KR101843853B1 - 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물 - Google Patents

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주식회사 씨에이텍
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Abstract

패턴 제조과정에서의 변형이 최소화되어 정밀주조 제품의 정밀성이 개선되도록, 본 발명은 정밀주조 패턴의 형상이 유지되도록 혼합되는 28~33 중량%의 아크릴레이트계 올리고머; 상기 정밀주조 패턴의 경화속도 및 유리전이온도가 향상되도록 혼합되는 57~62 중량%의 1관능 모노머; 상기 정밀주조 패턴이 기설정된 광파장에 의해 경화되도록 혼합되는 1~4 중량%의 광개시제; 및 나머지 중량%의 첨가제를 포함하는 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 제공한다.

Description

정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물{photocurable resin compound for pattern of precision casting}
본 발명은 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 패턴 제조과정에서의 변형이 최소화되어 정밀주조 제품의 정밀성이 개선된 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물에 관한 것이다.
일반적으로, 정밀주조 제품은 패턴을 통한 주형이 제작되며, 상기 주형 내부에 용탕이 주입되고 응고 및 후처리공정을 거쳐 제조된다. 그리고, 종래에는 상기 패턴을 제조하기 위해 파라핀왁스가 주로 사용되었다.
이때, 상기 파라핀왁스의 경우 소재수급이 비교적 용이하고 경제적인 이점이 있으나, 기계적 물성치가 낮아 외부 압력 및 충격에 의해 쉽게 흠집이 발생되거나 파손된다. 또한, 유리전이온도가 낮아 25℃ 이상에서는 표면강도가 낮아짐으로 인해 자체 하중에 의한 형상의 처짐/변형이 발생하며, 습도가 높을 경우 왁스패턴 표면에 물방물이 맺혀 주형 제조시 버(burr)의 발생이 야기된다. 따라서, 상기 왁스패턴의 취급 및 보관이 어려우며 표면정밀성이 저하되어 정밀주조 제품의 불량발생률이 증가하는 문제점이 있었다.
더욱이, 상기 왁스패턴을 제작하기 위한 별도의 금형을 제조하는데 비용 및 제작기간의 소요가 증가됨에 따라 최근에는 쾌속조형 기술을 통한 패턴 제작이 이루어지고 있다.
상세히, 쾌속조형 기술은 마이크로/나노 산업분야에 적용되어 마이크로 초정밀 부품, 정보/통신 기기, 의료기기뿐만 아니라 가스터빈, 에어포일 등과 같은 엔진부품 등을 제조하는데 사용된다.
그리고, 상기 쾌속조형의 하나인 광조형법(Stereo Lithography Aperture, 이하 SLA)을 이용하여 정밀도를 요하는 부품 내지 기기를 제조하기 위한 패턴구조물이 제작된다.
상세히, 상기 SLA는 크게 액상의 수지에 레이저를 주사하여 경화하는 레이저 SLA와 램프 또는 LED의 광에너지로 패터닝된 단면을 경화하는 DLP(digital light processing) SLA로 구분된다. 특히, DLP SLA의 경우 장비가 비교적 저가이고 형상의 세밀한 표현이 가능하다는 특징이 있다.
여기서, 종래의 DLP SLA는 3차원 형상의 슬라이싱 이미지에 대응하도록 광경화성 수지에 광에너지를 조사하여 얇은 도막을 생성시키면서 수십 내지 수천장의 층간 부착을 통하여 3차원 패턴 구조물을 제작하였다.
이때, 층간 부착성을 높이기 위해 종래에는 여러 종류의 층간부착증진제를 첨가제로 사용하였다. 그러나, 상술한 층간부착증진제를 사용할 경우 상측에 적층되는 수지 조성물이 조형판 또는 기적층된 도막에 부착 내지 점착되어 적층불량이 발생하는 문제점이 있었다. 이로 인해, 완성된 왁스패턴의 정밀도가 저하되며 이를 이용한 제품의 불량이 증가하는 문제점이 있었다.
