KR101856753B1 - 망막 질환 검지 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 안구에 광을 조사하도록 이루어지는 광 이미징 수단; 및 상기 안구로부터 반사된 광을 제공받아 상기 안구에서 발생된 광의 수차를 처리하여 보정하는 광 처리 수단을 포함하고, 상기 광 처리 수단은, 상기 안구에 의해 발생된 상기 반사된 광의 수차를 감지하는 파면 센서; 및 상기 감지된 수차를 근거로 상기 광을 보상하는 광 보상 거울을 포함하고, 상기 수차의 차이를 보상함으로써 상기 안구의 망막의 질환을 검지하는 것을 특징으로 하는 망막 질환 검지 장치를 제공한다.

Description

망막 질환 검지 장치{RETINA DISEASE DETECTION DEVICE}

본 발명은 수정체와 각막을 통과하며 발생하는 수차를 극복하기 위하여 능동 광학 기술이 적용되는 망막 질환 검지 장치에 관한 것이다.

녹내장, 황반변성 등의 망막 관련 질환은 질환이 생기는 세포 및 조직의 특성상 검진이 어려운 점이 있다. 망막의 층 및 이를 구성하는 세포들은 투명하여 일반 검사 방법으로는 측정이 쉽지 않다. 이에 따라 여러 가지 기술들이 관련 질병을 검진하기 위해 제안되고 있다. 그 중 하나의 방법이 미분 간섭 현미경(DIC, differential interference microscope)을 활용한 방식이다.

미분 간섭 현미경은 빛을 두 개의 미세 차이가 나는 경로로 나누어 두 빛간의 겪는 광학 거리를 간섭으로 읽어내는 장치다. 따라서, 광학 거리의 차이가 발생하면 간섭에 의한 이미징이 가능하기 때문에 투명한 측정 물질의 이미징이 가능하다. 이 때 망막은 앞서 언급한 것과 같이 투명하고 서로 다른 기능을 갖는 세포 층으로 구성되어 있기 때문에 미분 간섭 현미경은 망막을 이미징 하는데 있어 매우 적절한 광학기기지만, 이를 극복하기 위해서는 다음과 같은 수단이 필수적이다.

수정체와 각막은 망막으로 신호를 보내는데 있어 모양이 완벽히 일정하지 않아 수차를 발생시킨다.

또한, 망막은 안구 뒷면에 구면으로 존재하기 때문에 이미징을 하였을 때 일부의 면만 정초점(in focus)이 되고 나머지는 흐린 초점(out of focus)이 되므로 좁은 관측 시야를 가질 수밖에 없게 된다.

이로 인해, 종래의 망막 검지 장치로서는 망막 질환을 정확히 검지하기 어려운 문제점이 있었다.

본 발명은 상기의 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 일 목적은, 수정체와 각막을 통과하며 발생하는 수차를 극복하여 투명한 망막 세포를 직접적으로 이미징하는 망막 질환 검지 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 일 목적은 망막의 모양에 따른 왜곡에 의한 좁은 관측시야를 갖는 문제를 해결하는 망막 질환 검지 장치를 제공하는 것이다.

상기의 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 망막 질환 검지 장치는, 안구에 광을 조사하도록 이루어지는 광 이미징 수단; 및 상기 안구로부터 반사된 광을 제공받아 상기 안구에서 발생된 광의 수차를 처리하여 보정하는 광 처리 수단을 포함하고, 상기 광 처리 수단은, 상기 안구에 의해 발생된 상기 반사된 광의 수차를 감지하는 파면 센서; 및 상기 감지된 수차를 근거로 상기 광을 보상하는 광 보상 거울을 포함하고, 상기 수차의 차이를 보상함으로써 상기 안구의 망막의 질환을 검지한다.

본 발명과 관련된 일 예에 의하면, 상기 광 이미징 수단은, 광원으로부터 조사된 광을 한 방향으로 편광시키는 제1편광판; 상기 편광된 광을 분산시키는 월라스톤(Wollaston) 프리즘; 및 상기 월라스톤 프리즘으로부터 분산된 광을 수렴하게 투과시키는 대물 렌즈를 포함한다.

