KR101887830B1 - Orienter assembly - Google Patents

Orienter assembly Download PDF

Info

Publication number
KR101887830B1
KR101887830B1 KR1020170161511A KR20170161511A KR101887830B1 KR 101887830 B1 KR101887830 B1 KR 101887830B1 KR 1020170161511 A KR1020170161511 A KR 1020170161511A KR 20170161511 A KR20170161511 A KR 20170161511A KR 101887830 B1 KR101887830 B1 KR 101887830B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shaft
lip seal
high vacuum
pumping line
chamber
Prior art date
Application number
KR1020170161511A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
손병선
조현철
Original Assignee
(주)에스 이 티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에스 이 티 filed Critical (주)에스 이 티
Priority to KR1020170161511A priority Critical patent/KR101887830B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101887830B1 publication Critical patent/KR101887830B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H01L21/67213—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one ion or electron beam chamber

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

The present invention relates to an orienter assembly that improves a vacuum sealing method to easily replace components of the assembly which is caused by wearing of consumable components, for example, a rib seal, and thus to reduce a working time required for replacement of the components, thereby improving process efficiency. The orienter assembly includes a shaft installed to a high vacuum chamber of an ion implant equipment and inserted into a through-hole formed in a plate forming the high vacuum chamber to be moved in a vertical direction and be rotated; a pedestal part disposed at a high vacuum pressure side of the vacuum chamber and connected to an end of the shaft; a rib seal block disposed below the pedestal part, and having an inner space, in which the shaft is rotated and lifted, the inner space being maintained at low vacuum pressure and provided with a first pumping line to adjust a pressure difference between the high vacuum pressure in the chamber and atmosphere pressure outside the chamber; a second pumping line penetrating the plate and connected to the first pumping line; and a housing disposed at the atmosphere pressure side outside the vacuum chamber and engaged to the plate to guide the lifting and rotating movement of the shaft. The second pumping line is connected to an outer low vacuum pump.

Description

오리엔터 어셈블리{ORIENTER ASSEMBLY}Duck enter assembly {ORIENTER ASSEMBLY}

본 발명은 오리엔터 어셈블리에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공 씰 방식을 개선하여 소모성 부품인 립씰 등의 마모로 인해 발생하는 어셈블리의 부품 교체 작업을 용이하게 하고 부품의 교체에 소요되는 작업 시간을 줄여 공정 효율성을 높일 수 있는 오리엔터 어셈블리에 관한 것이다. The present invention relates to a duck enter assembly, and more particularly, to a duck enter assembly, which improves a vacuum seal method, facilitates replacement of parts of an assembly caused by abrasion of consumable parts such as lip seals, To a duck enter assembly capable of improving process efficiency.

반도체장치의 제조공정은 여러 단계로 구성된다. 그리고 각 단계에는 그 공정을 담당하는 제조설비가 사용된다. 이러한 제조설비의 사용에 있어서, 설비의 동작 하나하나는 웨이퍼의 손상과 관련되어 있으므로 설비를 이용한 웨이퍼의 취급은 상당한 주의를 요한다.The manufacturing process of the semiconductor device is composed of several steps. In each stage, the manufacturing facilities responsible for the process are used. In the use of such a manufacturing facility, since each operation of the equipment is related to the damage of the wafer, the handling of the wafer using the equipment requires considerable care.

전류 이온주입 설비를 사용함에 있어서, 웨이퍼의 정렬은 정확한 이온주입을 위해 정확히 이루어져야 한다. 이러한 목적으로 반도체 공정의 이온주입 설비에는 웨이퍼의 노치(notch)를 정확히 감지하기 위해 오리엔터 어셈블리가 사용된다.In using current ion implantation equipment, wafer alignment must be precisely done for accurate ion implantation. For this purpose, a duck enter assembly is used in the ion implantation facility of a semiconductor process to accurately detect the notch of the wafer.

이온주입 공정은 설비에서 반도체 특성을 가지는 불순물을 이온화하여 주입하는 공정으로, 타 공정에 비해 굉장히 빠른 속도의 프로세서 타임을 가지며, 웨이퍼의 무빙 속도(moving speed) 또한 빨라서 최고 메커니컬 처리속도가 시간당 400매 정도까지 되어 웨이퍼의 슬라이딩(sliding) 발생률이 높으며 고진공 챔버 내부에서 구동되므로 대기의 누압을 방지하기 위해 절대적인 진공 씰링(sealing)이 필요하여 일반적으로 2개의 립씰(lip seal)이 설치되는 차동 진공(differential pumping) 장치가 사용된다.The ion implantation process is a process of ionizing and implanting impurities with semiconductor characteristics in the facility. It has a very fast processor time compared to other processes, and the moving speed of wafers is also fast, so that the maximum mechanical processing speed is 400 sheets per hour The sliding rate of the wafer is high and it is driven inside the high vacuum chamber so that absolute vacuum sealing is required in order to prevent atmospheric pressure leakage so that differential vacuum is generally installed with two lip seals pumping device is used.

도 1은 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 사시도이고, 도 2는 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 단면도이다. FIG. 1 is a perspective view showing a conventional duck enter assembly, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a conventional duck enter assembly.

