layer is formed on the transparent substrate by applying the optical functional layer forming composition according to any one of claims 6 to 8 using a transparent substrate. A layer forming step for forming an optical functional layer;
An orientation imparting step for imparting orientation to the crosslinkable liquid crystal material to the optical functional layer forming layer by irradiating the optical functional layer forming layer with polarized ultraviolet rays and reacting the photoreactive group;
A liquid crystal alignment step of aligning the crosslinkable liquid crystal material;
And a liquid crystal crosslinking step of crosslinking the crosslinkable liquid crystal material.
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