한편, 상기의 SLA를 이용하여 제작된 패턴을 통한 정밀주조용 주형은 상기 패턴의 외면에 실리콘 내지 세라믹 슬러리를 입혀 주형을 만든 후 내부의 패턴을 녹여 배출시켜 제조된다.
그러나, 상기 패턴의 약한 표면강도로 인해 발생한 흠집 또는 변형 형상에 의해 상기 주형의 정밀도가 저하되며, 상기 패턴을 녹여 배출하는 과정에서 패턴용 수지가 주형의 내면에 일부 점착됨에 따라 상기 주형을 통해 제조된 제품의 완성도가 저하되는 문제점이 있었다.
따라서, 제작이 용이하면서도 종래의 파라핀왁스보다 내구성 및 취급성이 우수하여 주형의 정밀도를 유지할 수 있는 패턴용 수지 또는 수지 조성물의 개발을 필요로한다.
한국 등록특허 제10-0468481호
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 패턴 제조과정에서의 변형이 최소화되어 정밀주조 제품의 정밀성이 개선된 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 제공하는 것을 해결과제로 한다.
상기의 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 정밀주조 패턴의 형상이 유지되도록 혼합되는 28~33 중량%의 아크릴레이트계 올리고머; 상기 정밀주조 패턴의 경화속도 및 유리전이온도가 향상되도록 혼합되는 57~62 중량%의 1관능 모노머; 상기 정밀주조 패턴이 기설정된 광파장에 의해 경화되도록 혼합되는 1~4 중량%의 광개시제; 및 나머지 중량%의 첨가제를 포함하며, 상기 광개시제는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 및 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물이 혼합되어 포함되되, 상기 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 및 상기 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물은 1:0.8~1.2의 중량% 비율로 혼합됨을 특징으로 하는 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 제공한다.
여기서, 상기 올리고머는 수용성 변성 에폭시 아크릴레이트를 포함하며, 상기 1관능 모노머는 1-아크릴로일 모르폴린을 포함함이 바람직하다.
그리고, 상기 광개시제는 파장범위 395~400nm에서 광경화반응이 유도되는 아실포스핀옥사이드계 화합물을 포함함이 바람직하다.
삭제
한편, 상기 첨가제는 전체 조성물의 100 중량%에 대하여 1.5~3 중량%의 분산제, 1.5~3 중량%의 소포제, 그리고 1~2 중량%의 충격조절제를 포함함이 바람직하다.
상기의 해결 수단을 통하여, 본 발명에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물은 다음과 같은 효과를 제공한다.
첫째, 아크릴레이트계 올리고머에 단관능기를 갖는 모노머를 혼합하여 패턴이 제작됨으로써 종래에 파라핀왁스로 제작되던 왁스패턴에 비해 경도 및 내열성이 향상되어 패턴 표면의 흠집 및 변형이 방지되며, 수축률이 낮아져 치수정밀도가 향상되므로 이를 토대로 제조되는 정밀주조 제품의 정밀성이 현저히 개선될 수 있다.
둘째, 상기 올리고머 및 모노머가 1:1.9~2.1의 중량% 비율로 혼합됨에 따라 기계적 물성치는 향상되면서도 성분간의 과도한 가교성(cross-linking)이 제한됨으로써 주형 제조 후 열을 가하여 상기 패턴을 녹여 분리하더라도 주형의 내면에 수지 조성물의 점착이 방지되어 정밀주조 제품의 불량발생률이 최소화될 수 있다.
셋째, 광개시제로서 395~400nm의 기설정된 광영역에서 광경화반응이 유도되는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드와 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물이 혼합되어 사용됨에 따라 다단으로 적층되는 각 레이어층의 1차적인 광경화와 함께 레이어층 간의 2차적인 광경화 결합이 안정적으로 유도되므로 제작된 패턴의 내구성이 현저히 향상될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 이용하여 제작된 패턴을 이용한 정밀주조 공정을 나타낸 개략도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 이용하여 패턴이 제작되는 과정을 나타낸 개략도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 상세히 설명한다.
한편, 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 이용하여 제작된 패턴을 이용한 정밀주조 공정을 나타낸 개략도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물을 이용하여 패턴이 제작되는 과정을 나타낸 개략도이다.