도 1 및 도 2를 참조하면, 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리는 이온주입 설비 진공부의 트랜스퍼 챔버에 설치되며, 챔버 내부는 고진공압(V)으로 유지되고 챔버 외부는 대기압(A)을 유지하게 된다. 여기에서 챔버를 구성하는 플레이트(40)를 기준으로 고진공압(V) 측에는 페데스탈부(10)와 상부 하우징부(20)가 배치되고 대기압(A) 측에는 립씰 블럭부(50)와 하부 하우징부(60)가 배치되며 플레이트(40)에 관통 배치되는 샤프트(30)를 통해 서로 결합되어 오리엔터 어셈블리를 구성하게 된다. Referring to FIGS. 1 and 2, the prior art duck enter assembly is installed in a transfer chamber of the ion implantation system, the inside of the chamber is maintained at a high vacuum pressure (V), and the chamber is kept at atmospheric pressure (A) do. The pedestal portion 10 and the upper housing portion 20 are disposed on the high vacuum pressure side of the plate 40 constituting the chamber and the lip seal block portion 50 and the lower housing portion 20 60 are arranged and joined together through a shaft 30 disposed through the plate 40 to constitute a duck enter assembly.

보다 상세하게는, 상기 샤프트(30)는 고진공 챔버를 구성하는 플레이트(40)에 관통형성된 관통공(40a)에 삽입되어 상하 및 회전 운동을 하게 된다. 도면에서 회전력을 전달하는 오리엔트 모터와 승강력을 전달하는 리프트 모터는 생략하였다. More specifically, the shaft 30 is inserted into the through hole 40a formed through the plate 40 constituting the high vacuum chamber, and is vertically and rotationally moved. In the drawing, an orient motor for transmitting the rotational force and a lift motor for transmitting the lift force are omitted.

또한 상기 페데스탈부(10)는 웨이퍼가 놓이는 편평한 상부면을 가지는 페데스탈(11)과 이 페데스탈(11)을 상기 샤프트(30)에 고정시키는 커플링(12)으로 구성된다. 상기 페데스탈(11)은 샤프트(30)로부터 전달되는 회전력과 승강력에 의해 회전과 승강 구동을 하게 된다. The pedestal portion 10 also includes a pedestal 11 having a flat upper surface on which the wafer is placed and a coupling 12 for fixing the pedestal 11 to the shaft 30. The pedestal 11 is rotated and lifted and lowered by the rotational force transmitted from the shaft 30 and the lifting force.

또한 상기 상부 하우징부(20)는 상기 샤프트(30)가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지게 형성되는 상부 하우징(23)을 포함한다. 이 상부 하우징(23)의 내부에는 챔버 내 고진공압과 내부를 격리하기 위한 제 1 립씰(22)이 상부에서 샤프트(30)에 결합되며 일정 간격 이격된 하부에는 샤프트(30)의 유동을 방지하기 위한 상부 부싱(24)이 샤프트(30)에 결합된다. 여기에서 상부 캡(21)은 상기 제 1 립씰(22)을 상부 하우징(23)에 고정시키는 기능을 한다. The upper housing part 20 includes an upper housing 23 having an inner space through which the shaft 30 can be rotated and lifted. In the upper housing 23, a first lip seal 22 for isolating the inside of the chamber from the high-pressure air pressure in the chamber is coupled to the shaft 30 from the upper portion. In the lower portion spaced apart from the shaft 30, The upper bushing 24 is coupled to the shaft 30. [ Here, the upper cap 21 functions to fix the first lip seal 22 to the upper housing 23.

또한 상기 립씰 블럭부(50)는 저진공압의 압력을 유지하여 고진공압의 압력차에 의한 누압을 방지하는 립씰 블럭(51)을 포함한다. 상기 립씰 블럭(51)은 플레이트(40)에 관통형성된 관통공(40a)에 상부가 삽입되는 형태로 나사 등에 의해 플레이트(40)에 결합되며, 내부에는 상기 샤프트(30)가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지게 된다. 이 립씰 블럭(51)의 내부는 저진공으로 유지되며 챔버 내 진공압과 챔버 외 대기압의 압력차를 조절하기 위한 펌핑 라인(53)이 내설되게 된다. 상기 펌핑 라인(53)은 연결구(54)를 통해 외부 저진공 펌프에 연결되어 대기압과 진공압의 압력차에 의한 누압을 방지하게 되는 것이다. The lip seal block 50 includes a lip seal block 51 for maintaining the pressure of the low vacuum pressure and preventing the pressure difference due to the pressure difference of the high vacuum pressure. The lip seal block 51 is coupled to the plate 40 by means of screws or the like in such a manner that an upper portion of the lip seal block 51 is inserted into a through hole 40a formed in the plate 40. The shaft 30 can be rotated and elevated It has an internal space. The inside of the lip seal block 51 is maintained at a low vacuum, and a pumping line 53 for controlling the pressure difference between the vacuum pressure in the chamber and the atmospheric pressure outside the chamber is installed. The pumping line 53 is connected to an external low vacuum pump through a connector 54 to prevent leakage pressure due to a pressure difference between atmospheric pressure and vacuum pressure.

또한 상기 하부 하우징부(60)는 상기 샤프트(30)가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지게 형성되는 하부 하우징(61)을 포함한다. 이 하부 하우징(61)의 내부에는 대기압과 내부를 격리하기 위한 제 2 립씰(63)이 하부에서 샤프트(30)에 결합되며 일정 간격 이격된 상부에는 샤프트(30)의 유동을 방지하기 위한 하부 부싱(62)이 샤프트(30)에 결합된다. 여기에서 바닥 캡(64)은 상기 제 2 립씰(22)을 하부 하우징(61)에 고정시키는 기능을 한다. The lower housing part 60 includes a lower housing 61 having an inner space through which the shaft 30 can be rotated and elevated. A second lip seal 63 for isolating the interior of the lower housing 61 from the atmospheric pressure is coupled to the shaft 30 at a lower portion and a lower bushing (62) is coupled to the shaft (30). Here, the bottom cap 64 functions to fix the second lip seal 22 to the lower housing 61.