상기 월라스톤 프리즘은 상기 대물렌즈에 인접하여 배치되고, 상기 제1편광판에서 편광된 광은 빔 스플리터에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절되어 상기 월라스톤 프리즘에 유입될 수 있다.

상기 안구로부터 반사된 광은 상기 월라스톤 프리즘을 투과한 후에, 제2편광판에 의해 광이 검지되고, 상기 검지된 광은 상기 광 처리 수단으로 유입될 수 있다.

상기 월라스톤 프리즘은 상기 제1편광판에 인접하게 배치되는 제1 월라스톤 프리즘이고, 상기 제1 월라스톤 프리즘을 투과한 광은 빔 스플리터에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절되어 상기 대물 렌즈에 유입될 수 있다.

상기 광 처리 수단을 통해서 보정된 광을 투과시켜서 광 신호의 간섭을 얻도록 하는 별도의 제2 월라스톤 프리즘이 상기 광 처리 수단에 인접하여 배치될 수 있다.

상기 별도의 제2 월라스톤 프리즘에 인접하여 제2편광판이 배치되고, 상기 제2편광판은 상기 별도의 월라스톤 프리즘을 통과한 광을 검지할 수 있다.

상기 광 보상 거울에 의해 보상되는 광의 적어도 일부는 빔 스플리터에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절될 수 있다.

망막의 곡률로 인한 정초점과 흐린 초점의 극명한 차이로 인해 좁은 관측시야를 보였고, 실제 안구 모델에 적용했을 때 각막 및 수정체에서 발생하는 수차를 보정하여 이미지의 질을 향상시킬 수 있다.

또한, 파면 센서가 수차의 차이를 감지하고 광 보상 거울을 통해서 보상을 함으로써 넓은 관측 시야를 가지며 높은 해상도를 확보할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 예에 의한 망막 질환 검지 장치의 일 사용 예를 전체적으로 도시하는 개념도이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 예에 의한 망막 질환 검지 장치의 다른 사용 예를 전체적으로 도시하는 개념도이다.
도 3은 도 1의 망막 질환 검지 장치를 확대하여 도시한 개념도.
도 4는 도 2의 망막 질환 검지 장치를 확대하여 도시한 개념도.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 동일하거나 유사한 구성요소에는 동일·유사한 도면 부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어"있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.

본 출원에서, "포함한다" 또는 "구비한다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 본 발명의 일 예에 의한 망막 질환 검지 장치(100)의 일 사용 예를 전체적으로 도시하는 개념도이고, 도 2는 본 발명의 다른 일 예에 의한 망막 질환 검지 장치(200)의 다른 사용 예를 전체적으로 도시하는 개념도이다. 또한, 도 3은 도 1의 망막 질환 검지 장치(100)를 확대하여 도시한 개념도이고, 도 4는 도 2의 망막 질환 검지 장치(200)를 확대하여 도시한 개념도이다.

이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 본 발명의 망막 질환 검지 장치(100, 200)에 대해 서술한다.

본 발명의 망막 질환 검지 장치(100, 200)는 광 이미징 수단(10) 및 광 처리 수단(20)을 포함한다.

광 이미징 수단(10)은, 안구(1)에 광을 조사하도록 이루어진다. 안구(1)에 조사된 광은 수정체(3) 및 유리체(5)를 통과하여 망막(1a)에서 반사되도록 이루어진다.

광 이미징 수단(10)은, 광원(14), 제1편광판(15), 월라스톤 프리즘(16a) 및 대물 렌즈(17)를 포함할 수 있다. 또한, 광 이미징 수단(10)은 제2편광판(40)을 포함할 수 있는데, 이는 도 3에 나타나 있다. 후술하는 도 4의 실시예에서는, 광 이미징 수단(10)이 제2편광판(40)을 포함하지 않는다.