도 1에서 보는 바와 같이, 정밀주조는 3차원 프린팅을 통한 패턴 제작(s10), 패턴의 외면에 주형 조성물 코팅 및 경화(s20), 열을 가하여 주형으로부터 패턴 용융 및 분리(s30), 패턴이 분리된 주형 내부에 용탕 주입(s40), 그리고 주형 분리 및 제품 후처리(s50) 공정을 거쳐 수행된다.
여기서, 상기 패턴은 본 발명에 따른 광경화성 수지 조성물이 기설정된 두께의 레이어층으로 다단 적층됨에 따라 형성되는 3차원 구조물로 제작될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물은 본 출원인의 등록특허인 제1607634호, 제1199496호 및 제1238340호와 같은 선행기술의 쾌속조형장치 또는 시스템에 적용될 수 있다.
상세히, 본 발명에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물은 아크릴레이트계 올리고머, 1관능 모노머, 광개시제 및 첨가제를 포함한다. 이때, 상기 광경화성 수지 조성물에 포함되는 각 성분 및 그의 조성 비율은 아래의 표 1과 같다.
성분 조성비(중량%)
아크릴레이트계 올리고머 28~33
1관능 모노머 57~62
광개시제 1~4
첨가제 4~8
상기 표 1에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물은 상기 아크릴레이트계 올리고머(oligomer)가 조성물의 100 중량%에 대하여 28~33 중량% 포함된다. 이때, 상기 아크릴레이트계 올리고머는 상기 패턴의 기계물성을 향상시켜 경화 후에도 기설정된 형상이 견고하게 유지되도록 혼합되되, 수용성의 변성 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate)를 포함함이 바람직하다.
그리고, 상기 1관능 모노머(monomer)는 조성물의 100 중량%에 대하여 57~62 중량% 포함된다. 이때, 상기 1관능 모노머는 상기 정밀주조 패턴의 경화속도제어 및 유리전이온도(glass transsition temperature, Tg)가 높아지도록 혼합되되, 1-아크릴로일 모르폴린(1-acryloyl morpholine)을 포함함이 바람직하다.
즉, 종래에 정밀주조 패턴 제작시 베이스로 사용되던 파라핀왁스보다 경도 및 내열성이 향상되도록 아크릴레이트계 올리고머 및 모노머의 혼합물을 사용함에 따라 상기 패턴 표면의 흡집 발생 및 압력에 의한 형상 변형이 방지된다. 따라서, 상기 패턴 형상의 정확도가 향상되므로 이를 토대로 제조되는 정밀주조제품의 정밀성이 현저히 개선될 수 있다.
더욱이, 상기 아크릴레이트계 올리고머가 수용성의 변성 에폭시 아크릴레이트로 구비됨에 따라 제조 및 보관환경에 존재하는 수분에 의해 패턴의 표면에 물방울이 응집됨을 방지할 수 있다. 따라서, 종래에 파라핀왁스의 유분에 의해 물방울이 응집되어 주형의 표면에 기공(pore)이 발생함으로 인해 정밀주조 제품의 표면에 버(burr)가 형성되던 문제점이 해소되므로 제품의 불량발생률이 현저히 낮아짐에 따라 생산성 및 경제성이 현저히 개선될 수 있다.
그리고, 상기 광경화성 수지 조성물에 상기 1-아크릴로일 모르폴린을 포함하는 1관능 모노머가 포함됨에 따라 유리전이온도가 높아진다. 따라서, 본 발명에 따른 광경화성 수지 조성물로 제작된 패턴은 경화후 표면강도가 기존의 파라핀왁스로 제작되던 패턴에 비해 약 5배 이상 크며, 외부환경 온도에 따른 표면변형율이 낮다. 이를 통해, 상기 패턴의 흠집 및 파손이 방지되며 25℃ 이상의 상온에서도 변형이 최소화되어 패턴의 제조 및 보관시 주변환경의 제약이 감소됨에 따라 상기 패턴의 취급 및 보관효율성이 현저히 개선될 수 있다.
