KR101926508B1 - 폴리에스테르 다층필름 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폴리에스테르 다층필름에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 필름 내의 올리고머 및 디에틸렌글리콜의 함량을 감소시켜 저올리고머 특성을 갖게 함으로써, 가열시 올리고머가 마이그레이션(migration)되는 것을 방지하고, 헤이즈의 변화율이 적으면서도 투명성 및 우수한 표면 평활성을 갖는 광학용 필름을 제조하기 위한 폴리에스테르 다층필름에 관한 것이다.

Description

폴리에스테르 다층필름{POLYESTER MULTI LAYER FILM}
본 발명은 폴리에스테르 다층필름에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 필름 내의 올리고머 및 디에틸렌글리콜의 함량을 감소시켜 저올리고머 특성을 갖게 함으로써, 가열시 올리고머가 마이그레이션(migration)되는 것을 방지하고, 헤이즈의 변화율이 적으면서도 투명성 및 우수한 표면 평활성을 갖는 광학용 필름을 제조하기 위한 폴리에스테르 다층필름에 관한 것이다.
광학필름은 디스플레이용 광학부재로 사용되는 필름으로 LCD BLU의 광학 소재로 사용되거나, LCD, PDP, 터치 패널(Touch Panel) 등 각종 Display의 표면 보호용 광학 부재로 사용되고 있다. 이러한 광학필름은 우수한 투명성과 시인성이 요구되며, 기계적 특성 및 전기적 특성이 우수한 2축 연신 폴리에스테르 필름을 기재 필름으로 사용한다.
터치스크린이나 디스플레이 백라이트유닛(BLU)은 UV 경화방식이나 열경화방식의 건조법을 사용하는데 이러한 후가공 공정에서 프리즘 코팅, 확산 코팅 또는 하드코팅 후 경화 공정에서 80 ~ 130℃의 고온을 가하게 됨에 따라, 이 공정에서 폴리에스테르 필름의 내부에서 올리고머가 마이그레이션(migration) 되어 프리즘 코팅, 확산 코팅 또는 하드코팅 반대면에 표면이 하얗게 변하는 백화현상이 발생한다.
이러한 폴리에스테르 필름의 올리고머가 마이그레이션(migration) 되는 것을 방지하기 위해서 폴리에스테르 필름 중합 시 올리고머 함량을 낮추기 위한 시도가 되고 있으나, 완벽하게 올리고머를 차단하기에는 부족하였다.
이러한 문제를 해결하기 위하여 폴리에스테르 필름을 고온 숙성시켜 사용하거나, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 또는 폴리이미드(PI)와 같은 고내열성고분자를 사용하기도 하였다. 그러나, 폴리에스테르 필름을 고온숙성시켜서 사용할 경우 필름의 제작 수율이 충분하지 않고, 수분 등에 의한 변형이 일어나는 문제가 발생하였으며, 고내열성 고분자를 사용할 경우 내열성은 상당히 우수하고, 올리고머 마이그레이션은 없었으나, 폴리에스테르 대비 제조원가가 상당히 비싸고, 후가공하기 어려운 문제가 있었다.
또한, 폴리에스테르 필름 상에 적층막을 형성하여 올리고머의 유출을 제어하고자 하는 특허로 (특허문헌 1)일본공개특허 제2007-253511호(2007.10.04)에는 적어도 편면에 적층막을 가지는 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 이 필름을 150℃로 60분간 가열한 때에 적층막에 석출되는 올리고머 입자의 평균 사이즈가 면적 환산으로 10㎛2이하, 개수가 100㎛×100㎛ 시야 내에서 100개 이하인 적층 폴리에스테르 필름이 기재되어 있다. 이 발명은 올리고머의 유출을 제어하고자 하는 것이나 완전히 차단을 하지는 못하였다.