이 같은 구성의 종래 오리엔터 어셈블리에서 상기 제 1 립씰(22)과 제 2 립씰(63)은 테프론(teflon) 재질로 이루어지며, 상기 상부 부싱(24)과 하부 부싱(62)은 루론(rulon) 재질로 이루어지며, 이들은 일정 기간 사용하면 마모가 되어 교체해야하는 소모성 부품이다. The first lip seal 22 and the second lip seal 63 are made of Teflon material and the upper bushing 24 and the lower bushing 62 are made of a ruron, They are wearable parts that wear out and replace when used for a period of time.

즉 고진공압 부분에 누압이 생기거나 예방 보전 차원에서 일정 기간 사용된 소모성 부품인 상기 제 1 립씰(22)과 제 2 립씰(63) 그리고 상기 상부 부싱(24)과 하부 부싱(62)을 교체해야 한다. The first lip seal 22 and the second lip seal 63, and the upper bushing 24 and the lower bushing 62, which are consumable parts used for a certain period of time in order to prevent leakage, do.

이 교체 작업은, 챔버의 진공을 먼저 해제하고, 페데스탈부(10)를 먼저 분해해 시작되며, 페데스탈부(10)를 제외한 모든 부품을 플레이트(40)로부터 분리해 떼어낸다. 그리고 상부 하우징부(20)에서 상부 캡(21)을 분리한 후 상부 하우징부(20)를 립씰 블럭부(50)로부터 분리해 내부의 제 1 립씰(22)과 상부 부싱(24)을 교체하게 된다. 또한 마찬가지로 하부 하우징부(60)에서 바닥 캡(64)을 분리한 후 하부 하우징부(60)를 립씰 블럭부(50)로부터 분리해 내부의 제 2 립씰(63)과 하부 부싱(62)을 교체하게 된다. This replacement operation is initiated by first releasing the vacuum of the chamber, disassembling the pedestal portion 10 first, and detaching all components except for the pedestal portion 10 from the plate 40. After the upper cap 21 is separated from the upper housing part 20, the upper housing part 20 is separated from the lip seal block part 50 to replace the first lip seal 22 and the upper bushing 24 do. The lower lip portion 60 is separated from the lip seal block portion 50 and the second lip seal 63 and the lower bushing 62 are replaced with each other by separating the bottom cap 64 from the lower housing portion 60, .

이러한 소모성 부품 교체 작업은 고진공압 측과 대기압 측 부품을 분리하지 못해 전체 오리엔터 어셈블리에서 모든 구성을 탈착한 후 소모성 부품을 교환하는 방식이다. 또한 탈착된 오리엔터 어셈블리를 재조립하여 부착한 후에도 누압 테스트를 반드시 거쳐야 하기 때문에 전체 소모성 부품의 교체 작업에 많은 시간이 소요되며 이로 인해 설비의 정지시간을 증가시키는 문제점이 있다. This consumable part replacement operation is a method of replacing consumable parts after detaching all the components from the entire duck enter assembly because the high vacuum pneumatic side and the atmospheric pressure side parts can not be separated. Also, since the dampening test must be performed even after reassembling and attaching the removed dummy enter assembly, it takes a lot of time to replace the consumable parts, thereby increasing the stopping time of the equipment.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 그 목적은 진공 씰 방식을 개선하여 소모성 부품인 립씰 등의 마모로 인해 발생하는 어셈블리의 부품 교체 작업을 용이하게 하고 부품의 교체에 소요되는 작업 시간을 줄여 공정 효율성을 높일 수 있는 오리엔터 어셈블리를 제공하는데 그 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and its object is to improve a vacuum sealing method, thereby facilitating the replacement work of assemblies caused by abrasion of consumable parts such as lip seals, And it is an object of the present invention to provide a duck enter assembly which can reduce work time and increase process efficiency.

본 발명에 따르면, 이온주입 설비의 고진공 챔버에 설치되며, 고진공 챔버를 구성하는 플레이트에 관통형성된 관통공에 삽입되어 상하 및 회전 운동을 하는 샤프트; 상기 진공 챔버의 내부 고진공압 측에 배치되며, 상기 샤프트의 단부에 결합되는 페데스탈부; 상기 진공 챔버의 내부 고진공압 측에서 상기 페데스탈부의 하부에 배치되어 상기 플레이트에 결합되며, 상기 샤프트가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지며, 내부가 저진공압으로 유지되며 챔버 내 고진공압과 챔버 외 대기압의 압력차를 조절하기 위한 제 1 펌핑 라인이 내설되는 립씰 블럭부; 상기 플레이트에 관통형성되며 상기 제 1 펌핑 라인과 연결되는 제 2 펌핑 라인; 및 상기 진공 챔버의 외부 대기압 측에 배치되어 상기 플레이트에 결합되며, 상기 샤프트의 상하 및 회전 운동을 가이드하는 하우징부; 를 포함하며, 상기 제 2 펌핑 라인이 외부 저진공 펌프에 연결되는 것을 특징으로 하는 오리엔터 어셈블리를 제공한다. According to the present invention, there is provided an ion implantation apparatus, comprising: a shaft installed in a high vacuum chamber of an ion implantation facility and inserted into a through hole formed in a plate constituting a high vacuum chamber to vertically and rotationally move; A pedestal disposed on an inner high vacuum side of the vacuum chamber and coupled to an end of the shaft; The vacuum chamber has an inner space which is disposed at a lower portion of the pedestal portion on the side of the high vacuum pressure side of the vacuum chamber and is coupled to the plate and is capable of rotating and lifting the shaft. A lip seal block portion in which a first pumping line for adjusting a pressure difference of atmospheric pressure is installed; A second pumping line formed through the plate and connected to the first pumping line; A housing part disposed at an external atmospheric pressure side of the vacuum chamber and coupled to the plate, the housing part guiding the up and down and rotation of the shaft; Wherein the second pumping line is connected to an external low vacuum pump.

