KR101884687B1 - Surface-protective film and optical component attached with the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 대해서도 사용할 수 있고, 피착체에 대한 오염이 적으며, 또한, 시간이 경과해도 피착체에 대한 저오염성이 변하지 않는 표면 보호 필름으로, 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것을 사용한 광학 부품을 제공한다. 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름(1)의 한쪽 면에 대전 방지제로서 이온성 화합물을 함유한 점착제층(2)이 형성되고, 점착제층(2) 위에, 알칼리 금속염과 실리콘계 박리제로 이루어지는 박리제층(4)을 갖는 박리 필름(5)이 첩합된 표면 보호 필름(10)으로, 알칼리 금속염 성분이 상기 박리 필름에서 상기 점착제층의 표면으로 전사되어, 상기 점착제층을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압이 저감되어 이루어진다.The present invention provides a surface protective film which can be used for an optical film having irregularities on its surface and which has less stain on an adherend and does not change its low staining property against an adherend even after a lapse of time, A surface protective film having excellent peeling electrification preventing performance and an optical component using the same. A pressure-sensitive adhesive layer 2 containing an ionic compound as an antistatic agent is formed on one surface of a base film 1 made of a resin having transparency and a release agent layer (not shown) composed of an alkali metal salt and a silicone- 4), the alkali metal salt component is transferred from the release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the adherend, The voltage is reduced.

Description

표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품{SURFACE-PROTECTIVE FILM AND OPTICAL COMPONENT ATTACHED WITH THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a surface protective film,

본 발명은 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학 부품(이하, 광학용 필름으로 칭하는 경우도 있다)의 표면에 첩합되는 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 피착체에 대한 오염이 적은 표면 보호 필름, 나아가서는, 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품을 제공하는 것이다.The present invention relates to a surface protective film that is applied to the surface of an optical component such as a polarizing plate, a retarder, and a lens film for display (hereinafter, sometimes referred to as an optical film). More specifically, the present invention is to provide a surface protective film which is less contaminated with an adherend, and further, a surface protective film having excellent peeling electrification preventing performance without deterioration with time, and an optical component to which the surface protective film is adhered.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름, 및 그것을 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 덜고 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When an optical product such as a polarizing plate, a retardation film, a lens film for display, an antireflection film, a hard coat film, a transparent conductive film for a touch panel and the like and a display using the same is manufactured and transported, In order to prevent contamination and scratches on the surface in a subsequent step. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be carried out in a state in which the surface protective film is stuck to the optical film in order to reduce the labor of peeling the surface protective film, and to improve the working efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이 광학 제품의 제조 공정에 있어서 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해, 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면에서 박리하여 제거할 때, 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다.Background Art [0002] Conventionally, a surface protective film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a base film is generally used to prevent scratches and contamination from adhering to the surface of a substrate in the production process of optical products. The surface protective film is bonded to the optical film through a pressure-sensitive adhesive layer having no adhesive force. The use of the pressure-sensitive adhesive layer as a non-adhesive force can be easily performed when the used surface protective film is peeled off from the surface of the optical film and the adhesive is adhered to the optical film of the product (To prevent the occurrence of so-called adhesive residue).

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.In recent years, circuit components such as driver ICs for controlling the display screen of the liquid crystal display have been developed by the peeling electrification voltage generated when the surface protective film adhered on the optical film is peeled and removed in the production process of the liquid crystal display panel The phenomenon that the liquid crystal molecules are destroyed or the alignment of the liquid crystal molecules is damaged occurs in a small number.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는 박리 대전압을 ＋0.7㎸∼－0.7㎸의 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and accordingly the breakdown voltage of the driver IC is lowered. In recent years, it has been required to set the peeling electrification voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

또한, 종래의 편광판은 요오드를 함침한 폴리비닐알코올(PVA)로 이루어지는 편광자의 양측에, 편광자를 보호하기 위해 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름)을 수계의 접착제로 접착하여 편광판을 제조하고 있었지만, 근래에는 TAC 필름을 대신해, 아크릴 필름, 고리형 폴리올레핀 필름이나 폴리에스테르 필름을 사용한 편광판이나, 수성 접착제를 대신해 자외선 경화형 접착제를 사용한 편광판도 사용되고 있다. 편광판의 구성 재료가 변화함으로써, 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압이 종래 구성의 편광판을 사용했을 때보다 높아진다는 문제도 나오고 있다.In the conventional polarizing plate, a triacetyl cellulose film (TAC film) is bonded to both sides of a polarizer made of polyvinyl alcohol (PVA) impregnated with iodine with an aqueous adhesive in order to protect the polarizer, A polarizing plate using an acrylic film, a cyclic polyolefin film or a polyester film instead of the TAC film, or a polarizing plate using an ultraviolet curable adhesive instead of an aqueous adhesive is also used. There is a problem that the peeling electrification voltage generated when the surface protective film is peeled and removed is higher than when the polarizing plate of the conventional configuration is used.

또한, 근래에는 3D 디스플레이(입체시 디스플레이)의 보급에 따라, 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 FPR(Film Patterned Retarder) 필름을 첩합한 것이 있다. 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 첩합되어 있던 표면 보호 필름을 박리한 후에 FPR 필름이 첩합된다. 그러나, 편광판 등의 광학용 필름의 표면이 표면 보호 필름에 사용되고 있는 점착제나 대전 방지제로 오염되어 있으면, FPR 필름이 접착되기 어렵다는 문제가 있다. 이 때문에, 당해 용도에 사용되는 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적은 것이 요구되고 있다.In recent years, there has been a spread of a FPR (Film Patterned Retarder) film on the surface of an optical film such as a polarizing plate in accordance with the spread of a 3D display (stereoscopic display). The FPR film is bonded after peeling the surface protective film that has been adhered to the surface of the optical film such as a polarizing plate. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with a pressure-sensitive adhesive or an antistatic agent used in the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, it is required that the surface protective film used in this application is less contaminated with the adherend.

한편, 몇 군데의 액정 패널 메이커에서는 표면 보호 필름의 피착체에 대한 오염성의 평가 방법으로서, 편광판 등의 광학용 필름에 첩합되어 있는 표면 보호 필름을 한 번 박리하고, 기포를 혼입시킨 상태로 재첩합한 것을 소정 조건에서 가열 처리한 후, 표면 보호 필름을 박리하여 피착체의 표면을 관찰하는 방법이 채용되고 있다. 이러한 평가 방법에서는 피착체의 표면 오염이 미량이어도, 기포를 혼입시킨 부분과 표면 보호 필름의 점착제가 접하고 있던 부분에서 피착체의 표면 오염의 차이가 있으면, 기포의 흔적(기포 얼룩이라고 하는 경우도 있다)으로서 남는다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대한 오염성의 평가 방법으로는 매우 엄격한 평가 방법이 된다. 근래에는 이러한 엄격한 평가 방법에 의한 판정 결과여도 피착체의 표면에 대한 오염성에 문제가 없는 표면 보호 필름이 요구되고 있다.On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, as a method for evaluating the stain resistance of an adherend of a surface protective film, a surface protective film adhered to an optical film such as a polarizing plate is once peeled off, A heat treatment is conducted under a predetermined condition, and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. Even if the surface contamination of the adherend is small in this evaluation method, if there is a difference in surface contamination of the adherend at the portion where the air bubbles are mixed with the pressure-sensitive adhesive of the surface protective film, there is a possibility that bubbles ). Therefore, the evaluation method of the stain on the surface of the adherend is a very strict evaluation method. In recent years, there has been a demand for a surface protective film which does not cause contamination on the surface of an adherend even when the result of the determination is determined by such a strict evaluation method.