일본공개특허 제2007-253511호(2007.10.04)
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 폴리에스테르 수지로 이루어진 기재층의 일면 또는 양면에 전체 필름 중량에 대하여 올리고머 함량이 0.3 내지 0.6중량%이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.1 내지 1.2중량%인 스킨층이 적어도 2층이상이 공압출되어 형성됨으로써, 올리고머 마이그레이션을 현저히 감소시키고 헤이즈 변화율이 낮아지고, 높은 투과율을 갖는 폴리에스테르 다층필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 폴리에스테르 스킨층에 평균입경이 0.1 내지 1.0㎛인 무기입자를 10 내지 100ppm 포함함으로써 표면조도(Ra)가 0.1 내지 10nm 범위로 형성되어 필름 제조시 슬립성 및 권취성이 향상된 폴리에스테르 다층필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 터치패널 또는 프리즘시트에 포함되는 광학필름 용도로 사용될 수 있는 폴리에스테르 다층필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 폴리에스테르수지로 이루어진 기재층; 상기 기재층의 일면 또는 양면에 적어도 2층 이상이 공압출된 스킨층;을 포함하는 3층 이상의 폴리에스테르 다층필름으로써, 상기 스킨층은 전체 필름중량에 대하여 올리고머 함량이 0.3 내지 0.6중량%이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.1 내지 1.2중량%인 폴리에스테르를 포함하며, 상기 다층필름의 표면조도(Ra)는 0.1 내지 10nm인 폴리에스테르 다층필름에 관한 것이다.
상기 폴리에스테르 다층필름은 식 1로 표현되는 추세선의 기울기(a)값이 0.2 내지 0.8인 것이 바람직하다.
y = ax + b [식 1]
(상기 식 1은 폴리에스테르 다층필름의 초기 헤이즈값과 150℃에서 시간에 따른 열처리 후의 헤이즈값에 대한 추세선식으로, a는 추세선의 기울기이며, b는 추세선의 y절편이고, x축은 시간, y축은 헤이즈값이다.)
상기 폴리에스테르 다층필름의 초기 헤이즈값은 0.1 내지 1.5%이며, 결점개수는 1 내지 6 개/㎡ 이며, 기재층의 고유점도가 0.5 내지 1.0이며, 스킨층의 고유점도가 0.6 내지 1.0이고, 식 2를 만족하는 것이 바람직하다.
1 ＜ Ns/Nc ≤ 1.1 [식 2]
(상기 식 2에서 Ns는 스킨층의 고유점도이고, Nc는 기재층의 고유점도이다.)
상기 폴리에스테르 다층필름의 두께는 50 내지 250㎛이며, 기재층의 함량이 전체필름의 70 내지 90중량%이고, 스킨층의 함량이 10 내지 30중량%일 수 있고, 상기 스킨층은 평균입경이 0.1 내지 1.0㎛인 무기입자를 100ppm 미만으로 포함할 수 있다.
또한, 상기 폴리에스테르 다층필름은 터치패널 또는 프리즘시트에 포함되는 광학필름 용도로 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 폴리에스테르 필름은 터치패널 또는 프리즘 시트에 포함되는 광학필름으로 사용하기에 적합한 투과율 등의 우수한 광학물성을 가지며, 상기 스킨층은 전체 필름중량에 대하여 올리고머 함량이 0.3 내지 0.6중량%이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.1 내지 1.2중량%이 되도록 형성함으로써, 고온 조건에서 필름 표면에서의 올리고머 마이그레이션을 방지하고, 헤이즈 변화율을 현저히 감소시킬 수 있다.
또한, 폴리에스테르 다층필름의 스킨층에 평균입경이 0.1 내지 1.0㎛인 무기입자를 100ppm 미만으로 포함함으로써 표면조도(Ra)가 0.1 내지 10nm 범위로 형성되어 필름 제조시 슬립성 및 권취성이 향상될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 폴리에스테르 필름을 단면을 나타낸 것이다.
이하, 본 발명의 폴리에스테르 다층필름에 대하여 바람직한 실시형태 및 물성측정 방법을 상세히 설명한다. 본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이고, 첨부된 특허 청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 폴리에스테르수지로 이루어진 기재층; 상기 기재층의 일면 또는 양면에 적어도 2층 이상이 공압출된 스킨층;을 포함하는 3층 이상의 폴리에스테르 다층필름으로써, 상기 스킨층은 전체 필름중량에 대하여 올리고머 함량이 0.3 내지 0.6중량%이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.1 내지 1.2중량%인 폴리에스테르를 포함한다.
상기 폴리에스테르 다층필름의 두께는 50 내지 250㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 내지 220㎛인 것이 효과적이다. 두께가 50㎛ 미만일 경우에는 광학필름에 적합한 기계적 물성이 구현되지 않으며, 250㎛ 초과일 경우에는 필름의 두께가 너무 두꺼워져서 디스플레이 장치의 박형화에 적합하지 않은 문제가 발생할 수 있다.
또한, 기재층의 함량이 전체필름의 70 내지 90중량%이고, 스킨층의 함량이 10 내지 30중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 기재층의 함량이 70 내지 80 중량%이며, 스킨층의 함량이 20 내지 30중량%인 것이 공압출시 계면안정화가 우수하고 올리고머의 차단성이 우수하므로 효과적이다.
상기 폴리에스테르 수지로 이루어진 기재층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지 단독으로 이루어지는 것이 바람직하다. 이때 사용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지는 고유점도가 0.5 내지 1.0인 것을 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.60 내지 0.80인 것이 효과적이다. 기재층 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지의 고유점도가 0.5 미만일 경우에는 내열성이 감소될 수 있으며, 1.0초과일 경우에는 원료 가공이 용이하지 않아 작업성이 감소할 수 있다.
상기 폴리에스테르 기재층의 일면 또는 양면에 적어도 2층 이상 공압출되어 형성되는 스킨층은 전체 필름 중량에 대하여 올리고머 함량이 0.3 내지 0.6중량%이고, 디에틸렌글리콜(DEG)의 함량은 0.1 내지 1.2중량%인 것이 바람직하다.
본 발명에서 올리고머란 가열시 마이그레이션되어 표면으로 용출되어 백탁현상을 일으키는 저분자 화합물로서 분자량이 210 내지 7000이며, 폴리에스테르 중합시 중합도가 낮게 형성된 생성물로서 linear type, dimer, trimer, 고리형 타입의 화합물을 의미한다. 특히 trimer와 고리형 타입의 화합물이 백탁현상을 많이 일으킨다고 알려져 있다.
스킨층의 폴리에스테르 수지의 올리고머 및 디에틸렌글리콜의 함량이 상기 범위 초과일 경우에는 초기 필름의 헤이즈값이 상승하고, 열처리 가공했을 때 헤이즈 변화율이 급격이 높아짐으로써, 광학필름으로 적용 가능한 광학특성을 달성할 수 없는 문제가 발생한다.
또한, 스킨층의 폴리에스테르 수지가 상기 범위의 올리고머 및 디에틸렌글리콜의 함량을 갖기 위해서 당해 기술분 야에서 자명한 합성방법으로 제조할 수 있으나, 특히, 고상중합으로 제조되는 것이 올리고머 및 디에틸렌글리콜의 함량을 줄이는데 효과적이다.
또한 스킨층의 폴리에스테르 수지의 고유점도는 0.6 내지 1.0인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.65 내지 0.85인 것이 효과적이다. 스킨층 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지의 고유점도가 0.6 미만일 경우에는 내열성이 감소될 수 있으며, 1.0초과일 경우에는 원료 가공이 용이하지 않아 작업성이 감소할 수 있다.
상기 기재층과 스킨층을 공압출시킬 때 작업성을 향상시키기 위하여 하기 식 2를 만족하는 것이 바람직하다.
1 ＜ Ns/Nc ≤ 1.1 [식 2]
(상기 식 2에서 Ns는 스킨층의 고유점도이고, Nc는 기재층의 고유점도이다.)
스킨층과 기재층의 고유점도 비율이 1.1 초과일 경우에는 공압출시 계면불안정의 문제가 발생하여 다층구조를 형성하지 못할 수 있으므로, 상기 범위를 만족하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.0 내지 1.05인 것이 작업성 향상에 효과적이다.
또한, 스킨층을 형성하는 폴리에스테르 수지에는 평균입경이 0.1 내지 1.0㎛인 무기입자를 100ppm 미만으로 포함하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 10 내지 100ppm 포함하는 것이 효과적이다. 무기입자의 종류로는 당해 기술분야에 자명하게 사용되는 무기입자면 제한되지 않으며, 예를 들면, 실리카, 제올라이트, 카올린 등이 사용될 수 있다. 이러한 무기입자를 첨가함으로써 본 발명의 폴리에스테르 다층필름은 표면조도(Ra)가 0.1 내지 10nm로 형성됨으로써 필름 제조공정시 슬립성 및 권취성을 향상시킬 수 있어 바람직하다.
무기입자의 평균입경이 0.1㎛ 미만이거나, 함량이 10ppm미만일 경우에는 충분한 표면조도 형성이 어려워 필름 제조시 필름간의 블로킹현상이 발생할 수 있으며, 무기입자의 평균입경이 1.0㎛초과일 경우에는 함량이 100ppm 미만으로 함유되더라도 필름의 투명성이 저하되고, 표면조도(Ra)가 10nm 이상으로 표면평활성이 감소되어 광학용 특히 터치패널용으로 적합하지 않다. 또한, 무기입자가 100ppm 초과일 경우에도 필름의 투명성이 감소되어 광학용으로 적합하지 않은 문제가 발생할 수 있다.
이러한 스킨층과 기재층을 갖는 폴리에스테르 다층필름은 식 1로 표현되는 추세선의 기울기(a)값이 0.2 내지 0.8인 것이 바람직하다.
y = ax + b [식 1]
(상기 식 1은 폴리에스테르 다층필름의 초기 헤이즈값과 150℃에서 시간에 따른 열처리 후의 헤이즈값에 대한 추세선식으로, a는 추세선의 기울기이며, b는 추세선의 y절편이고, x축은 시간, y축은 헤이즈값이다.)
추세선의 기울기값이 0.8을 초과할 경우에는 시간에 따라서 헤이즈의 변화율이 급격하게 상승하는 것으로, 고온에서 열처리하는 시간이 길어질수록 수지 내에 존재하는 올리고머가 표면으로 마이그레이션되어 투명성을 감소시키는 것을 의미한다. 따라서, 시간에 따른 헤이즈값의 추세선의 기울기가 상기 범위 안에 존재함으로써 광학필름에 적합한 광학특성을 구현할 수 있다.
또한, 상술한 스킨층과 기재층을 갖는 폴리에스테르 다층필름의 초기 헤이즈값은 0.1 내지 1.5%이며, 표면 결점 개수는 1 내지 6개/㎡인 것이 바람직하다. 초기 헤이즈값이 1.5% 초과일 경우에는 고온 열처리 공정을 거침에 따라 헤이즈값이 더욱 상승하게 되어 필름의 투명도가 감소하여 터치패널 등의 광학용으로 적합하지 않다. 또한, 표면결점의 개수도 ㎡당 6개를 초과할 경우, 결점으로 인하여 투명도가 감소하고, 굴절율 등이 변화하여 균일한 광학특성을 구현할 수 없으므로 터치패널 적용에 적합하지 않다.
본 발명의 기재층과 스킨층을 포함하는 폴리에스테르 다층필름의 제조는 제한되지 않지만 적어도 두 개 이상의 용융압출기에서 압출 용융 후 캐스팅하고, 이축연신에 의하여 얻어질 수 있다. 보다 구체적으로 설명하면, 한 압출기에서 폴리에스테르를 압출시키고, 또 다른 압출기에서 폴리에스테르와 실리카나 카올린, 제올라이트와 같은 무기입자 등의 첨가제를 동시에 용융 압출시킨 후 각각의 용융물이 피드블럭에서 만나 공압출되고 캐스팅하고, 냉각한 다음 순차적으로 이축연신한다. 먼제 세로방향(MD)으로 연신시킨 후 가로방향(TD)으로 연신시켜 권취하게 된다. 이렇게 제조된 본 발명의 기재층과 스킨층으로 구성되는 폴리에스테르 다층필름은 터치패널 또는 프리즘시트 등에 포함되는 광학필름으로 적합하게 사용될 수 있다.
이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 살펴보기로 한다.
물성측정
1. 고유점도
페놀과 1,1,2,2-테트라클로로 에탄올을 6:4의 무게비로 혼합한 시약 100ml에 PET 펠렛(샘플) 0.4g을 넣고 90분간 용해시킨 후, 우베로데 점도계에 옮겨 담아 30℃ 항온조에서 10분간 유지시키고, 점도계와 흡인 장치(aspirator)를 이용하여 용액의 낙하 초수를 구했다. 용매의 낙하 초수도 동일한 방법으로 구한 다음, 하기 수학식 1 및 2에 의해 R.V 값 및 I.V값을 계산하였다.