광원(14)은 망막(1a)을 관찰하기 위한 광을 발생하는데, 일예로, 광원(14)은 형광등, 수은등, 나트륨등 등을 포함할 수 있다.

제1편광판(15)은 광원(14)에서 발생된 광에서 한 방향으로 편광된 광만을 분리하여 편광신호를 형성하도록 한다. 일예로, 제1편광판(15)은 광원(14)에 의해 발생된 광을 임의의 각도 a로 편광된 광만 분리하여 광 신호를 생성하도록 할 수 있다. 상기 임의의 각도 a는 45°의 각도일 수 있다.

월라스톤 프리즘(16a)은 제1편광판(15)에 의해 편광된 광을 분산시킨다.

월라스톤 프리즘(16a, 16b)은 입사된 하나의 경로의 광을 두 경로의 광으로 분산시킨다. 일 예로, 두 경로의 광들은 같은 진행 방향을 갖고 있으나, 편광된 각도가 서로 90°를 이루고 있다. 따라서, 제 1광은 앞서 제1편광판을 통과한 각도 대비 a+45°를 갖고, 제 2광은 a-45°를 갖을 수 있다.

한편, 월라스톤 프리즘(16a)은 두 경로의 광으로 분산된 광이 입사되는 경우, 하나의 광으로 집약시킬 수 있다. 예를 들면, 제1광 및 제2광은 각각 a+45° 및 a-45°에서 a°로 복귀된다.

월라스톤 프리즘(16a)은 제1편광판(15)에 의해 편광된 광을 투과시켜서 광을 두 경로의 광으로 분산시키고, 대물 렌즈(17)를 투과하여 안구(1)에 조사된 후, 안구(1)로부터 반사되어 되돌아오는 두 경로의 광원을 하나로 집약시키게 한다. 안구(1)에 조사된 광 및 안구(1)로부터 반사된 광을 분산 또는 집약 가능하도록 한다.

월라스톤 프리즘(16a)은 도 3에 도시되는 바와 같이, 하나로 이루어져서 광이 나누어지는 것과 합쳐지는 것을 동시에 할 수도 있고, 도 4에 도시되는 바와 같이, 두 개의 월라스톤 프리즘(16b, 30)로 이루어져서 각각의 프리즘에서 광의 분산 및 집약을 따로 할 수도 있다. 본 발명의 월라스톤 프리즘(16a, 16b, 30)은 복굴절 프리즘일 수 있다.

월라스톤 프리즘(16a, 16b, 30)이 설치되는 예에 대해서는 뒤에서 보다 상세히 서술하기로 한다.

대물 렌즈(17)는 월라스톤 프리즘(16a)으로부터 분산된 광을 수렴하게 할 수 있다. 일례로, 대물 렌즈(17)는 볼록 렌즈일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

대물 렌즈(17)에 편광된 광이 도달하기 전에 빔 스플리터(beam splitter, 18)가 배치될 수 있다. 빔 스플리터(18)는 광을 90° 굴절시킬 수 있다. 도 3에서, 월라스톤 프리즘(16a)이 대물렌즈(17)에 인접하게 배치되는 경우, 제1편광판(15)에서 편광된 광은 빔 스플리터(18)에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절되어 월라스톤 프리즘(16a)에 유입될 수 있다. 또한, 빔 스플리터(18)는 안구(1)에서 반사되어 월라스톤 프리즘(16a)을 지나며 집약된 광을 투과시킨다.

광 처리 수단(20)은 파면 센서(22) 및 광 보상 거울(21)을 포함한다.

파면 센서(wavefront sensor, 22)는 안구(1)에서 반사된 광의 수차를 감지하도록 이루어진다. 또한, 파면 센서(22)는 수차에 의해 일그러진 파면(wavefront)을 읽어낸다.

광 보상 거울(21)은 파면 센서(22)에 의해 감지된 수차를 근거로 광을 보상하도록 한다. 광 보상 거울(21)은 adaptive mirror일 수 있다. 광 보상 거울에 인접하여 제2편광판이 배치될 수 있는데, 도 3에는 제2편광판(40)을 통해서 월라스톤 프리즘(16a)과 빔 스플리터(18)를 통과한 광이 검지되고, 제2편광판(40)에 의해 검지된 광이 광 보상 거울(21)로 제공되는 일 예가 도시된다.