바람직하게는, 상기 립씰 블럭부는, 상기 샤프트가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지며, 하부면을 통해 상기 플레이트에 결합되는 립씰 블럭; 상기 립씰 블럭의 상부에 설치되며 상기 샤프트에 립씰 블럭을 고정시켜 샤프트의 유동을 방지하는 상부 부싱; 상기 상부 부싱의 하부에서 샤프트에 고정되어 챔버 내 고진공을 차단하는 제 1 립씰; 상기 제 1 립씰에서 하측으로 이격되어 샤프트에 고정되며 외부 대기압을 차단하는 제 2 립씰; 및 상기 제 1 립씰과 제 2 립씰의 사이에 일측이 연결되며 타측이 상기 플레이트의 제 2 펌핑 라인과 연결되는 제 1 펌핑 라인; 을 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the lip seal block has a lip seal block having an inner space through which the shaft can be rotated and lifted, and is coupled to the plate through a lower surface; An upper bushing installed at the upper portion of the lip seal block to prevent the flow of the shaft by fixing the lip seal block to the shaft; A first lip seal fixed to the shaft at a lower portion of the upper bushing to block high vacuum in the chamber; A second lip seal spaced downwardly from the first lip seal to be fixed to the shaft and blocking external atmospheric pressure; And a first pumping line having one side connected between the first lip seal and the second lip seal and the other side connected to a second pumping line of the plate; And a control unit.

바람직하게는, 상기 제 1 펌핑 라인과 제 2 펌핑 라인의 결합 부위에는 오링이 삽입되는 것을 특징으로 한다. Advantageously, an O-ring is inserted in the coupling portion of the first pumping line and the second pumping line.

바람직하게는, 상기 하우징부는, 상기 샤프트가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지는 하우징; 및 상기 하우징 내에 설치되며 상기 샤프트에 하우징을 고정시켜 샤프트의 유동을 방지하는 하부 부싱; 을 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the housing portion includes: a housing having an inner space through which the shaft can be rotated and elevated; And a lower bushing installed in the housing and fixing the housing to the shaft to prevent the flow of the shaft; And a control unit.

본 발명에 따르면, 소모성 부품인 립씰 등의 마모로 인해 발생하는 어셈블리의 부품 교체 작업을 용이하게 하고 부품의 교체에 소요되는 작업 시간을 줄여 공정 효율성을 높일 수 있게 되는 효과가 있다. According to the present invention, there is an effect that it is possible to facilitate the component replacement work of the assembly caused by wear of the lip seal which is a consumable part, and to reduce the work time required for replacing parts, thereby improving the process efficiency.

도 1은 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 사시도이다.
도 2는 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리의 분해 및 조립 과정을 설명하기 위한 도면이다. 1 is a perspective view showing a duck enter assembly according to the prior art.
2 is a cross-sectional view showing a duck enter assembly according to the prior art.
3 is a perspective view showing a duck enter assembly according to the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating a duck enter assembly according to the present invention.
5 is a view for explaining a disassembling and assembling process of the duck enter assembly according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 우선, 도면들 중 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 한 동일한 참조부호를 나타내고 있음에 유의해야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하게 하지 않기 위해 생략한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, it should be noted that the same components or parts among the drawings denote the same reference numerals whenever possible. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted so as not to obscure the subject matter of the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리를 나타내는 단면도이다. FIG. 3 is a perspective view showing a duck enter assembly according to the present invention, and FIG. 4 is a sectional view showing a duck enter assembly according to the present invention.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리는 고진공압(V)의 챔버 내부와 대기압(A)의 챔버 외부에 걸쳐 부품이 조립되어 있기 때문에 분해조립시 고진공압(V) 측 구성과 대기압(A) 측 구성을 모두 분해조립해야 하는 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리와 달리, 고진공압(V)의 챔버 내부의 부품과 대기압(A)의 챔버 외부의 구성을 별개로 이원화한 것에 그 특징이 있다. 3 and 4, the duck enter assembly according to the present invention has parts assembled inside the chamber of the high vacuum pressure (V) and outside the chamber of the atmospheric pressure (A) Unlike the prior art duck enter assembly in which both the configuration and the atmospheric pressure (A) side configuration are disassembled and assembled, the components inside the chamber of the high vacuum pressure (V) and the components outside the chamber of the atmospheric pressure There are features.

일반적으로 오리엔터 어셈블리는 소모성 부품인 립씰과 부싱을 필수 구성 요소로 하기 때문에 일정 기간 단위로 혹은 예방 보전을 위해 정기적으로 분해조립 및 소모성 부품의 교체가 이루어져야 한다. Generally, duck enter assemblies make consumable parts lip seals and bushings as essential components, so they must be periodically disassembled and assembled and replaced with consumable parts on a periodic basis or for preventive maintenance.

하지만 종래 기술에 따른 오리엔터 어셈블리는 소모성 부품인 립씰 등이 고진공압(V)의 챔버 내부와 대기압(A)의 챔버 외부에 모두 배치되어 있어 부품 교체시 전체 어셈블리를 장비에서 탈착한 후 분해하여 교체를 진행해야 하므로 교체 작업에 많은 시간이 소요되며 이로 인해 설비의 정지시간을 증가시키게 된다. However, according to the prior art duck enter assembly, a consumable part lip seal is disposed both inside the chamber of the high vacuum pressure (V) and outside the chamber of the atmospheric pressure (A), and the entire assembly is detached from the equipment It takes a lot of time for the replacement operation, thereby increasing the stopping time of the equipment.

