KR101888598B1 - 린스장치 - Google Patents

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KR101888598B1
KR101888598B1 KR1020170020232A KR20170020232A KR101888598B1 KR 101888598 B1 KR101888598 B1 KR 101888598B1 KR 1020170020232 A KR1020170020232 A KR 1020170020232A KR 20170020232 A KR20170020232 A KR 20170020232A KR 101888598 B1 KR101888598 B1 KR 101888598B1
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이명우
이우규
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주식회사 싸이노스
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Abstract

린스장치를 개시한다.
이러한 린스장치는, 피처리물의 린스 처리를 위한 린스액이 담겨지는 린스조 본체와, 상기 린스조 본체의 외측에 배치되며 린스 처리된 피처리물의 오염 상태를 간접 측정하기 위한 오염 측정용 용액이 담겨지는 측정조와, 상기 측정조 내측에 오염 측정용 용액을 공급 및 배출할 수 있도록 형성되는 용액 제어부, 그리고 상기 측정조 내측에 상,하 방향으로 이동 가능하게 배치되며 오염 측정용 용액의 오염 상태를 측정하기 위한 측정구를 구비한 오염 측정부를 포함한다.

Description

린스장치{RINSING APPARATUS}
본 발명은 린스장치에 관한 것이다.
반도체 제조 공정의 증착 작업 등에 사용되는 챔버장치 내부의 각종 금속 파츠(예: 샤워헤드)들은 증착 반응 분위기에 의해 표면 오염(예: 막질)이 쉽게 발생될 수 있는 작업 환경에 노출되어 있다.
그러므로, 챔버장치의 작동 안정성을 확보하고, 양질의 작업 품질을 얻기 위해서는 챔버장치내부의 금속 파츠들을 주기적으로 세정 처리하는 것이 바람직하다.
이러한 금속 파츠들의 세정 처리작업은, 대부분 세정용 케미컬이 담겨진 세정조 측에 피처리물을 담궈서 화학 반응에 의한 식각으로 오염원을 제거하고, 린스액이 담겨진 린스조 측에 다시 담궈서 피처리물의 표면으로부터 세정용 케미컬을 제거하는 일련의 공정들을 포함하여 이루어진다.
특히, 화학 반응에 의한 식각 작용으로 오염원을 제거하는 세정용 케미컬이 피처리물 측에 잔존할 경우 지속적인 식각에 의해 피처리물 표면에 심각한 손상을 유발할 수 있으므로, 세정용 케미컬이 원활하게 제거될 수 있는 안정적인 상태로 린스 처리하는 것이 중요하다.
이와 같은 린스 작업에 사용되는 린스조들은 대부분 린스액의 배출 흐름이 오버플로우(Overflow) 방식으로 이루어지는 수조 형태를 갖도록 형성되며, 대표적인 구조로는 "공개특허공보 제10-2016-0026724호에 개시된 린스조."가 있다.
하지만, 상기 공개특허공보 제10-2016-0026724호에 개시된 린스조는, 린스액의 배출 구조를 간소화할 수 있는 구조의 이중(二重) 수조(오버플로우조 및 내조) 형태에 한정되므로, 특히 린스 작업과 연계하여 린스 처리 상태(오염 여부)를 확인 판별하기 어려운 단점이 있다.
그러므로, 린스 처리 작업시 만족할 만한 린스 작업 신뢰도를 기대할 수 없다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서,
본 발명의 목적은, 세정 처리된 피처리물의 린스 작업은 물론이거니와, 특히 린스 처리된 피처리물의 오염 상태를 용이하게 확인할 수 있는 린스장치를 제공하는데 있다.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여,
피처리물의 린스 처리를 위한 린스액이 담겨지는 린스조 본체;
상기 린스조 본체의 외측에 배치되며, 린스 처리된 피처리물의 오염 상태를 간접 측정하기 위한 오염 측정용 용액이 담겨지는 측정조;
상기 측정조 내측에 오염 측정용 용액을 공급 및 배출할 수 있도록 형성되는 용액 제어부;
상기 측정조 내측에 상,하 방향으로 이동 가능하게 배치되며, 오염 측정용 용액의 오염 상태를 측정하기 위한 측정구를 구비한 오염 측정부;
를 포함하는 린스장치를 제공한다.