광 처리 수단(20)에 의해, 안구(1)의 수정체(3) 및 유리체(5)를 통과하고, 망막(1a)에 의해 반사되는 경우 발생되는 광학적인 수차를 극복하고 넓은 관측 시야(field of view)를 확보한다. 광 처리 수단(20)은 보정광학기술(Adaptive Optics, AO)일 수 있다. 보정광학기술은 천체와 생물 이미징을 위해서 주로 활용된다.

광 처리 수단(20)에 의해 보상 처리된 광(10)은 CCD(Charge Coupled Device, 9)로 유입될 수 있다. CCD(9)는 광을 검출 가능하도록 이루어진다.

월라스톤 프리즘(16a)은 하나로 이루어져서 대물 렌즈(17)에 인접하여 배치될 수 있다. 월라스톤 프리즘(16a)이 하나로 이루어지는 경우, 전술한 바와 같이, 월라스톤 프리즘(16a)은 제1편광판(15)과 대물 렌즈(17) 사이에 배치될 수 있다. 도 3을 참조하면, 월라스톤 프리즘(16a)이 대물 렌즈(17)에 인접하게 배치되는 일 예가 도시된다. 이로 인해, 광원(14)에서 조사된 광이 제1편광판(15)을 통과하고 빔 스플리터(18)에 의해 광의 경로가 기 결정된 각도만큼 변경된 후에 월라스톤 프리즘(16a) 및 대물 렌즈(17)를 통과하여 안구(1)에 조사되게 된다.

월라스톤 프리즘(16a)이 하나로 이루어지는 경우, 월라스톤 프리즘(16a)에 의해 제1편광판(15)을 통과하여 편광된 광은 분산되게 된다. 분산되는 광은 대물 렌즈(17)를 통과하여, 안구(1)에 도달하고, 수정체(3) 및 유리체(5)를 통과하고, 망막(1a)에 의해 반사되는데, 반사된 광은 월라스톤 프리즘(16a)을 통과함에 따라 다시 하나로 집약된다.

월라스톤 프리즘(16a)이 하나로 이루어지는 경우, 월라스톤 프리즘(16a)에서 나뉘어지는 제1광 및 제2광은 안구(1)에서 반사되어 되돌아온다. 제1 및 제2광은 월라스톤 프리즘(16a)에서 진행경로에 수직 방향으로 오프셋(offset) 차이를 가지고 만나게 되는데, 제1 및 제2광 각각의 경로에서 단차 및 밀도 차에 의해 생기는 광학 거리 차이는 위상 변위(phase shift)를 만들고, 반사되어 월라스톤 프리즘(16a)을 통과하였을 때, 간섭이 생기게 된다. 이렇게 구성된 망막(1a)에 의해 반사된 파면(wavefront, 4)과 수정체(3) 및 유리체(5)에서 발생한 파면(2)을 파면 센서(22)가 감지하고, 광 보상 거울(21)을 통하여 신호를 보상하게 된다. 파면 센서(22)와 광 보상 거울(21) 사이에는 빔 스플리터(18)가 배치되어서, 파면 센서(22)와 광 보상 거울 사이(21)에서 지나가는 광의 일부는 통과시키고, 광의 다른 일부는 반사시킬 수 있다.

월라스톤 프리즘(16a)이 하나로 이루어지는 경우, 망막(1a)으로부터 반사된 광이 제2편광판(40)을 통과한 후에 광 보상 거울(21)에 도달하도록 월라스톤 프리즘(16a) 및 광 보상 거울(21) 사이에 제2편광판(40)이 배치될 수도 있다. 제2편광판(40)은 광의 편광정도나 편광면의 방향을 알아보는데 사용될 수 있다. 제2편광판(40)은 제1 편광판(15)과 편광 되는 각도가 90도가 되도록 배치될 수 있다. 이는 빛샘 현상을 최소화 하기 위해서 입니다. 그래야 월라스톤 프리즘을 통해 간섭을 일으킨 신호만 CCD로 들어가게 된다. 또한, 제2편광판(40)은 특정한 방향으로 진동하는 광을 흡수하여 편광된 성분만을 광 보상 거울(21)로 통과시키게 된다.