이와 달리 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리는 소모성 부품인 립씰을 고진공압(V)의 챔버 내부에만 배치시켜 부품 교체시 고진공압(V)의 챔버 내부 구성만을 탈착 및 분해하면 되기 때문에 교체 작업에 소요되는 시간을 획기적으로 줄일 수 있게 되며 이로 인해 설비의 정지시간을 확실히 감소시킬 수 있게 되는 것이다. Alternatively, the duck enter assembly according to the present invention can disassemble and disassemble only the inner chamber structure of the high vacuum pressure (V) when replacing parts by disposing the lip seal, which is a consumable part, in the chamber of the high vacuum pressure (V) It is possible to drastically reduce the time, which can surely reduce the stopping time of the equipment.

또한 소모성 부품인 립씰의 위치를 일원화하기 위해 누압 방지를 담당하는 립씰 블럭을 고진공압(V)의 챔버 내부에 배치시키며, 이 립씰 블럭의 내부를 저진공으로 유지하기 위해 플레이트에 별도의 홀을 가공하여 펌핑 라인을 대기압 측으로 연결함으로써 샤프트의 회전 및 승강 운동에 따라 발생되는 미세 누압을 완벽히 방지할 수 있게 된다. Also, in order to unify the position of the lip seal which is a consumable part, a lip seal block for preventing leakage pressure is disposed inside a chamber of a high vacuum pressure (V), and a separate hole is machined to keep the inside of the lip seal block at a low vacuum By connecting the pumping line to the atmospheric pressure side, it is possible to completely prevent the micro oil pressure generated due to the rotation of the shaft and the up and down movement.

본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리는 이온주입 설비 진공부의 트랜스퍼 챔버에 설치된다. 이 챔버의 내부는 고진공압(V)으로 유지되고 챔버의 외부는 대기압(A)을 유지하게 된다. The duck enter assembly according to the present invention is installed in the transfer chamber of the ion implantation system. The inside of the chamber is maintained at the high vacuum pressure (V) and the outside of the chamber is maintained at the atmospheric pressure (A).

여기에서 챔버를 구성하는 플레이트(140)를 기준으로 고진공압(V) 측에는 페데스탈부(110)와 립씰 블럭부(120)가 배치되고, 대기압(A) 측에는 하우징부(150)가 배치되며 플레이트(140)에 관통 배치되는 샤프트(130)를 통해 서로 결합되어 오리엔터 어셈블리를 구성하게 된다. A pedestal 110 and a lip seal block 120 are disposed on the high vacuum pneumatic pressure V side of the plate 140 constituting the chamber and a housing 150 is disposed on the atmospheric pressure A side. 140 via a shaft 130 disposed through the shaft 130 to constitute a duck enter assembly.

상기 샤프트(130)는 고진공 챔버를 구성하는 플레이트(140)에 관통형성된 관통공(140a)에 삽입되어 상하 및 회전 운동을 하게 된다. 도면에서 회전력을 전달하는 오리엔트 모터와 승강력을 전달하는 리프트 모터는 생략하였다. The shaft 130 is inserted into the through hole 140a formed in the plate 140 constituting the high vacuum chamber, and is vertically and rotationally moved. In the drawing, an orient motor for transmitting the rotational force and a lift motor for transmitting the lift force are omitted.

또한 상기 페데스탈부(110)는 웨이퍼가 놓이는 편평한 상부면을 가지는 페데스탈(111)과 이 페데스탈(111)을 상기 샤프트(130)에 고정시키는 커플링(112)으로 구성된다. 상기 페데스탈(111)은 샤프트(130)로부터 전달되는 회전력과 승강력에 의해 회전과 승강 구동을 하게 된다. The pedestal 110 also includes a pedestal 111 having a flat upper surface on which the wafer is placed and a coupling 112 for fixing the pedestal 111 to the shaft 130. The pedestal 111 is rotated and elevated and driven by a rotational force transmitted from the shaft 130 and a rising force.

또한 상기 립씰 블럭부(120)는 상기 진공 챔버의 내부 고진공압(V) 측에서 상기 페데스탈부(110)의 하부에 배치되어 상기 플레이트(140)에 결합되며, 상기 샤프트(130)가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지며, 내부가 저진공압으로 유지되며 챔버 내 고진공압과 챔버 외 대기압의 압력차를 조절하기 위한 제 1 펌핑 라인(126)이 내설되게 된다. The lip seal block 120 is disposed at a lower portion of the pedestal portion 110 on the side of the high vacuum pressure V of the vacuum chamber and is coupled to the plate 140. The shaft 130 is rotated and elevated A first pumping line 126 for controlling a pressure difference between the high vacuum pressure in the chamber and the atmospheric pressure outside the chamber is provided.