표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때, 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제를 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.In order to prevent a problem caused by a high peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from an optical film to be adhered, a surface protective film using a pressure sensitive adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling electrification voltage is proposed have.

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬트리메틸암모늄염, 수산기 함유 아크릴계 폴리머, 폴리이소시아네이트로 이루어지는 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using a pressure-sensitive adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.

또한, 특허문헌 2에는 이온성 액체와 산가가 1.0 이하인 아크릴 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 시트류가 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.

또한, 특허문헌 3에는 아크릴 폴리머, 폴리에테르폴리올 화합물, 음이온 흡착성 화합물에 의해 처리된 알칼리 금속염으로 이루어지는 점착 조성물 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, and an anion adsorptive compound, and a surface protective film using the same.

또한, 특허문헌 4에는 이온성 액체, 알칼리 금속염, 유리 전이 온도 0℃ 이하의 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Patent Document 4 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C or lower, and a surface protective film using the pressure-sensitive adhesive composition.

일본 공개특허공보 2005-131957호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-131957 일본 공개특허공보 2005-330464호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-330464 일본 공개특허공보 2005-314476호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-314476 일본 공개특허공보 2006-152235호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-152235

상기 특허문헌 1∼4에 기재된 표면 보호 필름에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있다. 이 때문에, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한, 피착체에 첩합시킨 후의 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서, 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아지는 경향이 있었다. 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아지면, 피착체인 광학용 필름의 외관 품위가 저하되거나, FPR 필름을 첩합할 때 FPR 필름의 접착성이 저하될 가능성이 있다.In the surface protective films described in Patent Documents 1 to 4, antistatic agents are added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer. As a result, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker and the elapsed time after the application to the adherend passes, the amount of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend There was a tendency to increase. If the amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases, the appearance quality of the optically-usable film as the adherend may decrease, or the adhesion of the FPR film may deteriorate when the FPR film is laminated.

이와 같이, 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 경시 변화를 적게 하기 위해 점착제층의 두께를 얇게 하면, 다른 문제가 생긴다. 예를 들면, 번쩍임 방지를 위해 안티 글레어 처리한 편광판 등, 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 사용했을 경우에, 광학용 필름 표면의 요철에 점착제가 추종할 수 없어 기포가 혼입되거나, 광학용 필름과 점착제의 접착 면적이 감소됨으로써 점착력이 저하되어 사용 중에 보호 필름이 뜨거나 박리된다는 문제가 있다.As described above, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced in order to reduce the change with time in the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend, another problem arises. For example, when the optical film is used for an optical film having irregularities on the surface, such as a polarizing plate subjected to anti-glare treatment for preventing flashing, the pressure sensitive adhesive can not follow the unevenness of the surface of the optical film, And the adhesive area between the pressure-sensitive adhesive and the pressure-sensitive adhesive is decreased, so that the adhesive strength is lowered, and the protective film is peeled off or peeled during use.

또한, 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 경시 변화를 줄이기 위해 점착제층에 첨가하는 대전 방지제의 첨가량을 줄이면, 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압이 높아져, 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생할 위험성이 있다.When the amount of the antistatic agent to be added to the pressure-sensitive adhesive layer is decreased in order to reduce the change with time of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend, the peeling electrification voltage generated when the surface protective film is peeled off is increased, There is a risk that the circuit components may be broken or the alignment of the liquid crystal molecules may be damaged.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름이고, 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 대해서도 사용할 수 있으며, 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 또한, 시간이 경과해도 피착체에 대한 오염성이 변화하지 않는 표면 보호 필름으로, 또한, 편광판의 구성 부재가 대체(TAC 필름에서 아크릴 필름이나 폴리에스테르 필름으로의 변경이나, 수계 접착제에서 자외선 경화형 접착제로의 변경)되어도, 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제한 표면 보호 필름 및 그것을 사용한 광학 부품을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a surface protective film for use in an optical film which can be used for an optical film having irregularities on its surface and has very little contamination on an adherend, Even if the constituent members of the polarizing plate are replaced (changed from a TAC film to an acrylic film or a polyester film, or changed from an aqueous adhesive to an ultraviolet curable adhesive) A surface protective film in which the peeling electrification voltage is low when the surface protective film is peeled off, and an optical component using the same.

본 발명자들은 이 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행하였다.The present inventors have conducted extensive studies to solve this problem.

우선, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 오염성의 경시 변화도 적게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 것으로 추측되는 대전 방지제의 함유량을 감량할 필요가 있다. 그러나, 대전 방지제의 함유량을 감량했을 경우에는 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 이에, 본 발명자들은 대전 방지제의 함유량을 증가시키지 않고, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다.First, it is necessary to reduce the content of the antistatic agent, which is presumed to be contaminating the adherend, in order to reduce the contamination of the adherend with less change in staining property with the passage of time. However, when the content of the antistatic agent is reduced, the peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the adherend becomes high. Thus, the present inventors have studied a method for suppressing the peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend without increasing the content of the antistatic agent.

이들을 검토한 결과, 본 발명자들은 점착제 조성물 중에 피착체를 오염시키지 않는 정도의 대전 방지제를 첨가하고, 그 점착제 조성물을 기재의 한쪽 면에 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제를 부여하였다. 이로 인해, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있으며, 또한, 피착체를 오염시키기 어렵다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.As a result of the studies, the inventors of the present invention have found that an antistatic agent to the extent that does not contaminate an adherend is added to the pressure-sensitive adhesive composition, the pressure-sensitive adhesive composition is coated on one side of the substrate and dried to laminate the pressure- An appropriate amount of an antistatic agent was added. Thus, the present inventors have found that the peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled off from the optical film as the adherend can be suppressed to a low level, and it is also difficult to stain the adherend.

본 발명의 표면 보호 필름은 피착체 표면을 오염시키지 않는 정도의 대전 방지제를 함유한 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제를 부여함으로써, 피착체에 대한 오염성을 낮게 억제하고, 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.The surface protective film of the present invention can be produced by laminating a pressure-sensitive adhesive composition containing an antistatic agent to such an extent that the surface of the adherend does not contaminate the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, And the peeling electrification voltage at the time of peeling in the optical film as the adhesion is suppressed to a low level.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 대전 방지제로서 이온성 화합물을 함유한 점착제층이 형성되고, 당해 점착제층 위에, 알칼리 금속염과 실리콘계 박리제를 포함하는 박리제층을 갖는 박리 필름이 상기 박리제층을 개재하여 첩합된 표면 보호 필름으로, 상기 알칼리 금속염 성분이 상기 박리 필름에서 상기 점착제층의 표면으로 전사되어, 상기 점착제층을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압이 저감되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름을 제공한다.In order to solve the above-described problems, the present invention provides a pressure-sensitive adhesive sheet comprising a substrate film made of a resin having transparency, a pressure-sensitive adhesive layer containing an ionic compound as an antistatic agent is formed on one side of the base film, A release film having a release agent layer bonded to the release agent layer via the release agent layer and the alkali metal salt component is transferred from the release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer so that the pressure- And the surface tension of the surface protective film is reduced.