이하에서는, 본 발명의 망막 질환 검지 장치(200)의 다른 실시예에 대하여 서술한다. 도 1 및 도 3의 설명 부분에서 전술한 일 실시예와 다른 부분만 중점적으로 서술하고, 설명되지 않은 부분은 전술한 내용으로 갈음하기로 한다.

도 2 및 4의 실시예에서는, 광 이미징 수단(10)이 제2편광판(40)을 포함하지 않고, 제2편광판(40)은 제2 월라스톤 프리즘(30)에 인접하도록 배치된다.

앞서, 언급한 바와 같이, 본 발명의 망막 질환 검지 장치(200)의 다른 실시예에 의하면, 광 이미징 수단(10b)의 월라스톤 프리즘(16b)은 제1편광판(15)에 인접하도록 배치될 수 있다. 이 경우, 월라스톤 프리즘(16b)은 제1 월라스톤 프리즘(16b)으로 명명할 수 있으며, 후술하는 별도의 월라스톤 프리즘인 제2 월라스톤 프리즘(30)과 구별하여 서술하기로 한다. 제1 월라스톤 프리즘(16b)은, 제1편광판(15)에 인접하게 배치되어 제1편광판(15)을 통과함에 따라서 편광된 광을 두 경로의 광인 제1광 및 제2광으로 분산되게 한다. 분산된 제1광 및 제2광은 각각 대물 렌즈(17)를 통과하여 안구(1)에서 수정체(3) 및 유리체(5)를 통과하고, 망막(1a)에서 반사되게 된다. 망막(1a)에서 반사된 제1광 및 제2광은 각각 파면 센서(22)에서 수차가 감지되게 되고, 광 보상 거울(21)에 의해 제1광 및 제2광의 수차는 각각 보상되게 된다.

제2 월라스톤 프리즘(30)은 광 처리 수단(20)에 의해 보정된 광을 집약시키도록 한다. 제2 월라스톤 프리즘(30)은 광 이미징 수단(20)의 제1 월라스톤 프리즘(16b)과는 별도로 이루어지는 월라스톤 프리즘이다. 광 보상 거울(21)에 의해 제1광 및 제2광은 각각 보상되게 되고, 각각 보상된 제1 및 제2광은 제2 월라스톤 프리즘(30)에 의해 하나의 광으로 집약되게 된다.

따라서, 광 보상 거울(21)이 망막(1a)에 의해 반사된 파면(wavefront, 4)과 수정체(3) 및 유리체(5)에서 발생한 파면(2)을 서로 합쳐지기 전에 각각 보상하기에, 서로 간섭의 효과를 보지 않은 상태에서 파면 센서(22)에 의해 감지되어 광 보상 거울(21)에 의해 보상 시에 오차를 최소화할 수 있게 된다.

망막 질환 검지 장치가 도 1 및 도 3에서 전술한 실시예와는 다르게 제1 및 제2 월라스톤 프리즘(16b, 30)을 포함하여 이루어지는 경우, 제2 월라스톤 프리즘(30)을 통과한 광을 검지하게 제2 월라스톤 프리즘(30)에 인접하도록 제2편광판(40)이 배치될 수 있다.

제2편광판(40)은 제2 월라스톤 프리즘(30)을 통과하는 광을 검지하여, 편광정도, 편광면의 방향을 알 수 있게 하고, 특정한 방향으로 진동하는 광을 흡수하여 편광된 성분만을 통과시키도록 할 수 있다.

이상에서 설명한 망막 질환 검지 장치(100, 200)는 위에서 설명된 실시예들의 구성과 방법에 한정되는 것이 아니라, 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.