이와 같은 본 발명은, 피처리물의 린스 작업은 물론이거니와, 특히 린스 처리된 피처리물의 오염도를 신속하고 간편하게 측정 확인할 수 있는 구조를 제공하므로, 피처리물의 린스 처리시 한층 향상된 작업 신뢰도를 확보할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 린스장치의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2 내지 도 8은 본 발명의 일실시 예에 따른 린스장치의 세부 구조 및 작용을 설명하기 위한 도면들이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명한다.
본 발명의 실시 예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자들이 본 발명의 실시가 가능한 범위 내에서 설명된다.
따라서, 본 발명의 실시 예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있는 것이므로, 본 발명의 청구범위는 아래에서 설명하는 실시 예들에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 린스장치의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2 내지 도 8은 세부 구조 및 작용을 설명하기 위한 도면들로서, 도 1 내지 도 8을 참조하면, 일실시 예에 따른 린스장치는, 린스조 본체(2)와, 측정조(4), 그리고 이 측정조(4) 측에 제공되는 용액 제어부(6)와, 오염 측정부(8)를 포함한다.
린스조 본체(2)는 도 1에서와 같이 피처리물(M)의 린스 처리를 위한 린스액(W1)이 담겨지는 린스공간(A)을 내측에 구비한 수조 형태로 제공될 수 있다.
린스조 본체(2)는 도면에는 나타내지 않았지만, 세정용 케미컬의 화학 작용(식각)으로 세정 처리된 피처리물(M)을 전달받아서 린스 처리할 수 있는 상태로 셋팅될 수 있다.
피처리물(M)은 반도체 제조공정에 사용하는 챔버장치 내부를 구성하는 각종 금속 파츠(예: 샤워헤드)이며, 린스액(W1)은 물(예: D.I 워터)을 사용할 수 있다.
측정조(4)는 도 1에서와 같이 오염 측정용 용액(W2)이 담겨지는 측정공간(B)을 구비하고, 린스조 본체(2) 외측에 배치되는 상태로 형성될 수 있다.
린스조 본체(2)와 측정조(4)는 서로 일체형의 수조 구조, 또는 비(非) 일체형의 수조 구조로 제공될 수 있다.
한편, 용액 제어부(6) 및 오염 측정부(8)는 린스조 본체(2) 측에서 린스 처리된 피처리물(M)의 오염 상태를 측정조(4) 측에서 간접 측정할 수 있는 구조를 제공할 수 있도록 형성된다.
용액 제어부(6)는 측정조(4)의 측정공간(B)에 피처리물(M)의 오염 간접 측정을 위한 오염 측정용 용액(W2)을 공급 및 배출할 수 있도록 형성된다.
용액 제어부(6)는 도 2에서와 같이 공급관(C1)과, 배출관(C2)을 구비하고, 측정조(4)의 둘레부 측에서 측정공간(B)을 사이에 두고 도면에서와 같이 서로 직렬의 관로 방향을 이루는 상태로 연결 형성된다.
용액 제어부(6)는 도면에는 나타내지 않았지만 유체 펌프와 같은 펌핑장치의 조작에 의해 공급관(C1)을 통해서 측정조(4)의 측정공간(B)으로 오염 측정용 용액(W2)이 공급되고, 배출관(C2)을 통해서 배출되도록 셋팅될 수 있다.
그리고, 측정조(4) 측에는 공급관(C1)과 배출관(C2)의 관로를 각각 선택적으로 개폐할 수 있도록 밸브(C3)들이 설치된다.
오염 측정용 용액(W2)은 물(예: D.I 워터)을 사용할 수 있으며, 공급관(C1)을 통해서 측정조(4) 내측으로 공급될 때 피처리물(M)의 일부분, 또는 전체가 잠길 수 있는 정도의 수위 유지가 가능한 상태로만 공급되는 것이 바람직하다. 그러면, 용액(W2)의 사용량을 줄일 수 있고, 공급 및 배출에 소요되는 시간도 줄일 수 있다.
오염 측정부(8)는 측정조(4)의 측정공간(B)의 오염 측정용 용액(W2)에 피처리물(M)이 담겨진 상태에서 용액(W2)의 오염도를 측정하는 방식으로 피처리물(M)의 오염 상태를 간접적으로 측정할 수 있도록 형성된다.
오염 측정부(8)는 도 2에서와 같이 측정구(D)를 구비하고, 이 측정구(D)는 특히 측정조(4)의 오염 측정용 용액(W2)의 산성도를 측정 확인할 수 있도록 형성된다.
즉, 측정구(D)는 pH(수소이온농도) 지수를 측정할 수 있는 pH 측정기를 사용할 수 있으며, 프로브(Probe) 형태를 가지며 오염 측정용 용액(W2) 중에 담겨질 수 있는 상태로 측정조(4)의 내측에 배치된다.
측정구(D)는 오염 측정용 용액(W2)의 산성도 측정값이 디스플레이장치(D1)를 통해서 육안으로 확인 가능하게 표시되도록 셋팅될 수 있다.
그리고, 오염 측정부(8)는 측정구(D)의 측정 위치가 조절될 수 있도록 하는 위치 조절기(E)를 더 구비하여 이루어질 수 있다.
특히, 위치 조절기(E)는 측정조(4) 내측에 공급되는 오염 측정용 용액(W2)의 수위(水位)에 따라 이와 부합하는 상태로 측정구(D)의 측정 위치가 변화될 수 있는 구조를 제공할 수 있도록 형성된다.
위치 조절기(E)는 도 3에서와 같이 측정조(4) 내측에 배치되는 레일(E1)과, 이 레일(E1)의 레일구간을 따라 부력(浮力)으로 측정구(D)를 이동시키기 위한 부구(E2, 浮具)를 구비하여 이루어진다.
레일(E1)은 측정조(4)의 측정공간(B) 내측 벽면 측에 세워진 상태로 배치되어 상,하 방향으로 측정 위치 조절이 이루어질 수 있는 레일구간을 제공할 수 있도록 셋팅된다.
부구(E2)는 레일(E1)의 레일구간을 따라 이동 가능한 상태로 측정구(D)를 잡아줄 수 있도록 셋팅되며, 수면 상에 위치될 때 부력(浮力)에 의해 물에 뜰 수 있는 구조를 갖도록 형성된다.
이러한 위치 조절기(E)는 도 4에서와 같이 측정조(4)의 측정공간(B)에 담겨진 오염 측정용 용액(W2)의 수위에 따라 이와 부합하는 상태로 부구(E2)가 움직이면서 적정 측정 지점에 측정구(D)가 위치되도록 할 수 있다.
특히, 위치 조절기(E)는 일체의 구동장치(예: 모터, 실린더)를 사용하지 않고 부력에 의한 작동 구조로 제공되므로, 구조가 간단하면서 신속하고 정확하게 측정 위치의 조절이 이루어질 수 있는 위치 조절 구조를 제공할 수 있다.
그러므로, 오염 측정부(8)는 린스조 본체(2) 측에서 린스 처리된 피처리물(M)이 측정조(4) 측으로 옮겨져서 측정공간(B)의 오염 측정용 용액(W2) 중에 담겨진 상태로 배치될 때, 용액(W2)의 오염도(산성도)를 측정하는 간접 측정방식으로 피처리물(M)의 린스 처리 후의 오염 상태를 용이하게 확인할 수 있다.
즉, 이러한 오염 측정방식에 의하면, 예를 들어 세정용 케미컬로 세정 처리된 피처리물(M)을 린스 처리한 상태로 측정조(4)의 오염 측정용 용액(W2) 중에 담글 때 피처리물(M) 측에 세정용 케미컬이 잔존할 경우 오염 측정용 용액(W2) 중에 섞이게 되므로, 측정구(D)로 용액(W2)의 오염도(산성도)를 측정하여 피처리물(M)의 린스 처리 상태를 간접적으로 용이하게 확인할 수 있다.
본 발명의 일실시 예에 따른 린스장치는, 도 5 내지 도 8에서와 같이 측정조(4) 내부의 오염 억제를 위한 오염 억제부(10)를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
오염 억제부(10)는 특히 측정조(4) 내부면 중에서 바닥면을 이루는 상태로 배치되어 배수력을 높이면서 바닥면이 침전물에 의해 오염되는 것을 억제할 수 있는 구조를 갖도록 형성된다.
오염 억제부(10)는 도 5에서와 같이, 낙수홀(F1)들이 형성된 제1 바닥판(F)과, 이 제1 바닥판(F) 측과 서로 마주하는 상태로 배치되며 낙수돌기(G1)들이 형성된 제2 바닥판(G)과, 이 두 개의 바닥판(F, G)들이 서로 마주하는 상태로 간격이 좁혀지거나 벌어지도록 작동시키기 위한 구동원(H)을 구비하여 이루어진다.
제1 바닥판(F)은 측정조(4)의 측정공간(B) 바닥면을 이루는 상태로 배치되며, 둘레 안쪽에는 복수 개의 낙수홀(F1)들이 서로 간격을 띄우고 관통 형성된다.
제1 바닥판(F)은 측정조(4)의 측정공간(B) 바닥면을 이루는 상태로 배치될 때 둘레부 측의 접촉 틈새는 시일 유지가 가능하게 형성된다.
그리고, 낙수홀(F1)들 간의 간격은 제1 바닥판(F)의 변형(휨)이 억제될 수 있는 범위 내에서 최대한 짧게 형성되는 것이 바람직하다. 그러면 제1 바닥판(F)의 면적을 줄여서 표면 오염 억제와 부합하는 판재 형태를 이룰 수 있다.
제2 바닥판(G)은 제1 바닥판(F)의 낙수홀(F1)들과 각각 대응하는 지점에 낙수돌기(G1)들이 돌출 형성되고, 제1 바닥판(F) 하측에서 이 제1 바닥판(F)과 서로 마주하는 상태로 배치된다.
제2 바닥판(G)의 하부 측에는 집수공간(G2)이 형성되고, 낙수돌기(G1)들 사이사이에는 배수홀(G3)들이 형성된다. 그리고, 이 배수홀(G3)들을 통해서 집수공간(G2) 측에 담겨진 오염 측정용 용액(W2)은 플렉시블한 관체(G4)를 통해서 배출관(C2) 측으로 배출되도록 형성된다.
낙수돌기(G1)들은 도 6에서와 같이 제2 바닥판(G)이 제1 바닥판(F) 측과 서로 마주하는 상태로 간격이 좁혀지거나 벌어질 때 낙수홀(F1)들의 홀부 측을 각각 차단하거나 개방할 수 있는 상태로 끼워질 수 있도록 돌출 형성된다.
특히, 낙수돌기(G1)들은 도 6 내지 도 7에서와 같이 돌기부 둘레 중앙부 측에서 가장자리 측을 향하여 아래쪽으로 경사지게 돌출된 반구형(半球形)이거나, 원뿔형(다각뿔)의 돌기 형태로 형성된다.
이와 같은 제1 바닥판(F) 및 제2 바닥판(F)의 구조는, 도 8에서와 같이 측정조(4)에 담겨진 오염 측정용 용액(W2)이 낙수홀(F1)들을 통해서 낙하될 때, 홀부 아래쪽의 낙수돌기(G1)들의 돌기부 외부면을 타격하는 상태로 낙하될 뿐만 아니라, 낙하된 용액(W2)이 인접한 돌기부 측을 향하는 낙수 흐름을 갖도록 안내하여 낙수돌기(G1)들 표면의 침전물(층)이 원활하게 제거되도록 할 수 있다.
그러면, 제1 바닥판(F)과 함께 측정조(4)의 측정공간(B) 바닥면을 이루는 상태로 제2 바닥판(G)이 배치될 때, 낙수돌기(G1)들의 표면이 침전에 의해 오염되는 현상을 최대한 억제할 수 있으므로 측정 환경과 부합하도록 바닥면이 최대한 비(非) 오염된 상태를 안정적으로 유지할 수 있다.
구동원(H)은 예를 들어, 도 5에서와 같이 실린더를 사용할 수 있으며, 피스톤 로드로 제2 바닥판(G)을 상,하 방향으로 움직이면서 제1 바닥판(F)의 낙수홀(F1)들을 차단하거나 개방하는 상태로 작동시킬 수 있도록 셋팅될 수 있다.
구동원(H)은 실린더 구동방식 이외에도 예를 들어, 도면에는 나타내지 않았지만 모터의 회전력을 이용한 구동방식으로 제2 바닥판(G)의 작동이 가능하게 형성될 수도 있다.
오염 억제부(10)는 도 9 내지 도 11에서와 같이 낙수홀(F1)과 대응하는 낙수 가이드구(I)를 더 구비하여 이루어질 수 있다.
낙수 가이드구(I)는 제2 바닥판(G)의 이동 동작과 연계하여 작동되며, 제1 바닥판(F)의 낙수홀(F1)들을 통해서 오염 측정용 용액(W2)이 배출될 때 잔존 용액이 홀부 둘레부 측에 머물지 않고 원활하게 낙하 배출될 수 있는 상태로 유도할 수 있도록 형성된다.
낙수 가이드구(I)는 도 9에서와 같이 일단이 낙수홀(F1)의 홀부 둘레부 측을 향하고 ,타단이 홀부 외측을 향하는 상태로 배치되며, 양측 단부 사이의 지점이 제1 바닥판(F)의 저면 측에 힌지핀(I1)으로 연결 결합된 상태로 셋팅된다.
그리고, 낙수 가이드구(I)는 탄성부재(I2)의 탄성력에 의해 힌지 결합지점을 중심으로 일정 각도로 회전되어 일단 측이 낙수홀(F1)의 홀부 둘레 측에 접촉되고, 타단이 아래쪽을 향하여 경사진 상태를 탄력적으로 유지할 수 있도록 셋팅된다.
즉, 낙수 가이드구(I)는 도 10에서와 같이 제1 바닥판(F)의 낙수홀(F1)들을 차단하도록 제2 바닥판(G)이 위쪽으로 이동된 상태에서는 이 제2 바닥판(G)의 접촉력에 의해 대략 수평한 상태를 유지하고, 도 11에서와 같이 제2 바닥판(G)이 아래쪽으로 이동된 상태에서는 탄성부재(I2)의 탄성력에 의해 경사진 상태가 되면서 일단 측이 낙수홀(F1)의 홀부 둘레부 측과 접촉된 상태가 되도록 전환될 수 있는 구조로 이루어진다.
이러한 낙수 가이드구(I)는 예를 들어, 제2 바닥판(G)이 아래쪽으로 이동되는 동작(홀부 개방)과 연계하여 탄력적으로 경사진 상태로 전환 동작되면서 일단이 낙수홀(F1)의 홀부 둘레부 측과 접촉된 상태를 이룰 수 있으므로, 특히 낙수홀(F1)들을 통해서 용액(W2)이 배출된 후, 도 11에서와 같이 제1 바닥판(F) 상에 잔존하는 용액(W2)이 홀부들 주변에서 유체 점성(粘性)에 의해 낙수 가이드구(I)의 경사구간을 따라 이동되는 상태로 낙하 배출되도록 유도할 수 있다.
그러므로, 낙수 가이드구(I)를 더 구비하면, 측정 작업에 사용된 오염 측정용 용액(W2)의 배출시 측정조(4)의 측정공간(B) 바닥면 즉, 제1 바닥판(F) 상에 잔존하는 용액(W2)을 최대한 줄여서 잔존 용액(W2)에 의한 표면 오염을 최대한 억제할 수 있다.
따라서, 본 발명은 린스조 본체(2) 측에서 피처리물(M)의 린스 작업을 진행할 수 있을 뿐만 아니라, 특히 린스 처리된 피처리물(M)을 측정조(4)의 오염 측정용 용액(W2) 중에 담궈서 이 용액(W2)의 오염도(산성도)를 측정하는 간접 측정 방식으로 피처리물(M)의 린스 처리 상태를 용이하게 확인할 수 있는 구조를 제공함으로서 피처리물(M)의 린스 작업 신뢰도를 한층 더 높일 수 있다.
2: 린스조 본체 4: 측정조 6: 용액 제어부
8: 오염 측정부 10: 오염 억제부 W1: 린스액
W2: 오염 측정용 용액

Claims (9)

  1. 피처리물의 린스 처리를 위한 린스액이 담겨지는 린스조 본체;
    상기 린스조 본체의 외측에 배치되며, 린스 처리된 피처리물의 오염 상태를 간접 측정하기 위한 오염 측정용 용액이 담겨지는 측정조;
    상기 측정조 내측에 오염 측정용 용액을 공급 및 배출할 수 있도록 형성되는 용액 제어부;
    상기 측정조 내측에 상,하 방향으로 이동 가능하게 배치되며, 오염 측정용 용액의 오염 상태를 측정하기 위한 측정구를 구비한 오염 측정부; 및
    상기 측정조 내부에 담겨진 오염 측정용 용액이 낙하되는 상태로 배출되기 위한 낙수홀들이 형성되고 상기 측정조 내부의 바닥면을 이루는 상태로 배치되는 제1 바닥판과, 상기 제1 바닥판의 낙수홀들을 개폐하기 위한 낙수돌기들이 형성되고 상기 제1 바닥판 하측에서 이 제1 바닥판과 서로 마주하는 상태로 배치되는 제2 바닥판과, 상기 제2 바닥판을 상기 제1 바닥판 측을 향하여 상,하 방향으로 움직일 수 있도록 형성되는 구동원을 구비한 오염 억제부;
    를 포함하는 린스장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 용액 제어부는,
    공급관과 배출관을 구비하고, 상기 측정조를 사이에 두고 서로 직렬의 관로 방향을 이루는 상태로 상기 측정조 측에 연결 형성되는 린스장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 오염 측정부는,
    상기 측정조 내측에 담겨진 오염 측정용 용액의 오염도를 측정하기 위한 측정구와,
    상기 측정조 내측에서 측정 위치 조절이 가능하게 상기 측정구를 가이드할 수 있도록 형성되는 위치 조절기를 구비하여 이루어지는 린스장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 위치 조절기는,
    상기 측정조 내측에서 상기 측정구가 상,하 방향으로 이동되기 위한 레일구간을 형성하는 레일과, 이 레일의 레일구간을 따라 부력(浮力)에 의해 움직이면서 오염 측정용 용액의 수위와 대응하는 상태로 상기 측정구의 측정 위치를 이동시키기 위한 부구를 구비하여 이루어지는 린스장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 측정구는,
    오염 측정용 용액의 산성도 측정을 위한 pH 측정기를 사용하는 린스장치.
  6. 삭제
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 제2 바닥판의 낙수돌기들은,
    돌기 둘레부 중앙부가 둘레 외측을 향하여 경사지게 돌출된 돌기 형태를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 린스장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 오염 억제부는, 상기 제1 바닥판의 낙수홀과 대응하는 낙수 가이드구를 더 구비하고,
    상기 낙수 가이드구는,
    상기 제1 바닥판 저면 측에 힌지 결합으로 연결되며 탄성부재의 탄성력에 의해 힌지 결합 지점을 중심으로 회전되면서 일단 측이 상기 제1 바닥판의 낙수홀의 홀부 둘레 측에 접촉되고, 타단 측이 상기 제2 바닥판 측을 향하는 경사진 상태를 탄력적으로 유지할 수 있도록 셋팅되는 것을 특징으로 하는 린스장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 낙수 가이드구는,
    상기 제2 바닥판 측이 상기 제1 바닥판 측을 향하여 상,하 방향으로 움직이는 동작과 연계하여 상기 제2 바닥판 측과 접촉되거나, 접촉 상태가 해제되면서 수평한 상태 또는 경사진 상태로 전환 동작되는 것을 특징으로 하는 린스장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP3364931B2 (ja) * 1991-06-24 2003-01-08 ソニー株式会社 洗浄方法
JP3610296B2 (ja) * 2000-10-06 2005-01-12 キヤノン株式会社 液体収納容器

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