또한, 상기 이온성 화합물이 알칼리 금속염이 아닌 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the ionic compound is not an alkali metal salt.

또한, 상기 점착제층이 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer is formed by crosslinking the (meth) acrylate copolymer.

또한, 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 표면 전위가 ＋0.7㎸∼－0.7㎸인 표면 보호 필름을 제공한다.The present invention also provides a surface protective film having a surface potential of +0.7 kV to -0.7 kV when peeled off from an optical film as a substrate.

또한, 상기 박리 필름을 상기 점착제층에서 박리할 때의 박리력이 0.005∼0.3N/50㎜인 것이 바람직하다.It is also preferable that the peeling force when peeling the peeling film from the pressure-sensitive adhesive layer is 0.005 to 0.3 N / 50 mm.

또한, 본 발명은 상기 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.Further, the present invention provides an optical component in which the above-mentioned surface protective film is bonded.

본 발명의 표면 보호 필름은 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름으로, 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 대해서도 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 시간이 경과해도 피착체에 대한 오염성이 변화하지 않는 표면 보호 필름이다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 편광판의 구성 부재가 변화(TAC 필름에서 아크릴 필름, 고리형 폴리올레핀 필름이나 폴리에스테르 필름으로의 변경이나 수계 접착제에서 자외선 경화형 접착제로의 변경)되어도, 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제한 표면 보호 필름 및 그것을 사용한 광학 부품을 제공할 수 있다.The surface protective film of the present invention is a surface protective film used for optical films, and can be used for optical films having irregularities on the surface. In addition, the surface protective film of the present invention is a surface protective film which is very little contaminated with an adherend and does not change staining property to an adherend even after a lapse of time. Further, even when the constituent members of the polarizing plate of the present invention change (change from TAC film to acrylic film, cyclic polyolefin film or polyester film, change from an aqueous adhesive to an ultraviolet curable adhesive), the surface protective film of the present invention has a surface protective film It is possible to provide a surface protective film in which the peeling electrification voltage at the time of peeling is suppressed to a low level and an optical component using the same.

본 발명의 표면 보호 필름에 의하면, 피착체에서 박리할 때 발생하는 정전기의 양을 저감시킬 수 있고, 또한, 박리 대전 방지 성능의 경시 변화 및 피착체에 대한 오염이 적다는 점에서, 생산성 향상과 수율 향상을 도모할 수 있다.According to the surface protective film of the present invention, the amount of static electricity generated when peeling off from the adherend can be reduced, and further, since the deterioration of the peeling electrification preventing performance and the contamination with the adherend are small, The yield can be improved.

도 1은 본 발명의 표면 보호 필름의 개념 단면도이다.
도 2는 본 발명의 표면 보호 필름에서 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 표면 보호 필름을 광학 부품에 첩합한 실시예 중 하나를 나타내는 단면도이다.1 is a conceptual cross-sectional view of a surface protective film of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a state in which a release film is peeled from a surface protective film of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing one of embodiments in which the surface protective film of the present invention is applied to an optical component.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

도 1은 본 발명의 표면 보호 필름의 개념 단면도이다. 이 표면 보호 필름(10)은 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에 대전 방지제를 함유하는 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 수지 필름(3)의 표면에 대전 방지제(7)를 함유하는 박리제층(4)이 형성된 박리 필름(5)이 첩합되어 있다.1 is a conceptual cross-sectional view of a surface protective film of the present invention. In this surface protective film 10, a pressure-sensitive adhesive layer 2 containing an antistatic agent is formed on the surface of one side of the transparent base film 1. On the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, a release film 5 having a release agent layer 4 containing an antistatic agent 7 is bonded to the surface of the resin film 3.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는, 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 필름은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정 값으로 제어해도 된다.As the base film (1) used for the surface protective film (10) according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. As a result, the appearance inspection of the optical component can be performed in a state in which the surface protective film is attached to the optical component as the adhesion. A film made of a resin having transparency used as the base film (1) is preferably a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate or polybutylene terephthalate. In addition to the polyester film, films made of other resins can be used as long as they have the necessary strength and optical suitability. The base film (1) may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Further, the stretching magnification of the stretched film or the orientation angle of the axial method formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼75㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워, 보다 바람직하다. The thickness of the base film (1) used in the surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, a thickness of about 12 to 100 m is preferable, and a thickness of about 20 to 75 m And is more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측의 면에 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이(易)접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, an antifouling layer, antistatic layer, anti-scratch hard coat layer or the like for preventing surface contamination can be formed on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat, and the like.

또한, 본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착되고, 사용이 끝난 후에 간단히 박리할 수 있으며, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 점착제이면 특별히 한정되지 않지만, 광학용 필름에 첩합 후의 내구성 등을 고려하면, (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 점착제를 사용하는 것이 일반적이다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the surface protective film (10) according to the present invention can be easily peeled off after use after being adhered to the surface of the adherend, Although not limited, it is general to use a pressure-sensitive adhesive obtained by crosslinking a (meth) acrylate copolymer in consideration of durability after bonding to an optical film.

(메타)아크릴레이트 공중합체로는, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트 등의 주모노머와, 아크릴로니트릴, 초산비닐, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트 등의 코모노머, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시부틸아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, N-메틸올메타크릴아미드 등의 관능성 모노머를 공중합한 공중합체를 들 수 있다. (메타)아크릴레이트 공중합체는 주모노머 및 다른 모노머가 전부 (메타)아크릴레이트여도 되고, 주모노머 이외의 모노머로서 (메타)아크릴레이트 이외의 모노머를 1종 또는 2종 이상 포함해도 된다.(Meth) acrylate copolymer is preferably a copolymer of a main monomer such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, and the like with at least one monomer selected from the group consisting of acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate, ethyl Acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide and the like are copolymerized with a copolymer of a comonomer such as acrylic acid, . (Meth) acrylate copolymer, the main monomer and the other monomer may be all (meth) acrylate, and monomers other than the main monomer may include one or more monomers other than (meth) acrylate.

또한, (메타)아크릴레이트 공중합체에 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물을 공중합하거나 혼합하여도 된다. 공중합 가능한 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물로는, 폴리에틸렌글리콜(400) 모노아크릴산에스테르, 폴리에틸렌글리콜(400) 모노메타크릴산에스테르, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(400) 모노아크릴산에스테르, 폴리프로필렌글리콜(400) 모노메타크릴산에스테르, 메톡시폴리프로필렌글리콜(400) 아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜(400) 메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 모노머를 상기 (메타)아크릴레이트 공중합체의 주모노머나 관능성 모노머와 공중합시킴으로써, 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 공중합체로 이루어지는 점착제를 얻을 수 있다.Further, a compound containing a polyoxyalkylene group may be copolymerized or mixed with the (meth) acrylate copolymer. Examples of the compound containing a copolymerizable polyoxyalkylene group include polyethylene glycol (400) monoacrylate, polyethylene glycol (400) monomethacrylate, methoxypolyethylene glycol (400) acrylate, methoxypolyethylene glycol (400) Methacrylate, polypropylene glycol (400) monoacrylate, polypropylene glycol (400) monomethacrylate, methoxypolypropylene glycol (400) acrylate and methoxypolypropylene glycol (400) methacrylate. . A pressure-sensitive adhesive comprising a copolymer containing a polyoxyalkylene group can be obtained by copolymerizing a monomer containing these polyoxyalkylene groups with a main monomer or a functional monomer of the (meth) acrylate copolymer.