본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다. 따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.

100, 200 : 망막 질환 검지 장치 10 : 광 이미징 수단
14 : 광원 15 : 제1편광판
17 : 대물 렌즈 20 : 광 처리 수단
22 : 파면 센서 21 : 광 보상 거울
16a, 16b : 월라스톤 프리즘 16b, 30 : 제1 및 제2 월라스톤 프리즘
18 : 빔 스플리터 19 : 제2편광판
9 : CCD 1 : 안구
3 : 각막 5 : 수정체
1a : 망막

Claims (8)

1. 안구에 광을 조사하도록 이루어지는 광 이미징 수단; 및
   상기 안구로부터 반사된 광을 제공받아 상기 안구에서 발생된 광의 수차를 처리하여 보정하는 광 처리 수단을 포함하고,
   상기 광 처리 수단은,
   상기 안구에 의해 발생된 상기 반사된 광의 수차를 감지하는 파면 센서; 및
   상기 감지된 수차를 근거로 상기 광을 보상하는 광 보상 거울을 포함하고,
   상기 수차의 차이를 보상함으로써 상기 안구의 망막의 질환을 검지하되,
   상기 광 이미징 수단은,
   광원으로부터 조사된 광을 한 방향으로 편광시키는 제1편광판;
   상기 편광된 광을 분산시키는 월라스톤 프리즘; 및
   상기 월라스톤 프리즘으로부터 분산된 광을 수렴하게 투과시키는 대물 렌즈를 포함하고,
   상기 월라스톤 프리즘은 상기 대물렌즈에 인접하여 배치되고, 상기 제1편광판에서 편광된 광은 빔 스플리터에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절되어 상기 월라스톤 프리즘에 유입되며,
   상기 안구로부터 반사된 광은 상기 월라스톤 프리즘을 투과한 후에, 제2편광판에 의해 광이 검지되고,
   상기 검지된 광은 상기 광 처리 수단으로 유입되는 것을 특징으로 하는 망막 질환 검지 장치.
   
2. 안구에 광을 조사하도록 이루어지는 광 이미징 수단; 및
   상기 안구로부터 반사된 광을 제공받아 상기 안구에서 발생된 광의 수차를 처리하여 보정하는 광 처리 수단을 포함하고,
   상기 광 처리 수단은,
   상기 안구에 의해 발생된 상기 반사된 광의 수차를 감지하는 파면 센서; 및
   상기 감지된 수차를 근거로 상기 광을 보상하는 광 보상 거울을 포함하고,
   상기 수차의 차이를 보상함으로써 상기 안구의 망막의 질환을 검지하되,
   상기 광 이미징 수단은,
   광원으로부터 조사된 광을 한 방향으로 편광시키는 제1편광판;
   상기 편광된 광을 분산시키는 월라스톤 프리즘; 및
   상기 월라스톤 프리즘으로부터 분산된 광을 수렴하게 투과시키는 대물 렌즈를 포함하고,
   상기 월라스톤 프리즘은 상기 제1편광판에 인접하게 배치되는 제1 월라스톤 프리즘이고, 상기 제1 월라스톤 프리즘을 투과한 광은 빔 스플리터에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절되어 상기 대물 렌즈에 유입되며,
   상기 광 처리 수단을 통해서 보정된 광을 투과시켜서 광 신호의 간섭을 얻도록 하는 별도의 제2 월라스톤 프리즘이 상기 광 처리 수단에 인접하여 배치되고,
   상기 별도의 제2 월라스톤 프리즘에 인접하여 제2편광판이 배치되며,
   상기 제2편광판은 상기 별도의 월라스톤 프리즘을 통과한 광을 검지하는 것을 특징으로 하는 망막 질환 검지 장치.
   
3. 제2항에 있어서,
   상기 광 보상 거울에 의해 보상되는 광의 적어도 일부는 빔 스플리터에 의해 기 결정된 각도만큼 굴절되는 것을 특징으로 하는 망막 질환 검지 장치.
   
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