상기 립씰 블럭부(120)는 저진공압의 압력을 유지하여 고진공압의 압력차에 의한 누압을 방지하는 립씰 블럭(124)을 포함한다. 상기 립씰 블럭(124)은 나사 등에 의해 플레이트(140)에 결합되며, 내부에는 상기 샤프트(130)가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지게 된다. 이 립씰 블럭부(120)의 내부에는 샤프트(130)의 유동을 방지하기 위한 상부 부싱(122)이 샤프트(130)에 결합되어 구비되며 이 상부 부싱(122)의 하부에는 챔버 내 고진공압과 내부를 격리하기 위한 제 1 립씰(123) 및 제 2 립씰(125)이 구비된다. 이때 상기 제 1 립씰(123)과 제 2 립씰(125)의 사이의 공간에는 제 1 펌핑 라인(126)의 일측이 위치되며 해당 제 1 펌핑 라인(126)의 타측은 립씰 블럭(124)의 하부면으로 연장 형성된다. 따라서 상기 제 1 펌핑 라인(126)은 도 4에 도시된 바와 같이 사선 형상으로 립씰 블럭(124)에 관통형성되게 된다. 여기에서 상부 캡(121)은 상기 상부 부싱(122)을 립씰 블럭(124)에 고정시키는 기능을 한다. The lip seal block 120 includes a lip seal block 124 that maintains the pressure of the low vacuum pressure to prevent the pressure difference due to the pressure difference of the high vacuum pressure. The lip seal block 124 is coupled to the plate 140 by a screw or the like and has an inner space in which the shaft 130 can be rotated and lifted and lowered. An upper bushing 122 for preventing the flow of the shaft 130 is coupled to the shaft 130 in the lip seal block 120. A lower portion of the upper bushing 122 is provided with a high- A first lip seal 123 and a second lip seal 125 for isolating the first lip seal 123 and the second lip seal 125 are provided. One side of the first pumping line 126 is positioned in the space between the first lip seal 123 and the second lip seal 125 and the other side of the first pumping line 126 is positioned below the lip seal block 124 Plane. Accordingly, the first pumping line 126 is formed to pass through the lip seal block 124 in an oblique shape as shown in FIG. The upper cap 121 functions to fix the upper bushing 122 to the lip seal block 124.

이 립씰 블럭(124)의 내부는 저진공으로 유지되며, 상기 제 1 펌핑 라인(126)은 플레이트(140)에 관통형성된 제 2 펌핑 라인(144)에 연결되며, 이 제 2 펌핑 라인(144)은 연결구(145)를 통해 외부 저진공 펌프에 연결되어 대기압과 진공압의 압력차에 의한 누압을 방지하게 되는 것이다. 이때 제 1 펌핑 라인(126)과 제 2 펌핑 라인(144)의 사이에는 기밀을 위한 오링(도시 않음)이 조립될 수 있다. The interior of the lip seal block 124 is maintained at a low vacuum and the first pumping line 126 is connected to a second pumping line 144 formed through the plate 140, Is connected to the external low vacuum pump through the connecting port 145 to prevent the pressure difference due to the pressure difference between the atmospheric pressure and the vacuum pressure. At this time, an O-ring (not shown) for airtightness may be assembled between the first pumping line 126 and the second pumping line 144.

여기에서 미설명 부호 143은 상기 제 2 립씰(125)을 립씰 블럭(124)에 고정시키기 위한 엔드 캡이다. Here, the reference numeral 143 is an end cap for fixing the second lip seal 125 to the lip seal block 124.

상기 하우징부(150)는 상기 샤프트(130)가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지게 형성되는 하우징(151)을 포함한다. 이 하우징(151)의 내부에는 샤프트(130)의 유동을 방지하기 위한 기다란 하부 부싱(152)이 샤프트(130)에 결합된다. 여기에서 바닥 캡(153)은 상기 하부 부싱(152)을 하우징(151)에 고정시키는 기능을 한다. The housing part 150 includes a housing 151 having an inner space through which the shaft 130 can be rotated and elevated. An elongated lower bushing 152 for preventing the flow of the shaft 130 is coupled to the shaft 130 in the housing 151. Here, the bottom cap 153 functions to fix the lower bushing 152 to the housing 151.

이 같은 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리에서 상기 제 1 립씰(123)과 제 2 립씰(125)은 테프론(teflon) 재질로 이루어지며, 이들은 일정 기간 사용하면 마모가 되어 교체해야하는 소모성 부품이다. In the duck enter assembly according to the present invention, the first lip seal 123 and the second lip seal 125 are made of Teflon, and they are worn parts that are worn and replaced when they are used for a certain period of time.

즉 고진공압 부분에 누압이 생기거나 예방 보전 차원에서 일정 기간 사용된 소모성 부품인 상기 제 1 립씰(22)과 제 2 립씰(63)을 교체해야 한다. That is, the first lip seal 22 and the second lip seal 63, which are consumable parts used for a certain period of time, should be replaced in the high vacuum pneumatic pressure portion or in the preventive maintenance.

이 교체 작업을 도 5를 참조하여 설명하면 다음과 같다. This replacement operation will now be described with reference to FIG.

도 5는 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리의 분해 및 조립 과정을 설명하기 위한 도면이다. 5 is a view for explaining a disassembling and assembling process of the duck enter assembly according to the present invention.

도 5의 (a)는 조립된 상태의 오리엔터 어셈블리를 나타낸다. 분해시에는, 챔버의 진공을 먼저 해제하고, 커플링(112)에 체결된 스크류를 풀어서 페데스탈(111)을 먼저 분해해 시작된다. 5 (a) shows a duck enter assembly in an assembled state. Upon decomposition, the vacuum of the chamber is released first, and the screw fastened to the coupling 112 is released to start disassembling the pedestal 111 first.

이후 립씰 블럭부(120)를 플레이트(140)에 고정하는 스크류를 풀고 또한 제 1 펌핑 라인(126)과 제 2 펌핑 라인(144)의 사이의 오링을 풀어 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이 고진공압(V) 측의 페데스탈부(110)와 립씰 블럭부(120)를 완전히 분리해낼 수 있게 된다. Thereafter, the screw securing the lip seal block portion 120 to the plate 140 is released and the O-ring between the first pumping line 126 and the second pumping line 144 is released, The pedestal portion 110 and the lip seal block portion 120 on the side of the high vacuum pressure V can be completely separated from each other.