(메타)아크릴레이트 공중합체에 혼합 가능한 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물로는, 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 (메타)아크릴레이트 공중합체가 바람직하고, 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 (메타)아크릴계 모노머의 중합물이 보다 바람직하며, 예를 들면, 폴리에틸렌글리콜(400) 모노아크릴산에스테르, 폴리에틸렌글리콜(400) 모노메타크릴산에스테르, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(400) 모노아크릴산에스테르, 폴리프로필렌글리콜(400) 모노메타크릴산에스테르, 메톡시폴리프로필렌글리콜(400) 아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜(400) 메타크릴레이트 등의 중합물을 들 수 있다. 이들 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물을 상기 (메타)아크릴레이트 공중합체와 혼합함으로써, 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물이 첨가된 점착제를 얻을 수 있다.(Meth) acrylate copolymer is preferably a (meth) acrylate copolymer containing a polyoxyalkylene group, and a (meth) acrylic copolymer containing a polyoxyalkylene group (400) monoacrylic acid ester, polyethylene glycol (400) monomethacrylic acid ester, methoxypolyethylene glycol (400) acrylate, methoxypolyethylene glycol (400) metha (400) monoacrylate, polypropylene glycol (400) monomethacrylate, methoxypolypropylene glycol (400) acrylate, and methoxypolypropylene glycol (400) methacrylate . By mixing these polyoxyalkylene group-containing compounds with the (meth) acrylate copolymer, a pressure-sensitive adhesive to which a compound containing a polyoxyalkylene group is added can be obtained.

점착제층(2)에 첨가하는 경화제로는, (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교 시키는 가교제로서 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 점착 부여제로는, 로진계, 쿠마론인덴계, 테르펜계, 석유계, 페놀계 등을 들 수 있다.Examples of the curing agent to be added to the pressure-sensitive adhesive layer (2) include an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound and a metal chelate compound as a crosslinking agent for crosslinking the (meth) acrylate copolymer. Examples of the tackifier include rosin, coumarone-indene, terpene, petroleum, phenol, and the like.

점착제층(2)은 대전 방지제를 함유하고 있다. 점착제층(2)에 함유되어 있는 대전 방지제로는, 계면활성제계, 이온성 액체, 알칼리 금속염, 금속 산화물, 금속 미립자, 도전성 폴리머, 카본, 카본 나노 튜브 등을 들 수 있지만, 투명성이나 (메타)아크릴계 폴리머에 대한 친화성, 피착체 오염성 등에서, 알칼리 금속염 이외의 이온성 화합물 등이 바람직하고, 온도 25℃에 있어서 고체인 이온성 화합물이 특히 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer (2) contains an antistatic agent. Examples of the antistatic agent contained in the pressure-sensitive adhesive layer 2 include surfactants, ionic liquids, alkali metal salts, metal oxides, metal fine particles, conductive polymers, carbon, carbon nanotubes, An ionic compound other than an alkali metal salt and the like are preferable from the standpoint of the affinity to the acryl-based polymer and the stain of the adherend, and an ionic compound which is solid at 25 캜 is particularly preferable.

또한, 점착제층(2)의 대전 방지제에 각종 수지를 첨가해도 된다. 대전 방지제에 첨가되는 수지로는, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리초산비닐 수지, 셀룰로오스 수지, 실리콘 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다.Various resins may be added to the antistatic agent of the pressure-sensitive adhesive layer (2). Examples of the resin to be added to the antistatic agent include a polyester resin, a polyamide resin, a polyurethane resin, a polyolefin resin, a polyvinyl butyral resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetate resin, a cellulose resin, And the like.

점착제층(2)에 포함되는 대전 방지제는 점착제층(2)의 표면에 편재될 필요는 없으며, 점착제층(2) 내에 균일하게 용해 또는 분산되어 있어도 된다.The antistatic agent contained in the pressure-sensitive adhesive layer 2 is not necessarily localized on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and may be uniformly dissolved or dispersed in the pressure-sensitive adhesive layer 2. [

이온성 화합물이란, 음이온과 양이온으로 이루어지고, 상온에서 액체인 이온성 액체와 상온에서 고체인 이온성 고체가 있다. 양이온 부분으로는, 이미다졸륨 이온 등의 고리형 아미딘 이온, 피리디늄 이온, 암모늄 이온, 술포늄 이온, 포스포늄 이온 등의 유기 양이온 또는 무기 양이온을 들 수 있다. 또한, 음이온 부분으로는, CnH2n ＋ 1COO-, CnF2n ＋ 1COO-, NO3 -, CnF2n ＋ 1SO3 -, (CnF2n ＋ 1SO2)2N-, (CnF2n ＋ 1SO2)3C-, PO4 3-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, ClO4 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 - 등의 유기 음이온 또는 무기 음이온을 들 수 있다. An ionic compound is an ionic liquid which is composed of an anion and a cation, which is a liquid at room temperature, and an ionic solid which is solid at room temperature. Examples of the cation moiety include an organic cation or an inorganic cation such as a cyclic amidine ion such as imidazolium ion, a pyridinium ion, an ammonium ion, a sulfonium ion, and a phosphonium ion. In addition, the anionic portion is a, C n H 2n + 1 COO -, C n F 2n + 1 COO -, NO 3 -, C n F 2n + 1 SO 3 -, (C n F 2n + 1 SO 2) 2 n -, (C n F 2n + 1 SO 2) 3 C -, PO 4 3-, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, ClO 4 -, BF 4 -, PF 6 -, AsF 6 -, SbF 6 - , < / RTI > and the like.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 대전 방지제를 함유하는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. 표면 보호 필름의 피착체의 표면에 대한 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의, 미점착력을 갖는 점착제층(2)인 것이 피착체에서 표면 보호 필름을 박리할 때의 조작성이 우수하다는 점에서 바람직하다. 또한, 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)을 박리할 때의 조작성이 우수하다는 점에서, 박리 필름(5)의 점착제층(2)으로부터의 박리력이 0.005∼0.3N/50㎜인 것이 바람직하다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (2) containing the antistatic agent used in the surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, the thickness is preferably about 5 to 40 m, Is more preferable. The pressure-sensitive adhesive layer (2) having a peel strength (adhesive force) of 0.03 to 0.3 N / 25 mm to the surface of the adherend of the surface protective film, Is preferable in that it is excellent. The peeling strength of the peeling film 5 from the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 0.005 to 0.3 N / 50 mm in view of excellent operability in peeling the peeling film 5 from the surface protective film 10 .

또한, 본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(5)은 수지 필름(3)의 한쪽 면에 실리콘 박리제와, 당해 박리제와 반응하지 않는 대전 방지제(7)를 함유하는 박리제층(4)이 적층되어 있다.The release film 5 used in the surface protective film 10 according to the present invention is obtained by removing the silicone release agent and the antistatic agent 7 which does not react with the release agent on one side of the resin film 3, (4) are stacked.

수지 필름(3)으로는, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등을 들 수 있지만, 투명성이 우수하다는 점이나 가격이 비교적 저렴하다는 점에서, 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다. 수지 필름은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정 값으로 제어해도 된다.As the resin film (3), a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film and the like can be mentioned, but from the viewpoint of excellent transparency and relatively low cost, Particularly preferred. The resin film may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Further, the stretching magnification of the stretched film or the orientation angle of the axial method formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

수지 필름(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워, 보다 바람직하다.The thickness of the resin film 3 is not particularly limited. For example, the thickness of the resin film 3 is preferably about 12 to 100 mu m, and more preferably about 20 to 50 mu m.

또한, 필요에 따라, 수지 필름(3)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to this bonding treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat agent, or the like.

박리제층(4)을 구성하는 실리콘계 박리제로는, 폴리디메틸실록산을 주성분으로 하는 박리제로, 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의, 공지의 실리콘계 박리제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 박리제로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), X62-7622(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the silicone release agent constituting the release agent layer 4 include a known silicone release agent such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, a radical polymerization type and the like, which is a releasing agent containing polydimethylsiloxane as a main component. KS-777, KS-777, KS-777, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and SRX- LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like. Commercially available products of the condensation reaction type include, for example, SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available products such as cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials Ltd.), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) . Commercially available products as the radical polymerization type include, for example, X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

박리제층(4)을 구성하는 대전 방지제로는, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제 용액에 대해 분산성이 양호한 것으로, 또한, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 박리제층(4)에서 점착제층(2)의 표면으로 이행하여 점착제층에 대전 방지 효과를 부여하기 위해, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 반응하지 않는 것이 좋다. 이러한 대전 방지제로는 알칼리 금속염이 바람직하다.As the antistatic agent constituting the release agent layer 4, it is preferable that the antistatic agent is good in dispersibility with respect to a remover solution containing dimethylpolysiloxane as a main component, and does not inhibit the hardening of the remover containing dimethylpolysiloxane as a main component. Further, in order to impart an antistatic effect to the pressure-sensitive adhesive layer after shifting to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (2) in the release agent layer (4), it is preferable not to react with a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. The antistatic agent is preferably an alkali metal salt.

알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, Li＋, Na＋, K＋에서 선택되는 양이온과, Cl-, Br-, I-, BF4 -, PF6 -, SCN-, ClO4 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)3C-에서 선택되는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등의 리튬염이 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다.Examples of the alkali metal salt include metal salts of lithium, sodium and potassium. Specifically, for example, a cation selected from Li + , Na + , K + and a cation selected from Cl - , Br - , I - , BF 4 - , PF 6 - , SCN - , ClO 4 - , CF 3 SO 3 - (CF 3 SO 2 ) 2 N - , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - , and (CF 3 SO 2 ) 3 C - are preferably used. Among others, LiBr, LiI, LiBF 4, LiPF 6, LiSCN, LiClO 4, LiCF 3 SO 3, Li (CF 3 SO 2) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2) 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 3 C and the like are preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. To stabilize the ionic material, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 박리제와의 친화성의 정도에 따라 상이하나, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the antistatic agent to be added to the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component differs depending on the kind of the antistatic agent and the degree of affinity with the exfoliating agent, but the desired peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled from the adherend, Stain resistance, adhesion property, and the like.

박리제층(4)은 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 당해 박리제와 반응하지 않는 대전 방지제의 혼합물로 이루어지는 박리제층(4)이어도 된다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대전 방지제를 첨가하고, 혼합한 후에 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 대전 방지제와 박리제 경화용 촉매를 첨가, 혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석 후, 촉매를 첨가·혼합하고, 그 후 대전 방지제를 첨가, 혼합하는 방법 등 어느 방법이어도 된다. 또한, 필요에 따라, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제나 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물 등의 대전 방지 효과를 보조하는 재료를 첨가해도 된다.The release agent layer 4 may be a release agent layer 4 composed of a mixture of a release agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent which does not react with the release agent. The method of mixing the exfoliating agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the antistatic agent is not particularly limited. A method in which an antistatic agent is added to a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, followed by addition and mixing of a releasing agent curing catalyst after mixing, a method of diluting a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component with an organic solvent in advance and then adding an antistatic agent and a releasing agent curing catalyst A method of adding and mixing a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component in advance with an organic solvent, adding and mixing a catalyst, and then adding and mixing an antistatic agent. If necessary, a material for assisting an antistatic effect, such as a adhesion improver such as a silane coupling agent or a compound containing a polyoxyalkylene group, may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100중량부에 대해, 대전 방지제는 고형분으로서 5∼100중량부 정도의 비율이 바람직하다. 대전 방지제의 고형분 환산의 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100중량부에 대해 5중량부의 비율보다 적으면, 점착제층의 표면에 대한 대전 방지제의 전사량도 적어지고, 점착제에 대전 방지 기능이 발휘되기 어려워진다. 또한, 대전 방지제의 고형분 환산의 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100중량부에 대해 100중량부의 비율을 초과하면, 대전 방지제와 함께 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제도 점착제층의 표면에 전사되기 때문에, 점착제의 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다.The mixing ratio of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the antistatic agent is not particularly limited, but it is preferably about 5 to 100 parts by weight as the solid content of the antistatic agent relative to 100 parts by weight of the solid content of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component . When the addition amount of the antistatic agent in terms of solid content is less than 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the amount of the antistatic agent transferred to the surface of the pressure- And it becomes difficult to exert. When the addition amount of the antistatic agent in terms of solid content exceeds 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as the main component, the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component together with the antistatic agent, There is a possibility of deteriorating the adhesive property of the pressure-sensitive adhesive.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)의 기재 필름(1)에 대전 방지제를 함유하는 점착제층(2)을 형성하는 방법 및 박리 필름(5)을 첩합하는 방법은 공지의 방법으로 행하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 박리 필름(5)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(5)의 표면에 대전 방지제를 함유하는 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 이용해도 된다.The method of forming the pressure sensitive adhesive layer 2 containing an antistatic agent and the method of bonding the release film 5 to the base film 1 of the surface protective film 10 according to the present invention may be carried out by a known method, It is not limited. Specifically, (1) a resin composition for forming a pressure-sensitive adhesive layer (2) containing an antistatic agent is applied on one side of a base film (1) and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer, (2) a resin composition for forming a pressure-sensitive adhesive layer (2) containing an antistatic agent on the surface of the release film (5) is applied and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer, And the like, but any method can be used.

또한, 기재 필름(1)의 표면에 대전 방지제를 함유하는 점착제층(2)을 형성하는 것은 공지의 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지의 도공 방법을 사용할 수 있다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer (2) containing an antistatic agent may be formed on the surface of the base film (1) by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

또한, 동일하게 수지 필름(3)에 박리제층(4)을 형성하는 것은 공지의 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 그라비아 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지의 도공 방법을 사용할 수 있다.In the same way, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

상기 구성을 갖는 본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)은 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 표면 전위가 ＋0.7㎸∼－0.7㎸인 것이 바람직하다. 또한, 표면 전위가 ＋0.5㎸∼－0.5㎸인 것이 보다 바람직하고, 표면 전위가 ＋0.1㎸∼－0.1㎸인 것이 특히 바람직하다. 이 표면 전위는 점착제층(2)에 함유되는 대전 방지제 및 박리제층(4)에 함유되는 대전 방지제(7)의 종류, 첨가량 등을 가감함으로써 조정할 수 있다. 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학용 필름에서 박리한 후의 피착체인 광학용 필름의 표면 오염성을 고려하여, 점착제층(2)의 대전 방지제 및 박리제층(4)의 대전 방지제(7)의 종류, 첨가량을 조정하면 된다.The surface protective film 10 according to the present invention having the above-described structure preferably has a surface potential of +0.7 kV to -0.7 kV when peeled off from the optical film as the adhesive. It is more preferable that the surface potential is +0.5 kV to -0.5 kV, and the surface potential is particularly preferably + 0.1 kV to -0.1 kV. This surface potential can be adjusted by adding or subtracting the kind of the antistatic agent contained in the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the type and amount of the antistatic agent 7 contained in the exfoliating agent layer 4. The antistatic agent of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the kind of the antistatic agent 7 of the releasing agent layer 4, taking into consideration the surface staining property of the optical film as the adherend after peeling the surface protective film 10 from the optically- , And the addition amount may be adjusted.

도 2는 본 발명의 표면 보호 필름에서 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a state in which a release film is peeled from a surface protective film of the present invention.

도 1에 나타낸 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)을 박리함으로써, 박리 필름(5)의 박리제층(4)에 포함되는 대전 방지제(부호 7)의 일부가 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)의 표면에 전사된다(부착된다). 이 때문에, 도 2에 있어서는, 표면 보호 필름의 점착제층(2)의 표면에 부착된 대전 방지제를 부호 7의 반점(환형)으로써 모식적으로 나타내고 있다. 대전 방지제(7)의 성분이 박리 필름(5)에서 점착제층(2)의 표면으로 전사됨으로써, 전사하기 전의 점착제층(2)에 비해, 점착제층(2)을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압이 저감된다. 또한, 점착제층을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압은 공지의 방법으로 측정 가능하다. 예를 들면, 표면 보호 필름을 편광판 등의 피착체에 첩합시킨 후, 고속 박리 시험기(테스터 산업 제조)를 사용하여 매분 40m의 박리 속도로 표면 보호 필름을 박리하면서, 피착체 표면의 표면 전위를 표면 전위계(키엔스(주) 제조)를 사용하여 10ms마다 측정했을 때의, 표면 전위의 절대값의 최대값을 박리 대전압(㎸)으로서 측정한다.A part of the antistatic agent (code 7) included in the release agent layer 4 of the release film 5 is peeled off from the surface protective film 10 shown in Fig. (Adhered) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2. Therefore, in Fig. 2, an antistatic agent adhered to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protective film is schematically shown as a spot (annular) in Fig. The component of the antistatic agent 7 is transferred from the release film 5 to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 so that the pressure-sensitive adhesive layer 2 is peeled off from the adherend as compared with the pressure- Voltage drop is reduced. Further, the peeling electrification voltage when the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the adherend can be measured by a known method. For example, a surface protective film is bonded to an adherend such as a polarizing plate, and then the surface protective film is peeled off at a peeling rate of 40 m per minute using a high-speed peeling tester (manufactured by Tester Industries) The maximum value of the absolute value of the surface potential when measured every 10 ms using an electrometer (manufactured by KYOSEN CO., LTD.) Is measured as the peeling electromotive force (kV).

본 발명에 따른 표면 보호 필름에서는 도 2에 나타낸 박리 필름을 박리한 상태의 표면 보호 필름(11)을 피착체에 첩합하는 경우에, 이 점착제층(2)의 표면에 전사된 대전 방지제가 피착체의 표면에 접촉한다. 이로 인해, 재차 피착체에서 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다.In the surface protective film according to the present invention, when the surface protective film 11 in a state in which the release film shown in Fig. 2 is peeled off is adhered to the adherend, the antistatic agent transferred onto the surface of the pressure sensitive adhesive layer (2) As shown in Fig. Thus, the peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the adherend can be suppressed to a low level.

도 3은 본 발명의 표면 보호 필름을 광학 부품에 첩합한 실시예를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment in which a surface protective film of the present invention is applied to an optical component.

본 발명의 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)이 박리되어 점착제층(2)이 표출된 상태(도 2의 표면 보호 필름(11))로, 그 점착제층(2)을 개재하여 피착체인 광학 부품(8)에 첩합된다.The surface protective film 10 of the present invention is peeled off from the surface protective film 10 and the surface of the pressure sensitive adhesive layer 2 is exposed Is bonded to the chain optical component (8).

즉, 도 3은 본 발명의 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)을 박리한 상태의 표면 보호 필름(11)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이와 같은 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다.That is, FIG. 3 shows the optical component 20 to which the surface protective film 11 in the state in which the release film 5 is peeled off from the surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate serving as a retardation plate, and a polarizing plate serving also as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel or an optical system device of various instruments. Examples of the optical component include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel.

본 발명의 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)을 박리한 상태의 표면 보호 필름(11)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)에서 박리 제거할 때, 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있다. 이 때문에, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높여 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.When the surface protective film 11 in a state in which the release film 5 is peeled from the surface protective film 10 of the present invention is peeled off from the optical component (optical film) as the adhesion, the peeling electrification voltage is suppressed to be sufficiently low . Therefore, there is no risk of destroying circuit components such as a driver IC, a TFT element, and a gate line driving circuit, and production efficiency in a process of manufacturing a liquid crystal display panel or the like can be increased, and the reliability of the production process can be maintained.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세히 설명한다.EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by examples.

(실시예 1)(Example 1)

(표면 보호 필름의 제작)(Production of surface protective film)

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 리튬비스(플루오로술포닐)이미드 0.75중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1 혼합 용매 95중량부, 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조제하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를, 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 실시예 1의 박리 필름을 얻었다., 5 parts by weight of an addition reaction type silicone (trade name: SRX-345, manufactured by Toray Dow Corning Incorporated), 0.75 part by weight of lithium bis (fluorosulfonyl) imide, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate And 0.05 part by weight of a platinum catalyst (trade name: SRX-212, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) were mixed and stirred to prepare a coating material for forming the release agent layer of Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 mu m, a paint for forming the release agent layer of Example 1 was applied to the surface of Meyer immediately after drying to a thickness of 0.2 mu m and dried in a hot air circulating oven at 120 DEG C for 1 minute , A release film of Example 1 was obtained.

한편, 2-에틸헥실아크릴레이트 80중량부, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 메타크릴레이트 17중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 3중량부의 공중합체로 이루어지는 점착제의 40％ 초산에틸 용액 100중량부에 대해, 1-노닐피리디늄 6불화인산염 0.2중량부, 이소시아네이트계 경화제(도소사 제조 코로네이트(등록상표) HX) 2중량부를 교반·혼합하여, 실시예 1의 점착제를 조제하였다.On the other hand, 100 parts by weight of a 40% ethyl acetate solution of a pressure-sensitive adhesive comprising a copolymer of 80 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 17 parts by weight of methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate and 3 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate , 0.2 part by weight of 1-nonylpyridinium hexafluorophosphate and 2 parts by weight of an isocyanate-based curing agent (Coronate (registered trademark) HX manufactured by Tosoh Corporation) were mixed and stirred to prepare the pressure-sensitive adhesive of Example 1.

두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 조제한 점착제를 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에 상기에서 제작한 실시예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온해 점착제를 경화시켜, 실시예 1의 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive prepared on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 mu m was applied to a thickness of 20 mu m after drying and then dried in a hot air circulating oven at 100 DEG C for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The resulting pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 캜 for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, thereby obtaining the surface protective film of Example 1.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료의 건조 후의 두께를 0.1㎛로 한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 표면 보호 필름을 얻었다.The surface protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the paint forming the release agent layer of Example 1 after drying was 0.1 탆.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1의 부가 반응형 실리콘을 도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-211로 하고, 리튬비스(플루오로술포닐)이미드를 대신하여 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드로 한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 표면 보호 필름을 얻었다.The addition reaction type silicone of Example 1 was changed to lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide in place of lithium bis (fluorosulfonyl) imide in place of lithium bis (fluorosulfonyl) imide with a trade name of SRX- A surface protective film of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1. [

(비교예 1)(Comparative Example 1)

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1 혼합 용매 95중량부, 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조제하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 비교예 1의 박리 필름을 얻었다.5 parts by weight of an addition reaction type silicone (trade name: SRX-345, manufactured by Toray Dow Corning Incorporated), 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, a platinum catalyst (trade name: SRX-212) were mixed and stirred to prepare a coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1. A coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 占 퐉 so that the thickness after drying would be 0.2 占 퐉 and dried in a hot air circulating oven at 120 占 폚 for one minute, A release film of Comparative Example 1 was obtained.

한편, 실시예 1의 점착제를 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에 상기에서 제작한 비교예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온해 점착제를 경화시켜, 비교예 1의 표면 보호 필름을 얻었다.On the other hand, the pressure-sensitive adhesive of Example 1 was coated on the surface of a 38 占 퐉 -thick polyethylene terephthalate film so that the thickness after drying was 20 占 퐉 and dried in a hot air circulating oven at 100 占 폚 for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The resulting pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 캜 for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive to obtain a surface protective film of Comparative Example 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

점착제에 1-노닐피리디늄 6불화인산염을 첨가하지 않은 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 표면 보호 필름을 얻었다.A surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1-nonylpyridinium hexafluorophosphate was not added to the pressure-sensitive adhesive.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1의 1-노닐피리디늄 6불화인산염을 대신하여, 리튬비스(플루오로술포닐)이미드로 한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 표면 보호 필름을 얻었다.A surface protective film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that lithium laurylsulfate (fluorosulfonyl) imide was used instead of 1-nonylpyridinium hexafluorophosphate of Example 1.

이하, 평가 시험의 방법 및 결과에 대해 나타낸다.Hereinafter, the evaluation test method and results are shown.

〈박리 필름의 박리력의 측정 방법〉≪ Method of measuring peel strength of release film >

표면 보호 필름의 샘플을 폭 50㎜, 길이 150㎜로 재단한다. 23℃×50％RH의 시험 환경하, 인장 시험기를 사용하여 300㎜/분의 박리 속도로 180°방향으로 박리 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하여, 이것을 박리 필름의 박리력(N/50㎜)으로 하였다.A sample of the surface protective film is cut to a width of 50 mm and a length of 150 mm. The peel strength of the peeled film in the 180 ° direction was measured at a peeling rate of 300 mm / min using a tensile tester under the test environment of 23 ° C × 50% RH, and the peel strength (N / 50 Mm).

(대전 방지제층의 표면 저항률)(Surface resistivity of the antistatic agent layer)

대전 방지 표면 보호 필름의 샘플에서 박리 필름을 박리한 후, 대전 방지제층의 표면 저항률(Ω／□)을 고성능 고저항률계(미츠비시 화학 애널리테크사 제조 하이레스타(등록상표)-UP)를 사용하여, 인가 전압 100V, 측정 시간 30초의 조건에서 측정한다.After peeling off the release film from the sample of the antistatic surface protective film, the surface resistivity (Ω / □) of the antistatic agent layer was measured using a high performance high resistivity meter (Hiresta (registered trademark) -UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Under the conditions of an applied voltage of 100 V and a measurement time of 30 seconds.

〈표면 보호 필름의 점착력의 측정 방법〉≪ Method for Measuring Adhesive Force of Surface Protective Film >

편광자(요오드를 함유한 폴리비닐알코올 필름)에, 아크릴 필름을 자외선 경화형 접착제를 사용하여 첩합한 안티 글레어 저반사 처리한 편광판(AG-LR편광판)을 피착체로 하였다. 이 편광판을 유리판의 표면에 첩합기를 사용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판 표면의 아크릴 필름 위에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합시킨 후, 23℃×50％RH의 시험 환경하에 1일간 보관하였다. 그 후, 인장 시험기를 사용하여 300㎜/분의 박리 속도로 180°방향으로 표면 보호 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하여, 이것을 점착력(N/25㎜)으로 하였다.An anti-glare low-reflection processed polarizing plate (AG-LR polarizing plate) in which an acrylic film was laminated to a polarizer (iodine-containing polyvinyl alcohol film) using an ultraviolet curable adhesive was used as an adherend. This polarizing plate was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was applied onto the acrylic film on the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day under a test environment of 23 캜 x 50% RH. Thereafter, the strength when the surface protective film was peeled off in the 180 占 direction at a peeling rate of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and the peel strength was determined as the adhesive force (N / 25 mm).

〈표면 보호 필름의 박리 대전압의 측정 방법〉≪ Method of measuring peeling electrification voltage of surface protective film >

편광자(요오드를 함유한 폴리비닐알코올 필름)에, 아크릴 필름을 자외선 경화형 접착제를 사용하여 첩합한 안티 글레어 저반사 처리한 편광판(AG-LR편광판)을 피착체로 하였다. 이 편광판을 유리판의 표면에 첩합기를 사용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판 표면의 아크릴 필름 위에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합시킨 후, 23℃×50％RH의 시험 환경하에 1일간 보관하였다. 그 후, 고속 박리 시험기(테스터 산업 제조)를 사용하여 매분 40m의 박리 속도로 표면 보호 필름을 박리하면서, 상기 편광판 표면의 표면 전위를 표면 전위계(키엔스(주) 제조)를 사용하여 10ms 마다 측정했을 때의 표면 전위의 절대값의 최대값을 박리 대전압(㎸)으로 하였다.An anti-glare low-reflection processed polarizing plate (AG-LR polarizing plate) in which an acrylic film was laminated to a polarizer (iodine-containing polyvinyl alcohol film) using an ultraviolet curable adhesive was used as an adherend. This polarizing plate was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was applied onto the acrylic film on the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day under a test environment of 23 캜 x 50% RH. Thereafter, the surface potential of the surface of the polarizing plate was measured every 10 ms using a surface electrometer (manufactured by CHIENCE Co., Ltd.) while peeling the surface protective film at a peeling rate of 40 m per minute by using a high-speed peeling tester The maximum value of the absolute value of the surface potential at the time of peeling was determined as the peeling electrification voltage (kV).

〈표면 보호 필름의 표면 오염성의 확인 방법〉≪ Method of confirming surface staining property of surface protective film >

편광자(요오드를 함유한 폴리비닐알코올 필름)에, 아크릴 필름을 자외선 경화형 접착제를 사용하여 첩합한 안티 글레어 저반사 처리한 편광판(AG-LR편광판)을 피착체로 하였다. 이 편광판을 유리판의 표면에 첩합기를 사용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판 표면의 아크릴 필름 위에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합시킨 후, 23℃×50％RH의 시험 환경하에 3일 및 30일 보관하였다. 그 후, 표면 보호 필름을 박리하고, 편광판 표면에 있어서의 오염의 유무를 육안으로 관찰하여, 표면 오염성을 확인하였다. 표면 오염성의 판정 기준으로서 편광판에 오염 이행이 없는 경우를 (○)로 하고, 편광판에 오염 이행이 확인된 경우를 (×)로 하였다.An anti-glare low-reflection processed polarizing plate (AG-LR polarizing plate) in which an acrylic film was laminated to a polarizer (iodine-containing polyvinyl alcohol film) using an ultraviolet curable adhesive was used as an adherend. This polarizing plate was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was applied onto the acrylic film on the surface of the polarizing plate, and then kept for 3 days and 30 days under a test environment of 23 캜 50% RH. Thereafter, the surface protective film was peeled off and the presence or absence of contamination on the surface of the polarizing plate was visually observed to confirm surface staining. As a criterion of the surface staining property, the case where no staining was observed in the polarizing plate was evaluated as (o), and the case where the staining of the polarizing plate was confirmed as (x).

얻어진 실시예 1∼3 및 비교예 1∼3의 표면 보호 필름에 대해 측정한 측정 결과를 표 1에 나타내었다. 「2EHA」는 2-에틸헥실아크릴레이트를, 「HEA」는 2-히드록시에틸아크릴레이트를, 「#400G」는 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 메타크릴레이트를, 「AS제(1)」은 리튬비스(플루오로술포닐)이미드를, 「AS제(2)」는 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드를, 「AS제(3)」은 1-노닐피리디늄 6불화인산염을, 「SRX-345」는 SRX-345를, 「SRX-211」은 SRX-211을, 「SRX212」는 백금 촉매 SRX-212를 각각 의미한다. 또한, 표면 저항률의 「1.5E10」은 1.5×1010을 의미한다.Table 1 shows the measurement results of the surface protective films obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. , "HEA" represents 2-hydroxyethyl acrylate, "# 400G" represents methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, "AS agent (1)" represents Lithium bis (fluorosulfonyl) imide as the "AS (2)", lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide as the "AS (2)" and 1-nonylpyridinium hexafluorophosphate "SRX-345" refers to SRX-345, "SRX-211" refers to SRX-211, and "SRX212" refers to platinum catalyst SRX-212. Further, "1.5E10" of the surface resistivity refers to a 1.5 × 10 10.

Figure 112016015112551-pat00001
Figure 112016015112551-pat00001

표 1에 나타낸 측정 결과로부터, 이하를 알 수 있다.From the measurement results shown in Table 1, the following can be found.

본 발명에 따른 실시예 1∼3의 표면 보호 필름은 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없다. 또한, 피착체가 아크릴 필름을 사용한 편광판이어도, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The surface protective films of Examples 1 to 3 according to the present invention have appropriate adhesive force and do not contaminate the surface of the adherend. In addition, even in the case where the adherend is a polarizing plate using an acrylic film, the peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled from the adherend is low.

한편, 박리제층에 대전 방지제를 첨가하지 않은 비교예 1의 표면 보호 필름, 및 점착제층에 대전 방지제를 첨가하지 않은 비교예 2의 표면 보호 필름은 표면 보호 필름을 피착체에서 박리했을 때의 박리 대전압이 높아졌다. 또한, 점착제층과 박리제층에 동일한 종류의 대전 방지제를 사용한 비교예 3의 표면 보호 필름은 표면 보호 필름을 피착체에서 박리했을 때의 박리 대전압이 낮아 양호하지만, 박리한 후의 피착체에 대한 오염이 많아졌다.On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1 in which the antistatic agent was not added to the release agent layer, and the surface protective film of Comparative Example 2 in which the antistatic agent was not added to the pressure sensitive adhesive layer, The voltage has increased. The surface protective film of Comparative Example 3 using the same kind of antistatic agent in the pressure-sensitive adhesive layer and the releasing agent layer was good because the peeling electrification voltage was low when the surface protective film was peeled off from the adherend. However, .

즉, 비교예 1∼3의 표면 보호 필름은 박리 대전압의 저감과 피착체에 대한 저오염성을 양립시키는 것이 어렵다. 반면, 점착제층과 박리제층에 종류가 상이한 대전 방지제를 첨가한 실시예 1∼3의 표면 보호 필름은 박리 대전압의 저감 효과가 높고, 또한, 피착체에 대한 오염도 없으며, 양호한 것이 얻어졌다.That is, it is difficult for the surface protective films of Comparative Examples 1 to 3 to reduce both the peeling electrification voltage and the low staining property to the adherend. On the other hand, the surface protective films of Examples 1 to 3, to which an antistatic agent having a different kind from that of the pressure-sensitive adhesive layer and the releasing agent layer were added, had a high effect of reducing the peeling electrification voltage and no contamination to the adherend.

본 발명의 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름, 그 외 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등에 첩합하여 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 피착체에서 박리할 때 발생하는 정전기의 양을 낮출 수 있고, 또한, 박리 대전 방지 성능의 경시 변화 및 피착체에 대한 오염이 적으며, 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어 산업상 이용 가치가 크다.The surface protective film of the present invention can be suitably used for producing optical films such as a polarizing plate, a retardation film, a lens film, an antireflection film, a hard coat film and a transparent conductive film, It can be used to protect the surface by attaching to parts. Further, the surface protective film of the present invention can lower the amount of static electricity generated when peeling off from the adherend, and furthermore, the deterioration of the peeling electrification performance with time and the contamination to the adherend are small, And it is of great industrial value.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…수지 필름, 4…박리제층, 5…박리 필름, 7…대전 방지제, 8…피착체(광학 부품), 10…표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 표면 보호 필름, 20…표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... The release agent layer, 5 ... Peeling film, 7 ... Antistatic agent, 8 ... Adhesive (optical parts), 10 ... Surface protection film, 11 ... Surface protection film with exfoliated film, 20 ... Optical parts with surface protection film laminated.

Claims (6)

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 대전 방지제로서 온도 25℃에서 고체이고, 알칼리 금속염이 아닌 이온성 화합물을 함유한 점착제층이 형성되어 이루어지고,
당해 점착제층 위에, 알칼리 금속염과 실리콘계 박리제를 포함하는 박리제층을 갖는 박리 필름이 상기 박리제층을 개재하여 첩합된 표면 보호 필름으로,
상기 알칼리 금속염 성분이 상기 박리 필름에서 상기 점착제층의 표면으로 전사되어, 상기 점착제층을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압이 저감되어 이루어지고,
상기 피착체가 아크릴 필름을 사용한 편광판, 고리형 폴리올레핀 필름을 사용한 편광판, 폴리에스테르 필름을 사용한 편광판, 또는 자외선 경화형 접착제를 사용한 편광판으로 이루어지는 광학 필름의 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.A pressure-sensitive adhesive layer is formed on one surface of a base film made of a resin having transparency as an antistatic agent and is solid at a temperature of 25 占 폚 and contains an ionic compound which is not an alkali metal salt,
And a release film having a release agent layer containing an alkali metal salt and a silicone release agent is applied onto the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer,
The alkali metal salt component is transferred from the release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to reduce the peeling electrification voltage when the pressure-sensitive adhesive layer is peeled from the adherend,
Wherein the adherend is any one selected from the group consisting of a polarizing plate using an acrylic film, a polarizing plate using a ring-shaped polyolefin film, a polarizing plate using a polyester film, or an optical film comprising a polarizing plate using an ultraviolet curable adhesive. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 점착제층이 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.The method according to claim 1,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed by crosslinking a (meth) acrylate copolymer. 삭제delete 삭제delete 제 1 항의 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품.An optical component in which the surface protective film of claim 1 is bonded.
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