여기서, 상기 모노머가 단관능기를 갖는 분자구조로 형성됨에 따라 상기 올리고머 등과의 과도한 가교성(cross-linking)이 제한된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 광경화성 수지 조성물은 광에너지에 의해 견고하게 고형화(solid)되면서도 기설정된 온도 이상에서는 액상(liquid)으로의 전환이 용이하다.
이를 통해, 상기 패턴의 외면에 주형 조성물을 코팅 및 경화(s20)하고, 열을 가하여 상기 패턴을 용융 및 분리(s30)하는 과정에서 제조된 주형 내면의 균일성 및 표면정밀성이 개선되므로 제품의 불량발생율이 현저히 낮아질 수 있다. 또한, 상기 1관능 모노머는 분자구조의 특성상 저점성 및 경화 후 수축률이 낮아 상기 3차원 프린팅을 통하여 제작된 패턴의 정확도 및 치수안정성이 개선될 수 있다.
더욱이, 상기 1-아크릴로일 모르폴린은 다단으로 적층되는 레이어층 간의 표면 라디칼이 잔존되도록 상기 광경화성 수지 조성물의 경화속도를 제어한다. 이에 따라, 각각의 레이어층의 광경화와 함께 상호 적층되는 레이어층간의 2차 광경화를 유도하여 결합력이 향상되므로 상기 패턴의 경도 및 구조안정성이 현저히 개선될 수 있다.
이때, 상기 아크릴레이트계 올리고머 및 상기 1관능 모노머는 1:1.9~2.1의 중량% 비율로 혼합됨이 바람직하다.
상세히, 상기 아크릴레이트계 올리고머 및 상기 1관능 모노머가 1:1.8의 중량% 비율 이하로 혼합되는 경우, 상기 아크릴레이트계 올리고머에 의해 점착성이 증가한다. 이로 인해, 상기 주형으로부터 상기 패턴을 용융 및 분리시 상기 주형 내면에 점착물이 잔존함에 따라 상기 패턴을 통하여 제조되는 주형의 정밀도가 저하된다. 반면, 상기 아크릴레이트계 올리고머 및 상기 1관능 모노머가 1:2.2의 중량% 비율 이상으로 혼합되는 경우, 상기 패턴의 기계적 물성치가 낮아져 패턴의 내구성이 저하됨으로 인한 흠집 발생, 파손 및 형상 변형이 야기될 수 있다.
따라서, 상기 아크릴레이트계 올리고머 및 상기 1관능 모노머는 상기 패턴의 기계물성이 향상되면서도 상기 주형에 점착이 최소화될 수 있도록 1:1.9~2.1의 중량% 비율로 혼합됨이 바람직하다. 예컨대, 상기 조성물의 100 중량%에 대하여 상기 아크릴레이트계 올리고머가 30 중량% 포함되면 상기 1관능 모노머는 60 중량%로 포함될 수 있다.
이를 통해, 3차원 프린팅시 적층되는 각 레이어층이 약 0.1mm 정도의 얇은 두께로 일정하게 형성되면서도 신속하고 견고하게 경화될 수 있다. 또한, 주형의 제조 후 열을 가하여 상기 패턴을 녹여 분리하더라도 주형의 내면에 수지 조성물의 점착이 방지되므로 정밀주조제품의 불량발생률이 최소화될 수 있다.
한편, 상기 광개시제는 조성물의 100 중량%에 대하여 1~4 중량% 포함됨이 바람직하다. 여기서, 상기 광개시제는 실질적으로 가시광선 영역대인 파장범위 395~400nm의 기설정된 광영역에서 광경화반응이 유도되는 아실포스핀옥사이드계 화합물을 포함함이 바람직하다.
이때, 상기 광개시제는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드(Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide) 및 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물(Phosphine oxide,phenyl bis)의 혼합물로 포함됨이 바람직하다.
더욱이, 상기 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 및 상기 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물은 1:0.8~1.2의 중량% 비율로 혼합됨이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 상기 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 및 상기 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물은 1:1의 중량% 비율로 혼합될 수 있다.