이를 통해 종래의 오리엔터 어셈블리와 같이 굳이 전체 오리엔터 어셈블리에서 모든 구성을 탈착한 후 소모성 부품인 립씰을 교체할 필요없이 고진공압(V) 측의 페데스탈부(110)와 립씰 블럭부(120)의 분리 공정만으로 립씰 블럭부(120)에 있는 제 1 립씰(22)과 제 2 립씰(63)을 교체할 수 있게 된다. As a result, the pedestal portion 110 and the lip seal block portion 120 on the side of the high vacuum pneumatic pressure (V) do not need to be replaced after removing all the components from the entire duck enter assembly as in the conventional duck enter assembly. The first lip seal 22 and the second lip seal 63 in the lip seal block 120 can be replaced only by the separation process.

종래의 오리엔터 어셈블리에서 이러한 소모성 부품인 립씰의 교체 작업은 고진공압 측과 대기압 측 부품을 분리하지 못해 전체 오리엔터 어셈블리에서 모든 구성을 탈착한 후 소모성 부품을 교환하는 방식이다. 이는 탈착된 오리엔터 어셈블리를 재조립하여 부착한 후에도 누압 테스트를 반드시 거쳐야 하기 때문에 전체 소모성 부품의 교체 작업에 많은 시간이 소요되며 이로 인해 설비의 정지시간을 증가시키는 문제점이 있다. In conventional duck enter assemblies, replacement of these consumable parts lip seals fails to separate the high vacuum pneumatic side and atmospheric pressure side parts, so that the entire duck enter assembly removes all the components and exchanges consumable parts. This is because it takes a lot of time to replace the consumable parts because the duck pressure test must be performed even after reassembling and attaching the removed duck enter assembly, which increases the stopping time of the equipment.

하지만 본 발명에 따른 오리엔터 어셈블리는 소모성 부품인 립씰 등의 마모로 인해 발생하는 어셈블리의 부품 교체 작업을 용이하게 하고 부품의 교체에 소요되는 작업 시간을 줄여 공정 효율성을 높일 수 있게 되는 것이다. However, the duck enter assembly according to the present invention facilitates replacement work of assemblies caused by wear of lip seals, which are consumable parts, and reduces work time required for parts replacement, thereby improving process efficiency.

이 같은 차이는 결국 상하 2 개의 립씰을 모두 고진공압(V) 측의 립씰 블럭부(120)에 배치하고, 또한 펌핑 라인이 고진공압(V) 측의 립씰 블럭부(120)에서 바로 플레이트(140)를 통해 외부 저진공 펌프에 연결되도록 한데 따른 효과이다. The difference is that both the upper and lower lip seals are disposed in the lip seal block portion 120 on the side of the high vacuum pneumatic pressure V and the pumping line is directly disposed on the lip seal block portion 120 on the high vacuum pneumatic To the external low vacuum pump.

이상과 같이 도면과 명세서에서 최적 실시 예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, an optimal embodiment has been disclosed in the drawings and specification. Although specific terms have been employed herein, they are used for purposes of illustration only and are not intended to limit the scope of the invention as defined in the claims or the claims. Therefore, those skilled in the art will appreciate that various modifications and equivalent embodiments are possible without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

110 : 페데스탈부 111 : 페데스탈
112 : 커플링 120 : 립씰 블럭부
121 : 상부 캡 122 : 상부 부싱
123 : 제 1 립씰 124 : 립씰 블럭
125 : 제 2 립씰 126 : 제 1 펌핑 라인
130 : 샤프트 140 : 플레이트
150 : 하우징부 151 : 하우징
152 : 하부 부싱 153 : 바닥 캡110: pedestal part 111: pedestal
112: coupling 120: lip seal block part
121: upper cap 122: upper bushing
123: First lip seal 124: Lip seal block
125: second lip seal 126: first pumping line
130: shaft 140: plate
150: housing part 151: housing
152: lower bushing 153: bottom cap

Claims (4)