하기 수학식에서 C는 시료의 농도를 나타낸다.
[수학식 1]
Figure 112012079288304-pat00001
[수학식 2]
Figure 112012079288304-pat00002

2. 필름 내 올리고머 함량
올리고머 정량적인 방법으로 시료용매인 HFIP(1,1,1,3,3,3-헥사플루오르-2-프로판올)에 클로로포름을 첨가하여 실온에서 용해를 한 후 아세토니트릴을 폴리머로 석출한다. 그런 후 LC분석장비를 이용하여 표준물질(고리형 올리고머)의 검량선을 작성한 후, 시료분석을 통해 고리형 올리고머 순도 결정을 하게 된다. 분석장비는 LC(liquid chromatography)와 Agilent사 1100series를 이용하였다.
3. 필름 내 올리고머 표면 마이그레이션 측정
필름을 상부가 열려있는 높이 3cm, 가로 21cm,세로 27cm인 상자에 넣고 150℃*10,20,30min 열처리하여 올리고머를 필름표면으로 migration시킨 후 5min간 방치하여 시간별로 Haze값을 JIS K 715 규격에 따라 HAZE METER (Nipon denshoku, Model NDH 5000)를 이용하여 측정하였다.
4. 표면조도 (Ra)
3차원 비접촉 표면조도측정기(NT 2000, WYCO사)를 이용하여 Ra (중심선 평균거칠기)를 측정하였다.
5. 투명도
상기의 방식으로 제막된 필름의 시편을 HAZE METER(모델명: Nipon denshoku, Model NDH 5000)를 이용하여 측정하였다.
6. 결정크기 측정
X-ray 회절분석기를 이용하여 반사법으로 -110면의 결정size를 측정하였다.
7. DEG(Diethylene glycol) 함량
디에틸렌글리콜(DEG, Diethylene Glycol)의 함량은 시료 1 g을 50 mL 용기에 넣은 후, 모노에탄올아민 3 mL를 가하고 핫 플레이트를 이용하여 가열하여 시료를 완전히 용해시킨 다음, 100 ℃로 냉각시켜 1,6-헥산디올 0.005g을 메탄올 20 mL에 용해시킨 용액을 가하고, 테레프탈산 10 g을 가하여 중화시켰다. 얻어진 중화액을 깔대기 및 여과지를 사용하여 여과한 후 여액을 기체 크로마토그래피(Gas Chromatography)하여 DEG 함량(중량%)을 측정하였다. GC 분석은 시마주(Shimadzu) GC 분석기를 사용하고 시마주 GC 매뉴얼에 따라 측정하였다.
8. 결점 측정
상기의 방식으로 제작된 필름을 폭 X 길이 = 1m X 1m로 하여 서치라이트로 육안 검사시 15um이상의 결점 개수를 측정하였다.
[실시예 1]
기재층으로 고유점도가 0.65이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 1.2중량%이고, 올리고머 함량이 1.4중량%인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 압출기에 투입하여 용융압출하였으며, 스킨층에는 고유점도가 0.67이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.8중량%이며, 올리고머 함량이 0.5중량%인 고상중합으로 제조된 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩을 사용하고, 입경이 0.7㎛인 실리카입자를 전체 폴리에틸렌테레프탈레이트 중량 대비 50ppm을 사용하여 공압출 캐스팅한 다음, 각각 세로와 가로방향으로 3.2배씩 순차적으로 연신하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였다. 제조된 폴리에스테르 다층필름은 기재층이 전체 필름중량의 80중량%이고, 스킨층이 전체필름 중량의 20중량%였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[실시예 2-3]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 디에틸렌글리콜의 함량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[실시예 4-5]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 올리고머의 함량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[실시예 6-7]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 중량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[실시예 8-9]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 입자의 함량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[실시예 10]
하기 표 1에 나타난 바와 같이 스킨층에 입자를 함유시키지 않은 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188um의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며 물성을 측정하여 하기 표2에 나타내었다.
[비교예 1]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 기재층으로 고유점도가 0.65이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.8중량%이고, 올리고머 함량이 1.4중량%인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 압출기에 투입하여 용융 압출하였으며, 스킨층의 고유점도가 0.65이고 올리고머 함량이 1.4중량%인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 2]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 올리고머의 함량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 3-4]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 중량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 5]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 입자의 함량을 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 6]
하기 표 1에 나타난 바와 같이, 스킨층의 입자의 크기를 변화시킨 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하여 188㎛의 폴리에스테르 다층필름을 제조하였으며, 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
[표 1]
Figure 112012079288304-pat00003
[표 2]
Figure 112012079288304-pat00004

상기 표 2에서 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 폴리에스테르 다층필름은 표면조도가 10nm이하로 슬립성 및 권취성이 우수하며, 초기 헤이즈값 및 시간에 따른 헤이즈 변화율이 적음으로써, 광학필름으로 우수한 특성을 나타내는 것을 알 수 있었다.
반면, 비교예 1은 스킨층의 올리고머 함량이 많음에 따라, 초기 헤이즈 및 결점 갯수가 증가하는 것을 알 수 있었으며, 비교예 2는 실시예 1과 비교했을 때, 스킨층의 올리고머 함량이 많음에 따라, 헤이즈 변화율이 크게 상승하는 것을 알 수 있으며, 비교예 3 및 4는 스킨층과 기재층의 함량비가 본원발명의 범위에서 벗어날 경우 헤이즈 변화율이 크게 상승하고, 계면 불안정으로 인하여 필름 형성 자체가 어려움을 알 수 있었으며, 비교예 5 및 6에서는 스킨층에 포함되는 무기입자의 함량 및 크기에 따라 표면조도, 초기 헤이즈값 및 결점 갯수에 영향을 미치는 것을 알 수 있었다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 균등물을 사용할 수 있으며, 상기 실시예를 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수 있음이 명확하다. 따라서, 상기 기재 내용은 하기의 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다.
10 : 폴리에스테르 기재층
20 : 폴리에스테르 스킨층

Claims (7)

  1. 폴리에스테르수지로 이루어진 기재층;
    상기 기재층의 일면 또는 양면에 적어도 2층 이상이 공압출된 스킨층;을 포함하는 3층 이상의 폴리에스테르 다층필름으로써,
    상기 스킨층은 전체 필름중량에 대하여 올리고머 함량이 0.3 내지 0.6중량%이고, 디에틸렌글리콜의 함량이 0.1 내지 1.2중량%인 폴리에스테르를 포함하며, 평균입경이 0.1 내지 1.0㎛인 무기입자를 100ppm 미만으로 포함하고,
    상기 폴리에스테르 다층필름의 두께는 50 내지 250㎛이며, 기재층의 함량이 전체필름의 70 내지 90중량%이고, 스킨층의 함량이 10 내지 30중량%이며, 표면조도(Ra)는 0.1 내지 10nm이고, 결점개수가 1 내지 6 개/㎡이며, 하기 식 1로 표현되는 추세선의 기울기(a)값이 0.2 내지 0.8인 폴리에스테르 다층필름.
    y = ax + b [식 1]
    (상기 식 1은 폴리에스테르 다층필름의 초기 헤이즈값과 150℃에서 시간에 따른 열처리 후의 헤이즈값에 대한 추세선식으로, a는 추세선의 기울기이며, b는 추세선의 y절편이고, x축은 시간, y축은 헤이즈값이다.)
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 다층필름의 초기 헤이즈값은 0.1 내지 1.5%인 폴리에스테르 다층필름.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 다층필름은 기재층의 고유점도가 0.5 내지 1.0이며, 스킨층의 고유점도가 0.6 내지 1.0이고, 식 2를 만족하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 다층필름.
    1 ＜ Ns/Nc ≤ 1.1 [식 2]
    (상기 식 2에서 Ns는 스킨층의 고유점도이고, Nc는 기재층의 고유점도이다.)
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1항, 제 3항 및 제 4항 중에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 다층필름은 터치패널 또는 프리즘시트에 포함되는 광학필름인 폴리에스테르 다층필름.
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