예컨대, 상기 광개시제는 조성물의 100 중량%에 대하여 0.5~2 중량%의 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드와 0.5~2 중량%의 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물을 포함할 수 있다. 이때, 상술한 아실포스핀옥사이드계 광개시제로는 Ciba사의 IRGACURE 819 및 DAROCUR TPO를 예로 들 수 있다.
이에 따라, 3차원 프린팅시 다단으로 적층되는 각 레이어층이 경화되도록 조사되는 광에너지에 의한 광경화반응과 함께 가시광선 영역에서의 2차 광경화반응이 유도될 수 있다. 이를 통해, 종래의 DLP SLA공정에서와 같이 레이어층 간의 부착을 위한 별도의 부착증진제가 첨가되지 않더라도 각 레이어층 간의 균일한 적층 및 결합이 이루어질 수 있다.
더욱이, 상기 광경화성 수지 조성물은 상기 광개시제의 광반응을 유도하는 395~400nm의 기설정된 파장범위에서 경화됨에 따라 상기 광에너지의 조사량 및 범위를 조절하여 각 레이어층의 두께 및 면적을 균일하고 정밀하게 조절할 수 있다. 또한, 상기 파장은 실질적으로 가시광선 영역대의 파장이므로 UV광을 이용하던 종래에 비해 저비용이면서도 작업자의 위험성이 최소화된 작업환경을 제공받을 수도 있다.
이에 따라, 3차원 형상의 단면 이미지에 해당하는 각 레이어층의 경계가 명확하게 구분되어 경화되며, 광에너지 주변의 산란 및 분산에 의한 패턴 외면에 사이드버(side burr)의 발생이 최소화되므로 상기 패턴의 표면정밀성이 향상될 수 있다. 또한, 복잡하고 미세한 형상에 대한 정확도가 개선되므로 정밀주조 제품의 정밀성이 현저히 향상될 수도 있다.
상세히, 도 2를 참조하면, 본 발명의 광경화성 수지 조성물은 광에너지가 조사되어 제1레이어층(L1)이 형성되고 그 상측으로 광에너지가 재조사되어 제2레이어층(L2)이 순차적으로 적층 형성된다. 이때, 상기 제1레이어층(L1)은 상기 제2레이어층(L2)의 전단계에 형성된 층으로 이해함이 바람직하다.
여기서, 상기 광경화성 수지 조성물이 상술한 성분 및 조성비로 혼합됨에 따라 상기 제2레이어층(L2)이 형성되는 단계에서 상기 제1레이어층(L1)은 경화도가 30~60%인 상태로 경화된다. 따라서, 상기 제1레이어층(L1)의 표면 라디칼이 잔존/유지됨으로써 상측에 적층되는 제2레이어층(L2)의 표면과 라디칼 중합에 의해 결합된다.
더욱이, 상기 제2레이어층(L2)이 형성되도록 조사되는 광에너지의 침투깊이가 0.12~0.18mm 범위로 설정되도록 제어될 수 있다.
따라서, 광에너지에 의한 상기 제2레이어층(L2)의 1차적인 광경화반응과 함께 상기 제2레이어층(L2)을 투과하는 광에너지에 의해 상기 제1레이어층(L1)과 상기 제2레이어층(L2)의 표면간의 2차적인 광경화반응이 유도된다. 이를 통해, 레이어층의 개별적인 경화도 및 적층되는 레이어층 간의 결합도가 향상되므로 제작된 패턴의 내구성이 현저히 향상될 수 있다.
또한, 상기 패턴이 제작된 상태에서 보관시에도 자연광(가시광선)에 의해 지속적인 광경화반응이 유도됨에 따라 표면강도가 견고하게 유지됨으로써 상기 패턴의 취급 및 보관효율성이 향상될 수 있다.
한편, 상기 첨가제는 조성물의 100 중량%에 대하여 1.5~3 중량%의 분산제, 1.5~3 중량%의 소포제, 그리고 1~2 중량%의 충격조절제를 포함할 수 있다.
상세히, 상기 분산제는 상기의 성분이 잘 분산되어 혼합율이 개선되도록 포함될 수 있다. 그리고, 상기 소포제는 상기의 성분을 혼합시 발생하는 기포를 제거하도록 포함된다. 이에 따라, 상기 광경화성 수지 조성물이 균일하게 혼합되며 이를 통하여 제작된 패턴의 표면 및 내부에 기공이 발생되는 것을 방지하여 내구성 및 표면정밀성이 개선될 수 있다. 이때, 상기 분산제 및 소포제로는 BYK-111 및 BYK-353을 예로 들 수 있다.
더불어, 상기 충격조절제는 상기 올리고머 및 1관능 모노머의 혼합시 가교성(cross-linking)이 제한되더라도 높은 충격 강도를 갖도록 포함될 수 있다. 이에 따라, 고점성의 올리고머보다 저점성의 1관능 모노머가 더 높은 비율로 혼합되더라도 상기 패턴의 내구성이 더욱 향상될 수도 있다. 이때, 상기 충격조절제는 엘라스토머(eractomer)를 포함하여 구비될 수 있다.
이에 따라, 본 발명에 따른 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물은 아크릴레이트계 올리고머에 단관능기를 갖는 모노머를 혼합하여 종래에 파라핀왁스로 제작되던 왁스패턴에 비해 경도 및 내열성이 향상된다. 이를 통해, 상기 패턴 표면의 흠집 및 변형이 방지되고, 수축률이 낮아져 치수정밀도가 향상되므로 이를 토대로 제조되는 정밀주조 제품의 정밀성이 현저히 개선될 수 있다.
이때, 상기 올리고머 및 모노머가 1:1.9~2.1의 중량% 비율로 혼합됨에 따라 기계적 물성치는 향상되면서도 성분간의 과도한 가교성(cross-linking)이 제한된다. 따라서, 주형 제조 후 열을 가하여 상기 패턴을 녹여 분리하더라도 주형의 내면에 수지 조성물의 점착이 방지되어 정밀주조 제품의 불량발생률이 최소화될 수 있다.
더불어, 상기 광개시제로서 395~400nm의 기설정된 광영역에서 광경화반응이 유도되는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드와 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물이 혼합되어 사용된다. 이에 따라, 다단으로 적층되는 각 레이어층의 1차적인 광경화와 함께 레이어층 간의 2차적인 광경화 결합이 안정적으로 유도되므로 제작된 패턴의 내구성이 현저히 향상될 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 각 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구항에서 청구한 범위를 벗어남 없이 본 발명에 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 변형실시되는 것은 가능하며, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.

Claims (5)

  1. 정밀주조 패턴의 형상이 유지되도록 혼합되는 28~33 중량%의 아크릴레이트계 올리고머;
    상기 정밀주조 패턴의 경화속도 및 유리전이온도가 향상되도록 혼합되는 57~62 중량%의 1관능 모노머;
    상기 정밀주조 패턴이 기설정된 광파장에 의해 경화되도록 혼합되는 1~4 중량%의 광개시제; 및
    나머지 중량%의 첨가제를 포함하며,
    상기 광개시제는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 및 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물이 혼합되어 포함되되, 상기 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 및 상기 비스페놀 포스핀 옥사이드 화합물은 1:0.8~1.2의 중량% 비율로 혼합됨을 특징으로 하는 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 올리고머는 수용성 변성 에폭시 아크릴레이트를 포함하며, 상기 1관능 모노머는 1-아크릴로일 모르폴린을 포함함을 특징으로 하는 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 광개시제는 파장범위 395~400nm에서 광경화반응이 유도되는 아실포스핀옥사이드계 화합물을 포함함을 특징으로 하는 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 첨가제는
    전체 조성물의 100 중량%에 대하여 1.5~3 중량%의 분산제, 1.5~3 중량%의 소포제, 그리고 1~2 중량%의 충격조절제를 포함함을 특징으로 하는 정밀주조 패턴용 광경화성 수지 조성물.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005062449A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Kyocera Chemical Corp 感光性樹脂組成物
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