이온주입 설비의 고진공 챔버에 설치되며,
고진공 챔버를 구성하는 플레이트에 관통형성된 관통공에 삽입되어 상하 및 회전 운동을 하는 샤프트;
상기 고진공 챔버의 내부 고진공압 측에 배치되며, 상기 샤프트의 단부에 결합되는 페데스탈부;
상기 고진공 챔버의 내부 고진공압 측에서 상기 페데스탈부의 하부에 배치되어 상기 플레이트에 결합되며, 상기 샤프트가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지며, 내부가 저진공압으로 유지되며 챔버 내 고진공압과 챔버 외 대기압의 압력차를 조절하기 위한 제 1 펌핑 라인이 내설되는 립씰 블럭부;
상기 플레이트에 관통형성되며 상기 제 1 펌핑 라인과 연결되는 제 2 펌핑 라인; 및
상기 고진공 챔버의 외부 대기압 측에 배치되어 상기 플레이트에 결합되며, 상기 샤프트의 상하 및 회전 운동을 가이드하는 하우징부; 를 포함하며,
상기 제 2 펌핑 라인이 외부 저진공 펌프에 연결되며,
상기 립씰 블럭부는,
상기 샤프트가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지며, 하부면을 통해 상기 플레이트에 결합되는 립씰 블럭;
상기 립씰 블럭의 상부에 설치되며 상기 샤프트에 립씰 블럭을 고정시켜 샤프트의 유동을 방지하는 상부 부싱;
상기 상부 부싱의 하부에서 샤프트에 고정되어 챔버 내 고진공을 차단하는 제 1 립씰; 및
상기 제 1 립씰에서 하측으로 이격되어 샤프트에 고정되며 외부 대기압을 차단하는 제 2 립씰;을 포함하며,
상기 제 1 펌핑 라인은 상기 제 1 립씰과 제 2 립씰의 사이에 일측이 연결되고 타측이 상기 플레이트의 제 2 펌핑 라인과 연결되는 것을 특징으로 하는 오리엔터 어셈블리.
A high vacuum chamber of an ion implantation facility,
A shaft inserted into the through hole formed in the plate constituting the high vacuum chamber to perform up and down and rotational movement;
A pedestal portion disposed on the high vacuum pneumatic side of the high vacuum chamber and coupled to an end of the shaft;
A high vacuum chamber inside the high vacuum pneumatic pressure chamber, a pedestal portion disposed at a lower portion of the high vacuum chamber and coupled to the plate and having an inner space through which the shaft can be rotated and elevated, A lip seal block portion in which a first pumping line for adjusting a pressure difference of atmospheric pressure is installed;
A second pumping line formed through the plate and connected to the first pumping line; And
A housing part disposed on the external atmospheric pressure side of the high vacuum chamber and coupled to the plate, for guiding the shaft up and down and rotational movement; / RTI >
The second pumping line is connected to an external low vacuum pump,
The lip seal block portion
A lip seal block having an inner space through which the shaft can be rotated and elevated and coupled to the plate through a lower surface;
An upper bushing installed at the upper portion of the lip seal block to prevent the flow of the shaft by fixing the lip seal block to the shaft;
A first lip seal fixed to the shaft at a lower portion of the upper bushing to block high vacuum in the chamber; And
And a second lip seal spaced downwardly from the first lip seal and fixed to the shaft and blocking the external atmospheric pressure,
Wherein the first pumping line has one side connected between the first lip seal and the second lip seal and the other side connected with the second pumping line of the plate.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 제 1 펌핑 라인과 제 2 펌핑 라인의 결합 부위에는 오링이 삽입되는 것을 특징으로 하는 오리엔터 어셈블리.
The method according to claim 1,
Wherein an O-ring is inserted into a joint portion between the first pumping line and the second pumping line.
제 1항에 있어서,
상기 하우징부는,
상기 샤프트가 회전 및 승강될 수 있는 내부 공간을 가지는 하우징; 및
상기 하우징 내에 설치되며 상기 샤프트에 하우징을 고정시켜 샤프트의 유동을 방지하는 하부 부싱; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔터 어셈블리.
The method according to claim 1,
The housing part,
A housing having an inner space through which the shaft can be rotated and elevated; And
A lower bushing installed in the housing and fixing the housing to the shaft to prevent the flow of the shaft; The duck entry assembly comprising:
KR1020170161511A 2017-11-29 2017-11-29 Orienter assembly KR101887830B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170161511A KR101887830B1 (en) 2017-11-29 2017-11-29 Orienter assembly

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170161511A KR101887830B1 (en) 2017-11-29 2017-11-29 Orienter assembly

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101887830B1 true KR101887830B1 (en) 2018-08-13

Family

ID=63250736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170161511A KR101887830B1 (en) 2017-11-29 2017-11-29 Orienter assembly

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101887830B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110931412A (en) * 2019-10-15 2020-03-27 北京烁科中科信电子装备有限公司 High-precision and high-efficiency silicon wafer orienting device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030004940A (en) * 2001-07-07 2003-01-15 삼성전자 주식회사 Lift device of ion injection apparatus
JP2008536073A (en) * 2005-04-15 2008-09-04 ジーエスアイ グループ リミテッド Gas bearing spindle
KR101482045B1 (en) * 2013-10-30 2015-01-21 (주)제이씨이노텍 Cartride module for ion implant equipment
KR101600876B1 (en) * 2014-10-08 2016-03-09 주식회사 토르 Slit Valve

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030004940A (en) * 2001-07-07 2003-01-15 삼성전자 주식회사 Lift device of ion injection apparatus
JP2008536073A (en) * 2005-04-15 2008-09-04 ジーエスアイ グループ リミテッド Gas bearing spindle
KR101482045B1 (en) * 2013-10-30 2015-01-21 (주)제이씨이노텍 Cartride module for ion implant equipment
KR101600876B1 (en) * 2014-10-08 2016-03-09 주식회사 토르 Slit Valve

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110931412A (en) * 2019-10-15 2020-03-27 北京烁科中科信电子装备有限公司 High-precision and high-efficiency silicon wafer orienting device
CN110931412B (en) * 2019-10-15 2024-02-06 北京烁科中科信电子装备有限公司 High-precision and high-efficiency silicon wafer orientation device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101346081B1 (en) Plasma etching chamber
TWI775929B (en) Vacuum adjustment device having a collet coupling
US8915693B2 (en) Robot arm having lower arm link separable into two parts
KR101887830B1 (en) Orienter assembly
KR101514862B1 (en) A floating collar clamping device for auto-aligning nut and screw in linear motion leadscrew and nut assembly
US20090008035A1 (en) Plasma processing apparatus
CN106572629B (en) Component mounting device
TWI715779B (en) Suction table mechanism
KR102168255B1 (en) Apparatus and methods for handling workpieces of different sizes
US10443741B2 (en) Blade for vacuum valve
KR101712420B1 (en) Orient module for ion implant
KR101608916B1 (en) Driving apparatus for semiconductor vacuum facility
CN104835771A (en) System and method for substrate holding
KR20080017946A (en) Substrate aligner which is convenient for maintenance
KR20060082091A (en) Equipment for treating substrate
KR20180067427A (en) Nozzle assembly for load port
CN106799524B (en) Rotating plate device
KR101482045B1 (en) Cartride module for ion implant equipment
US20040234361A1 (en) Positioning device
KR20030097452A (en) Check valve for manufacturing semiconductor
KR20130079916A (en) Vacuum isolation apparatus
TWI534934B (en) Slit door apparatus for wafer transfer equipment
CN113994128B (en) Vacuum pump device
WO2016175457A1 (en) High-viscosity liquid transfer apparatus
KR20000025768A (en) Lifter based upon magnetic force in semiconductor facility

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant