JP6734694B2 - Hard coat film, method for producing the same, and transparent conductive film - Google Patents
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Description
本発明は、ハードコートフィルム、その製造方法および透明導電性フィルム、詳しくは、ハードコートフィルム、それを備える透明導電性フィルム、および、ハードコートフィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a hard coat film, a method for producing the same, and a transparent conductive film, more specifically, a hard coat film, a transparent conductive film having the same, and a method for producing a hard coat film.
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、タッチパネル、電子ペーパーなどの画像表示装置において、偏光子の視認側に、光透過性基材を含む光学積層体を配置することが知られている。 In an image display device such as a liquid crystal display, a plasma display, an electroluminescence display, a field emission display, a touch panel, and an electronic paper, it is known to dispose an optical laminate including a light-transmitting substrate on the viewing side of a polarizer. There is.
しかし、画像表示装置の表示画面を斜めから視認したときに、画像表示装置に色の異なるムラ(以下、「ニジムラ」という。)を生じ、液晶表示装置の表示品質が損なわれる不具合がある。 However, when the display screen of the image display device is viewed from an angle, unevenness of different colors (hereinafter, referred to as “smooth spots”) occurs in the image display device, and there is a problem that the display quality of the liquid crystal display device is impaired.
そこで、光透過性基材として、高いリタデーション値を有する光透過性基材を用いれば、上記したニジムラの発生を抑制できることが知られている。 Therefore, it is known that the use of a light-transmitting base material having a high retardation value as the light-transmitting base material can suppress the occurrence of the above-mentioned rainbow trout.
一方、高いリタデーション値を有する光透過性基材を用いる場合、光透過性基材とハードコート層との密着性を担保するために、それらの間にプライマー層を配置する必要がある。 On the other hand, when a light transmissive substrate having a high retardation value is used, it is necessary to dispose a primer layer between the light transmissive substrate and the hard coat layer in order to ensure the adhesion between them.
しかし、上記した構成の光学積層体では、空気とハードコート層との界面における反射光と、ハードコート層とプライマー層との界面における反射光と、さらには、プライマー層と光透過性基材との界面における反射光とが干渉し、それに起因する縞(干渉縞あるいは干渉ムラ)を生じる。 However, in the optical laminate having the above-described structure, the reflected light at the interface between the air and the hard coat layer, the reflected light at the interface between the hard coat layer and the primer layer, and further, the primer layer and the light transmitting substrate. And the reflected light at the interface of (3) interfere with each other, resulting in fringes (interference fringes or interference unevenness).
上記した干渉ムラを抑制すべく、例えば、ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、プライマー層上にハードコート層が形成された光学積層体が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1の光学積層体では、プライマー層の屈折率(np)と、ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率(nx)及び進相軸方向の屈折率(ny)が、ny<np<nxなる関係を有し、ハードコート層の屈折率(nh)と、ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率(nx)及び進相軸方向の屈折率(ny)が、ny<nh<nxなる関係を有する。
In order to suppress the above-mentioned interference unevenness, for example, an optical layered body in which a primer layer is formed on a polyester substrate and a hard coat layer is formed on the primer layer has been proposed (for example, refer to Patent Document 1). .. In the optical layered body of
近年、光学積層体には、干渉ムラをより一層十分に抑制したいという要求がある。 In recent years, there is a demand for the optical laminated body to more sufficiently suppress the interference unevenness.
本発明の目的は、干渉ムラを十分に抑制することのできるハードコートフィルム、その製造方法および透明導電性フィルムを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a hard coat film capable of sufficiently suppressing unevenness of interference, a method for producing the same, and a transparent conductive film.
本発明(1)は、複屈折性を有する透明基材と、複屈折性を有する中間層と、ハードコート層とを順次備え、前記透明基材は、8000nm以上のリタデーションを有し、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率nsxから、進相軸方向の屈折率nsyを差し引いた値(nsx−nsy)が、0.05を超過し、前記中間層の遅相軸方向と、前記透明基材の遅相軸方向とは、実質的に同一方向であり、前記中間層の進相軸方向と、前記透明基材の進相軸方向とは、実質的に同一方向であり、さらに、下記式[1]および[2]を満足する、ハードコートフィルムを含む。 The present invention (1) comprises a transparent base material having birefringence, an intermediate layer having birefringence, and a hard coat layer in order, and the transparent base material has a retardation of 8000 nm or more, The value (nsx-nsy) obtained by subtracting the refractive index nsy in the fast axis direction from the refractive index nsx in the slow axis direction of the base material exceeds 0.05, and the slow axis direction of the intermediate layer, and The slow axis direction of the transparent substrate is substantially the same direction, the fast axis direction of the intermediate layer and the fast axis direction of the transparent substrate are substantially the same direction, and , A hard coat film satisfying the following formulas [1] and [2].
nsx>nmx [1]
nsy>nmy>nh [2]
(式中、nsxは、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率を示し、nmxは、前記中間層の遅相軸方向の屈折率を示す。nsyは、前記透明基材の進相軸方向の屈折率を示し、nmyは、前記中間層の進相軸方向の屈折率を示す。nhは、前記ハードコート層の屈折率を示す。)
このハードコートフィルムによれば、中間層が複屈折性を有し、中間層の遅相軸方向と、透明基材の遅相軸方向とは、実質的に同一方向であり、中間層の進相軸方向と、透明基材の進相軸方向とは、実質的に同一方向であり、上記した式[1]および[2]を満足するので、干渉ムラを十分に抑制することができる。
nsx>nmx [1]
nsy>nmy>nh [2]
(In the formula, nsx represents the refractive index in the slow axis direction of the transparent substrate, nmx represents the refractive index in the slow axis direction of the intermediate layer, and nsy represents the fast axis of the transparent substrate. Direction, the refractive index in the fast axis direction of the intermediate layer is indicated by nmy, and the refractive index of the hard coat layer is indicated by nh.)
According to this hard coat film, the intermediate layer has birefringence, the slow axis direction of the intermediate layer and the slow axis direction of the transparent substrate are substantially the same direction, and the progress of the intermediate layer is The phase axis direction and the fast axis direction of the transparent base material are substantially the same direction and satisfy the above-described expressions [1] and [2], so that the interference unevenness can be sufficiently suppressed.
本発明(2)は、前記透明基材は、1.80以上の前記遅相軸方向の屈折率nsxを有する、(1)に記載のハードコートフィルムを含む。 The present invention (2) includes the hard coat film according to (1), wherein the transparent substrate has a refractive index nsx in the slow axis direction of 1.80 or more.
このハードコートフィルムによれば、透明基材が、上記した下限以上の遅相軸方向の屈折率nsxを有するので、ニジムラを有効に抑制することができる。 According to this hard coat film, since the transparent substrate has the refractive index nsx in the slow axis direction which is equal to or more than the above lower limit, it is possible to effectively suppress rainbow streaks.
本発明(3)は、前記中間層が、プライマー層であり、前記中間層は、10nm以上の厚みを有する、(1)または(2)に記載のハードコートフィルムを含む。 The present invention (3) includes the hard coat film according to (1) or (2), wherein the intermediate layer is a primer layer, and the intermediate layer has a thickness of 10 nm or more.
このハードコートフィルムによれば、中間層が、プライマー層であり、上記した下限以上の厚みを有するので、ハードコート層の透明基材に対する密着性を担保することができる。 According to this hard coat film, since the intermediate layer is the primer layer and has a thickness not less than the above lower limit, the adhesion of the hard coat layer to the transparent substrate can be secured.
本発明(4)は、(1)〜(3)のいずれか一項に記載のハードコートフィルムと、光学調整層と、透明導電層とを順次備える、透明導電性フィルムを含む。 The present invention (4) includes a transparent conductive film, which is sequentially provided with the hard coat film according to any one of (1) to (3), an optical adjustment layer, and a transparent conductive layer.
この透明導電性フィルムは、上記したハードコートフィルムを備えるので、干渉ムラを十分に抑制することができる。 Since this transparent conductive film includes the above-mentioned hard coat film, interference unevenness can be sufficiently suppressed.
本発明(5)は、等方性の中間層を等方性の透明基材の厚み方向一方面に配置して、前記透明基材および前記中間層を備える積層基材を用意する工程(1)、前記積層基材を、下記の条件Aを満足するように、延伸する工程(2)、および、ハードコート層を、前記積層基材における前記中間層の厚み方向一方面に、下記の条件Bを満足するように、配置する工程(3)を順次備える、ハードコートフィルム製造方法を含む。 In the present invention (5), a step of arranging an isotropic intermediate layer on one surface in the thickness direction of an isotropic transparent substrate to prepare a laminated substrate including the transparent substrate and the intermediate layer (1 ), a step (2) of stretching the laminated base material so as to satisfy the following condition A, and a hard coat layer on one side in the thickness direction of the intermediate layer in the laminated base material under the following conditions. A method for producing a hard coat film, which comprises sequentially arranging so as to satisfy B (3).
条件A:延伸後の前記透明基材は、8000nm以上のリタデーションを有し、かつ、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率nsxから、進相軸方向の屈折率nsyを差し引いた値(nsx−nsy)が、0.05を超過する。 Condition A: The transparent substrate after stretching has a retardation of 8000 nm or more, and a value obtained by subtracting the refractive index nsy in the fast axis direction from the refractive index nsx in the slow axis direction of the transparent substrate ( nsx-nsy) exceeds 0.05.
条件B:前記ハードコート層の屈折率nhが、延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率nmyに比べて、小さい。 Condition B: The refractive index nh of the hard coat layer is smaller than the refractive index nmy of the intermediate layer after stretching in the fast axis direction.
このハードコートフィルムの製造方法によれば、積層基材を延伸する簡便な工程(2)によって、透明基材および中間層の両方に複屈折性を付与して、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。 According to this method for producing a hard coat film, the simple step (2) of stretching the laminated base material imparts birefringence to both the transparent base material and the intermediate layer, and interference unevenness is sufficiently suppressed. A hard coat film can be manufactured.
本発明(6)は、前記工程(2)では、前記積層基材を、3倍以上に延伸する、(5)に記載のハードコートフィルム製造方法を含む。 The present invention (6) includes the method for producing a hard coat film according to (5), wherein in the step (2), the laminated base material is stretched three times or more.
このハードコートフィルムの製造方法によれば、工程(2)では、積層基材を高い倍率で延伸するので、透明基材および中間層の両方に高い複屈折性を付与することができる。 According to this method for producing a hard coat film, in step (2), the laminated base material is stretched at a high ratio, so that high birefringence can be imparted to both the transparent base material and the intermediate layer.
本発明(7)は、前記工程(2)では、下記の条件CおよびDのいずれをも満足する、(5)または(6)に記載のハードコートフィルム製造方法を含む。 The present invention (7) includes the method for producing a hard coat film according to (5) or (6), which satisfies both of the following conditions C and D in the step (2).
条件C:延伸後の前記中間層の遅相軸方向の屈折率nmxが、延伸後の前記透明基材の遅相軸方向の屈折率nsxに比べて、小さい。 Condition C: The refractive index nmx in the slow axis direction of the intermediate layer after stretching is smaller than the refractive index nsx in the slow axis direction of the transparent substrate after stretching.
条件D:延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率nmyが、延伸後の前記透明基材の進相軸方向の屈折率nsyに比べて、小さい。 Condition D: The refractive index nmy in the fast axis direction of the intermediate layer after stretching is smaller than the refractive index nsy in the fast axis direction of the transparent substrate after stretching.
このハードコートフィルムの製造方法によれば、工程(2)では、上記の条件CおよびDのいずれをも満足するので、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。 According to this method for producing a hard coat film, in the step (2), both the above conditions C and D are satisfied, so that it is possible to produce a hard coat film in which interference unevenness is sufficiently suppressed.
本発明(8)は、前記工程(2)では、前記積層基材を一軸延伸する、(5)〜(7)のいずれか一項に記載のハードコートフィルム製造方法を含む。 The present invention (8) includes the method for producing a hard coat film according to any one of (5) to (7), wherein the laminated base material is uniaxially stretched in the step (2).
このハードコートフィルムの製造方法によれば、工程(2)において積層基材を一軸延伸するので、工程(2)を簡便に実施できながら、透明基材および中間層の両方に高い複屈折性を付与することができる。 According to this method for producing a hard coat film, the laminated base material is uniaxially stretched in the step (2), so that the step (2) can be easily carried out, but high birefringence is imparted to both the transparent base material and the intermediate layer. Can be granted.
本発明のハードコートフィルムは、干渉ムラを十分に抑制することができる。 The hard coat film of the present invention can sufficiently suppress uneven interference.
本発明の透明導電性フィルムは、干渉ムラを十分に抑制することができる。 The transparent conductive film of the present invention can sufficiently suppress interference unevenness.
本発明のハードコートフィルムの製造方法は、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。 The method for producing a hard coat film of the present invention can produce a hard coat film in which interference unevenness is sufficiently suppressed.
本発明のハードコートフィルム、透明導電性フィルムおよびハードコートフィルムの製造方法の一実施形態を、図1〜図3を参照して説明する。 One embodiment of the method for producing the hard coat film, the transparent conductive film and the hard coat film of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
図1において、紙面上下方向は、Z軸方向(厚み方向、第1方向)である。紙面上側が、Z軸方向一方側(厚み方向一方側、第1方向一方側)である。紙面下側が、Z軸方向他方側(厚み方向他方側、第1方向他方側)である。 In FIG. 1, the vertical direction of the paper surface is the Z-axis direction (thickness direction, first direction). The upper side of the paper surface is one side in the Z-axis direction (one side in the thickness direction, one side in the first direction). The lower side of the paper is the other side in the Z-axis direction (the other side in the thickness direction, the other side in the first direction).
図1において、紙面左右方向は、X軸方向(第1方向に直交する第2方向)である。 In FIG. 1, the left-right direction on the paper surface is the X-axis direction (the second direction orthogonal to the first direction).
図1において、紙厚方向は、Y軸方向(第1方向および第2方向に直交する第3方向)である。 In FIG. 1, the paper thickness direction is the Y-axis direction (the third direction orthogonal to the first direction and the second direction).
具体的には、各図の方向矢印に準拠する。 Specifically, it is based on the directional arrow in each figure.
1.ハードコートフィルム
このハードコートフィルム1は、図1に示すように、所定の厚みを有するフィルム形状(シート形状を含む)をなし、X軸方向およびY軸方向(面方向)に延び、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面(2つの主面)を有する。
1. Hard Coat Film As shown in FIG. 1, the
ハードコートフィルム1は、例えば、後述する透明導電性フィルム7(図3参照)に備えられる一部品であり、つまり、透明導電性フィルム7ではない。すなわち、ハードコートフィルム1は、透明導電性フィルム7を作製するための部品であり、光学調整層5および透明導電層6などの機能層を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
The
具体的には、ハードコートフィルム1は、透明基材2と、中間層の一例としてのプライマー層3と、ハードコート層4とを順次備える。つまり、ハードコートフィルム1は、透明基材2と、透明基材2の厚み方向一方面に配置されるプライマー層3と、プライマー層3の厚み方向一方面に配置されるハードコート層4とを備える。また、好ましくは、ハードコートフィルム1は、透明基材2と、プライマー層3と、ハードコート層4とのみからなる。以下、各層について詳述する。
Specifically, the
2.透明基材
透明基材2は、ハードコートフィルム1の厚み方向他方側層であって、ハードコートフィルム1の機械強度を確保する支持材である。また、透明基材2は、ハードコートフィルム1が、例えば、画像表示装置に備えられるときに、ニジムラを抑制することができるニジムラ抑制部材でもある。なお、ニジムラは、画像表示装置において本来同一色が表示されるべき箇所において、異なる複数の色が観察される現象である。
2. Transparent Substrate The
また、透明基材2は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面(2つの主面)を有する。
The
透明基材2は、透明性を有する高分子からなる。高分子としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子フィルムは、単独使用または2種以上併用することができる。複屈折性などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂が挙げられ、より好ましくは、PENが挙げられる。
The
透明基材2の全光線透過率は、例えば、90%以上、好ましくは、95%以上、より好ましくは、99%以上である。
The total light transmittance of the
透明基材2は、複屈折性を有する。
The
詳しくは、透明基材2の遅相軸方向sx(図1におけるX軸方向)の屈折率nsxから、進相軸方向syの屈折率nsyを差し引いた値(nsx−nsy)(Δns)が、0.05を超過する。
Specifically, a value (nsx-nsy) (Δns) obtained by subtracting the refractive index nsy in the fast axis direction sy from the refractive index nsx in the slow axis direction sx (X axis direction in FIG. 1) of the
なお、遅相軸方向sxは、透明基材2の面方向において、屈折率が最も大きい方向であり、また、進相軸方向syは、屈折率が最も小さい方向である。遅相軸方向および進相軸方向の定義は、後で説明するプライマー層3におけるそれらについても同様である。
The slow axis direction sx is the direction with the largest refractive index in the surface direction of the
Δnsは、好ましくは、0.10以上、より好ましくは、0.15以上であり、また、例えば、0.50未満である。Δnsが上記した下限を上回れば、透明基材2が高い複屈折性を有することができ、そのため、ニジムラを有効に抑制することができる。
Δns is preferably 0.10 or more, more preferably 0.15 or more, and for example, less than 0.50. When Δns exceeds the above lower limit, the
具体的には、透明基材2の遅相軸方向sxの屈折率nsxは、例えば、1.70以上、好ましくは、1.75以上、より好ましくは、1.80以上であり、また、例えば、2.00以下である。屈折率nsxが上記した下限を上回れば、透明基材2の厚みを薄くことができる。
Specifically, the refractive index nsx of the
また、透明基材2の進相軸方向の屈折率nsyは、例えば、1.55以上、好ましくは、1.6以上であり、また、例えば、1.75以下、好ましくは、1.70以下である。透明基材2の進相軸方向の屈折率nsyが上記した範囲内にあれば、透明基材2の厚みを薄くことができる。
The refractive index nsy of the
なお、透明基材2のΔnsが0.05以下と過小であっても、次に説明する透明基材2の厚みTsが十分に厚い場合には、後述するリタデーションが8000nm以上の要件を満足する。しかし、その場合には、透明基材2の厚みが過度に厚くなってしまい、ニジムラが発生する。
In addition, even if Δns of the
透明基材2の厚みTsは、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、200μm以下である。透明基材2の厚みTsが上記した下限以上であれば、ハードコートフィルム1の強度を十分に確保できるとともに、透明基材2が次に説明する高いリタデーションを有することができる。そのため、ニジムラを有効に抑制することができる。一方、透明基材2の厚みTsが上記した上限以下であれば、高い透明性を確保することができる。
The thickness Ts of the
透明基材2は、8000nm以上のリタデーションを有する。透明基材2は、好ましくは、10000nm以上、好ましくは、12000nm以下のリタデーションを有する。透明基材2のリタデーションが上記した下限を上回れば、ニジムラを十分に抑制することができる。
The
なお、リタデーションは、Δnsに厚みTsを乗じた値である。また、リタデーションは、透明基材2を直接測定することによって、得られる。
The retardation is a value obtained by multiplying Δns by the thickness Ts. Further, the retardation is obtained by directly measuring the
一方、透明基材2のリタデーションが8000nm未満であれば、たとえ、透明基材2のΔnsが0.05を超過しても、ニジムラを十分に抑制することができない。
On the other hand, if the retardation of the
また、透明基材2のガラス転移温度は、例えば、100℃以上、また、例えば、150℃以下である。
The glass transition temperature of the
3.プライマー層
プライマー層3は、ハードコートフィルム1における中間層である。プライマー層3は、透明基材2とハードコート層4との間に配置されている。詳しくは、プライマー層3は、透明基材2の厚み方向一方面の全面に接触するように配置されている。プライマー層3は、面方向に延びるフィルム形状を有する。プライマー層3は、ハードコート層4の透明基材2に対する密着性(接着性)を向上させる易接着層である。プライマー層3は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面(2つの主面)を有する。
3. Primer Layer The
プライマー層3は、透明基材2で例示した高分子に類似する物性(具体的には、機械強度、弾性など)を有する材料からなり、具体的には、透明基材2で例示した高分子が挙げられ、好ましくは、ポリエステル樹脂、複屈折性の観点から、PETが挙げられる。
The
プライマー層3は、複屈折性を有する。
The
具体的には、プライマー層3の遅相軸方向mxと、透明基材2の遅相軸方向sxとは、同一方向であり、いずれも、X軸方向(図1における左右方向)である。また、プライマー層3の進相軸方向myと、透明基材の進相軸方向syとは、同一方向であり、いずれも、Y軸方向(図1における紙厚方向)である。X軸方向とY軸方向とは、同一平面において、互いに直交する。また、X軸方向とY軸方向とは、Z軸方向(厚み方向)に直交する。
Specifically, the slow axis direction mx of the
プライマー層3の遅相軸方向mxの屈折率nmxは、透明基材2の遅相軸方向sxの屈折率nsxに比べて、小さい。つまり、下記式[1]を満足する。
The refractive index nmx of the
nsx>nmx [1]
(式中、nsxは、透明基材2の遅相軸方向sxの屈折率を示し、nmxは、プライマー層3の遅相軸方向myの屈折率を示す。)
屈折率nmxの、屈折率nsxに対する比(nmx/nsx)は、1.00未満であり、例えば、0.99以下、好ましくは、0.97以下、より好ましくは、0.95以下であり、また、例えば、0.70以上である。また、透明基材2の遅相軸方向sxの屈折率nsxから、プライマー層3の遅相軸方向mxの屈折率nmxを差し引いた値(nsx−nmx)は、例えば、0.05以上、好ましくは、0.10以上、より好ましくは、0.15以上であり、また、例えば、0.30以下である。nmx/nsxが上記した上限を下回れば、あるいは、nsx−nmxが上記した下限を上回れば、ハードコート層4を積層した際の干渉ムラを抑制することができる。
nsx>nmx [1]
(In the formula, nsx represents the refractive index of the
The ratio (nmx/nsx) of the refractive index nmx to the refractive index nsx is less than 1.00, and is, for example, 0.99 or less, preferably 0.97 or less, more preferably 0.95 or less, Further, for example, it is 0.70 or more. A value (nsx-nmx) obtained by subtracting the refractive index nmx of the
また、プライマー層3の進相軸方向myの屈折率nmyは、透明基材2の進相軸方向syの屈折率nsyに比べて、小さい。つまり、下記式[2−1]を満足する。
Further, the refractive index nmy of the
nsy>nmy [2−1]
(式中、nsyは、透明基材2の進相軸方向syの屈折率を示し、nmyは、プライマー層3の進相軸方向myの屈折率を示す。)
プライマー層3の遅相軸方向myの屈折率nmyの、透明基材2の遅相軸方向syの屈折率nsyに対する比(nmy/nsy)は、1.00未満であり、例えば、0.99以下、好ましくは、0.98以下であり、また、例えば、0.90以上である。また、透明基材2の遅相軸方向syの屈折率nsyから、プライマー層3の遅相軸方向myの屈折率nmyから差し引いた値(nsy−nmy)は、例えば、0.01以上、好ましくは、0.03以上であり、また、例えば、0.25以下である。nsy−nmyが上記した上限を下回れば、ハードコート層4を積層した際の干渉ムラを抑制することができる。
nsy>nmy [2-1]
(In the formula, nsy represents the refractive index of the
The ratio (nmy/nsy) of the refractive index nmy of the
さらに、(nsx−nmx)/(nsy−nmy)は、例えば、0.1以上、好ましくは、1以上、より好ましくは、1超過、さらに好ましくは、1.5以上、とりわけ好ましくは、2以上であり、また、例えば、10以下、好ましくは、5以下である。(nsx−nmx)/(nsy−nmy)が上記した下限を上回れば、ハードコート層4を積層した際の干渉ムラを抑制することができる。 Further, (nsx-nmx)/(nsy-nmy) is, for example, 0.1 or more, preferably 1 or more, more preferably more than 1, further preferably 1.5 or more, and particularly preferably 2 or more. And, for example, 10 or less, preferably 5 or less. When (nsx-nmx)/(nsy-nmy) exceeds the above lower limit, it is possible to suppress interference unevenness when the hard coat layer 4 is laminated.
プライマー層3の厚みTmは、例えば、10nm以上、好ましくは、50nm以上、より好ましくは、70nm以上であり、また、例えば、300nm以下、好ましくは、200nm以下である。
The thickness Tm of the
プライマー層3の厚みTmが上記した下限以上であれば、ハードコート層4のプライマー層3に対する密着性を担保することができる。一方、プライマー層3の厚みTmが上記した上限以下であれば、干渉ムラをより一層十分に抑制することができる。
When the thickness Tm of the
なお、干渉ムラは、空気とハードコート層4との界面における反射光と、ハードコート層4とプライマー層3との界面における反射光と、さらには、プライマー層3と透明基材2との界面における反射光とが干渉し、それに起因して観察される縞状のムラである。
The interference unevenness is caused by reflected light at the interface between air and the hard coat layer 4, reflected light at the interface between the hard coat layer 4 and the
プライマー層3のガラス転移温度は、例えば、50℃以上、また、例えば、200℃以下である。
The glass transition temperature of the
4.ハードコート層
ハードコート層4は、ハードコートフィルム1の厚み方向一方側層である。ハードコート層4は、プライマー層3の厚み方向一方面の全面に接触するように配置されている。ハードコート層4は、ハードコートフィルム1の耐擦傷性を高める耐擦傷層である。ハードコート層4は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面(2つの主面)を有する。ハードコート層4は、フィルム形状(シート形状を含む)を有する。
4. Hard coat layer The hard coat layer 4 is one layer in the thickness direction of the
ハードコート層4は、例えば、樹脂を含有する樹脂組成物からなる。また、樹脂組成物は、粒子を適度の割合で含有することもできる。 The hard coat layer 4 is made of, for example, a resin composition containing a resin. Further, the resin composition can also contain particles in an appropriate ratio.
樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂などの活性エネルギー線硬化性樹脂などが挙げられる。 Examples of the resin include active energy ray curable resins such as (meth)acrylic resins.
粒子としては、例えば、有機粒子、無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、酸化ケイ素粒子、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫などが挙げられる。粒子は、単独使用または2種以上併用することができる。 Examples of the particles include organic particles and inorganic particles. Examples of the organic particles include crosslinked acrylic resin particles. Examples of the inorganic particles include silicon oxide particles, zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide and the like. The particles can be used alone or in combination of two or more kinds.
ハードコート層4は、好ましくは、樹脂のみを含有する(粒子を含有しない)。 The hard coat layer 4 preferably contains only a resin (no particles).
ハードコート層4は、例えば、複屈折性または等方性を有する。好ましくは、ハードコート層4は、等方性を有する。 The hard coat layer 4 has, for example, birefringence or isotropic property. Preferably, the hard coat layer 4 is isotropic.
ハードコート層4の屈折率nhは、プライマー層3の進相軸方向myの屈折率nmyに比べて、小さい。つまり、下記式[2−2]を満足する。
The refractive index nh of the hard coat layer 4 is smaller than the refractive index nmy of the
nmy>nh [2−2]
(式中、nmyは、プライマー層3の進相軸方向myの屈折率を示す。nhは、ハードコート層4の屈折率を示す。)
そうすると、ハードコートフィルム1において、上記した式[2−1]および式[2−2]を踏まえると、透明基材2、プライマー層3およびハードコート層4は、下記式[2]を満足する。
nmy>nh [2-2]
(In the formula, nmy represents the refractive index of the
Then, in the
nsy>nmy>nh [2]
(式中、nsyは、透明基材2の進相軸方向syの屈折率を示す。nmyは、プライマー層3の進相軸方向myの屈折率を示す。nhは、ハードコート層4の屈折率を示す。)
ハードコート層4の屈折率nhの、プライマー層3の進相軸方向myの屈折率nmyに対する比(nh/nmy)は、1未満であり、例えば、0.99以下、好ましくは、0.98以下、より好ましくは、0.97以下であり、また、例えば、0.70以上である。プライマー層3の進相軸方向myの屈折率nmyから、ハードコート層4の屈折率nhを差し引いた値(nmy−nh)は、例えば、0.03以上、好ましくは、0.05以上であり、また、例えば、0.30以下、好ましくは、0.20以下である。
nsy>nmy>nh [2]
(In the formula, nsy represents the refractive index of the
The ratio (nh/nmy) of the refractive index nh of the hard coat layer 4 to the refractive index nmy of the
nmyは、[(nsy+nh)/2](図7の一点鎖線参照)に対して、同一または大きく(nmy≧[(nsy+nh)/2])、好ましくは、大きい(nmy>[(nsy+nh)/2])。nmy−[(nsy+nh)/2]は、例えば、0.00以上、好ましくは、0.00超過、より好ましくは、0.01以上、さらに好ましくは、0.02以上であり、また、例えば、0.10以下である。また、nmy/[(nsy+nh)/2]が、例えば、1.01以上、好ましくは、1.02以上であり、また、1.1以下である。上記したnmy−[(nsy+nh)/2]、および/またはnmy/[(nsy+nh)/2]が、上記した下限を上回れば、干渉ムラを抑制することができる。 nmy is the same or larger (nmy≧[(nsy+nh)/2]) with respect to [(nsy+nh)/2] (see the alternate long and short dash line in FIG. 7), and preferably larger (nmy>[(nsy+nh)/2). ]). nmy-[(nsy+nh)/2] is, for example, 0.00 or more, preferably more than 0.00, more preferably 0.01 or more, further preferably 0.02 or more, and, for example, It is 0.10 or less. Further, nmy/[(nsy+nh)/2] is, for example, 1.01 or more, preferably 1.02 or more, and 1.1 or less. If the above-mentioned nmy-[(nsy+nh)/2] and/or nmy/[(nsy+nh)/2] exceeds the above-mentioned lower limit, interference unevenness can be suppressed.
一方、nmxは、[(nsx+nh)/2]に対して、同一または小さく(nmx≦[(nsx+nh)/2])、好ましくは、小さい(nmx<[(nsx+nh)/2])。nmx−[(nsx+nh)/2]は、例えば、0.00以下、好ましくは、0.00未満、より好ましくは、−0.01以下であり、また、−0.10以上である。また、nmx/[(nsx+nh)/2]が、例えば、1.00以下、好ましくは、1.00未満、より好ましくは、0.995以下であり、また、0.80以上である。nmx−[(nsx+nh)/2]、および/または、nmx/[(nsx+nh)/2]が上記した上限を下回れば、干渉ムラを抑制することができる。 On the other hand, nmx is the same as or smaller than [(nsx+nh)/2] (nmx≦[(nsx+nh)/2]), and preferably small (nmx<[(nsx+nh)/2]). nmx−[(nsx+nh)/2] is, for example, 0.00 or less, preferably less than 0.00, more preferably −0.01 or less, and −0.10 or more. Further, nmx/[(nsx+nh)/2] is, for example, 1.00 or less, preferably less than 1.00, more preferably 0.995 or less, and 0.80 or more. When nmx-[(nsx+nh)/2] and/or nmx/[(nsx+nh)/2] is below the above-mentioned upper limit, interference unevenness can be suppressed.
また、nmx、nsxおよびnhは、例えば、下記式[3−1]を満たし、好ましくは、下記式[3−2]を満たし、より好ましくは、下記式[3−3]を満たす。
[(nsx+nh)/2]−0.05<nmx<[(nsx+nh)/2]+0.05
[3−1]
[(nsx+nh)/2]−0.04<nmx<[(nsx+nh)/2]+0.04
[3−2]
[(nsx+nh)/2]−0.03<nmx<[(ns+nh)/2]+0.03
[3−3]
nmx、nsxおよびnhが上記式を満たせば、干渉ムラを有効に抑制することができる。
Further, nmx, nsx, and nh satisfy, for example, the following formula [3-1], preferably the following formula [3-2], and more preferably the following formula [3-3].
[(Nsx+nh)/2]-0.05<nmx<[(nsx+nh)/2]+0.05
[3-1]
[(Nsx+nh)/2]-0.04<nmx<[(nsx+nh)/2]+0.04
[3-2]
[(Nsx+nh)/2]-0.03<nmx<[(ns+nh)/2]+0.03
[3-3]
If nmx, nsx, and nh satisfy the above formula, interference unevenness can be effectively suppressed.
さらに、nmy、nsyおよびnhは、例えば、下記式[4−1]を満たし、好ましくは、下記式[4−2]を満たし、より好ましくは、下記式[4−2]を満たし、さらに好ましくは、下記式[4−3]を満たす。
[(nsy+nh)/2]−0.05<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.05
[4−1]
[(ns+nh)/2]−0.04<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.04
[4−2]
[(nsy+nh)/2]−0.03<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.03
[4−3]
[(nsy+nh)/2]−0.02<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.02
[4−3]
nmy、nsyおよびnhが上記式を満たせば、干渉ムラを有効に抑制することができる。
Further, nmy, nsy, and nh satisfy, for example, the following formula [4-1], preferably the following formula [4-2], more preferably the following formula [4-2], and further preferably Satisfies the following formula [4-3].
[(Nsy+nh)/2]-0.05<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.05
[4-1]
[(Ns+nh)/2]-0.04<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.04
[4-2]
[(Nsy+nh)/2]-0.03<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.03
[4-3]
[(Nsy+nh)/2]-0.02<nmy<[(nsy+nh)/2]+0.02
[4-3]
If nmy, nsy, and nh satisfy the above equation, interference unevenness can be effectively suppressed.
ハードコート層4の厚みは、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.5μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、5μm以下である。 The hard coat layer 4 has a thickness of, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less.
5.ハードコートフィルムの製造方法
次に、ハードコートフィルム1の製造方法について説明する。
5. Method for Manufacturing Hard Coat Film Next, a method for manufacturing the
このハードコートフィルム1は、例えば、ロール・トゥ・ロール法によって、製造される。
The
この方法は、等方性のプライマー層3を等方性の透明基材2の厚み方向一方面に配置して、透明基材2およびプライマー層3を備える積層基材8を用意する工程(1)、積層基材8を、延伸する工程(2)、および、ハードコート層4を、積層基材8におけるプライマー層3の厚み方向一方面に、配置する工程(3)を順次備える。以下、各工程を順次説明する。
In this method, a step of arranging an
5−1. 工程(1)
工程(1)では、図2Aに示すように、まず、等方性の透明基材2を用意する。具体的には、透明基材2として、上記した高分子からなる未延伸のフィルムを用意する。
5-1. Process (1)
In the step (1), as shown in FIG. 2A, first, the isotropic
その後、図2Bに示すように、プライマー層3を透明基材2の厚み方向一方面に配置する。
Then, as shown in FIG. 2B, the
具体的には、まず、高分子と、溶媒とを含む塗布組成物(プライマー層形成用塗布組成物)とを調製し、次いで、塗布組成物を透明基材2の厚み方向一方面に塗布して、塗膜を配置し、その後、塗膜における溶媒を除去する。
Specifically, first, a coating composition containing a polymer and a solvent (a coating composition for forming a primer layer) is prepared, and then the coating composition is applied to one surface in the thickness direction of the
高分子は、例えば、その屈折率が、等方性の透明基材2の屈折率と、ハードコート層4の屈折率nhとの間にあるものから選択される。
The polymer is selected, for example, from those having a refractive index between the refractive index of the isotropic
溶媒は、高分子を溶解または分散可能な溶媒であって、例えば、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)などのフッ素系溶媒などが挙げられる。これらは、単独使用または併用することができる。溶媒として、好ましくは、フッ素系溶媒が挙げられる。 The solvent is a solvent capable of dissolving or dispersing the polymer, and examples thereof include a fluorine-based solvent such as pentafluoropropanol and hexafluoroisopropanol (HFIP). These can be used alone or in combination. As the solvent, preferably, a fluorine-based solvent is used.
溶媒を、塗布組成物における高分子の含有割合(固形分量)が、例えば、1質量%以上、好ましくは、3質量%以上であり、また、例えば、30質量%以下、好ましくは、20質量%以下となるように、高分子と配合する。 The content ratio of the polymer in the coating composition (solid content) of the solvent is, for example, 1% by mass or more, preferably 3% by mass or more, and for example, 30% by mass or less, preferably 20% by mass. It is blended with a polymer so as to be as follows.
塗布組成物を調製するには、高分子と溶媒とを上記の配合割合で配合し、高分子を溶媒に溶解または分散させる。 To prepare the coating composition, the polymer and the solvent are blended in the above blending ratio, and the polymer is dissolved or dispersed in the solvent.
塗布組成物を透明基材2の厚み方向一方面に塗布するには、例えば、グラビヤロールコータ、リバースロールコータ、キスロールコータ、ディップロールコータ、バーコータ、ナイフコータ、スプレーコータなどのコータが用いられる。
To apply the coating composition to one surface of the
溶媒を除去するには、塗膜を、乾燥させる。乾燥温度は、例えば、透明基材2のガラス転移温度以下であり、具体的には、例えば、50℃以上、好ましくは、70℃以上であり、また、例えば、150℃以下、好ましくは、120℃以下である。乾燥時間は、例えば、10秒以上、好ましくは、30秒以上であり、また、例えば、10分以下、好ましくは、3分以下である。
To remove the solvent, the coating is dried. The drying temperature is, for example, the glass transition temperature of the
これにより、等方性のプライマー層3を、透明基材2の厚み方向一方面に配置する。等方性のプライマー層3の厚みT0は、例えば、200nm以上、好ましくは、300nm以上であり、また、例えば、600nm以下、好ましくは、500nm以下である。
As a result, the
これにより、透明基材2およびプライマー層3を順次備える積層基材8を得る。
Thereby, the
5−2. 工程(2)
工程(2)では、図2Cに示すように、積層基材8を、透明基材2が上記した複屈折性を有するように、延伸する。好ましくは、積層基材8を一軸延伸する。具体的には、下記の条件Aを満足するように、積層基材8を延伸する。
5-2. Process (2)
In step (2), as shown in FIG. 2C, the
条件A:延伸後の透明基材2は、8000nm以上のリタデーションを有し、かつ、透明基材2の遅相軸方向nxの屈折率nsxから、進相軸方向nyの屈折率nsyを差し引いた値(nsx−nsy)が、0.05を超過する。
Condition A: The stretched
なお、複屈折性に関する上記した条件Aより好適な条件は、上記した「2.透明基材」で例示した条件が挙げられる。 The conditions more preferable than the above-mentioned condition A regarding the birefringence include the conditions exemplified in the above "2. Transparent base material".
具体的には、フィルムを加熱しながら延伸する。詳しくは、まず、フィルムを予備加熱し、続いて、引き続き、フィルムを加熱しながら延伸する。 Specifically, the film is stretched while being heated. Specifically, first, the film is preheated, and subsequently, the film is stretched while being heated.
加熱温度は、例えば、高分子のガラス転移温度以上である。 The heating temperature is, for example, the glass transition temperature of the polymer or higher.
延伸における倍率は、例えば、2.5倍以上、好ましくは、3.0倍以上であり、また、例えば、6.0以下、好ましくは、5.5倍以下である。 The stretching ratio is, for example, 2.5 times or more, preferably 3.0 times or more, and for example, 6.0 or less, preferably 5.5 times or less.
倍率が上記した下限以上であれば、透明基材2およびプライマー層3の両方に高い複屈折性を付与することができる。倍率が上記した上限以下であれば、透明基材2の強度を確保することができる。
When the magnification is at least the above lower limit, high birefringence can be imparted to both the
また、積層基材8を、例えば、縦延伸(縦方向に沿う延伸、ロール・トゥ・ロール法における積層基材8の搬送方向に沿う方向の延伸)、または、横延伸(横方向に沿う延伸、ロール・トゥ・ロール法における積層基材8の搬送方向および厚み方向に沿う方向(幅方向)の延伸)する。
Further, the
具体的には、透明基材2およびプライマー層3を、同一方向に延伸する。この延伸によって、プライマー層3の遅相軸方向mxと、透明基材2の遅相軸方向sxとは、同一方向となる。また、プライマー層3の進相軸方向myと、透明基材2の進相軸方向syとは、同一方向となる。
Specifically, the
さらに、上記した積層基材8の延伸によって、下記の条件CおよびDのいずれをも満足する。
Furthermore, by stretching the
条件C:延伸後のプライマー層3の遅相軸方向mxの屈折率nmxが、延伸後の透明基材2の遅相軸方向sxの屈折率nsxに比べて、小さい。
Condition C: The refractive index nmx of the stretched
条件D:延伸後のプライマー層3の進相軸方向myの屈折率nmyが、延伸後の透明基材2の進相軸方向syの屈折率nsyに比べて、小さい。
Condition D: The refractive index nmy of the
なお、複屈折性に関する上記した条件CおよびDより好適な条件は、上記した「3.プライマー層」で例示した条件が挙げられる。 The conditions more preferable than the above-mentioned conditions C and D regarding the birefringence include the conditions exemplified in the above "3. Primer layer".
上記した積層基材8の延伸によって、透明基材2の遅相軸方向sxの長さ、および、プライマー層3の遅相軸方向mxの長さが、上記した倍率で、延長される。
By stretching the
これによって、プライマー層3は、上記した厚みTmを有する。プライマー層3において、延伸前の厚みT0の、延伸後の厚みTmに対する比(T0/Tm)は、上記した延伸の倍率と略同一であり、具体的には、例えば、2.5倍以上、好ましくは、3.0倍以上であり、また、例えば、6.0以下、好ましくは、5.5倍以下である。
Thereby, the
5−3. 工程(3)
工程(3)では、図2Dに示すように、ハードコート層4を、積層基材8におけるプライマー層3の厚み方向一方面に配置する。具体的には、ハードコート層4を、下記の条件Bを満足するように、配置する。
5-3. Process (3)
In step (3), as shown in FIG. 2D, the hard coat layer 4 is arranged on one surface of the
条件B:ハードコート層4の屈折率nhが、延伸後のプライマー層3の進相軸方向myの屈折率nmyに比べて、小さい。
Condition B: The refractive index nh of the hard coat layer 4 is smaller than the refractive index nmy of the
なお、複屈折性に関する上記した条件Bより好適な条件は、上記した「4.ハードコート層」で例示した条件が挙げられる。 The conditions more preferable than the above-mentioned condition B regarding the birefringence include the conditions exemplified in the above "4. Hard coat layer".
ハードコート層4を、上記した樹脂組成物をプライマー層3の厚み方向一方面の全面に塗布して、塗膜を形成し、その後、塗膜に、必要により、活性エネルギー線を照射する。これによって、ハードコート層4をプライマー層3の厚み方向一方面に配置する。
The hard coat layer 4 is applied to the entire surface of one side in the thickness direction of the
これによって、透明基材2、プライマー層3およびハードコート層4を順次備えるハードコートフィルム1を得る。
As a result, the
そして、このハードコートフィルム1は、各産業用途に用いられ、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、タッチパネル、電子ペーパーなどの画像表示装置に用いられる。好ましくは、タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムに備えられる。
The
6.透明導電性フィルム
図3に示すように、透明導電性フィルム7は、所定の厚みを有するフィルム形状(シート形状を含む)をなし、面方向に延び、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な平坦な厚み方向他方面(2つの主面)を有する。透明導電性フィルム7は、例えば、光学装置(例えば、画像表示装置、調光装置)に備えられるタッチパネル用基材や調光パネルなどの一部品であり、つまり、光学装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム7は、光学装置などを作製するための部品であり、LCDモジュールなどの画像表示素子や、LEDなどの光源を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
6. Transparent Conductive Film As shown in FIG. 3, the transparent
そして、この透明導電性フィルム7は、ハードコートフィルム1と、光学調整層5と、透明導電層6とを順次備える。具体的には、透明導電性フィルム7は、透明基材2と、プライマー層3と、ハードコート層4と、光学調整層5と、透明導電層6とを順次備える。好ましくは、透明導電性フィルム7は、透明基材2と、プライマー層3と、ハードコート層4と、光学調整層5と、透明導電層6とのみからなる。
The transparent
光学調整層5は、透明導電層6が後の工程で配線パターンに形成された後に、非パターン部とパターン部との相違が認識されないように(すなわち、配線パターンの視認を抑制するように)、透明導電性フィルム7の光学物性を調整する層である。
The
光学調整層5は、ハードコート層4の厚み方向一方面の全面に配置されている。光学調整層5は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面(図示せず)(2つの主面)を有する。
The
光学調整層5は、樹脂組成物から調製されている。樹脂組成物は、例えば、樹脂と、粒子とを含有する。樹脂組成物は、好ましくは、樹脂のみを含有し、より好ましくは、樹脂のみからなる。
The
光学調整層5の屈折率は、ハードコート層4の屈折率と透明導電層6の屈折率との間に調整されている。
The refractive index of the
光学調整層5の厚みは、例えば、30nm以上、好ましくは、50nm以上であり、また、例えば、150nm以下、好ましくは、130nm以下である。
The thickness of the
透明導電層6は、後の工程で配線パターンに形成して、パターン部を形成するための導電層である。透明導電層6は、透明導電性フィルム7の厚み方向における最一方側層であって、面方向に延びるフィルム形状(シート形状を含む)を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面を有している。
The transparent conductive layer 6 is a conductive layer for forming a pattern portion, which will be formed in a wiring pattern in a later step. The transparent conductive layer 6 is the most one side layer in the thickness direction of the transparent
透明導電層6を形成する材料としては、例えば、インジウムスズ複合酸化物(ITO)、アンチモンスズ複合酸化物(ATO)などが挙げられる。 Examples of the material forming the transparent conductive layer 6 include indium tin composite oxide (ITO) and antimony tin composite oxide (ATO).
透明導電層6の厚みは、例えば、10nm以上、好ましくは、20nm以上であり、また、例えば、35nm以下、好ましくは、30nm以下である。 The thickness of the transparent conductive layer 6 is, for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and for example, 35 nm or less, preferably 30 nm or less.
透明導電性フィルム7は、ハードコートフィルム1のハードコート層4の厚み方向一方面に、光学調整層5および透明導電層6を順次配置することによって、得られる。
The transparent
7.効果
そして、このハードコートフィルム1によれば、プライマー層3が複屈折性を有し、プライマー層3の遅相軸方向mxと、透明基材2の遅相軸方向sxとは、同一方向であり、透明基材2の進相軸方向syと、プライマー層3の進相軸方向myとは、同一方向であり、上記した式[1]および[2]を満足するので、干渉ムラを十分に抑制することができる。
7. Effect According to this
また、このハードコートフィルム1によれば、プライマー層3が、上記した上限以下の厚みTmを有するので、干渉ムラをより一層十分に抑制することができる。
Further, according to this
このハードコートフィルム1によれば、透明基材2が、上記した下限以上の遅相軸方向sxの屈折率nsxを有するので、ニジムラを有効に抑制することができる。
According to this
このハードコートフィルム1によれば、プライマー層3が、上記した下限以上の厚みTmを有するので、ハードコート層4の透明基材2に対する密着性を担保することができる。
According to this
さらに、この透明導電性フィルム7は、上記したハードコートフィルム1を備えるので、干渉ムラを十分に抑制することができる。
Further, since the transparent
ハードコートフィルム1の製造方法によれば、積層基材8を延伸する簡便な工程(2)によって、透明基材2およびプライマー層3の両方に複屈折性を付与して、干渉ムラが抑制されたハードコートフィルム1を製造することができる。
According to the method for producing the
このハードコートフィルム1の製造方法によれば、工程(2)では、光学調整層5を、高い倍率で延伸するので、透明基材2およびプライマー層3の両方に高い複屈折性を付与することができる。
According to the method for producing the
このハードコートフィルム1の製造方法によれば、工程(2)では、上記の条件CおよびDのいずれをも満足するので、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。
According to the method for manufacturing the
このハードコートフィルム1の製造方法によれば、工程(2)において積層基材8を一軸延伸するので、工程(2)を簡便に実施できながら、透明基材2およびプライマー層3の両方に高い複屈折性を付与することができる。
According to the method for producing the
8.変形例
図1に示す一実施形態では、ハードコートフィルム1は、透明基材2の厚み方向一方側のみに順次配置されたプライマー層3およびハードコート層4を備える。
8. Modified Example In the embodiment shown in FIG. 1, the
しかし、プライマー層3およびハードコート層4の配置は上記に限定されず、例えば、図4に示すように、透明基材2の厚み方向両側(一方側および他方側)のそれぞれに順次配置されたプライマー層3およびハードコート層4を備えることもできる。
However, the arrangement of the
図4に示すハードコートフィルム1によっても、一実施形態のハードコートフィルム1と同様の作用効果を奏することができる。
The
図3に示す一実施形態では、透明導電性フィルム7は、透明基材2の厚み方向一方側のみに順次配置されたプライマー層3、ハードコート層4、光学調整層5および透明導電層6を備える。
In the embodiment shown in FIG. 3, the transparent
しかし、プライマー層3、ハードコート層4、光学調整層5および透明導電層6の配置は上記に限定されない。例えば、図5に示すように、透明基材2の厚み方向両側(一方側および他方側)のぞれぞれに順次配置された、プライマー層3、ハードコート層4、光学調整層5および透明導電層6を備えることもできる。
However, the arrangement of the
この変形例の透明導電性フィルム7によっても、一実施形態の透明導電性フィルム7と同様の作用効果を奏することができる。
The transparent
また、一実施形態において、本発明の中間層として、プライマー層3を例示しているが、これに限定されない。本発明の中間層として、例えば、アンダーコート層、インデックスマッチング層などを例示することもできる。
Further, in one embodiment, the
また、一実施形態における工程(2)において、1軸延伸を好適な例として挙げている。しかし、上記した条件Aを満足するように、積層基材8を延伸すればよく、例えば、積層基材8を二軸延伸することもできる。この場合には、縦方向の延伸倍率の、横方向の延伸倍率に対する延伸倍率(縦方向の延伸倍率/横方向の延伸倍率に対する延伸倍率)、または、横方向の延伸倍率の、縦方向の延伸倍率に対する延伸倍率(横方向の延伸倍率/縦方向の延伸倍率に対する延伸倍率)を、例えば、2.5倍以上、好ましくは、3倍以上に設定する。これにより、透明基材2およびプライマー層3に複屈折性を付与する。
In addition, in step (2) in one embodiment, uniaxial stretching is cited as a suitable example. However, the
また、一実施形態におけるハードコートフィルム1の製造方法において、積層基材8を延伸する工程(2)を実施しているが、例えば、工程(2)を実施せずに、中間層に複屈折性を付与することもできる。
Further, in the method for manufacturing the
例えば、図6Aに示すように、まず、等方性の透明基材2を用意し、次いで、図6Bに示すように、透明基材2を延伸し、次いで、図示しないが、透明基材2の厚み方向一方面に配向膜を配置し、続いて、配向膜の厚み方向一方面をラビング処理し、その後、図6Cに示すように、高分子としての液晶材料を配向膜の厚み方向一方面に配置する。すると、液晶材料は、配向膜のラビング方向(つまり、透明基材2の延伸方向)に沿って配向される。これによって、液晶材料からなるプライマー層3が、複屈折性を有する。
For example, as shown in FIG. 6A, first, an isotropic
あるいは、図6Cが参照されるように、塗布組成物を透明基材2の厚み方向一方面に塗布する際に、塗布組成物に剪断力を付与できるドクターブレードなどの塗布機によって、塗布組成物に透明基材2の延伸方向に沿って剪断力を付与して、プライマー層3を配向させることもできる。
Alternatively, as shown in FIG. 6C, when the coating composition is applied to one surface in the thickness direction of the
また、プライマー層3の遅相軸方向mxと、透明基材2の遅相軸方向sxとは、同一方向であるが、本発明において、それらは実質的に同一方向であればよく、具体的には、本発明の効果を奏することができる程度にずれていること(交差すること)が許容される。例えば、3度以下、好ましくは、1度以下、より好ましくは、0.1度以下で、プライマー層3の遅相軸方向mxと、透明基材2の遅相軸方向sxとが交差することが許容される。
Further, the slow axis direction mx of the
また、透明基材2の進相軸方向syと、プライマー層3の進相軸方向myとは、同一方向であるが、本発明において、それらは実質的に同一方向であればよく、具体的には、本発明の効果を奏することができる程度にずれていること(交差すること)が許容される。例えば、3度以下、好ましくは、1度以下、より好ましくは、0.1度以下で、透明基材2の進相軸方向syと、プライマー層3の進相軸方向myとが交差することが許容される。
Further, the fast axis direction sy of the
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the examples and comparative examples. In addition, specific numerical values such as a blending ratio (content ratio), physical property values, and parameters used in the following description are described in the above-mentioned "Description of Embodiments", and a corresponding blending ratio ( Content ratio), physical property value, parameter, etc. are replaced by the upper limit (numerical value defined as “below” or “less than”) or lower limit value (numerical value defined as “greater than or equal to” or “exceeded”) be able to.
(プライマー層形成用塗布組成物の調製)
調製例1
ポリエチレンテレフタレート(PET)(ガラス転移温度:80℃)を、固形分量が5質量%になるように、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)に溶解させて、プライマー層形成用塗布組成物を調製した。
(Preparation of coating composition for forming primer layer)
Preparation example 1
Polyethylene terephthalate (PET) (glass transition temperature: 80° C.) was dissolved in hexafluoroisopropanol (HFIP) so that the solid content was 5% by mass to prepare a primer layer-forming coating composition.
調製例2
無機材料分散型多官能アクリレート「Z7412」(JSR (株)社製)を、酢酸ブチルを用いて固形分量が5質量%となるようにプライマー層形成用塗布組成物を調製した。
Preparation example 2
A coating composition for forming a primer layer was prepared using butyl acetate using an inorganic material-dispersed polyfunctional acrylate “Z7412” (manufactured by JSR Corporation) so that the solid content was 5% by mass.
(ハードコート層形成用塗布組成物の調製)
調製例3
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)100質量部に光重合開始剤Irgacure184を0.1質量部部配合した液を、酢酸エチルを用いて固形分量が16質量%となるようにハードコート層形成用塗布組成物を調製した。
(Preparation of coating composition for forming hard coat layer)
Preparation Example 3
A coating composition for forming a hard coat layer using ethyl acetate so that the solid content is 16% by mass, using 100 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (PETA) and 0.1 parts by mass of the photopolymerization initiator Irgacure 184. Was prepared.
実施例1
1. 工程(1)
まず、図2Aに示すように、等方性の透明基材2として、厚み200μmの未延伸のポリエチレンナフタレートフィルム(PENフィルム)(ガラス転移温度120℃)を用意した。
Example 1
1. Process (1)
First, as shown in FIG. 2A, as the isotropic
次いで、調製例1のプライマー層形成用塗布組成物をバーコータで乾燥後の厚みが360nmになるように、透明基材2の厚み方向一方面の全面に塗布し、その後、乾燥オーブンで、塗膜を120℃の雰囲気下で1分間乾燥させ、HFIPを揮発させた。これにより、図2Bに示すように、等方性のプライマー層3を、等方性の透明基材2の厚み方一方面に配置した。つまり、ともに等方性の透明基材2およびプライマー層3を備える積層基材8を得た。
Then, the primer layer-forming coating composition of Preparation Example 1 was applied to the entire surface of one side in the thickness direction of the
2. 工程(2)
図2Cに示すように、積層基材8を、バッチ式延伸機(KARO IV:BRUCKNER社製)を用いて、4倍に一軸延伸した。詳細な条件は以下の通りである。
予備加熱(プレアニール)条件:120℃、40秒
延伸温度:120℃
延伸速度:5%/秒
2. Process (2)
As shown in FIG. 2C, the
Preheating (pre-annealing) conditions: 120°C, 40 seconds Stretching temperature: 120°C
Stretching speed: 5%/sec
3. 工程(3)
延伸した積層基材8におけるプライマー層3の厚み方向一方面の全面に、調製例3のハードコート層形成用塗布組成物をワイヤーバーを用いて塗布し、その後、乾燥オーブンで、80℃の雰囲気下で1分間乾燥させ、溶剤を揮発させて塗膜を得た。その後、塗膜に、酸素濃度2500ppm雰囲気下で160W/cm2の空冷水銀ランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照度60mW/cm2、照射量280mJ/cm2の紫外線を照射してハードコート層4を形成した。
3. Process (3)
The coating composition for forming a hard coat layer of Preparation Example 3 was applied to the entire one surface in the thickness direction of the
これにより、透明基材2、プライマー層3およびハードコート層4を順次備えるハードコートフィルム1を得た。
As a result, a
実施例2
表1に示すように、延伸後のプライマー層3の厚みを変更した以外は、実施例1と同様に処理して、ハードコートフィルム1を得た。
Example 2
As shown in Table 1, a
比較例1
1.工程(1)
等方性の透明基材2として、厚み200μmの未延伸のポリエチレンナフタレートフィルム(PENフィルム)(ガラス転移温度120℃)を用意した。
Comparative Example 1
1. Process (1)
As the isotropic
次いで、等方性の透明基材2をバッチ式延伸機(KARO IV:BRUCKNER社製)を用いて、4倍に一軸延伸した。詳細な条件は以下の通りである。
予備加熱(プレアニール)条件:120℃、40秒
延伸温度:120℃
延伸速度:5%/秒
その後、調製例2のプライマー層形成用塗布組成物を、延伸した透明基材2上にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥オーブンにて60℃の雰囲気下で1分間乾燥させ、溶剤を揮発させた後、酸素濃度2500ppm雰囲気下で160W/cm2の空冷水銀ランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度60mW/cm2、照射量280mJ/cm2の紫外線を照射して塗布膜を硬化させた。
Next, the isotropic
Preheating (pre-annealing) conditions: 120°C, 40 seconds Stretching temperature: 120°C
Stretching speed: 5%/sec. Thereafter, the coating composition for forming a primer layer of Preparation Example 2 was coated on a stretched
これにより、透明基材2およびプライマー層3からなる積層基材8を得た。
Thereby, the
2. 工程(3)
積層基材8におけるプライマー層3の厚み方向一方面の全面に、調製例3のハードコート層形成用塗布組成物をワイヤーバーを用いて塗布し、その後、乾燥オーブンで、80℃の雰囲気下で1分間乾燥させ、溶剤を揮発させて塗膜を得た。その後、塗膜に、酸素濃度2500ppm雰囲気下で160W/cm2の空冷水銀ランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照度60mW/cm2、照射量280mJ/cm2の紫外線を照射してハードコート層4を形成した。
2. Process (3)
The coating composition for forming a hard coat layer of Preparation Example 3 was applied to the entire surface of the
これにより、図6Dが参照されるように、透明基材2、プライマー層3およびハードコート層4を順次備えるハードコートフィルム1を得た。
Thereby, as shown in FIG. 6D, a
比較例2
表1に示すように、プライマー層3の厚みを変更した以外は、比較例1と同様に処理して、ハードコートフィルム1を得た。
Comparative example 2
As shown in Table 1, a
(評価)
以下の各項目を評価した。その結果を表1に示す。また、透明基材、プライマー層およびハードコート層のそれぞれの屈折率については、図7にも示す。
(Evaluation)
The following items were evaluated. The results are shown in Table 1. Further, the respective refractive indexes of the transparent substrate, the primer layer and the hard coat layer are also shown in FIG.
1.干渉ムラ
各実施例および各比較例のハードコートフィルム1の干渉ムラを、U4100(日立ハイテクノロジーズ社製)により得られた反射スペクトルのリップル(波形)の振幅の大小を観察し、以下の基準に従って、評価した。
○:リップルの振幅が極めて小さく(2未満)、実用レベルである。
△:リップルの振幅が大きく(2以上)、実用レベルでない。
1. Interference unevenness The interference unevenness of the
◯: The amplitude of ripple is extremely small (less than 2), which is a practical level.
Δ: Ripple amplitude is large (2 or more) and not at a practical level.
なお、リップルの振幅の算出式は以下の通りである。 The formula for calculating the amplitude of the ripple is as follows.
リップルの振幅 = |最大値−反射Y値|+|反射Y値−最小値|
最大値 = 反射スペクトル(450nm〜650nm)の最大値
最小値 = 反射スペクトル(450nm〜650nm)の最小値
Amplitude of ripple = | maximum value-reflected Y value |+| reflected Y value-minimum value |
Maximum value = maximum value of reflection spectrum (450 nm to 650 nm) Minimum value = minimum value of reflection spectrum (450 nm to 650 nm)
2.透明基材の厚み、屈折率およびリタデーション
透明基材2の厚みを、ダイヤルゲージで測定することにより、求めた。
2. Thickness of transparent substrate, refractive index and retardation The thickness of the
透明基材2の屈折率を、U4100(日立ハイテクノロジーズ社製)により得られた反射スペクトルから、求めた。
The refractive index of the
また、透明基材2(プライマー層3を積層する前の透明基材2)のリタデーションを、AXO SCAN(AXOMETRIC社製)を用いて求めた。
Moreover, the retardation of the transparent substrate 2 (the
なお、上記した各測定では、プライマー層3を積層していない透明基材2のみを、工程(2)の条件の一軸延伸した、異方性(複屈折性)を有する透明基材2を用いた。
In each measurement described above, only the
3.プライマー層の厚みおよび屈折率
プライマー層3の厚みおよび屈折率を、積層基材8(ハードコート層4がまだ配置される前の積層基材8)におけるプライマー層3を、U4100(日立ハイテクノロジーズ社製)により得られた反射スペクトルから、求めた。
3. Thickness and Refractive Index of Primer Layer The thickness and the refractive index of the
4.ハードコート層の厚みの評価
ハードコート層4の厚みを、MCPD2000(大塚電子(株)製)により、測定した。
4. Evaluation of Thickness of Hard Coat Layer The thickness of the hard coat layer 4 was measured by MCPD2000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
1 ハードコートフィルム
2 透明基材
3 プライマー層
4 ハードコート層
5 光学調整層
6 透明導電層
7 透明導電性フィルム
8 積層基材
sx 透明基材の遅相軸方向
sy 透明基材の進相軸方向
mx プライマー層の遅相軸方向
my プライマー層の進相軸方向
nsx 透明基材の遅相軸方向の屈折率
nsy 透明基材の進相軸方向の屈折率
nmx 中間層の遅相軸方向の屈折率
nmy 中間層の進相軸方向の屈折率
nh ハードコート層の屈折率
Tm プライマー層の厚み
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記透明基材は、8000nm以上のリタデーションを有し、
前記透明基材の遅相軸方向の屈折率nsxから、進相軸方向の屈折率nsyを差し引いた値(nsx−nsy)が、0.24以上、0.50未満であり、
前記中間層の遅相軸方向と、前記透明基材の遅相軸方向とは、実質的に同一方向であり、
前記中間層の進相軸方向と、前記透明基材の進相軸方向とは、実質的に同一方向であり、
さらに、下記式[1]および[2]を満足することを特徴とする、ハードコートフィルム。
nsx>nmx [1]
nsy>nmy>nh [2]
(式中、nsxは、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率を示し、nmxは、前記中間層の遅相軸方向の屈折率を示す。nsyは、前記透明基材の進相軸方向の屈折率を示し、nmyは、前記中間層の進相軸方向の屈折率を示す。nhは、前記ハードコート層の屈折率を示す。) A transparent base material having birefringence, an intermediate layer having birefringence, and a hard coat layer are sequentially provided,
The transparent substrate has a retardation of 8000 nm or more,
A value (nsx-nsy) obtained by subtracting the refractive index nsy in the fast axis direction from the refractive index nsx in the slow axis direction of the transparent substrate is 0.24 or more and less than 0.50,
The slow axis direction of the intermediate layer and the slow axis direction of the transparent substrate are substantially the same direction,
The fast axis direction of the intermediate layer and the fast axis direction of the transparent substrate are substantially the same direction,
Furthermore, a hard coat film characterized by satisfying the following formulas [1] and [2].
nsx>nmx [1]
nsy>nmy>nh [2]
(In the formula, nsx represents the refractive index in the slow axis direction of the transparent substrate, nmx represents the refractive index in the slow axis direction of the intermediate layer, and nsy represents the fast axis of the transparent substrate. Direction, the refractive index in the fast axis direction of the intermediate layer is indicated by nmy, and the refractive index of the hard coat layer is indicated by nh.)
前記中間層は、10nm以上の厚みを有することを特徴とする、請求項1または2に記載のハードコートフィルム。 The intermediate layer is a primer layer,
The hard coat film according to claim 1, wherein the intermediate layer has a thickness of 10 nm or more.
前記積層基材を、下記の条件Aを満足するように、延伸する工程(2)、および、
ハードコート層を、前記積層基材における前記中間層の厚み方向一方面に、下記の条件Bを満足するように、配置する工程(3)
を順次備えることを特徴とする、ハードコートフィルム製造方法。
条件A:延伸後の前記透明基材は、8000nm以上のリタデーションを有し、かつ、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率nsxから、進相軸方向の屈折率nsyを差し引いた値(nsx−nsy)が、0.24以上、0.50未満である。
条件B:前記ハードコート層の屈折率nhが、延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率nmyに比べて、小さい。 A step (1) of disposing an isotropic intermediate layer on one side in the thickness direction of an isotropic transparent substrate to prepare a laminated substrate including the transparent substrate and the intermediate layer;
A step (2) of stretching the laminated base material so as to satisfy the following condition A, and
Step (3) of disposing a hard coat layer on one surface of the laminated base material in the thickness direction of the intermediate layer so as to satisfy the following condition B.
A method for producing a hard coat film, characterized by comprising:
Condition A: The transparent substrate after stretching has a retardation of 8000 nm or more, and a value obtained by subtracting the refractive index nsy in the fast axis direction from the refractive index nsx in the slow axis direction of the transparent substrate ( nsx-nsy) is 0.24 or more, Ru der less than 0.50.
Condition B: The refractive index nh of the hard coat layer is smaller than the refractive index nmy of the intermediate layer after stretching in the fast axis direction.
条件C:延伸後の前記中間層の遅相軸方向の屈折率nmxが、延伸後の前記透明基材の遅相軸方向の屈折率nsxに比べて、小さい。
条件D:延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率nmyが、延伸後の前記透明基材
の進相軸方向の屈折率nsyに比べて、小さい。 The method for producing a hard coat film according to claim 5 or 6, wherein in the step (2), both of the following conditions C and D are satisfied.
Condition C: The refractive index nmx in the slow axis direction of the intermediate layer after stretching is smaller than the refractive index nsx in the slow axis direction of the transparent substrate after stretching.
Condition D: The refractive index nmy in the fast axis direction of the intermediate layer after stretching is smaller than the refractive index nsy in the fast axis direction of the transparent substrate after stretching.
In the said process (2), the said laminated base material is uniaxially stretched, The hard coat film manufacturing method as described in any one of Claims 5-7 characterized by the above-mentioned.
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